JPH10259207A - オレフィン重合体の製造方法 - Google Patents
オレフィン重合体の製造方法Info
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- JPH10259207A JPH10259207A JP9067966A JP6796697A JPH10259207A JP H10259207 A JPH10259207 A JP H10259207A JP 9067966 A JP9067966 A JP 9067966A JP 6796697 A JP6796697 A JP 6796697A JP H10259207 A JPH10259207 A JP H10259207A
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F10/00—Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
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- C08F4/42—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors
- C08F4/44—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides
- C08F4/60—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides together with refractory metals, iron group metals, platinum group metals, manganese, rhenium technetium or compounds thereof
- C08F4/62—Refractory metals or compounds thereof
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- C08F4/62—Refractory metals or compounds thereof
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Abstract
(57)【要約】
【課題】簡単な操作で、触媒の重合活性を向上させ、高
活性を得ることができるオレフィン重合体の製造方法を
提供することを目的とする。 【解決手段】インデニル基又は置換インデニル基がそれ
ぞれ二架橋したものを配位子とするメタロセン系触媒に
おいて、重合系に少量の水素を添加することを特徴とす
るオレフィン重合体の製造方法を提供する。少量の水素
添加としては、重合系のオレフィン中の水素濃度が０．
０１〜１０モル％の範囲であるか、メタロセン系触媒の
遷移金属１モルに対して１０〜２００００モルの範囲で
水素を添加するものである。
活性を得ることができるオレフィン重合体の製造方法を
提供することを目的とする。 【解決手段】インデニル基又は置換インデニル基がそれ
ぞれ二架橋したものを配位子とするメタロセン系触媒に
おいて、重合系に少量の水素を添加することを特徴とす
るオレフィン重合体の製造方法を提供する。少量の水素
添加としては、重合系のオレフィン中の水素濃度が０．
０１〜１０モル％の範囲であるか、メタロセン系触媒の
遷移金属１モルに対して１０〜２００００モルの範囲で
水素を添加するものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はオレフィン系重合体
の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、重合
系に少量の水素添加することを特徴とするオレフィン系
重合体の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、重合
系に少量の水素添加することを特徴とするオレフィン系
重合体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】オレフィン系重合体の製造方法におい
て、触媒の重合活性を向上させることは製造コストの低
減に繋がり、従来より種々の検討がなされてきた。その
中で、H.H.Brintzinger (J.Polym.Sci.:PartA Polym. C
hem.,Vol.33,1305-1317(1995))やS.Kojoh et.(Polymer,
Vol.36,No.26,5015-5018(1995)) には、水素濃度を２０
〜３モル％程度とすることにより活性が向上することが
示されているが、その効果は添加しない場合に比べて高
々１．７倍程度である。
て、触媒の重合活性を向上させることは製造コストの低
減に繋がり、従来より種々の検討がなされてきた。その
中で、H.H.Brintzinger (J.Polym.Sci.:PartA Polym. C
hem.,Vol.33,1305-1317(1995))やS.Kojoh et.(Polymer,
Vol.36,No.26,5015-5018(1995)) には、水素濃度を２０
〜３モル％程度とすることにより活性が向上することが
示されているが、その効果は添加しない場合に比べて高
々１．７倍程度である。
【０００３】また、オレフィン系重合体の製造方法にお
いては、分子量調整のため、重合系に連鎖移動剤として
水素を添加する方法がとられている。これは、Ｍｇ−Ｔ
ｉ複合型固体触媒に代表される触媒を用いて工業化され
ているオレフィン系重合体の製造方法において、また最
近注目されているメタロセン型触媒を用いたオレフィン
系重合体の製造方法においても行われている。
いては、分子量調整のため、重合系に連鎖移動剤として
水素を添加する方法がとられている。これは、Ｍｇ−Ｔ
ｉ複合型固体触媒に代表される触媒を用いて工業化され
ているオレフィン系重合体の製造方法において、また最
近注目されているメタロセン型触媒を用いたオレフィン
系重合体の製造方法においても行われている。
【０００４】例えば、特開平６−１８４１７９号公報に
は、水素を分子量を調整するため及び／又は活性を向上
させるために添加するとあり、その実施例には、置換イ
ンデニル基がそれぞれ１位で架橋した一重架橋型の配位
子を有するメタロセン系触媒によるプロピレンの重合に
おいて、水素添加により活性が向上することが示されて
いるが、その効果は添加しない場合に比べて高々２倍程
度である。
は、水素を分子量を調整するため及び／又は活性を向上
させるために添加するとあり、その実施例には、置換イ
ンデニル基がそれぞれ１位で架橋した一重架橋型の配位
子を有するメタロセン系触媒によるプロピレンの重合に
おいて、水素添加により活性が向上することが示されて
いるが、その効果は添加しない場合に比べて高々２倍程
度である。
【０００５】また、国際公開ＷＯ９６／３０３８０に
は、水素添加量の増加に従い活性が向上することが記載
されている。以上の水素添加は、オレフィンに対してか
なりの量の水素を添加するものであり、その重合活性の
向上効果は小さく、重合活性の絶対値もそれほど大きい
ものではない。
は、水素添加量の増加に従い活性が向上することが記載
されている。以上の水素添加は、オレフィンに対してか
なりの量の水素を添加するものであり、その重合活性の
向上効果は小さく、重合活性の絶対値もそれほど大きい
ものではない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、簡単な操作で、触媒の重合活性を向上させ、
高活性を得ることができるオレフィン重合体の製造方法
を提供することを目的とするものである。
状況下で、簡単な操作で、触媒の重合活性を向上させ、
高活性を得ることができるオレフィン重合体の製造方法
を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記目的を
達成するために鋭意研究を重ねた結果、インデニル基又
は置換インデニル基がそれぞれ二架橋したものを配位子
とするメタロセン系触媒において、従来よりも少ない水
素添加量の領域で、触媒の重合活性を数倍以上に向上さ
せることができ、極めて高い重合活性が得られることを
見出し、本発明を完成させた。
達成するために鋭意研究を重ねた結果、インデニル基又
は置換インデニル基がそれぞれ二架橋したものを配位子
とするメタロセン系触媒において、従来よりも少ない水
素添加量の領域で、触媒の重合活性を数倍以上に向上さ
せることができ、極めて高い重合活性が得られることを
見出し、本発明を完成させた。
【０００８】すなわち、本発明は、（Ａ）一般式（Ｉ）
【０００９】
【化３】
【００１０】（式中、Ｍ1 は周期律表第４族の金属元素
を示し、Ｅ1 及びＥ2 はそれぞれ、インデニル基又は置
換インデニル基の配位子を示し、Ａ1 及びＡ2 を介して
架橋構造を形成している。Ｅ1 及びＥ2 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｘ1 はσ結合性の配位子を示
し、Ｘ1 が複数ある場合は、複数のＸ1 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｙ1 はルイス塩基を示す。Ａ1
及びＡ2 はそれぞれ架橋基を示し、それらは互いに同じ
でも異なっていてもよいが、そのうちの少なくとも１つ
は炭化水素基である。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは
０又は１の整数を示す。）で表される構造を有する二重
架橋型の遷移金属化合物及び（Ｂ）該（Ａ）の遷移金属
化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物を含有するメタロセン系触媒を用いたオレ
フィンの重合において、重合系内のオレフィン中の水素
濃度を０．０１〜１０モル％とすることを特徴とするオ
レフィン重合体の製造方法を提供するものである。好ま
しい態様としては、一般式（Ｉ）のＥ1 及びＥ2 が置換
インデニル基であるものであり、また、一般式（Ｉ）の
Ａ1 及びＡ2 が炭化水素基であるものである。
を示し、Ｅ1 及びＥ2 はそれぞれ、インデニル基又は置
換インデニル基の配位子を示し、Ａ1 及びＡ2 を介して
架橋構造を形成している。Ｅ1 及びＥ2 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｘ1 はσ結合性の配位子を示
し、Ｘ1 が複数ある場合は、複数のＸ1 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｙ1 はルイス塩基を示す。Ａ1
及びＡ2 はそれぞれ架橋基を示し、それらは互いに同じ
でも異なっていてもよいが、そのうちの少なくとも１つ
は炭化水素基である。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは
０又は１の整数を示す。）で表される構造を有する二重
架橋型の遷移金属化合物及び（Ｂ）該（Ａ）の遷移金属
化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物を含有するメタロセン系触媒を用いたオレ
フィンの重合において、重合系内のオレフィン中の水素
濃度を０．０１〜１０モル％とすることを特徴とするオ
レフィン重合体の製造方法を提供するものである。好ま
しい態様としては、一般式（Ｉ）のＥ1 及びＥ2 が置換
インデニル基であるものであり、また、一般式（Ｉ）の
Ａ1 及びＡ2 が炭化水素基であるものである。
【００１１】また、本発明は、（Ａ）一般式（Ｉ）
【００１２】
【化４】
【００１３】（式中、Ｍ1 は周期律表第４族の金属元素
を示し、Ｅ1 及びＥ2 はそれぞれ、インデニル基又は置
換インデニル基の配位子を示し、Ａ1 及びＡ2 を介して
架橋構造を形成している。Ｅ1 及びＥ2 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｘ1 はσ結合性の配位子を示
し、Ｘ1 が複数ある場合は、複数のＸ1 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｙ1 はルイス塩基を示す。Ａ1
及びＡ2 はそれぞれ架橋基を示し、それらは互いに同じ
でも異なっていてもよいが、そのうちの少なくとも１つ
は炭化水素基である。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは
０又は１の整数を示す。）で表される構造を有する二重
架橋型の遷移金属化合物及び（Ｂ）該（Ａ）の遷移金属
化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物を含有するメタロセン系触媒を用いたオレ
フィンの重合において、重合系に遷移金属化合物の遷移
金属１モルに対して１０〜２００００モルの水素を添加
することを特徴とするオレフィン重合体の製造方法を提
供するものである。好ましい態様としては、一般式
（Ｉ）のＥ1 及びＥ2 が置換インデニル基であるもので
あり、また、一般式（Ｉ）のＡ1 及びＡ2 が炭化水素基
であるものである。
を示し、Ｅ1 及びＥ2 はそれぞれ、インデニル基又は置
換インデニル基の配位子を示し、Ａ1 及びＡ2 を介して
架橋構造を形成している。Ｅ1 及びＥ2 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｘ1 はσ結合性の配位子を示
し、Ｘ1 が複数ある場合は、複数のＸ1 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｙ1 はルイス塩基を示す。Ａ1
及びＡ2 はそれぞれ架橋基を示し、それらは互いに同じ
でも異なっていてもよいが、そのうちの少なくとも１つ
は炭化水素基である。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは
０又は１の整数を示す。）で表される構造を有する二重
架橋型の遷移金属化合物及び（Ｂ）該（Ａ）の遷移金属
化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物を含有するメタロセン系触媒を用いたオレ
フィンの重合において、重合系に遷移金属化合物の遷移
金属１モルに対して１０〜２００００モルの水素を添加
することを特徴とするオレフィン重合体の製造方法を提
供するものである。好ましい態様としては、一般式
（Ｉ）のＥ1 及びＥ2 が置換インデニル基であるもので
あり、また、一般式（Ｉ）のＡ1 及びＡ2 が炭化水素基
であるものである。
【００１４】
