JPH10142219A - 循環冷却水の水質管理方法 - Google Patents
循環冷却水の水質管理方法Info
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- JPH10142219A JPH10142219A JP8304450A JP30445096A JPH10142219A JP H10142219 A JPH10142219 A JP H10142219A JP 8304450 A JP8304450 A JP 8304450A JP 30445096 A JP30445096 A JP 30445096A JP H10142219 A JPH10142219 A JP H10142219A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 冷却水循環系におけるブロー排出量及び液剤
注入量を制御して、循環冷却水の水質を管理する水質管
理方法を提供する。 【解決手段】 循環冷却水の一部を、サンプリング配
管１１３を経由してサンプリングし、汚れ測定装置１２
０のチューブ１２１と、腐食度測定装置１３０とに夫々
導入する。チューブ１２１を外側から加熱して、その熱
伝導の状況に基づいてチューブ１２１の内面に付着した
スケール量を判定する。また、腐食度測定装置１３０の
水槽内に１対の金属電極を浸漬し、金属電極間のカップ
リング電流、電気化学的電流ノイズ、電気化学的電位ノ
イズ、及び、金属細片の腐食度（mm）を測定する。これ
ら測定された各データに基づいて循環冷却水の水質及び
付着したスケール量を判定し、ブロー排出装置１０９、
１１０による循環冷却水の排出量、及び、水処理薬剤注
入装置１０３による薬剤注入量を制御する。
注入量を制御して、循環冷却水の水質を管理する水質管
理方法を提供する。 【解決手段】 循環冷却水の一部を、サンプリング配
管１１３を経由してサンプリングし、汚れ測定装置１２
０のチューブ１２１と、腐食度測定装置１３０とに夫々
導入する。チューブ１２１を外側から加熱して、その熱
伝導の状況に基づいてチューブ１２１の内面に付着した
スケール量を判定する。また、腐食度測定装置１３０の
水槽内に１対の金属電極を浸漬し、金属電極間のカップ
リング電流、電気化学的電流ノイズ、電気化学的電位ノ
イズ、及び、金属細片の腐食度（mm）を測定する。これ
ら測定された各データに基づいて循環冷却水の水質及び
付着したスケール量を判定し、ブロー排出装置１０９、
１１０による循環冷却水の排出量、及び、水処理薬剤注
入装置１０３による薬剤注入量を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、循環冷却水の水質
管理方法に関し、特に、冷却塔における循環冷却水の水
質管理方法に関する。
管理方法に関し、特に、冷却塔における循環冷却水の水
質管理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】化学プラントでは、従来より、反応器
や、蒸留塔、熱交換器等の機器のために冷却水が用いら
れており、特に、冷却塔（冷水塔）で冷却される循環冷
却水が多用されている。冷却塔は、循環冷却水を直接に
空気と接触させて水を蒸発させ、その潜熱により水を冷
却するものであり、冷却水と空気とを直接に接触させる
構成を採用するため、単に空気温度を高くして熱を除去
する形式の空冷式熱交換器よりも伝熱効率がよい特長が
ある。
や、蒸留塔、熱交換器等の機器のために冷却水が用いら
れており、特に、冷却塔（冷水塔）で冷却される循環冷
却水が多用されている。冷却塔は、循環冷却水を直接に
空気と接触させて水を蒸発させ、その潜熱により水を冷
却するものであり、冷却水と空気とを直接に接触させる
構成を採用するため、単に空気温度を高くして熱を除去
する形式の空冷式熱交換器よりも伝熱効率がよい特長が
ある。
【０００３】開放式循環冷却水系では、種々の水処理薬
剤が冷却水に添加されて、冷却塔における腐食防止や、
スケール及びスライムの付着防止が図られている。これ
らの水処理薬剤の添加を有効にするためには、冷却水中
の水処理薬剤の濃度を所望の範囲に保持する必要があ
る。また、開放式循環冷却水系では、循環冷却水の一部
が冷却塔で蒸発するため、補給水中に含まれて系内に持
ち込まれるカルシウムやマグネシウム等の塩類やＳｉＯ
2等が循環冷却水系で濃縮され、スケール生成の原因と
なって、熱交換効率を低下させることが知られている。
このため、濃縮された冷却水の一部をブローして系外に
排出し、それに見合う補給水と、防食剤（腐食防止剤）
やスケール防止剤等の水処理薬剤とを補給することが行
われている。
剤が冷却水に添加されて、冷却塔における腐食防止や、
スケール及びスライムの付着防止が図られている。これ
らの水処理薬剤の添加を有効にするためには、冷却水中
の水処理薬剤の濃度を所望の範囲に保持する必要があ
る。また、開放式循環冷却水系では、循環冷却水の一部
が冷却塔で蒸発するため、補給水中に含まれて系内に持
ち込まれるカルシウムやマグネシウム等の塩類やＳｉＯ
2等が循環冷却水系で濃縮され、スケール生成の原因と
なって、熱交換効率を低下させることが知られている。
このため、濃縮された冷却水の一部をブローして系外に
排出し、それに見合う補給水と、防食剤（腐食防止剤）
やスケール防止剤等の水処理薬剤とを補給することが行
われている。
【０００４】ここで、上記防食剤やスケール防止剤等の
薬剤注入は、ブロー排出による排出水量と、蒸発、飛
散、漏洩等による損失水量とに見合う補給水量に応じて
定められる。しかし、損失水量を実測することは困難で
あり、実験的又は経験的に損失水量を推定しているた
め、正確な補給水量を推定すること、及び、薬剤を所望
の濃度に保持することは必ずしも容易ではない。かかる
問題を解決するため、防食剤やスケール防止剤等の薬剤
注入の管理法として、循環冷却水の電気伝導率（電導
度）を測定し、その値が一定となるように自動的にブロ
ー排出量を調節する方法が提案されている。
薬剤注入は、ブロー排出による排出水量と、蒸発、飛
散、漏洩等による損失水量とに見合う補給水量に応じて
定められる。しかし、損失水量を実測することは困難で
あり、実験的又は経験的に損失水量を推定しているた
め、正確な補給水量を推定すること、及び、薬剤を所望
の濃度に保持することは必ずしも容易ではない。かかる
問題を解決するため、防食剤やスケール防止剤等の薬剤
注入の管理法として、循環冷却水の電気伝導率（電導
度）を測定し、その値が一定となるように自動的にブロ
ー排出量を調節する方法が提案されている。
【０００５】上記提案された方法では、循環冷却水の電
気伝導率が所定値より高い場合には、冷却水のブロー排
出を行うと共に、それに見合う量の補給水を補給し、更
にその補給水量に見合った量の水処理薬剤を注入する。
逆に、電気伝導率が所定値より低い場合には、冷却水の
ブロー排出及び薬剤の注入を停止する。
気伝導率が所定値より高い場合には、冷却水のブロー排
出を行うと共に、それに見合う量の補給水を補給し、更
にその補給水量に見合った量の水処理薬剤を注入する。
逆に、電気伝導率が所定値より低い場合には、冷却水の
ブロー排出及び薬剤の注入を停止する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記提案された方法
は、薬剤の濃縮度の調節を主目的とするものであり、間
接的に腐食成分のイオン濃度を推定するものである。従
って、循環冷却水の水質は変化するものの、循環冷却水
の電気伝導率自体には大きな影響を与えない変化が生ず
る場合には、塩素イオンなどの腐食因子の濃度変化を検
知できない。例えば、塩素イオンが増加し、硫酸イオン
が減少して、循環冷却水全体の電気伝導率がバランスす
