JPH1062768A - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display deviceInfo
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- JPH1062768A JPH1062768A JP8217530A JP21753096A JPH1062768A JP H1062768 A JPH1062768 A JP H1062768A JP 8217530 A JP8217530 A JP 8217530A JP 21753096 A JP21753096 A JP 21753096A JP H1062768 A JPH1062768 A JP H1062768A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、テレビジ
ョンセット、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッ
サ、OA(Office Automation)機器
などの表示装置として用いられる液晶表示装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device used as a display device of, for example, a television set, a personal computer, a word processor, an office automation (OA) device, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】図15に、液晶表示装置を構成するアク
ティブマトリクス基板の一例を示す。2. Description of the Related Art FIG. 15 shows an example of an active matrix substrate constituting a liquid crystal display device.
【0003】このアクティブマトリクス基板は、スイッ
チング素子である薄膜トランジスタ(以下、TFTと称
する)2および画素容量1がマトリクス状に形成されて
いる。TFT2のゲート電極にはゲート信号線3が接続
され、そこに入力される信号によってTFT2が駆動さ
れる。TFT2のソース電極にはソース信号線5が接続
され、そこから表示信号としてビデオ信号等が入力され
る。各ゲート信号線3と各ソース信号線5とは、互いに
交差するように形成されている。TFT2のドレイン電
極には画素電極および画素容量1の一方の端子が接続さ
れている。各画素容量1の他方の端子には画素容量配線
4が接続されている。このアクティブマトリクス基板
は、対向電極が形成された対向基板と貼り合わせられ、
両基板の間隙に液晶層が挟持されて液晶表示装置が構成
される。この際、上記画素容量配線4は、対向基板上の
対向電極と接続される。In this active matrix substrate, thin film transistors (hereinafter, referred to as TFTs) 2 as switching elements and pixel capacitors 1 are formed in a matrix. A gate signal line 3 is connected to the gate electrode of the TFT 2, and the TFT 2 is driven by a signal input thereto. A source signal line 5 is connected to a source electrode of the TFT 2, from which a video signal or the like is input as a display signal. Each gate signal line 3 and each source signal line 5 are formed to cross each other. The pixel electrode and one terminal of the pixel capacitor 1 are connected to the drain electrode of the TFT 2. A pixel capacitance line 4 is connected to the other terminal of each pixel capacitance 1. This active matrix substrate is bonded to a counter substrate on which a counter electrode is formed,
A liquid crystal layer is sandwiched between the two substrates to form a liquid crystal display device. At this time, the pixel capacitance wiring 4 is connected to a counter electrode on a counter substrate.
【0004】このような構成の液晶表示装置において、
カラー表示を実現するためには、対向基板上に、R(R
ed)、G(Green)、B(Blue)の3色の色
層を備えたカラーフィルタを形成する構成が最も一般的
である。このようにカラーフィルタを備えた対向基板
は、カラーフィルタ基板と称される。このカラーフィル
タ基板には、一般に、色の混合や光漏れを防ぐためのブ
ラックマトリクスが形成される。In the liquid crystal display device having such a configuration,
In order to realize a color display, R (R
ed), G (Green), and B (Blue) are most commonly used to form a color filter having three color layers. Such a counter substrate provided with a color filter is called a color filter substrate. Generally, a black matrix for preventing color mixing and light leakage is formed on the color filter substrate.
【0005】図16に、カラーフィルタ基板にブラック
マトリクスを形成した従来の液晶表示装置の構成を示
す。この液晶表示装置においては、アクティブマトリク
ス基板の表示領域に画素電極(図示せず)が設けられ、
その近傍を通って互いに交差してゲート信号線とソース
信号線とが設けられている。両信号線は表示領域の外側
の周辺領域を超えて延出形成され、その外側の端子領域
に設けられた入力端子を介してゲート信号線に走査電圧
が入力され、ソース信号線に信号電圧が入力される。一
方、カラーフィルタ基板の表示領域には、画素電極と対
向してカラーフィルタ(図示せず)が設けられている。
そして、カラーフィルタが設けられていない周辺領域に
は、ブラックマトリクスが形成され、周辺領域を遮光し
ている。FIG. 16 shows a configuration of a conventional liquid crystal display device in which a black matrix is formed on a color filter substrate. In this liquid crystal display device, a pixel electrode (not shown) is provided in a display area of the active matrix substrate,
A gate signal line and a source signal line are provided crossing each other through the vicinity thereof. Both signal lines are formed to extend beyond a peripheral region outside the display region, and a scanning voltage is input to a gate signal line via an input terminal provided in a terminal region outside the display region, and a signal voltage is applied to a source signal line. Is entered. On the other hand, a color filter (not shown) is provided in the display area of the color filter substrate so as to face the pixel electrode.
Then, a black matrix is formed in the peripheral area where the color filter is not provided, and the peripheral area is shielded from light.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
液晶表示装置においては、カラーフィルタ基板にブラッ
クマトリクスを設ける構成が一般的である。しかし、液
晶表示装置の製造コストを低減するためには、カラーフ
ィルタ基板にブラックマトリクスを設けない構成も当然
考えられる。この場合、周辺領域の遮光をどのようにし
て行うかということが問題となる。例えば、周辺領域か
らバックライト光が漏れると表示品位が損なわれ、黒表
示の場合には特に問題になるので、バックライト光を遮
光する必要がある。また、通常、観察者は液晶表示装置
をカラーフィルタ基板側から見ることになるが、その
際、両基板の貼り合わせのために周辺領域に設けられる
シール樹脂等が見えると表示品位が損なわれるので、そ
れらが見えないようにするのが望ましい。As described above, a conventional liquid crystal display device generally has a structure in which a black matrix is provided on a color filter substrate. However, in order to reduce the manufacturing cost of the liquid crystal display device, a configuration in which a black matrix is not provided on the color filter substrate can be naturally considered. In this case, a problem is how to shield the peripheral area. For example, if backlight light leaks from the peripheral area, display quality is impaired, and this is a particular problem in the case of black display. Therefore, it is necessary to shield the backlight light. Usually, an observer views the liquid crystal display device from the color filter substrate side. At this time, if a sealing resin or the like provided in a peripheral region for bonding the two substrates is visible, display quality is impaired. It is desirable to make them invisible.
【0007】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、カラーフィルタ基板にブ
ラックマトリクスを設けずに周辺領域を遮光することが
できる液晶表示装置を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve such problems of the prior art, and has as its object to provide a liquid crystal display device capable of shielding a peripheral region from light without providing a black matrix on a color filter substrate. Aim.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、液晶層を挟んでアクティブマトリクス基板とカラー
フィルタ基板とが対向配置され、該アクティブマトリク
ス基板に設けた画素電極とカラーフィルタ基板に設けた
対向電極との対向する部分が表示領域となり、該表示領
域の外周部が周辺領域となっている液晶表示装置におい
て、該アクティブマトリクス基板は各画素電極の周辺近
傍を通って互いに交差する走査配線と信号配線とが、該
周辺領域を超えて延出形成された構成となっており、該
カラーフィルタ基板は、該表示領域に対応する部分にカ
ラーフィルタを有すると共に、該周辺領域に対応する部
分に、単層の着色層からなる、または、異なる色の2つ
の着色層を積層してなる遮光層を有する構成となってお
り、そのことにより上記目的が達成される。According to a liquid crystal display device of the present invention, an active matrix substrate and a color filter substrate are arranged opposite to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and a pixel electrode provided on the active matrix substrate and a color filter substrate are provided. In a liquid crystal display device in which a portion facing the opposing electrode is a display region, and an outer peripheral portion of the display region is a peripheral region, the active matrix substrate has scanning lines crossing each other through the vicinity of the periphery of each pixel electrode. And the signal wiring are formed so as to extend beyond the peripheral region, and the color filter substrate has a color filter in a portion corresponding to the display region and a portion corresponding to the peripheral region. And a light-shielding layer composed of a single colored layer or a laminate of two colored layers of different colors. Serial object is achieved.
【0009】前記アクティブマトリクス基板の前記周辺
領域に対応する部分に第2の遮光層が、前記走査配線お
よび前記信号配線のうちの少なくとも一方の隣接する配
線同士の間を少なくとも覆い、かつ、覆われる配線とは
異なる側の配線と同じ材料を用いて該異なる側の配線と
同時にパターン形成されていてもよい。In a portion corresponding to the peripheral region of the active matrix substrate, a second light-shielding layer covers at least a space between at least one adjacent one of the scanning wiring and the signal wiring, and is covered. The pattern may be formed simultaneously with the wiring on the different side using the same material as the wiring on the different side from the wiring.