【発明の実施形態】本発明のオレフィン重合体の製造方
法は、（Ａ）一般式（Ｉ）
法は、（Ａ）一般式（Ｉ）
【００１５】
【化５】
【００１６】（式中、Ｍ1 は周期律表第４族の金属元素
を示し、Ｅ1 及びＥ2 はそれぞれ、インデニル基又は置
換インデニル基の配位子を示し、Ａ1 及びＡ2 を介して
架橋構造を形成している。Ｅ1 及びＥ2 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｘ1 はσ結合性の配位子を示
し、Ｘ1 が複数ある場合は、複数のＸ1 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｙ1 はルイス塩基を示す。Ａ1
及びＡ2 はそれぞれ架橋基を示し、それらは互いに同じ
でも異なっていてもよいが、そのうちの少なくとも１つ
は炭化水素基である。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは
０又は１の整数を示す。）で表される構造を有する二重
架橋型の遷移金属化合物及び（Ｂ）該（Ａ）の遷移金属
化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物を含有する触媒を用いたオレフィンの重合
において、重合系に少量の水素を添加することを特徴と
するものである。
を示し、Ｅ1 及びＥ2 はそれぞれ、インデニル基又は置
換インデニル基の配位子を示し、Ａ1 及びＡ2 を介して
架橋構造を形成している。Ｅ1 及びＥ2 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｘ1 はσ結合性の配位子を示
し、Ｘ1 が複数ある場合は、複数のＸ1 は互いに同じで
も異なっていてもよい。Ｙ1 はルイス塩基を示す。Ａ1
及びＡ2 はそれぞれ架橋基を示し、それらは互いに同じ
でも異なっていてもよいが、そのうちの少なくとも１つ
は炭化水素基である。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは
０又は１の整数を示す。）で表される構造を有する二重
架橋型の遷移金属化合物及び（Ｂ）該（Ａ）の遷移金属
化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物を含有する触媒を用いたオレフィンの重合
において、重合系に少量の水素を添加することを特徴と
するものである。
【００１７】上記の触媒系における重合系への少量の水
素添加により、触媒活性を数倍以上と大幅に向上させる
ことが可能となる。さらに、好適な触媒の組合せ及び条
件を選択すると、活性向上が１５倍以上となり、１０ｔ
ｏｎ−ポリプロピレン／ｇ−Ｚｒ・ｈｒ以上の極めて高
活性が達成される従来にないオレフィン重合体の製造方
法である。
素添加により、触媒活性を数倍以上と大幅に向上させる
ことが可能となる。さらに、好適な触媒の組合せ及び条
件を選択すると、活性向上が１５倍以上となり、１０ｔ
ｏｎ−ポリプロピレン／ｇ−Ｚｒ・ｈｒ以上の極めて高
活性が達成される従来にないオレフィン重合体の製造方
法である。
【００１８】この少量の水素の添加量としては、重合系
内のオレフィン中の水素濃度を０．０１〜１０モル％の
範囲とするか、又は、遷移金属化合物中の遷移金属１モ
ルに対して、１０〜２００００モルの範囲とするもので
ある。重合系内のオレフィン中の水素濃度として、好ま
しくは、０．０１〜５モル％、より好ましくは、０．０
１〜１モル％の範囲とする。１０モル％を越えると、得
られる重合体の分子量が大きく低下する。また、０．０
１モル％未満では、所望の活性向上効果が現れない。
内のオレフィン中の水素濃度を０．０１〜１０モル％の
範囲とするか、又は、遷移金属化合物中の遷移金属１モ
ルに対して、１０〜２００００モルの範囲とするもので
ある。重合系内のオレフィン中の水素濃度として、好ま
しくは、０．０１〜５モル％、より好ましくは、０．０
１〜１モル％の範囲とする。１０モル％を越えると、得
られる重合体の分子量が大きく低下する。また、０．０
１モル％未満では、所望の活性向上効果が現れない。
【００１９】又は、遷移金属化合物中の遷移金属１モル
に対する水素の添加量として、好ましくは、１０〜５０
００モル、より好ましくは、１０〜２５００モルの範囲
とする。２００００モルを越えると、得られる重合体の
分子量が大きく低下する。また、１０モル未満では、所
望の活性向上効果が現れない。水素濃度の最適値は用い
る個々の触媒等により若干異なるが、いずれにしても重
合系内のオレフィン中の水素濃度を０．０１〜１０モル
％の範囲、又は、遷移金属化合物中の遷移金属１モルに
対して、１０〜２００００モルの範囲の内において選ば
れる濃度に設定すればよい。
に対する水素の添加量として、好ましくは、１０〜５０
００モル、より好ましくは、１０〜２５００モルの範囲
とする。２００００モルを越えると、得られる重合体の
分子量が大きく低下する。また、１０モル未満では、所
望の活性向上効果が現れない。水素濃度の最適値は用い
る個々の触媒等により若干異なるが、いずれにしても重
合系内のオレフィン中の水素濃度を０．０１〜１０モル
％の範囲、又は、遷移金属化合物中の遷移金属１モルに
対して、１０〜２００００モルの範囲の内において選ば
れる濃度に設定すればよい。
【００２０】この少量の水素の添加は、オレフィンに混
合してもよいし、溶液重合等では溶媒に溶解させておく
とか、溶媒中に吹き込む方法をとってもよい。本発明に
用いられる遷移金属化合物は、（Ａ）一般式（Ｉ）
合してもよいし、溶液重合等では溶媒に溶解させておく
とか、溶媒中に吹き込む方法をとってもよい。本発明に
用いられる遷移金属化合物は、（Ａ）一般式（Ｉ）
【００２１】
【化６】
【００２２】で表される構造を有する二重架橋型の遷移
金属化合物である。上記の一般式（Ｉ）において、Ｍ1
は周期律表第４族の金属元素を示し、具体例としてはチ
タニウム、ジルコニウム、ハフニウム等が挙げられる
が、これらの中ではオレフィン重合活性等の点からジル
コニウムが好適である。Ｅ1 及びＥ2 はそれぞれ、イン
デニル基又は置換インデニル基の配位子を示し、Ａ1 及
びＡ2 を介して架橋構造を形成している。Ｅ1 及びＥ2
は互いに同じでも異なっていてもよい。このＥ1 及びＥ
2 としては、置換インデニル基が好ましく、置換基とし
て、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基等が挙げられる。また、置換基は互いに結
合して環構造を形成してもよい。
金属化合物である。上記の一般式（Ｉ）において、Ｍ1
は周期律表第４族の金属元素を示し、具体例としてはチ
タニウム、ジルコニウム、ハフニウム等が挙げられる
が、これらの中ではオレフィン重合活性等の点からジル
コニウムが好適である。Ｅ1 及びＥ2 はそれぞれ、イン
デニル基又は置換インデニル基の配位子を示し、Ａ1 及
びＡ2 を介して架橋構造を形成している。Ｅ1 及びＥ2
は互いに同じでも異なっていてもよい。このＥ1 及びＥ
2 としては、置換インデニル基が好ましく、置換基とし
て、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基等が挙げられる。また、置換基は互いに結
合して環構造を形成してもよい。
【００２３】Ｘ1 はσ結合性の配位子を示し、具体例と
して、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭
素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリー
ルオキシ基、炭素数１〜２０のアミド基、炭素数１〜２
０の珪素含有基、炭素数１〜２０のホスフィド基、炭素
数１〜２０のスルフィド基、炭素数１〜２０のアシル基
等が挙げられる。これらの中では、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等のハロゲン原子が好ましく、特に塩素
原子が好適である。このＸ1 が複数ある場合は、複数の
Ｘ1 は互いに同じでも異なっていてもよい。
して、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭
素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリー
ルオキシ基、炭素数１〜２０のアミド基、炭素数１〜２
０の珪素含有基、炭素数１〜２０のホスフィド基、炭素
数１〜２０のスルフィド基、炭素数１〜２０のアシル基
等が挙げられる。これらの中では、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等のハロゲン原子が好ましく、特に塩素
原子が好適である。このＸ1 が複数ある場合は、複数の
Ｘ1 は互いに同じでも異なっていてもよい。
【００２４】Ｙ1 はルイス塩基を示し、具体例として、
アミン類、エーテル類、ホスフィン類、チオエーテル類
等が挙げられる。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは０又
は１の整数を示す。次に、Ａ1 及びＡ2 はそれぞれ架橋
基を示し、それらは互いに同じでも異なっていてもよい
が、そのうちの少なくとも１つは炭化水素基である。こ
の架橋は、配位子のインデニル基又は置換インデニル基
の１位又は２位でそれらが互いに架橋するものが好まし
い。
アミン類、エーテル類、ホスフィン類、チオエーテル類
等が挙げられる。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは０又
は１の整数を示す。次に、Ａ1 及びＡ2 はそれぞれ架橋
基を示し、それらは互いに同じでも異なっていてもよい
が、そのうちの少なくとも１つは炭化水素基である。こ
の架橋は、配位子のインデニル基又は置換インデニル基
の１位又は２位でそれらが互いに架橋するものが好まし
い。
【００２５】このような架橋基としては、例えば一般式
【００２６】
【化７】
【００２７】（Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ水素原子又は炭
素数１〜２０の炭化水素基で、それらは互いに同じでも
異なっていてもよく、また互いに結合して環構造を形成
していてもよい。ｅは１〜４の整数を示す。）で表され
る炭化水素基が挙げられ、その具体例としては、メチレ
ン基、エチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イ
ソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、１、２−シ
クロヘキシレン基、ビニリデン基（ＣＨ2 ＝Ｃ＝）等を
挙げることができる。また、Ａ1 又はＡ2 のその他の架
橋基としては、Ｒ3 2Ｓｉ、Ｒ3 2Ｇｅ、Ｒ3 2Ｓｎ（Ｒ3 は
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素
基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基であり、
Ｒ3 が２つある時は互いに同じでも異なっていてもよ
い。）等を挙げることができる。これらの中で、メチレ
ン基、エチレン基、イソプロピリデン基、及びＲ3 2Ｓｉ
が好ましく、特にエチレン基が好適である。
素数１〜２０の炭化水素基で、それらは互いに同じでも
異なっていてもよく、また互いに結合して環構造を形成
していてもよい。ｅは１〜４の整数を示す。）で表され
る炭化水素基が挙げられ、その具体例としては、メチレ
ン基、エチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イ
ソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、１、２−シ
クロヘキシレン基、ビニリデン基（ＣＨ2 ＝Ｃ＝）等を
挙げることができる。また、Ａ1 又はＡ2 のその他の架
橋基としては、Ｒ3 2Ｓｉ、Ｒ3 2Ｇｅ、Ｒ3 2Ｓｎ（Ｒ3 は
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素
基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基であり、
Ｒ3 が２つある時は互いに同じでも異なっていてもよ
い。）等を挙げることができる。これらの中で、メチレ
ン基、エチレン基、イソプロピリデン基、及びＲ3 2Ｓｉ
が好ましく、特にエチレン基が好適である。
【００２８】この一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合
物において、Ａ1 及びＡ2 の架橋基の結合は、（１，
１’）（２，２’）に二重架橋型があってもよく、
（１，２’）（２，１’）二重架橋型であってもよい。
本発明の一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物の具体
例としては、（１，１’−エチレン）（２，２’−エチ
レン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス
（インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−
メチレン）（２，２’−メチレン）−ビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−メチレン）
（２，１’−メチレン）−ビス（インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、（１，１’−イソプロピリデン）
（２，２’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、（１，２’−イソプロピリデ
ン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）
（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、（１，１’−イソプロピリデ
ン）（２，２’−エチレン）−ビス（インデニル）ジル
コニウムジクロリド、（１，２’−メチレン）（２，
１’−エチレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジ
クロリド、（１，１’−メチレン）（２，２’−エチレ
ン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１，１’−エチレン）（２，２’−メチレン）−ビス
（インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−