る場合には、かかる腐食性因子の増大は検知できない。
は、薬剤の濃縮度の調節を主目的とするものであり、間
接的に腐食成分のイオン濃度を推定するものである。従
って、循環冷却水の水質は変化するものの、循環冷却水
の電気伝導率自体には大きな影響を与えない変化が生ず
る場合には、塩素イオンなどの腐食因子の濃度変化を検
知できない。例えば、塩素イオンが増加し、硫酸イオン
が減少して、循環冷却水全体の電気伝導率がバランスす
る場合には、かかる腐食性因子の増大は検知できない。
【０００７】また、循環冷却水中にイオンの形態で存在
する塩類の一部が析出する場合、例えばカルシウム塩、
特に、炭酸カルシウムが析出する場合には、循環冷却水
の電気伝導率が下がるため、ブロー排出流量が減少する
方向に調節される。しかし、この場合には、炭酸カルシ
ウムの析出によりスケールが生成されるものであり、上
記提案された方法では、スケール付着の防止とは逆の方
向の制御が行われることとなる。
する塩類の一部が析出する場合、例えばカルシウム塩、
特に、炭酸カルシウムが析出する場合には、循環冷却水
の電気伝導率が下がるため、ブロー排出流量が減少する
方向に調節される。しかし、この場合には、炭酸カルシ
ウムの析出によりスケールが生成されるものであり、上
記提案された方法では、スケール付着の防止とは逆の方
向の制御が行われることとなる。
【０００８】上記したように、電気伝導率で水質管理を
行う方法は、循環冷却水中の腐食性因子による腐食や、
付着スケール量の増大を防止するための管理には不適当
であった。このため、従来から、循環冷却水の水質管理
を適正に行うことが出来る方法が要望されていた。
行う方法は、循環冷却水中の腐食性因子による腐食や、
付着スケール量の増大を防止するための管理には不適当
であった。このため、従来から、循環冷却水の水質管理
を適正に行うことが出来る方法が要望されていた。
【０００９】本発明は、上記のような実情に鑑みて成さ
れたものであり、冷却塔における循環冷却水の水質管
理、特に、腐食性因子の把握に基づく防食管理やスケー
ルなどの汚れ係数把握に基づくスケール防止管理を適正
に行うことが出来る、循環冷却水の水質管理方法を提供
することを目的とするものである。
れたものであり、冷却塔における循環冷却水の水質管
理、特に、腐食性因子の把握に基づく防食管理やスケー
ルなどの汚れ係数把握に基づくスケール防止管理を適正
に行うことが出来る、循環冷却水の水質管理方法を提供
することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第１の視点における循環冷却水の水質管理
方法は、ブロー排出装置及び水処理薬剤注入装置を備え
た冷却水循環系における循環冷却水の水質管理方法にお
いて、循環冷却水の一部をサンプリングし、該サンプリ
ングした冷却水に浸漬した１対の金属電極間のカップリ
ング電流及び電気化学的電流ノイズを測定し、該測定さ
れたデータに基づいて循環冷却水の水質を判定し、該判
定結果に基づいて、ブロー排出装置による循環冷却水の
排出量及び／又は水処理薬剤注入装置による薬剤注入量
を制御することを特徴とする。
に、本発明の第１の視点における循環冷却水の水質管理
方法は、ブロー排出装置及び水処理薬剤注入装置を備え
た冷却水循環系における循環冷却水の水質管理方法にお
いて、循環冷却水の一部をサンプリングし、該サンプリ
ングした冷却水に浸漬した１対の金属電極間のカップリ
ング電流及び電気化学的電流ノイズを測定し、該測定さ
れたデータに基づいて循環冷却水の水質を判定し、該判
定結果に基づいて、ブロー排出装置による循環冷却水の
排出量及び／又は水処理薬剤注入装置による薬剤注入量
を制御することを特徴とする。
【００１１】本発明の好ましい例では、上記サンプリン
グした冷却水に浸漬した、少なくとも一方が別の金属電
極から成る１対の金属電極を利用して、その間の電気化
学的電位ノイズを測定し、前記測定されたカップリング
電流、電気化学的電流ノイズ及び電気化学的電位ノイズ
に基づいて冷却水の水質を判定する構成が採用される。
グした冷却水に浸漬した、少なくとも一方が別の金属電
極から成る１対の金属電極を利用して、その間の電気化
学的電位ノイズを測定し、前記測定されたカップリング
電流、電気化学的電流ノイズ及び電気化学的電位ノイズ
に基づいて冷却水の水質を判定する構成が採用される。
【００１２】また、上記構成に加えて、前記サンプリン
グした冷却水に浸漬した金属の腐食度を測定することも
本発明の好ましい態様である。本発明の第１の視点の水
質管理方法は、特に防食剤の注入量の制御のために用い
ることが好ましい。
グした冷却水に浸漬した金属の腐食度を測定することも
本発明の好ましい態様である。本発明の第１の視点の水
質管理方法は、特に防食剤の注入量の制御のために用い
ることが好ましい。
【００１３】本発明の第２の視点の水質管理方法は、ブ
ロー排出装置及び水処理薬剤注入装置を備えた冷却水循
環系における循環冷却水の水質管理方法において、循環
冷却水の一部をチューブ内に導き、該循環冷却水を含む
チューブの外側より加熱し、チューブからの伝熱状況を
測定し、該測定結果に基づいてチューブに付着したスケ
ール量を推定し、該推定結果に基づいてブロー排出装置
による循環冷却水の排出量及び／又は水処理剤注入装置
による薬剤の注入量を制御することを特徴とする。
ロー排出装置及び水処理薬剤注入装置を備えた冷却水循
環系における循環冷却水の水質管理方法において、循環
冷却水の一部をチューブ内に導き、該循環冷却水を含む
チューブの外側より加熱し、チューブからの伝熱状況を
測定し、該測定結果に基づいてチューブに付着したスケ
ール量を推定し、該推定結果に基づいてブロー排出装置
による循環冷却水の排出量及び／又は水処理剤注入装置
による薬剤の注入量を制御することを特徴とする。
【００１４】上記第２の視点の水質管理方法は、特に、
スケール防止剤の注入量の制御に用いることが好まし
い。
スケール防止剤の注入量の制御に用いることが好まし
い。
【００１５】本発明の水質管理方法によると、循環冷却
水の水質又はスケール付着量が定量的に把握されるの
で、冷却塔における循環冷却水の水質管理が適正に行わ
れる。
水の水質又はスケール付着量が定量的に把握されるの
で、冷却塔における循環冷却水の水質管理が適正に行わ
れる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照し、本発明に係
る循環冷却水の水質管理方法を、その実施形態例に基づ
いて詳細に説明する。図１は、本実施形態例の方法を実
施する、冷却塔を含む循環冷却水系のブロック図であ
る。同図において、１０１は冷却塔、１０２は熱交換
器、１０３は水処理装置であり、冷却塔１０１と熱交換
器１０２との間には冷却水供給管１０４と冷却水戻り管
１０５とが配設され、冷却水供給管１０４には循環ポン
プ１０６が配設されている。
る循環冷却水の水質管理方法を、その実施形態例に基づ
いて詳細に説明する。図１は、本実施形態例の方法を実
施する、冷却塔を含む循環冷却水系のブロック図であ
る。同図において、１０１は冷却塔、１０２は熱交換
器、１０３は水処理装置であり、冷却塔１０１と熱交換
器１０２との間には冷却水供給管１０４と冷却水戻り管
１０５とが配設され、冷却水供給管１０４には循環ポン
プ１０６が配設されている。
【００１７】冷却塔１０１には、そのケーシング内に図
示しない冷却器が設置され、冷却器の上側には図示しな
い散水器が設けられており、また、冷却器の下側には散
水器から散水された冷却水を受ける図示しない受皿が設
けられている。散水器には冷却水戻り管１０５が接続さ
れており、受皿には冷却水供給管１０４が接続されてい
る。ケーシングの上部にはファンが設置され、側面には
通風用開口が設けられている。
示しない冷却器が設置され、冷却器の上側には図示しな
