JPH0318354B2 - - Google Patents
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- JPH0318354B2 JPH0318354B2 JP56197217A JP19721781A JPH0318354B2 JP H0318354 B2 JPH0318354 B2 JP H0318354B2 JP 56197217 A JP56197217 A JP 56197217A JP 19721781 A JP19721781 A JP 19721781A JP H0318354 B2 JPH0318354 B2 JP H0318354B2
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Classifications
-
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- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
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- Signal Processing (AREA)
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- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフアクシミリ等の読取り装置に関し、
特に、結像系を介して、指向性を有するセンサー
アレーで原稿を読取る読取り装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a reading device such as a facsimile machine,
In particular, the present invention relates to a reading device that reads a document with a directional sensor array via an imaging system.
近年薄膜センサーとしてアモルフアスシリコン
やCdSe等がコンパクトで長尺の原稿読取り系に
広く用いられつつある。その代表的な応用例がフ
アクシミリ等のデジタル画像装置である。第1図
は従来知られている薄膜センサーの構造の一例を
示す。第1図Aに於て、1はアモルフアスシリコ
ン等の受光体、2a,2bはアルミニウム等の金
属電極、3はガラス等の基板である。薄膜センサ
ーをデジタルラインセンサーとして構成したとき
の1ビツトの拡大平面図が第1図Bであり、第1
図Bの断面4について示したのが第1図Aの構造
である。電極2a及び2bには電圧が印加されて
おり、アモルフアスシリコン層1の内、斜線を施
した領域に光が入ると、出力電流の変化が起こ
り、光を感じる様になつている。第1図Bで受光
面が蛇行しているのは大きな出力電流を得るため
である。第1図Aで示す様に、従来のセンサーの
構造では、光がどの方向から入射しても感度は余
り変化がない。このことは電極が透明電極であつ
ても同じことである。尚、以後便宜上、第1図A
の構造をもつものを以下ではギヤツプタイプ
(Gap Type)と称する。 In recent years, thin film sensors such as amorphous silicon and CdSe have been widely used in compact and long document reading systems. A typical example of its application is a digital imaging device such as a facsimile. FIG. 1 shows an example of the structure of a conventionally known thin film sensor. In FIG. 1A, 1 is a photoreceptor made of amorphous silicon or the like, 2a and 2b are metal electrodes such as aluminum, and 3 is a substrate made of glass or the like. Figure 1B is an enlarged plan view of one bit when the thin film sensor is configured as a digital line sensor.
The structure shown in FIG. 1A is shown for cross section 4 in FIG. B. A voltage is applied to the electrodes 2a and 2b, and when light enters the shaded area of the amorphous silicon layer 1, a change in the output current occurs, making it possible to sense light. The reason why the light receiving surface is meandering in FIG. 1B is to obtain a large output current. As shown in FIG. 1A, in the conventional sensor structure, the sensitivity does not change much no matter which direction light enters. This is true even if the electrode is a transparent electrode. From now on, for convenience, Figure 1A
A type having this structure is hereinafter referred to as a gap type.
第1図A,Bに示すフオトセンサーを用いたフ
アクシミリ等の読取り系の一実施例を第2図A,
Bに示す。第2図に於い5は原稿で、6a,6
b,6c,6d,6eは読み取られる原稿面で2
列の千島状配列をしており、結像系7a,7b,
7c,7d,7eによつてラインセンサー8a,
8b,8c,8d,8eにそれぞれ対応し分担し
て読みとられている。結像系を第2図Aのように
復眼構成にすることによつて、原稿面からセンサ
ーまでの距離を短かくし、コンパクトな読取り系
を実現している。尚、矢印は原稿5が移動する方
向を示す。 An example of a reading system such as a facsimile using the photo sensor shown in FIGS. 1A and B is shown in FIGS.
Shown in B. In Figure 2, 5 is the manuscript, 6a, 6
b, 6c, 6d, 6e are 2 on the original surface to be read.
The imaging systems 7a, 7b,
Line sensors 8a, 7c, 7d, 7e
They correspond to 8b, 8c, 8d, and 8e and are read separately. By making the imaging system a double-lens configuration as shown in FIG. 2A, the distance from the document surface to the sensor is shortened and a compact reading system is realized. Note that the arrow indicates the direction in which the original 5 moves.
第2図Aのうち、各構成要素の千島状配列のう
ち、列の断面について示したのが第2図Bであ
る。第2図Bに於ける結像系7a,7c,7dは
倒立等倍結像の例を示してあるが一般には結像は
縮小結像であつてもよい。第2図Bに示すよう
に、結像系が複眼倒立結像であれば、本来読取る
べき原稿面以外から隣の結像系の瞳を通つて迷光
が入り、所謂ノイズとなる。このため、9a,9
c,9e,9gおよび10a,10c,10e,
10gに示すような遮光板を設ける必要が生じ
る。例えば、第2図Bの点線で示した光線11a
や光線11bのような光は上記の遮光板がなけれ
ばセンサー8aに入り好ましくない。従つて通常
の感度に指向性のないセンサーをこのような読取
り系に応用する場合は、遮光板9a,9c,9
e,9gおよび10a,10c,10e,10g
が必要となる。その他、10a〜10gの遮光板
はセンサーの基板12と結像系支持体および結像
系7a,7c,7eの間で発生する内面散乱等を
防ぐ目的も兼ねている。 In FIG. 2A, FIG. 2B shows a cross section of a row of the thousand-island arrangement of each component. The imaging systems 7a, 7c, and 7d in FIG. 2B are shown as an example of inverted equal-magnification imaging, but in general, the imaging may be reduced imaging. As shown in FIG. 2B, if the imaging system is a compound-eye inverted imaging system, stray light enters through the pupil of the adjacent imaging system from other than the original surface to be read, resulting in so-called noise. For this reason, 9a, 9
c, 9e, 9g and 10a, 10c, 10e,
It becomes necessary to provide a light shielding plate as shown in 10g. For example, the light ray 11a shown by the dotted line in FIG.