メチレン）（２，２’−イソプロピリデン）−ビス（イ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−メチ
レン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−イソプロ
ピリデン）（２，２’−メチレン）−ビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−エチレン）−ビス（３−メチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）
（２，１’−エチレン）−ビス（３−メチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−エチレン）−ビス（４，７−ジメチルイン
デニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレ
ン）（２，１’−エチレン）−ビス（４，７−ジメチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エ
チレン）（２，２’−エチレン）−ビス（４，５−ベン
ゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−
エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（４，５−ベ
ンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’
−エチレン）（２，２’−エチレン）−ビス（６−ｔ−
ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，
２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（６−
ｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１，１’−エチレン）（２，２’−エチレン）−ビス
（５−ｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−
ビス（５−ｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロ
リド、（１，１’−エチレン）（２，２’−エチレン）
−ビス（４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレ
ン）−ビス（４−イソプロピルインデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、（１，１’−エチレン）（２，２’−エ
チレン）−ビス（５，６−ジメチルインデニル）ジルコ
ニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’
−エチレン）−ビス（５，６−ジメチルインデニル）ジ
ルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）（２，
２’−エチレン）−ビス（４，７−ジイソプロピルイン
デニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレ
ン）（２，１’−エチレン）−ビス（４，７−ジイソプ
ロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，
１’−エチレン）（２，２’−エチレン）−ビス（４−
フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，
２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（４−
フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，
１’−エチレン）（２，２’−エチレン）−ビス（３−
メチル−４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレ
ン）−ビス（３−メチル−４−イソプロピルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−エチレン）−ビス（５，６−ベンゾインデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレ
ン）（２，１’−エチレン）−ビス（５，６−ベンゾイ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド等及びこれらの化合
物におけるジルコニウムをチタン又はハフニウムに置換
したもの等を挙げることができる。また、（１，１’−
エチレン）（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス（イ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチ
レン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−メチレ
ン）（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−メチレン）
（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス（３−メチルイ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチ
レン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−メ
チルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’
−エチレン）（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス
（４，７−ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、（１，２’−エチレン）（２，１’−ジメチルシリ
レン）−ビス（４，７−ジメチルインデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、（１，１’−エチレン）（２，２’−
ジメチルシリレン）−ビス（４，５−ベンゾインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）
（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（４，５−ベン
ゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−
エチレン）（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス
（５，６−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、（１，２’−エチレン）（２，１’−ジメチルシリ
レン）−ビス（５，６−ベンゾインデニル）ジルコニウ
ムジクロリド等及びこれらの化合物におけるジルコニウ
ムをチタン又はハフニウムに置換したもの等を挙げるこ
とができる。
物において、Ａ1 及びＡ2 の架橋基の結合は、（１，
１’）（２，２’）に二重架橋型があってもよく、
（１，２’）（２，１’）二重架橋型であってもよい。
本発明の一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物の具体
例としては、（１，１’−エチレン）（２，２’−エチ
レン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス
（インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−
メチレン）（２，２’−メチレン）−ビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−メチレン）
（２，１’−メチレン）−ビス（インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、（１，１’−イソプロピリデン）
（２，２’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、（１，２’−イソプロピリデ
ン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）
（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、（１，１’−イソプロピリデ
ン）（２，２’−エチレン）−ビス（インデニル）ジル
コニウムジクロリド、（１，２’−メチレン）（２，
１’−エチレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジ
クロリド、（１，１’−メチレン）（２，２’−エチレ
ン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１，１’−エチレン）（２，２’−メチレン）−ビス
（インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−
メチレン）（２，２’−イソプロピリデン）−ビス（イ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−メチ
レン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−イソプロ
ピリデン）（２，２’−メチレン）−ビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−エチレン）−ビス（３−メチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）
（２，１’−エチレン）−ビス（３−メチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−エチレン）−ビス（４，７−ジメチルイン
デニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレ
ン）（２，１’−エチレン）−ビス（４，７−ジメチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エ
チレン）（２，２’−エチレン）−ビス（４，５−ベン
ゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−
エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（４，５−ベ
ンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’
−エチレン）（２，２’−エチレン）−ビス（６−ｔ−
ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，
２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（６−
ｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
（１，１’−エチレン）（２，２’−エチレン）−ビス
（５−ｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−
ビス（５−ｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロ
リド、（１，１’−エチレン）（２，２’−エチレン）
−ビス（４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレ
ン）−ビス（４−イソプロピルインデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、（１，１’−エチレン）（２，２’−エ
チレン）−ビス（５，６−ジメチルインデニル）ジルコ
ニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’
−エチレン）−ビス（５，６−ジメチルインデニル）ジ
ルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）（２，
２’−エチレン）−ビス（４，７−ジイソプロピルイン
デニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレ
ン）（２，１’−エチレン）−ビス（４，７−ジイソプ
ロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，
１’−エチレン）（２，２’−エチレン）−ビス（４−
フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，
２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（４−
フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，
１’−エチレン）（２，２’−エチレン）−ビス（３−
メチル−４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレ
ン）−ビス（３−メチル−４−イソプロピルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−エチレン）−ビス（５，６−ベンゾインデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレ
ン）（２，１’−エチレン）−ビス（５，６−ベンゾイ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド等及びこれらの化合
物におけるジルコニウムをチタン又はハフニウムに置換
したもの等を挙げることができる。また、（１，１’−
エチレン）（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス（イ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチ
レン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−メチレ