い散水器が設けられており、また、冷却器の下側には散
水器から散水された冷却水を受ける図示しない受皿が設
けられている。散水器には冷却水戻り管１０５が接続さ
れており、受皿には冷却水供給管１０４が接続されてい
る。ケーシングの上部にはファンが設置され、側面には
通風用開口が設けられている。
【００１８】熱交換器１０２は蓄熱部として、また冷却
塔１０１は放熱部として、夫々作用する。冷却塔１０１
内の冷却水は、循環ポンプ１０６によって、冷却供給管
１０４を経由して熱交換器１０２に供給される。熱交換
器１０２で熱交換された水は、冷却水戻り管１０５を経
由して、冷却塔１０１に循環冷却水として戻される。こ
のようにして、冷却塔１０１、冷却水供給管１０４、熱
交換器１０２、及び、冷却水戻り管１０５は、冷却水循
環系を構成している。この循環系に補給水を供給するた
めに、補給水供給管１０７が、冷却塔１０１のケーシン
グ内に差し込まれるように設置され、補給系を構成して
いる。
塔１０１は放熱部として、夫々作用する。冷却塔１０１
内の冷却水は、循環ポンプ１０６によって、冷却供給管
１０４を経由して熱交換器１０２に供給される。熱交換
器１０２で熱交換された水は、冷却水戻り管１０５を経
由して、冷却塔１０１に循環冷却水として戻される。こ
のようにして、冷却塔１０１、冷却水供給管１０４、熱
交換器１０２、及び、冷却水戻り管１０５は、冷却水循
環系を構成している。この循環系に補給水を供給するた
めに、補給水供給管１０７が、冷却塔１０１のケーシン
グ内に差し込まれるように設置され、補給系を構成して
いる。
【００１９】循環系から冷却水をブロー排出するための
ブロー排出系として、冷却水供給管１０４から分岐する
枝管にブロー弁を設ける方法、或いは、受皿にブロー配
管を設ける方法のいずれもが採用できる。本実施形態例
では、後者の方法が採用されており、受皿にブロー配管
１０８を接続し、このブロー配管１０８には、ブローポ
ンプ１０９及びブロー弁１１０が対応して設けられる。
ブロー排出系として、冷却水供給管１０４から分岐する
枝管にブロー弁を設ける方法、或いは、受皿にブロー配
管を設ける方法のいずれもが採用できる。本実施形態例
では、後者の方法が採用されており、受皿にブロー配管
１０８を接続し、このブロー配管１０８には、ブローポ
ンプ１０９及びブロー弁１１０が対応して設けられる。
【００２０】水処理装置１０３は、循環系に対して防食
剤やスケール防止剤などの水処理薬剤を注入するために
設置される。薬剤は、薬注ポンプ１１１によって、薬剤
配管１１２を経由して冷却塔１０１に送られる。薬剤配
管１１２は、冷却塔１０１のケーシング内に差し込まれ
るように設置されている。
剤やスケール防止剤などの水処理薬剤を注入するために
設置される。薬剤は、薬注ポンプ１１１によって、薬剤
配管１１２を経由して冷却塔１０１に送られる。薬剤配
管１１２は、冷却塔１０１のケーシング内に差し込まれ
るように設置されている。
【００２１】冷却水供給管１０４からは、冷却水を引き
抜くためのサンプリング配管１１３が分岐しており、こ
のサンプリング配管１１３は、汚れ測定装置１２０のチ
ューブ１２１と、腐食測定装置１３０の水槽とに接続さ
れている。
抜くためのサンプリング配管１１３が分岐しており、こ
のサンプリング配管１１３は、汚れ測定装置１２０のチ
ューブ１２１と、腐食測定装置１３０の水槽とに接続さ
れている。
【００２２】腐食測定装置１３０は、後述するように、
電気化学的ノイズ法を用いて循環冷却水に浸漬した金属
電極間のカップリング電流、電気化学的電流ノイズ及び
電気化学的電位ノイズを測定し、この測定データから、
腐食速度（腐食率）や腐食形態を求めるために利用され
る。測定結果は、制御装置１４０に入力され、制御装置
１４０からは、ブロー弁１１０及び薬注ポンプ１１１に
制御信号が出力される。例えば、循環冷却水による金属
の腐食速度が大きくなったと判断されたときには、ブロ
ー弁１１０を開放して循環冷却水をブロー排出すると共
に補給水の補給を行い、且つ、薬注ポンプ１１１の作動
を制御して、防食剤の薬注量を調節する。
電気化学的ノイズ法を用いて循環冷却水に浸漬した金属
電極間のカップリング電流、電気化学的電流ノイズ及び
電気化学的電位ノイズを測定し、この測定データから、
腐食速度（腐食率）や腐食形態を求めるために利用され
る。測定結果は、制御装置１４０に入力され、制御装置
１４０からは、ブロー弁１１０及び薬注ポンプ１１１に
制御信号が出力される。例えば、循環冷却水による金属
の腐食速度が大きくなったと判断されたときには、ブロ
ー弁１１０を開放して循環冷却水をブロー排出すると共
に補給水の補給を行い、且つ、薬注ポンプ１１１の作動
を制御して、防食剤の薬注量を調節する。
【００２３】汚れ測定装置１２０では、チューブ１２１
内に循環冷却水を通し、チューブ１２１外側よりヒータ
１２２によって加熱し、この加熱時の伝熱を測定するこ
とにより、汚れ係数を算出している。
内に循環冷却水を通し、チューブ１２１外側よりヒータ
１２２によって加熱し、この加熱時の伝熱を測定するこ
とにより、汚れ係数を算出している。
【００２４】汚れ測定装置１２０による測定結果は、同
様に制御装置１４０に入力され、制御装置１４０から
は、ブロー弁１１０及び薬注ポンプ１１１に対する制御
信号が出力される。例えば、汚れ係数が大きく、スケー
ルが析出しやすい水質と判断されたときには、ブロー弁
１１０を開放して循環冷却水をブロー排出すると共に補
給水の補給を行い、且つ、薬注ポンプ１１１の作動を制
御して、スケール防止剤の薬注量を調節する。
様に制御装置１４０に入力され、制御装置１４０から
は、ブロー弁１１０及び薬注ポンプ１１１に対する制御
信号が出力される。例えば、汚れ係数が大きく、スケー
ルが析出しやすい水質と判断されたときには、ブロー弁
１１０を開放して循環冷却水をブロー排出すると共に補
給水の補給を行い、且つ、薬注ポンプ１１１の作動を制
御して、スケール防止剤の薬注量を調節する。
【００２５】図２は、図１に示した腐食測定装置１３０
の詳細を示す。腐食測定装置１３０は、サンプリングさ
れた冷却水１２を収容する水槽１１を備えており、循環
冷却水は、図１のチューブ１２１から所定の流量で水槽
１１内に導入される。また、水槽１１からは図示しない
配管を経由して冷却水循環系に戻される。水槽１１内の
冷却水１２中には、腐食測定対象となる金属表面と実質
的に同じ材質を有する３個の測定電極、つまり、第１、
第２及び第３の各電極２１、２２、２３が浸漬されてい
る。各電極２１〜２３は、測定対象の金属表面と実質的
に同じ腐食条件である同じ温度条件の下におかれる。
の詳細を示す。腐食測定装置１３０は、サンプリングさ
れた冷却水１２を収容する水槽１１を備えており、循環
冷却水は、図１のチューブ１２１から所定の流量で水槽
１１内に導入される。また、水槽１１からは図示しない
配管を経由して冷却水循環系に戻される。水槽１１内の
冷却水１２中には、腐食測定対象となる金属表面と実質
的に同じ材質を有する３個の測定電極、つまり、第１、
第２及び第３の各電極２１、２２、２３が浸漬されてい
る。各電極２１〜２３は、測定対象の金属表面と実質的
に同じ腐食条件である同じ温度条件の下におかれる。
【００２６】第１の電極２１及び第２の電極２２から成
る第１の電極対の間には、内部抵抗がほぼゼロの電流測
定回路、いわゆる無抵抗電流計（zero resistance amme
rter）２４が接続されている。また、第２の電極２２及
び第３の電極２３から成る第２の電極対の間には、電極
側に電気的な影響を与えないで信号電圧を測定できる、
入力インピーダンスが非常に大きなアンプ回路であるバ
ッファー回路２５が接続されている。
る第１の電極対の間には、内部抵抗がほぼゼロの電流測