Without the above-mentioned light shielding plate, light such as the light rays 11b and 11b would enter the sensor 8a, which is undesirable. Therefore, when applying a sensor with normal sensitivity and no directionality to such a reading system, the light shielding plates 9a, 9c, 9
e, 9g and 10a, 10c, 10e, 10g
Is required. In addition, the light shielding plates 10a to 10g also serve to prevent internal scattering, etc., occurring between the sensor substrate 12, the imaging system support, and the imaging systems 7a, 7c, and 7e.
このように、従来使用されているセンサー例え
ばCCD等の固体センサーや、アモルフアスシリ
コン等の薄膜センサーを使う場合、復眼系によつ
て読み取り系を構成する場合には遮光の問題が発
生する。尚、第1図では2列の千島状読取り配列
について示したが、1列の読取り系についても全
く同様に遮光板が必要であることは論を待たな
い。 As described above, when using a conventionally used sensor such as a solid sensor such as a CCD or a thin film sensor such as amorphous silicon, the problem of light shielding occurs when the reading system is configured with a reciprocating system. Although FIG. 1 shows a two-row chilled-like reading array, it goes without saying that a light-shielding plate is also required for a single-row reading system.
本発明の目的は、その感度に指向性を持たせた
センサー、特にアモルフアスシリコン等に代表さ
れるセンサーアレーを有する読取り装置を提供す
ることにあり、斯様なセンサーを用いることによ
り上述した複眼の倒立結像系に要求される遮光板
を不要にしたり、更にセルフオツク等の正立等倍
結像系の場合に於いても内面散乱等によつて発生
する迷光をおさえ、読取り系のS/N比の向上を
計るものである。以下、図面を用いて本発明を詳
述する。 An object of the present invention is to provide a reading device having a sensor whose sensitivity is directional, particularly a sensor array represented by amorphous silicon, etc., and by using such a sensor, the above-mentioned compound eye It eliminates the need for a light-shielding plate required for an inverted imaging system, and also suppresses stray light generated by internal scattering even in the case of an upright 1-magnification imaging system such as a self-reflection system. This is to measure the improvement of the N ratio. Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings.
第3図は本発明に係るセンサーの一実施例を示
す図でセンサーに垂直に入射する光を最大受光量
とする指向性を有する場合である。図中16はCr
等の金属膜、17はガラズ等の膜、18aおよび
18bはアルミニウム等の金属電極、19はアモ
ルフアスシリコン層で、斜線を施こした領域19
aで光を感じる。即ち、領域19aが感光領域を
形成している。20はガラス等の基板である。第
3図Aの構造を有する薄膜センサーは、例えば第
1図Aの上にガラス蒸着或いはイオンプレーテイ
ングでSiO2膜を設け、更にその上にCr膜等のパ
ターンを施すことによつて実現できる。第3図A
に於て、入射光15aおよび入射光15bの入射
角をそれぞれQ1、Q2とすると、第3図Aに示す
ように、入射光15aは受光部に入るが入射光1
5bは受光部から外れてしまうためセンサーに感
じない。ここで、入射角をθとしたときの、入射
角θと受光量との関係の実例をいくつか第3図B
に示す。第3図Aに於て、遮光膜16(遮光手
段)のギヤツプを(開口部の幅)をl2、金属電極
18A,18B間のギヤツプ(感光領域の幅)
l1、膜17の厚さをdとする。 FIG. 3 is a diagram showing an embodiment of the sensor according to the present invention, in which the sensor has directivity such that the maximum amount of light received is the light incident perpendicularly to the sensor. 16 in the figure is Cr
17 is a film such as glass, 18a and 18b are metal electrodes such as aluminum, 19 is an amorphous silicon layer, and the shaded area 19
I feel the light at a. That is, the region 19a forms a photosensitive region. 20 is a substrate made of glass or the like. A thin film sensor having the structure shown in FIG. 3A can be realized by, for example, providing a SiO 2 film on FIG. 1A by glass evaporation or ion plating, and then applying a pattern such as a Cr film on top of the SiO 2 film. . Figure 3A
If the incident angles of the incident light 15a and the incident light 15b are Q 1 and Q 2 respectively, the incident light 15a enters the light receiving section, but the incident light 1
5b is not detected by the sensor because it is removed from the light receiving part. Here, when the incident angle is θ, some examples of the relationship between the incident angle θ and the amount of received light are shown in Figure 3B.
Shown below. In FIG. 3A, the gap (width of the opening) of the light shielding film 16 (light shielding means) is l 2 and the gap (width of the photosensitive area) between the metal electrodes 18A and 18B.
l 1 and the thickness of the film 17 is d.
第3図Bに示す例に於て、例1はl1=3μm、d
=6μmで入射側媒体が空気のときで、膜17の
屈折率を1.5とした場合。例2はl1=3μm、l2=6μ
m、d=6μmで入射側媒体が空気のときで、膜
17の屈折率を1.5としたとき。例3はl1=3μm、
l2=3μm、d=6μmで入射側媒体が膜17と同じ
屈折率のとき。例4は、l1=3μm、l2=6μm、d
=6μmで入射側媒体が膜17と同じ屈折率のと
きである。これら4つの例より容易に判るよう
に、l1、l2およびdを適当に調整し、入射側の媒
体との組合せによつて、入射角と受光量の相関性
を多様に変えることができ、入射角の小さい光の
み受け、入射角の大きい光には感じないセンサー
が実現できる。 In the example shown in FIG. 3B, Example 1 has l 1 =3 μm, d
= 6 μm, the incident medium is air, and the refractive index of the film 17 is 1.5. Example 2 is l 1 = 3μm, l 2 = 6μ
When m and d are 6 μm, the incident medium is air, and the refractive index of the film 17 is 1.5. Example 3 is l 1 = 3μm,
When l 2 = 3 μm, d = 6 μm, and the incident side medium has the same refractive index as the film 17. Example 4 has l 1 = 3 μm, l 2 = 6 μm, d
= 6 μm and the incident side medium has the same refractive index as the film 17. As can be easily seen from these four examples, the correlation between the incident angle and the amount of light received can be varied in various ways by appropriately adjusting l 1 , l 2 and d and by combining them with the medium on the incident side. , it is possible to create a sensor that only receives light with a small angle of incidence and is not sensitive to light with a large angle of incidence.