【0010】前記走査配線および前記信号配線のうち前
記表示領域の最外郭にあるものと離隔して前記第2の遮
光層が設けられ、その離隔部分を覆って着色層からなる
前記遮光層が設けられていてもよい。The second light-shielding layer is provided so as to be spaced apart from the scanning wiring and the signal wiring at the outermost periphery of the display area, and the light-shielding layer made of a colored layer is provided so as to cover the separated part. It may be.
【0011】前記アクティブマトリクス基板に前記走査
配線および前記信号配線を覆う絶縁膜が設けられ、該ア
クティブマトリクス基板の前記周辺領域に対応する部分
に第2の遮光層が、前記走査配線および前記信号配線の
うちの少なくとも一方の2本以上にわたる範囲を覆い、
かつ、覆われる配線との間に該絶縁膜を介して設けられ
ていてもよい。An insulating film covering the scanning wiring and the signal wiring is provided on the active matrix substrate, and a second light-shielding layer is provided at a portion corresponding to the peripheral region of the active matrix substrate, and the scanning wiring and the signal wiring are provided. At least one of the two or more ranges,
In addition, the insulating film may be provided between the wiring and the wiring to be covered.
【0012】前記異なる色の2つの着色層を積層してな
る遮光層は、赤色の着色層および青色の着色層が積層さ
れたものであってもよい。The light-shielding layer formed by laminating the two colored layers of different colors may be a laminated layer of a red colored layer and a blue colored layer.
【0013】前記カラーフィルタ基板に設けられた単層
の遮光層は、前記表示領域に形成されたカラーフィルタ
を延ばした状態で形成されている構成としてもよい。[0013] The single light-blocking layer provided on the color filter substrate may be formed so that a color filter formed in the display area is extended.
【0014】前記カラーフィルタ基板に設けられた単層
の遮光層は、前記表示領域に形成されたカラーフィルタ
の色層よりも狭幅にパターン形成されている構成として
もよい。The single-layer light-shielding layer provided on the color filter substrate may have a pattern formed to have a smaller width than the color layer of the color filter formed in the display area.
【0015】以下、本発明の作用について説明する。Hereinafter, the operation of the present invention will be described.
【0016】本発明にあっては、カラーフィルタ基板の
周辺領域に対応する部分に設けられた遮光層により周辺
領域が遮光される。この遮光層は、単層の着色層でも、
互いに異なる2つの着色層が積層されたものでもよい。
単層の場合は、周辺領域に設けられるシール樹脂の検査
を容易に行い得、また、配向不良の発生を抑制できる。
その単層の遮光層を複数の色層が混在するように構成す
ると、遮光層を介して光に色が着くのを防止できる。In the present invention, the peripheral region is shielded from light by the light-shielding layer provided in a portion corresponding to the peripheral region of the color filter substrate. This light-shielding layer may be a single colored layer,
Two different colored layers may be laminated.
In the case of a single layer, the inspection of the sealing resin provided in the peripheral region can be easily performed, and the occurrence of poor alignment can be suppressed.
When the single light-shielding layer is configured so that a plurality of color layers are mixed, it is possible to prevent light from being colored by the light-shielding layer.
【0017】また、アクティブマトリクス基板の周辺領
域に、走査配線および信号配線のうちの少なくとも一方
の隣接する配線同士の間を少なくとも覆って第2の遮光
層を設けると、周辺領域の光透過率がさらに低くなる。Further, when a second light-shielding layer is provided in a peripheral area of the active matrix substrate so as to cover at least a portion between adjacent wirings of at least one of the scanning wiring and the signal wiring, the light transmittance of the peripheral area is reduced. It will be even lower.
【0018】この第2の遮光層は、信号配線または走査
配線と同時に形成することができ、作製プロセスが複雑
化することはない。この場合、走査配線および信号配線
のうちの表示領域の最外郭にあるものと第2の遮光層と
が同層に存在するので、両者を表示領域と周辺領域との
境界部で離隔させる。その離隔部分を覆って上記着色層
からなる遮光層を設けると、この部分からの光漏れも防
ぐことができる。The second light-shielding layer can be formed simultaneously with the signal wiring or the scanning wiring, and does not complicate the manufacturing process. In this case, since the outermost one of the scanning wiring and the signal wiring in the display area and the second light-shielding layer are in the same layer, they are separated from each other at the boundary between the display area and the peripheral area. If a light-shielding layer made of the colored layer is provided so as to cover the separated portion, light leakage from this portion can also be prevented.
【0019】上記第2の遮光層は、走査配線および信号
配線を覆う絶縁膜を介して設けてもよい。例えば後述す
るPOP構造の場合、膜厚が厚い層間絶縁膜等の上に第
2の遮光層を設けると、第2の遮光層と各配線との間の
容量を小さくできる。また、走査配線および信号配線の
うちの少なくとも一方の2本以上にわたる範囲を覆うよ
うに第2の遮光層を設けると、配線パターンが模様とし
て視認されないようにできる。The second light shielding layer may be provided via an insulating film covering the scanning wiring and the signal wiring. For example, in the case of a POP structure described later, when a second light-blocking layer is provided on an interlayer insulating film or the like having a large thickness, the capacitance between the second light-blocking layer and each wiring can be reduced. In addition, when the second light-blocking layer is provided so as to cover a range that covers at least one of the scanning wiring and the signal wiring, the wiring pattern can be prevented from being visually recognized as a pattern.
【0020】上記異なる2つの着色層が積層されてなる
遮光層としては、カラーフィルタのR、B、G用の色層
のうちの2層を用いることができる。このとき、この遮
光層としてカラーフィルタの色層と同じ色である赤色の
着色層および青色の着色層が積層されたものを用いる
と、例えばカラーフィルタの色層と同じ色である緑色お
よび青色の着色層を積層した場合や赤色および緑色の着
色層を積層した場合に比べて周辺領域の光透過率を最も
低くすることができる。なお、異なる2つの着色層が積
層されてなる遮光層としては、カラーフィルタの色層と
は異なる波長領域の光を吸収する2つの着色層を積層し
た構造としてもよい。また、遮光層としては、異なる2
つの着色層が積層されたものに限らず、カラーフィルタ
の1つまたは複数の色層からなる単層、またはカラーフ
ィルタの色層とは異なる波長領域の光を吸収する単層の
着色層を用いてもよい。As the light-shielding layer formed by laminating the two different colored layers, two layers of the R, B, and G color layers of the color filter can be used. At this time, when a layer in which a red coloring layer and a blue coloring layer having the same color as the color layer of the color filter are laminated as the light shielding layer is used, for example, green and blue colors which are the same color as the color layer of the color filter are used. The light transmittance of the peripheral region can be minimized as compared with the case where the coloring layers are stacked or the case where the red and green coloring layers are stacked. Note that the light-blocking layer in which two different coloring layers are stacked may have a structure in which two coloring layers that absorb light in a wavelength region different from the color layer of the color filter are stacked. Further, as the light shielding layer, two different
Not only a single colored layer is laminated, but also a single colored layer composed of one or more color layers of a color filter or a single colored layer that absorbs light in a wavelength region different from the color layer of the color filter. You may.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0022】(実施形態1)図1は実施形態1の液晶表
示装置の平面図である。(Embodiment 1) FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device of Embodiment 1.
【0023】この液晶表示装置は、画素電極(図示せ
ず)を備えたアクティブマトリクス基板と対向電極(図
示せず)を備えたカラーフィルタ基板とが、液晶層(図
示せず)を挟んで対向配置されている。そして、画素電
極と対向電極との対向部分が表示領域となり、その外周
部が周辺領域となっている。In this liquid crystal display device, an active matrix substrate provided with a pixel electrode (not shown) and a color filter substrate provided with a counter electrode (not shown) face each other with a liquid crystal layer (not shown) interposed therebetween. Are located. The opposing portion between the pixel electrode and the opposing electrode is a display region, and the outer peripheral portion is a peripheral region.
【0024】アクティブマトリクス基板には、平面視に
おいて各画素電極の近傍を通って互いに交差するよう
に、走査配線としてのゲート信号線3と信号配線として
のソース信号線5とが設けられている。両信号線3、5
は周辺領域を超えて延出形成され、その外側の端子領域
に設けられた入力端子を介してゲート信号線3に走査電
圧が入力され、ソース信号線5に信号電圧が入力され
る。The active matrix substrate is provided with a gate signal line 3 as a scanning line and a source signal line 5 as a signal line so as to pass through the vicinity of each pixel electrode and cross each other in plan view. Both signal lines 3, 5
Are formed so as to extend beyond the peripheral region, and a scanning voltage is input to the gate signal line 3 and a signal voltage is input to the source signal line 5 via input terminals provided in a terminal region outside the peripheral region.
【0025】図2は、上記アクティブマトリクス基板の
TFT部分における断面図である。FIG. 2 is a sectional view of the TFT portion of the active matrix substrate.