定回路、いわゆる無抵抗電流計（zero resistance amme
rter）２４が接続されている。また、第２の電極２２及
び第３の電極２３から成る第２の電極対の間には、電極
側に電気的な影響を与えないで信号電圧を測定できる、
入力インピーダンスが非常に大きなアンプ回路であるバ
ッファー回路２５が接続されている。
【００２７】上記構成により、第１の電極２１及び第２
の電極２２から成る第１の電極対の間には、双方の電極
表面の腐食の進行程度に応じたカップリング電流（結合
電流）が流れる。このカップリング電流は、無抵抗電流
計２４によって測定され、信号処理回路３１で処理され
て直流電流成分（Ｉmean）ａとしてコンピュータ７１に
送られると共に、信号処理回路３２のフィルタ回路によ
って、その低周波数領域である１Ｈｚ程度以下の周波数
領域の成分が抽出された後に所定の信号処理が行われ
る。
の電極２２から成る第１の電極対の間には、双方の電極
表面の腐食の進行程度に応じたカップリング電流（結合
電流）が流れる。このカップリング電流は、無抵抗電流
計２４によって測定され、信号処理回路３１で処理され
て直流電流成分（Ｉmean）ａとしてコンピュータ７１に
送られると共に、信号処理回路３２のフィルタ回路によ
って、その低周波数領域である１Ｈｚ程度以下の周波数
領域の成分が抽出された後に所定の信号処理が行われ
る。
【００２８】本実施形態例では、特に、カップリング電
流を信号処理回路３２内のバンドパスフィルタ回路で濾
波することによって、カップリング電流の内の０．０１
〜１Ｈｚ程度の周波数帯域の信号成分が抽出され、これ
に所定の信号処理を行うことにより、電気化学的電流ノ
イズ（Ｉn）ｂが得られる。得られた電気化学的電流ノ
イズｂも、コンピュータ７１のデータ記憶部７２に時系
列で蓄積される。また、これに代えて、電気化学的電流
ノイズｂは、コンピュータ７１に取り込まれたカップリ
ング電流の直流成分ａ（Ｉmean）に所定の演算処理を行
って、その標準偏差を求めることによっても同様に得ら
れる。
流を信号処理回路３２内のバンドパスフィルタ回路で濾
波することによって、カップリング電流の内の０．０１
〜１Ｈｚ程度の周波数帯域の信号成分が抽出され、これ
に所定の信号処理を行うことにより、電気化学的電流ノ
イズ（Ｉn）ｂが得られる。得られた電気化学的電流ノ
イズｂも、コンピュータ７１のデータ記憶部７２に時系
列で蓄積される。また、これに代えて、電気化学的電流
ノイズｂは、コンピュータ７１に取り込まれたカップリ
ング電流の直流成分ａ（Ｉmean）に所定の演算処理を行
って、その標準偏差を求めることによっても同様に得ら
れる。
【００２９】第２の電極２２及び第３の電極２３から成
る第２の電極対の間の電位差は、バッファー回路２５に
よって測定され、この電位差から、信号処理回路３３内
のフィルタ回路によって１Ｈｚ程度以下の周波数成分が
抽出される。本実施形態例では、特にバンドパスフィル
タ回路を利用して、０．０１〜１Ｈｚ程度の周波数帯域
の電位差変動を抽出し、これを信号処理することによっ
て、電気化学的電位ノイズｃ（Ｖn）を得る。電気化学
的電位ノイズｃは、コンピュータ７１のデータ記憶部７
２に時系列で蓄積される。なお、これに代えて、電気化
学的電位ノイズｃは、電位差を直接にコンピュータ７１
に取り込んで所定の演算処理を行って、その標準偏差を
求めることによっても同様に得られる。
る第２の電極対の間の電位差は、バッファー回路２５に
よって測定され、この電位差から、信号処理回路３３内
のフィルタ回路によって１Ｈｚ程度以下の周波数成分が
抽出される。本実施形態例では、特にバンドパスフィル
タ回路を利用して、０．０１〜１Ｈｚ程度の周波数帯域
の電位差変動を抽出し、これを信号処理することによっ
て、電気化学的電位ノイズｃ（Ｖn）を得る。電気化学
的電位ノイズｃは、コンピュータ７１のデータ記憶部７
２に時系列で蓄積される。なお、これに代えて、電気化
学的電位ノイズｃは、電位差を直接にコンピュータ７１
に取り込んで所定の演算処理を行って、その標準偏差を
求めることによっても同様に得られる。
【００３０】図３（ａ）及び（ｂ）は、上記実施形態例
における、カップリング電流の直流成分（Ｉmean）ａ、
電気化学的電流ノイズｂ（Ｉn）を求める演算回路３
１、３２、及び、電気化学的電位ノイズｃ（Ｖn）を求
める演算回路３３の構成を夫々示している。これら演算
回路３１〜３３は、各データをアナログ的に処理する一
例である。
における、カップリング電流の直流成分（Ｉmean）ａ、
電気化学的電流ノイズｂ（Ｉn）を求める演算回路３
１、３２、及び、電気化学的電位ノイズｃ（Ｖn）を求
める演算回路３３の構成を夫々示している。これら演算
回路３１〜３３は、各データをアナログ的に処理する一
例である。
【００３１】図３（ａ）において、第１の電極２１及び
第２の電極２２から成る第１の電極対の間の電流（電流
信号）は、無抵抗電流計２４によってカップリング電流
として測定される。カップリング電流は、信号処理回路
３１に入力され、まず、図示しないＲＭＳ処理回路部
分、ＤＣコンバータ部分、及び、対数変換回路部分を内
蔵する対数コンバータ４１に入力される。対数コンバー
タ４１では、そのＲＭＳ処理回路部分で、カップリング
電流の２乗平均が求められ、次いで、ＤＣコンバータ部
分でその２乗平均が直流に変換され、次いで、対数変換
回路部分で対数に変換される。対数コンバータ４１の出
力は、Ａ／Ｄコンバータ４２に送られ、ここでデジタル
信号に変換されて、カップリング電流の直流成分ａ（Ｉ
mean）としてコンピュータ７１に入力される。
第２の電極２２から成る第１の電極対の間の電流（電流
信号）は、無抵抗電流計２４によってカップリング電流
として測定される。カップリング電流は、信号処理回路
３１に入力され、まず、図示しないＲＭＳ処理回路部
分、ＤＣコンバータ部分、及び、対数変換回路部分を内
蔵する対数コンバータ４１に入力される。対数コンバー
タ４１では、そのＲＭＳ処理回路部分で、カップリング
電流の２乗平均が求められ、次いで、ＤＣコンバータ部
分でその２乗平均が直流に変換され、次いで、対数変換
回路部分で対数に変換される。対数コンバータ４１の出
力は、Ａ／Ｄコンバータ４２に送られ、ここでデジタル
信号に変換されて、カップリング電流の直流成分ａ（Ｉ
mean）としてコンピュータ７１に入力される。
【００３２】無抵抗電流計２４によって測定されたカッ
プリング電流は、更に、信号処理回路３２のバンドパス
フィルタ回路５１にも入力されており、０．０１〜１Ｈ
ｚ程度の周波数帯域の成分が抽出された上で、先の対数
コンバータ４１と同様な構成を有する対数コンバータ５
２に入力されて、所定の信号処理及び対数変換が行わ
れ、さらに、Ａ／Ｄコンバータ５３によってデジタル信
号に変換された後に、電気化学的電流ノイズ（Ｉn）ｂ
としてコンピュータ７１に入力される。
プリング電流は、更に、信号処理回路３２のバンドパス
フィルタ回路５１にも入力されており、０．０１〜１Ｈ
ｚ程度の周波数帯域の成分が抽出された上で、先の対数
コンバータ４１と同様な構成を有する対数コンバータ５
２に入力されて、所定の信号処理及び対数変換が行わ
れ、さらに、Ａ／Ｄコンバータ５３によってデジタル信
号に変換された後に、電気化学的電流ノイズ（Ｉn）ｂ
としてコンピュータ７１に入力される。
【００３３】第２の電極２２及び第３の電極２３から成
る第２の電極対の間の電位差（電圧信号）は、図３
（ｂ）に示したように、バッファー回路２５によって測
定され、信号処理回路３３内のバンドパスフィルタ回路
６１によって０．０１〜１Ｈｚ程度の周波数帯域の成分
が抽出された上で、先の対数コンバータ４１、５２の構
成と同様な構成を有する対数コンバータ６２に入力され
る。対数コンバータ６２によって所定の信号処理及び対
