JPH10152776A - 基板支持具および基板の支持方法 - Google Patents
基板支持具および基板の支持方法Info
- Publication number
- JPH10152776A JPH10152776A JP31055196A JP31055196A JPH10152776A JP H10152776 A JPH10152776 A JP H10152776A JP 31055196 A JP31055196 A JP 31055196A JP 31055196 A JP31055196 A JP 31055196A JP H10152776 A JPH10152776 A JP H10152776A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- substrate
- electromagnet
- magnetic force
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】マスクの保持・搬送・およびガラス基板上への
転写、位置決めを簡単かつ確実に行うことができ、ま
た、マスクの取り外しにおいて、取扱い性が良く、マス
クの折れぐせを防止することができ、さらに、ガラス基
板のカラーパターンを傷付けることがなく、また、マス
クエッジ部分のＩＴＯの切れも良く、にじみや影もでに
くい基板支持具および基板の支持方法を提供する。 【解決手段】開口部が形成されたプレートと、カラーパ
ターン形成された基板と、該カラーパターンが形成され
た領域に対向するように開口部が形成された磁性材料か
らなるマスクとを備え、上記プレートとマスクとの間に
基板を固定する基板支持具であって、前記プレートに永
久磁石と、磁力および磁極が変更可能な電磁石を備えさ
せてなることを特徴とする基板支持具。
転写、位置決めを簡単かつ確実に行うことができ、ま
た、マスクの取り外しにおいて、取扱い性が良く、マス
クの折れぐせを防止することができ、さらに、ガラス基
板のカラーパターンを傷付けることがなく、また、マス
クエッジ部分のＩＴＯの切れも良く、にじみや影もでに
くい基板支持具および基板の支持方法を提供する。 【解決手段】開口部が形成されたプレートと、カラーパ
ターン形成された基板と、該カラーパターンが形成され
た領域に対向するように開口部が形成された磁性材料か
らなるマスクとを備え、上記プレートとマスクとの間に
基板を固定する基板支持具であって、前記プレートに永
久磁石と、磁力および磁極が変更可能な電磁石を備えさ
せてなることを特徴とする基板支持具。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用等
のカラーフィルタを製造する工程に用いられ、カラーフ
ィルタ上に所定形状の透明導電膜を形成するための基板
支持具および基板の支持方法に関する。
のカラーフィルタを製造する工程に用いられ、カラーフ
ィルタ上に所定形状の透明導電膜を形成するための基板
支持具および基板の支持方法に関する。
【０００２】
【従來の技術】カラーフィルタの製造工程は、一般に、
ガラスや高分子フィルム等の透明矩形基板上に、真空
成膜法等を用いてのクロム成膜（または樹脂ブラック
マトリクスを塗布後セミキュアしての成膜）後、フォト
レジストを塗布し、フォトマスクを配置して露光、現
像、クロムエッチング（または現像のみ）後、フォト
レジスト剥離（の場合はキュア）を行いパターン状の
ブラック遮光層を形成し、次にブラック遮光層の上か
ら、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各着色層を所定の
パターン形状に順番に形成し、すなわち、１色目の着
色用感光材を塗布（または着色剤塗布後、セミキュ
ア）後、フォトマスクを配置し露光した後、現像を行
い、１色目のカラーパターンを形成し、同様にして２色
目以降のカラーパターンを形成し、次に、カラーパター
ンの上に保護膜層を形成し、さらに、保護膜層の上に真
空成膜法により酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を成膜した
後、エッチング法等によりパターン加工を行い、透明導
電膜を形成する工程からなる。
ガラスや高分子フィルム等の透明矩形基板上に、真空
成膜法等を用いてのクロム成膜（または樹脂ブラック
マトリクスを塗布後セミキュアしての成膜）後、フォト
レジストを塗布し、フォトマスクを配置して露光、現
像、クロムエッチング（または現像のみ）後、フォト
レジスト剥離（の場合はキュア）を行いパターン状の
ブラック遮光層を形成し、次にブラック遮光層の上か
ら、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各着色層を所定の
パターン形状に順番に形成し、すなわち、１色目の着
色用感光材を塗布（または着色剤塗布後、セミキュ
ア）後、フォトマスクを配置し露光した後、現像を行
い、１色目のカラーパターンを形成し、同様にして２色
目以降のカラーパターンを形成し、次に、カラーパター
ンの上に保護膜層を形成し、さらに、保護膜層の上に真
空成膜法により酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を成膜した
後、エッチング法等によりパターン加工を行い、透明導
電膜を形成する工程からなる。
【０００３】前記工程のうち透明導電膜を形成する方法
には、蒸着、イオンプレーテイング、スパッタ等の各種
の方法があるが、カラーフイルタの透明導電膜の基体と
なる保護膜は合成樹脂で形成されているので、保護膜の
耐熱性の面から比較的低温での成膜が可能なスパッタ法
が広く用いられている。自動化ラインにおいては、治具
内に基板とマスクを所定位置に固定し、数１０個程度の
治具をスパッタ装置内に収納しスパッタを行なってい
る。従来のスパッタ用治具は、上下２枚のプレート間
に、ガラス製基板と、この基板のカラーパターン領域以
外を覆う、例えば、ステンレス製マスクとを挟んでスプ
リング等の手段により機械的に固定していた。
には、蒸着、イオンプレーテイング、スパッタ等の各種
の方法があるが、カラーフイルタの透明導電膜の基体と
なる保護膜は合成樹脂で形成されているので、保護膜の
耐熱性の面から比較的低温での成膜が可能なスパッタ法
が広く用いられている。自動化ラインにおいては、治具
内に基板とマスクを所定位置に固定し、数１０個程度の
治具をスパッタ装置内に収納しスパッタを行なってい
る。従来のスパッタ用治具は、上下２枚のプレート間
に、ガラス製基板と、この基板のカラーパターン領域以
外を覆う、例えば、ステンレス製マスクとを挟んでスプ