ン）（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−メチレン）
（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、（１，１’−エチレン）
（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス（３−メチルイ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチ
レン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−メ
チルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’
−エチレン）（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス
（４，７−ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、（１，２’−エチレン）（２，１’−ジメチルシリ
レン）−ビス（４，７−ジメチルインデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、（１，１’−エチレン）（２，２’−
ジメチルシリレン）−ビス（４，５−ベンゾインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）
（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（４，５−ベン
ゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−
エチレン）（２，２’−ジメチルシリレン）−ビス
（５，６−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、（１，２’−エチレン）（２，１’−ジメチルシリ
レン）−ビス（５，６−ベンゾインデニル）ジルコニウ
ムジクロリド等及びこれらの化合物におけるジルコニウ
ムをチタン又はハフニウムに置換したもの等を挙げるこ
とができる。
【００２９】これらの中では、Ｅ1 又はＥ2 が置換イン
デニル基であるものが好ましく、さらに（１，２’−エ
チレン）（２，１’−エチレン）の二架橋との組合せが
好ましい。また、この（Ａ）成分の遷移金属化合物は一
種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
デニル基であるものが好ましく、さらに（１，２’−エ
チレン）（２，１’−エチレン）の二架橋との組合せが
好ましい。また、この（Ａ）成分の遷移金属化合物は一
種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
【００３０】本発明に用いられる（Ｂ）該（Ａ）の遷移
金属化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を
形成しうる化合物としては、（Ｂ−１）（Ａ）の遷移金
属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性
化合物、（Ｂ−２）アルミノキサン、（Ｂ−３）ルイス
酸を挙げることができる。（Ｂ−１）成分としては、上
記（Ａ）の遷移金属化合物と反応して、イオン性の錯体
を形成するイオン性化合物であれば、いずれのものでも
使用できるが、次の一般式（II）、(III) （〔Ｌ1 −Ｒ4 〕k+）a （〔Ｚ〕- ）b ・・・ (II) （〔Ｌ2 〕k+）a （〔Ｚ〕- ）b ・・・ (III) 〔ただし、Ｌ2 はＭ3 、Ｒ5 Ｒ6 Ｍ4 、Ｒ7 3Ｃ又はＲ8
Ｍ4 である。〕 〔（II) 、（III)式中、Ｌ1 はルイス塩基、〔Ｚ〕
- は、非配位性アニオン〔Ｚ 1 〕- 又は〔Ｚ2 〕- 、こ
こで〔Ｚ1 〕- は複数の基が元素に結合したアニオンす
なわち〔Ｍ2 Ｇ1 Ｇ2 ・・・Ｇf 〕- （ここで、Ｍ2 は
周期律表第５〜１５族元素、好ましくは周期律表第１３
〜１５族元素を示す。Ｇ1 〜Ｇf はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２
〜４０のジアルキルアミノ基、炭素数１〜２０のアルコ
キシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０
のアリールオキシ基、炭素数７〜４０のアルキルアリー
ル基、炭素数７〜４０のアリールアルキル基、炭素数１
〜２０のハロゲン置換炭化水素基、炭素数１〜２０のア
シルオキシ基、有機メタロイド基、又は炭素数２〜２０
のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ｇ1 〜Ｇf のうち
２つ以上が環を形成していてもよい。ｆは〔（中心金属
Ｍ2 の原子価）＋１〕の整数を示す。）、〔Ｚ2 〕
- は、酸解離定数の逆数の対数（ｐＫａ）が−１０以下
のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイ
ス酸の組合わせの共役塩基、あるいは一般的に超強酸と
定義される共役塩基を示す。また、ルイス塩基が配位し
ていてもよい。また、Ｒ4 は水素原子、炭素数１〜２０
のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、アルキル
アリール基又はアリールアルキル基を示し、Ｒ5 及びＲ
6 はそれぞれシクロペンタジエニル基、置換シクロペン
タジエニル基、インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ7
は炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アルキル
アリール基又はアリールアルキル基を示す。Ｒ8 はテト
ラフェニルポルフィリン、フタロシアニン等の大環状配
位子を示す。ｋは〔Ｌ1 −Ｒ4 〕、〔Ｌ2 〕のイオン価
数で１〜３の整数、ａは１以上の整数、ｂ＝（ｋ×ａ）
である。Ｍ3 は、周期律表第１〜３、１１〜１３、１７
族元素を含むものであり、Ｍ4 は、周期律表第７〜１２
族元素を示す。〕で表されるものを好適に使用すること
ができる。
金属化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を
形成しうる化合物としては、（Ｂ−１）（Ａ）の遷移金
属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性
化合物、（Ｂ−２）アルミノキサン、（Ｂ−３）ルイス
酸を挙げることができる。（Ｂ−１）成分としては、上
記（Ａ）の遷移金属化合物と反応して、イオン性の錯体
を形成するイオン性化合物であれば、いずれのものでも
使用できるが、次の一般式（II）、(III) （〔Ｌ1 −Ｒ4 〕k+）a （〔Ｚ〕- ）b ・・・ (II) （〔Ｌ2 〕k+）a （〔Ｚ〕- ）b ・・・ (III) 〔ただし、Ｌ2 はＭ3 、Ｒ5 Ｒ6 Ｍ4 、Ｒ7 3Ｃ又はＲ8
Ｍ4 である。〕 〔（II) 、（III)式中、Ｌ1 はルイス塩基、〔Ｚ〕
- は、非配位性アニオン〔Ｚ 1 〕- 又は〔Ｚ2 〕- 、こ
こで〔Ｚ1 〕- は複数の基が元素に結合したアニオンす
なわち〔Ｍ2 Ｇ1 Ｇ2 ・・・Ｇf 〕- （ここで、Ｍ2 は
周期律表第５〜１５族元素、好ましくは周期律表第１３
〜１５族元素を示す。Ｇ1 〜Ｇf はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２
〜４０のジアルキルアミノ基、炭素数１〜２０のアルコ
キシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０
のアリールオキシ基、炭素数７〜４０のアルキルアリー
ル基、炭素数７〜４０のアリールアルキル基、炭素数１
〜２０のハロゲン置換炭化水素基、炭素数１〜２０のア
シルオキシ基、有機メタロイド基、又は炭素数２〜２０
のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ｇ1 〜Ｇf のうち
２つ以上が環を形成していてもよい。ｆは〔（中心金属
Ｍ2 の原子価）＋１〕の整数を示す。）、〔Ｚ2 〕
- は、酸解離定数の逆数の対数（ｐＫａ）が−１０以下
のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイ
ス酸の組合わせの共役塩基、あるいは一般的に超強酸と
定義される共役塩基を示す。また、ルイス塩基が配位し
ていてもよい。また、Ｒ4 は水素原子、炭素数１〜２０
のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、アルキル
アリール基又はアリールアルキル基を示し、Ｒ5 及びＲ
6 はそれぞれシクロペンタジエニル基、置換シクロペン
タジエニル基、インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ7
は炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、アルキル
アリール基又はアリールアルキル基を示す。Ｒ8 はテト
ラフェニルポルフィリン、フタロシアニン等の大環状配
位子を示す。ｋは〔Ｌ1 −Ｒ4 〕、〔Ｌ2 〕のイオン価
数で１〜３の整数、ａは１以上の整数、ｂ＝（ｋ×ａ）
である。Ｍ3 は、周期律表第１〜３、１１〜１３、１７
族元素を含むものであり、Ｍ4 は、周期律表第７〜１２
族元素を示す。〕で表されるものを好適に使用すること
ができる。
【００３１】ここで、Ｌ1 の具体例としては、アンモニ
ア、メチルアミン、アニリン、ジメチルアミン、ジエチ
ルアミン、Ｎ−メチルアニリン、ジフェニルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、メチルジフェニ
ルアミン、ピリジン、ｐ−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のア
ミン類、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィ
ン、ジフェニルホスフィン等のホスフィン類、テトラヒ
ドロチオフェン等のチオエーテル類、安息香酸エチル等
のエステル類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニ
トリル類等を挙げることができる。
ア、メチルアミン、アニリン、ジメチルアミン、ジエチ
ルアミン、Ｎ−メチルアニリン、ジフェニルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、メチルジフェニ
ルアミン、ピリジン、ｐ−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のア
ミン類、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィ
ン、ジフェニルホスフィン等のホスフィン類、テトラヒ
ドロチオフェン等のチオエーテル類、安息香酸エチル等
のエステル類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニ
トリル類等を挙げることができる。
【００３２】Ｒ4 の具体例としては、水素、メチル基、
エチル基、ベンジル基、トリチル基等を挙げることがで
き、Ｒ5 、Ｒ6 の具体例としては、シクロペンタジエニ
ル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペ
ンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基
等を挙げることができる。Ｒ7 の具体例としては、フェ
ニル基、ｐ−トリル基、ｐ−メトキシフェニル基等を挙
げることができ、Ｒ8の具体例としては、テトラフェニ
ルポルフィン、フタロシアニン、アリル、メタリル等を
挙げることができる。また、Ｍ3 の具体例としては、Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｂｒ、Ｉ、Ｉ3 等を挙げる
ことができ、Ｍ4 の具体例としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｚｎ等を挙げることができる。
エチル基、ベンジル基、トリチル基等を挙げることがで
き、Ｒ5 、Ｒ6 の具体例としては、シクロペンタジエニ
ル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペ
ンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基
等を挙げることができる。Ｒ7 の具体例としては、フェ
ニル基、ｐ−トリル基、ｐ−メトキシフェニル基等を挙
げることができ、Ｒ8の具体例としては、テトラフェニ
ルポルフィン、フタロシアニン、アリル、メタリル等を
挙げることができる。また、Ｍ3 の具体例としては、Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｂｒ、Ｉ、Ｉ3 等を挙げる
ことができ、Ｍ4 の具体例としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｚｎ等を挙げることができる。
【００３３】また、〔Ｚ1 〕- 、すなわち〔Ｍ2 Ｇ1 Ｇ
2 ・・・Ｇf 〕において、Ｍ2 の具体例としてはＢ、Ａ
ｌ、Ｓi 、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ等、好ましくはＢ及びＡｌが
挙げられる。また、Ｇ1 、Ｇ2 〜Ｇf の具体例として
は、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基等、アルコキシ基若しくはアリールオキシ
基としてメトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、フ
ェノキシ基等、炭化水素基としてメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソ
ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−エイコシル基、フェニ
ル基、ｐ−トリル基、ベンジル基、４−ｔ−ブチルフェ
ニル基、３，５−ジメチルフェニル基等、ハロゲン原子
としてフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヘテロ原子含有炭
化水素基としてｐ−フルオロフェニル基、３，５−ジフ
ルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、３，４，
５−トリフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル
基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、
ビス（トリメチルシリル）メチル基等、有機メタロイド
基としてペンタメチルアンチモン基、トリメチルシリル
基、トリメチルゲルミル基、ジフェニルアルシン基、ジ
シクロヘキシルアンチモン基、ジフェニル硼素等が挙げ
られる。
2 ・・・Ｇf 〕において、Ｍ2 の具体例としてはＢ、Ａ
ｌ、Ｓi 、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ等、好ましくはＢ及びＡｌが
挙げられる。また、Ｇ1 、Ｇ2 〜Ｇf の具体例として
は、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基等、アルコキシ基若しくはアリールオキシ
基としてメトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、フ
ェノキシ基等、炭化水素基としてメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソ
ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−エイコシル基、フェニ
ル基、ｐ−トリル基、ベンジル基、４−ｔ−ブチルフェ
ニル基、３，５−ジメチルフェニル基等、ハロゲン原子
としてフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヘテロ原子含有炭
化水素基としてｐ−フルオロフェニル基、３，５−ジフ
ルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、３，４，
５−トリフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル
基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、
ビス（トリメチルシリル）メチル基等、有機メタロイド
基としてペンタメチルアンチモン基、トリメチルシリル
基、トリメチルゲルミル基、ジフェニルアルシン基、ジ
シクロヘキシルアンチモン基、ジフェニル硼素等が挙げ
られる。
【００３４】また、非配位性のアニオンすなわちｐＫａ
が−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッ
ド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基〔Ｚ2 〕- の具
体例としてはトリフルオロメタンスルホン酸アニオン
（ＣＦ3 ＳＯ3 ）- 、ビス（トリフルオロメタンスルホ
ニル）メチルアニオン、ビス（トリフルオロメタンスル
ホニル）ベンジルアニオン、ビス（トリフルオロメタン
スルホニル）アミド、過塩素酸アニオン（Ｃｌ
Ｏ4 ）- 、トリフルオロ酢酸アニオン（ＣＦ3 ＣＯ2 ）
-、ヘキサフルオロアンチモンアニオン（Ｓｂ
Ｆ6 ）- 、フルオロスルホン酸アニオン（ＦＳ
Ｏ3 ）- 、クロロスルホン酸アニオン（ＣｌＳ
Ｏ3 ）- 、フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化ア
ンチモン（ＦＳＯ3 ／ＳｂＦ5 ）- 、フルオロスルホン
酸アニオン／５−フッ化砒素（ＦＳＯ3 ／Ａｓ
Ｆ5 ）- 、トリフルオロメタンスルホン酸／５−フッ化
アンチモン（ＣＦ3 ＳＯ3 ／ＳｂＦ5 ）- 等を挙げるこ
とができる。
が−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッ
ド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基〔Ｚ2 〕- の具
体例としてはトリフルオロメタンスルホン酸アニオン
（ＣＦ3 ＳＯ3 ）- 、ビス（トリフルオロメタンスルホ
ニル）メチルアニオン、ビス（トリフルオロメタンスル
ホニル）ベンジルアニオン、ビス（トリフルオロメタン
スルホニル）アミド、過塩素酸アニオン（Ｃｌ
Ｏ4 ）- 、トリフルオロ酢酸アニオン（ＣＦ3 ＣＯ2 ）
-、ヘキサフルオロアンチモンアニオン（Ｓｂ
Ｆ6 ）- 、フルオロスルホン酸アニオン（ＦＳ
Ｏ3 ）- 、クロロスルホン酸アニオン（ＣｌＳ
Ｏ3 ）- 、フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化ア
ンチモン（ＦＳＯ3 ／ＳｂＦ5 ）- 、フルオロスルホン
酸アニオン／５−フッ化砒素（ＦＳＯ3 ／Ａｓ
Ｆ5 ）- 、トリフルオロメタンスルホン酸／５−フッ化
アンチモン（ＣＦ3 ＳＯ3 ／ＳｂＦ5 ）- 等を挙げるこ
とができる。
【００３５】このような上記（Ａ）の遷移金属化合物と
反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、す
なわち（Ｂ−１）成分化合物の具体例としては、テトラ
フェニル硼酸トリエチルアンモニウム、テトラフェニル
硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラフェニル硼
酸トリメチルアンモニウム、テトラフェニル硼酸テトラ
エチルアンモニウム、テトラフェニル硼酸メチル（トリ
−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェニル硼酸ベン
ジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェニ
ル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム、テトラフェニ
ル硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム、テトラフ
ェニル硼酸トリメチルアニリニウム、テトラフェニル硼
酸メチルピリジニウム、テトラフェニル硼酸ベンジルピ
リジニウム、テトラフェニル硼酸メチル（２−シアノピ
リジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸トリエチルアンモニウム、テトラキス（ペンタフル
オロフェニル）硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム、テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニル
アンモニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸テトラエチルアンモニウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジ
ル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニ
ウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ
フェニル（メチル）アンモニウム、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸メチルアニリニウム、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルアニリニウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリメ
チルアニリニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸メチルピリジニウム、テトラキス（ペンタフル
オロフェニル）硼酸ベンジルピリジニウム、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（２−シアノピ
リジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸ベンジル（２−シアノピリジニウム）、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（４−シアノピ
リジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸トリフェニルホスホニウム、テトラキス〔ビス
（３，５−ジトリフルオロメチル）フェニル〕硼酸ジメ
チルアニリニウム、テトラフェニル硼酸フェロセニウ
ム、テトラフェニル硼酸銀、テトラフェニル硼酸トリチ
ル、テトラフェニル硼酸テトラフェニルポルフィリンマ
ンガン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フ
ェロセニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸（１，１’−ジメチルフェロセニウム）、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカメチルフェロセ
ニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸
銀、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリチ
ル、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸リチウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ナトリ
ウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テト
ラフェニルポルフィリンマンガン、テトラフルオロ硼酸
銀、ヘキサフルオロ燐酸銀、ヘキサフルオロ砒素酸銀、
過塩素酸銀、トリフルオロ酢酸銀、トリフルオロメタン
スルホン酸銀等を挙げることができる。
反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、す
なわち（Ｂ−１）成分化合物の具体例としては、テトラ
フェニル硼酸トリエチルアンモニウム、テトラフェニル
硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラフェニル硼
酸トリメチルアンモニウム、テトラフェニル硼酸テトラ
エチルアンモニウム、テトラフェニル硼酸メチル（トリ
−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェニル硼酸ベン
ジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェニ
ル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム、テトラフェニ
ル硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム、テトラフ
ェニル硼酸トリメチルアニリニウム、テトラフェニル硼
酸メチルピリジニウム、テトラフェニル硼酸ベンジルピ
リジニウム、テトラフェニル硼酸メチル（２−シアノピ
リジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸トリエチルアンモニウム、テトラキス（ペンタフル
オロフェニル）硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム、テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニル
アンモニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸テトラエチルアンモニウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジ
ル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニ
ウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ
フェニル（メチル）アンモニウム、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸メチルアニリニウム、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルアニリニウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリメ
チルアニリニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸メチルピリジニウム、テトラキス（ペンタフル
オロフェニル）硼酸ベンジルピリジニウム、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（２−シアノピ
リジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸ベンジル（２−シアノピリジニウム）、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（４−シアノピ
リジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸トリフェニルホスホニウム、テトラキス〔ビス
（３，５−ジトリフルオロメチル）フェニル〕硼酸ジメ
チルアニリニウム、テトラフェニル硼酸フェロセニウ
ム、テトラフェニル硼酸銀、テトラフェニル硼酸トリチ
ル、テトラフェニル硼酸テトラフェニルポルフィリンマ
ンガン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フ
ェロセニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
硼酸（１，１’−ジメチルフェロセニウム）、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカメチルフェロセ
ニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸
銀、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリチ
ル、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸リチウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ナトリ
ウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テト
ラフェニルポルフィリンマンガン、テトラフルオロ硼酸
銀、ヘキサフルオロ燐酸銀、ヘキサフルオロ砒素酸銀、
過塩素酸銀、トリフルオロ酢酸銀、トリフルオロメタン
スルホン酸銀等を挙げることができる。
【００３６】この（Ｂ−１）成分である、該（Ａ）成分
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する
イオン性化合物は一種用いてもよく、また二種以上を組
み合わせて用いてもよい。一方、（Ｂ−２）成分のアル
ミノキサンとしては、一般式（IV)
の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する
イオン性化合物は一種用いてもよく、また二種以上を組
み合わせて用いてもよい。一方、（Ｂ−２）成分のアル
ミノキサンとしては、一般式（IV)
【００３７】
【化８】
【００３８】〔式中、Ｒ9 は炭素数１〜２０、好ましく
は１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アリール基、
アリールアルキル基等の炭化水素基あるいはハロゲン原
子を示し、ｗは重合度を示し、通常３〜５０、好ましく
は７〜４０の整数である。なお、各Ｒ9 は同じでも異な
っていてもよい。〕で示される鎖状アルミノキサン、及
び一般式（Ｖ）
は１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アリール基、
アリールアルキル基等の炭化水素基あるいはハロゲン原
子を示し、ｗは重合度を示し、通常３〜５０、好ましく
は７〜４０の整数である。なお、各Ｒ9 は同じでも異な
っていてもよい。〕で示される鎖状アルミノキサン、及
び一般式（Ｖ）
【００３９】
【化９】
【００４０】〔式中、Ｒ9 及びｗは、前記と同じであ
る。〕で示される環状アルミノキサンを挙げることがで
きる。前記アルミノキサンの製造法としては、アルキル
アルミニウムと水等の縮合剤とを接触させる方法が挙げ
られるが、その手段については特に限定はなく、公知の
方法に準じて反応させればよい。例えば、有機アルミ
ニウム化合物を有機溶剤に溶解しておき、これを水と接
触させる方法、重合時に当初有機アルミニウム化合物
を加えておき、後に水を添加する方法、金属塩等に含
有されている結晶水、無機物や有機物への吸着水を有機
アルミニウム化合物と反応させる方法、テトラアルキ
ルジアルミノキサンにトリアルキルアルミニウムを反応
させ、さらに水を反応させる方法等がある。なお、アル
ミノキサンとしては、トルエン不溶性のものであっても
よい。
る。〕で示される環状アルミノキサンを挙げることがで
きる。前記アルミノキサンの製造法としては、アルキル
アルミニウムと水等の縮合剤とを接触させる方法が挙げ
られるが、その手段については特に限定はなく、公知の
方法に準じて反応させればよい。例えば、有機アルミ
ニウム化合物を有機溶剤に溶解しておき、これを水と接
触させる方法、重合時に当初有機アルミニウム化合物
を加えておき、後に水を添加する方法、金属塩等に含
有されている結晶水、無機物や有機物への吸着水を有機
アルミニウム化合物と反応させる方法、テトラアルキ
ルジアルミノキサンにトリアルキルアルミニウムを反応
させ、さらに水を反応させる方法等がある。なお、アル
ミノキサンとしては、トルエン不溶性のものであっても
よい。
【００４１】これらのアルミノキサンは一種用いてもよ
く、二種以上を組み合わせて用いてもよい。（Ｂ−３）
成分のルイス酸については、特に制限はなく、有機化合
物でも固体状無機化合物でもよい。有機化合物として
は、硼素化合物やアルミニウム化合物等が、無機化合物
としてはマグネシウム化合物、アルミニウム化合物等が
好ましく用いられる。該アルミニウム化合物としては例
えば酸化アルミニウム、塩化アルミニウム等が、マグネ
シウム化合物としては例えば塩化マグネシウム、ジエト
キシマグネシウム等が、硼素化合物としては例えばトリ
フェニル硼素、トリス（ペンタフルオロフェニル）硼
素、トリス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル〕硼素、トリス〔（４−フルオロメチル）フェニ
ル〕硼素、トリメチル硼素、トリエチル硼素、トリ−ｎ
−ブチル硼素、トリス（フルオロメチル）硼素、トリス
（ペンタフルオロエチル）硼素、トリス（ノナフルオロ
ブチル）硼素、トリス（２，４，６−トリフルオロフェ
ニル）硼素、トリス（３，５−ジフルオロフェニル）硼
素、トリス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル〕硼素、ビス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
硼素、ジフェニルフルオロ硼素、ビス（ペンタフルオロ
フェニル）クロロ硼素、ジメチルフルオロ硼素、ジエチ
ルフルオロ硼素、ジ−ｎ−ブチルフルオロ硼素、ペンタ
フルオロフェニルジフルオロ硼素、フェニルジフルオロ
硼素、ペンタフルオロフェニルジクロロ硼素、メチルジ
フルオロ硼素、エチルジフルオロ硼素、ｎ−ブチルジフ
ルオロ硼素等が挙げられる。
く、二種以上を組み合わせて用いてもよい。（Ｂ−３）
成分のルイス酸については、特に制限はなく、有機化合
物でも固体状無機化合物でもよい。有機化合物として
は、硼素化合物やアルミニウム化合物等が、無機化合物
としてはマグネシウム化合物、アルミニウム化合物等が
好ましく用いられる。該アルミニウム化合物としては例
えば酸化アルミニウム、塩化アルミニウム等が、マグネ
シウム化合物としては例えば塩化マグネシウム、ジエト
キシマグネシウム等が、硼素化合物としては例えばトリ
フェニル硼素、トリス（ペンタフルオロフェニル）硼
素、トリス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル〕硼素、トリス〔（４−フルオロメチル）フェニ
ル〕硼素、トリメチル硼素、トリエチル硼素、トリ−ｎ
−ブチル硼素、トリス（フルオロメチル）硼素、トリス
（ペンタフルオロエチル）硼素、トリス（ノナフルオロ
ブチル）硼素、トリス（２，４，６−トリフルオロフェ
ニル）硼素、トリス（３，５−ジフルオロフェニル）硼
素、トリス〔３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル〕硼素、ビス（ペンタフルオロフェニル）フルオロ
硼素、ジフェニルフルオロ硼素、ビス（ペンタフルオロ
フェニル）クロロ硼素、ジメチルフルオロ硼素、ジエチ
ルフルオロ硼素、ジ−ｎ−ブチルフルオロ硼素、ペンタ
フルオロフェニルジフルオロ硼素、フェニルジフルオロ
硼素、ペンタフルオロフェニルジクロロ硼素、メチルジ
フルオロ硼素、エチルジフルオロ硼素、ｎ−ブチルジフ
ルオロ硼素等が挙げられる。
【００４２】これらのルイス酸は一種用いてもよく、ま
た二種以上を組み合わせて用いてもよい。このオレフィ
ン重合用触媒における（Ａ）触媒成分と（Ｂ）触媒成分
との使用割合は、（Ｂ）触媒成分として（Ｂ−１）化合
物を用いた場合には、モル比で好ましくは１０：１〜
１：１００、より好ましくは２：１〜１：１０の範囲が
望ましく、また（Ｂ−２）化合物を用いた場合には、モ
ル比で好ましくは１：１〜１：１００００００、より好
ましくは１：１０〜１：１００００の範囲が望ましい。
た二種以上を組み合わせて用いてもよい。このオレフィ
ン重合用触媒における（Ａ）触媒成分と（Ｂ）触媒成分
との使用割合は、（Ｂ）触媒成分として（Ｂ−１）化合
物を用いた場合には、モル比で好ましくは１０：１〜
１：１００、より好ましくは２：１〜１：１０の範囲が
望ましく、また（Ｂ−２）化合物を用いた場合には、モ
ル比で好ましくは１：１〜１：１００００００、より好
ましくは１：１０〜１：１００００の範囲が望ましい。
【００４３】前記（Ａ）触媒成分と（Ｂ−３）触媒成分
との使用割合は、モル比で、好ましくは１：０．１〜
１：２０００、より好ましくは１：０．２〜１：１００
０、さらに好ましくは１：０．５〜１：５００の範囲が
望ましい。また、触媒成分（Ｂ）としては（Ｂ−１）、
（Ｂ−２）、（Ｂ−３）等を単独又は二種以上組み合わ
せて用いることもできる。
との使用割合は、モル比で、好ましくは１：０．１〜
１：２０００、より好ましくは１：０．２〜１：１００
０、さらに好ましくは１：０．５〜１：５００の範囲が
望ましい。また、触媒成分（Ｂ）としては（Ｂ−１）、
（Ｂ−２）、（Ｂ−３）等を単独又は二種以上組み合わ
せて用いることもできる。
【００４４】このオレフィン重合用触媒は、前記の
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を主成分として含有するもの
であってもよいし、また、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び
（Ｃ）有機アルミニウム化合物を主成分として含有する
ものであってもよい。ここで、（Ｃ）成分の有機アルミ
ニウム化合物としては、一般式（VI) Ｒ10 vＡｌＪ3-v ・・・（VI) 〔式中、Ｒ10は炭素数１〜２０の炭化水素基、好ましく
は１〜１０のアルキル基、Ｊは水素原子、炭素数１〜２
０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基又はハ
ロゲン原子を示し、ｖは１〜３の整数である。〕で示さ
れる化合物が用いられる。
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を主成分として含有するもの
であってもよいし、また、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び
（Ｃ）有機アルミニウム化合物を主成分として含有する
ものであってもよい。ここで、（Ｃ）成分の有機アルミ
ニウム化合物としては、一般式（VI) Ｒ10 vＡｌＪ3-v ・・・（VI) 〔式中、Ｒ10は炭素数１〜２０の炭化水素基、好ましく
は１〜１０のアルキル基、Ｊは水素原子、炭素数１〜２
０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基又はハ
ロゲン原子を示し、ｖは１〜３の整数である。〕で示さ
れる化合物が用いられる。
【００４５】前記の一般式（VI) で示される化合物の具
体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルア
ルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド、
ジエチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムジ
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ジメチルア
ルミニウムフルオリド、ジイソブチルアルミニウムヒド
リド、ジエチルアルミニウムヒドリド、エチルアルミニ
ウムセスキクロリド等が挙げられる。
体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルア
ルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド、
ジエチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムジ
クロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ジメチルア
ルミニウムフルオリド、ジイソブチルアルミニウムヒド
リド、ジエチルアルミニウムヒドリド、エチルアルミニ
ウムセスキクロリド等が挙げられる。
【００４６】これらの有機アルミニウム化合物は一種用
いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。前記
（Ａ）触媒成分と（Ｃ）触媒成分との使用割合は、モル
比で好ましくは１：１〜１：１００００、より好ましく
は１：５〜１：２０００、さらに好ましくは１：１０な
いし１：１０００の範囲が望ましい。該（Ｃ）触媒成分
を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を向上
させることができるが、あまり多いと有機アルミニウム
化合物が無駄になるとともに、重合体中に多量に残存
し、好ましくない。
いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。前記
（Ａ）触媒成分と（Ｃ）触媒成分との使用割合は、モル
比で好ましくは１：１〜１：１００００、より好ましく
は１：５〜１：２０００、さらに好ましくは１：１０な
いし１：１０００の範囲が望ましい。該（Ｃ）触媒成分
を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を向上
させることができるが、あまり多いと有機アルミニウム
化合物が無駄になるとともに、重合体中に多量に残存
し、好ましくない。
【００４７】このオレフィン重合用触媒においては、触
媒成分の少なくとも一種を適当な担体に担持して用いる
ことができる。該担体の種類については特に制限はな
く、無機酸化物担体、それ以外の無機担体及び有機担体
のいずれも用いることができるが、特に無機酸化物担体
あるいはそれ以外の無機担体が好ましい。無機酸化物担
体としては、具体的には、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｍｇ
Ｏ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｂ2 Ｏ3 、Ｃａ
Ｏ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ2 やこれらの混合物、例え
ばシリカアルミナ、ゼオライト、フェライト、グラスフ
ァイバー等が挙げられる。これらの中では、特にＳｉＯ
2 、Ａｌ2 Ｏ3 が好ましい。なお、上記無機酸化物担体
は、少量の炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩等を含有してもよ
い。
媒成分の少なくとも一種を適当な担体に担持して用いる
ことができる。該担体の種類については特に制限はな
く、無機酸化物担体、それ以外の無機担体及び有機担体
のいずれも用いることができるが、特に無機酸化物担体
あるいはそれ以外の無機担体が好ましい。無機酸化物担
体としては、具体的には、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｍｇ
Ｏ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｂ2 Ｏ3 、Ｃａ
Ｏ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ2 やこれらの混合物、例え
ばシリカアルミナ、ゼオライト、フェライト、グラスフ
ァイバー等が挙げられる。これらの中では、特にＳｉＯ
2 、Ａｌ2 Ｏ3 が好ましい。なお、上記無機酸化物担体
は、少量の炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩等を含有してもよ
い。
【００４８】一方、上記以外の担体として、ＭｇＣ
ｌ2 、Ｍｇ（ＯＣ2 Ｈ5)2 等のマグシウム化合物等で代
表される一般式ＭｇＲ11 X Ｘ2 y で表されるマグネシウ
ム化合物やその錯塩等を挙げることができる。ここで、
Ｒ11は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０の
アルコキシ基又は炭素数６〜２０のアリール基、Ｘ2 は
ハロゲン原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、
ｘは０〜２、ｙは０〜２でり、かつｘ＋ｙ＝２である。
各Ｒ11及び各Ｘ2 はそれぞれ同じでもよく、また異なっ
てもいてもよい。
ｌ2 、Ｍｇ（ＯＣ2 Ｈ5)2 等のマグシウム化合物等で代
表される一般式ＭｇＲ11 X Ｘ2 y で表されるマグネシウ
ム化合物やその錯塩等を挙げることができる。ここで、
Ｒ11は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０の
アルコキシ基又は炭素数６〜２０のアリール基、Ｘ2 は
ハロゲン原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、
ｘは０〜２、ｙは０〜２でり、かつｘ＋ｙ＝２である。
各Ｒ11及び各Ｘ2 はそれぞれ同じでもよく、また異なっ
てもいてもよい。
【００４９】また、有機担体としては、ポリスチレン、
スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ポリエチレン、
ポリプロピレン、置換ポリスチレン、ポリアリレート等
の重合体やスターチ、カーボン等を挙げることができ
る。本発明のオレフィン重合体の製造方法に用いること
ができるオレフィンとしては、炭素数２〜２０のα−オ
レフィンであり、必要に応じて、ジエン化合物、環状オ
レフィン等を添加してもよい。
スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ポリエチレン、
ポリプロピレン、置換ポリスチレン、ポリアリレート等
の重合体やスターチ、カーボン等を挙げることができ
る。本発明のオレフィン重合体の製造方法に用いること
ができるオレフィンとしては、炭素数２〜２０のα−オ
レフィンであり、必要に応じて、ジエン化合物、環状オ
レフィン等を添加してもよい。
【００５０】炭素数２〜２０のα−オレフィンとして
は、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテ
ン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オ
クテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセ
ン、１−オクタデセン、１−エイコセン等が挙げられ
る。これらのα−オレフィンは、一種用いてもよく、二
種以上を組み合わせて用いてもよい。
は、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテ
ン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オ
クテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセ
ン、１−オクタデセン、１−エイコセン等が挙げられ
る。これらのα−オレフィンは、一種用いてもよく、二
種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５１】本発明は、プロピレンもしくはエチレンの
単独重合、又はエチレンとプロピレンの共重合に好まし
く用いることができる。特に、プロピレンの単独重合に
好ましく用いることができる。本発明のオレフィン重合
体の製造方法おいては、重合方法には特に制限されず、
スラリー重合法、気相重合法、塊状重合法、溶液重合
法、懸濁重合法等のいずれの方法を用いてもよいが、溶
液重合法、懸濁重合法が好ましく、特に溶液重合法が好
適である。
単独重合、又はエチレンとプロピレンの共重合に好まし
く用いることができる。特に、プロピレンの単独重合に
好ましく用いることができる。本発明のオレフィン重合
体の製造方法おいては、重合方法には特に制限されず、
スラリー重合法、気相重合法、塊状重合法、溶液重合
法、懸濁重合法等のいずれの方法を用いてもよいが、溶
液重合法、懸濁重合法が好ましく、特に溶液重合法が好
適である。
【００５２】この重合条件については、重合温度は通常
−１００〜２５０℃、好ましくは−５０〜２００℃、よ
り好ましくは０〜１３０℃である。また、反応原料に対
する触媒の使用割合は、原料モノマー／遷移金属化合物
（モル比）が好ましくは１〜１０8 、特に１００〜１０
5 となることが好ましい。さらに、重合時間は通常５分
〜１０時間、反応圧力は好ましくは常圧〜２００ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇ、特に好ましくは常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ
である。
−１００〜２５０℃、好ましくは−５０〜２００℃、よ
り好ましくは０〜１３０℃である。また、反応原料に対
する触媒の使用割合は、原料モノマー／遷移金属化合物
（モル比）が好ましくは１〜１０8 、特に１００〜１０
5 となることが好ましい。さらに、重合時間は通常５分
〜１０時間、反応圧力は好ましくは常圧〜２００ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇ、特に好ましくは常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ
である。
【００５３】重合体の分子量の調節方法としては、各触
媒成分の種類、使用量、重合温度の選択等がある。重合
溶媒を用いる場合、例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素、シクロペン
タン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環
式炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン
等の脂肪族炭化水素、クロロホルム、ジクロロメタン等
のハロゲン化炭化水素等を用いることができる。これら
の溶媒は一種を単独で用いてもよく、二種以上のものを
組み合わせてもよい。また、α−オレフィン等のモノマ
ーを溶媒として用いてもよい。なお、重合方法によって
は無溶媒で行うことができる。
媒成分の種類、使用量、重合温度の選択等がある。重合
溶媒を用いる場合、例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素、シクロペン
タン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環
式炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン
等の脂肪族炭化水素、クロロホルム、ジクロロメタン等
のハロゲン化炭化水素等を用いることができる。これら
の溶媒は一種を単独で用いてもよく、二種以上のものを
組み合わせてもよい。また、α−オレフィン等のモノマ
ーを溶媒として用いてもよい。なお、重合方法によって
は無溶媒で行うことができる。
【００５４】
【実施例】次に本発明を実施例等によりさらに詳細に説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。 〔実施例１−１〕充分に加熱真空乾燥及び窒素置換した
１．５リットルのオートクレーブに、窒素気流下、室温
にてトルエン４００ｍｌ及びトリイソブチルアルミニウ
ム１ミリモルを仕込んだ。この混合物を５００ｒｐｍで
攪拌しながら、５０℃まで昇温させた後、（１，２’−
エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（３−メチル
インデニル）ジルコニウムジクロリドを０．５マイクロ
モル加えた後、硼素化合物として〔ＰｈＮＭｅ2 Ｈ〕
〔（Ｃ6 Ｆ 5)4Ｂ〕を１マイクロモル加えた。
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。 〔実施例１−１〕充分に加熱真空乾燥及び窒素置換した
１．５リットルのオートクレーブに、窒素気流下、室温
にてトルエン４００ｍｌ及びトリイソブチルアルミニウ
ム１ミリモルを仕込んだ。この混合物を５００ｒｐｍで
攪拌しながら、５０℃まで昇温させた後、（１，２’−
エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（３−メチル
インデニル）ジルコニウムジクロリドを０．５マイクロ
モル加えた後、硼素化合物として〔ＰｈＮＭｅ2 Ｈ〕
〔（Ｃ6 Ｆ 5)4Ｂ〕を１マイクロモル加えた。
【００５５】この状態で５分間保持した後、予めプロピ
レン導入ライン中に仕込んでおいた水素４５４マイクロ
モルと共にプロピレンを導入し、７ｋｇ／ｃｍ2 Ｇまで
昇圧し重合を開始した。温度５０℃、圧力７．０ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇで２０分間保持し、重合反応を実施した後、脱
圧、窒素パージ、降温により重合を停止させた。次い
で、反応物をメタノール中に投入し、メタノールで洗浄
後、ろ別し、減圧下で乾燥してプロピレン重合体を２１
４．３ｇ得た。触媒活性は、１４０９７ｋｇ／ｇ−Ｚｒ
・ｈｒであり、〔η〕＝０．２０ｄｌ／ｇであり、融点
は、９７．８℃であった。
レン導入ライン中に仕込んでおいた水素４５４マイクロ
モルと共にプロピレンを導入し、７ｋｇ／ｃｍ2 Ｇまで
昇圧し重合を開始した。温度５０℃、圧力７．０ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇで２０分間保持し、重合反応を実施した後、脱
圧、窒素パージ、降温により重合を停止させた。次い
で、反応物をメタノール中に投入し、メタノールで洗浄
後、ろ別し、減圧下で乾燥してプロピレン重合体を２１
４．３ｇ得た。触媒活性は、１４０９７ｋｇ／ｇ−Ｚｒ
・ｈｒであり、〔η〕＝０．２０ｄｌ／ｇであり、融点
は、９７．８℃であった。
【００５６】〔実施例１−２及び１−３〕実施例１−１
において、水素及び遷移金属化合物の量をそれぞれ第１
表に示すように変化させた以外は、実施例１−１と同様
にした。その結果も第１表に示す。 〔比較例１〕実施例１−１において、第１表に示すよう
に遷移金属化合物及び助触媒の量をそれぞれ変化させ、
水素を添加しなかった以外は実施例１−１と同様にし
た。その結果も第１表に示す。 〔実施例２−１〕充分に加熱真空乾燥及び窒素置換した
１．５リットルのオートクレーブに、窒素気流下、室温
にてトルエン４００ｍｌ及びメチルアルミノキサン２ミ
リモルを仕込んだ。この混合物を５００ｒｐｍで攪拌し
ながら、５０℃まで昇温させた後、（１，２’−エチレ
ン）（２，１’−エチレン）−ビス（３−メチルインデ
ニル）ジルコニウムジクロリドを１マイクロモル加え
た。
において、水素及び遷移金属化合物の量をそれぞれ第１
表に示すように変化させた以外は、実施例１−１と同様
にした。その結果も第１表に示す。 〔比較例１〕実施例１−１において、第１表に示すよう
に遷移金属化合物及び助触媒の量をそれぞれ変化させ、
水素を添加しなかった以外は実施例１−１と同様にし
た。その結果も第１表に示す。 〔実施例２−１〕充分に加熱真空乾燥及び窒素置換した
１．５リットルのオートクレーブに、窒素気流下、室温
にてトルエン４００ｍｌ及びメチルアルミノキサン２ミ
リモルを仕込んだ。この混合物を５００ｒｐｍで攪拌し
ながら、５０℃まで昇温させた後、（１，２’−エチレ
ン）（２，１’−エチレン）−ビス（３−メチルインデ
ニル）ジルコニウムジクロリドを１マイクロモル加え
た。
【００５７】この状態で５分間保持した後、予めプロピ
レン導入ライン中に仕込んでおいた水素２５０マイクロ
モルと共にプロピレンを導入し、７ｋｇ／ｃｍ2 Ｇまで
昇圧し重合を開始した。温度５０℃、圧力７．０ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇで２０分間保持し、重合反応を実施した後、脱
圧、窒素パージ、降温により重合を停止させた。
レン導入ライン中に仕込んでおいた水素２５０マイクロ
モルと共にプロピレンを導入し、７ｋｇ／ｃｍ2 Ｇまで
昇圧し重合を開始した。温度５０℃、圧力７．０ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇで２０分間保持し、重合反応を実施した後、脱
圧、窒素パージ、降温により重合を停止させた。
【００５８】次いで、反応物をメタノール中に投入し、
メタノールで洗浄後、ろ別し、減圧下で乾燥してプロピ
レン重合体を１６３．５ｇ得た。触媒活性は、５３７８
ｋｇ／ｇ−Ｚｒ・ｈｒであり、〔η〕＝０．６９ｄｌ／
ｇであり、融点は、９７．４℃であった。 〔実施例２−２〕実施例２−１において、水素をそれぞ
れ第１表に示すように変化させた以外は、実施例２−１
と同様にした。その結果も第１表に示す。 〔比較例２〕実施例２−１において、水素を添加しなか
った以外は実施例２−１と同様にした。その結果は第１
表に示す。 〔実施例３−１〜３−３〕実施例２−１において、遷移
金属化合物及び重合時間を変え、また水素をそれぞれ第
１表に示すように変化させた以外は、実施例２−１と同
様にした。その結果も第１表に示す。 〔比較例３〕実施例３−１において、水素を添加しなか
った以外は実施例３−１と同様にした。その結果は第１
表に示す。
メタノールで洗浄後、ろ別し、減圧下で乾燥してプロピ
レン重合体を１６３．５ｇ得た。触媒活性は、５３７８
ｋｇ／ｇ−Ｚｒ・ｈｒであり、〔η〕＝０．６９ｄｌ／
ｇであり、融点は、９７．４℃であった。 〔実施例２−２〕実施例２−１において、水素をそれぞ
