JPH10334503A - 光ディスク原盤の露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤の露光装置Info
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- JPH10334503A JPH10334503A JP9138924A JP13892497A JPH10334503A JP H10334503 A JPH10334503 A JP H10334503A JP 9138924 A JP9138924 A JP 9138924A JP 13892497 A JP13892497 A JP 13892497A JP H10334503 A JPH10334503 A JP H10334503A
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- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
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- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光ディスク原盤上に高精度且つ幅広な凹凸を
形成するため、所望の領域に高精度に露光することが可
能とされた光ディスク原盤の露光装置を提供する。 【解決手段】 光ディスク原盤の露光装置は、基体上に
フォトレジストが塗布されてなる光ディスク原盤に、情
報信号が記録された所定のパターンを形成する位置に対
応して露光する光ディスク原盤の露光装置において、光
源から出射されたレーザ光を集光する集光光学素子１５
と、上記集光光学素子１５により集光したレーザ光をウ
ォブリングさせる偏向光学素子１６と、集光光学素子１
５の焦点位置よりも後段に配され、上記偏向光学素子１
６によりウォブリングしたレーザ光を対物レンズの前段
で再結像する光学系１７とを備える。
形成するため、所望の領域に高精度に露光することが可
能とされた光ディスク原盤の露光装置を提供する。 【解決手段】 光ディスク原盤の露光装置は、基体上に
フォトレジストが塗布されてなる光ディスク原盤に、情
報信号が記録された所定のパターンを形成する位置に対
応して露光する光ディスク原盤の露光装置において、光
源から出射されたレーザ光を集光する集光光学素子１５
と、上記集光光学素子１５により集光したレーザ光をウ
ォブリングさせる偏向光学素子１６と、集光光学素子１
５の焦点位置よりも後段に配され、上記偏向光学素子１
６によりウォブリングしたレーザ光を対物レンズの前段
で再結像する光学系１７とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ピット及びグルー
ブが形成された光ディスクを製造する際の原盤となる光
ディスク原盤に対してレーザ光を露光する光ディスク原
盤の露光装置に関する。
ブが形成された光ディスクを製造する際の原盤となる光
ディスク原盤に対してレーザ光を露光する光ディスク原
盤の露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、記録可能な光ディスクにおいて
は、同心円状又はスパイラル状に凹状溝であるグルーブ
が形成されている。そして、このような光ディスクの中
には、このグルーブが形成された部分に情報信号を記録
するグルーブ記録方式のものがある。これに対して、光
ディスクの中には、グルーブとグルーブとの間に形成さ
れる凸部であるランドに情報信号を記録するランド記録
方式のものがある。また、光ディスクには、グルーブ及
びランドに情報信号を記録するランド・グルーブ記録方
式のものがある。
は、同心円状又はスパイラル状に凹状溝であるグルーブ
が形成されている。そして、このような光ディスクの中
には、このグルーブが形成された部分に情報信号を記録
するグルーブ記録方式のものがある。これに対して、光
ディスクの中には、グルーブとグルーブとの間に形成さ
れる凸部であるランドに情報信号を記録するランド記録
方式のものがある。また、光ディスクには、グルーブ及
びランドに情報信号を記録するランド・グルーブ記録方
式のものがある。
【０００３】これらいずれの方式においても、光ディス
クは、いわゆるマスタリング工程で光ディスク原盤が形
成され、この光ディスク原盤を基にして形成される、い
わゆるマスターディスク、ファザーディスク、マザーデ
ィスク及びスタンパを用いて形成されている。このよう
に、光ディスクを製造する際には、グルーブ等に対応す
る凹凸が高精度に形成された光ディスク原盤が必要であ
る。なお、以下の記載において、光ディスク原盤に形成
され、光ディスクのピットに対応する部分を「ピット形
成部」と呼び、同様に、光ディスクのグルーブに対応す
る部分を「グルーブ形成部」と呼ぶ。
クは、いわゆるマスタリング工程で光ディスク原盤が形
成され、この光ディスク原盤を基にして形成される、い
わゆるマスターディスク、ファザーディスク、マザーデ
ィスク及びスタンパを用いて形成されている。このよう
に、光ディスクを製造する際には、グルーブ等に対応す
る凹凸が高精度に形成された光ディスク原盤が必要であ
る。なお、以下の記載において、光ディスク原盤に形成
され、光ディスクのピットに対応する部分を「ピット形
成部」と呼び、同様に、光ディスクのグルーブに対応す
る部分を「グルーブ形成部」と呼ぶ。
【０００４】この光ディスク原盤を製造する際には、例
えば、ガラス基板上に所定の厚みで塗布されたフォトレ
ジストにレーザ光を照射することによって、ピット形成
部及びグルーブ形成部の形状が露光される。すなわち、
光ディスク原盤では、ピット形成部及びグルーブ形成部
にレーザ光が照射され、このレーザ光が照射された部分
のフォトレジストが現像工程でエッチングされ、レーザ
光が照射された部分以外のフォトレジストが硬化する。
これによって、光ディスク原盤は、所望の形状を有する
ピット形成部及びグルーブ形成部が形成されることとな
る。
えば、ガラス基板上に所定の厚みで塗布されたフォトレ
ジストにレーザ光を照射することによって、ピット形成
部及びグルーブ形成部の形状が露光される。すなわち、
光ディスク原盤では、ピット形成部及びグルーブ形成部
にレーザ光が照射され、このレーザ光が照射された部分
のフォトレジストが現像工程でエッチングされ、レーザ
光が照射された部分以外のフォトレジストが硬化する。
これによって、光ディスク原盤は、所望の形状を有する
ピット形成部及びグルーブ形成部が形成されることとな
る。
【０００５】そして、フォトレジストにレーザ光を照射
するに際して、特開昭６４−３５７４２号公報に記載さ
れているように、ウォブル法が採用されている。このウ
ォブル法は、フォトレジスト上に照射するレーザ光を光
ディスク原盤の径方向に振動させることによって、ピッ
トやグルーブを幅広に形成することができる手法であ
る。
するに際して、特開昭６４−３５７４２号公報に記載さ
れているように、ウォブル法が採用されている。このウ
ォブル法は、フォトレジスト上に照射するレーザ光を光
ディスク原盤の径方向に振動させることによって、ピッ
トやグルーブを幅広に形成することができる手法であ
る。
【０００６】このウォブル法を採用して光ディスク原盤
の露光を行う際には、図５に示すように、一対の楔型シ
リンドリカルレンズ１００Ａ，１００Ｂを用いた露光装
置１０１が用いられている。この露光装置１０１は、レ
ーザ光を出射する図示しない光源と、この光源から出射
されたレーザ光の光軸上に配された一対の楔型シリンド
リカルレンズ１００Ａ，１００Ｂと、これら一対の楔型
シリンドリカルレンズ１００Ａ，１００Ｂの間に配され
た音響光学素子１０２と、一対の楔型シリンドリカルレ
ンズ１００Ａ，１００Ｂを透過したレーザ光の光軸上に
配されてレーザ光を集光する集光レンズ１０３と、この
集光レンズ１０３の焦点位置より後段に配された対物レ
ンズ１０４とを備える。
の露光を行う際には、図５に示すように、一対の楔型シ
リンドリカルレンズ１００Ａ，１００Ｂを用いた露光装
置１０１が用いられている。この露光装置１０１は、レ
ーザ光を出射する図示しない光源と、この光源から出射
されたレーザ光の光軸上に配された一対の楔型シリンド
リカルレンズ１００Ａ，１００Ｂと、これら一対の楔型