リング等の手段により機械的に固定していた。
【０００４】しかしながら、従来は、ガラス製基板と、
ステンレス製マスクとの熱膨脹率の違いから、マスクの
浮きによるパターンボケや、マスクエッジ部分がカラー
パターンエッジ部分を傷付けるという問題があった。
ステンレス製マスクとの熱膨脹率の違いから、マスクの
浮きによるパターンボケや、マスクエッジ部分がカラー
パターンエッジ部分を傷付けるという問題があった。
【０００５】また、上記従来のスパッタ用治具は、基板
とマスクとをスプリング等の手段により機械的に固定し
ているために、押し付け過ぎると基板に傷が生じ、押し
付け力が弱すぎると基板とマスクとの間にうきが生じ、
透明導電膜が基板のカラーパターンのエッジに回り込ん
でしまうという（にじみ）問題を有していた。とくに、
一つの基板に複数のカラーパターンを形成しているカラ
ーフィルターの量産には、この点が特に問題となってい
た。また、スパッタ装置内は２００℃程度の高温にな
り、ガラス製基板とステンレス製マスクとの熱膨張率が
違うため、スパッタ中に両者の間に熱歪が生じ、カラー
パターンに傷を付けてしまうという問題を有していた。
とマスクとをスプリング等の手段により機械的に固定し
ているために、押し付け過ぎると基板に傷が生じ、押し
付け力が弱すぎると基板とマスクとの間にうきが生じ、
透明導電膜が基板のカラーパターンのエッジに回り込ん
でしまうという（にじみ）問題を有していた。とくに、
一つの基板に複数のカラーパターンを形成しているカラ
ーフィルターの量産には、この点が特に問題となってい
た。また、スパッタ装置内は２００℃程度の高温にな
り、ガラス製基板とステンレス製マスクとの熱膨張率が
違うため、スパッタ中に両者の間に熱歪が生じ、カラー
パターンに傷を付けてしまうという問題を有していた。
【０００６】また、マスクは薄い方が精度的にはよい
が、磁石などで固定した場合に、磁石の磁力で強く引き
付けられていると、位置調整やマスクの取り外しの時に
マスクにへこみが生じて折れぐせがつき、作業性が悪く
なるという欠点があった。
が、磁石などで固定した場合に、磁石の磁力で強く引き
付けられていると、位置調整やマスクの取り外しの時に
マスクにへこみが生じて折れぐせがつき、作業性が悪く
なるという欠点があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決するものであって、マスクの保持・搬送・およびガ
ラス基板上への転写、位置決めを簡単かつ確実に行うこ
とができ、また、マスクの取り外しにおいて、取扱い性
が良く、マスクの折れぐせを防止することができ、さら
に、ガラス基板のカラーパターンを傷付けることがな
く、また、マスクエッジ部分のＩＴＯの切れも良く、に
じみや影もでにくい基板支持具および基板の支持方法を
提供することを目的とする。
解決するものであって、マスクの保持・搬送・およびガ
ラス基板上への転写、位置決めを簡単かつ確実に行うこ
とができ、また、マスクの取り外しにおいて、取扱い性
が良く、マスクの折れぐせを防止することができ、さら
に、ガラス基板のカラーパターンを傷付けることがな
く、また、マスクエッジ部分のＩＴＯの切れも良く、に
じみや影もでにくい基板支持具および基板の支持方法を
提供することを目的とする。
【０００８】
（１）開口部が形成されたプレートと、カラーパターン
形成された基板と、該カラーパターンが形成された領域
に対向するように開口部が形成された磁性材料からなる
マスクとを備え、上記プレートとマスクとの間に基板を
固定する基板支持具であって、前記プレートに永久磁石
と、磁力および磁極が変更可能な電磁石を備えさせてな
ることを特徴とする基板支持具。
形成された基板と、該カラーパターンが形成された領域
に対向するように開口部が形成された磁性材料からなる
マスクとを備え、上記プレートとマスクとの間に基板を
固定する基板支持具であって、前記プレートに永久磁石
と、磁力および磁極が変更可能な電磁石を備えさせてな
ることを特徴とする基板支持具。
【０００９】（２）前記プレートがキャリアプレートに
セットされてなることを特徴とする前記（１）記載の基
板支持具。
セットされてなることを特徴とする前記（１）記載の基
板支持具。
【００１０】（３）前記マスクの対面位置に、該マスク
を基板上に搬送、転写する磁力および磁極が変更可能な
電磁石が移動自在に設置されてなることを特徴とする前
記（１）または（２）記載の基板支持具。
を基板上に搬送、転写する磁力および磁極が変更可能な
電磁石が移動自在に設置されてなることを特徴とする前
記（１）または（２）記載の基板支持具。
【００１１】（４）前記マスクの材質が、ガラスと熱膨
張率がほぼ等しい合金からなるものであることを特徴と
する前記（１）〜（３）のいずれかに記載の基板支持
具。
張率がほぼ等しい合金からなるものであることを特徴と
する前記（１）〜（３）のいずれかに記載の基板支持
具。
【００１２】（５）前記マスクの厚みが、０．１ｍｍ〜
１ｍｍであることを特徴とする前記（１）〜（４）のい
ずれかに記載の基板支持具。
１ｍｍであることを特徴とする前記（１）〜（４）のい
ずれかに記載の基板支持具。
【００１３】（６）前記永久磁石が、サマリウムコバル
ト系の磁石であることを特徴とする前記（１）〜（５）
のいずれかに記載の基板支持具。
ト系の磁石であることを特徴とする前記（１）〜（５）
のいずれかに記載の基板支持具。
【００１４】（７）カラーパターンが形成された基板
を、該カラーパターンが形成された領域に対向するよう
に開口部が形成された磁性材料からなるマスクと、開口
部が形成された永久磁石と、磁力および磁極が変更可能
な電磁石を備えさせてなるプレートと、の間に挟持する
に際し、上記電磁石の磁力を下げて、永久磁石の磁力に
よって前記マスクを基板を介して挟持することを特徴と
する基板の支持方法。
を、該カラーパターンが形成された領域に対向するよう
に開口部が形成された磁性材料からなるマスクと、開口
部が形成された永久磁石と、磁力および磁極が変更可能
な電磁石を備えさせてなるプレートと、の間に挟持する
に際し、上記電磁石の磁力を下げて、永久磁石の磁力に
よって前記マスクを基板を介して挟持することを特徴と
する基板の支持方法。
【００１５】（８）前記マスクを磁力および磁極が変更
可能な電磁石により吸着保持して、前記基板上の位置に
搬送し、基板上に転写するに際し、前記プレートの電磁
石により永久磁石の磁力を下げた状態にて、前記吸着保
持された電磁石から基板上にマスクを転写することを特
徴とする前記（７）に記載の基板の支持方法。
可能な電磁石により吸着保持して、前記基板上の位置に
搬送し、基板上に転写するに際し、前記プレートの電磁