第4図は、第3図Aに示す様に、センサーに垂
直に入射する光を最大の効率で受ける様なセンサ
ーに於て、センサーに垂直に入射する光に対して
角度θminで入射する光より受光量の落下がはじ
まり、θmaxで入射する光に対してセンサーが何
も感じなくなる様な特性を示している。この場合
のθmin、及びθmaxの値は前記センサーを構成す
るパラメーター、l1、l2、d及び前記ガラス等の
膜17の屈折率nにより定めることが出来る。第
3図Aに示す、光の入射側の媒質の屈折率をNと
すると、
である。同じくθmaxは、
である。ここで、この(1)(2)式を用いて具体的に設
計を行う一例を以下に示す。 Figure 4 shows, as shown in Figure 3A, the light incident at an angle θmin with respect to the light incident perpendicularly to the sensor in a sensor that receives the light incident perpendicularly to the sensor with maximum efficiency. The amount of light received begins to drop, and the sensor exhibits characteristics such that it no longer senses anything with respect to the incident light at θmax. The values of θmin and θmax in this case can be determined by the parameters configuring the sensor, l 1 , l 2 , d, and the refractive index n of the film 17, such as glass. If the refractive index of the medium on the light incident side shown in FIG. 3A is N, then It is. Similarly, θmax is It is. Here, an example of a specific design using these equations (1) and (2) is shown below.
例えば、結像系のFNOが4.0のときは開口数は
0.125である。従つて、このときのセンサーの受
光角はθ=7.2°で、このときはθmin=7.2°とすれ
ばよい。外部媒質は空気でN=1とする。また、
隣りのレンズを通つてセンサーに入つてくる光に
対して例えばθmax=23.6°で感じないように設計
した場合について考える。ところで、電極間距離
l1の値は実際には以下のような制約によつて寸法
に制限がつく、即ち
○イ 電極間距離が小さければ受光部のパターンを
細かくして、センサーのS/N比を上げる設計
が可能である。逆に、電極間距離が大きければ
センサーのS/N比が小さくなる。 For example, when the F NO of the imaging system is 4.0, the numerical aperture is
It is 0.125. Therefore, the light receiving angle of the sensor at this time is θ=7.2°, and in this case, θmin=7.2°. The external medium is air and N=1. Also,
Let's consider a case where the sensor is designed so that, for example, θmax = 23.6°, the sensor does not sense the light that enters the sensor through an adjacent lens. By the way, the distance between the electrodes
l The value of 1 is actually limited in size by the following constraints: ○B If the distance between the electrodes is small, the pattern of the light receiving part can be made finer to increase the S/N ratio of the sensor. It is possible. Conversely, the larger the distance between the electrodes, the smaller the S/N ratio of the sensor.
○ロ 電極間距離が小さくなると、製作時のパター
ニング技術に高精度のものが要求され、パター
ニング技術によつて微細化の限界が決まつてく
る。○B As the distance between electrodes becomes smaller, highly accurate patterning technology is required during production, and the limits of miniaturization are determined by patterning technology.
などの事情があり、これらのことを考慮すると、
電極間距離l1の値としては2μl120μの範囲に
あることが望ましい。また、誘電体膜の膜厚dに
ついては、通常ガラス蒸着等によつて製作するこ
とを考慮すると、数μd+数μが通常考えら
れる厚さである。これらのことを考えると、(1)、
(2)の式において、
N=1、n=1.5、l1=2μm、θmin=7.2°、
θmax=23.578°
これより、l2=3.755μm、d=10.49μmとなる。
即ち、l1=2μm、l2=3.755μm、d=10.49μm、
n=1.5とした時、θmin=7.2°、θmax=23.6°の指
向性をもつたセンサーが得られる。Considering these circumstances,
The value of the inter-electrode distance l 1 is preferably in the range of 2 μl 1 20 μ. Further, the thickness d of the dielectric film is usually considered to be several μd+several μ, considering that it is usually manufactured by glass vapor deposition or the like. Considering these things, (1),
In the equation (2), N=1, n=1.5, l 1 =2μm, θmin=7.2°,
θmax=23.578° From this, l 2 =3.755 μm and d=10.49 μm.
That is, l 1 = 2 μm, l 2 = 3.755 μm, d = 10.49 μm,
When n=1.5, a sensor with directivity of θmin=7.2° and θmax=23.6° is obtained.
第3図A,Bに示す様にセンサーに垂直に入射
する光を中心として受光量を最大とする場合とは
異なり、第5図A,Bに示すセンサーは、センサ
ーに斜めから入射する光を中心として受光量を最
大とする場合の実施例を示す為のものである。第
5図Aに付した番号で第3図Aに付した番号と同
じものは同じ部材を示すのでここでは説明を省
く。尚、l3は遮光膜16の開口の中心と電極18
a,18bの間の開口部即ち感光領域の中心との
変位量である。第5図Bは、第5図Aのセンサー
の各パラメーターの値が、l1=6μm、l2=6μm、
l3=2μm、d=10μm、n=1.5、N=1の場合の
光の入射角θに対する受光量の関係を示す図であ
る。 Unlike the case where the amount of light received is maximized by focusing on the light incident perpendicularly to the sensor as shown in Figure 3A and B, the sensor shown in Figure 5A and B is designed to maximize the amount of light that is incident on the sensor obliquely. This is to show an example in which the amount of light received is maximized at the center. The numbers given in FIG. 5A that are the same as the numbers given in FIG. 3A indicate the same members, so a description thereof will be omitted here. In addition, l 3 is the center of the opening of the light shielding film 16 and the electrode 18
a and 18b, that is, the amount of displacement from the center of the photosensitive area. FIG. 5B shows that the values of each parameter of the sensor in FIG. 5A are l 1 = 6 μm, l 2 = 6 μm,
FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the amount of received light and the incident angle θ of light when l 3 =2 μm, d=10 μm, n=1.5, and N=1.