シリンドリカルレンズ１００Ａ，１００Ｂの間に配され
た音響光学素子１０２と、一対の楔型シリンドリカルレ
ンズ１００Ａ，１００Ｂを透過したレーザ光の光軸上に
配されてレーザ光を集光する集光レンズ１０３と、この
集光レンズ１０３の焦点位置より後段に配された対物レ
ンズ１０４とを備える。
【０００７】この露光装置１０１では、光源から出射さ
れて一方の楔型シリンドリカルレンズ１００Ａを透過し
たレーザ光が、所定の一方向が集光され、これと直交す
る方向が平行光とされて音響光学素子１０２に入力す
る。すなわち、音響光学素子１０２に入力されるレーザ
光は、集光された方向と直交する方向を長手とする略々
線状のスポット形状となる。
れて一方の楔型シリンドリカルレンズ１００Ａを透過し
たレーザ光が、所定の一方向が集光され、これと直交す
る方向が平行光とされて音響光学素子１０２に入力す
る。すなわち、音響光学素子１０２に入力されるレーザ
光は、集光された方向と直交する方向を長手とする略々
線状のスポット形状となる。
【０００８】音響光学素子１０２は、所定の周波数の疎
密波が重畳され、この状態で入射したレーザ光をウォブ
リングさせる。このとき、この疎密波は、略々線状とさ
れたスポット形状の長手方向と平行な方向から重畳さ
れ、レーザ光をウォブリングさせる。
密波が重畳され、この状態で入射したレーザ光をウォブ
リングさせる。このとき、この疎密波は、略々線状とさ
れたスポット形状の長手方向と平行な方向から重畳さ
れ、レーザ光をウォブリングさせる。
【０００９】そして、音響光学素子１０２でウォブリン
グされたレーザ光は、他方の楔型シリンドリカルレンズ
１００Ｂを透過して元の形状とされ、集光レンズ１０３
に照射される。この集光レンズ１０３は、その焦点位置
が対物レンズ１０４の前段となっており、ウォブリング
されたレーザ光を焦点位置に集光させる。そして、ウォ
ブリングされたレーザ光は、対物レンズ１０４を介して
光ディスク原盤１０５へと露光される。
グされたレーザ光は、他方の楔型シリンドリカルレンズ
１００Ｂを透過して元の形状とされ、集光レンズ１０３
に照射される。この集光レンズ１０３は、その焦点位置
が対物レンズ１０４の前段となっており、ウォブリング
されたレーザ光を焦点位置に集光させる。そして、ウォ
ブリングされたレーザ光は、対物レンズ１０４を介して
光ディスク原盤１０５へと露光される。
【００１０】また、ウォブル法を採用して光ディスク原
盤の露光する際には、図６に示すように、露光装置１１
０を用いる場合がある。この露光装置１１０は、図示し
ない光源と、この光源から出射されたレーザ光の光軸上
に配された集光レンズ１１１と、集光レンズ１１１の焦
点位置よりも前段に配された音響光学素子１１２と、集
光レンズ１１１の焦点位置よりも後段に配された対物レ
ンズ１１３とを備える。
盤の露光する際には、図６に示すように、露光装置１１
０を用いる場合がある。この露光装置１１０は、図示し
ない光源と、この光源から出射されたレーザ光の光軸上
に配された集光レンズ１１１と、集光レンズ１１１の焦
点位置よりも前段に配された音響光学素子１１２と、集
光レンズ１１１の焦点位置よりも後段に配された対物レ
ンズ１１３とを備える。
【００１１】この露光装置１１０では、光源から出射さ
れたレーザ光が、集光レンズ１１１により集光され、焦
点位置の手前で音響光学素子１１２に入力する。レーザ
光は、上述した露光装置１０１の音響光学素子１０２と
同様に、音響光学素子１１２にて疎密波が重畳される。
このとき、この露光装置１１０においては、音響光学素
子１１２に入力するレーザ光は、その形状が円形とされ
る。そして、ウォブリングされたレーザ光は、対物レン
ズ１１３を介して光ディスク原盤１１４に露光される。
れたレーザ光が、集光レンズ１１１により集光され、焦
点位置の手前で音響光学素子１１２に入力する。レーザ
光は、上述した露光装置１０１の音響光学素子１０２と
同様に、音響光学素子１１２にて疎密波が重畳される。
このとき、この露光装置１１０においては、音響光学素
子１１２に入力するレーザ光は、その形状が円形とされ
る。そして、ウォブリングされたレーザ光は、対物レン
ズ１１３を介して光ディスク原盤１１４に露光される。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ウォブル法
を採用して凹凸が高精度に形成された光ディスク原盤を
製造するためには、上述したような音響光学素子１０
２，１１２において高周波数の疎密波を使用することが
考えられる。すなわち、疎密波を高周波数とすることに
よって、ウォブリングされたレーザ光の振動の周波数を
高くすることができ、露光する領域の縁部を高精度に形
成することができるのである。また、ウォブル法を採用
して幅広なピットやグルーブを形成するためには、ウォ
ブリングされたレーザ光の振幅を大きくすることが考え
られる。
を採用して凹凸が高精度に形成された光ディスク原盤を
製造するためには、上述したような音響光学素子１０
２，１１２において高周波数の疎密波を使用することが
考えられる。すなわち、疎密波を高周波数とすることに
よって、ウォブリングされたレーザ光の振動の周波数を
高くすることができ、露光する領域の縁部を高精度に形
成することができるのである。また、ウォブル法を採用
して幅広なピットやグルーブを形成するためには、ウォ
ブリングされたレーザ光の振幅を大きくすることが考え
られる。
【００１３】図５に示した露光装置１０１では、音響光
学素子１０２において、略々線状に集光されたレーザ光
に対して、そのスポット形状の長手方向と平行な方向か
ら疎密波が重畳されていた。この露光装置では、高周波
数の疎密波を用いると、スポット形状の長手方向の幅と
疎密波の波長とが略々同等となってしまう。これによ
り、レーザ光は、その光束内における回折方向が不均一
となってしまい、散乱を受けることとなる。したがっ
て、この場合、ウォブリングされたレーザ光は、所望の
スポット形状とならずに、光ディスク原盤を露光するこ
ととなる。
学素子１０２において、略々線状に集光されたレーザ光
に対して、そのスポット形状の長手方向と平行な方向か
ら疎密波が重畳されていた。この露光装置では、高周波
数の疎密波を用いると、スポット形状の長手方向の幅と
疎密波の波長とが略々同等となってしまう。これによ
り、レーザ光は、その光束内における回折方向が不均一
となってしまい、散乱を受けることとなる。したがっ
て、この場合、ウォブリングされたレーザ光は、所望の
スポット形状とならずに、光ディスク原盤を露光するこ
ととなる。
【００１４】このため、光ディスク原盤は、所望の領域
以外も露光されることとなり、所望の形状のピット形成
部及びグルーブ形成部を有するものとならない。すなわ
ち、上述した露光装置１０１では、ピット形成部及びグ
ルーブ形成部が高精度な凹凸となるように露光すること
が困難であるといった問題点があった。
以外も露光されることとなり、所望の形状のピット形成
部及びグルーブ形成部を有するものとならない。すなわ
ち、上述した露光装置１０１では、ピット形成部及びグ
ルーブ形成部が高精度な凹凸となるように露光すること
が困難であるといった問題点があった。
【００１５】一方、上述した露光装置１１０では、音響
光学素子１１２が集光レンズ１１１の焦点位置よりも前
段に配されていた。また、この場合、音響光学素子１１
２では、高周波数の疎密波を用いるため、小さなスポッ
ト径のレーザ光を入力しなければならない。
光学素子１１２が集光レンズ１１１の焦点位置よりも前
段に配されていた。また、この場合、音響光学素子１１
２では、高周波数の疎密波を用いるため、小さなスポッ
ト径のレーザ光を入力しなければならない。
【００１６】このような場合、音響光学素子１１２は、
集光レンズ１１１の焦点位置に近いところに配される必
要がある。そして、高周波数の疎密波に対応して音響光
学素子１１２を集光レンズ１１１の焦点位置に近づける
ほど、音響光学素子１１２による偏向量は小さくなって
しまう。すなわち、この露光装置１１０では、レーザ光
の振幅が小さいものとなる。
集光レンズ１１１の焦点位置に近いところに配される必
要がある。そして、高周波数の疎密波に対応して音響光
学素子１１２を集光レンズ１１１の焦点位置に近づける
ほど、音響光学素子１１２による偏向量は小さくなって