石により永久磁石の磁力を下げた状態にて、前記吸着保
持された電磁石から基板上にマスクを転写することを特
徴とする前記（７）に記載の基板の支持方法。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照しつつ説明する。
照しつつ説明する。
【００１７】図１及び図２は本発明の基板支持具の実施
例を示し、図１は電磁石を用いてマスクを搬送、転写し
た後の状態を示す断面図である。
例を示し、図１は電磁石を用いてマスクを搬送、転写し
た後の状態を示す断面図である。
【００１８】図２はマスク、ガラス基板をセットする前
の、キャリアプレートにプレートをセットした状態を示
す斜視図である。
の、キャリアプレートにプレートをセットした状態を示
す斜視図である。
【００１９】図において、本発明の基板支持具は、開口
部１ａ、１ｂが形成されたプレート１と、カラーパター
ン３ａ、３ｂが形成されたガラス基板３と、カラーパタ
ーン３ａ、３ｂに対向するように開口部２ａ、２ｂが形
成されたマスク２とを備え、プレート１とマスク２とガ
ラス基板３を固定する治具であって、マスク２の固定に
は、開口部でない（カラーパターンのない）部分に永久
磁石９と電磁石８Ｂとを埋め込んだプレート１を用い
る。
部１ａ、１ｂが形成されたプレート１と、カラーパター
ン３ａ、３ｂが形成されたガラス基板３と、カラーパタ
ーン３ａ、３ｂに対向するように開口部２ａ、２ｂが形
成されたマスク２とを備え、プレート１とマスク２とガ
ラス基板３を固定する治具であって、マスク２の固定に
は、開口部でない（カラーパターンのない）部分に永久
磁石９と電磁石８Ｂとを埋め込んだプレート１を用い
る。
【００２０】このような治具とすることにより、ガラス
基板３の挟着には、永久磁石９の磁力を用い、取り外し
には、永久磁石９と逆印加電磁石８Ｂの磁力を与え永久
磁石９の磁力を下げて、取り外し時にマスク２の折れぐ
せの生じないようにでき、さらには機械化して作業性を
良くし、位置精度を向上させることができるようにし
た。
基板３の挟着には、永久磁石９の磁力を用い、取り外し
には、永久磁石９と逆印加電磁石８Ｂの磁力を与え永久
磁石９の磁力を下げて、取り外し時にマスク２の折れぐ
せの生じないようにでき、さらには機械化して作業性を
良くし、位置精度を向上させることができるようにし
た。
【００２１】上記のごとく、ガラス基板３と開口部を有
するマスク２は、プレート１に固定され、さらに該プレ
ート１はキャリアープレート６に複数個セットされ、ス
パッタ装置内に搬送され、マスク２側からマスク２の開
口部を通してガラス基板上に透明導電膜を形成する。な
お、プレート１はキャリアープレート６に止めネジ７に
より固定されている。
するマスク２は、プレート１に固定され、さらに該プレ
ート１はキャリアープレート６に複数個セットされ、ス
パッタ装置内に搬送され、マスク２側からマスク２の開
口部を通してガラス基板上に透明導電膜を形成する。な
お、プレート１はキャリアープレート６に止めネジ７に
より固定されている。
【００２２】前記したように、プレート１の、ガラス基
板３の裏面側には、開口部でない（カラーパターンのな
い）部分に永久磁石９と、該永久磁石の下側位置に電磁
石８Ｂが埋め込まれ、磁性材料からなるマスク２との間
でガラス基板３を挟着できるようになっている。
板３の裏面側には、開口部でない（カラーパターンのな
い）部分に永久磁石９と、該永久磁石の下側位置に電磁
石８Ｂが埋め込まれ、磁性材料からなるマスク２との間
でガラス基板３を挟着できるようになっている。
【００２３】マスク２の上方位置には、該マスク２をガ
ラス基板３の上に搬送、転写する磁力および磁極の変更
できる電磁石８Ａが移動自在に設置されている。
ラス基板３の上に搬送、転写する磁力および磁極の変更
できる電磁石８Ａが移動自在に設置されている。
【００２４】また、電磁石８Ａ、８Ｂは、それぞれ電流
方向を切り替え、磁極をプラス（＋）、マイナス（−）
に切り替え可能なスイッチが設けられているとともに、
電圧を可変にし、磁束密度を可変にするためのインバー
タスイッチが設けられている。
方向を切り替え、磁極をプラス（＋）、マイナス（−）
に切り替え可能なスイッチが設けられているとともに、
電圧を可変にし、磁束密度を可変にするためのインバー
タスイッチが設けられている。
【００２５】このようなスパッタ用治具において、永久
磁石９が常にプラス（＋）の磁極があるとして、上記本
発明装置の作動を以下に説明する。なお、プラス
（＋）、マイナス（−）の磁極は、全て反対にしても、
同様の効果が得られる。
磁石９が常にプラス（＋）の磁極があるとして、上記本
発明装置の作動を以下に説明する。なお、プラス
（＋）、マイナス（−）の磁極は、全て反対にしても、
同様の効果が得られる。
【００２６】（１）まず、電磁石８Ａをマイナス（−）
に印加させ、ＩＴＯマスク２を保持・運搬させる。
に印加させ、ＩＴＯマスク２を保持・運搬させる。
【００２７】（２）電磁石８Ｂをマイナス（−）に印加
させ、永久磁石９の磁力に相当する分をかけ、永久磁石
９の磁力が効かないようにする。
させ、永久磁石９の磁力に相当する分をかけ、永久磁石
９の磁力が効かないようにする。
【００２８】（３）ＩＴＯマスク２を保持した電磁石８
Ａを所定のガラス基板３の上方位置に移動させ、電磁石
８Ｂのマイナス（−）の磁力を下げて（電圧を下げ
て）、永久磁石９の磁力が徐々に効くようにする。
Ａを所定のガラス基板３の上方位置に移動させ、電磁石
８Ｂのマイナス（−）の磁力を下げて（電圧を下げ
て）、永久磁石９の磁力が徐々に効くようにする。
【００２９】（４）電磁石８Ａのマイナス（−）印加の
電圧をなくし、スイッチをＯＦＦにする。と同時に、電
磁石８Ｂのマイナス（−）印加の電圧をなくした後、ス
イッチをＯＦＦにする。電磁石８Ｂはプラス（＋）印加
にスイッチを切り替えて、徐々に電圧を上げる。ＩＴＯ
マスク２は永久磁石９側に転写される。
電圧をなくし、スイッチをＯＦＦにする。と同時に、電
磁石８Ｂのマイナス（−）印加の電圧をなくした後、ス
イッチをＯＦＦにする。電磁石８Ｂはプラス（＋）印加
にスイッチを切り替えて、徐々に電圧を上げる。ＩＴＯ
マスク２は永久磁石９側に転写される。
【００３０】（５）転写後は、電磁石８Ｂのプラス
（＋）の電圧を徐々に下げてからスイッチを切り、永久
磁石９のみでマスク２を保持する。
（＋）の電圧を徐々に下げてからスイッチを切り、永久
磁石９のみでマスク２を保持する。
【００３１】ここで、ＩＴＯマスク２の位置にずれが生
じた場合は、 （６）永久磁石９はプラス（＋）であるので、電磁石８
Ｂをマイナス（−）の磁力で永久磁石９の磁力に相当す