【0026】このアクティブマトリクス基板は、透明絶
縁性基板11上に、ゲート信号線3に接続されたゲート
電極12が形成され、その上を覆ってゲート絶縁膜13
が形成されている。その上にはゲート電極12と重畳す
るように半導体層14が形成され、その中央部上にチャ
ネル保護層15が形成されている。チャネル保護層15
の端部および半導体層14の一部を覆い、チャネル保護
層15の上で分断された状態で、共にn+−Si層から
なるソース電極16aおよびドレイン電極16bが形成
されている。In this active matrix substrate, a gate electrode 12 connected to a gate signal line 3 is formed on a transparent insulating substrate 11, and a gate insulating film 13
Are formed. A semiconductor layer 14 is formed thereon so as to overlap with the gate electrode 12, and a channel protection layer 15 is formed on a central portion thereof. Channel protective layer 15
A source electrode 16a and a drain electrode 16b, both of which are made of an n + -Si layer, are formed so as to cover the ends of the semiconductor layer 14 and a part of the semiconductor layer 14 and are divided on the channel protective layer 15.
【0027】ソース電極16a上には、2層構造のソー
ス信号線5が接続されている。このソース信号線5は、
透明導電層17aと金属層10aとからなる。ドレイン
電極16bの上には、透明導電層17bと金属層10b
とが形成され、透明導電層17bは画素電極19とドレ
イン電極16bとを接続するための接続電極となってい
る。さらに、TFT、ゲート信号線およびソース信号線
の上部を覆って、層間絶縁膜18が形成されている。層
間絶縁膜18の上には、透明導電層からなる画素電極1
9が形成され、図外の部分において層間絶縁膜18を貫
くコンタクトホール(図に表れていない)を介して、接
続電極である透明導電層17bによりTFTのドレイン
電極16bと接続されている。このコンタクトホールに
ついては後述する。The source signal line 5 having a two-layer structure is connected to the source electrode 16a. This source signal line 5
It comprises a transparent conductive layer 17a and a metal layer 10a. A transparent conductive layer 17b and a metal layer 10b are formed on the drain electrode 16b.
Are formed, and the transparent conductive layer 17b serves as a connection electrode for connecting the pixel electrode 19 and the drain electrode 16b. Further, an interlayer insulating film 18 is formed to cover the TFT, the gate signal line, and the source signal line. The pixel electrode 1 made of a transparent conductive layer is formed on the interlayer insulating film 18.
9 is formed, and is connected to the drain electrode 16b of the TFT via a transparent conductive layer 17b as a connection electrode via a contact hole (not shown in the figure) penetrating the interlayer insulating film 18 in a part other than the figure. This contact hole will be described later.
【0028】図3は、このように構成されたアクティブ
マトリクス基板に対し、間に液晶層LCを挟んでカラー
フィルタ基板が対向配設された状態を示す断面図であ
る。このカラーフィルタ基板は、ベースとなる透明絶縁
性基板30の表示領域に、カラーフィルタ31が設けら
れ、R、GまたはBのいずれかの色層が各画素の表示色
に応じて配置されている。また、カラーフィルタ基板の
周辺領域には、互いに異なる色の2つの着色層、例えば
図示例では赤色および青色の着色層が積層された遮光層
32が設けられている。そして、遮光層32の部分に
は、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板と
を貼り合わせるためのシール樹脂等からなるシール材3
3が設けられている。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which a color filter substrate is disposed so as to face the active matrix substrate thus configured with a liquid crystal layer LC interposed therebetween. In this color filter substrate, a color filter 31 is provided in a display region of a transparent insulating substrate 30 serving as a base, and any one of R, G, and B color layers is arranged according to a display color of each pixel. . Further, in the peripheral region of the color filter substrate, there is provided a light-shielding layer 32 in which two colored layers of different colors, for example, red and blue colored layers are stacked in the illustrated example. A sealing material 3 made of a sealing resin or the like for bonding the active matrix substrate and the color filter substrate is provided on the light shielding layer 32.
3 are provided.
【0029】この液晶表示装置は、以下のようにして作
製することができる。This liquid crystal display device can be manufactured as follows.
【0030】まず、アクティブマトリクス基板を作製す
るために、透明絶縁性基板11上にゲート信号線および
ゲート電極12を形成する。この透明絶縁性基板として
は、ガラス基板などを用いることができる。また、ゲー
ト信号線3とゲート電極12との表面には、陽極酸化膜
を形成してもよい。First, in order to manufacture an active matrix substrate, a gate signal line and a gate electrode 12 are formed on a transparent insulating substrate 11. As the transparent insulating substrate, a glass substrate or the like can be used. Further, an anodic oxide film may be formed on the surfaces of the gate signal line 3 and the gate electrode 12.
【0031】次に、ゲート絶縁膜13、半導体層14、
およびチャネル保護層15を順に形成し、続いて、ソー
ス電極16aおよびドレイン電極16bを形成する。そ
の上に、ITOからなる透明導電層17a、17bおよ
び金属層10a、10bを、スパッタ法により順に形成
してパターニングし、2層構造のソース信号線5および
接続電極を得る。ここまでの作製プロセスは、従来より
知られている。Next, the gate insulating film 13, the semiconductor layer 14,
Then, a channel protection layer 15 is formed in order, and then a source electrode 16a and a drain electrode 16b are formed. The transparent conductive layers 17a and 17b made of ITO and the metal layers 10a and 10b are sequentially formed thereon by sputtering and patterned to obtain the source signal lines 5 and the connection electrodes having a two-layer structure. The manufacturing process up to this point has been conventionally known.
【0032】その後、層間絶縁膜18として、感光性の
アクリル樹脂をスピン塗布法により3μmの膜厚に成膜
し、コンタクトホールを形成する。その後、画素電極と
なる透明導電層をスパッタ法により形成してパターニン
グし、これにより画素電極19を得る。この画素電極1
9は、層間絶縁膜18を貫くコンタクトホールを介し
て、TFTのドレイン電極16bと接続されている透明
導電層17bと接続される。つまり、この画素電極19
は、いわゆるPOP構造に形成されている。Thereafter, a photosensitive acrylic resin is formed as an interlayer insulating film 18 to a thickness of 3 μm by spin coating to form a contact hole. Thereafter, a transparent conductive layer to be a pixel electrode is formed by a sputtering method and patterned, whereby a pixel electrode 19 is obtained. This pixel electrode 1
Reference numeral 9 is connected to the transparent conductive layer 17b connected to the drain electrode 16b of the TFT via a contact hole penetrating the interlayer insulating film 18. That is, this pixel electrode 19
Are formed in a so-called POP structure.
【0033】次に、カラーフィルタ基板を作製するため
に、透明絶縁性基板30上にカラーフィルタ31の色層
および遮光層をパターン形成する。このとき、カラーフ
ィルタ31の色層は各画素の配色に応じてR、B、Gを
順次配置し、遮光層32部分にはそのうちの2つを異な
る色の2つの着色層として順次積層した。その上に、透
明導電層を成膜して対向電極を形成した。上記アクティ
ブマトリクス基板の作製工程とカラーフィルタ基板の作
製工程とは、どちらを先に行っても良い。Next, in order to produce a color filter substrate, a color layer and a light shielding layer of a color filter 31 are formed on the transparent insulating substrate 30 by patterning. At this time, R, B, and G were sequentially arranged in the color layer of the color filter 31 according to the color arrangement of each pixel, and two of them were sequentially laminated as two colored layers of different colors in the light shielding layer 32 portion. A transparent conductive layer was formed thereon to form a counter electrode. Either the manufacturing process of the active matrix substrate or the manufacturing process of the color filter substrate may be performed first.
【0034】その後、アクティブマトリクス基板とカラ
ーフィルタ基板との表面に配向膜(図示せず)を形成
し、両基板をシール樹脂等により貼り合わせる。最後
に、両基板間の空隙に液晶を注入することにより、液晶
表示装置が得られる。Thereafter, an alignment film (not shown) is formed on the surfaces of the active matrix substrate and the color filter substrate, and both substrates are bonded with a seal resin or the like. Finally, a liquid crystal is injected into a gap between the two substrates to obtain a liquid crystal display device.
【0035】このようにして得られる本実施形態の液晶
表示装置においては、遮光層32として互いに異なる色
の2つの着色層が積層されているので、周辺領域を遮光
することができた。従って、周辺領域からバックライト
光が漏れることがなく、周辺領域に設けられるシール樹
脂等も見えなかった。特に、上記遮光層として赤色の着
色層および青色の着色層が積層されたものを用いた場
合、周辺領域の光透過率を1%程度にすることができ
た。この場合、遮光層を形成しない構成や単色の遮光層
を設ける構成に比べて周辺領域の光透過率が低いことは
当然ながら、カラーフィルタの色層のうち、他の2つの
色層の組み合わせを用いた場合に比べても光透過率が最
も低くなった。また、上記遮光層はカラーフィルタの各
色層のパターン形成時に順次積層できるので、製造工程
の簡略化を図ることができた。In the thus-obtained liquid crystal display device of the present embodiment, since two colored layers of different colors are laminated as the light shielding layer 32, the peripheral area can be shielded from light. Therefore, the backlight did not leak from the peripheral region, and the sealing resin and the like provided in the peripheral region were not seen. In particular, when a layer in which a red coloring layer and a blue coloring layer were laminated was used as the light-shielding layer, the light transmittance in the peripheral region could be reduced to about 1%. In this case, as a matter of course, the light transmittance in the peripheral region is lower than the configuration in which the light-shielding layer is not formed or the configuration in which the single-color light-shielding layer is provided. The light transmittance was the lowest as compared with the case where it was used. Further, since the light-shielding layer can be sequentially laminated at the time of forming the pattern of each color layer of the color filter, the manufacturing process can be simplified.
【0036】(実施形態2)図4(A)および図4
(B)は実施形態2の液晶表示装置におけるアクティブ
マトリクス基板の平面図であり、図5(A)は図4
(A)のA−A’断面図、図5(B)は図4(B)のB
−B’断面図である。なお、図4(A)および図5
(A)は周辺領域のゲート信号線部分を示し、図4
(B)および図5(B)は周辺領域のソース信号線部分
を示している。(Embodiment 2) FIGS. 4A and 4
FIG. 5B is a plan view of an active matrix substrate in the liquid crystal display device of Embodiment 2, and FIG.
FIG. 5A is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG.
FIG. 14 is a sectional view taken along the line B-B '. 4 (A) and FIG.
4A shows a gate signal line portion in a peripheral region, and FIG.
5B and FIG. 5B show a source signal line portion in a peripheral region.
【0037】このアクティブマトリクス基板は、周辺領
域にゲート信号線3の隣接するもの同士の間を覆うよう
に第2の遮光層20aを形成し、また、ソース信号線5
を形成するよりも前に、ソース信号線5の隣接するもの
同士の間を覆うように、前記第2の遮光層20aと同時
に第2の遮光層20bを形成した。一方、カラーフィル
タ基板は、実施形態1の液晶表示装置と同様に、カラー
フィルタ基板上の周辺領域に遮光層として互いに異なる
2色の着色層を積層した。In this active matrix substrate, a second light-shielding layer 20a is formed in the peripheral region so as to cover between adjacent ones of the gate signal lines 3, and the source signal lines 5
Prior to forming the second light-shielding layer 20a, a second light-shielding layer 20b was formed simultaneously with the second light-shielding layer 20a so as to cover a space between adjacent ones of the source signal lines 5. On the other hand, in the color filter substrate, similarly to the liquid crystal display device of the first embodiment, two different colored layers as light shielding layers were laminated in a peripheral region on the color filter substrate.
【0038】この実施形態2の液晶表示装置には、実施
形態1の液晶表示装置に比べて以下のような利点があ
る。すなわち、実施形態1の液晶表示装置では周辺領域
の光透過率が1%程度であり、アクティブマトリクス基
板の配線が透けて見える。このため、例えばパーソナル
コンピュータの中でも、特に高い表示品位が要求される
用途には使用できなかった。これに対して実施形態2の
液晶表示装置では、アクティブマトリクス基板に設けら
れた第2の遮光層20a、20bにより周辺領域の光透
過率をさらに低くすることができるため、このような用
途にも使用することができる。The liquid crystal display of the second embodiment has the following advantages as compared with the liquid crystal display of the first embodiment. That is, in the liquid crystal display device of the first embodiment, the light transmittance of the peripheral region is about 1%, and the wiring of the active matrix substrate can be seen through. For this reason, it cannot be used for, for example, a personal computer that requires particularly high display quality. On the other hand, in the liquid crystal display device of the second embodiment, the light transmittance in the peripheral region can be further reduced by the second light shielding layers 20a and 20b provided on the active matrix substrate. Can be used.
【0039】また、実施形態2の液晶表示装置には、以
下のような利点もある。すなわち、ゲート信号線3の形
成部分に設けられる第2の遮光層20aはソース信号線
と同じ材料を用いて同時にパターン形成することがで
き、ソース信号線5の形成部分に設けられる第2の遮光
層20bはゲート信号線と同じ材料を用いて同時にパタ
ーン形成することができる。この第2の遮光層20aと
ソース信号線とを別の層として形成したり、第2の遮光
層20bとゲート信号線とを別の層として形成すること
もできるが、同層に形成した場合には製造工程が増加し
ないため、コスト的に有利である。なお、第2の遮光層
20bとゲート信号線とを別の層として形成する場合に
は、ソース信号線5を第2の遮光層20bに対して基板
側に形成することもできる。The liquid crystal display of the second embodiment also has the following advantages. That is, the second light-shielding layer 20a provided in the portion where the gate signal line 3 is formed can be simultaneously patterned using the same material as the source signal line, and the second light-shielding layer 20a provided in the portion where the source signal line 5 is formed The layer 20b can be simultaneously patterned using the same material as the gate signal line. The second light-shielding layer 20a and the source signal line can be formed as separate layers, or the second light-shielding layer 20b and the gate signal line can be formed as separate layers. Is advantageous in terms of cost since the number of manufacturing steps does not increase. When the second light-shielding layer 20b and the gate signal line are formed as separate layers, the source signal line 5 can be formed on the substrate side with respect to the second light-shielding layer 20b.
【0040】さらに、実施形態2の液晶表示装置には、
以下のような利点もある。すなわち、ゲート信号線3の
形成部分に設けられる第2の遮光層20aをソース信号
線と同層に形成した場合、その上の層における干渉がゲ
ート信号線の上の層における干渉と異なるため、周辺領
域に配線に応じた模様が見えるという問題がある。ま
た、ソース信号線5の形成部分に設けられる第2の遮光
層20bをゲート信号線と同層に形成した場合にも同様
の問題がある。さらに、アクティブマトリクス基板とカ
ラーフィルタ基板とを貼り合わせるためのシール樹脂等
や、対向電極に信号を入力するための導電性ペースト等
が周辺領域に設けられ、それらが見えるという問題もあ
る。これに対して実施形態2の液晶表示装置では、カラ
ーフィルタ基板の周辺領域に遮光層が設けられているの
で、配線の模様やシール樹脂、導電性ペースト等を見え
なくすることができ、表示品位を充分に良好にすること
ができた。Further, in the liquid crystal display device of the second embodiment,
There are also the following advantages. That is, when the second light-shielding layer 20a provided in the portion where the gate signal line 3 is formed is formed in the same layer as the source signal line, interference in a layer above the source signal line is different from interference in a layer above the gate signal line. There is a problem that a pattern corresponding to the wiring can be seen in the peripheral area. The same problem occurs when the second light-shielding layer 20b provided in the portion where the source signal line 5 is formed is formed in the same layer as the gate signal line. Further, there is a problem that a sealing resin for bonding the active matrix substrate and the color filter substrate, a conductive paste for inputting a signal to the counter electrode, and the like are provided in the peripheral region, and they can be seen. On the other hand, in the liquid crystal display device according to the second embodiment, since the light shielding layer is provided in the peripheral region of the color filter substrate, the wiring pattern, the sealing resin, the conductive paste, and the like can be made invisible. Was sufficiently improved.
【0041】なお、この実施形態2では、ゲート信号線
3の形成部分に第2の遮光層20aを形成し、ソース信
号線5の形成部分に第2の遮光層20bを形成したが、
本発明は、いずれか一方のみに第2の遮光層を形成した
場合にも適用可能である。In the second embodiment, the second light-shielding layer 20a is formed at the portion where the gate signal line 3 is formed, and the second light-shielding layer 20b is formed at the portion where the source signal line 5 is formed.
The present invention is also applicable to a case where the second light-shielding layer is formed on only one of the two.
【0042】(実施形態3)図6(A)および図6
(B)は実施形態3の液晶表示装置におけるアクティブ
マトリクス基板の平面図であり、図7(A)は図6
(A)のC−C’断面図、図7(B)は図6(B)のD
−D’断面図である。なお、図6(A)および図7
(A)は周辺領域のゲート信号線部分を示し、図6
(B)および図7(B)は周辺領域のソース信号線部分
を示している。(Embodiment 3) FIGS. 6A and 6
FIG. 7B is a plan view of an active matrix substrate in the liquid crystal display device according to the third embodiment, and FIG.
FIG. 7A is a cross-sectional view taken along the line CC ′, and FIG.
FIG. 4 is a sectional view taken along the line -D '. 6 (A) and FIG.
FIG. 6A shows a gate signal line portion in a peripheral region, and FIG.
7B and FIG. 7B show a source signal line portion in a peripheral region.
【0043】このアクティブマトリクス基板は、周辺領
域におけるゲート信号線3部分の総てを覆う大きな島状
の第2の遮光層21aを形成すると共に、周辺領域にお
けるソース信号線5部分の総てを覆う大きな島状の第2
の遮光層21bを形成した。一方、カラーフィルタ基板
は、実施形態1の液晶表示装置と同様に、カラーフィル
タ基板上に遮光層として互いに異なる2色の着色層を積
層した。In this active matrix substrate, a large island-shaped second light-shielding layer 21a covering all of the gate signal lines 3 in the peripheral region is formed, and all of the source signal lines 5 in the peripheral region are covered. Large island-shaped second
Was formed. On the other hand, as for the color filter substrate, similarly to the liquid crystal display device of Embodiment 1, two different colored layers were laminated as a light shielding layer on the color filter substrate.
【0044】この実施形態3の液晶表示装置では、アク
ティブマトリクス基板に設けられた第2の遮光層21
a、21bにより周辺領域の光透過率をさらに低くする
ことができるため、実施形態2の液晶表示装置と同様
に、特に高い表示品位が要求される用途にも使用するこ
とができる。この第2の遮光層21a、21bは、例え
ばゲート信号線3やソース信号線5を覆う層間絶縁膜1
8上に設けられ、各信号線とは別の層として形成してい
る。この場合、実施形態2の液晶表示装置に比べて製造
工程は長くなるが、層間絶縁膜18により第2の遮光層
21a、21bと各信号線との間の容量を小さくするこ
とができる。また、第2の遮光層21a、21bがゲー
ト信号線3およびソース信号線5を覆うように形成され
ているので、実施形態2の液晶表示装置のように周辺領
域に各信号線に応じた模様が見えるという問題も改善す
ることができた。In the liquid crystal display device according to the third embodiment, the second light shielding layer 21 provided on the active matrix substrate
Since the light transmittance of the peripheral region can be further reduced by a and 21b, the liquid crystal display device of the second embodiment can be used for applications requiring particularly high display quality, similarly to the liquid crystal display device of the second embodiment. The second light-shielding layers 21 a and 21 b are, for example, an interlayer insulating film 1 that covers the gate signal lines 3 and the source signal lines 5.
8 and is formed as a layer different from each signal line. In this case, the manufacturing process is longer than that of the liquid crystal display device of the second embodiment, but the capacitance between the second light shielding layers 21a and 21b and each signal line can be reduced by the interlayer insulating film 18. Further, since the second light-shielding layers 21a and 21b are formed so as to cover the gate signal lines 3 and the source signal lines 5, a pattern corresponding to each signal line is formed in the peripheral area as in the liquid crystal display device of the second embodiment. The problem of seeing was also improved.
【0045】また、実施形態3の液晶表示装置では、実
施形態2の液晶表示装置と同様に、カラーフィルタ基板
の周辺領域に遮光層が設けられているので、配線の模様
やシール樹脂、導電性ペースト等を見えなくすることが
でき、表示品位を充分に良好にすることができた。Further, in the liquid crystal display device of the third embodiment, similar to the liquid crystal display device of the second embodiment, since the light shielding layer is provided in the peripheral region of the color filter substrate, the wiring pattern, the sealing resin, the conductive The paste and the like could not be seen, and the display quality could be sufficiently improved.
【0046】なお、この実施形態3では、ゲート信号線
3の形成部分に第2の遮光層21aを形成し、ソース信
号線5の形成部分に第2の遮光層21bを形成したが、
本発明は、いずれか一方のみに第2の遮光層を形成した
場合にも適用可能である。また、第2の遮光層21a、
21bは、ゲート信号線3およびソース信号線5の全部
を覆う大きな島状に形成したが、ゲート信号線およびソ
ース信号線の隣接する2本以上を覆うように形成しても
よい。また、大きな島状の第2の遮光層21a、21b
は、実施形態2と同様に、ゲート信号線やソース信号線
と同じ材料を用いて同時にパターン形成することもでき
る。この場合、各信号線の信号に遅延等が生じることが
あるが、それを許容できる用途には適用することがで
き、製造工程を簡単にすることができる。In the third embodiment, the second light-shielding layer 21a is formed in the portion where the gate signal line 3 is formed, and the second light-shielding layer 21b is formed in the portion where the source signal line 5 is formed.
The present invention is also applicable to a case where the second light-shielding layer is formed on only one of the two. Also, the second light shielding layer 21a,
Although 21b is formed in a large island shape covering all of the gate signal lines 3 and the source signal lines 5, it may be formed so as to cover two or more adjacent gate signal lines and source signal lines. Also, the large island-shaped second light-shielding layers 21a and 21b
As in the second embodiment, a pattern can be simultaneously formed using the same material as the gate signal lines and the source signal lines. In this case, a delay or the like may occur in the signal of each signal line. However, the signal can be applied to an application that can tolerate the delay, and the manufacturing process can be simplified.
【0047】(実施形態4)図8は実施形態4の液晶表
示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図であ
る。(Embodiment 4) FIG. 8 is a plan view of an active matrix substrate in a liquid crystal display device of Embodiment 4.
【0048】このアクティブマトリクス基板の周辺領域
には、ゲート信号線3の形成領域には、ソース信号線5
と同層に第2の遮光層20aが形成され、表示領域の最
外郭のソース信号線5と第2の遮光層20aとが、表示
領域と周辺領域との境界部で離隔している。また、図示
していないが、ソース信号線3の形成領域には、ゲート
信号線5と同層に第2の遮光層20bが形成され、表示
領域の最外郭のゲート信号線3と第2の遮光層20bと
が、表示領域と周辺領域との境界部で離隔している。一
方、カラーフィルタ基板の周辺領域には、互いに異なる
2色の着色層を積層した遮光層が設けられて、その離隔
部分22を覆っている。なお、図8中の2はTFTであ
り、4は画素容量電極1aとの対向部分で画素容量を形
成する画素容量配線であり、17bはTFT2のドレイ
ン電極16bと画素電極19とを接続するための接続電
極である。この接続電極17bは、図に表れていない層
間絶縁膜を貫くコンタクトホール23を介して画素電極
19と接続されている。In the peripheral region of the active matrix substrate, the source signal line 5 is formed in the region where the gate signal line 3 is formed.
A second light-shielding layer 20a is formed in the same layer as the above, and the outermost source signal line 5 in the display area is separated from the second light-shielding layer 20a at the boundary between the display area and the peripheral area. Although not shown, a second light-blocking layer 20b is formed in the same region as the gate signal line 5 in the formation region of the source signal line 3, and the outermost gate signal line 3 and the second light-shielding layer 20b in the display region are formed. The light-shielding layer 20b is separated at the boundary between the display area and the peripheral area. On the other hand, in the peripheral region of the color filter substrate, a light-shielding layer in which two different colored layers are stacked is provided, and covers the separated portion 22. In FIG. 8, reference numeral 2 denotes a TFT, reference numeral 4 denotes a pixel capacitance wiring which forms a pixel capacitance at a portion facing the pixel capacitance electrode 1a, and reference numeral 17b denotes a connection between the drain electrode 16b of the TFT 2 and the pixel electrode 19. Are connection electrodes. The connection electrode 17b is connected to the pixel electrode 19 via a contact hole 23 penetrating an interlayer insulating film (not shown).
【0049】この実施形態4の液晶表示装置には、実施
形態2の液晶表示装置に比べて以下のような利点があ
る。すなわち、実施形態2の液晶表示装置では、第2の
遮光層21a、21bと各信号線3、5との間の離隔部
分22から光漏れが生じるため、周辺領域と表示領域と
の境界における遮光が問題となる。これに対して実施形
態4の液晶表示装置では、カラーフィルタ基板の周辺領
域に設けられた遮光層が離隔部分22も覆っているの
で、この部分からの光漏れも防ぐことができる。この離
隔部分22の幅は大きくても数10μm程度であり、そ
の部分を覆って互いに異なる2色の着色層からなる遮光
層を設けることにより、さらに光透過率を低減できるの
で、表示品位を良好なレベルにすることが可能となる。The liquid crystal display of the fourth embodiment has the following advantages as compared with the liquid crystal display of the second embodiment. That is, in the liquid crystal display device according to the second embodiment, since light leaks from the separation portions 22 between the second light shielding layers 21a and 21b and the signal lines 3 and 5, light is blocked at the boundary between the peripheral region and the display region. Is a problem. On the other hand, in the liquid crystal display device of the fourth embodiment, since the light shielding layer provided in the peripheral region of the color filter substrate also covers the separation portion 22, light leakage from this portion can be prevented. The width of the separation portion 22 is at most about several tens of μm, and the light transmittance can be further reduced by covering the portion with a light-shielding layer composed of two different colored layers, so that the display quality is improved. To a certain level.
【0050】なお、この実施形態4では、ゲート信号線
部分に第2の遮光層20aを形成し、ソース信号線部分
に第2の遮光層20bを形成したが、本発明は、いずれ
か一方のみに第2の遮光層を形成した場合や、いずれか
一方のみが離隔部分22を覆う場合にも適用可能であ
る。In the fourth embodiment, the second light-shielding layer 20a is formed in the gate signal line portion and the second light-shielding layer 20b is formed in the source signal line portion. It is also applicable to the case where the second light-shielding layer is formed in the first embodiment, or the case where only one of them covers the separation portion 22.
【0051】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明は上記構成に限られない。例えば、カラーフ
ィルタ基板の周辺領域に設ける遮光層は、赤色および青
色の着色層を積層した構成としているが、本発明は、こ
の組み合わせに限られない。たとえば、赤色および緑色
の着色層を積層した構成や青色および緑色の着色層を積
層した構成としてもよい。但し、赤色および青色の着色
層を積層した構成の場合は、他の2色の着色層を積層し
た場合よりも光の透過率を充分低くすることができる。
また、その遮光層としては、カラーフィルタを構成する
色層ではなく、カラーフィルタの色層とは光吸収波長領
域の異なる着色層を2つ使用した構成としても良い。Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above configuration. For example, the light-blocking layer provided in the peripheral region of the color filter substrate has a structure in which red and blue coloring layers are stacked, but the present invention is not limited to this combination. For example, a configuration in which red and green coloring layers are stacked or a configuration in which blue and green coloring layers are stacked may be employed. However, in the case of a configuration in which red and blue coloring layers are stacked, the light transmittance can be made sufficiently lower than in the case where the other two coloring layers are stacked.
Further, as the light-shielding layer, a structure using two colored layers having different light absorption wavelength regions from the color layer of the color filter may be used instead of the color layer constituting the color filter.
【0052】また、上述した実施形態では画素電極は、
ゲート信号線、ソース信号線およびTFTを覆う層間絶
縁膜上に設けてPOP構造としたが、層間絶縁膜を形成
せずに、TFTのドレイン電極上に画素電極の一部が重
なるように設けても良い。但し、実施形態4のように層
間絶縁膜上に画素電極を設けた場合、画素電極と各配線
とが重なり合っているため、画素電極が設けられた部分
は液晶層に電圧が印加され、液晶層に電圧が印加されな
い領域は各配線で遮光される。従って、表示領域におい
てもブラックマトリクスを設けない構成とすることがで
きる。In the above embodiment, the pixel electrode is
The POP structure is provided on the interlayer insulating film covering the gate signal line, the source signal line, and the TFT. However, without forming the interlayer insulating film, the pixel electrode is provided so as to partially overlap the drain electrode of the TFT. Is also good. However, when the pixel electrode is provided on the interlayer insulating film as in the fourth embodiment, since the pixel electrode and each wiring overlap each other, a voltage is applied to the portion where the pixel electrode is provided, and a voltage is applied to the liquid crystal layer. The region where no voltage is applied is shielded from light by each wiring. Therefore, a configuration in which the black matrix is not provided even in the display area can be achieved.
【0053】(実施形態5)図9は、本実施形態に係る
液晶表示装置の要部を示す断面図である。(Embodiment 5) FIG. 9 is a sectional view showing a main part of a liquid crystal display device according to this embodiment.
【0054】本実施形態は、上述した実施形態1におい
て設けた、異なる色の2つの着色層を積層してなる遮光
層32の代わりに、単層の着色層からなる遮光層34を
実施形態1と同一部分に設けた。具体的には、カラーフ
ィルタ基板の周辺領域に対応する部分に、カラーフィル
タのBの色層を遮光層34として設けた。他の構成は、
実施形態1と同様とした。In this embodiment, instead of the light-shielding layer 32 formed by laminating two colored layers of different colors provided in the first embodiment, a light-shielding layer 34 made of a single colored layer is used. Provided in the same part as. Specifically, a B color layer of the color filter is provided as a light shielding layer 34 in a portion corresponding to a peripheral region of the color filter substrate. Other configurations are
The same as in the first embodiment.
【0055】このBの色層の代わりに、RやGの色層を
用いることもできるが、Bの色層を用いる場合は、Rや
Gの色層を用いる場合よりも、見た目が暗く見えるとい
う利点がある。Instead of the B color layer, an R or G color layer can be used. However, when the B color layer is used, the appearance looks darker than when the R or G color layer is used. There is an advantage.
【0056】本実施形態においても、遮光層を単層の着
色層からなるものとして、上述した実施形態2〜4と同
様の構成とすることができ、同様の効果が得られる。こ
の場合において、本実施形態のように単層の着色層から
なる遮光層34を用いるときは、2つの着色層を積層し
てなる遮光層を用いるときよりも、以下の点での利点が
ある。その一つは、アクティブマトリクス基板側とカラ
ーフィルタ基板側との両方で遮光されて周辺領域に設け
られるシール樹脂の検査が行い難いのを、2つの着色層
を積層してなる遮光層を用いる場合よりも、本実施形態
の方が抑制できる。つまり、遮光層34が単層の着色層
からなるので、僅かであるが視認性がよいからである。Also in this embodiment, the light-shielding layer is formed of a single colored layer, and can have the same configuration as in the above-described second to fourth embodiments, and the same effect can be obtained. In this case, when the light-shielding layer 34 composed of a single colored layer is used as in the present embodiment, there are advantages in the following points as compared with the case where a light-shielded layer formed by laminating two colored layers is used. . One is that it is difficult to inspect the sealing resin provided in the peripheral region because it is shielded from light on both the active matrix substrate side and the color filter substrate side. The present embodiment can suppress more than the present embodiment. That is, since the light-shielding layer 34 is formed of a single colored layer, the visibility is small but good.
【0057】他の一つは、2つの着色層を積層してなる
遮光層の場合において、周辺領域と表示領域との間に生
じる大きな断差により、ラビング処理の条件(特にラビ
ング方向)によっては配向不良が発生し易くなるのを、
厚みの減少化により抑制できる。これにより、良品率の
向上が可能となる。The other is that, in the case of a light-shielding layer formed by laminating two colored layers, the large difference between the peripheral area and the display area causes the rubbing condition (particularly the rubbing direction). The tendency that misalignment is likely to occur
It can be suppressed by reducing the thickness. Thereby, the non-defective product rate can be improved.
【0058】(実施形態6)図10は、遮光層が1層か
らなる場合に生じる問題点を解消することができる構成
とした液晶表示装置の要部を示す断面図である。(Embodiment 6) FIG. 10 is a cross-sectional view showing a main part of a liquid crystal display device having a configuration capable of solving a problem that occurs when a light shielding layer is composed of one layer.
【0059】上述した実施形態5では遮光層34がその
全域に1つの着色層を形成した構成であるので、周辺領
域の反射光に色が着いて見え、これにより表示品位が劣
化するという問題点がある。In the fifth embodiment, since the light-shielding layer 34 has a structure in which one coloring layer is formed over the entire area, the reflected light in the peripheral area appears to be colored, thereby deteriorating the display quality. There is.
【0060】そこで、本実施形態では単層からなる遮光
層を複数の色層を並設した構成とした。具体的には、図
11に示すように、カラーフィルタ基板の周辺領域に、
表示領域に形成したR、G、Bの色層からなるカラーフ
ィルタのパターンを延ばして遮光層34を形成した。な
お、図11は、図10で示す部分とは異なる部位を示す
平面図である。Therefore, in the present embodiment, a single light-shielding layer has a configuration in which a plurality of color layers are arranged in parallel. Specifically, as shown in FIG.
The light-shielding layer 34 was formed by extending the color filter pattern formed of the R, G, and B color layers formed in the display area. FIG. 11 is a plan view showing a portion different from the portion shown in FIG.
【0061】このような遮光層34を有する構成とした
場合には、3色を合成した光の色となり、上記問題点を
解消できる。また、2色の着色層を積層した場合に生じ
る断差の影響も起こることがない。In the case where the light-shielding layer 34 is provided, the light is obtained by combining the three colors, and the above problem can be solved. Further, there is no influence of a difference generated when two colored layers are stacked.
【0062】(実施形態7)図12は、本実施形態に係
る液晶表示装置の要部を示す平面図である。(Embodiment 7) FIG. 12 is a plan view showing a main part of a liquid crystal display device according to this embodiment.
【0063】上述した実施形態6では表示領域に形成さ
れるカラーフィルタのパターンを周辺領域に延ばして遮
光層を形成する構成を、カラーフィルタの幅が狭い高精
細な液晶表示装置に適用する場合は、各色のパターンが
ばらばらに視認されないが、それ程高精細でない液晶表
示装置に適用する場合はばらばらに視認され、表示品位
が悪化するという難点がある。In the sixth embodiment, the structure in which the pattern of the color filter formed in the display area is extended to the peripheral area to form the light-shielding layer is applied to a high-definition liquid crystal display device having a narrow color filter. However, the pattern of each color is not visually recognized separately, but when applied to a liquid crystal display device with a not so high definition, there is a problem that the color is visually recognized separately and the display quality deteriorates.
【0064】そのため、本実施形態では、周辺領域のカ
ラーフィルタの幅を表示領域よりも小さな寸法とし、各
色のパターンがばらばらに視認されないようにした。具
体的には、12.1″のSVGAにおけるストライプ配
列で、表示領域のカラーフィルタの幅を約140μm、
周辺領域のカラーフィルタの幅を約45μmとした。こ
のように、周辺領域のカラーフィルタ幅を十分小さく形
成すると、表示品位の高いものが得られる。なお、パタ
ーンの大きさは、100μm以下、好ましくは70μm
以下がよく、本実施形態のように50μm程度にする
と、人目に視認されることはない。但し、逆に余り小さ
くすると、パターニングが困難となるだけで意味が無い
が、投射型の液晶表示装置に適用する場合は、拡大して
表示されるため可及的に小さくした方がよい。For this reason, in the present embodiment, the width of the color filter in the peripheral area is set smaller than that of the display area so that the patterns of the respective colors are not visually recognized separately. Specifically, in a 12.1 ″ SVGA stripe arrangement, the width of the color filter in the display area is about 140 μm,
The width of the color filter in the peripheral area was set to about 45 μm. As described above, when the width of the color filter in the peripheral region is formed sufficiently small, a display having high display quality can be obtained. The size of the pattern is 100 μm or less, preferably 70 μm.
The following is good, and if it is about 50 μm as in the present embodiment, it will not be visually recognized by human eyes. On the other hand, if the size is too small, patterning becomes difficult, which is meaningless. However, when applied to a projection type liquid crystal display device, it is preferable to make the size as small as possible because the image is enlarged and displayed.
【0065】上述した本実施形態7において、図13に
示すようにR、G、Bの各色のパターンの幅を、表示領
域に対して周辺領域で半分になるようにしてもよい。ま
た、周辺領域の遮光層のパターンとしては、上述したス
トライプ配列ではなく、図14に示すように、R、G、
Bの各色が斜め方向に配列した構成としてもよい。この
図14の配列は、本実施形態7に限らず、上述した実施
形態6にも適用できることはもちろんである。In the above-described seventh embodiment, as shown in FIG. 13, the width of each of the R, G, and B color patterns may be set to be half of the display area in the peripheral area. Further, the pattern of the light-shielding layer in the peripheral region is not the above-mentioned stripe arrangement, but is R, G,
Each of the colors B may be arranged in an oblique direction. The arrangement shown in FIG. 14 is not limited to the seventh embodiment, but can be applied to the sixth embodiment.
【0066】なお、上述した実施形態5〜7では遮光層
としてカラーフィルタの色層を用いるようにしている
が、本発明はこれに限らず、カラーフィルタの色層とは
光吸収波長領域の異なる着色層を使用してもよい。Although the color layers of the color filters are used as the light-shielding layers in the above-described embodiments 5 to 7, the present invention is not limited to this, and the color layers of the color filters have different light absorption wavelength ranges. A colored layer may be used.
【0067】また、上述した各実施形態ではソース信号
線は金属層とITO層との2層構造にしたが、1層のソ
ース信号線にしてもよい。但し、上述した実施形態のよ
うに2層構造にすることにより、金属層の一部に欠損が
あったとしてもITO層により電気的に接続されるた
め、ソース信号線の断線を少なくすることができるとい
う利点がある。In each of the embodiments described above, the source signal line has a two-layer structure of a metal layer and an ITO layer, but may have a single-layer source signal line. However, with the two-layer structure as in the above-described embodiment, even if a part of the metal layer has a defect, the metal layer is electrically connected by the ITO layer, so that disconnection of the source signal line can be reduced. There is an advantage that you can.
【0068】また、上述した各実施形態ではスイッチン
グ素子としてTFTを用いたアクティブマトリクス型液
晶表示装置について説明したが、本発明は、スイッチン
グ素子としてMIM(Metal Insulator
Metal)素子等の他の素子を用いた液晶表示装置
に適用できることはもちろんである。In each of the above embodiments, an active matrix type liquid crystal display device using TFTs as switching elements has been described. However, in the present invention, an MIM (Metal Insulator) is used as a switching element.
It is needless to say that the present invention can be applied to a liquid crystal display device using another element such as a (Metal) element.
【0069】また、本発明にあっては、着色層からなる
遮光層は、表示領域の最外郭からアクティブマトリクス
基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせるためのシー
ル領域までを覆うように設けることができる。表示領域
の最外郭やシール領域を覆わない構成も可能であるが、
表示領域の最外郭を覆うように設けた場合には表示領域
と周辺領域との境界部を遮光することができ、また、シ
ール領域を覆うように上記遮光層を設けた場合にはシー
ル樹脂等や、対向電極に信号を入力するための導電性ペ
ースト等を見えなくすることができるので好ましい。In the present invention, the light-shielding layer made of a colored layer can be provided so as to cover from the outermost edge of the display area to the seal area for bonding the active matrix substrate and the color filter substrate. . A configuration that does not cover the outermost part of the display area or the seal area is also possible,
When provided so as to cover the outermost edge of the display area, the boundary between the display area and the peripheral area can be shielded from light, and when the light-shielding layer is provided so as to cover the seal area, a sealing resin or the like is used. In addition, a conductive paste or the like for inputting a signal to the counter electrode can be made invisible, which is preferable.
【0070】[0070]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、カラーフィルタ基板の周辺領域にブラックマ
トリクスを形成しなくても周辺領域を遮光することがで
きる。この遮光層は、単層の着色層、または互いに異な
る2つの色の着色層を積層したものからなり、カラーフ
ィルタの色層のパターン形成と同じ工程により形成する
ことができるので、液晶表示装置のブラックマトリクス
形成工程を減らして製造原価を低廉化することができ
る。特に、単層の着色層で遮光層を構成すると、周辺領
域に設けられるシール樹脂の検査を容易に行い得、ま
た、配向不良の発生を抑制できる。その単層の遮光層を
複数の色層が混在するように構成すると、遮光層を介し
て光に色が着くのを防止できる。As is apparent from the above description, according to the present invention, the peripheral region can be shielded from light without forming a black matrix in the peripheral region of the color filter substrate. This light-shielding layer is composed of a single colored layer or a laminate of two colored layers different from each other, and can be formed in the same process as the pattern formation of the color layer of the color filter. The manufacturing cost can be reduced by reducing the number of black matrix forming steps. In particular, when the light-shielding layer is formed of a single colored layer, the seal resin provided in the peripheral region can be easily inspected, and the occurrence of poor alignment can be suppressed. When the single light-shielding layer is configured so that a plurality of color layers are mixed, it is possible to prevent light from being colored by the light-shielding layer.
【0071】また、アクティブマトリクス基板の周辺領
域に設けられた第2の遮光層により、周辺領域の光透過
率をさらに低くして表示品位を向上させることができ
る。Further, the second light-shielding layer provided in the peripheral area of the active matrix substrate can further reduce the light transmittance in the peripheral area and improve the display quality.
【0072】この第2の遮光層は、信号配線または走査
配線と同時に形成することができ、第2の遮光層の形成
工程を別途設けなくてもよいので、液晶表示装置の作製
プロセスが複雑化することはない。この場合、表示領域
の最外郭の走査配線と第2の遮光層との離隔部分および
信号配線と第2の遮光層との離隔部分を覆って上記遮光
層を設けると、この部分からの光漏れも防ぐことがで
き、さらに表示品位を向上させることができる。The second light-shielding layer can be formed simultaneously with the signal wiring or the scanning wiring, and the step of forming the second light-shielding layer does not need to be separately provided, which complicates the manufacturing process of the liquid crystal display device. I will not do it. In this case, if the light-shielding layer is provided so as to cover the separated portion between the outermost scanning wiring and the second light-shielding layer in the display area and the separated portion between the signal wiring and the second light-shielding layer, light leakage from this portion is provided. Can be prevented, and the display quality can be further improved.
【0073】上記第2の遮光層は、走査配線および信号
配線と別の層に設けても良い。この場合には作製プロセ
スが長くなるが、例えば層間絶縁膜等の厚い膜の上に第
2の遮光層を設けると、第2の遮光層と各配線との間の
容量を小さくできる。また、走査配線および信号配線の
うちの少なくとも一方の2本以上にわたる範囲を少なく
とも覆うように第2の遮光層を設けると、配線パターン
が模様として視認されないので、さらに表示品位を向上
させることができる。The second light-shielding layer may be provided on a layer different from the scanning wiring and the signal wiring. In this case, the manufacturing process becomes longer. However, when the second light-shielding layer is provided on a thick film such as an interlayer insulating film, the capacitance between the second light-shielding layer and each wiring can be reduced. In addition, when the second light-blocking layer is provided so as to cover at least a range extending over at least one of the scanning wiring and the signal wiring, the wiring pattern is not visually recognized as a pattern, so that the display quality can be further improved. .
【0074】上記遮光層として、赤色の着色層および青
色の着色層を積層形成した場合、周辺領域の光透過率を
最も低くすることができ、表示品位が非常に良好な液晶
表示装置を実現することができる。When a red coloring layer and a blue coloring layer are laminated as the light shielding layer, the light transmittance in the peripheral region can be minimized, and a liquid crystal display device with very good display quality can be realized. be able to.
【図1】実施形態1の液晶表示装置の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device according to a first embodiment.
【図2】実施形態1の液晶表示装置におけるアクティブ
マトリクス基板のTFT部分を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a TFT portion of an active matrix substrate in the liquid crystal display device according to the first embodiment.
【図3】実施形態1の液晶表示装置における要部を示す
断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a main part of the liquid crystal display device according to the first embodiment.
【図4】(A)および(B)は実施形態2の液晶表示装
置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。
(A)および周辺領域のゲート信号線部分を示し、
(B)は周辺領域のソース信号線部分を示している。FIGS. 4A and 4B are plan views of an active matrix substrate in a liquid crystal display device according to a second embodiment.
(A) and a gate signal line portion in a peripheral region.
(B) shows the source signal line portion in the peripheral area.
【図5】(A)は図4(A)のA−A’断面図であり、
(B)は図4(B)のB−B’断面図である。FIG. 5A is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. 4A;
FIG. 4B is a sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
【図6】(A)および(B)は実施形態3の液晶表示装
置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。
(A)および周辺領域のゲート信号線部分を示し、
(B)は周辺領域のソース信号線部分を示している。FIGS. 6A and 6B are plan views of an active matrix substrate in a liquid crystal display device according to a third embodiment.
(A) and a gate signal line portion in a peripheral region.
(B) shows the source signal line portion in the peripheral area.
【図7】(A)は図6(A)のC−C’断面図であり、
(B)は図6(B)のD−D’断面図である。FIG. 7A is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 6A;
FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line DD ′ of FIG.
【図8】実施形態4の液晶表示装置におけるアクティブ
マトリクス基板の平面図である。FIG. 8 is a plan view of an active matrix substrate in a liquid crystal display device according to a fourth embodiment.
【図9】実施形態5の液晶表示装置における要部を示す
断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a main part of a liquid crystal display device according to a fifth embodiment.
【図10】実施形態6の液晶表示装置における要部を示
す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a main part of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment.
【図11】実施形態6の液晶表示装置における要部を示
す平面図である。FIG. 11 is a plan view illustrating a main part of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment.
【図12】実施形態7の液晶表示装置における要部を示
す平面図である。FIG. 12 is a plan view illustrating a main part of a liquid crystal display device according to a seventh embodiment.
【図13】本発明の適用が可能な他の構成の液晶表示装
置を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a liquid crystal display device having another configuration to which the present invention can be applied.
【図14】本発明の適用が可能な他の構成の液晶表示装
置を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing a liquid crystal display device having another configuration to which the present invention can be applied.
【図15】アクティブマトリクス基板の一例を示す概略
図である。FIG. 15 is a schematic view illustrating an example of an active matrix substrate.
【図16】従来の液晶表示装置を示す平面図である。FIG. 16 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device.
1a 画素容量電極 2 TFT 3 ゲート信号線 4 画素容量配線 5、17a、10a ソース信号線 11、30 透明絶縁性基板 12 ゲート電極 13 ゲート絶縁膜 14 半導体層 15 チャネル保護膜 16a ソース電極 16b ドレイン電極 17b 接続電極 18 層間絶縁膜 19 画素電極 20a、20b、21a、21b 第2の遮光層 22 離隔部分 23 コンタクトホール 31 カラーフィルタ 32、34 遮光層 33 シール材 1a Pixel capacitance electrode 2 TFT 3 Gate signal line 4 Pixel capacitance wiring 5, 17a, 10a Source signal line 11, 30 Transparent insulating substrate 12 Gate electrode 13 Gate insulating film 14 Semiconductor layer 15 Channel protective film 16a Source electrode 16b Drain electrode 17b Connection electrode 18 Interlayer insulating film 19 Pixel electrode 20a, 20b, 21a, 21b Second light shielding layer 22 Separation part 23 Contact hole 31 Color filter 32, 34 Light shielding layer 33 Sealing material
Claims (7)
板とカラーフィルタ基板とが対向配置され、該アクティ
ブマトリクス基板に設けた画素電極とカラーフィルタ基
板に設けた対向電極との対向する部分が表示領域とな
り、該表示領域の外周部が周辺領域となっている液晶表
示装置において、 該アクティブマトリクス基板は各画素電極の周辺近傍を
通って互いに交差する走査配線と信号配線とが、該周辺
領域を超えて延出形成された構成となっており、 該カラーフィルタ基板は、該表示領域に対応する部分に
カラーフィルタを有すると共に、該周辺領域に対応する
部分に、単層の着色層からなる、または、異なる色の2
つの着色層を積層してなる遮光層を有する構成となって
いる液晶表示装置。An active matrix substrate and a color filter substrate are opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and a portion where a pixel electrode provided on the active matrix substrate and a counter electrode provided on the color filter substrate face each other is a display area. In the liquid crystal display device in which an outer peripheral portion of the display region is a peripheral region, the active matrix substrate is arranged such that scanning wirings and signal wirings passing through the vicinity of each pixel electrode and intersecting each other exceed the peripheral region. The color filter substrate has a color filter in a portion corresponding to the display area, and a single layer of a colored layer in a portion corresponding to the peripheral area, or 2 of different colors
A liquid crystal display device having a configuration having a light shielding layer formed by laminating two colored layers.
辺領域に対応する部分に第2の遮光層が、前記走査配線
および前記信号配線のうちの少なくとも一方の隣接する
配線同士の間を少なくとも覆い、かつ、覆われる配線と
は異なる側の配線と同じ材料を用いて該異なる側の配線
と同時にパターン形成されている請求項1に記載の液晶
表示装置。2. A second light-shielding layer at a portion corresponding to the peripheral region of the active matrix substrate, at least covers a space between at least one adjacent wiring of the scanning wiring and the signal wiring, and 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a pattern is formed simultaneously with the wiring on the different side by using the same material as the wiring on the different side from the wiring to be covered.
前記表示領域の最外郭にあるものと離隔して前記第2の
遮光層が設けられ、その離隔部分を覆って着色層からな
る前記遮光層が設けられている請求項2に記載の液晶表
示装置。3. The light-shielding layer, wherein the second light-shielding layer is provided so as to be separated from one of the scanning wiring and the signal wiring which is the outermost part of the display area, and the colored light-shielding layer covers the separated part. The liquid crystal display device according to claim 2, further comprising:
査配線および前記信号配線を覆う絶縁膜が設けられ、該
アクティブマトリクス基板の前記周辺領域に対応する部
分に第2の遮光層が、前記走査配線および前記信号配線
のうちの少なくとも一方の2本以上にわたる範囲を覆
い、かつ、覆われる配線との間に該絶縁膜を介して設け
られている請求項1に記載の液晶表示装置。4. An insulating film covering the scanning wiring and the signal wiring is provided on the active matrix substrate, and a second light-shielding layer is provided at a portion corresponding to the peripheral region of the active matrix substrate, wherein the scanning wiring and the signal wiring are provided. 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a range covering at least one of the signal wirings is covered and the insulating film is provided between the signal wirings and the covered wiring.
なる遮光層が、赤色の着色層と青色の着色層とが積層さ
れたものである請求項1、2、3または4に記載の液晶
表示装置。5. The light-shielding layer formed by laminating two colored layers of different colors is a laminated layer of a red colored layer and a blue colored layer. Liquid crystal display device.
層の遮光層が、前記表示領域に形成されたカラーフィル
タを延ばした状態で形成されている請求項1、2、3ま
たは4に記載の液晶表示装置。6. The color filter substrate according to claim 1, wherein the single light-shielding layer provided on the color filter substrate is formed in a state where a color filter formed in the display area is extended. Liquid crystal display.
層の遮光層が、前記表示領域に形成されたカラーフィル
タの色層よりも狭幅にパターン形成されている請求項6
に記載の液晶表示装置。7. The pattern of a single light-shielding layer provided on the color filter substrate is formed to be narrower than a color layer of a color filter formed in the display area.
3. The liquid crystal display device according to 1.
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