しまう。すなわち、この露光装置１１０では、レーザ光
の振幅が小さいものとなる。
【００１７】このため、上述した露光装置１１０には、
大きなウォブルピットを形成するピット形成部及びグル
ーブ形成部に対応して光ディスク原盤に露光することが
できないといった問題点があった。
大きなウォブルピットを形成するピット形成部及びグル
ーブ形成部に対応して光ディスク原盤に露光することが
できないといった問題点があった。
【００１８】そこで、本発明は、このような従来の問題
点に鑑みて提案されたものであり、光ディスク原盤上に
高精度且つ幅広な凹凸を形成するため、所望の領域に高
精度に露光することが可能とされた光ディスク原盤の露
光装置を提供することを目的とする。
点に鑑みて提案されたものであり、光ディスク原盤上に
高精度且つ幅広な凹凸を形成するため、所望の領域に高
精度に露光することが可能とされた光ディスク原盤の露
光装置を提供することを目的とする。
【００１９】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成した本
発明に係る光ディスク原盤の露光装置は、基体上にフォ
トレジストが塗布されてなる光ディスク原盤に、情報信
号が記録された所定のパターンを形成する位置に対応し
て露光する光ディスク原盤の露光装置において、光源か
ら出射されたレーザ光を集光する集光光学素子と、上記
集光光学素子により集光したレーザ光をウォブリングさ
せる偏向光学素子と、集光光学素子の焦点位置よりも後
段に配され、上記偏向光学素子によりウォブリングした
レーザ光を対物レンズの前段で再結像する光学系とを備
える。
発明に係る光ディスク原盤の露光装置は、基体上にフォ
トレジストが塗布されてなる光ディスク原盤に、情報信
号が記録された所定のパターンを形成する位置に対応し
て露光する光ディスク原盤の露光装置において、光源か
ら出射されたレーザ光を集光する集光光学素子と、上記
集光光学素子により集光したレーザ光をウォブリングさ
せる偏向光学素子と、集光光学素子の焦点位置よりも後
段に配され、上記偏向光学素子によりウォブリングした
レーザ光を対物レンズの前段で再結像する光学系とを備
える。
【００２０】以上のように構成された本発明に係る光デ
ィスク原盤の露光装置は、集光光学素子の焦点位置から
所定の位置に偏向光学素子を備える。このとき、この露
光装置において、偏向光学素子には、スポット径の小さ
なレーザ光が照射される。したがって、この露光装置
は、偏向光学素子において、スポット径の小さなレーザ
光をウォブリングさせることとなる。これにより、この
露光装置では、レーザ光が良好にウォブリングされる。
ィスク原盤の露光装置は、集光光学素子の焦点位置から
所定の位置に偏向光学素子を備える。このとき、この露
光装置において、偏向光学素子には、スポット径の小さ
なレーザ光が照射される。したがって、この露光装置
は、偏向光学素子において、スポット径の小さなレーザ
光をウォブリングさせることとなる。これにより、この
露光装置では、レーザ光が良好にウォブリングされる。
【００２１】そして、この露光装置では、光学系におい
て、偏向光学素子でウォブリングされたレーザ光を所望
の焦点距離で再結像する。これにより、この露光装置
は、再結像されたときのレーザ光の振幅を所定の値とす
ることができる。すなわち、この露光装置では、ウォブ
リングされたレーザ光の振幅を光学系により調節し、所
望の振幅でウォブリングされたレーザ光として光ディス
ク原盤に露光することができる。
て、偏向光学素子でウォブリングされたレーザ光を所望
の焦点距離で再結像する。これにより、この露光装置
は、再結像されたときのレーザ光の振幅を所定の値とす
ることができる。すなわち、この露光装置では、ウォブ
リングされたレーザ光の振幅を光学系により調節し、所
望の振幅でウォブリングされたレーザ光として光ディス
ク原盤に露光することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光ディスク原
盤の露光装置の好適な実施の形態について図面を参照し
て詳細に説明する。
盤の露光装置の好適な実施の形態について図面を参照し
て詳細に説明する。
【００２３】この光ディスク原盤の露光装置は、光磁気
ディスク等に代表され、情報信号として形成されたピッ
トとトラッキングサーボのための案内溝であるグルーブ
とが形成された光ディスクを形成する際に用いられるも
のである。
ディスク等に代表され、情報信号として形成されたピッ
トとトラッキングサーボのための案内溝であるグルーブ
とが形成された光ディスクを形成する際に用いられるも
のである。
【００２４】この光ディスク原盤の露光装置（以下、単
に、露光装置という。）は、図１に示すように、レーザ
光を出射するレーザ光源１と、パワー制御用の第１の光
学変調素子２と、レーザ光のスポット径を調節するレー
ザ調節部３と、このレーザ調節部３に対して制御信号を
供給する制御部４と、レーザ光をウォブリングさせてレ
ーザ光を照射するレーザ照射部５とを備えている。そし
て、この露光装置は、ウォブリングされたレーザ光を光
ディスク原盤６の所定の領域に照射するものである。
に、露光装置という。）は、図１に示すように、レーザ
光を出射するレーザ光源１と、パワー制御用の第１の光
学変調素子２と、レーザ光のスポット径を調節するレー
ザ調節部３と、このレーザ調節部３に対して制御信号を
供給する制御部４と、レーザ光をウォブリングさせてレ
ーザ光を照射するレーザ照射部５とを備えている。そし
て、この露光装置は、ウォブリングされたレーザ光を光
ディスク原盤６の所定の領域に照射するものである。
【００２５】ここで、光ディスク原盤６は、ガラス等か
らなる略円盤状の基板７と、この基板７上に形成された
フォトレジスト層８とからなる。この光ディスク原盤６
には、そのフォトレジスト層８に光ディスクのピットに
対応する部分にピット形成部が形成されており、同様
に、光ディスクのグルーブに対応する部分にグルーブ形
成部が形成されている、これらピット形成部及びグルー
ブ形成部は、凹溝となるように形成されている。
らなる略円盤状の基板７と、この基板７上に形成された
フォトレジスト層８とからなる。この光ディスク原盤６
には、そのフォトレジスト層８に光ディスクのピットに
対応する部分にピット形成部が形成されており、同様
に、光ディスクのグルーブに対応する部分にグルーブ形
成部が形成されている、これらピット形成部及びグルー
ブ形成部は、凹溝となるように形成されている。
【００２６】この光ディスク原盤６を製造する際には、
先ず、ガラス等の基板７上に所定の膜厚でフォトレジス
ト層８を塗布する。このとき、用いられる基板７は、高
度に平面化されるとともに、その表面には塵等の付着物
がほぼ無い状態とされる。そして、このように高度に平
坦化された表面に対して、フォトレジストを塗布する。
このとき、フォトレジストは、基板７との接着性を向上
させるために基板７上にクロム等の金属薄膜又はシラン
カップリング剤等の有機系のプライマー層を成膜し、そ
の層上に塗布してもよい。
先ず、ガラス等の基板７上に所定の膜厚でフォトレジス
ト層８を塗布する。このとき、用いられる基板７は、高
度に平面化されるとともに、その表面には塵等の付着物
がほぼ無い状態とされる。そして、このように高度に平
坦化された表面に対して、フォトレジストを塗布する。
このとき、フォトレジストは、基板７との接着性を向上
させるために基板７上にクロム等の金属薄膜又はシラン
カップリング剤等の有機系のプライマー層を成膜し、そ
の層上に塗布してもよい。
【００２７】このフォトレジスト層８は、その膜厚がピ
ット形成部及びグルーブ形成部の深さを規定するため、
その膜厚が厳密に制御されて塗布される。このとき、フ
ォトレジスト層８の膜厚を制御する手段としては、いわ
ゆるエリプソメータを用いるものや、反射率から膜厚を
算出して制御するものが挙げられる。
ット形成部及びグルーブ形成部の深さを規定するため、
その膜厚が厳密に制御されて塗布される。このとき、フ
ォトレジスト層８の膜厚を制御する手段としては、いわ
ゆるエリプソメータを用いるものや、反射率から膜厚を
算出して制御するものが挙げられる。
【００２８】そして、この露光装置において、このレー
ザ調節部３は、レーザ光源１から出射されたレーザ光を
屈折させる第１のミラー１０と、この第１のミラー１０
によって反射されたレーザ光の光軸上に順に配される第