れ第１表に示すように変化させた以外は、実施例２−１
と同様にした。その結果も第１表に示す。 〔比較例２〕実施例２−１において、水素を添加しなか
った以外は実施例２−１と同様にした。その結果は第１
表に示す。 〔実施例３−１〜３−３〕実施例２−１において、遷移
金属化合物及び重合時間を変え、また水素をそれぞれ第
１表に示すように変化させた以外は、実施例２−１と同
様にした。その結果も第１表に示す。 〔比較例３〕実施例３−１において、水素を添加しなか
った以外は実施例３−１と同様にした。その結果は第１
表に示す。
【００５９】
【表１】
【００６０】
【発明の効果】本発明により、特定の二架橋型メタロセ
ン系触媒に少量の水素を添加という簡単な操作で、無添
加時に比べて触媒の重合活性を数倍以上に大きく向上さ
せることができ、極めて高い重合活性を得ることができ
る。これは、オレフィン重合体の製造方法、特にプロピ
レン系重合体の製造方法に有用である。
ン系触媒に少量の水素を添加という簡単な操作で、無添
加時に比べて触媒の重合活性を数倍以上に大きく向上さ
せることができ、極めて高い重合活性を得ることができ
る。これは、オレフィン重合体の製造方法、特にプロピ
レン系重合体の製造方法に有用である。
Claims (6)
- 【請求項１】 （Ａ）一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｍ1 は周期律表第４族の金属元素を示し、Ｅ1
及びＥ2 はそれぞれ、インデニル基又は置換インデニル
基の配位子を示し、Ａ1 及びＡ2 を介して架橋構造を形
成している。Ｅ1 及びＥ2 は互いに同じでも異なってい
てもよい。Ｘ1 はσ結合性の配位子を示し、Ｘ1 が複数
ある場合は、複数のＸ1 は互いに同じでも異なっていて
もよい。Ｙ1 はルイス塩基を示す。Ａ1 及びＡ2 はそれ
ぞれ架橋基を示し、それらは互いに同じでも異なってい
てもよいが、そのうちの少なくとも１つは炭化水素基で
ある。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは０又は１の整数
を示す。）で表される構造を有する二重架橋型の遷移金
属化合物及び（Ｂ）該（Ａ）の遷移金属化合物又はその
派生物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物を
含有するメタロセン系触媒を用いたオレフィンの重合に
おいて、重合系内のオレフィン中の水素濃度を０．０１
〜１０モル％とすることを特徴とするオレフィン重合体
の製造方法。 - 【請求項２】 一般式（Ｉ）のＥ1 及びＥ2 が置換イン
デニル基である請求項１に記載のオレフィン重合体の製
造方法。 - 【請求項３】 一般式（Ｉ）のＡ1 及びＡ2 が炭化水素
基である請求項１又は２に記載のオレフィン重合体の製
造方法。 - 【請求項４】 （Ａ）一般式（Ｉ） 【化２】 （式中、Ｍ1 は周期律表第４族の金属元素を示し、Ｅ1
及びＥ2 はそれぞれ、インデニル基又は置換インデニル
基の配位子を示し、Ａ1 及びＡ2 を介して架橋構造を形
成している。Ｅ1 及びＥ2 は互いに同じでも異なってい
てもよい。Ｘ1 はσ結合性の配位子を示し、Ｘ1 が複数
ある場合は、複数のＸ1 は互いに同じでも異なっていて
もよい。Ｙ1 はルイス塩基を示す。Ａ1 及びＡ2 はそれ
ぞれ架橋基を示し、それらは互いに同じでも異なってい
てもよいが、そのうちの少なくとも１つは炭化水素基で
ある。ｑは１又は２の整数を示し、ｒは０又は１の整数
を示す。）で表される構造を有する二重架橋型の遷移金
属化合物及び（Ｂ）該（Ａ）の遷移金属化合物又はその
派生物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物を
含有するメタロセン系触媒を用いたオレフィンの重合に
おいて、重合系に遷移金属化合物の遷移金属１モルに対
して１０〜２００００モルの水素を添加することを特徴
とするオレフィン重合体の製造方法。 - 【請求項５】 一般式（Ｉ）のＥ1 及びＥ2 が置換イン
デニル基である請求項４に記載のオレフィン重合体の製
造方法。 - 【請求項６】 一般式（Ｉ）のＡ1 及びＡ2 が炭化水素
基である請求項４又は５に記載のオレフィン重合体の製
造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9067966A JPH10259207A (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | オレフィン重合体の製造方法 |
| PCT/JP1998/001236 WO1998042757A1 (fr) | 1997-03-21 | 1998-03-23 | Procede de production de polymeres d'olefines |
| EP98909813A EP0970974B1 (en) | 1997-03-21 | 1998-03-23 | Process for producing olefin polymers |
| US09/381,279 US6316561B1 (en) | 1997-03-21 | 1998-03-23 | Process for producing olefin polymers |
| DE69834718T DE69834718T2 (de) | 1997-03-21 | 1998-03-23 | Verfahren zur herstellung von olefinpolymeren |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9067966A JPH10259207A (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | オレフィン重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10259207A true JPH10259207A (ja) | 1998-09-29 |
Family
ID=13360233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9067966A Pending JPH10259207A (ja) | 1997-03-21 | 1997-03-21 | オレフィン重合体の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6316561B1 (ja) |
| EP (1) | EP0970974B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10259207A (ja) |
| DE (1) | DE69834718T2 (ja) |
| WO (1) | WO1998042757A1 (ja) |
Cited By (11)
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|---|---|---|---|---|
| WO1999067303A1 (fr) * | 1998-06-25 | 1999-12-29 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Polymere de propylene et composition contenant ce polymere, objet moule et stratifie contenant ce polymere et cette composition, et procedes pour produire ce polymere de propylene et la composition contenant ce polymere |
| WO2001025300A1 (fr) * | 1999-10-05 | 2001-04-12 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Polymeres de propylene, composition de resine et objet moule contenant ces polymeres |
| JP2001172325A (ja) * | 1999-03-24 | 2001-06-26 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | プロピレン系重合体、及び該重合体からなる樹脂組成物並びに成形体 |
| JP2002371162A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | １−ブテン系樹脂組成物および成形体 |
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| WO2006117983A1 (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 重合触媒及び該触媒を用いるポリα－オレフィンの製造方法 |
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| JPWO2008047860A1 (ja) * | 2006-10-20 | 2010-02-25 | 出光興産株式会社 | 高純度末端不飽和オレフィン系重合体及びその製造方法 |
| JP2010265473A (ja) * | 1999-03-24 | 2010-11-25 | Idemitsu Kosan Co Ltd | プロピレン系共重合体、及び該共重合体からなる樹脂組成物並びに成形体 |
| WO2013024701A1 (ja) * | 2011-08-12 | 2013-02-21 | 出光興産株式会社 | α－オレフィンオリゴマーおよびその製造方法 |
| JP2014144994A (ja) * | 2013-01-25 | 2014-08-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | プロピレン重合体の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001064322A (ja) | 1999-06-24 | 2001-03-13 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | プロピレン系重合体及びその成形体並びにプロピレン系重合体の製造方法 |
| WO2002079272A1 (en) * | 2001-03-29 | 2002-10-10 | Dsm N.V. | Process for the preparation of a high-molecular-weight polyethylene |
| US7259215B2 (en) * | 2002-11-14 | 2007-08-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Process for producing propylene/ethylene block copolymer and propylene/ethylene block copolymer |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4981929A (en) * | 1986-06-23 | 1991-01-01 | Union Carbide Chemicals And Plastics Company, Inc. | Catalyst productivity in the polymerization of olefins |
| ES2093166T3 (es) * | 1991-11-30 | 1996-12-16 | Hoechst Ag | Metalocenos con derivados de indenilo condensados con benzo como ligandos, procedimiento para su preparacion y su utilizacion como catalizadores. |
| DE4211086A1 (de) * | 1992-04-03 | 1993-10-07 | Basf Ag | Katalysatorsysteme zur Polymerisation von C¶2¶- bis C¶1¶¶0¶-Alk-1-enen |
| DE69434894T2 (de) * | 1993-09-30 | 2007-04-12 | Idemitsu Kosan Co. Ltd. | Übergangsmetallverbindungen, olefinpolymerisationskatalysatoren und verfahren zur herstellung von olefinpolymeren mittels besagter katalysatoren |
| US6339135B1 (en) * | 1995-03-30 | 2002-01-15 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Transition metal compound, catalyst for olefin polymerization, process for preparing olefin polymer |
| KR970015606A (ko) * | 1995-09-01 | 1997-04-28 | 윤덕용 | 폴리올레핀 중합용 메탈로센 담지촉매의 제조방법 |
-
1997
- 1997-03-21 JP JP9067966A patent/JPH10259207A/ja active Pending
-
1998
- 1998-03-23 EP EP98909813A patent/EP0970974B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-23 US US09/381,279 patent/US6316561B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-23 WO PCT/JP1998/001236 patent/WO1998042757A1/ja active IP Right Grant
- 1998-03-23 DE DE69834718T patent/DE69834718T2/de not_active Expired - Lifetime
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