る分をかけ、永久磁石９の磁力が効かないようにする。
電磁石８Ａをマイナス（−）に印加した後、徐々に電圧
を上げて磁力を上げ、電磁石８Ａ側へＩＴＯマスク２を
転写する。
じた場合は、 （６）永久磁石９はプラス（＋）であるので、電磁石８
Ｂをマイナス（−）の磁力で永久磁石９の磁力に相当す
る分をかけ、永久磁石９の磁力が効かないようにする。
電磁石８Ａをマイナス（−）に印加した後、徐々に電圧
を上げて磁力を上げ、電磁石８Ａ側へＩＴＯマスク２を
転写する。
【００３２】（７）電磁石８Ａの印加電圧を保持できる
程度まで下げた後、再び、（１）〜（５）を繰り返す。
程度まで下げた後、再び、（１）〜（５）を繰り返す。
【００３３】以下、本発明の動作をまとめると次のよう
になる。
になる。
【００３４】 運搬時 →転写前 →転写時 →転写後 電磁石８Ａ マイナス（−）→マイナス（−）→ＯＦＦ →ＯＦＦ 永久磁石９ プラス（＋） →プラス（＋） →プラス（＋）→プラス（＋） 電磁石８Ｂ ＯＦＦ →マイナス（−）→プラス（＋）→ＯＦＦ 本発明において、マスク２の材質はガラスと熱膨張率が
ほぼ等しい合金からなることが好ましい。このような合
金の好ましい例としては、４２合金（ニッケルと鉄から
なる合金）、たとえば、ニッケル４２％、鉄５８％など
が挙げられる。また、マスクの厚みは０．１ｍｍ〜１ｍ
ｍ、好ましくは、０．２５ｍｍ〜０．５ｍｍのものが適
している。ＩＴＯマスクの厚みが厚くなると、重量が重
くなるが、重くなると強い磁力が必要になる。厚みの薄
いマスクを用いると、その分軽くなり、永久磁石の微量
の磁力でも保持および位置決めが可能となる。
ほぼ等しい合金からなることが好ましい。このような合
金の好ましい例としては、４２合金（ニッケルと鉄から
なる合金）、たとえば、ニッケル４２％、鉄５８％など
が挙げられる。また、マスクの厚みは０．１ｍｍ〜１ｍ
ｍ、好ましくは、０．２５ｍｍ〜０．５ｍｍのものが適
している。ＩＴＯマスクの厚みが厚くなると、重量が重
くなるが、重くなると強い磁力が必要になる。厚みの薄
いマスクを用いると、その分軽くなり、永久磁石の微量
の磁力でも保持および位置決めが可能となる。
【００３５】厚みの薄いマスクを用いると、マスクの取
外しの際、その磁力が邪魔になるが、厚みが薄いと、外
す際の持った部分と磁石で吸着している境界で「ヘコ」
と称する折れぐせが生じる場合があるが、永久磁石の微
量の磁力で保持しているため、このような折れぐせを防
止することができる。
外しの際、その磁力が邪魔になるが、厚みが薄いと、外
す際の持った部分と磁石で吸着している境界で「ヘコ」
と称する折れぐせが生じる場合があるが、永久磁石の微
量の磁力で保持しているため、このような折れぐせを防
止することができる。
【００３６】永久磁石９は、サマリウムコバルト系磁石
であることが好ましい。一般に永久磁石は室温では強い
磁力を有していても、２００℃以上の温度になると磁力
が減少する。サマリウムコバルト系の磁石はこのような
高温においても磁力の低下が少ないからである。
であることが好ましい。一般に永久磁石は室温では強い
磁力を有していても、２００℃以上の温度になると磁力
が減少する。サマリウムコバルト系の磁石はこのような
高温においても磁力の低下が少ないからである。
【００３７】なお、本発明においては、ガラス基板を吸
着、保持、搬送、転写して、マスクの位置決めを行う
が、マスク、ガラス基板エッジを止め金具で把持する
際、止め金の把持部分に、合成樹脂フィルムを張り付け
ることで、ガラス基板の傷の発生を防止することができ
る。
着、保持、搬送、転写して、マスクの位置決めを行う
が、マスク、ガラス基板エッジを止め金具で把持する
際、止め金の把持部分に、合成樹脂フィルムを張り付け
ることで、ガラス基板の傷の発生を防止することができ
る。
【００３８】この場合、前記合成樹脂としては、基板上
に薄膜を形成する際の熱による劣化を防ぐため、２００
℃以上の耐熱性を有しているものが好ましい。一例を挙
げると、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂
などである。これら合成樹脂は、基板支持具の基板との
接触部に上記樹脂をコーティングしてもよいし、予め所
定の形状に加工した上記樹脂を接合してもよい。被膜の
厚さは特に限定されないが、被膜の耐久性と樹脂からの
放出ガスの容易性の点から、１〜１００００μｍの範囲
が好ましい。１μｍより薄いと被膜の耐久性が悪く、使
用中に膜が剥がれやすい。また、１００００μｍより厚
いと樹脂からの放出ガスの影響で光線透過率が低下した
り、抵抗値が悪くなりやすいからである。
に薄膜を形成する際の熱による劣化を防ぐため、２００
℃以上の耐熱性を有しているものが好ましい。一例を挙
げると、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂
などである。これら合成樹脂は、基板支持具の基板との
接触部に上記樹脂をコーティングしてもよいし、予め所
定の形状に加工した上記樹脂を接合してもよい。被膜の
厚さは特に限定されないが、被膜の耐久性と樹脂からの
放出ガスの容易性の点から、１〜１００００μｍの範囲
が好ましい。１μｍより薄いと被膜の耐久性が悪く、使
用中に膜が剥がれやすい。また、１００００μｍより厚
いと樹脂からの放出ガスの影響で光線透過率が低下した
り、抵抗値が悪くなりやすいからである。
【００３９】ポリイミドフィルムは、２００℃の高温に
耐える耐熱性材料であり、かつ、ガスを発生することが
ないため好ましく、カラーパターンに悪影響を与えるこ
とがない。
耐える耐熱性材料であり、かつ、ガスを発生することが
ないため好ましく、カラーパターンに悪影響を与えるこ
とがない。
【００４０】マスクは、エッチングにて作製されたもの
が好ましい。
が好ましい。
【００４１】
【発明の効果】本発明は、上記の構成とすることによ
り、マスクの保持・搬送・およびガラス基板上への転
写、位置決めを簡単かつ確実に行うことができ、また、
マスクの取り外しは、電磁石の逆印加磁力でかるくなっ
たために取扱い性が良く、マスクの折れぐせを防止する
ことができるという効果を奏する。さらに、ガラス基板
のカラーパターンを傷付けることがなく、また、マスク
エッジ部分のＩＴＯの切れも良く、にじみや影もでにく
い基板支持具とすることができる。
り、マスクの保持・搬送・およびガラス基板上への転
写、位置決めを簡単かつ確実に行うことができ、また、
マスクの取り外しは、電磁石の逆印加磁力でかるくなっ
たために取扱い性が良く、マスクの折れぐせを防止する
ことができるという効果を奏する。さらに、ガラス基板
のカラーパターンを傷付けることがなく、また、マスク
