JPH10256635A - 連続励起ｑスイッチレーザ出力装置及びレーザ加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、Ｑスイッチレーザパルス列のピーク
パワー又はエネルギー値を精度高く均一化する。 【解決手段】アークランプのアークランプ電流をランプ
電流モニタ３によりモニタし、このモニタされたアーク
ランプ電流の時間積分値をＱスイッチ制御回路４により
求め、この時間積分値が所定の設定値に達したときに、
Ｎｄ：ＹＡＧレーザ用電源２を通してＱスイッチ素子を
スイッチング動作してトリガパルスとして出力する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、尖頭出力の高いト
リガパルスのレーザ光を出力する連続励起Ｑスイッチレ
ーザ出力装置及びこれを用いたレーザ加工装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】レーザ光は、切断、溶接、マーキングと
いった種々な加工分野に利用されている。このうち切断
加工を例にとると、レーザ光を利用して鋼板等を切断す
る加工が一般的に行われている。

【０００３】このようなレーザ加工の方式の１つとし
て、ＸＹテーブルを用いたものがある。この方式は、Ｘ
Ｙテーブル上に被加工物を載置し、指定の加工形状に基
づいてＸＹテーブルを２次元方向の平面上に走査し、こ
れと共にレーザ光を被加工物に照射して指定の加工形状
に切断加工するものである。

【０００４】しかしながら、この方式の加工では、被加
工物の角部や鋭角形状の先端においてレーザ光の走査速
度が著しく遅くなり、このために被加工物に対する入熱
過多により鋭角度が失われたり、溶け落ちたりする。

【０００５】このような問題を解決するために、例えば
特開昭６２−２７０２９１号公報に記載されているよう
に、加工速度にリアルタイムに対応してレーザ出力又は
その出力形態を制御することが行われている。

【０００６】ところで、連続励起Ｑスイッチパルスレー
ザの場合、Ｑスイッチパルスの繰り返し周波数を可変す
ると、この繰り返し周波数が高くなるに従って、１レー
ザパルス当たりの特性、すなわちエネルギーやピークパ
ワーが低下する。

【０００７】このため、レーザ光の走査速度が変化した
場合、同一特性のＱスイッチレーザ光により加工を行う
ことが困難となる。一方、レーザ発振装置の不安定性に
より励起量や繰り返し周波数が変動した場合、Ｑスイッ
チレーザパルスのピークパワー又はエネルギーを精度高
く均一化することができず、特に精密な彫り深さ制御が
要求されるマーキング加工等では、加工に不具合が生じ
る虞がある。

【０００８】又、被加工物上に走査するレーザ光が走査
パターン中の曲り角等に達した際には、レーザ光路又は
レーザ共振器中にメカニカルシャッターを挿入し、曲り
角等に対するパルスレーザ光の照射を停止等することが
行われている。

【０００９】このようにメカニカルシャッターを備える
機構のために、装置が複雑化し、そればかりでなく被加
工物に高速にレーザ光を照射する場合、メカニカルシャ
ッターの開閉時間により加工速度が制限される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】以上のようにレーザ光
の走査速度が変化した場合、同一特性のＱスイッチレー
ザ光により加工を行うことが困難となる。又、Ｑスイッ
チ素子の繰り返し周波数が変動した場合、Ｑスイッチレ
ーザパルスのピークパワー又はエネルギーを精度高く均
一化することができない。

【００１１】さらに、メカニカルシャッターを備える機
構の場合、装置が複雑化し、かつメカニカルシャッター
の開閉時間により加工速度が制限される。そこで本発明
は、Ｑスイッチレーザパルス列のピークパワー又はエネ
ルギー値を精度高く均一化できる連続励起Ｑスイッチレ
ーザ出力装置を提供することを目的とする。