次に第5図に示す様に、センサーに対して斜め
に入射する光に対して受光率が最大になる様な場
合の、センサーの一般的な構造に関して述べる。
第6図は或る角度θcの斜入射光を中心として光を
受ける場合の、一般的な受光感度特性曲線を示す
もので、この様な受光感度特性を示すセンサーの
一般的な構成を第7図A,Bに示す。尚、第7図
A,Bに示すセンサーは第5図Aに示すセンサー
と同一形状のセンサーであり、第7図Aでは
θmax1、θmax2の光線を、第7図Bではθmin1、
θmin2の光線を示している。第7図に示す構造の
ときは、光束の入射側の媒質の屈折率をN、ガラ
ス膜17の屈折率をnとするとθmax1、θmax2、
θmin1、θmin2は以下の様に定まる。 Next, as shown in FIG. 5, a general structure of a sensor will be described in which the light receiving rate is maximized for light obliquely incident on the sensor.
Figure 6 shows a general light-receiving sensitivity characteristic curve when receiving light centered on obliquely incident light at a certain angle θc. Shown in Figures A and B. The sensors shown in FIGS. 7A and 7B have the same shape as the sensor shown in FIG. 5A, and in FIG.
It shows the ray of θmin2. In the structure shown in FIG. 7, if the refractive index of the medium on the incident side of the light beam is N, and the refractive index of the glass film 17 is n, θmax1, θmax2,
θmin1 and θmin2 are determined as follows.
ここでθmax2はマイナス符号に対応させて表
現してある。ここでd=10.5μm、l1=20μm、l2
=3.8μm、l3=1.0μm、n=1.5、N=1.0と取る
と、
θmax1=31.5°
θmax2=−15.5°
θmin1=15.5°
θmin2=0.8°
なる指向性を有するセンサーが得られる。 Here, θmax2 is expressed in correspondence with a minus sign. where d = 10.5μm, l 1 = 20μm, l 2
= 3.8 μm, l 3 = 1.0 μm, n = 1.5, and N = 1.0, a sensor having the following directivity is obtained: θmax1 = 31.5° θmax2 = -15.5° θmin1 = 15.5° θmin2 = 0.8°.
この様な非対称な受光特性は、金属電極18
a,18bに対して遮光膜16のパターンを変え
ることにより、自由に制御可能である。 Such asymmetric light receiving characteristics are caused by the metal electrode 18
By changing the pattern of the light shielding film 16 for a and 18b, it can be freely controlled.
上述した様に、垂直入射光又は或る角度を成す
入射光に分けて受光感度特性を持たせることは必
要である。例えば第2図に示す様に、結像系を介
してセンサーアレーに入射する光は、中央部のビ
ツトに入射する光と周辺部のビツトに入射する光
の種光線の傾きは異なる。従つて、中央部のビツ
トな垂直入射光に対して最大の受光感度を、又、
周辺部のビツトは斜入射光に対して最大の受光感
度を持たせることが望ましい。この様な設定は、
電極及び遮光膜がフオトリソグラフイーの手法に
よつて形成出来るため、オリジナルマスク作成時
に相対的な位置を加味して作成しておけば良く、
量産性に適した薄膜センサーを比較的容易に製造
出来る。 As described above, it is necessary to provide light-receiving sensitivity characteristics for vertically incident light or incident light at a certain angle. For example, as shown in FIG. 2, the inclinations of the seed rays of the light incident on the central bit and the light incident on the peripheral bits are different for the light incident on the sensor array via the imaging system. Therefore, it is possible to achieve the maximum light receiving sensitivity for the bit vertically incident light in the center, and
It is desirable that the peripheral bits have maximum light-receiving sensitivity to obliquely incident light. This kind of setting is
Since the electrodes and light-shielding film can be formed using photolithography, it is only necessary to take the relative positions into account when creating the original mask.
Thin film sensors suitable for mass production can be manufactured relatively easily.
この様に、センサーアレーを各ビツトの入射す
る光の主光線の入射角に応じて遮光膜の開口部を
形成し、各ビツトの入射光に対する指向性を個別
に制御することにより、センサーアレーの各ビツ
トによる読取りのS/N比を均等に向上させるこ
とが出来、正確な原稿読取りが可能な読取り装置
を提供できる。 In this way, by forming the opening of the light-shielding film according to the incident angle of the principal ray of the light incident on each bit and individually controlling the directivity of the incident light on each bit, the sensor array can be It is possible to uniformly improve the S/N ratio of reading for each bit, and to provide a reading device that can accurately read a document.
前記センサーに於いて、ガラス蒸着によつて膜
層17を構成する場合には、膜厚dを余り大きく
すると膜17の表面が微小な凹凸状を呈し光の散
乱を生じて好ましくないが、通常10μm程度以下
なら表面の良好な膜が得られる。 In the sensor, when the film layer 17 is formed by glass vapor deposition, if the film thickness d is too large, the surface of the film 17 becomes minutely uneven, which is undesirable and causes light scattering. If the thickness is about 10 μm or less, a film with a good surface can be obtained.
第8図に上述した本発明に係るギヤツプタイプ
のセンサーで、光が基板側よりより入射する場合
の一実施例を示す図である。第8図の構成を示す
付番で、第3図Aの付番と同一番号のものは同じ
部材を表わすが、第8図の構成は第3図Aに示す
構成と多少、異つている。即ち第8図に示す如く
センサーの構成は、ガラス等の透明基板20上に
Cr等の金属膜16のパターンが遮光膜として蒸
着され、更にその上にはガラス蒸着膜17を設
け、更にその上にはアモルフアスシリコン等の受
光体19及び電極18が設けられた構成である。
そして光線15aは受光体19の光を感じる部分
19aに達するが、光せ15bは19aに到達せ
ず検知されない。 FIG. 8 is a diagram showing an embodiment of the gap type sensor according to the present invention described above in which light is incident from the substrate side. In the numbering indicating the structure of FIG. 8, the same number as the numbering of FIG. 3A represents the same member, but the structure of FIG. 8 is somewhat different from the structure shown in FIG. 3A. That is, as shown in FIG. 8, the structure of the sensor is that the sensor is
A pattern of a metal film 16 such as Cr is deposited as a light shielding film, a glass deposited film 17 is provided on top of the pattern, and a photoreceptor 19 made of amorphous silicon and an electrode 18 are further provided on top of this. .
The light beam 15a then reaches the light sensing portion 19a of the photoreceptor 19, but the light beam 15b does not reach 19a and is not detected.
上記ギヤツプタイプのセンサーは、紙面に含ま
れる面内で指向性を持たせており、第2図に示す
様なラインセンサーとして使用する場合には、一
方向のみについて指向性があれば充分で、この場
合は指向性の存在する面とラインセンサーのライ
ン方向を平行にすれば良い。然しながら、斯様な
ギヤツプタイプの薄膜センサーは一次元方向のみ
でなく2次元方向についても指向性をもたせるこ
とが可能であり、この事例を、第9図、第10図
及び第11図に示す。 The gap type sensor mentioned above has directivity within the plane included in the paper, and when used as a line sensor as shown in Figure 2, it is sufficient to have directivity in only one direction. In this case, it is sufficient to make the surface with directivity parallel to the line direction of the line sensor. However, such a gap type thin film sensor can be provided with directivity not only in one dimension but also in two dimensions, examples of which are shown in FIGS. 9, 10 and 11.
第9図に於て、16は遮光膜で斜線を施こした
部分が光を遮えぎる部分である。17はガラスを
蒸着あるいはイオンプレーテイング等によつて設
けた透明膜、18は金属電極、20はガラス等の
基板である。第9図に於て、金属電極18間に電
位差を与えることによつて、入射光を電流信号と
してとり出す訳であるが、金属電極間の距離が小
さい程一定の入射光に対する電流値は大きいた
め、第9図の金属電極18のパターンにみられる
ように、電極間が相近接している部分19bが、
離れている部分19eよりも相対的に強い感度を
示し実質上アモルフアスシリコン等の感光体層1
9の感光部の形状は矩形状をなし、感光膜16の
矩形状開口と組み合わせることによつて、総合的
にx−y方向の2方向について指向性をもたせる
ことが出来る。又、シリコン受光体19を細かく
矩形のパターン状にし、金属電極18のパターン
を単純化したものを第10図に示す。第10図に
示す様に受光体19を構成する各ビツトは、1個
づつ矩形状に独立して形成されており、遮光膜1
6のパターンと相俟つてセンサーの指向性を出し
ている。尚、第9図及び第10図に示すセンサー
に於いては金属電極は透明電極であつても良い。 In FIG. 9, 16 is a light-shielding film, and the shaded area is the part that blocks light. 17 is a transparent film provided by glass vapor deposition or ion plating, 18 is a metal electrode, and 20 is a substrate made of glass or the like. In Figure 9, the incident light is extracted as a current signal by applying a potential difference between the metal electrodes 18, and the smaller the distance between the metal electrodes, the greater the current value for a given amount of incident light. Therefore, as seen in the pattern of the metal electrode 18 in FIG. 9, the portion 19b where the electrodes are close to each other is
The photoreceptor layer 1 is made of substantially amorphous silicon or the like and exhibits relatively stronger sensitivity than the distant portion 19e.
The shape of the photosensitive portion 9 is rectangular, and by combining it with the rectangular opening of the photosensitive film 16, it is possible to provide overall directivity in two directions, the x and y directions. FIG. 10 shows a structure in which the silicon photoreceptor 19 is formed into a fine rectangular pattern and the pattern of the metal electrode 18 is simplified. As shown in FIG. 10, each bit constituting the photoreceptor 19 is formed independently in a rectangular shape, and the light shielding film 1
Combined with pattern 6, it gives the sensor directivity. Note that in the sensors shown in FIGS. 9 and 10, the metal electrode may be a transparent electrode.
第11図A,Bは二次元的に指向性を持つセン
サーの場合の例の実施例を示す図で、第11図A
は斜視図、第11図Bはその断面図である。第1
1図A,Bに示すセンサーに付された番号で第9
図及び第10図の付番と同一のものは同一の部材
を示すものである。第11図Bに於て、遮光膜1
6の内側の径および外側の径をd1、d1′又電極1
8の内側の径および外側の径をd2、d2′とすると、
例えばd2′>d1′かつd2>d1とすればセンサーから
有限離距離れ、同心円状の電極およびマスクの中
心に立てた法線上に存在する点からの光を最も良
く感じるような特性をもつことになる。尚、電極
18は金属電極あるいは透明電極どちらであつて
もよい。又、電極および遮光膜の形状は同心円状
だけでなく例えば楕円形状であつてもよい。更
に、電極および遮光膜のパターンの中心は、いず
れもシリコン受光体膜19に垂直に立てた同一直
線(法線)上にあるが、一般には電極および遮光
膜のそれぞれのパターンの中心を結ぶ直線はシリ
コン受光体19に垂直でなくともよく、そのよう
な場合はレンズの結像でいう軸外結像的な作用を
もつた指向性が発生する。 Figures 11A and 11B are diagrams showing an example embodiment of a two-dimensionally directional sensor;
is a perspective view, and FIG. 11B is a sectional view thereof. 1st
No. 9 with the number attached to the sensor shown in Figure 1 A and B.