エッジ部分のＩＴＯの切れも良く、にじみや影もでにく
い基板支持具とすることができる。
【図１】本発明に係るスパッタ用治具の実施例を示す断
面図である。
面図である。
【図２】本発明に係るマスク、ガラス基板をセットする
前の、キャリアプレートにプレートをセットした状態の
一例を示す斜視図である。
前の、キャリアプレートにプレートをセットした状態の
一例を示す斜視図である。
１：プレート １ａ、１ｂ：開口部 ２：マスク ２ａ、２ｂ：開口部 ３：ガラス碁板 ３ａ、３ｂ：カラーパターン ５：止めピン ６：キャリアプレート ７：止めネジ ８Ａ、８Ｂ：電磁石 ９：永久磁石
Claims (8)
- 【請求項１】開口部が形成されたプレートと、カラーパ
ターン形成された基板と、該カラーパターンが形成され
た領域に対向するように開口部が形成された磁性材料か
らなるマスクとを備え、上記プレートとマスクとの間に
基板を固定する基板支持具であって、前記プレートに永
久磁石と、磁力および磁極が変更可能な電磁石を備えさ
せてなることを特徴とする基板支持具。 - 【請求項２】前記プレートがキャリアプレートにセット
されてなることを特徴とする請求項１記載の基板支持
具。 - 【請求項３】前記マスクの対面位置に、該マスクを基板
上に搬送、転写する磁力および磁極が変更可能な電磁石
が移動自在に設置されてなることを特徴とする請求項１
または２記載の基板支持具。 - 【請求項４】前記マスクの材質が、ガラスと熱膨張率が
ほぼ等しい合金からなるものであることを特徴とする請
求項１〜３のいずれかに記載の基板支持具。 - 【請求項５】前記マスクの厚みが、０．１ｍｍ〜１ｍｍ
であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載
の基板支持具。 - 【請求項６】前記永久磁石が、サマリウムコバルト系の
磁石であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに
記載の基板支持具。 - 【請求項７】カラーパターンが形成された基板を、該カ
ラーパターンが形成された領域に対向するように開口部
が形成された磁性材料からなるマスクと、開口部が形成
された永久磁石と、磁力および磁極が変更可能な電磁石
を備えさせてなるプレートと、の間に挟持するに際し、
上記電磁石の磁力を下げて、永久磁石の磁力によって前
記マスクを基板を介して挟持することを特徴とする基板
の支持方法。 - 【請求項８】前記マスクを磁力および磁極が変更可能な
電磁石により吸着保持して、前記基板上の位置に搬送
し、基板上に転写するに際し、前記プレートの電磁石に
より永久磁石の磁力を下げた状態にて、前記吸着保持さ
れた電磁石から基板上にマスクを転写することを特徴と
する請求項７に記載の基板の支持方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31055196A JP3885261B2 (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | 基板支持具および基板の支持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31055196A JP3885261B2 (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | 基板支持具および基板の支持方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10152776A true JPH10152776A (ja) | 1998-06-09 |
| JP3885261B2 JP3885261B2 (ja) | 2007-02-21 |
Family
ID=18006607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31055196A Expired - Lifetime JP3885261B2 (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | 基板支持具および基板の支持方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3885261B2 (ja) |
Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1202329A2 (en) * | 2000-10-31 | 2002-05-02 | The Boc Group, Inc. | Mask Restraining method and apparatus |
| KR100468792B1 (ko) * | 2002-05-28 | 2005-01-29 | 주식회사 야스 | 기판과 쉐도우 마스크 고정장치 |
| EP1715076A1 (de) * | 2005-04-20 | 2006-10-25 | Applied Films GmbH & Co. KG | Verfahren und Vorrichtung zur Maskenpositionierung |
| EP1715075A1 (de) * | 2005-04-20 | 2006-10-25 | Applied Films GmbH & Co. KG | Magnetische Maskenhalterung |
| JP2007204824A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 基板ホルダー部および成膜装置 |
| KR100786844B1 (ko) | 2006-10-13 | 2007-12-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기발광표시장치의 제조장치 |
| KR100841087B1 (ko) | 2006-06-20 | 2008-06-25 | 세메스 주식회사 | 자기력을 이용한 기판 고정 장치 |
| WO2009118888A1 (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | キヤノンアネルバ株式会社 | 真空処理装置、当該真空処理装置を用いた画像表示装置の製造方法及び当該真空処理装置により製造される電子装置 |
| JP2010518586A (ja) * | 2007-02-13 | 2010-05-27 | フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー．ブイ． | 磁気マスクデバイスを使用する基板プラズマ処理 |