【００１２】又、本発明は、Ｑスイッチレーザパルス列
のピークパワー又はエネルギー値を精度高く均一化して
被加工物上に照射できるレーザ加工装置を提供すること
を目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１によれば、励起
ランプの発光によりレーザ媒質を励起し、この励起エネ
ルギーをＱスイッチ素子の動作によりポンピングしかつ
トリガパルスとして出力する連続励起Ｑスイッチレーザ
出力装置において、励起ランプの励起ランプ電流をモニ
タするランプ電流モニタ手段と、このランプ電流モニタ
手段によりモニタされた励起ランプ電流の時間積分値を
求め、この時間積分値が所定の設定値に達したときにＱ
スイッチ素子をスイッチング動作させるＱスイッチ制御
手段と、を備えて上記目的を達成しようとする連続励起
Ｑスイッチレーザ出力装置である。

【００１４】請求項２によれば、Ｑスイッチ制御手段
は、モニタされた励起ランプ電流を積分する積分器と、
この積分器の電流積分値と所定の設定値とを比較するコ
ンパレータと、このコンパレータによる比較の結果、電
流積分値が設定値に達したときにＱスイッチトリガ信号
を出力するマルチショットバイブレータと、を有する。

【００１５】請求項３によれば、励起ランプの発光によ
りレーザ媒質を励起し、この励起エネルギーをＱスイッ
チ素子の動作によりポンピングしかつトリガパルスとし
て出力し、このトリガパルスのパルス列を被加工物に対
して走査して照射するレーザ加工装置において、励起ラ
ンプの励起ランプ電流をモニタするランプ電流モニタ手
段と、このランプ電流モニタ手段によりモニタされた励
起ランプ電流の時間積分値を求め、この時間積分値が所
定の設定値に達したときにＱスイッチ素子をスイッチン
グ動作させるＱスイッチ制御手段と、被加工物に対する
トリガパルスの走査位置をモニタする走査モニタ手段
と、この走査手段によりモニタされた走査位置に基づい
て被加工物上におけるトリガパルスの走査速度を求め、
この走査速度に応じて励起ランプ電流を制御するランプ
電流制御手段と、を備えて上記目的を達成しようとする
レーザ加工装置である。

【００１６】請求項４によれば、レーザ加工装置におけ
るＱスイッチ制御手段は、モニタされた励起ランプ電流
を積分する積分器と、この積分器の電流積分値と所定の
設定値とを比較するコンパレータと、このコンパレータ
による比較の結果、電流積分値が設定値に達したときに
Ｑスイッチトリガ信号を出力するマルチショットバイブ
レータと、を有する。

【００１７】請求項５によれば、ランプ電流制御手段
は、Ｑスイッチ繰り返し周波数に対する励起ランプ電流
の関係を保持し、この関係に基づいてトリガパルスの走
査速度に応じて励起ランプ電流に制御する機能を有す
る。

【００１８】上記請求項１によれば、励起ランプの発光
によりレーザ媒質を励起し、この励起エネルギーをＱス
イッチ素子の動作によりポンピングしかつトリガパルス
として出力する場合、励起ランプの励起ランプ電流をモ
ニタし、このモニタされた励起ランプ電流の時間積分値
を求め、この時間積分値が所定の設定値に達したときに
Ｑスイッチをスイッチング動作してトリガパルスとして
出力する。これにより、レーザパルス列のピークパワー
又はエネルギー値が均一化される。

【００１９】上記請求項２によれば、Ｑスイッチ素子の
スイッチング動作は、モニタされた励起ランプ電流を積
分器により積分し、この電流積分値と所定の設定値とを
コンパレータにより比較し、この比較の結果、電流積分
値が設定値に達したときにマルチショットバイブレータ
からＱスイッチ素子トリガ信号を出力し、Ｑスイッチ素
子をスイッチング動作する。