数変換が行われ、さらに、Ａ／Ｄコンバータ６３によっ
てデジタル信号に変換された後に、電気化学的電位ノイ
ズ（Ｖn）ｃとしてコンピュータ７１に入力される。
る第２の電極対の間の電位差（電圧信号）は、図３
（ｂ）に示したように、バッファー回路２５によって測
定され、信号処理回路３３内のバンドパスフィルタ回路
６１によって０．０１〜１Ｈｚ程度の周波数帯域の成分
が抽出された上で、先の対数コンバータ４１、５２の構
成と同様な構成を有する対数コンバータ６２に入力され
る。対数コンバータ６２によって所定の信号処理及び対
数変換が行われ、さらに、Ａ／Ｄコンバータ６３によっ
てデジタル信号に変換された後に、電気化学的電位ノイ
ズ（Ｖn）ｃとしてコンピュータ７１に入力される。
【００３４】図３（ａ）及び（ｂ）の信号処理回路に代
えて、デジタル処理を行う回路構成を採用することもで
き、このようなデジタル回路構成によっても同様な信号
が得られる。
えて、デジタル処理を行う回路構成を採用することもで
き、このようなデジタル回路構成によっても同様な信号
が得られる。
【００３５】図２において、水槽１１内の冷却水１２中
には、更に、金属細片２０が浸漬されている。金属細片
２０は、腐食を測定する対象である循環水冷却系内の金
属表面と同一材質の金属片から成り、水槽１１内の冷却
水１２中に一定時間浸漬した後に取り出される。腐食に
よる金属細片２０の肉厚の減量（mm）が測定され、その
測定データは、入力装置２６によって入力され、コンピ
ュータ７１の記憶装置７２内に腐食度ｄとして蓄積され
る。
には、更に、金属細片２０が浸漬されている。金属細片
２０は、腐食を測定する対象である循環水冷却系内の金
属表面と同一材質の金属片から成り、水槽１１内の冷却
水１２中に一定時間浸漬した後に取り出される。腐食に
よる金属細片２０の肉厚の減量（mm）が測定され、その
測定データは、入力装置２６によって入力され、コンピ
ュータ７１の記憶装置７２内に腐食度ｄとして蓄積され
る。
【００３６】コンピュータ７１では、データ記憶部７２
に蓄積されている各測定データ、つまり、カップリング
電流ａ（Ｉmean）、電気化学的電流ノイズｂ（Ｉn）、
電気化学的電位ノイズｃ（Ｖn）、及び、腐食度ｄから
成る測定データに基づいて、下記式（１）、（２）、
（３）を利用し、対応する演算手段７３、７４、７５に
よって、各腐食係数Ｋ1、Ｋ2、Ｋ3が算出される。
に蓄積されている各測定データ、つまり、カップリング
電流ａ（Ｉmean）、電気化学的電流ノイズｂ（Ｉn）、
電気化学的電位ノイズｃ（Ｖn）、及び、腐食度ｄから
成る測定データに基づいて、下記式（１）、（２）、
（３）を利用し、対応する演算手段７３、７４、７５に
よって、各腐食係数Ｋ1、Ｋ2、Ｋ3が算出される。
【００３７】第１の腐食係数Ｋ1の算出:Ｃn＝Ｋ1・ΣＩ
meanを利用して Ｋ1＝Ｃn／ΣＩmean −−−−−−−−−−−−（１） からＫ1を算出する。ここで、Ｃnは、腐食液１２中に金
属細片２０を所定時間浸漬した後の腐食度（ｍｍ）ｄを
示し、ΣＩmeanは、腐食度Ｃnに対応した所定時間内に
おける電流Ｉmeanの蓄積量（クーロン）を示す。
meanを利用して Ｋ1＝Ｃn／ΣＩmean −−−−−−−−−−−−（１） からＫ1を算出する。ここで、Ｃnは、腐食液１２中に金
属細片２０を所定時間浸漬した後の腐食度（ｍｍ）ｄを
示し、ΣＩmeanは、腐食度Ｃnに対応した所定時間内に
おける電流Ｉmeanの蓄積量（クーロン）を示す。
【００３８】第２の腐食係数Ｋ2の算出：Ｃn＝Ｋ2／Σ
Ｒn＝Ｋ2・ΣＩn／Ｖnを利用して Ｋ2＝Ｃn／Σ（Ｉn／Ｖn） −−−−−−−−−−−−（２） からＫ2を算出する。ここで、Ｒnは電気化学的抵抗ノイ
ズ（Ω・秒）であり、Σ（Ｉn／Ｖn）は、腐食度Ｃnに
対応した所定時間内におけるＩn（電気化学的電流ノイ
ズｂ）／Ｖn（電気化学的電位ノイズｃ）の蓄積量（ク
ーロン／ボルト）を示す。
Ｒn＝Ｋ2・ΣＩn／Ｖnを利用して Ｋ2＝Ｃn／Σ（Ｉn／Ｖn） −−−−−−−−−−−−（２） からＫ2を算出する。ここで、Ｒnは電気化学的抵抗ノイ
ズ（Ω・秒）であり、Σ（Ｉn／Ｖn）は、腐食度Ｃnに
対応した所定時間内におけるＩn（電気化学的電流ノイ
ズｂ）／Ｖn（電気化学的電位ノイズｃ）の蓄積量（ク
ーロン／ボルト）を示す。
【００３９】第３の腐食係数Ｋ3の算出：Ｃn＝√（Ｋ3
・ΣＩn・ΣＩmean／ΣＶn）を利用して Ｋ3＝Ｃn 2／（ΣＩn・ΣＩmean／ΣＶn） −−−−−−−−（３） からＫ3を算出する。ここで、ΣＩn、ΣＩmean、及び、
ΣＶnは夫々、腐食度Ｃnに対応した所定時間内における
Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）の蓄積量（クーロ
ン）、Ｉmean（カップリング電流ａ）の蓄積量（クーロ
ン）、及び、Ｖn（電気化学的電位ノイズｃ）の蓄積量
（ボルト・秒）を示す。
・ΣＩn・ΣＩmean／ΣＶn）を利用して Ｋ3＝Ｃn 2／（ΣＩn・ΣＩmean／ΣＶn） −−−−−−−−（３） からＫ3を算出する。ここで、ΣＩn、ΣＩmean、及び、
ΣＶnは夫々、腐食度Ｃnに対応した所定時間内における
Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）の蓄積量（クーロ
ン）、Ｉmean（カップリング電流ａ）の蓄積量（クーロ
ン）、及び、Ｖn（電気化学的電位ノイズｃ）の蓄積量
（ボルト・秒）を示す。
【００４０】次に、算出した各腐食係数Ｋ1、Ｋ2、Ｋ3
を用い、特定の時間周期毎に測定したＩmean（カップリ
ング電流ａ）と、Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）、及
び、Ｖn（電気化学的電位ノイズｃ）の各測定データに
基づいて、下記式（４）、（５）、（６）を利用し、対
応する演算手段７６、７７、７８によって、各腐食速度
Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3（ｍｍ／年）が算出される。
を用い、特定の時間周期毎に測定したＩmean（カップリ
ング電流ａ）と、Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）、及
び、Ｖn（電気化学的電位ノイズｃ）の各測定データに
基づいて、下記式（４）、（５）、（６）を利用し、対
応する演算手段７６、７７、７８によって、各腐食速度
Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3（ｍｍ／年）が算出される。
【００４１】第１の腐食速度Ｃ1の算出： Ｃ1＝Ｋ1・Ｉmean −−−−−−−−−−−−（４）
【００４２】第２の腐食速度Ｃ2の算出： Ｃ2＝Ｋ2・Ｉn／Ｖn −−−−−−−−−−−（５）
【００４３】第３の腐食速度Ｃ3の算出： Ｃ3＝√（Ｋ3・Ｉn・Ｉmean／Ｖn −−−−−（６）
【００４４】引き続き、上記で算出した各腐食速度
Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3（ｍｍ／年）を、演算手段７９によって
算術平均し、この値Ｃ4を平均腐食速度とする。
Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3（ｍｍ／年）を、演算手段７９によって
算術平均し、この値Ｃ4を平均腐食速度とする。
【００４５】平均腐食速度Ｃ4の算出： Ｃ4＝（Ｃ1＋Ｃ2＋Ｃ3）／３ −−−−−−−（７）
【００４６】上記のようにして得られた各腐食速度
Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3、及び、平均腐食速度Ｃ4の推移は、ＣＲ
Ｔ１３の画面上に出力され、或いは、プリンタ１４によ
るプリントアウトとして出力表示される。同様に、腐食
速度の瞬時値や、それを時系列で表すトレンドの推移に
ついても出力表示させることが出来る。
Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3、及び、平均腐食速度Ｃ4の推移は、ＣＲ
Ｔ１３の画面上に出力され、或いは、プリンタ１４によ
るプリントアウトとして出力表示される。同様に、腐食
速度の瞬時値や、それを時系列で表すトレンドの推移に
ついても出力表示させることが出来る。
【００４７】上記に代えて、腐食速度Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3、
Ｃ4の出力に加えて、Ｉmean（カップリング電流ａ）
と、Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）、及び、Ｖn（電気
化学的電位ノイズｃ）の各測定データの瞬時値や、それ
を時系列で表したトレンドの推移や、その累積値なども
夫々個別に、或いは、相互に関連付けて表示させること
もできる。
Ｃ4の出力に加えて、Ｉmean（カップリング電流ａ）
と、Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）、及び、Ｖn（電気
化学的電位ノイズｃ）の各測定データの瞬時値や、それ
を時系列で表したトレンドの推移や、その累積値なども
夫々個別に、或いは、相互に関連付けて表示させること
もできる。
【００４８】図４は、本発明の第２の実施形態例の方法
を実施する腐食度測定装置を示すブロック図である。本
実施形態例における腐食度測定装置１３０Ａは、図２の
コンピュータ７１外部で行われる腐食の有無の判断に代
えて、腐食の有無等の判断自体をコンピュータ７１Ａ内
部で行う。水槽１１内の電極等の構成及び各演算部等の
構成は、コンピュータ内部の構成を除いて、先の実施形
態例の構成と同様である。コンピュータ７１Ａの内部に
は、図２に示したと同様なデータを記憶するデータ記憶
部７２と、信号処理部を構成する第１の処理部８１〜８
４、及び、第２の処理部９１〜９７とが示されている。
各信号処理部内における演算部及び判断部には、対応す
る処理内容が流れ記号形式で示してある。
を実施する腐食度測定装置を示すブロック図である。本
実施形態例における腐食度測定装置１３０Ａは、図２の
コンピュータ７１外部で行われる腐食の有無の判断に代
えて、腐食の有無等の判断自体をコンピュータ７１Ａ内
部で行う。水槽１１内の電極等の構成及び各演算部等の
構成は、コンピュータ内部の構成を除いて、先の実施形
態例の構成と同様である。コンピュータ７１Ａの内部に
は、図２に示したと同様なデータを記憶するデータ記憶
部７２と、信号処理部を構成する第１の処理部８１〜８
４、及び、第２の処理部９１〜９７とが示されている。
各信号処理部内における演算部及び判断部には、対応す
る処理内容が流れ記号形式で示してある。
【００４９】本実施形態例では、第１の処理部８１〜８
４において、データ記憶部７２から得られるデータに基
づいて、カップリング電流ａ（Ｉmean）と電気化学的電
流ノイズｂ（Ｉn）とを対応させ腐食の程度を把握す
る。この場合、Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）／Ｉ
mean（カップリング電流ａ）の比をＩn／Ｉmean比較部
８１において演算し、腐食の形態を次の４形態に分け、
対応する判定部８２〜８３で判定する。
４において、データ記憶部７２から得られるデータに基
づいて、カップリング電流ａ（Ｉmean）と電気化学的電
流ノイズｂ（Ｉn）とを対応させ腐食の程度を把握す
る。この場合、Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）／Ｉ
mean（カップリング電流ａ）の比をＩn／Ｉmean比較部
８１において演算し、腐食の形態を次の４形態に分け、
対応する判定部８２〜８３で判定する。
【００５０】 全面腐食 ：０．００１＜Ｉn／Ｉmean＜０．０１ 混合腐食 ：０．０１＜Ｉn／Ｉmean＜０．１ 局所（部分）腐食 ：０．１＜Ｉn／Ｉmean＜１．０ ピッチング（孔状腐食）：１．０＜Ｉn／Ｉmean
【００５１】全面腐食の判断は判定部８２で、混合腐食
及び局所腐食の判断は判定部８３で、また、ピッチング
の判断は判定部８４で夫々行い、対応する警報が出力さ
れる。このように、第１の処理部８１〜８４では、Ｉn
／Ｉmeanの比を求め、その瞬時値から腐食の発生を判断
する。或いは、これに代えて、Ｉn／Ｉmean比較部８１
で得られた比の瞬時値を時系列で表したトレンドの推移
を判断することにより、腐食の形態の推移を把握するこ
とも出来る。局所腐食においては、全面腐食での腐食速
度又は腐食度のような定量的な判断のみでは十分でな
く、その腐食の形態を判断することが重要になる。
及び局所腐食の判断は判定部８３で、また、ピッチング
の判断は判定部８４で夫々行い、対応する警報が出力さ
れる。このように、第１の処理部８１〜８４では、Ｉn
／Ｉmeanの比を求め、その瞬時値から腐食の発生を判断
する。或いは、これに代えて、Ｉn／Ｉmean比較部８１
で得られた比の瞬時値を時系列で表したトレンドの推移
を判断することにより、腐食の形態の推移を把握するこ
とも出来る。局所腐食においては、全面腐食での腐食速
度又は腐食度のような定量的な判断のみでは十分でな
く、その腐食の形態を判断することが重要になる。
【００５２】第２の処理部９１〜９７では、以下に述べ
るように、Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）、及び／又
は、Ｖn（電気化学的電位ノイズｃ）の信号波形を解析
し、腐食の形態判断が行われる。特に、局部腐食につい
ては、各ノイズ信号の測定データにおいて、低周波ノイ
ズ成分が増加してくることから、この低周波ノイズ成分
のピーク波形信号を解析して局部腐食の形態を判断す
る。
るように、Ｉn（電気化学的電流ノイズｂ）、及び／又
は、Ｖn（電気化学的電位ノイズｃ）の信号波形を解析
し、腐食の形態判断が行われる。特に、局部腐食につい
ては、各ノイズ信号の測定データにおいて、低周波ノイ
ズ成分が増加してくることから、この低周波ノイズ成分
のピーク波形信号を解析して局部腐食の形態を判断す
る。
【００５３】上記形態判断は、以下の態様で行われる。 （ａ）ノイズ信号のピーク高さ／ピーク幅の比の大小を
比較して判断する。 （ｂ）ノイズ信号のピーク繰返し周期の大小を比較して
判断する。 （ｃ）ノイズ信号の低周波数ピーク成分数の大小を比較
して判断する。
比較して判断する。 （ｂ）ノイズ信号のピーク繰返し周期の大小を比較して
判断する。 （ｃ）ノイズ信号の低周波数ピーク成分数の大小を比較
して判断する。
【００５４】先ず、データ記憶部７２から抽出したＩn
（電気化学的電流ノイズｂ）又はＶn（電気化学的電位
ノイズｃ）の信号のピーク波形を、ノイズピーク波形解
析部９１によって解析する。引続き、解析された信号の
ピーク高さ／ピーク幅の比を高さ／幅比較部９２によっ
て求める。更に、繰返し周期検出部９３によって、ノイ
ズピークの繰返し周期が検出されると共に、低周波数成
分検出部９４によって、ノイズピークの内で０．０１〜
１Ｈzの範囲の低周波成分のピーク数（低周波数成分ピ
ーク数）が検出される。各比較部９２及び検出部９３、
９４によって求められた結果を、次の３通りに区別する
ことで、対応する判定部９５〜９７において、腐食形態
が判定され、その旨が出力される。
（電気化学的電流ノイズｂ）又はＶn（電気化学的電位
ノイズｃ）の信号のピーク波形を、ノイズピーク波形解
析部９１によって解析する。引続き、解析された信号の