| US7771539B2 (en) | 2005-07-18 | 2010-08-10 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Holder for fabricating organic light emitting display |
| JP2011174185A (ja) * | 2011-05-20 | 2011-09-08 | Ulvac Japan Ltd | 基板へのスパッタ薄膜の形成方法および搬送キャリア |
| WO2011114829A1 (ja) * | 2010-03-19 | 2011-09-22 | 東京エレクトロン株式会社 | マスク保持装置及び薄膜形成装置 |
| JP2011184802A (ja) * | 2004-07-06 | 2011-09-22 | Ulvac Japan Ltd | 基板への蒸着被膜の形成方法および搬送トレイ |
| JP2012143867A (ja) * | 2005-08-26 | 2012-08-02 | Nikon Corp | 保持装置、組立てシステム、スパッタリング装置、並びに加工方法及び加工装置 |
| KR101367664B1 (ko) * | 2006-09-07 | 2014-03-14 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 기판 합착 장치 및 그 방법 |
| KR101514214B1 (ko) * | 2013-12-30 | 2015-04-22 | 주식회사 에스에프에이 | 기판과 마스크의 어태치 장치 |
| KR20150053733A (ko) * | 2012-04-19 | 2015-05-18 | 인테벡, 인코포레이티드 | 태양 전지 제조를 위한 이중 마스크 장치 |
| KR101530445B1 (ko) * | 2013-12-23 | 2015-07-02 | 신화일렉트론 주식회사 | 금속 산화막 형성 장치 |
| CN106637087A (zh) * | 2016-11-18 | 2017-05-10 | 上海天马微电子有限公司 | 蒸镀设备 |
| JP6302150B1 (ja) * | 2017-08-21 | 2018-03-28 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JP6301043B1 (ja) * | 2017-04-12 | 2018-03-28 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JP2018178250A (ja) * | 2018-02-27 | 2018-11-15 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JP2018193618A (ja) * | 2016-03-10 | 2018-12-06 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 | 蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| KR20190019781A (ko) * | 2017-08-19 | 2019-02-27 | 주식회사 야스 | 스위칭 마그넷의 자력을 이용한 기판홀딩장치 |
| JP2019035138A (ja) * | 2018-03-01 | 2019-03-07 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| KR20190095220A (ko) * | 2019-08-05 | 2019-08-14 | 주식회사 야스 | 스위칭 마그넷의 자력을 이용한 기판홀딩장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101837292B1 (ko) | 2016-09-07 | 2018-03-09 | 인하대학교 산학협력단 | 미세박판 고정지그 |
-
1996
- 1996-11-21 JP JP31055196A patent/JP3885261B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1202329A3 (en) * | 2000-10-31 | 2006-04-12 | The Boc Group, Inc. | Mask Restraining method and apparatus |
| EP1202329A2 (en) * | 2000-10-31 | 2002-05-02 | The Boc Group, Inc. | Mask Restraining method and apparatus |
| KR100468792B1 (ko) * | 2002-05-28 | 2005-01-29 | 주식회사 야스 | 기판과 쉐도우 마스크 고정장치 |
| JP2011184802A (ja) * | 2004-07-06 | 2011-09-22 | Ulvac Japan Ltd | 基板への蒸着被膜の形成方法および搬送トレイ |
| KR100800237B1 (ko) * | 2005-04-20 | 2008-02-01 | 어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게 | 마스크 포지셔닝 장치 및 방법 |
| EP1715075A1 (de) * | 2005-04-20 | 2006-10-25 | Applied Films GmbH & Co. KG | Magnetische Maskenhalterung |
| JP2006302897A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Applied Films Gmbh & Co Kg | 磁気マスクホルダー |
| KR100777534B1 (ko) * | 2005-04-20 | 2007-11-20 | 어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게 | 자석 마스크 홀더 |
| JP2006302896A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Applied Films Gmbh & Co Kg | マスク位置決め用の方法および装置 |