【００２０】上記請求項３によれば、励起ランプの発光
によりレーザ媒質を励起し、この励起エネルギーをＱス
イッチ素子の動作によりポンピングしかつトリガパルス
として出力し、このトリガパルスのパルス列を被加工物
に対して走査して照射するレーザ加工する場合、励起ラ
ンプの励起ランプ電流をモニタし、このモニタされた励
起ランプ電流の時間積分値を求め、この時間積分値が所
定の設定値に達したときにＱスイッチ素子をスイッチン
グ動作してトリガパルスを出力し、かつこのトリガパル
スの被加工物に対する走査位置をモニタし、このモニタ
された走査位置に基づいて被加工物上におけるトリガパ
ルスの走査速度を求め、この走査速度に応じて励起ラン
プ電流を制御する。これにより、レーザパルス列のピー
クパワー又はエネルギー値を精度高く均一化して被加工
物上に照射される、すなわち被加工物上に単位長さ当た
り一定数のレーザパルスを照射できる。

【００２１】上記請求項４によれば、Ｑスイッチ素子の
スイッチング動作は、モニタされた励起ランプ電流を積
分器により積分し、この電流積分値と所定の設定値とを
コンパレータにより比較し、この比較の結果、電流積分
値が設定値に達したときにマルチショットバイブレータ
からＱスイッチトリガ信号を出力し、Ｑスイッチ素子を
スイッチング動作し、均一化したレーザパルス列のピー
クパワー又はエネルギー値のパルスレーザを被加工物上
に照射する。

【００２２】上記請求項５によれば、Ｑスイッチ繰り返
し周波数に対する励起ランプ電流の関係に基づいてトリ
ガパルスの走査速度に応じて励起ランプ電流に制御し、
均一化したレーザパルス列のピークパワー又はエネルギ
ー値のパルスレーザを被加工物上に照射する。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。図１は連続励起Ｑスイッ
チレーザ出力装置を適用したレーザ加工装置の構成図で
ある。

【００２４】Ｎｄ：ＹＡＧレーザ装置１には、その共振
器内に配置されたＹＡＧの固体レーザ媒質に沿って励起
ランプとしてのアークランプが配置され、かつ共振器内
に音響光学Ｑスイッチ素子（以下、Ｑスイッチ素子と省
略する）が配置されている。

【００２５】このＮｄ：ＹＡＧレーザ装置１には、Ｎ
ｄ：ＹＡＧレーザ用電源２が接続されている。このＮ
ｄ：ＹＡＧレーザ用電源２には、アークランプ用の駆動
電源及びＱスイッチ素子用の駆動電源が備えられてい
る。

【００２６】ランプ電流モニタ３は、Ｎｄ：ＹＡＧレー
ザ用電源２からＮｄ：ＹＡＧレーザ装置１のアークラン
プに供給されるアークランプ電流をモニタし、そのラン
プ電流モニタ信号をＱスイッチ制御回路４に送る機能を
有している。

【００２７】このＱスイッチ制御回路４は、ランプ電流
モニタ３から出力されたランプ電流モニタ信号を入力
し、このモニタされた励起ランプ電流の時間積分値を求
め、この時間積分値が所定の設定値に達したときにＱス
イッチトリガ信号をＮｄ：ＹＡＧレーザ用電源２に送出
し、Ｑスイッチレーザパルス列の均一化を行う機能を有
している。

【００２８】このＱスイッチ制御回路４の具体的な構成
は、図２に示すように加算器４１が設けられ、この加算
器４１にランプ電流モニタ信号が入力している。この加
算器４１は、レーザ発振のしきい値（オフセット）を加
算して調整するもので、このオフセット調整はポテンシ
ョメータにより行われるようになっている。

【００２９】次に積分器４２が加算器４１の出力端子に
接続されている。この積分器４２は、加算器４１から出
力されたランプ電流モニタ信号を積分し、アークランプ
の電流積分値を求める機能を有している。この積分器４
２は、コンデンサ及び可変抵抗器により構成され、その
時定数は可変抵抗器により調整される。

