JPH02244440A - 光ディスク原盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光ディスク原盤の製造方法に関し、詳しくはこ
の光ディスク原盤にグルーブを形成するために、光ビー
ムを用いて、原盤上に塗布されたフォトレジストを露光
する方法に関するものである。

（従来の技術） 光ディスク、特に追記型や書換型光ディスクには、情報
記録再生時にピックアップを案内するためのガイドトラ
ックの役割をするグルーブ（案内溝）が形成されている
ものが多い。一般にグルーブには、幅狭グルーブと言わ
れる約０．４μｍ幅のものと、幅広グルーブと言われる
約１．２μｍ幅のものがある。このようなグルーブは、
フォトレジストを塗布した原盤上にフォーカシングされ
たレーザビームを照射し、フォトレジストの所定位置を
露光するというカッティング操作を経て形成される。と
ころが、上記フォーカシングされたレーザビームは上記
フォトレジスト上で小径のビームスポットとなるので上
記幅広グルーブ形成用の露光ビームとしてそのまま用い
ることは難しい。このような幅広グルーブを形成するた
めの露光方法としては、光ディスク原盤のフォトレジス
ト層上に２本のレーザビームを照射し、これにより形成
された２個の光スポットを互いに重複領域を持つような
関係で照射させる方法が考えられる（例えば、特願昭６
３−１０５００号明細書に記載されている）。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、このような方法は、グルーブ幅寸法の精
度が２個の光スポットの位置間隔の精度、即ち露光装置
の光学治具の機械精度に依存するため、高精度にグルー
ブ幅をコントロールすることができないという問題があ
る。

本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、光ディ
スクの幅広グルーブの幅を高精度にコントロールするこ
とが可能な光ディスク原盤の製造方法を提供することを
目的とするものである。

（課題を解決するための手段） 本発明の光ディスク原盤の製造方法は、光ディスク原盤
をカッティングするための露光用光ビームの集光位置を
調整して、この光ビームがビームウェスト位置（集光位
置）以外の位置で原盤上のフォトレジストを露光するよ
うに設定することを特徴とするものである。

（作　　用） 原盤カッティング工程においては、高密度記録達成等の
要請から露光用光ビームのビーム径をできるだけ絞ろう
とする方向に力が注がれており、この絞られたビームに
よって幅広グルーブの露光も行なおうとしていたため１
本の光ビームによる１回の露光操作によっては所望の幅
の幅広グルーブを形成することが困難であった。そこで
、上記構成においては発想を転換し、幅広グルーブの露
光を行なうときは光ビームの集光ビームウェスト位置以
外の位置でこの光ビームが原盤上のフォトレジスト層上
に照射されるようにし、フォトレジスト層上のスポット
径をより大径とすることにより１回の露光操作で所望の
幅広グルーブを形成できるようにしている。これにより
、複数本の光ビームを用いて露光せずとも十分幅の広い
幅広グルーブに対応した露光操作を行なうことができる
ので、この露光操作中におけるグルーブ幅のコントロー
ルが容易となる。

（実　施　例） 以下、本発明の一実施例について図面を用いて説明する
。

一般に、光ディスクの製造工程はディスクの複製に必要
なスタンパを形成するまでのマスタリング工程と、その
後レプリカディスクを形成するまでのレブリケーション
工程に大きく分けられる（第２図参照）。マスタリング
工程は、ガラス原板の加工・研磨から始まり（Ｓｌ）、
次いでフォトレジストの塗布（Ｓ２）、レーザビームに
よる露光（カッティング）が行なわれる（Ｓ３）。その
後現像が行なわれ（Ｓ４）　、ニッケル薄膜により表面
が導体化され、ニッケル電鋳されて（Ｓ５）複製転写を
行なうのに必要なスタンパが作製される。この後、この
スタンパを用いてディスクを複製するのがレブリケーシ
ョン工程である。

ここで、本発明に係わるガラス原盤露光装置（カッティ
ング装置）の構造について説明する。

第３図に示すように、光源１３から発射されたレーザビ
ーム１４は、ＥＯ変調器１５によって光量が制御され、
反射ミラー１６で反射され、ビームエクスパンダ１７に
入射せしめられて、適切な実効ＮＡ値となるようにビー
ム径が拡大される。この後、上記レーザビーム１４は、
集光レンズ１８に入射せしめられ、フォーカス制御装置
１９によりフォーカス制御されて、回転駆動されている
レジスト原盤１１のフォトレジスト層１２の表面上に照
射される。これによりこのフォトレジスト層１２の所定
位置が露光される。