| EP1715076A1 (de) * | 2005-04-20 | 2006-10-25 | Applied Films GmbH & Co. KG | Verfahren und Vorrichtung zur Maskenpositionierung |
| US7771539B2 (en) | 2005-07-18 | 2010-08-10 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Holder for fabricating organic light emitting display |
| JP2012143867A (ja) * | 2005-08-26 | 2012-08-02 | Nikon Corp | 保持装置、組立てシステム、スパッタリング装置、並びに加工方法及び加工装置 |
| JP2007204824A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 基板ホルダー部および成膜装置 |
| KR100841087B1 (ko) | 2006-06-20 | 2008-06-25 | 세메스 주식회사 | 자기력을 이용한 기판 고정 장치 |
| KR101367664B1 (ko) * | 2006-09-07 | 2014-03-14 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 기판 합착 장치 및 그 방법 |
| KR100786844B1 (ko) | 2006-10-13 | 2007-12-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기발광표시장치의 제조장치 |
| JP2010518586A (ja) * | 2007-02-13 | 2010-05-27 | フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー．ブイ． | 磁気マスクデバイスを使用する基板プラズマ処理 |
| WO2009118888A1 (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | キヤノンアネルバ株式会社 | 真空処理装置、当該真空処理装置を用いた画像表示装置の製造方法及び当該真空処理装置により製造される電子装置 |
| WO2011114829A1 (ja) * | 2010-03-19 | 2011-09-22 | 東京エレクトロン株式会社 | マスク保持装置及び薄膜形成装置 |
| JP2011174185A (ja) * | 2011-05-20 | 2011-09-08 | Ulvac Japan Ltd | 基板へのスパッタ薄膜の形成方法および搬送キャリア |
| JP2015520799A (ja) * | 2012-04-19 | 2015-07-23 | インテヴァック インコーポレイテッド | 太陽電池製造のための２重マスク装置 |
| KR20150053733A (ko) * | 2012-04-19 | 2015-05-18 | 인테벡, 인코포레이티드 | 태양 전지 제조를 위한 이중 마스크 장치 |
| KR101530445B1 (ko) * | 2013-12-23 | 2015-07-02 | 신화일렉트론 주식회사 | 금속 산화막 형성 장치 |
| KR101514214B1 (ko) * | 2013-12-30 | 2015-04-22 | 주식회사 에스에프에이 | 기판과 마스크의 어태치 장치 |
| JP2018193618A (ja) * | 2016-03-10 | 2018-12-06 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 | 蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| CN106637087A (zh) * | 2016-11-18 | 2017-05-10 | 上海天马微电子有限公司 | 蒸镀设备 |
| US10689747B2 (en) | 2016-11-18 | 2020-06-23 | Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. | Evaporation device |
| CN110494585B (zh) * | 2017-04-12 | 2021-11-16 | 堺显示器制品株式会社 | 蒸镀装置、蒸镀方法以及有机el显示装置的制造方法 |
| WO2018189833A1 (ja) * | 2017-04-12 | 2018-10-18 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JP6301043B1 (ja) * | 2017-04-12 | 2018-03-28 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| US10340456B2 (en) | 2017-04-12 | 2019-07-02 | Sakai Display Products Corporation | Vapor deposition method with electromagnets generating magnetic field in reverse orientation |
| US10741765B2 (en) | 2017-04-12 | 2020-08-11 | Sakai Display Products Corporation | Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic EL display apparatus |
| CN110494585A (zh) * | 2017-04-12 | 2019-11-22 | 堺显示器制品株式会社 | 蒸镀装置、蒸镀方法以及有机el显示装置的制造方法 |
| US10580986B2 (en) | 2017-04-12 | 2020-03-03 | Sakai Display Products Corporation | Vapor deposition apparatus with electromagnets generating magnetic field in reverse orientation |
| KR20190019781A (ko) * | 2017-08-19 | 2019-02-27 | 주식회사 야스 | 스위칭 마그넷의 자력을 이용한 기판홀딩장치 |