【００３０】コンパレータ４３は、積分器４２により求
められるアークランプの電流積分値と設定値とを比較
し、アークランプの電流積分値が設定値に達したとき
に、マルチショットバイブレータ４４を介してＱスイッ
チトリガ信号を出力する機能を有している。

【００３１】なお、このコンパレータ４３の設定値は、
ポテンショメータにより設定されるものとなっている。
又、このコンパレータ４３からマルチショットバイブレ
ータ４４を介して出力されるＱスイッチトリガ信号は、
リセット信号として積分器４２に送られている。

【００３２】なお、マルチショットバイブレータ４４
は、装置中の遅れ時間を補償するために接続されてお
り、この遅れ時間の設定値は可変抵抗器により設定され
るものとなっている。

【００３３】一方、レーザ光偏向装置５は、スキャンミ
ラーを備え、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ装置１から出力される
Ｑスイッチパルス列のレーザ光をスキャンミラーにより
スキャニングして被加工物に照射するとき、被加工物に
対するレーザ光の走査位置をモニタ、すなわちスキャン
ミラーのＸ軸及びＹ軸の各位置信号をモニタ出力する機
能を有している。

【００３４】同期装置６は、レーザ光偏向装置５により
モニタされたスキャンミラーのＸ軸及びＹ軸の各位置信
号に基づいて被加工物上におけるレーザ光の走査速度を
求め、この走査速度に応じて励起ランプ電流を制御する
ランプ電流制御手段としての機能を有している。

【００３５】この同期装置６は、図３に示すＱスイッチ
繰り返し周波数に対するアークランプ電流の関係を保持
し、この関係に基づいてレーザ光の走査速度に応じたア
ークランプ電流に制御する機能を有している。

【００３６】すなわち、同期装置６は、Ｑスイッチ制御
回路１４とレーザ光偏向装置５との同期をとるもので、
Ｑスイッチレーザパルスのピークパワーを一定に保つた
めに必要なアーク電流値とＱスイッチレーザパルス繰り
返し数との関係により求められる次式を現実したものと
なっている。

【００３７】 Ｉ_lamp＝gain×ｆ_Q ＋offset …(1) ここで、Ｉ_lampはアークランプ電流、gainは図４に示す
特性曲線の傾き、ｆ_Q はＱスイッチレーザパルス繰り返
し数、offsetは図４に示す特性曲線のｙ切片で、Ｑスイ
ッチパルス列のピークパワー又はエネルギーを一定に保
つために必要な定数である。

【００３８】なお、図４に示すアーク電流値とＱスイッ
チレーザパルス繰り返し数との関係は、３通りのレーザ
ピークパワーの各特性曲線を示している。この同期装置
６の具体的な構成を図４に示す。

【００３９】各微分器６１、６２にそれぞれスキャナＸ
軸位置信号、スキャナＹ軸位置信号が入力している。こ
れら微分器６１、６２は、それぞれスキャナＸ軸位置信
号、スキャナＹ軸位置信号を微分処理して各軸方向の速
度を求める機能を有している。

【００４０】次に、各軸方向の速度から被加工物上のレ
ーザ光の走査速度を求めるためにＸ及びＹ軸方向の速度
成分の２乗和の平方根が計算される。すなわち、各微分
器６１、６２の各出力端子には、各絶対値器６３、６４
を介してそれぞれ各２乗器６５、６６が接続され、これ
ら２乗器６５、６６の出力端子に加算器６７、平方根器
６８が接続されている。そして、この平方根器６８の出
力端子に加算器６９が接続されている。なお、加算器６
９は、オフセットを調整を行ってアークランプ電流制御
信号としてＮｄ：ＹＡＧレーザ用電源２に送出する機能
を有している。

【００４１】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。Ｎｄ：ＹＡＧレーザ装置１のアークラン
プに対してＮｄ：ＹＡＧレーザ用電源２の駆動電源から
アークランプ電流が供給される。

【００４２】このアークランプ電流の供給によりアーク
ランプは、発光し、ＹＡＧの固体レーザ媒質は励起され
る。このとき、Ｑスイッチ素子は、動作していないの
で、励起エネルギーはポンピングされる。

【００４３】一方、ランプ電流モニタ３は、このアーク
ランプ電流をモニタし、そのランプ電流モニタ信号をＱ
スイッチ制御回路４に送る。このＱスイッチ制御回路４
は、アークランプ電流の時間積分値を求め、この時間積
分値が所定の設定値に達したときにＱスイッチトリガ信
号をＮｄ：ＹＡＧレーザ用電源２に送出する。

【００４４】すなわち、図２に示すように、加算器４１
は、ランプ電流モニタ信号にレーザ発振のしきい値を加
算してオフセット調整を行い、次の積分器４２は、加算
器４１からのランプ電流モニタ信号を積分し、アークラ
ンプの電流積分値を求める。

【００４５】コンパレータ４３は、積分器４２により求
められるアークランプの電流積分値と設定値とを比較
し、アークランプの電流積分値が設定値に達したとき
に、マルチショットバイブレータ４４を介してＱスイッ
チトリガ信号を出力する。

【００４６】このようにＱスイッチトリガ信号が出力さ
れると、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ用電源２の駆動電源は、Ｎ
ｄ：ＹＡＧレーザ装置１のＱスイッチ素子に対して駆動
電圧を印加する。

【００４７】このＱスイッチ素子が動作すると、ポンピ
ングされた励起エネルギーにより光共振が発生し、尖頭
出力の高いトリガパルスのレーザ光が出力される。これ
以降、アークランプの電流積分値が設定値に達する毎
に、Ｑスイッチ素子が動作し、尖頭出力の高いトリガパ
ルスのレーザ光が、Ｑスイッチレーザパルス列として出
力される。

【００４８】これらＱスイッチレーザパルス列は、アー
クランプの電流積分値が設定値に達する毎にＱスイッチ
素子が動作することから、１レーザパルス当たりのピー
クパワー又はエネルギーが一定に均一化されたものとな
る。

【００４９】これらＱスイッチパルス列のレーザ光は、
レーザ光偏向装置５のスキャンミラーにより走査されて
被加工物上に照射される。一方、このときレーザ光偏向
装置５は、スキャンミラーのＸ軸及びＹ軸の各位置信号
をモニタして同期装置６に送出する。

【００５０】この同期装置６は、スキャンミラーのＸ軸
及びＹ軸の各位置信号に基づいて被加工物上におけるレ
ーザ光の走査速度を求め、この走査速度に応じて励起ラ
ンプ電流を制御する。

【００５１】すなわち、図４に示すように同期装置６の
各微分器６１、６２は、それぞれスキャナＸ軸位置信
号、スキャナＹ軸位置信号を微分処理して各軸方向の速
度を求める。

【００５２】次に各絶対値器６３、６４は、各軸方向の
速度の絶対値を求め、続いて各２乗器６５、６６により
各軸方向の速度の絶対値の２乗値が求められる。次に加
算器６７は、これら２乗値の和を求め、続いて平方根器
６８は、２乗和の平方根を求めて加算器６９に送る。

【００５３】この加算器６９は、２乗和の平方根に対す
るオフセットを調整を行って、すなわち図４に示す特性
曲線のｙ切片であるオフセット（offset）をポテンショ
メータにより調整し、このオフセットをＱスイッチレー
ザパルス列のピークパワー又はエネルギーを一定に保つ
値に設定する。すなわち、被加工物上に単位長さ当たり
一定数のレーザパルスを照射するように設定する。

【００５４】かくして、加算器６９からは、オフセット
調整されたアークランプ電流制御信号が、Ｎｄ：ＹＡＧ
レーザ用電源２に送出される。このＮｄ：ＹＡＧレーザ
用電源２の駆動電源は、アークランプ電流制御信号によ
りアークランプに供給するアークランプ電流量を制御す
る。

【００５５】例えば、被加工物の角部や鋭角形状の先端
では、レーザ光の走査速度が著しく遅くなるので、Ｑス
イッチ繰り返し周波数を高くして１レーザパルス当たり
の特性、すなわちエネルギーやピークパワーを低下す
る。これにより、被加工物に対する入熱が減少し、鋭角
度が失われたり、溶け落ちたりすることがなくなる。

【００５６】以上のようにＱスイッチ制御回路４を用い
てＱスイッチレーザパルス列の均一化を行った例を図５
に示す。同図(a)(b)はスキャンミラーを正弦波上に変化
させ、アークランプ電流を制御したときのレーザパルス
波形を示している。なお、これら図は、１秒間開放で数
千パルス重ね取りした写真をもとにした場合で、同図
(a) はＱスイッチ周波数が６ｋＨｚ一定の場合、同図
(b) はＱスイッチパルス列均一化を行ったものである。

【００５７】ピークパワーのばらつきは、その最大値に
対して同図(a) では５９％、同図(b) では１５％であ
る。この事から、Ｑスイッチレーザパルス列の均一化を
行うことによりＱスイッチレーザパルス列が均一化され
ていることがわかる。

【００５８】又、同図(c) はＱスイッチ繰り返し周波数
を６ｋＨｚ一定とし、かつアークランプ電流を一定とし
た場合のＱスイッチレーザパルス波形を重ね撮りしたも
のである。このピークパワーのばらつきは、１２％であ
る。

【００５９】図５(a)(b)によりＱスイッチレーザパルス
列の均一化のためのＱスイッチ制御回路４を用いること
により、アークランプ電流をスキャンミラーと対応させ
制御した場合でも、Ｑスイッチレーザパルス列のピーク
パワーを、同図(c) に示すアークランプ電流一定、Ｑス
イッチ周波数一定のときと同程度に平坦化できることが
わかる。

【００６０】このように上記一実施の形態においては、
アークランプのアークランプ電流をモニタし、このモニ
タされたアークランプ電流の時間積分値を求め、この時
間積分値が所定の設定値に達したときにＱスイッチ素子
をスイッチング動作してトリガパルスとして出力するよ
うにしたので、Ｑスイッチレーザパルス列のピークパワ
ー又はエネルギー値を均一化できる、すなわち１レーサ
パルス当たりのピークパワー又はエネルギーを一定に均
一化できる。

【００６１】又、アークランプ電流の時間積分値が所定
の設定値に達したときにＱスイッチ素子をスイッチング
動作し、かつレーザ光の被加工物に対する走査位置をモ
ニタし、このモニタされた走査位置に基づいて被加工物
上におけるレーザ光の走査速度を求め、この走査速度に
応じてアークランプ電流を制御するようにしたので、Ｑ
スイッチレーザパルス列のピークパワー又はエネルギー
値を精度高く均一化し、被加工物上に単位長さ当たり一
定数のレーザパルスを照射できる。

【００６２】例えば、レーザ光の走査速度が著しく遅く
なる被加工物の角部や鋭角形状の先端では、Ｑスイッチ
繰り返し周波数を高くして１レーザパルス当たりのエネ
ルギーやピークパワーを低下し、被加工物に対する入熱
を減少して鋭角度を失うことなく、溶け落ちたりするこ
とがなくなる。

【００６３】

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、Ｑ
スイッチレーザパルス列のピークパワー又はエネルギー
値を精度高く均一化できる連続励起Ｑスイッチレーザ出
力装置を提供できる。

【００６４】又、本発明によれば、Ｑスイッチレーザパ
ルス列のピークパワー又はエネルギー値を精度高く均一
化して被加工物上に照射できるレーザ加工装置を提供で
きる。

【００６５】又、本発明によれば、Ｑスイッチレーザパ
ルス列のピークパワー又はエネルギー値を精度高く均一
化し、被加工物上に単位長さ当たり一定数のレーザパル
スを照射できるレーザ加工装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる連続励起Ｑスイッチレーザ出力
装置を適用したレーザ加工装置の一実施の形態を示す構
成図。

【図２】Ｑスイッチ制御回路の具体的な構成図。

【図３】Ｑスイッチ繰り返し周波数とアークランプ電流
との関係図。

【図４】同期装置の具体的な構成図。

【図５】レーザパルス列の均一化を行った例を示す図。

【符号の説明】

１…Ｎｄ：ＹＡＧレーザ装置、 ２…Ｎｄ：ＹＡＧレーザ用電源、 ３…ランプ電流モニタ、 ４…Ｑスイッチ制御回路、 ５…レーザ光偏向装置、 ６…同期装置。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 励起ランプの発光によりレーザ媒質を励
   起し、この励起エネルギーをＱスイッチ素子の動作によ
   りポンピングしかつトリガパルスとして出力する連続励
   起Ｑスイッチレーザ出力装置において、 前記励起ランプの励起ランプ電流をモニタするランプ電
   流モニタ手段と、 このランプ電流モニタ手段によりモニタされた励起ラン
   プ電流の時間積分値を求め、この時間積分値が所定の設
   定値に達したときに前記Ｑスイッチ素子をスイッチング
   動作させるＱスイッチ制御手段と、を具備したことを特
   徴とする連続励起Ｑスイッチレーザ出力装置。
2. 【請求項２】 Ｑスイッチ制御手段は、モニタされた励
   起ランプ電流を積分する積分器と、 この積分器の電流積分値と所定の設定値とを比較するコ
   ンパレータと、 このコンパレータによる比較の結果、前記電流積分値が
   前記設定値に達したときにＱスイッチトリガ信号を出力
   するマルチショットバイブレータと、を有することを特
   徴とする請求項１記載の連続励起Ｑスイッチレーザ出力
   装置。
3. 【請求項３】 励起ランプの発光によりレーザ媒質を励
   起し、この励起エネルギーをＱスイッチ素子の動作によ
   りポンピングしかつトリガパルスとして出力し、このト
   リガパルスのパルス列を被加工物に対して走査して照射
   するレーザ加工装置において、 前記励起ランプの励起ランプ電流をモニタするランプ電
   流モニタ手段と、 このランプ電流モニタ手段によりモニタされた励起ラン
   プ電流の時間積分値を求め、この時間積分値が所定の設
   定値に達したときに前記Ｑスイッチ素子をスイッチング
   動作させるＱスイッチ制御手段と、 前記被加工物に対する前記トリガパルスの走査位置をモ
   ニタする走査モニタ手段と、 この走査手段によりモニタされた走査位置に基づいて前
   記被加工物上における前記トリガパルスの走査速度を求
   め、この走査速度に応じて前記励起ランプ電流を制御す
   るランプ電流制御手段と、を具備したことを特徴とする
   レーザ加工装置。
4. 【請求項４】 Ｑスイッチ制御手段は、モニタされた励
   起ランプ電流を積分する積分器と、 この積分器の電流積分値と所定の設定値とを比較するコ
   ンパレータと、 このコンパレータによる比較の結果、前記電流積分値が
   前記設定値に達したときにＱスイッチトリガ信号を出力
   するマルチショットバイブレータと、を有することを特
   徴とする請求項３記載のレーザ加工装置。
5. 【請求項５】 ランプ電流制御手段は、Ｑスイッチ繰り
   返し周波数に対する励起ランプ電流の関係を保持し、こ
   の関係に基づいてトリガパルスの走査速度に応じて前記
   励起ランプ電流に制御する機能を有することを特徴とす
   る請求項３記載のレーザ加工装置。