１のレンズ１１、第２の光学変調素子１２、第２のレン
ズ１３及び第２のミラー１４とを備える。このレーザ調
節部３において、第２の光学変調素子１２は、制御部４
と接続されている。
ザ調節部３は、レーザ光源１から出射されたレーザ光を
屈折させる第１のミラー１０と、この第１のミラー１０
によって反射されたレーザ光の光軸上に順に配される第
１のレンズ１１、第２の光学変調素子１２、第２のレン
ズ１３及び第２のミラー１４とを備える。このレーザ調
節部３において、第２の光学変調素子１２は、制御部４
と接続されている。
【００２９】レーザ照射部５は、レーザ調節部３から出
射したレーザ光が入射し、そのレーザ光の光軸上に順に
配された第１の集光レンズ１５、偏向光学素子である音
響光学素子１６、光学系１７、第３のミラー１８及び対
物レンズ１９を順次備える。このレーザ照射部５におい
て、音響光学素子１６は、制御部４と接続されている。
また、このレーザ照射部５において、光学系１７は、レ
ーザ光の光軸上にコリメータレンズ２０と第２の集光レ
ンズ２１とを順次備える。
射したレーザ光が入射し、そのレーザ光の光軸上に順に
配された第１の集光レンズ１５、偏向光学素子である音
響光学素子１６、光学系１７、第３のミラー１８及び対
物レンズ１９を順次備える。このレーザ照射部５におい
て、音響光学素子１６は、制御部４と接続されている。
また、このレーザ照射部５において、光学系１７は、レ
ーザ光の光軸上にコリメータレンズ２０と第２の集光レ
ンズ２１とを順次備える。
【００３０】この露光装置において、音響光学素子１６
は、図２に示すように、第１の集光レンズ１５の回折光
の光軸上で、第１の集光レンズ１５の焦点位置（図２中
Ｆ１で示す。）から焦点距離（図２中ｆ１で示す。）の
１／２以内の位置に配される。この音響光学素子１６
は、制御部４と接続されることによって、約５ＭＨｚ程
度の高周波数の疎密波が重畳されるような構成となって
いる。そして、この音響光学素子１６には、疎密波が重
畳された状態でレーザ光が照射される。これによりよっ
て、照射されたレーザ光は、図２中Ａ１で示す振幅で且
つ所定の周波数でウォブリングさせる。
は、図２に示すように、第１の集光レンズ１５の回折光
の光軸上で、第１の集光レンズ１５の焦点位置（図２中
Ｆ１で示す。）から焦点距離（図２中ｆ１で示す。）の
１／２以内の位置に配される。この音響光学素子１６
は、制御部４と接続されることによって、約５ＭＨｚ程
度の高周波数の疎密波が重畳されるような構成となって
いる。そして、この音響光学素子１６には、疎密波が重
畳された状態でレーザ光が照射される。これによりよっ
て、照射されたレーザ光は、図２中Ａ１で示す振幅で且
つ所定の周波数でウォブリングさせる。
【００３１】また、この露光装置において、光学系１７
は、図２に示すように、音響光学素子１６によりウォブ
リングされたレーザ光の光軸上に順にコリメータレンズ
２０と第２の集光レンズ２１とを備えるような構成とな
っている。なお、このとき、音響光学素子１６によりウ
ォブリングされたレーザ光とは、音響光学素子１６内で
回折されてなる１次回折光のことである。
は、図２に示すように、音響光学素子１６によりウォブ
リングされたレーザ光の光軸上に順にコリメータレンズ
２０と第２の集光レンズ２１とを備えるような構成とな
っている。なお、このとき、音響光学素子１６によりウ
ォブリングされたレーザ光とは、音響光学素子１６内で
回折されてなる１次回折光のことである。
【００３２】この光学系１７において、コリメータレン
ズ２０は、第１の集光レンズ１５の焦点位置よりも光軸
上における後段に配される。このとき、コリメータレン
ズ２０は、第１の集光レンズ１５の焦点位置Ｆ１よりも
図２中ｆ２で示す距離だけ後段に配されている。そし
て、第２の集光レンズ２１は、コリメータレンズ２０か
ら出射したレーザ光の光軸上に配され、図２中ｆ３で示
す焦点距離とされた焦点位置Ｆ３を示す。この光学系１
７では、焦点位置Ｆ３におけるレーザＬＷ０の振幅をＡ
２とする。
ズ２０は、第１の集光レンズ１５の焦点位置よりも光軸
上における後段に配される。このとき、コリメータレン
ズ２０は、第１の集光レンズ１５の焦点位置Ｆ１よりも
図２中ｆ２で示す距離だけ後段に配されている。そし
て、第２の集光レンズ２１は、コリメータレンズ２０か
ら出射したレーザ光の光軸上に配され、図２中ｆ３で示
す焦点距離とされた焦点位置Ｆ３を示す。この光学系１
７では、焦点位置Ｆ３におけるレーザＬＷ０の振幅をＡ
２とする。
【００３３】この露光装置においては、上述したコリメ
ータレンズ２０は、光軸に対して平行な方向に移動可能
とされている。すなわち、この光学系１７では、第１の
集光レンズ１５の焦点位置Ｆ１からコリメータレンズ２
０までの距離ｆ２を所望な値とすることができる。ま
た、この露光装置においては、第２の集光レンズ２１
は、その焦点位置Ｆ３を固定とし、所望の焦点距離ｆ３
を有するものとする。ここで、この第２の集光レンズ２
１は、焦点距離ｆ３を所望の値とするため、可変焦点レ
ンズとされることが好ましい。
ータレンズ２０は、光軸に対して平行な方向に移動可能
とされている。すなわち、この光学系１７では、第１の
集光レンズ１５の焦点位置Ｆ１からコリメータレンズ２
０までの距離ｆ２を所望な値とすることができる。ま
た、この露光装置においては、第２の集光レンズ２１
は、その焦点位置Ｆ３を固定とし、所望の焦点距離ｆ３
を有するものとする。ここで、この第２の集光レンズ２
１は、焦点距離ｆ３を所望の値とするため、可変焦点レ
ンズとされることが好ましい。
【００３４】以上のように構成された露光装置は、フォ
トレジスト層８上にウォブリングされたレーザ光を照射
し、ピット形成部及びグルーブ形成部に対応した位置を
露光する。
トレジスト層８上にウォブリングされたレーザ光を照射
し、ピット形成部及びグルーブ形成部に対応した位置を
露光する。
【００３５】この露光装置では、先ず、レーザ光源１か
ら所定のレーザ光が出射され、このレーザ光が第１の光
学変調素子２に入射される。レーザ光源１から出射した
レーザ光は、第１の光学変調素子２でパワー制御されて
レーザＬ０となる。このとき、第１の光学変調素子２と
しては、入射したレーザ光の強度変調を行うものであれ
ばよく、例えば、電気光学変調、音響光学変調又は磁気
光学変調等の方法を用いた素子を挙げることができる。
ら所定のレーザ光が出射され、このレーザ光が第１の光
学変調素子２に入射される。レーザ光源１から出射した
レーザ光は、第１の光学変調素子２でパワー制御されて
レーザＬ０となる。このとき、第１の光学変調素子２と
しては、入射したレーザ光の強度変調を行うものであれ
ばよく、例えば、電気光学変調、音響光学変調又は磁気
光学変調等の方法を用いた素子を挙げることができる。
【００３６】そして、強度変調を受けたレーザＬ０は、
レーザ調節部３に入射される。このレーザ調節部３は、
光ディスク原盤６上に形成するピット形成部及びグルー
ブ形成部に対応した位置のフォトレジスト層８を露光す
るようにレーザＬ０のオン・オフ制御を行っている。
レーザ調節部３に入射される。このレーザ調節部３は、
光ディスク原盤６上に形成するピット形成部及びグルー
ブ形成部に対応した位置のフォトレジスト層８を露光す
るようにレーザＬ０のオン・オフ制御を行っている。
【００３７】このレーザ調節部３において、レーザＬ０
は、第１のミラー１０により屈折され、第１のレンズ１
１に入射される。レーザＬ０は、第１のレンズ１１によ
り所定のスポット径とされて第２の光学変調素子１２に
入射される。この第２の光学変調素子１２は、制御部４
からの制御信号が供給され、この制御信号に応じて入射
したレーザＬ０を透過又は遮蔽する。この第２の光学変
調素子１２としては、例えば、音響光学変調等の方法を
用いたものが挙げられる。
は、第１のミラー１０により屈折され、第１のレンズ１
１に入射される。レーザＬ０は、第１のレンズ１１によ
り所定のスポット径とされて第２の光学変調素子１２に
入射される。この第２の光学変調素子１２は、制御部４
からの制御信号が供給され、この制御信号に応じて入射
したレーザＬ０を透過又は遮蔽する。この第２の光学変
調素子１２としては、例えば、音響光学変調等の方法を
用いたものが挙げられる。
【００３８】このとき、制御部４は、フォトレジスト層