The same numbers in the figures and FIG. 10 indicate the same members. In FIG. 11B, the light shielding film 1
The inner diameter and outer diameter of electrode 6 are d 1 , d 1 ′ and electrode 1
If the inner diameter and outer diameter of 8 are d 2 and d 2 ′,
For example, if d 2 ′ > d 1 ′ and d 2 > d 1 , the light from a point at a finite distance from the sensor and on the normal line to the center of the concentric electrode and mask is best sensed. It will have characteristics. Note that the electrode 18 may be either a metal electrode or a transparent electrode. Further, the shapes of the electrodes and the light-shielding film are not limited to concentric circles, but may also be, for example, elliptical shapes. Furthermore, the centers of the electrode and light-shielding film patterns are all on the same straight line (normal line) perpendicular to the silicon photoreceptor film 19, but generally the centers of the electrode and light-shielding film patterns are aligned on the same straight line (normal line). does not have to be perpendicular to the silicon photoreceptor 19; in such a case, a directivity that acts like off-axis imaging in lens imaging occurs.
上記実施例はギヤツプタイプのセンサーを考え
てきたが、第12図は本発明を適用した他のタイ
プのセンサー(以後このセンサーをサンドイツチ
タイプのセンサーと称す)を示す。 Although the above embodiment has considered a gap type sensor, FIG. 12 shows another type of sensor to which the present invention is applied (hereinafter this sensor will be referred to as a sandwich type sensor).
第12図に於いて、25は金属電極、26はア
モルフアスシリコン等の受光体、27は透明電
極、28はガラス蒸着膜、29はCr等の遮光膜、
30はガラス基板である。第12図に示す構成に
於いて、受光体26で光を感じる部分は、金属電
極25と透明電極27の間で電圧がかかる部分、
即ち受光体26の内、斜線を施こした部分26a
のみである。故に、入射光24aは受光体で検知
されるが、24bは検知されない。この様にサン
ドイツチタイプのセンサーでは、金属電極25と
遮光膜29の相互のパターンを選択することによ
り、先に示したギヤツプタイプと同様、光の入射
方向によつて感度の大幅に異なるセンサーを実現
することが出来る。尚、受光体26はシリコンに
限らずCaSe等であつても良いし、又、ガラス蒸
着膜はZns等の他の透明な膜でも良い。 In FIG. 12, 25 is a metal electrode, 26 is a photoreceptor such as amorphous silicon, 27 is a transparent electrode, 28 is a glass vapor deposited film, 29 is a light shielding film such as Cr, etc.
30 is a glass substrate. In the configuration shown in FIG. 12, the portion of the photoreceptor 26 that senses light is the portion where voltage is applied between the metal electrode 25 and the transparent electrode 27;
That is, the shaded portion 26a of the photoreceptor 26
Only. Therefore, the incident light 24a is detected by the photoreceptor, but the incident light 24b is not detected. In this way, in the sandwich type sensor, by selecting the mutual pattern of the metal electrode 25 and the light-shielding film 29, it is possible to create a sensor whose sensitivity differs greatly depending on the direction of light incidence, similar to the gap type shown above. It can be realized. Note that the photoreceptor 26 is not limited to silicon, but may be made of CaSe or the like, and the glass vapor deposited film may be other transparent film such as Zns.
第13図A,Bは一次元方向に指向性を有する
サンドイツチタイプのセンサーの一実施例を示す
ものである。 FIGS. 13A and 13B show an embodiment of a Sanderch type sensor having directivity in one dimension.
第13図Aに於て、31は金属電極、32はア
モルフアスシリコン受光体膜、33は透明電極
膜、34はガラス蒸着膜のような比較的厚い透明
膜、35はCrのような遮光膜、36はガラス基
板である。金属電極31は細長い多数列のパター
ンを成している状況を示している。第13図Bは
遮光板35の平面図を示したもので、x−y方向
の方向性は金属電極31と相対応して構成されて
おり、この場合センサーはy方向について指向性
があり、x方向については指向性は存在しない。
尚、第13図Bに於て、斜線を示した部分が光を
遮断する領域である。 In FIG. 13A, 31 is a metal electrode, 32 is an amorphous silicon photoreceptor film, 33 is a transparent electrode film, 34 is a relatively thick transparent film such as a glass vapor deposited film, and 35 is a light shielding film such as Cr. , 36 are glass substrates. The metal electrode 31 is shown in a pattern of multiple long and narrow rows. FIG. 13B shows a plan view of the light shielding plate 35, in which the directionality in the x-y direction corresponds to the metal electrode 31, and in this case, the sensor has directionality in the y direction, There is no directivity in the x direction.
Note that in FIG. 13B, the shaded area is the area that blocks light.
第14図A,B,Cは、二次元方向に指向性を
有するサンドイツチタイプのセンサーの一実施例
を示すものである。第14図Aを構成する部材は
第13図Aを示す部材と同じで、31は金属電
極、32はアモルフアスシリコン受光体膜、33
は透明電極膜、34はガラス蒸着膜、35はCr
等の遮光膜、36はガラス基板である。Crの遮
光膜35についての1ビツト全体の平面図を第1
4図Bおよび第14図Cに示す。第14図Bは光
が透過するパターンが矩形をしている場合であ
り、第14図Cは光が通過するパターンが円形状
をなしている場合の例について示す。センサーの
2次元アレイ状の感光部の各中心と、遮光板の光
の透過域の各パターンの中心を一致させると、x
方向、y方向それぞれについて指向特性は対称に
なり、しかもx、y各方向ともに指向性を持たせ
ることができる。又、センサーの2次元アレイ状
の感光部の各中心と、遮光板の光の透過域の各パ
ターンの中心をずらせると、x方向、y方向それ
ぞれについて指向特性は非対象になる。従つて、
入射光の入射角度に応じて指向特性をもたせるこ
とが可能である。 FIGS. 14A, B, and C show an embodiment of a sandwich type sensor having directivity in two-dimensional directions. The members constituting FIG. 14A are the same as those shown in FIG. 13A, including 31 a metal electrode, 32 an amorphous silicon photoreceptor film, and 33
34 is a transparent electrode film, 34 is a glass vapor deposited film, 35 is Cr
36 is a glass substrate. The plan view of the entire 1 bit of the Cr light shielding film 35 is shown in the first diagram.
This is shown in FIG. 4B and FIG. 14C. FIG. 14B shows an example in which the pattern through which light passes is rectangular, and FIG. 14C shows an example in which the pattern through which light passes is circular. When each center of the two-dimensional array of photosensitive parts of the sensor matches the center of each pattern of the light transmission area of the light shielding plate, x
Directional characteristics are symmetrical in both the x and y directions, and directivity can be provided in both the x and y directions. Furthermore, if the centers of the two-dimensional array of photosensitive parts of the sensor are shifted from the centers of the patterns of the light transmission area of the light shielding plate, the directivity becomes asymmetrical in the x and y directions. Therefore,
It is possible to provide directional characteristics depending on the angle of incidence of the incident light.
上述したサンドイツチ型センサーの実施例に於
いては、受光体の一方に設けられる電極を金属電
極としたが、これは透明電極であつても良い。 In the above-described embodiment of the sandwich type sensor, the electrode provided on one side of the photoreceptor is a metal electrode, but it may also be a transparent electrode.
以上示したギヤツプタイプ、及びサンドイツチ
タイプの各センサーに於いては、ガラス蒸着膜の
層は1層の場合のみについて示したが、一般には
ガラス蒸着膜の上に誘電体層を設けて、その上に
更に遮光膜とガラス蒸着膜と言う様にガラス蒸着
膜と遮光膜層を多層重ねても良い。 In the gap type and sandwich type sensors shown above, only one layer of glass vapor deposited film was shown, but generally a dielectric layer is provided on the glass vapor deposited film. A glass vapor-deposited film and a light-shielding film layer may be further stacked on top of each other, such as a light-shielding film and a glass vapor-deposited film.
次に本発明のセンサーを適用した読取り装置の
実施例を第15図〜第18図に示す。第15図及
び第16図に示す読取り装置は、千島状に原稿を
読み取る場合の実施例で、第15図は倒率像で、
第16図は正立像で読み取る場合を示している。
第15図及び第16図に於いて、41は原稿、4
2a〜42eは原稿面の読み取らるべき書画、4
3a〜43eは各々本発明に係るセンサーアレ
ー、44a〜44eは前記原稿面書画の像であ
る。第15図に示す装置では結像系は45a〜4
5eで示す様に1群で、第16図に示す装置では
結像系は46a〜46e,47a〜47e,48
a〜48eで示す如く3群構成であり、47a〜
47eはフイールドレンズとしての機能を有して
いる。本発明に係るセンサーを用いることによ
り、一つのレンズ系が受け持つ受光角は2θをカバ
ー出来る程度であり、斜めから入射する光束49
に対して光を感じない。この様なセンサーを用い
れば従来使用していた遮光体を必要としなくな
る。 Next, an embodiment of a reading device to which the sensor of the present invention is applied is shown in FIGS. 15 to 18. The reading device shown in FIGS. 15 and 16 is an embodiment for reading a document in a thousand-island pattern, and FIG. 15 is an inverted image.
FIG. 16 shows the case of reading with an erect image.
In Figures 15 and 16, 41 is the original, 4
2a to 42e are calligraphy and drawings to be read on the manuscript surface, 4
3a to 43e are sensor arrays according to the present invention, and 44a to 44e are images of the original document images. In the apparatus shown in FIG. 15, the imaging system is 45a-4.
In the apparatus shown in FIG. 16, the imaging system consists of one group as shown by 5e, 46a to 46e, 47a to 47e, and 48.
It has a three-group configuration as shown by a to 48e, and 47a to 48e.
47e has a function as a field lens. By using the sensor according to the present invention, the light receiving angle handled by one lens system can cover 2θ, and the light beam incident from an oblique angle is 49.
I don't feel any light against it. Using such a sensor eliminates the need for a conventional light shield.
第17図及び第18図に示す読取り装置は、千
島状配列の読み取りとは異なり、通常の一例で読
み取る場合の装置を示すものである。第17図に
示す装置は第15図に示す装置と同じく原稿面を
側立像で読み取る場合、第18図は同じく第16
図の装置で示す如く原稿面を正立像で読み取る場
合を示す。第17図及び第18図の装置に施こし
た付番で第15図及び第16図と同じものは同じ
部材を示すので、ここでは説明を省く。第17図
及び第18図に示す装置では、センサー50は長
尺センサーである。これ等の場合にも、センサー
の受光角が2θをカバーし、更に斜入射光49に対
して、上述した如くセンサーが感じない様にすれ
ば、遮光体なしに読み取り系が構成出来る。 The reading device shown in FIG. 17 and FIG. 18 is different from reading a thousand islands arrangement, and shows a device for reading a normal example. The device shown in FIG. 17 is similar to the device shown in FIG.
A case is shown in which the document surface is read as an erect image as shown in the apparatus shown in the figure. Since the same numbers given to the devices in FIGS. 17 and 18 as in FIGS. 15 and 16 indicate the same members, their explanations will be omitted here. In the apparatus shown in FIGS. 17 and 18, sensor 50 is a long sensor. Even in these cases, if the light receiving angle of the sensor covers 2θ and the sensor is made insensitive to obliquely incident light 49 as described above, a reading system can be constructed without a light shield.