| WO2019038812A1 (ja) * | 2017-08-21 | 2019-02-28 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JP6302150B1 (ja) * | 2017-08-21 | 2018-03-28 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| US10422029B2 (en) | 2017-08-21 | 2019-09-24 | Sakai Display Products Corporation | Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic el display apparatus |
| US10513770B2 (en) | 2017-08-21 | 2019-12-24 | Sakai Display Products Corporation | Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic EL display apparatus |
| CN111032907A (zh) * | 2017-08-21 | 2020-04-17 | 堺显示器制品株式会社 | 蒸镀装置、蒸镀方法以及有机el显示装置的制造方法 |
| JP2018178250A (ja) * | 2018-02-27 | 2018-11-15 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JP2019035138A (ja) * | 2018-03-01 | 2019-03-07 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| KR20190095220A (ko) * | 2019-08-05 | 2019-08-14 | 주식회사 야스 | 스위칭 마그넷의 자력을 이용한 기판홀딩장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3885261B2 (ja) | 2007-02-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH10152776A (ja) | 基板支持具および基板の支持方法 | |
| US6875542B2 (en) | Mask and method of manufacturing the same, electroluminescence device and method of manufacturing the same, and electronic instrument | |
| US4746548A (en) | Method for registration of shadow masked thin-film patterns | |
| JP2012111985A (ja) | 蒸着マスクおよびそれを用いた薄膜パターン形成方法 | |
| US4615781A (en) | Mask assembly having mask stress relieving feature | |
| JP2003173872A (ja) | アライメント方法、パターン形成方法及びアライメント装置、並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 | |
| JP2012222222A (ja) | 基板クランプ装置 | |
| JP2002038254A (ja) | 導電膜パターン化用マスク | |
| JP3465797B2 (ja) | カラーフィルタのスパッタ用治具 | |
| KR100994017B1 (ko) | 마스크를 이용한 패턴의 제조방법 | |
| JPH0688206A (ja) | スパッタ用治具 | |
| US4584216A (en) | Precured split hinge for photomask assembly | |
| JPS6240458A (ja) | 薄膜パタ−ンの露光方法 | |
| JPH10319222A (ja) | 微細パターンの製造方法 | |
| JP4480239B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| US8128830B2 (en) | Labeling an imprint lithography template | |
| JPH09143733A (ja) | スパッタ膜の製造方法およびスパッタ膜 | |
| JPH11131212A (ja) | 枚葉式スパッタ装置、枚葉式スパッタ方法及びスパッタ膜 | |
| JP2005281834A (ja) | 成膜方法および成膜装置 | |
| JP2003268530A (ja) | スパッタ用治具 | |
| US20230220534A1 (en) | Mask-integrated frame and method of manufacturing the same | |
| JPH10183330A (ja) | 透明導電層用マスク及びカラーフィルタ | |
| JP2003029657A (ja) | 表示素子の製造方法及びフィルム基板保持具 | |
| JP2002212721A (ja) | スパッタ用メタルマスク | |
| JP2007258336A (ja) | 薄膜パターン化用マスクとその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061019 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061031 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091201 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101201 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111201 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121201 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131201 Year of fee payment: 7 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |