JPH03232874A - γ−ブチロラクトンの製造法 - Google Patents
γ−ブチロラクトンの製造法Info
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- JPH03232874A JPH03232874A JP2028213A JP2821390A JPH03232874A JP H03232874 A JPH03232874 A JP H03232874A JP 2028213 A JP2028213 A JP 2028213A JP 2821390 A JP2821390 A JP 2821390A JP H03232874 A JPH03232874 A JP H03232874A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はγ−ブチロラクトンの製造法に関し、さらに詳
しくは、1,4−ブタンジオールを、触媒の存在下に気
相で接触脱水素してr−ブチロラクトンを製造する方法
に関する。
しくは、1,4−ブタンジオールを、触媒の存在下に気
相で接触脱水素してr−ブチロラクトンを製造する方法
に関する。
従来の技術
T−ブチロラクトンは溶剤などとして、またN−メチル
ピロリドンなどの中間原料として有用な化合物である。
ピロリドンなどの中間原料として有用な化合物である。
従って、r−ブチロラクトンの安価でかつ効率のよい製
造法の開発が強く望まれている。
造法の開発が強く望まれている。
ところで、従来、T−ブチロラクトンの製造法としては
(イ)1.4−ブタンジオールをパラジウム、白金、銀
などの触媒の存在下に、酸化脱水素して製造する方法、
(0)無水マレイン酸またはそのエステルを触媒の存在
下に接触水素化することにより製造する方法および(ハ
)銅クロム−マンガンまたは銅−クロム−亜鉛系触媒の
存在で1,4−ブタンジオールを脱水素する方法(特開
昭61−246173号公報)が知られている。
(イ)1.4−ブタンジオールをパラジウム、白金、銀
などの触媒の存在下に、酸化脱水素して製造する方法、
(0)無水マレイン酸またはそのエステルを触媒の存在
下に接触水素化することにより製造する方法および(ハ
)銅クロム−マンガンまたは銅−クロム−亜鉛系触媒の
存在で1,4−ブタンジオールを脱水素する方法(特開
昭61−246173号公報)が知られている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら(イ)の方法では、触媒が低活性で°ある
とともにT−ブチロラクトンの選択率が低いという問題
点を有しており、また(口)の方法は液相及び気相反応
とも触媒ライフが短いという問題点を有しており、(ハ
)の方法でも必ずしも良好な収率は得られないという問
題点を有していた。
とともにT−ブチロラクトンの選択率が低いという問題
点を有しており、また(口)の方法は液相及び気相反応
とも触媒ライフが短いという問題点を有しており、(ハ
)の方法でも必ずしも良好な収率は得られないという問
題点を有していた。
本発明は1.4−ブタンジオールからγ−ブチロラクト
ンを製造するに際し、T−ブチロラクトンの収率および
選択率が低いという従来技術に伴う問題点を解決しよう
とするものであり、1.4−ブタンジオールの安価でか
つ収率のよい製造法を提供することを目的としている。
ンを製造するに際し、T−ブチロラクトンの収率および
選択率が低いという従来技術に伴う問題点を解決しよう
とするものであり、1.4−ブタンジオールの安価でか
つ収率のよい製造法を提供することを目的としている。
課題を解決するための手段
発明の要旨
本発明者らは、■、4−ブタンジオールの接触脱水素に
よるr−ブチロラクトンの製造法を種々検討した。
よるr−ブチロラクトンの製造法を種々検討した。
その結果、銅、クロムおよびバリウムを含む触媒を用い
、水素気流下、常圧ないしは数kg/car G程度の
加圧下にて、気相で反応を行うことによりr−ブチロラ
クトンの収率及び選択率が著しく向上することを見出し
本発明を完成するに至った。
、水素気流下、常圧ないしは数kg/car G程度の
加圧下にて、気相で反応を行うことによりr−ブチロラ
クトンの収率及び選択率が著しく向上することを見出し
本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は1.4−ブタンジオールを接触脱水
素してγ−ブチロラクトンを製造する方法において、銅
、クロムおよびバリウムを含む触媒の存在下に、気相で
反応を行うことを特徴とするγ−ブチロラクトンの製造
法に関するものである。
素してγ−ブチロラクトンを製造する方法において、銅
、クロムおよびバリウムを含む触媒の存在下に、気相で
反応を行うことを特徴とするγ−ブチロラクトンの製造
法に関するものである。
触 媒
本発明で用いられる触媒は、通常は予め酸化銅−酸化ク
ロム−酸化バリウム触媒を還元したものである。このよ
うな触媒は、たとえば水に硝酸銅などの銅化合物および
硝酸クロムなどのクロム化合物を溶解し、加温攪拌下に
炭酸ナトリウム水溶液を溶液が中性になるまで滴下混合
し、得られた固体を濾別後、固体に塩化バリウムなどの
バリウム化合物水溶液をさらに加えて、乾燥、焼成工程
を経た後、成形機を用いて所定の形状に成形することに
より調製する。この調製法では酸化銅−酸化クロム−酸
化バリウム触媒が得られる。
ロム−酸化バリウム触媒を還元したものである。このよ
うな触媒は、たとえば水に硝酸銅などの銅化合物および
硝酸クロムなどのクロム化合物を溶解し、加温攪拌下に
炭酸ナトリウム水溶液を溶液が中性になるまで滴下混合
し、得られた固体を濾別後、固体に塩化バリウムなどの
バリウム化合物水溶液をさらに加えて、乾燥、焼成工程
を経た後、成形機を用いて所定の形状に成形することに
より調製する。この調製法では酸化銅−酸化クロム−酸
化バリウム触媒が得られる。
本発明の触媒は、銅/クロムの原子比が0.4〜1.8
であることが好ましく、さらにO18〜1.4であるこ
とが望ましい。
であることが好ましく、さらにO18〜1.4であるこ
とが望ましい。
またバリウムの量は、銅およびクロムの金属としての和
100重量部に対し金属として2〜20重量部含有され
ることが好ましく、さらに2〜10重量部含有されるこ
とが望ましい。
100重量部に対し金属として2〜20重量部含有され
ることが好ましく、さらに2〜10重量部含有されるこ
とが望ましい。
本発明の触媒の還元は、たとえば、2容量%の水素を含
む窒素ガスを触媒に対して、常温・常圧換算でのガス空
間速度(G、H,S、V、、以下、G、 H,S、 V
、は、すべて常温・常圧換算値で示す。)4000時間
″′1程度で数kg / cIIIGの加圧下140℃
にて触媒床の発熱が観測されなくなるまで流通し、さら
に水素濃度を徐々に上げ100容量%として、触媒床温
度200℃にて数時間流通することにより行う。
む窒素ガスを触媒に対して、常温・常圧換算でのガス空
間速度(G、H,S、V、、以下、G、 H,S、 V
、は、すべて常温・常圧換算値で示す。)4000時間
″′1程度で数kg / cIIIGの加圧下140℃
にて触媒床の発熱が観測されなくなるまで流通し、さら
に水素濃度を徐々に上げ100容量%として、触媒床温
度200℃にて数時間流通することにより行う。
触媒条件
1.4−ブタンジオールと水素との混合気体と触媒との
接触は、従来から知られている方法の中から適宜選択で
きる。たとえば、混合気体と触媒とを固定床方式で接触
させる方法、移動床方式で接触させる方法、流動床方式
で接触させる方法などを採用することができる。また場
合によっては、混合気体と触媒を回分方式で接触させる
こともできる。
接触は、従来から知られている方法の中から適宜選択で
きる。たとえば、混合気体と触媒とを固定床方式で接触
させる方法、移動床方式で接触させる方法、流動床方式
で接触させる方法などを採用することができる。また場
合によっては、混合気体と触媒を回分方式で接触させる
こともできる。
また、本発明に係る反応は、下式に示すような平衡反応
である。
である。
すなわち、上記の平衡は、高温、低圧および低水素/1
,4−ブタンジオール比の方がγ−ブチロラクトンの生
成に有利である。しかしながら、反応温度が高すぎると
、コークの生成および銅金属粒子のシンタリングなどの
問題が生じ触媒ライフが短くなる他、副反応の進行によ
りγ−ブチロラクトンの選択率が低下する。
,4−ブタンジオール比の方がγ−ブチロラクトンの生
成に有利である。しかしながら、反応温度が高すぎると
、コークの生成および銅金属粒子のシンタリングなどの
問題が生じ触媒ライフが短くなる他、副反応の進行によ
りγ−ブチロラクトンの選択率が低下する。
また、反応圧力は低い方がγ−ブチロラクトンの生成に
有利であるが、平衡がr−ブチロラクトン側にある範囲
では、加圧した方がγ−ブチロラクトンの生成速度が速
くなり、従って高収率にてγ−ブチロラクトンを得るこ
とができる。
有利であるが、平衡がr−ブチロラクトン側にある範囲
では、加圧した方がγ−ブチロラクトンの生成速度が速
くなり、従って高収率にてγ−ブチロラクトンを得るこ
とができる。
このため本発明の反応は数kg/crlG程度の加圧下
で行うことが好ましい。また、水素/1.4ブタンジオ
ール比は低い方がT−ブチロラクトンの生成には有利で
あるが、系に水素が存在しないと触媒ライフが短くなる
および系を気相に保つために希釈剤が必要であることに
より本発明の反応は適度の水素/1,4−ブタンジオー
ル比にて行うことが好ましい。
で行うことが好ましい。また、水素/1.4ブタンジオ
ール比は低い方がT−ブチロラクトンの生成には有利で
あるが、系に水素が存在しないと触媒ライフが短くなる
および系を気相に保つために希釈剤が必要であることに
より本発明の反応は適度の水素/1,4−ブタンジオー
ル比にて行うことが好ましい。
上記の理由により、本発明における反応温度は150〜
270℃とすることが好ましく、さらに190〜240
℃とすることが望ましい。
270℃とすることが好ましく、さらに190〜240
℃とすることが望ましい。
また、反応圧力はO〜8 kg / car Gとする
ことが好ましく、さらに0.5〜4 kg / cut
Gとすることが望ましい。1.4−ブタンジオールの
重量空間速度(W、H,S、V、) ハ0.2〜16時
間−1が好ましく、さらに0.4〜6.0時間−1とす
ることが望ましい。また、水素/1.4−ブタンジオー
ルのモル比は、少なくとも系を気相に保てる値であり、
0.5〜10とすることが好ましく、さらに2〜6とす
ることが好ましい。
ことが好ましく、さらに0.5〜4 kg / cut
Gとすることが望ましい。1.4−ブタンジオールの
重量空間速度(W、H,S、V、) ハ0.2〜16時
間−1が好ましく、さらに0.4〜6.0時間−1とす
ることが望ましい。また、水素/1.4−ブタンジオー
ルのモル比は、少なくとも系を気相に保てる値であり、
0.5〜10とすることが好ましく、さらに2〜6とす
ることが好ましい。
発明の効果
本発明の方法により、高い空時収率かつ高選択率にてγ
−ブチロラクトンを安定して製造することができる。
−ブチロラクトンを安定して製造することができる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
なお、実施例中の%はとくに断りがない限り重量基準で
ある。
ある。
実施例1
銅、クロム、バリウムをCuO1Cr2LおよびBaO
の酸化物としてそれぞれ47%、42%および6%含有
する市販の銅クロム系酸化物触媒(堺化学工業■製商品
名CB−2)を直径約178インチ、高さ約l/16イ
ンチに打錠成形したもの5 ccを固定床反応器(15
+nmφX600mm)に充填し、窒素気流中で5kg
/cofGに加圧するとともに140℃に加熱した。そ
の後、窒素気流中に水素を添加して、2容量%の水素を
含む窒素ガスを5 kg/c++tG、 140℃、G
、)1.S、 V。
の酸化物としてそれぞれ47%、42%および6%含有
する市販の銅クロム系酸化物触媒(堺化学工業■製商品
名CB−2)を直径約178インチ、高さ約l/16イ
ンチに打錠成形したもの5 ccを固定床反応器(15
+nmφX600mm)に充填し、窒素気流中で5kg
/cofGに加圧するとともに140℃に加熱した。そ
の後、窒素気流中に水素を添加して、2容量%の水素を
含む窒素ガスを5 kg/c++tG、 140℃、G
、)1.S、 V。
4000時間−1にて発熱が観測されなくなるまで流通
した。さらに徐々に温度を上げ170℃とした後、発熱
が観測されないことを確認して水素濃度を徐々に上げ1
00容量%の水素とし、発熱が観測されないことを再確
認後、徐々に温度を上げ200℃とした。
した。さらに徐々に温度を上げ170℃とした後、発熱
が観測されないことを確認して水素濃度を徐々に上げ1
00容量%の水素とし、発熱が観測されないことを再確
認後、徐々に温度を上げ200℃とした。
その後、5 kg/cntG、 200℃、G、 H,
S、 V。
S、 V。
4000時間−1にて1時間保つことにより触媒の還元
処理を行った。
処理を行った。
上記の固定床反応器を230℃に加熱した後、1.4−
ブタンジオールおよび水素を1.4ブタンジオ一ル1モ
ルに対して4モルの割合で3 kg / cIIr G
の加圧下、1.4−ブタンジオール比11.H1S、V
、 3.8時間−1(全G、H,S、V、 6.79
0時間−′)の条件下で流通した。生成物はガスクロマ
トグラフィーにより分析し、生成物の同定はGC−MS
によって行った。
ブタンジオールおよび水素を1.4ブタンジオ一ル1モ
ルに対して4モルの割合で3 kg / cIIr G
の加圧下、1.4−ブタンジオール比11.H1S、V