８上に照射されるレーザ光がピット形成部又はグルーブ
形成部にあるときにレーザＬ０を透過させ、レーザ光が
ピット形成部又はグルーブ形成部にないときにレーザＬ
０を遮蔽させる。これにより、この露光装置では、ピッ
ト形成部及びグルーブ形成部に対応した位置にのみ露光
することができる。そして、第２の光学変調素子１２を
透過したレーザＬ０は、第２のレンズ１３に入射されて
平行光とされる。平行光とされたレーザＬ０は、第２の
ミラー１４で屈折されてレーザ照射部５に入射される。
このように、レーザＬ０は、レーザ調節部３において、
所望のタイミングで平行光としてレーザ照射部５に入射
される。
８上に照射されるレーザ光がピット形成部又はグルーブ
形成部にあるときにレーザＬ０を透過させ、レーザ光が
ピット形成部又はグルーブ形成部にないときにレーザＬ
０を遮蔽させる。これにより、この露光装置では、ピッ
ト形成部及びグルーブ形成部に対応した位置にのみ露光
することができる。そして、第２の光学変調素子１２を
透過したレーザＬ０は、第２のレンズ１３に入射されて
平行光とされる。平行光とされたレーザＬ０は、第２の
ミラー１４で屈折されてレーザ照射部５に入射される。
このように、レーザＬ０は、レーザ調節部３において、
所望のタイミングで平行光としてレーザ照射部５に入射
される。
【００３９】この露光装置において、レーザ照射部５
は、入射したレーザＬ０を偏向光学素子である音響光学
素子１６にてウォブリングさせてレーザＬＷ０とし、こ
のレーザＬＷ０を光ディスク原盤６に照射している。
は、入射したレーザＬ０を偏向光学素子である音響光学
素子１６にてウォブリングさせてレーザＬＷ０とし、こ
のレーザＬＷ０を光ディスク原盤６に照射している。
【００４０】このレーザ照射部５では、先ず、レーザ調
節部３から出射したレーザＬ０が第１の集光レンズ１５
に入射する。この第１の集光レンズ１５は、図２に示し
たように、焦点距離ｆ１を有するレンズであり、レーザ
Ｌ０を焦点位置Ｆ１で集光する。このレーザ照射部５に
おいて、レーザＬ０の光軸上には、音響光学素子１６が
配さている。すなわち、この音響光学素子１６には、第
１の集光レンズ１５により集光されたレーザＬ０が入射
することとなる。
節部３から出射したレーザＬ０が第１の集光レンズ１５
に入射する。この第１の集光レンズ１５は、図２に示し
たように、焦点距離ｆ１を有するレンズであり、レーザ
Ｌ０を焦点位置Ｆ１で集光する。このレーザ照射部５に
おいて、レーザＬ０の光軸上には、音響光学素子１６が
配さている。すなわち、この音響光学素子１６には、第
１の集光レンズ１５により集光されたレーザＬ０が入射
することとなる。
【００４１】この音響光学素子１６は、上述したよう
に、焦点位置Ｆ１から焦点距離ｆ１の１／２以内の位置
に配されている。このため、音響光学素子１６には、第
１の集光レンズ１５を介してスポット径の小さなレーザ
Ｌ０が照射されることとなる。この音響光学素子１５
は、照射されたレーザＬ０に疎密波が重畳され、レーザ
Ｌ０をウォブリングさせる。そして、この音響光学素子
１６では、第１の集光レンズ１５で集光されたレーザＬ
０が回折されることとなる。そして、この音響光学素子
１６からは、回折されたレーザＬ０の１次回折光が出射
することとなる。
に、焦点位置Ｆ１から焦点距離ｆ１の１／２以内の位置
に配されている。このため、音響光学素子１６には、第
１の集光レンズ１５を介してスポット径の小さなレーザ
Ｌ０が照射されることとなる。この音響光学素子１５
は、照射されたレーザＬ０に疎密波が重畳され、レーザ
Ｌ０をウォブリングさせる。そして、この音響光学素子
１６では、第１の集光レンズ１５で集光されたレーザＬ
０が回折されることとなる。そして、この音響光学素子
１６からは、回折されたレーザＬ０の１次回折光が出射
することとなる。
【００４２】このとき、この音響光学素子１６は、疎密
波が高周波数になった場合でも、疎密波の波長よりレー
ザＬ０のスポット径のほうが小さくなっている。このた
め、音響光学素子１６において、レーザＬ０は、その光
束内の回折方向が均一となり散乱を受けるようなことが
なく、疎密波による偏向が光束内で均一なものとなる。
したがって、このレーザ照射部５では、疎密波が約６Ｍ
Ｈｚといった高周波数の場合でもレーザＬ０を良好にウ
ォブルリングすることができる。
波が高周波数になった場合でも、疎密波の波長よりレー
ザＬ０のスポット径のほうが小さくなっている。このた
め、音響光学素子１６において、レーザＬ０は、その光
束内の回折方向が均一となり散乱を受けるようなことが
なく、疎密波による偏向が光束内で均一なものとなる。
したがって、このレーザ照射部５では、疎密波が約６Ｍ
Ｈｚといった高周波数の場合でもレーザＬ０を良好にウ
ォブルリングすることができる。
【００４３】そして、振幅Ａ１でウォブリングされたレ
ーザＬＷ０は、コリメータレンズ２０に入射する。レー
ザＬＷ０は、焦点位置Ｆ１から距離ｆ２だけ離間したコ
リメータレンズ２０にて平行光とされる。コリメータレ
ンズ２０により平行光とされたレーザＬＷ０は、第２の
集光レンズ２１に入射し、振幅Ａ２で焦点位置Ｆ３上に
集光される。
ーザＬＷ０は、コリメータレンズ２０に入射する。レー
ザＬＷ０は、焦点位置Ｆ１から距離ｆ２だけ離間したコ
リメータレンズ２０にて平行光とされる。コリメータレ
ンズ２０により平行光とされたレーザＬＷ０は、第２の
集光レンズ２１に入射し、振幅Ａ２で焦点位置Ｆ３上に
集光される。
【００４４】この露光装置において、レーザＬＷ０は、
その振幅の拡大倍率（Ａ２／Ａ１）をｆ３／ｆ２として
表すことができる。すなわち、このレーザＬＷ０は、図
２に示した露光装置におけるｆ３／ｆ２の値を調節する
ことにより、所望の振幅を有するものとなる。特に、こ
の露光装置では、ｆ３＞ｆ２なる関係を満足させること
により、レーザＬＷ０の振幅を拡大することができる。
その振幅の拡大倍率（Ａ２／Ａ１）をｆ３／ｆ２として
表すことができる。すなわち、このレーザＬＷ０は、図
２に示した露光装置におけるｆ３／ｆ２の値を調節する
ことにより、所望の振幅を有するものとなる。特に、こ
の露光装置では、ｆ３＞ｆ２なる関係を満足させること
により、レーザＬＷ０の振幅を拡大することができる。
【００４５】したがって、この露光装置は、フォトレジ
スト層８上にピット形成部或いはグルーブ形成部を幅広
に露光する際、ｆ３＞ｆ２なる関係を満足させるように
コリメータレンズ２０の焦点距離ｆ２や第２の集光レン
ズ２１の焦点距離ｆ３を調節する。これにより、この露
光装置は、幅広なピット形成部或いはグルーブ形成部を
容易に露光することができる。
スト層８上にピット形成部或いはグルーブ形成部を幅広
に露光する際、ｆ３＞ｆ２なる関係を満足させるように
コリメータレンズ２０の焦点距離ｆ２や第２の集光レン
ズ２１の焦点距離ｆ３を調節する。これにより、この露
光装置は、幅広なピット形成部或いはグルーブ形成部を
容易に露光することができる。
【００４６】具体的には、コリメータレンズ２０として
焦点位置Ｆ１を変化させずに焦点距離ｆ２を変化させる
ことができるような可変焦点レンズを用いればよい。ま
た、第２の集光レンズ２１を可変焦点レンズとすること
により、焦点位置Ｆ３を変化させずに、焦点距離ｆ３を
所定の値とすることができる。この露光装置では、上述
したように焦点距離ｆ３及び距離ｆ２を調節することに
よって、幅寸法が１μｍ以上であるような幅広なピット
形成部及びグルーブ形成部に対応してレーザ光を露光さ
せることができる。
焦点位置Ｆ１を変化させずに焦点距離ｆ２を変化させる
ことができるような可変焦点レンズを用いればよい。ま
た、第２の集光レンズ２１を可変焦点レンズとすること
により、焦点位置Ｆ３を変化させずに、焦点距離ｆ３を
所定の値とすることができる。この露光装置では、上述
したように焦点距離ｆ３及び距離ｆ２を調節することに
よって、幅寸法が１μｍ以上であるような幅広なピット
形成部及びグルーブ形成部に対応してレーザ光を露光さ
せることができる。
【００４７】また、この露光装置において、拡大倍率Ａ
２／Ａ１を高い値とするためには、焦点位置Ｆ１、Ｆ２
を変化させずに焦点距離ｆ１、ｆ２を変化させるような
光学素子を配するような構成とすればよい。この露光装
置では、このような光学素子を光軸上に配することによ
り、拡大倍率Ａ２／Ａ１の値を所定の値とすることがで
きる。これにより、露光装置は、幅広なピット形成部及
びグルーブ形成部に対応した領域を容易に露光すること
ができる。
２／Ａ１を高い値とするためには、焦点位置Ｆ１、Ｆ２
を変化させずに焦点距離ｆ１、ｆ２を変化させるような
光学素子を配するような構成とすればよい。この露光装
置では、このような光学素子を光軸上に配することによ
り、拡大倍率Ａ２／Ａ１の値を所定の値とすることがで
きる。これにより、露光装置は、幅広なピット形成部及
びグルーブ形成部に対応した領域を容易に露光すること
ができる。
【００４８】そして、レーザＬＷ０は、光学系１７で所
定の振幅とされた後に第３のミラー１８で屈折されて対
物レンズ１９に入射する。レーザＬＷ０は、対物レンズ
１９を介してフォトレジスト層８に照射されることとな
る。この対物レンズ１９は、例えば、縮小倍率が１／１
００とされ、第２の集光レンズ２１の焦点位置Ｆ３にお
けるレーザＬＷ０を１／１００に縮小して露光する。
定の振幅とされた後に第３のミラー１８で屈折されて対
物レンズ１９に入射する。レーザＬＷ０は、対物レンズ
１９を介してフォトレジスト層８に照射されることとな
る。この対物レンズ１９は、例えば、縮小倍率が１／１
００とされ、第２の集光レンズ２１の焦点位置Ｆ３にお
けるレーザＬＷ０を１／１００に縮小して露光する。
【００４９】以上のように、本実施の形態に示した露光
装置は、第１の集光レンズ１５の焦点位置Ｆ１から焦点
距離ｆ１の１／２以内の位置に音響光学素子１６を備え
るために、約６ＭＨｚ程度の高周波数の疎密波を用いて
もレーザ光を良好にウォブリングさせることができる。
このため、この露光装置は、ピット形成部及びグルーブ
形成部を形成する位置に対して高精度に露光することが
できる。したがって、この露光装置によれば、高精度に
凹凸が形成された光ディスク原盤６を作製することがで
きる。
装置は、第１の集光レンズ１５の焦点位置Ｆ１から焦点
距離ｆ１の１／２以内の位置に音響光学素子１６を備え
るために、約６ＭＨｚ程度の高周波数の疎密波を用いて
もレーザ光を良好にウォブリングさせることができる。
このため、この露光装置は、ピット形成部及びグルーブ
形成部を形成する位置に対して高精度に露光することが
できる。したがって、この露光装置によれば、高精度に
凹凸が形成された光ディスク原盤６を作製することがで
きる。
【００５０】また、この露光装置は、光学系１７におい
て、音響光学素子１５でウォブリングされたレーザ光を
再結像している。これにより、この露光装置は、再結像
したときのレーザ光の振幅Ａ２を所定の値とすることが
できる。すなわち、この露光装置では、ウォブリングさ
れたレーザ光の振幅Ａ１を光学系１７により調節し、振
幅Ａ２でウォブリングされたレーザ光として光ディスク
原盤６に露光することができる。
て、音響光学素子１５でウォブリングされたレーザ光を
再結像している。これにより、この露光装置は、再結像
したときのレーザ光の振幅Ａ２を所定の値とすることが
できる。すなわち、この露光装置では、ウォブリングさ
れたレーザ光の振幅Ａ１を光学系１７により調節し、振
幅Ａ２でウォブリングされたレーザ光として光ディスク
原盤６に露光することができる。
【００５１】このため、この露光装置は、振幅Ａ２を大
きくすることによって、幅広なピット形成部或いはグル
ーブ形成部の位置に対して良好に露光することができ
る。したがって、この露光装置によれば、幅広なピット
形成部及びグルーブ形成部を有する光ディスク原盤６を
容易に作製することができる。
きくすることによって、幅広なピット形成部或いはグル
ーブ形成部の位置に対して良好に露光することができ
る。したがって、この露光装置によれば、幅広なピット
形成部及びグルーブ形成部を有する光ディスク原盤６を
容易に作製することができる。
【００５２】ところで、本発明に係る光ディスク原盤の
露光装置は、上述した実施の形態に示した露光装置に限
定されるものではなく、図３に示すような他の実施の形
態に示す露光装置であってもよい。なお、以下の説明に
おいては、上述した露光装置と同一の構成に関して同一
の符号を付することによって、その構成及び動作の詳細
な説明を省略する。
露光装置は、上述した実施の形態に示した露光装置に限
定されるものではなく、図３に示すような他の実施の形
態に示す露光装置であってもよい。なお、以下の説明に
おいては、上述した露光装置と同一の構成に関して同一
の符号を付することによって、その構成及び動作の詳細
な説明を省略する。
【００５３】この図３に示す露光装置は、レーザ光を出
射するレーザ光源１と、パワー制御用の第１の光学変調
素子２と、レーザ光のスポット径を調節するレーザ調節
部３と、このレーザ調節部３に対して制御信号を供給す
る制御部４と、レーザ光をウォブリングさせてレーザ光
を照射するレーザ照射部３０とを備えている。
射するレーザ光源１と、パワー制御用の第１の光学変調
素子２と、レーザ光のスポット径を調節するレーザ調節
部３と、このレーザ調節部３に対して制御信号を供給す
る制御部４と、レーザ光をウォブリングさせてレーザ光
を照射するレーザ照射部３０とを備えている。
【００５４】この露光装置において、レーザ照射部３０
は、レーザ調節部３から出射したレーザ光が入射し、そ
のレーザ光の光軸上に順に配された第１の集光レンズ３
１、偏向光学素子である音響光学素子３２、光学系３
３、第３のミラー３４及び対物レンズ３５を順次備え
る。このレーザ照射部３０において、音響光学素子３２
は、制御部４と接続されている。また、このレーザ照射
部５において、光学系３３は、レーザ光の光軸上に可変
焦点レンズ３６を備える。
は、レーザ調節部３から出射したレーザ光が入射し、そ
のレーザ光の光軸上に順に配された第１の集光レンズ３
１、偏向光学素子である音響光学素子３２、光学系３
３、第３のミラー３４及び対物レンズ３５を順次備え
る。このレーザ照射部３０において、音響光学素子３２
は、制御部４と接続されている。また、このレーザ照射
部５において、光学系３３は、レーザ光の光軸上に可変
焦点レンズ３６を備える。
【００５５】この露光装置において、音響光学素子３２
は、図４に示すように、第１の集光レンズ３１の屈折光
の光軸上で、第１の集光レンズ３１の焦点位置（図４中
Ｇ１で示す。）から焦点距離（図４中ｇ１で示す。）の
１／２以内の位置に配される。この音響光学素子３２
は、制御部４と接続されることによって、約６ＭＨｚ程
度の高周波数の疎密波が重畳されるような構成となって
いる。そして、この音響光学素子３２は、入射したレー
ザ光に疎密波を重畳することによって、図４中Ｂ１で示
す振幅で且つ所定の周波数でウォブリングさせる。
は、図４に示すように、第１の集光レンズ３１の屈折光
の光軸上で、第１の集光レンズ３１の焦点位置（図４中
Ｇ１で示す。）から焦点距離（図４中ｇ１で示す。）の
１／２以内の位置に配される。この音響光学素子３２
は、制御部４と接続されることによって、約６ＭＨｚ程
度の高周波数の疎密波が重畳されるような構成となって
いる。そして、この音響光学素子３２は、入射したレー
ザ光に疎密波を重畳することによって、図４中Ｂ１で示
す振幅で且つ所定の周波数でウォブリングさせる。
【００５６】また、この露光装置において、光学系３３
は、音響光学素子３２によりウォブリングされたレーザ
光の光軸上に配された可変焦点レンズ３６からなる。こ
の図４において、第１の集光レンズ３１の焦点位置Ｇ１
と可変焦点レンズ３６との距離をｇ２で表し、この可変
焦点レンズ３６の焦点位置をＧ３で表し、その焦点距離
をｇ３で表した。
は、音響光学素子３２によりウォブリングされたレーザ
光の光軸上に配された可変焦点レンズ３６からなる。こ
の図４において、第１の集光レンズ３１の焦点位置Ｇ１
と可変焦点レンズ３６との距離をｇ２で表し、この可変
焦点レンズ３６の焦点位置をＧ３で表し、その焦点距離
をｇ３で表した。
【００５７】以上のように構成された本実施の形態に示
す露光装置は、第１の集光レンズ３１により集光された
１次回折光を音響光学素子３２にてウォブリングし、光
学系３３にてウォブリングされたレーザ光の振幅を調節
する。
す露光装置は、第１の集光レンズ３１により集光された
１次回折光を音響光学素子３２にてウォブリングし、光
学系３３にてウォブリングされたレーザ光の振幅を調節
する。
【００５８】すなわち、この露光装置では、レーザ調節
部３から出射したレーザＬ０が第１の集光レンズ３１に