ピーク高さ／ピーク幅の比を高さ／幅比較部９２によっ
て求める。更に、繰返し周期検出部９３によって、ノイ
ズピークの繰返し周期が検出されると共に、低周波数成
分検出部９４によって、ノイズピークの内で０．０１〜
１Ｈzの範囲の低周波成分のピーク数（低周波数成分ピ
ーク数）が検出される。各比較部９２及び検出部９３、
９４によって求められた結果を、次の３通りに区別する
ことで、対応する判定部９５〜９７において、腐食形態
が判定され、その旨が出力される。
【００５５】（イ）ピーク高さ／ピーク幅の比が小で、
且つ、ピーク繰返し周期及び低周波数成分ピーク数の少
なくとも一方が小さいときには、全面腐食判定部９５に
より、全面腐食と判定される。
且つ、ピーク繰返し周期及び低周波数成分ピーク数の少
なくとも一方が小さいときには、全面腐食判定部９５に
より、全面腐食と判定される。
【００５６】（ロ）ピーク高さ／ピーク幅の比が大で、
且つ、ピーク繰返し周期及び低周波数成分ピーク数の少
なくとも一方が大きいときには、応力腐食割れ判定部９
６により、応力腐食割れと判定される。。
且つ、ピーク繰返し周期及び低周波数成分ピーク数の少
なくとも一方が大きいときには、応力腐食割れ判定部９
６により、応力腐食割れと判定される。。
【００５７】（ハ）上記（イ）及び（ロ）の中間領域の
ときには、ピッチング判定部９７でピッチングと判定さ
れる。
ときには、ピッチング判定部９７でピッチングと判定さ
れる。
【００５８】上記判定結果は、ＣＲＴ１３やプリンタ１
４に表示される。また、上記に代えて、前記比の瞬時値
や、それを時系列で表したトレンドをＣＲＴ１３上に表
示し、或いは、プリンタ１４でプリントアウトして、そ
の推移を観察して腐食形態を把握してもよい。
４に表示される。また、上記に代えて、前記比の瞬時値
や、それを時系列で表したトレンドをＣＲＴ１３上に表
示し、或いは、プリンタ１４でプリントアウトして、そ
の推移を観察して腐食形態を把握してもよい。
【００５９】上記判断基準に用いる数値については、予
め、既知の水質を有する循環冷却水中で、全面腐食、応
力腐食割れ又はピッチングを生起した標準金属から成る
試料試験片についてのデータを取得し、各チェック項目
についての判断基準値を求めることが好ましい。
め、既知の水質を有する循環冷却水中で、全面腐食、応
力腐食割れ又はピッチングを生起した標準金属から成る
試料試験片についてのデータを取得し、各チェック項目
についての判断基準値を求めることが好ましい。
【００６０】上記にようにして得られた電極の腐食の有
無や程度の判定に基づいて、循環冷却水の水質が判断さ
れ、これに基づいて、循環水冷却系に対するブロー排出
量及び防食剤の注入量の調節が可能となる。
無や程度の判定に基づいて、循環冷却水の水質が判断さ
れ、これに基づいて、循環水冷却系に対するブロー排出
量及び防食剤の注入量の調節が可能となる。
【００６１】上記のように、本実施形態例の水質管理方
法では、冷却塔における循環冷却水の水質管理におい
て、腐食性因子の把握に基づく循環冷却水系の金属材料
の防食管理と、スケール付着等に関する汚れ係数の把握
に基づく熱交換材料へのスケール防止管理との双方を可
能とするものである。
法では、冷却塔における循環冷却水の水質管理におい
て、腐食性因子の把握に基づく循環冷却水系の金属材料
の防食管理と、スケール付着等に関する汚れ係数の把握
に基づく熱交換材料へのスケール防止管理との双方を可
能とするものである。
【００６２】以上、本発明をその好適な実施形態例に基
づいて説明したが、本発明の循環冷却水の水質管理方法
は、上記実施形態例の構成にのみ限定されるものではな
く、上記実施形態例の構成から種々の修正及び変更を施
したものも、本発明の範囲に含まれる。
づいて説明したが、本発明の循環冷却水の水質管理方法
は、上記実施形態例の構成にのみ限定されるものではな
く、上記実施形態例の構成から種々の修正及び変更を施
したものも、本発明の範囲に含まれる。
【００６３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
冷却塔における循環冷却水の水質が定量的に把握でき、
ブロー排出量及び薬剤注入量の制御を定量的に行うこと
が出来る利点がある。
冷却塔における循環冷却水の水質が定量的に把握でき、
ブロー排出量及び薬剤注入量の制御を定量的に行うこと
が出来る利点がある。
【図１】本発明の一実施形態例の循環冷却水の水質管理
方法を実施する冷却水循環系の系統図。
方法を実施する冷却水循環系の系統図。
【図２】図１の冷却水循環系における腐食度測定装置の
構成を示すブロック図。
構成を示すブロック図。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は夫々、図２の腐食度測定装
置の信号処理回路の構成を示すブロック図。
置の信号処理回路の構成を示すブロック図。
【図４】本発明の第２の実施形態例の循環冷却水の水質
管理方法を実施する腐食度測定装置の信号処理回路の構
成及び処理を示す模式的ブロック図。
管理方法を実施する腐食度測定装置の信号処理回路の構
成及び処理を示す模式的ブロック図。
１０１ 冷却塔 １０２ 熱交換器 １０３ 水処理装置 １０４ 冷却水供給管 １０５ 冷却水戻り管 １０６ 循環ポンプ １０７ 補給水供給管 １０８ ブロー配管 １０９ ブローポンプ １１０ ブロー弁 １１１ 薬注ポンプ １１２ 薬剤配管 １１３ サンプリング配管 １２０ 汚れ測定装置 １２１ チューブ １２２ ヒータ １３０、１３０Ａ 腐食度測定装置 １４０ 制御装置 １１ 水槽 １２ 冷却水 １３ ＣＲＴ １４ プリンタ ２０ 金属細片 ２１、２２、２３ 電極 ２４ 無抵抗電流計 ２５ バッファ回路 ２６ 入力装置 ３１、３２、３３ 信号処理回路 ４１ 対数コンバータ ４２ Ａ／Ｄコンバータ ５１ バンドパスフィルタ ５２ 対数コンバータ ５３ Ａ／Ｄコンバータ ６１ バンドパスフィルタ ６２ 対数コンバータ ６３ Ａ／Ｄコンバータ ７１ コンピュータ ７２ データ記憶部 ７３〜７９ 演算手段 ８１ Ｉn／Ｉmean比較部 ８２〜８４ 判定部 ９１ ノイズピーク解析部 ９２ ピーク高さ／幅比較部 ９３ 繰返し周期検出部 ９４ 低周波数成分ピーク数検出部 ９５〜９７ 判定部
Claims (6)
- 【請求項１】 ブロー排出装置及び水処理薬剤注入装置
を備えた冷却水循環系における循環冷却水の水質管理方
法において、 循環冷却水の一部をサンプリングし、該サンプリングし
た冷却水に浸漬した１対の金属電極間のカップリング電
流及び電気化学的電流ノイズを測定し、該測定されたデ
ータに基づいて循環冷却水の水質を判定し、該判定結果
に基づいて、ブロー排出装置による循環冷却水の排出量
及び／又は水処理薬剤注入装置による薬剤注入量を制御
することを特徴とする、循環冷却水の水質管理方法。 - 【請求項２】 前記サンプリングした冷却水に浸漬し
た、少なくとも一方が別の金属電極から成る１対の金属
電極間の電気化学的電位ノイズを更に測定し、前記測定
されたカップリング電流、電気化学的電流ノイズ及び電
気化学的電位ノイズに基づいて前記冷却水の水質を判定
する、請求項１に記載の循環冷却水の水質管理方法。 - 【請求項３】 更に、前記サンプリングした冷却水に浸
漬した金属材料の腐食度を測定する、請求項１又は２に
記載の循環冷却水の水質管理方法。 - 【請求項４】 前記薬剤が防食剤である、請求項１乃至
３の何れか一に記載の循環冷却水の水質管理方法。 - 【請求項５】 ブロー排出装置及び水処理薬剤注入装置
を備えた冷却水循環系における循環冷却水の水質管理方
法において、 循環冷却水の一部をチューブ内に導き、該チューブの外
側より加熱し、該チューブからの伝熱状況を測定し、該
測定結果に基づいてチューブに付着したスケール量を推
定し、該推定結果に基づいてブロー排出装置による循環