、 3.8時間−1(全G、H,S、V、 6.79
0時間−′)の条件下で流通した。生成物はガスクロマ
トグラフィーにより分析し、生成物の同定はGC−MS
によって行った。
その結果、1.4−ブタンジオールの転化率は96.1
モル%であり、r−ブチロラクトンが95.1モル%生
成した。その他に、テトラヒドロフラン、n−ブタノー
ル、4−ヒドロキシブチルアルデヒドなどが微量生成し
た。
モル%であり、r−ブチロラクトンが95.1モル%生
成した。その他に、テトラヒドロフラン、n−ブタノー
ル、4−ヒドロキシブチルアルデヒドなどが微量生成し
た。
なお、転化した1、4−ブタンジオールに対するr−ブ
チロラクトンの選択率は99.0モル%であった。
チロラクトンの選択率は99.0モル%であった。
実施例2〜6
第1表に示すように反応条件を変えた以外は実施例1と
同様にして触媒の還元処理および反応を行った。。
同様にして触媒の還元処理および反応を行った。。
1.4−ブタンジオールの転化率、γ−ブチロラクトン
の選択率および□γ−ブチロラクトンの収率を第1表に
示す。
の選択率および□γ−ブチロラクトンの収率を第1表に
示す。
比較例1
銅、クロムを金属として、それぞれ40%および26.
5%含有する市販の銅クロム系酸化物触媒(日量ガード
ラー触媒側製商品名G−13)を178インチ程度に破
砕したもの5 ccを用い、実施例1と同様にして触媒
の還元処理を行った。
5%含有する市販の銅クロム系酸化物触媒(日量ガード
ラー触媒側製商品名G−13)を178インチ程度に破
砕したもの5 ccを用い、実施例1と同様にして触媒
の還元処理を行った。
その後水素/1,4−ブタンジオールのモル比を3、反
応圧力をOkg / cut Gおよび1.4−ブタン
ジオールのW、 HoS、 V、を3.9時間−1とし
たこと以外は、実施例1と同様にして反応を行っ0 た。
応圧力をOkg / cut Gおよび1.4−ブタン
ジオールのW、 HoS、 V、を3.9時間−1とし
たこと以外は、実施例1と同様にして反応を行っ0 た。
その結果、1.4−ブタンジオールの転化率は71.2
モル%であり、r−ブチロラクトンの選択率は97.3
モル%であり、r−ブチロラクトンの収率は69.3モ
ル%であった。
モル%であり、r−ブチロラクトンの選択率は97.3
モル%であり、r−ブチロラクトンの収率は69.3モ
ル%であった。
比較例2
銅、亜鉛をCuOおよびZnOの酸化物としてそれぞれ
50%および45%含有する市販の銅亜鉛系酸化物触媒
(日揮化学@製商品名N−211)5 ccを用いたこ
と以外は、比較例1と同様にして触媒の還元処理および
反応を行った。
50%および45%含有する市販の銅亜鉛系酸化物触媒
(日揮化学@製商品名N−211)5 ccを用いたこ
と以外は、比較例1と同様にして触媒の還元処理および
反応を行った。
その結果、1.4−ブタンジオールの転化率は71.5
モル%であり、γ−ブチロラクトンの選択率は93.1
モル%であり、γ−ブチロラクトンの収率は66.6モ
ル%であった。
モル%であり、γ−ブチロラクトンの選択率は93.1
モル%であり、γ−ブチロラクトンの収率は66.6モ
ル%であった。
比較例3
銅、クロム、マンガンを金属としてそれぞれ38.9%
、37.3%および3.6%含有する市販の銅クロムマ
ンガン系酸化物触媒(日量ガードラー触媒(6)装面品
名G−89)5ccを用い、比1 較例1と同様にして触媒の還元処理および反応を行った
。
、37.3%および3.6%含有する市販の銅クロムマ
ンガン系酸化物触媒(日量ガードラー触媒(6)装面品
名G−89)5ccを用い、比1 較例1と同様にして触媒の還元処理および反応を行った
。
その結果1.4−ブタンジオールの転化率は86.9モ
ル%であり、r−ブチロラクトンの選択率は97.9モ
ル%であり、T−ブチロラクトンの収率は85.1モル
%であった。
ル%であり、r−ブチロラクトンの選択率は97.9モ
ル%であり、T−ブチロラクトンの収率は85.1モル
%であった。
Claims (1)
- (1)1,4−ブタンジオールを接触脱水素してγ−ブ
チロラクトンを製造する方法において、銅、クロムおよ
びバリウムを含む触媒の存在下に、気相で反応を行うこ
とを特徴とするγ−ブチロラクトンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2028213A JP2874016B2 (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | γ―ブチロラクトンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2028213A JP2874016B2 (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | γ―ブチロラクトンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03232874A true JPH03232874A (ja) | 1991-10-16 |
JP2874016B2 JP2874016B2 (ja) | 1999-03-24 |
Family
ID=12242365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2028213A Expired - Fee Related JP2874016B2 (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | γ―ブチロラクトンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2874016B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0584408A2 (en) * | 1992-08-25 | 1994-03-02 | Tonen Chemical Corporation | Process for the preparation of gamma-butyrolactone |
US6323347B2 (en) | 2000-01-14 | 2001-11-27 | Dairen Chemical Corporation | Catalyst for preparing lactone and a method for preparing lactone |
JP2006282563A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Mitsubishi Chemicals Corp | ガンマブチロラクトンの製造において副生する高沸点化合物の処理方法及びガンマブチロラクトンの製造方法 |
CN116003351A (zh) * | 2022-11-17 | 2023-04-25 | 河南中汇电子新材料有限公司 | 一种γ-丁内酯和异丙醇的联产工艺方法 |
-
1990
- 1990-02-09 JP JP2028213A patent/JP2874016B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0584408A2 (en) * | 1992-08-25 | 1994-03-02 | Tonen Chemical Corporation | Process for the preparation of gamma-butyrolactone |
EP0584408A3 (en) * | 1992-08-25 | 1994-06-22 | Tonen Sekiyukagaku Kk | Process for the preparation of gamma-butyrolactone |
US6323347B2 (en) | 2000-01-14 | 2001-11-27 | Dairen Chemical Corporation | Catalyst for preparing lactone and a method for preparing lactone |
JP2006282563A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Mitsubishi Chemicals Corp | ガンマブチロラクトンの製造において副生する高沸点化合物の処理方法及びガンマブチロラクトンの製造方法 |
CN116003351A (zh) * | 2022-11-17 | 2023-04-25 | 河南中汇电子新材料有限公司 | 一种γ-丁内酯和异丙醇的联产工艺方法 |
CN116003351B (zh) * | 2022-11-17 | 2024-06-11 | 河南中汇电子新材料有限公司 | 一种γ-丁内酯和异丙醇的联产工艺方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2874016B2 (ja) | 1999-03-24 |
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