より集光されて音響光学素子３２に入射する。このと
き、音響光学素子３２に入射するレーザＬ０は、上述し
たように、音響光学素子３２が所定の位置に配されてい
るため、小さなスポット径を示すこととなる。これによ
り、この露光装置では、高周波数の疎密波が重畳されて
も、その光束内の回折方向が均一となり、偏向が光束内
で均一なものとなる。したがって、このレーザ照射部３
０では、疎密波が約５ＭＨｚといった高周波数の場合で
もレーザＬ０を良好にウォブルリングすることができ
る。
部３から出射したレーザＬ０が第１の集光レンズ３１に
より集光されて音響光学素子３２に入射する。このと
き、音響光学素子３２に入射するレーザＬ０は、上述し
たように、音響光学素子３２が所定の位置に配されてい
るため、小さなスポット径を示すこととなる。これによ
り、この露光装置では、高周波数の疎密波が重畳されて
も、その光束内の回折方向が均一となり、偏向が光束内
で均一なものとなる。したがって、このレーザ照射部３
０では、疎密波が約５ＭＨｚといった高周波数の場合で
もレーザＬ０を良好にウォブルリングすることができ
る。
【００５９】そして、ウォブリングされたレーザＬＷ０
は、可変集光レンズ３６により再結像される。すなわ
ち、このレーザ照射部３０では、焦点位置Ｇ１上におけ
るレーザＬＷ０の振幅Ｂ１が、可変焦点レンズ３６の焦
点位置Ｇ３上におけるレーザＬＷ０の振幅Ｂ２に変化さ
れる。このとき、振幅の拡大倍率Ｂ２／Ｂ１は、ｇ３／
ｇ２として表すことができる。ただし、このとき、焦点
位置Ｇ３と対物レンズ３５の前段の物点とが一致するよ
うに、第１の集光レンズ３１の焦点位置Ｇ１や音響光学
素子３２の位置を調節する必要がある。具体的には、こ
の光学系３３を、図２に示した光学系１７に適用すると
１／ｇ２−１／ｇ３＝１／ｆ３なる関係を有するように
調節する必要がある。
は、可変集光レンズ３６により再結像される。すなわ
ち、このレーザ照射部３０では、焦点位置Ｇ１上におけ
るレーザＬＷ０の振幅Ｂ１が、可変焦点レンズ３６の焦
点位置Ｇ３上におけるレーザＬＷ０の振幅Ｂ２に変化さ
れる。このとき、振幅の拡大倍率Ｂ２／Ｂ１は、ｇ３／
ｇ２として表すことができる。ただし、このとき、焦点
位置Ｇ３と対物レンズ３５の前段の物点とが一致するよ
うに、第１の集光レンズ３１の焦点位置Ｇ１や音響光学
素子３２の位置を調節する必要がある。具体的には、こ
の光学系３３を、図２に示した光学系１７に適用すると
１／ｇ２−１／ｇ３＝１／ｆ３なる関係を有するように
調節する必要がある。
【００６０】これにより、この露光装置は、拡大倍率Ｂ
２／Ｂ１を１以上とすることによって、レーザＬＷ０を
大きな振幅でウォブリングすることができる。このた
め、露光装置は、幅広なピット形成部或いはグルーブ形
成部に対応して、所望の領域を露光することができる。
したがって、この露光装置によれば、幅広なピット形成
部或いはグルーブ形成部を有する光ディスク原盤を作製
することができる。
２／Ｂ１を１以上とすることによって、レーザＬＷ０を
大きな振幅でウォブリングすることができる。このた
め、露光装置は、幅広なピット形成部或いはグルーブ形
成部に対応して、所望の領域を露光することができる。
したがって、この露光装置によれば、幅広なピット形成
部或いはグルーブ形成部を有する光ディスク原盤を作製
することができる。
【００６１】ところで、本発明に係る露光装置は、上述
したように、偏向光学素子として音響光学素子１６，３
２を用いたものに限定されるものではない。すなわち、
本発明に係る光ディスク原盤の露光装置では、偏向光学
素子としては、レーザ光を所定の波長で振幅させること
ができるようなものであればよく、例えば、電気光学的
な偏向光学素子や磁気光学的な偏向光学素子等が挙げら
れる。
したように、偏向光学素子として音響光学素子１６，３
２を用いたものに限定されるものではない。すなわち、
本発明に係る光ディスク原盤の露光装置では、偏向光学
素子としては、レーザ光を所定の波長で振幅させること
ができるようなものであればよく、例えば、電気光学的
な偏向光学素子や磁気光学的な偏向光学素子等が挙げら
れる。
【００６２】
【発明の効果】以上の説明からも明かなように、本発明
に係る光ディスク原盤の露光装置は、高周波数の疎密波
を用いた場合でも、レーザ光を良好にウォブリングさせ
ることができるとともに、ウォブリングされたレーザ光
の振幅を大きくすることができる。このため、この光デ
ィスク原盤の露光装置は、高精度であり、且つ、幅広な
凹凸を有する光ディスク原盤を作製することができる。
に係る光ディスク原盤の露光装置は、高周波数の疎密波
を用いた場合でも、レーザ光を良好にウォブリングさせ
ることができるとともに、ウォブリングされたレーザ光
の振幅を大きくすることができる。このため、この光デ
ィスク原盤の露光装置は、高精度であり、且つ、幅広な
凹凸を有する光ディスク原盤を作製することができる。
【図１】本発明に係る光ディスク原盤の露光装置の構成
図である。
図である。
【図２】露光装置におけるレーザ照射部の要部光路図で
ある。
ある。
【図３】本発明に係る他の光ディスク原盤の露光装置の
構成図である。
構成図である。
【図４】図３に示した露光装置におけるレーザ照射部の
要部光路図である。
要部光路図である。
【図５】従来の露光装置の要部光路図である。
【図６】従来の露光装置の要部光路図である。
１ レーザ光源、２ 第１の光学変調素子、３ レーザ
調節部、４ 制御部、５レーザ照射部、６ 光ディスク
原盤、１５ 第１の集光レンズ、１６ 音響光学素子、
１７ 光学系
調節部、４ 制御部、５レーザ照射部、６ 光ディスク
原盤、１５ 第１の集光レンズ、１６ 音響光学素子、
１７ 光学系
Claims (6)
- 【請求項１】 基体上にフォトレジストが塗布されてな
る光ディスク原盤に、情報信号が記録された所定のパタ
ーンを形成する位置に対応して露光する光ディスク原盤
の露光装置において、 光源から出射されたレーザ光を集光する集光光学素子
と、 上記集光光学素子により集光されたレーザ光をウォブリ
ングさせる偏向光学素子と、 上記集光光学素子の焦点位置よりも後段に配され、上記
偏向光学素子によりウォブリングされたレーザ光を対物
レンズの前段で再結像する光学系とを備えることを特徴
とする光ディスク原盤の露光装置。 - 【請求項２】 上記光学系は、レーザ光を平行光とする
第１のレンズと、この第１のレンズより後段に配されて
平行光とされたレーザ光を対物レンズの前段に結像する
第２のレンズとを備えることを特徴とする請求項１記載
の光ディスク原盤の露光装置。 - 【請求項３】 上記光学系は、上記偏向光学素子により
ウォブリングされたレーザ光が入射される可変焦点レン
ズを備えることを特徴とする請求項１記載の光ディスク
原盤の露光装置。 - 【請求項４】 上記音響光学素子は、上記集光光学素子
の焦点位置から焦点距離の１／２以内の位置に配される
ことを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤の露光
装置 - 【請求項５】 上記偏向光学素子は、音響光学素子であ
ることを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤の露
光装置。 - 【請求項６】 上記光学系で再結像したレーザ光のウォ
ブリング幅は、上記集光光学素子の焦点位置におけるウ
ォブリング幅よりも大とされることを特徴とする請求項
１記載の光ディスク原盤の露光装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9138924A JPH10334503A (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | 光ディスク原盤の露光装置 |
| EP98109638A EP0881630B1 (en) | 1997-05-28 | 1998-05-27 | Light exposure apparatus for master optical disc |
| KR1019980019193A KR100552024B1 (ko) | 1997-05-28 | 1998-05-27 | 마스터광디스크용노광장치 |
