JPH10333153A - 液晶配向剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶配向性が良好であり、かつ当該液晶配向
膜の表面にラビング処理に伴う傷を生じさせにくい液晶
配向膜を与え、しかもラビング処理後に行われるイソプ
ロピルアルコール洗浄耐性に優れた液晶配向剤を提供す
ること。 【解決手段】 （ａ）ポリアミック酸構造を有する重
合体および（ｂ）当該ポリアミック酸を脱水閉環して得
られるイミド構造を有する重合体よりなる群から選ばれ
る１種以上の重合体と、（Ｂ）窒素原子を含有するエポ
キシ化合物とを含有してなる液晶配向剤であって、当該
液晶配向剤に含有される重合体の平均イミド化率が４５
％以上であることを特徴とする液晶配向剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の液
晶配向膜を形成するために用いられる液晶配向剤に関す
る。さらに詳しくは、液晶配向性が良好であり、かつ当
該液晶配向膜の表面にラビング処理に伴う傷（以下、
「ラビング傷」ともいう）を生じさせにくい液晶配向膜
を与え、しかもラビング処理後に行われるイソプロピル
アルコール洗浄耐性に優れた液晶配向剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、透明導電膜を介して液晶配向膜が
表面に形成されている２枚の基板の間に、正の誘電異方
性を有するネマチック型液晶の層を形成してサンドイッ
チ構造のセルとし、前記液晶分子の長軸が一方の基板か
ら他方の基板に向かって連続的に９０度捻れるようにし
たＴＮ（Twisted Nematic）型液晶セルを有するＴＮ型
液晶表示素子が知られている。このＴＮ型液晶表示素子
などの液晶表示素子における液晶の配向は、通常、ラビ
ング処理により液晶分子の配向能が付与された液晶配向
膜により実現される。ここに、液晶表示素子を構成する
液晶配向膜の材料としては、従来より、ポリイミド、ポ
リアミドおよびポリエステルなどの樹脂が知られてい
る。特にポリイミドは、耐熱性、液晶との親和性、機械
的強度などに優れているため多くの液晶表示素子に使用
されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来知
られているポリアミック酸やそれを脱水閉環して得られ
る構造を有するイミド化重合体を含有する液晶配向剤を
用いて液晶表示素子などを作製した場合、形成される液
晶配向膜の表面にラビング傷が発生しやすく、これに起
因する表示不良が発生するという問題がある。また、液
晶配向膜をラビング処理した後、例えば約１分間イソプ
ロピルアルコールに浸漬するなどの洗浄処理を行うが、
この洗浄によって、配向膜の液晶配向性が低下してしま
うという問題を有している。

【０００４】本発明は、以上のような事情に鑑みてなさ
れたものであって、本発明の第１の目的は、ラビング処
理によって液晶分子の配向能が確実に付与され、優れた
液晶配向性を有する液晶配向膜を備えた液晶表示素子を
与えることができる液晶配向剤を提供することにある。
本発明の第２の目的は、液晶配向膜の表面にラビング傷
を生じさせにくい液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供
することにある。本発明の第３の目的は、ラビング処理
後に行われるイソプロピルアルコール洗浄耐性に優れた
液晶配向剤を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的および
利点は、（Ａ）（ａ）ポリアミック酸構造を有する重合
体および（ｂ）当該ポリアミック酸を脱水閉環して得ら
れるイミド構造を有する重合体よりなる群から選ばれる
１種以上の重合体と、（Ｂ）窒素原子を含有するエポキ
シ化合物とを含有してなる液晶配向剤であって、当該液
晶配向剤に含有される重合体の平均イミド化率が４５％
以上であることを特徴とする液晶配向剤によって達成さ
れる。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に関して、具体的に
説明する。本発明の液晶配向剤に用いられる重合体は、
テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを有機溶
剤中で反応させてポリアミック酸を合成し、さらに必要
に応じて該ポリアミック酸を脱水閉環して得ることがで
きる。

【０００７】［テトラカルボン酸二無水物］上記ポリア
ミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物
としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸二無水物、
１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、１,２−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４
−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１,３−ジ
クロロ−１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸
二無水物、１,２,３,４−テトラメチル−１,２,３,４−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１,２,３,４
−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１,２,
４,５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３,
３’,４,４’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無
水物、２,３,５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二
無水物、３,５,６−トリカルボキシノルボルナン−２−
酢酸二無水物、２,３,４,５−テトラヒドロフランテト
ラカルボン酸二無水物、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキ
サヒドロ−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジ
オン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メ
チル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラ
ニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオ
ン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−エチ
ル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、
１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７−メチル−
５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）
−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,
３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７−エチル−５
（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,３,
３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５（テ
トラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフ
ト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,３,３
ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−エチル−５（テト
ラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト
［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,
４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５,８−ジメチル−５（テ
トラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフ
ト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、５−（２,
５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−
シクロヘキセン−１,２−ジカルボン酸二無水物、ビシ
クロ［２,２,２］−オクト−７−エン−２,３,５,６−
テトラカルボン酸二無水物、下記式（Ｉ）および（II）
で表される化合物などの脂肪族および脂環式テトラカル
ボン酸二無水物；

【０００８】

【化１】

【０００９】（式中、Ｒ¹ およびＲ³ は芳香環を有する
２価の有機基を示し、Ｒ² およびＲ⁴は、水素原子また
はアルキル基を示し、複数存在するＲ² およびＲ⁴ は、
それぞれ同一でも異なっていてもよい。）

【００１０】ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,
４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３,
３’,４,４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二
無水物、１,４,５,８−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、２,３,６,７−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、３,３’,４,４’−ビフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物、３,３’,４,４’−ジメチルジフ
ェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,
４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水
物、１,２,３,４−フランテトラカルボン酸二無水物、
４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェノキシ）ジフ
ェニルスルフィド二無水物、４,４’−ビス（３,４−ジ
カルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、
４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェノキシ）ジフ
ェニルプロパン二無水物、３,３’,４,４’−パーフル
オロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３,３’,
４,４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス
（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、
ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水
物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二
無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４,４’−ジ
フェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル
酸）−４,４’−ジフェニルメタン二無水物、エチレン
グリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロ
ピレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテー
ト）、１,４−ブタンジオール−ビス（アンヒドロトリ
メリテート）、１,６−ヘキサンジオール−ビス（アン
ヒドロトリメリテート）、１,８−オクタンジオール−
ビス（アンヒドロトリメリテート）、２,２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アンヒドロト
リメリテート）、下記式（１）〜（４）で表される化合
物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げること
ができる。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わ
せて用いられる。

【００１１】

【化２】

【００１２】これらのうち、ブタンテトラカルボン酸二
無水物、１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸
二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタ
ンテトラカルボン酸二無水物、１,２,３,４−シクロペ
ンタンテトラカルボン酸二無水物、２,３,５−トリカル
ボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５−（２,５−ジ
オキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロ
ヘキセン−１,２−ジカルボン酸二無水物、１,３,３ａ,
４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２,
５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］
フラン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキ
サヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２,５−
ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラ
ン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒ
ドロ−５,８−ジメチル−５−（テトラヒドロ−２,５−
ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラ
ン−１,３−ジオン、ビシクロ［２,２,２］−オクト−
７−エン−２,３,５,６−テトラカルボン酸二無水物、
ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,４’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’−
ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１,４,
５,８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、上記式
（Ｉ）で表される化合物のうち下記式（５）〜（７）で
表される化合物および上記式（II）で表される化合物の
うち下記式（８）で表される化合物が、良好な液晶配向
性を発現させることができる観点から好ましく、特に好
ましいものとして、１,２,３,４−シクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２,３,５−ト
リカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１,３,３
ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−
２,５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−
ｃ］フラン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−
ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２,
５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］
フラン−１,３−ジオン、ピロメリット酸二無水物およ
び下記式（５）で表される化合物を挙げることができ
る。

【００１３】

【化３】

【００１４】［ジアミン化合物］上記ポリアミック酸の
合成に用いられるジアミン化合物としては、例えばｐ−
フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４,
４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４’−ジアミノ
ジフェニルエタン、４,４’−ジアミノジフェニルスル
フィド、４,４’−ジアミノジフェニルスルホン、３,
３’−ジメチル−４,４’−ジアミノビフェニル、４,
４’−ジアミノベンズアニリド、４,４’−ジアミノジ
フェニルエーテル、１,５−ジアミノナフタレン、３,３
−ジメチル−４,４’−ジアミノビフェニル、５−アミ
ノ−１−（４’−アミノフェニル）−１,３,３−トリメ
チルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニ
ル）−１,３,３−トリメチルインダン、３,４’−ジア
ミノジフェニルエーテル、３,３’−ジアミノベンゾフ
ェノン、３,４’−ジアミノベンゾフェノン、４,４’−
ジアミノベンゾフェノン、２,２−ビス［４−（４−ア
ミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２,２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフル
オロプロパン、２,２−ビス（４−アミノフェニル）ヘ
キサフルオロプロパン、２,２−ビス［４−（４−アミ
ノフェノキシ）フェニル］スルホン、１,４−ビス（４
−アミノフェノキシ）ベンゼン、１,３−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）ベンゼン、１,３−ビス（３−アミノ
フェノキシ）ベンゼン、９,９−ビス（４−アミノフェ
ニル）−１０−ヒドロアントラセン、２,７−ジアミノ
フルオレン、９,９−ビス（４−アミノフェニル）フル
オレン、４,４’−メチレン−ビス（２−クロロアニリ
ン）、２,２’,５,５’−テトラクロロ−４,４’−ジア
ミノビフェニル、２,２’−ジクロロ−４,４’−ジアミ
ノ−５,５’−ジメトキシビフェニル、３,３’−ジメト
キシ−４,４’−ジアミノビフェニル、１,４,４’−
（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、
４,４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデン）ビスア
ニリン、２,２’−ビス［４−（４−アミノ−２−トリ
フルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロ
プロパン、４,４’−ジアミノ−２,２’−ビス（トリフ
ルオロメチル）ビフェニル、４,４’−ビス［（４−ア
ミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキシ］−オクタ
フルオロビフェニルなどの芳香族ジアミン；