ところで、通常上記レーザビーム１４による上記フォト
レジスト層１２の露光は集光レーザビームの最も絞り込
まれたところ（ビームウェスト位置）で行なわれる。し
かしながら、トラッキング用のグルーブとして幅広のも
の（例えば約１．２μｍ幅のもの）を形成する場合は、
上記レーザビーム１４によるビームウェスト位置での露
光によっては所望のグルーブ幅を得ることができない。

そこで本発明に係る方法においては、第１図（Ａ）に示
すように、幅広グルーブ用の露光を行なう場合にはビー
ムウェスト位置２０以外の位置（ビームウェスト位置２
０から光軸方向にずれた位置）で上記フォトレジスト層
１２をビーム照射するようにし、大径のビームスポット
により広範囲を露光するようにしている。光軸上の上記
ビームウェスト位置２αからずれる方向は上記集光レン
ズＩ８に近づける方向、遠ざける方向のいずれでもよい
が、遠ざける方向にずらした方がより反射率の良好な断
面形状を有するグルーブを得ることができる。

上記レーザビーム１４の光強度分布は第１図（Ｂ）に示
すように、裾の部分がなだらかな曲線形状となっており
、このためグルーブ２１の縁部では露光量が緩やかに変
化することとなる。これにより、現像後のグルーブ２１
の断面形状は第１図（Ｃ）に示すように、上記グルーブ
２１の縁部の肩部分２２がなだらかな曲線を描くように
形成される。このように上記グルーブ２１の縁部の肩部
分２２がなだらかな曲線形状をなしているため、本実施
例方法により形成された光ディスクのグルーブ反射率は
従来品に比して高くなりトラッキングのサーボ特性を向
上させることが可能となる。

また、上記実施例方法においては、現像時にこの光ディ
スクに平行光を照射し、上記グルーブ２１からの回折光
をモニタリングすることによって、形成されるグルーブ
２１の幅をコントロールしているため所望の幅の上記グ
ルーブ２１をさらに高精度に形成することが可能となる
。なお、上記回折光は反射および透過のいずれであって
もよい。

なお、上述したフォトレジスト層１２を塗布される原盤
１１の材質はガラスに限られずフォトレジストの塗りの
良い種々の材質のものが用いられる。

なお、本発明の方法は、追記型ディスクや書換型ディス
ク等の書込可能型ディスクを製造する場合のみならず、
例えば幅広グルーブを有する再生専用型光ディスクを製
造する場合にも適用することが可能である。

（発明の効果） 以上説明したように本発明の光ディスク原盤の製造方法
によれば、幅広グルーブを形成するための露光操作にお
いて、光ビームの集光位置を調整して集光ビームウェス
ト位置以外の位置で原盤上のフォトレジスト層をビーム
照射し、このフォトレジスト層上に形成されるビームス
ポットを大径としているので、１本の光ビームによる１
回の露光操作によって幅広グルーブの露光を行なうこと
ができる。これにより、複数個のビームスポットを用い
るというような精度が得にくい露光操作に頼る必要がな
いので、グルーブの幅を所望の値に高精度にコントロー
ルすることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）　、　（Ｂ）　、　（Ｃ）は本発明の実施
例方法に係る光ディスク原盤の製造方法を説明するため
の概略図、第２図は光ディスクを製造するための各製造
工程を説明するためのフローチャート、第３図は本発明
の実施例方法を実施するための装置を示すブロック図で
ある。 １１・・・レジスト原盤　　１２・・・フォトレジスト
層１３・・・光源　　　　　　１４・・・レーザビーム
１８・・・集光レンズ　　　１９・・・フォーカス制御
部２０・・・集光ビームウェスト位置 ２１・・・グルーブ （Ｃ） 第 図 、／１１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基板上にフォトレジストの層を形成されてなる原盤を回
   転させながら該フォトレジストの層上に光ビームを照射
   してこの層上の所定位置を露光し、この後前記フォトレ
   ジストの現像を行なってグルーブを形成する光ディスク
   原盤の製造方法において、 前記光ビームが集光ビームウェスト位置以外の位置で前
   記フォトレジストを露光するように設定することを特徴
   とする光ディスク原盤の製造方法。