| DE69830214T DE69830214T2 (de) | 1997-05-28 | 1998-05-27 | Belichtungsvorrichtung für optische Matrizenplatte |
| US09/084,369 US6208611B1 (en) | 1997-05-28 | 1998-05-27 | Light exposure apparatus for master optical disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9138924A JPH10334503A (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | 光ディスク原盤の露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10334503A true JPH10334503A (ja) | 1998-12-18 |
Family
ID=15233324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9138924A Withdrawn JPH10334503A (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | 光ディスク原盤の露光装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6208611B1 (ja) |
| EP (1) | EP0881630B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10334503A (ja) |
| KR (1) | KR100552024B1 (ja) |
| DE (1) | DE69830214T2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4081702B2 (ja) * | 1999-07-29 | 2008-04-30 | ソニー株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
| CN1324586C (zh) * | 2002-10-15 | 2007-07-04 | 索尼株式会社 | 光记录介质主盘曝光装置及光记录介质主盘曝光方法 |
| US7648671B2 (en) * | 2002-11-20 | 2010-01-19 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL193159C (nl) * | 1985-06-19 | 1998-12-04 | Hitachi Ltd | Voorgevormde registratiedrager voor het daarin met behulp van een lichtvlek schrijven van informatie. |
| JPS6410728U (ja) * | 1987-07-10 | 1989-01-20 | ||
| JP2643159B2 (ja) * | 1987-07-31 | 1997-08-20 | ソニー株式会社 | 光学的記録方法 |
| US5040165A (en) * | 1988-03-03 | 1991-08-13 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical information recording medium and method of fabricating the same |
| JPH02252133A (ja) * | 1989-03-24 | 1990-10-09 | Ricoh Co Ltd | サンプルサーボ方式の光ディスク原盤露光装置 |
| JP2723986B2 (ja) * | 1989-08-02 | 1998-03-09 | 株式会社日立製作所 | 光ディスク原盤の作製方法 |
| JP2984004B2 (ja) * | 1989-08-28 | 1999-11-29 | ソニー株式会社 | カッテングマシン |
| US5120136A (en) * | 1989-09-12 | 1992-06-09 | Lasertape Systems, Inc. | Optical tape recorder having an acousto-optic device for scanning a radiant energy beam onto a media |
| JPH03154239A (ja) * | 1989-11-10 | 1991-07-02 | Pioneer Electron Corp | 光ディスクカッティング装置 |
| JPH04248144A (ja) * | 1991-01-09 | 1992-09-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | カッティング装置 |
| JPH0636359A (ja) * | 1992-07-20 | 1994-02-10 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク原盤露光装置 |
| JPH0696524A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-04-08 | Sony Corp | 記録媒体、記録方法、記録再生装置およびカッティング装置 |
| ATE198386T1 (de) * | 1993-12-24 | 2001-01-15 | Koninkl Philips Electronics Nv | Verfahren zur herstellung eines optischen informationsträgers, vorrichtung zur durchführung des verfahrens, und nach diesem verfahren hergestellter optischer informationsträger |
| JPH0855358A (ja) * | 1994-08-11 | 1996-02-27 | Pioneer Video Corp | 光学的記録装置 |
| JPH09128783A (ja) * | 1995-11-02 | 1997-05-16 | Sony Corp | 光学記録方法、光学記録装置及び光学記録媒体 |
-
1997
- 1997-05-28 JP JP9138924A patent/JPH10334503A/ja not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-05-27 US US09/084,369 patent/US6208611B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-05-27 DE DE69830214T patent/DE69830214T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-05-27 KR KR1019980019193A patent/KR100552024B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-05-27 EP EP98109638A patent/EP0881630B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0881630B1 (en) | 2005-05-18 |
| EP0881630A2 (en) | 1998-12-02 |
| KR100552024B1 (ko) | 2006-04-21 |
| DE69830214D1 (de) | 2005-06-23 |
| US6208611B1 (en) | 2001-03-27 |
| EP0881630A3 (en) | 2001-02-07 |
| KR19980087405A (ko) | 1998-12-05 |
| DE69830214T2 (de) | 2006-02-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040803 |