冷却水の排出量及び／又は水処理剤注入装置による薬剤
注入量を制御することを特徴とする、循環冷却水の水質
管理方法。 - 【請求項６】 前記薬剤がスケール防止剤である、請求
項５に記載の循環冷却水の水質管理方法。
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Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001208713A (ja) * | 2000-01-26 | 2001-08-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | 非水系有機液中における腐食測定方法及びその測定装置 |
| JP2002286622A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | 金属材質の腐食測定装置 |
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| JP2003075388A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Kurita Water Ind Ltd | 炭素鋼の局部腐食モニタリング方法及び炭素鋼の局部腐食防止方法 |
| JP2004004045A (ja) * | 2002-04-23 | 2004-01-08 | Japan Organo Co Ltd | 水処理用薬品の濃度管理方法及び濃度管理装置 |
| JP2008019819A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Nikki Co Ltd | ガス燃料エンジンのベーパライザ |
| JP2008309370A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Metawater Co Ltd | 冷却システムおよびその運転管理方法 |
| KR101102525B1 (ko) * | 2009-09-03 | 2012-01-03 | 한국수력원자력 주식회사 | 전기화학적 수화학 기술을 이용한 고온 냉각수의 화학상태 감지방법 |
| JP2012215335A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 熱交換器及び熱交換器の余寿命推定方法 |
| JP2014085091A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | ボイラ水の水質管理方法および水質管理装置 |
| JP6336163B1 (ja) * | 2017-03-09 | 2018-06-06 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ加工ヘッドに対する冷却水供給システム及び冷却水供給方法 |
| JP2018105794A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | プラント、循環水系統の水質管理システム及び循環水系統の水質管理方法 |
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|---|---|---|---|---|
| CN105372172A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-03-02 | 国家电网公司 | 一种发电机内冷水空芯铜导线腐蚀在线监测装置 |
-
1996
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Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001208713A (ja) * | 2000-01-26 | 2001-08-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | 非水系有機液中における腐食測定方法及びその測定装置 |
| JP2002286622A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | 金属材質の腐食測定装置 |
| JP2003004722A (ja) * | 2001-06-26 | 2003-01-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | 水中微生物数測定装置 |
| JP4581306B2 (ja) * | 2001-09-03 | 2010-11-17 | 栗田工業株式会社 | 炭素鋼の局部腐食モニタリング方法及び炭素鋼の局部腐食防止方法 |
| JP2003075388A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Kurita Water Ind Ltd | 炭素鋼の局部腐食モニタリング方法及び炭素鋼の局部腐食防止方法 |
| JP2004004045A (ja) * | 2002-04-23 | 2004-01-08 | Japan Organo Co Ltd | 水処理用薬品の濃度管理方法及び濃度管理装置 |
| JP2008019819A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Nikki Co Ltd | ガス燃料エンジンのベーパライザ |
| JP2008309370A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Metawater Co Ltd | 冷却システムおよびその運転管理方法 |
| KR101102525B1 (ko) * | 2009-09-03 | 2012-01-03 | 한국수력원자력 주식회사 | 전기화학적 수화학 기술을 이용한 고온 냉각수의 화학상태 감지방법 |
| JP2012215335A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 熱交換器及び熱交換器の余寿命推定方法 |
| JP2014085091A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | ボイラ水の水質管理方法および水質管理装置 |
| JP2018105794A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | プラント、循環水系統の水質管理システム及び循環水系統の水質管理方法 |
| JP6336163B1 (ja) * | 2017-03-09 | 2018-06-06 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ加工ヘッドに対する冷却水供給システム及び冷却水供給方法 |
| WO2018163908A1 (ja) * | 2017-03-09 | 2018-09-13 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ加工ヘッドに対する冷却水供給システム、及び、レーザ加工ヘッドへの冷却水供給方法 |
| JP2018144095A (ja) * | 2017-03-09 | 2018-09-20 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ加工ヘッドに対する冷却水供給システム及び冷却水供給方法 |
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