【００１５】１,１−メタキシリレンジアミン、１,３−
プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチ
レンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
ジアミン、４,４−ジアミノヘプタメチレンジアミン、
１,４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミ
ン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、
ヘキサヒドロ−４,７−メタノインダニレンジメチレン
ジアミン、トリシクロ［６.２.１.０2,7］−ウンデシレ
ンジメチルジアミン、４,４’−メチレンビス（シクロ
ヘキシルアミン）などの脂肪族および脂環式ジアミン；

【００１６】２,３−ジアミノピリジン、２,６−ジアミ
ノピリジン、３,４−ジアミノピリジン、２,４−ジアミ
ノピリミジン、５,６−ジアミノ−２,３−ジシアノピラ
ジン、５,６−ジアミノ−２,４−ジヒドロキシピリミジ
ン、２,４−ジアミノ−６−ジメチルアミノ−１,３,５
−トリアジン、１,４−ビス（３−アミノプロピル）ピ
ペラジン、２,４−ジアミノ−６−イソプロポキシ−１,
３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−メトキシ−
１,３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−フェニ
ル−１,３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−メ
チル−ｓ−トリアジン、２,４−ジアミノ−１,３,５−
トリアジン、４,６−ジアミノ−２−ビニル−ｓ−トリ
アジン、２,４−ジアミノ−５−フェニルチアゾール、
２,６−ジアミノプリン、５,６−ジアミノ−１,３−ジ
メチルウラシル、３,５−ジアミノ−１,２,４−トリア
ゾール、６,９−ジアミノ−２−エトキシアクリジンラ
クテート、３,８−ジアミノ−６−フェニルフェナント
リジン、１,４−ジアミノピペラジン、３,６−ジアミノ
アクリジン、ビス（４−アミノフェニル）フェニルアミ
ンおよび下記式（III）および（IV）で表される化合物
などの、分子内に２つの１級アミノ基および該１級アミ
ノ基以外の窒素原子を有するジアミン；

【００１７】

【化４】

【００１８】（式中、Ｒ⁵ は、ピリジン、ピリミジン、
トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる
窒素原子を含む環構造を有する１価の有機基を示し、Ｘ
は２価の有機基を示す。）

【００１９】

【化５】

【００２０】（式中、Ｒ⁶ は、ピリジン、ピリミジン、
トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる
窒素原子を含む環構造を有する２価の有機基を示し、Ｘ
は２価の有機基を示し、複数存在するＸは、同一でも異
なっていてもよい。）

【００２１】下記式（Ｖ）で表されるモノ置換フェニレ
ンジアミン類；下記式（VI）で表されるジアミノオルガ
ノシロキサン；

【００２２】

【化６】

【００２３】（式中、Ｒ⁷ は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−および−ＣＯ−
から選ばれる２価の有機基を示し、Ｒ⁸ は、ステロイド
骨格、トリフルオロメチル基およびフルオロ基から選ば
れる基を有する１価の有機基または炭素数６〜３０のア
ルキル基を示す。）

【００２４】

【化７】

【００２５】（式中、Ｒ⁹ は炭素数１〜１２の炭化水素
基を示し、複数存在するＲ⁹ は、それぞれ同一でも異な
っていてもよく、ｐは１〜３の整数であり、ｑは１〜２
０の整数である。）

【００２６】下記式（９）〜（１３）で表される化合物
などを挙げることができる。これらのジアミン化合物
は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることがで
きる。

【００２７】

【化８】

【００２８】（式中、ｙは２〜１２の整数であり、ｚは
１〜５の整数である。）

【００２９】これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、
４,４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４’−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、１,５−ジアミノナフタレ
ン、２,７−ジアミノフルオレン、４,４’−ジアミノジ
フェニルエーテル、２,２−ビス［４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル］プロパン、９,９−ビス（４−ア
ミノフェニル）フルオレン 、２,２−ビス［４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパ
ン、２,２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン、４,４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピ
リデン）ビスアニリン、４,４’−（ｍ−フェニレンジ
イソプロピリデン）ビスアニリン、１,４−シクロヘキ
サンジアミン、４,４’−メチレンビス（シクロヘキシ
ルアミン）、１,４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベ
ンゼン、４,４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフ
ェニル、上記式（９）〜（１３）で表される化合物、
２,６−ジアミノピリジン、３,４−ジアミノピリジン、
２,４−ジアミノピリミジン、３,６−ジアミノアクリジ
ン、上記式（III） で表される化合物のうち下記式
（１４）で表される化合物、上記式（IV）で表される化
合物のうち下記式（１５）で表される化合物および上記
式（Ｖ）で表される化合物のうち下記式（１６）〜（２
１）で表される化合物が好ましい。

【００３０】

【化９】

【００３１】［ポリアミック酸］ポリアミック酸の合成
反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化
合物の使用割合は、ジアミン化合物に含まれるアミノ基
１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物
基が０.２〜２当量となる割合が好ましく、より好まし
くは０.３〜１.２当量となる割合である。ポリアミック
酸の合成反応は、有機溶媒中で、通常０〜１５０℃、好
ましくは０〜１００℃の反応温度で１〜４８時間にわた
って行われる。上記有機溶媒としては、反応で生成する
反応物を溶解しうるものであれば特に制限はない。例え
ば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ,Ｎ−ジメチルア
セトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿
素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン
系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノー
ル、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒を挙
げることができる。有機溶媒の使用量は、通常、テトラ
カルボン酸二無水物およびジアミン化合物の総量が、反
応溶液の全量に対して０.１〜３０重量％になるように
するのが好ましい。

【００３２】なお、上記有機溶媒には、ポリアミック酸
の貧溶媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、
エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類など
を、生成するポリアミック酸が析出しない範囲で併用す
ることができる。かかる貧溶媒の具体例としては、例え
ばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、１,４−ブタンジオール、
トリエチレングリコール、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチ
ルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチ
レングリコールエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノフェニルエーテル、エチレングリコールメチルフェニ
ルエーテル、エチレングリコールエチルフェニルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、４
−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、２,４−
ペンタンジオン、２,５−ヘキサンジオン、２−ヒドロ
キシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチル
プロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
ピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸
エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、
３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピ
オン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−
エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピル
ビン酸エチル、ピルビン酸ヒドロキシメチル、アセト酢
酸メチル、アセト酢酸エチル、メチルメトキシブタノー
ル、エチルメトキシブタノール、メチルエトキシブタノ
ール、エチルエトキシブタノール、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロフルフリルアルコール、テトラヒドロ
−３−フランメタノール、１,３−ジオキソラン、１,３
−ジオキセパン、４−メチル−１,３−ジオキソラン、
ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン、１,４−ジク
ロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、ｏ−
ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどを挙げることができ
る。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用い
られる。

【００３３】以上の合成反応によって、ポリアミック酸
を溶解してなる反応溶液が得られる。そして、この反応
溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物
を減圧下乾燥することによりポリアミック酸を得ること
ができる。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に
溶解させ、次いで貧溶媒で析出する工程を１回または数
回行うことにより、ポリアミック酸の精製を行うことが
できる。

【００３４】［イミド化重合体］本発明の液晶配向剤を
構成するイミド化重合体は、上記ポリアミック酸を脱水
閉環することにより調製することができる。ポリアミッ
ク酸の脱水閉環は、（ｉ）ポリアミック酸を加熱する方
法により、または（ii）ポリアミック酸を有機溶媒に溶
解し、この溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し
必要に応じて加熱する方法により行われる。上記（ｉ）
のポリアミック酸を加熱する方法における反応温度は、
通常５０〜２００℃とされ、好ましくは６０〜１７０℃
とされる。反応温度が５０℃未満では脱水閉環反応が十
分に進行せず、反応温度が２００℃を超えると得られる
イミド化重合体の分子量が低下することがある。一方、
上記（ii）のポリアミック酸の溶液中に脱水剤および脱
水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、
例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ
酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使
用量は、ポリアミック酸の繰り返し単位１モルに対して
０.０１〜２０モルとするのが好ましい。また、脱水閉
環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジ
ン、トリエチルアミンなどの３級アミンを用いることが
できる。しかし、これらに限定されるものではない。脱
水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して
０.０１〜１０モルとするのが好ましい。なお、脱水閉
環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸
の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げ
ることができる。そして、脱水閉環反応の反応温度は、
通常０〜１８０℃、好ましくは１０〜１５０℃とされ
る。また、このようにして得られる反応溶液に対し、ポ
リアミック酸の精製方法と同様の操作を行うことによ
り、イミド化重合体を精製することができる。

【００３５】［末端修飾型の重合体］本発明に用いられ
る液晶配向剤を構成する重合体は、分子量が調節された
末端修飾型のものであってもよい。この末端修飾型の重
合体を用いることにより、本発明の効果が損われること
なく液晶配向剤の塗布特性などを改善することができ
る。このような末端修飾型のものは、ポリアミック酸を
合成する際に、酸一無水物、モノアミン化合物、モノイ
ソシアネート化合物などを反応系に添加することにより
合成することができる。ここで、酸一無水物としては、
例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン
酸、ｎ−デシルサクシニック酸無水物、ｎ−ドデシルサ
クシニック酸無水物、ｎ−テトラデシルサクシニック酸
無水物、ｎ−ヘキサデシルサクシニック酸無水物などを
挙げることができる。また、モノアミン化合物として
は、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチ
ルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、
ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニル
アミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ
−ドデシルアミン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ−テトラ
デシルアミン、ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−ヘキサデ
シルアミン、ｎ−ヘプタデシルアミン、ｎ−オクタデシ
ルアミン、ｎ−エイコシルアミンなどを挙げることがで
きる。また、モノイソシアネート化合物としては、例え
ばフェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートな
どを挙げることができる。

【００３６】［重合体の対数粘度］本発明に用いる液晶
配向剤を構成する重合体は、その対数粘度（ηｌｎ）の
値が、好ましくは０.０５〜１０ｄｌ／ｇ、さらに好ま
しくは０.０５〜５ｄｌ／ｇのものである。ここに、対
数粘度（ηｌｎ）の値は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
を溶媒として用い、重合体の濃度が０.５ｇ／１００ミ
リリットルである溶液について３０℃で粘度の測定を行
い、下記式（１）で示される式によって求められるもの
である。

【００３７】

【数１】

【００３８】［窒素原子を含有するエポキシ化合物］本
発明に使用する窒素原子を含有するエポキシ化合物とし
ては、例えばＮ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−
ジグリシジルトルイジンなどの芳香族モノアミンを母核
とする窒素原子を含有するエポキシ化合物；Ｎ，Ｎ−ジ
グリシジルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジ
ルメチルシクロヘキシルアミンなどの脂環式モノアミン
を母核とする窒素原子を含有するエポキシ化合物；Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリ
シジル−ｏ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’
−テトラグリシジル−４,４’−ジアミノジフェニルメ
タン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−３,
４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’
−テトラグリシジル−３,３’−ジアミノジフェニルメ
タン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４,
４’−ジアミノジフェニルスルフィド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラグリシジル−１,５−ジアミノナフタレ
ン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−２,７−
ジアミノフルオレン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリ
シジル−４,４’−ジアミノジフェニルエーテル、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−２,２−ビス［４
−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−９,９−ビス（４
−アミノフェニル）フルオレン 、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’
−テトラグリシジル−２,２−ビス［４−（４−アミノ
フェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−２,２−ビス（４
−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４,４’−（ｐ−フェ
ニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４,４’−（ｍ−フェ
ニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−１,４−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）ベンゼン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テト
ラグリシジル−４,４’−ビス（４−アミノフェノキ
シ）ビフェニルなどの芳香族ジアミンを母核とする窒素
原子を含有するエポキシ化合物；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−
テトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｐ−キシリレンジアミ
ン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノメチ
ル）シクロヘキサン、１，４−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリ
シジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラグリシジル−１,４−シクロヘキサンジア
ミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−１,３
−シクロヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テト
ラグリシジル−４,４’−メチレンビス（シクロヘキシ
ルアミン）などの脂環式ジアミンを母核とする窒素原子
を含有するエポキシ化合物；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テト
ラグリシジル−ジアミノエタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−
テトラグリシジル−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラグリシジル−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ジアミノペンタン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ジアミノヘキ
サン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ジアミ
ノヘプタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−
ジアミノオクタンなどの脂肪族ジアミンを母核とする窒
素原子を含有するエポキシ化合物などを挙げることがで
きる。これらのうち、芳香族モノアミンを母核とする窒
素原子を含有するエポキシ化合物、芳香族ジアミンを母
核とする窒素原子を含有するエポキシ化合物および脂環
式ジアミンを母核とする窒素原子を含有するエポキシ化
合物が好ましく、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４,４’−ジアミ
ノジフェニルメタンおよび１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジ
グリシジルアミノメチル）シクロヘキサンが特に好まし
い。

【００３９】［液晶配向剤］本発明の液晶配向剤は、上
記重合体と、窒素原子を含有するエポキシ化合物とを含
有してなる液晶配向剤であって、重合体全体の平均イミ
ド化率は４５％以上、好ましくは５０〜９８％、特に好
ましくは６０〜９８％である。平均イミド化率が４５％
未満では、イソプロピルアルコールで洗浄した際、ラビ
ング処理で得られた配向能が緩和されてしまい、液晶配
向性が劣化する場合がある。なお、本明細書における
「イミド化率」の定義は、重合体における繰り返し単位
の総数に対する、イミド環またはイソイミド環を形成し
てなる繰り返し単位の数の割合を％で表したものとし、
「平均イミド化率」は、液晶配向剤中の全重合体におけ
る繰り返し単位の総数に対する、イミド環またはイソイ
ミド環を形成してなる繰り返し単位の数の割合を％で表
したものである。平均イミド化率の調整法としては、
１）ポリアミック酸の脱水閉環反応を行う際、反応温
度、触媒添加量などを調整することにより、平均イミド
化率を調整する方法、２）ポリアミック酸とイミド化重
合体とを混合して平均イミド化率を調整する方法、およ
び３）異なるイミド化率を有するイミド化重合体を混合
して平均イミド化率を調整する方法などを挙げることが
でき、いずれの方法によっても本発明の効果を達成する
ことができる。

【００４０】本発明に用いられる液晶配向剤における重
合体の含有割合は、粘性、揮発性などを考慮して選択さ
れるが、好ましくは液晶配向剤全体に対して０.１〜２
０重量％、さらに好ましくは１〜１０重量％の範囲とさ
れる。すなわち、重合体溶液からなる液晶配向剤は、印
刷法、スピンコート法などにより基板表面に塗布され、
次いでこれを乾燥することにより、配向膜材料である被
膜が形成されるのであるが、重合体の含有割合が０.１
重量％未満である場合には、この被膜の膜厚が過少とな
って良好な液晶配向膜を得ることができない場合があ
り、２０重量％を越える場合には、被膜の膜厚が過大と
なって良好な液晶配向膜を得難く、また、液晶配向剤の
粘度が増大して塗布特性に劣るものとなる場合がある。
重合体を溶解させる有機溶媒としては、重合体を溶解で
きるものであれば特に制限されるものではなく、例えば
ポリアミック酸の合成反応や脱水閉環反応に用いられる
ものとして例示した溶媒を挙げることができる。また、
ポリアミック酸の合成反応の際に併用することができる
ものとして例示した貧溶媒も適宜選択して併用すること
ができる。また、窒素原子を含有するエポキシ化合物の
含有量は、液晶配向剤中の重合体１００重量部に対して
０．０１〜５０重量部であり、好ましくは０．１〜４０
重量部、特に好ましくは１〜３０重量部である。エポキ
シ化合物の含有量が０．０１重量部未満では、残像特性
の改良効果が現れにくい場合があり、５０重量部を超え
ると、液晶配向剤の保存安定性が劣るものとなる場合が
ある。

【００４１】本発明の液晶配向剤は、重合体と塗布され
る基板表面との接着性を向上させる観点から、官能性シ
ラン含有化合物が配合されていてもよい。このような官
能性シラン含有化合物としては、例えば３−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエト
キシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、
２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメト
キシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリル
プロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシ
リルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメト
キシシリル−１,４,７−トリアザデカン、１０−トリエ
トキシシリル−１,４,７−トリアザデカン、９−トリメ
トキシシリル−３,６−ジアザノニルアセテート、９−
トリエトキシシリル−３,６−ジアザノニルアセテー
ト、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレ
ン）−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどを挙
げることができる。これら官能性シラン含有化合物の配
合割合は、重合体１００重量部に対して、通常、２０重
量部以下、好ましくは０.０１〜１０重量部である。

【００４２】［液晶表示素子］本発明の液晶配向剤を用
いて得られる液晶表示素子は、例えば次の方法によって
製造することができる。 （１）パターニングされた透明導電膜が設けられた基板
の透明導電膜側に、本発明の液晶配向剤を、例えばロー
ルコーター法、スピンナー法、印刷法などの方法によっ
て塗布し、次いで塗布面を加熱することにより被膜を形
成する。ここに基板としては、例えばフロートガラス、
ソーダガラスなどのガラス、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリカーボネートなどのプラスチックフィルムなど
からなる透明基板を用いることができる。基板の一面に
設けられた透明導電膜としては、ＳｎＯ₂からなるＮＥ
ＳＡ膜、Ｉｎ₂Ｏ₃−ＳｎＯ₂からなるＩＴＯ膜などを用
いることができ、これらの透明導電膜のパターニングに
は、フォト・エッチング法、予めマスクを用いる方法な
どが用いられる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板お
よび透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするた
めに、基板および透明導電膜上に、予め官能性シラン含
有化合物、チタネートなどを塗布することもできる。ま
た加熱温度は、好ましくは８０〜２５０℃とされ、より
好ましくは１２０〜２００℃とされる。形成される被膜
の膜厚は、通常０.００１〜１μｍ、好ましくは０.００
５〜０.５μｍである。

【００４３】（２）形成された被膜は、ナイロンなどの
合成繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦
るラビング処理を行うことにより、液晶分子の配向能が
被膜に付与されて液晶配向膜となる。また、ラビング処
理による方法以外に、被膜表面に偏光紫外線を照射して
配向能を付与する方法や、一軸延伸法、ラングミュア・
ブロジェット法などで被膜を得る方法などにより、液晶
配向膜を形成することもできる。なお、ラビング処理時
に発生する微粉末（異物）を除去して表面を清浄な状態
とするために、形成された液晶配向膜をイソプロピルア
ルコールなどによって洗浄することが好ましい。また、
本発明の液晶配向剤により形成された液晶配向膜に、例
えば特開平６−２２２３６６号公報や特開平６−２８１
９３７号公報に示されているような、紫外線を部分的に
照射することによってプレチルト角を変化させるような
処理、あるいは特開平５−１０７５４４号公報に示され
ているような、ラビング処理された液晶配向膜上にレジ
スト膜を部分的に形成し、先行のラビング処理とは異な
る方向にラビング処理を行った後、前記レジスト膜を除
去して、液晶配向膜の配向能を変化させるような処理を
行うことによって、液晶表示素子の視界特性を改善する
ことが可能である。

【００４４】（３）上記のようにして液晶配向膜が形成
された基板を２枚作成し、それぞれの液晶配向膜におけ
るラビング方向が直交または逆平行となるように、２枚
の基板を間隙（セルギャップ）を介して対向させ、２枚
の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板の
表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内に
液晶を充填し、充填孔を封止して液晶セルを構成する。
そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セルを構成
するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その偏光方
向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラビング
方向と一致または直交するように貼り合わせることによ
り、液晶表示素子が得られる。上記シール剤としては、
例えば硬化剤およびスペーサーとしての酸化アルミニウ
ム球を含有したエポキシ樹脂などを用いることができ
る。上記液晶としては、例えばネマティック型液晶、ス
メクティック型液晶を挙げることができる。その中でも
ネマティック型液晶が好ましく、例えばシッフベース系
液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシ
クロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系
液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系
液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キ
ュバン系液晶などが用いられる。また、これらの液晶
に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエ
ート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック
液晶や商品名「Ｃ−１５」、「ＣＢ−１５」（メルク社
製）として販売されているようなカイラル剤などを添加
して使用することもできる。さらに、ｐ−デシロキシベ
ンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメー
トなどの強誘電性液晶も使用することができる。また、
液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニ
ルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させ
たＨ膜と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟ん
だ偏光板またはＨ膜そのものからなる偏光板などを挙げ
ることができる。

【００４５】

【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。以下の実施例および比較例により作製され
た各液晶表示素子における評価方法を以下に示す。 ［重合体のイミド化率・液晶配向剤の平均イミド化率］
重合体または液晶配向剤を室温で減圧乾燥した後重水素
化ジメチルスルホキシドに溶解させ、テトラメチルシラ
ンを基準物質として室温で1Ｈ−ＮＭＲを測定し、下記
式（２）で示される式により求めた。なお、脱水閉環反
応を行っていないポリアミック酸のイミド化率は０％と
した。

【００４６】

【数２】 イミド化率（％）＝（１−Ａ¹ ／Ａ² ×α）×１００ ・・・（２） Ａ¹ ：ＮＨ基のプロトン由来のピーク面積（１０ｐｐ
ｍ） Ａ² ：その他のプロトン由来のピーク面積 α ：重合体の前駆体（ポリアミック酸）における、Ｎ
Ｈ基のプロトン１個に対するその他のプロトンの個数割
合

【００４７】［液晶の配向性］液晶表示素子に電圧をオ
ン・オフさせた時の液晶セル中の異常ドメインの有無を
顕微鏡で観察し、異常ドメインのない場合を「良好」と
判断した。 ［液晶配向膜のラビング傷の有無（膜の強靱性）］ＩＴ
Ｏ膜からなるストライプ電極（間隔：０．７ｍｍ，ＩＴ
Ｏ膜厚：２７００Å）を設けた透明電極基板の電極面
に、液晶配向剤を塗布し、塗膜を乾燥して乾燥膜厚０．
０５μｍの被膜を形成し、当該被膜の表面にラビング処
理（処理条件：毛足押し込み長０．４ｍｍ，ロールの回
転数５００ｒｐｍ，ステージの移動速度１ｃｍ／秒）を
施すことにより得られた液晶配向膜について、ラビング
処理による膜表面の削れなどのラビング傷の有無を観察
した。 ［イソプロピルアルコール洗浄耐性］上記条件でラビン
グ処理を行った後、基板を煮沸したイソプロピルアルコ
ール中に室温で１０分間浸漬し、その後１００℃のホッ
トプレート上で５分間乾燥した。該基板を用いて作成し
た液晶表示素子に電圧をオン・オフさせた時の液晶セル
中の異常ドメインの有無を偏光顕微鏡で観察し、異常ド
メインのない場合を「良好」と判断した。

【００４８】合成例１ ２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水
物２２４．１７ｇ（１．００モル）、ｐ−フェニレンジ
アミン９７．３３ｇ（０.９０モル）および式（２０）
の化合物４２．２４ｇ（０.１０モル）をＮ−メチル−
２−ピロリドン１３００ｇに溶解させ、この溶液を４０
℃で６時間反応させた。次いで、得られた反応溶液を大
過剰の純水に注いで反応生成物を沈澱させた。その後、
固形物を分離して純水で洗浄し、減圧下４０℃で１５時
間乾燥させることにより、対数粘度（ηｌｎ）１.３５
ｄｌ／ｇ、イミド化率０％の重合体（Ａ−１）３３４．
９ｇを得た。 合成例２ 合成例１で得られた重合体（Ａ−１）３０.０ｇをγ−
ブチロラクトン５７０ｇに溶解させ、ピリジン３３.３
ｇおよび無水酢酸２５.８ｇを添加して１１０℃で４時
間脱水閉環させた。次いで、合成例１と同様にして、反
応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、
対数粘度（ηｌｎ）１.３６ｄｌ／ｇ、イミド化率９０
％の重合体（Ａ−２）２８.３ｇを得た。

【００４９】合成例３ 合成例１において用いるテトラカルボン酸二無水物とし
て１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル
−５−（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１,２−ｃ］フラン−１,３−ジオン３１
４．３０ｇ（１.００モル）を用いた以外は合成例１と
同様にして、対数粘度（ηｌｎ）１．３２／ｇ、イミド
化率０％の重合体（Ａ−３）４１６．７６ｇを得た。そ
の後、重合体（Ａ−１）に代えて重合体（Ａ−３）３
０.０ｇを用い、脱水閉環における反応温度を８０℃と
した以外は合成例２と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）
１．２８ｄｌ／ｇ、イミド化率１００％の重合体（Ａ−
４）２８．５ｇを得た。 合成例４ 合成例１において、ジアミン化合物としてｐ−フェニレ
ンジアミン１０８．１６ｇ（１．００モル）を用いた以
外は合成例１と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）１．７
８／ｇ、イミド化率０％の重合体（Ａ−５）３０５．７
ｇを得た。 合成例５ 合成例４において、テトラカルボン酸二無水物としてピ
ロメリット酸二無水物２１８．１２ｇ（１．００モル）
ジアミン化合物としてｐ−フェニレンジアミン１０８．
１６ｇ（１．００モル）を用いた以外は合成例１と同様
にして、対数粘度（ηｌｎ）２．０１／ｇ、イミド化率
０％の重合体（Ａ−６）２９９．９ｇを得た。

【００５０】実施例１ 合成例２で得られた重合体（Ａ−２）１．５ｇと、合成
例１で得られた重合体（Ａ−１）０．５ｇと、エポキシ
化合物としてＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−
４,４’−ジアミノジフェニルメタン０．５ｇをγ−ブ
チロラクトンに溶解させて、固形分濃度４重量％の溶液
とし、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過し、液
晶配向剤を調製した。この液晶配向剤の平均イミド化率
は６７．５％であった。上記液晶配向剤を、液晶配向膜
塗布用印刷機を用いてＩＴＯ膜からなる透明電極付きガ
ラス基板の透明電極面に塗布し、１８０℃のホットプレ
ート上で２０分間乾燥し、乾燥膜厚０.０５μｍの被膜
を形成した。この被膜にレーヨン製の布を巻き付けたロ
ールを有するラビングマシーンにより、ロールの回転数
５００ｒｐｍ、ステージの移動速度１ｃｍ／秒、毛足押
し込み長さ０.４ｍｍでラビング処理を行った。被膜表
面を観察したところ、ラビング傷は認められなかった。
上記配向膜塗布基板を、煮沸したイソプロピルアルコー
ル中に１分間浸漬した後、双方の基板を１００℃のホッ
トプレート上で５分間乾燥した。次に、一対のラビング
処理された液晶挟持基板の液晶配向膜を有するそれぞれ
の外縁に、直径１７μｍの酸化アルミニウム球入りエポ
キシ樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した後、一対の液
晶挟持基板を液晶配向膜面が相対するように、しかもラ
ビング方向が逆平行になるように重ね合わせて圧着し、
接着剤を硬化させた。次いで、液晶注入口より一対の基
板間に、ネマティック型液晶（メルク社製、ＭＬＣ−５
０８１）を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口
を封止し、基板の外側の両面に偏光板を、偏光板の偏光
方向がそれぞれの基板の液晶配向膜のラビング方向と一
致するように張り合わせ、液晶表示素子を作製した。得
られた液晶表示素子の液晶の配向性について評価を行っ
たところ、液晶の配向性は良好であった。また、ラビン
グ処理後、イソプロピルアルコールに１０分間浸漬した
以外は上記方法と同様にして液晶表示素子を作成し、液
晶の配向性について評価したところ、液晶の配向性は良
好であり、イソプロピルアルコール洗浄耐性は良好であ
った。結果を表１に示す。

【００５１】実施例２〜７、比較例１〜３ 表１および表２に示す処方に従い、合成例１〜５で得ら
れた重合体[(A)成分]と窒素原子を含有するエポキシ化
合物[(B)成分]を用い、実施例１と同様にして液晶配向
剤を調製した。次いで、このようにして得られた液晶配
向剤の各々を用い、実施例１と同様にして液晶表示素子
を作製した。得られた液晶配向剤の各々について、液晶
配向膜のラビング傷の有無、液晶の配向性およびイソプ
ロピルアルコール洗浄耐性について評価した。結果を表
１および表２に示す。

【００５２】

【表１】

【００５３】

【表２】

【００５４】表１および表２における、エポキシ化合物
のそれぞれの化合物名は以下の通りである。 Ｂ−１：N,N,N',N'-テトラク゛リシシ゛ル-4,4'-シ゛アミノシ゛フェニルメタン Ｂ−２：1,3-ヒ゛ス(N,N'-シ゛ク゛リシシ゛ルアミノメチル)シクロヘキサン ｂ−３：トリメチロールフ゜ロハ゜ントリク゛リシシ゛ルエーテル

【００５５】

【発明の効果】本発明の液晶配向剤によれば、液晶表示
素子とした場合、液晶配向性が良好で、当該液晶配向膜
の表面にラビング傷を生じさせにくい液晶配向膜を与
え、しかもラビング処理後に行われるイソプロピルアル
コール洗浄耐性に優れた液晶配向膜が得られる。本発明
の液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜を有する液晶
表示素子は、ＴＮ型およびＳＴＮ型液晶表示素子に好適
に使用できる以外に、使用する液晶を選択することによ
り、ＳＨ（Super Homeotropic）型、ＩＰＳ（In-Plane
Switching）型、強誘電性および反強誘電性の液晶表
示素子などにも好適に使用することができる。さらに、
本発明の液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜を有す
る液晶表示素子は、種々の装置に有効に使用でき、例え
ば卓上計算機、腕時計、置時計、係数表示板、ワードプ
ロセッサ、パーソナルコンピューター、液晶テレビなど
の表示装置に用いられる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松木 安生 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）（ａ）ポリアミック酸構造を有す
   る重合体および（ｂ）当該ポリアミック酸を脱水閉環し
   て得られるイミド構造を有する重合体よりなる群から選
   ばれる１種以上の重合体と、（Ｂ）窒素原子を含有する
   エポキシ化合物とを含有してなる液晶配向剤であって、
   当該液晶配向剤に含有される重合体の平均イミド化率が
   ４５％以上であることを特徴とする液晶配向剤。