以上の第15図、第16図、第17図、第18
図の実施例は結像系が通常のレンズ(屈折率が一
定の媒体に曲率をもたせることによつて結像作用
をもたらす手段)の場合を示したが、実際には通
常のレンズのみに限らず、結像作用をもつものな
らいずれについても適用でき、例えば、ゾーンプ
レートのような位相レンズ、あるいはセルフオツ
クのような不均質レンズ、更には分布屈折率平板
マイクロレンズアイ(昭和56年度電子通信学会総
合全国大会、992、伊賀健一他5名)であつても
よい。このうち、ゾーンプレートや分布屈折率平
板マイクロレンズアイは、フオトリソグラフイの
手法によつて複眼系のパターンが製作されるの
で、モノリツクな構成に適しており、本発明の薄
膜センサーがモノリツクに構成できるところに特
長をもつ点と相俟つて、コンパクトで量産性の良
い読取り装置を実現するのに好都合である。また
一般的には、現在使用されているフアクシミリの
様な1次元の読取り装置に限らず、2次元の読取
り装置についても適用出来ることは言うまでもな
い。 Figures 15, 16, 17, and 18 above
The example shown in the figure shows a case where the imaging system is a normal lens (a means for producing an imaging effect by giving a curvature to a medium with a constant refractive index), but in reality, it is limited to a normal lens. It can be applied to any type of lens that has an imaging effect, such as a phase lens such as a zone plate, a non-uniform lens such as a self-occurrence lens, and even a distributed index flat plate microlens eye (1986 Institute of Electronics and Communication Engineers). Comprehensive National Convention, 992, Kenichi Iga and 5 others). Among these, zone plates and distributed index flat microlens eyes are suitable for monolithic configurations because compound eye system patterns are manufactured using photolithography techniques, and the thin film sensor of the present invention is suitable for monolithic configurations. Combined with the fact that it has the advantage of being able to do so, it is convenient for realizing a compact reading device that can be mass-produced. Further, in general, it goes without saying that the present invention can be applied not only to one-dimensional reading devices such as facsimile machines currently in use, but also to two-dimensional reading devices.
以上示した様に本発明に係るアモルフアスシリ
コン等に代表させる薄膜センサーに於いてはその
感光方向に指向性を持たせることにより、ライン
センサーの中央のビツトの周辺のビツトで感光特
性を所望の特性に取ることが出来たり、フアクシ
ミリ等のデジタル画像装置に於ける複眼の結像系
に要求される遮光板を不要としたり、セルフオツ
ク等の正立等倍結像系の場合に於いても内面散乱
等によつて発生する迷光の抑え、S/N比の良好
な読取り装置が得られるものである。 As shown above, in the thin film sensor typified by amorphous silicon according to the present invention, by giving directionality to the direction of exposure, the desired sensitivity characteristics can be achieved in the bits around the center bit of the line sensor. It also eliminates the need for a light-shielding plate required for compound-eye imaging systems in digital imaging devices such as facsimile machines, and also allows the inner surface to be This provides a reading device that suppresses stray light caused by scattering and has a good S/N ratio.
第1図A,Bは従来のギヤツプタイプのセンサ
ーを説明する為の図、第2図A,Bは従来の複眼
読取り装置の一実施例を示す図、第3図A,B及
び第4図は各々本発明を適用したギヤツプタイプ
のセンサーの一実施例を説明する為の図、第5図
A,B、第6図及び第7図A,Bは各々本発明を
適用した他のタイプのギヤツプセンサーを説明す
る為の図、第8図は本発明を適用した他のタイプ
のギヤツプセンサーを示す図、第9図、第10図
及び第11図A,Bは各々、本発明に係る三次元
方向に指向性を有するギヤツプタイプセンサーの
実施例を示す図、第12図は本発明を適用したサ
ンドイツチタイプのセンサーを説明する為の図、
第13図A,Bは各々、本発明を適用した一次元
方向に指向性を有するサンドイツチタイプセンサ
ーの実施例を示す図。第14図A,B,Cは
各々、本発明を適用した二次元方向に指向性を有
するサンドイツチタイプセンサーの実施例を示す
図、第15図、第16図、第17図、及び第18
図は各々本発明に係るセンサーを用いた複眼光学
系を示す図。
15a,15b……入射光束、16……遮光
膜、17……ガラス蒸着膜、18a,18b……
電極、19……受光体、20……基板。
Figures 1A and B are diagrams for explaining a conventional gap type sensor, Figures 2A and B are diagrams showing an example of a conventional compound eye reading device, and Figures 3A and B and Figure 4 are diagrams for explaining a conventional gap type sensor. 5A and B, FIG. 6, and FIG. 7 A and B each illustrate an embodiment of a gap type sensor to which the present invention is applied. FIG. 8 is a diagram for explaining another type of gap sensor to which the present invention is applied, and FIGS. FIG. 12 is a diagram illustrating a sandwich type sensor to which the present invention is applied;
FIGS. 13A and 13B are diagrams each showing an embodiment of a Sand German arch type sensor having directivity in a one-dimensional direction to which the present invention is applied. FIGS. 14A, B, and C are diagrams showing an embodiment of a Sand Germany type sensor having directivity in two-dimensional directions to which the present invention is applied, FIG. 15, FIG. 16, FIG. 17, and FIG. 18
Each figure shows a compound eye optical system using a sensor according to the present invention. 15a, 15b...Incoming light flux, 16...Light shielding film, 17...Glass vapor deposited film, 18a, 18b...
Electrode, 19...photoreceptor, 20...substrate.
Claims (1)
サーアレーと該センサーアレーを構成する各単位
ビツトの感光領域に入射する光を規制する為に設
けた所定の開口部を有する遮光手段とを有し、該
遮光手段の開口部を前記結像系を介して前記各単
位ビツトに入射する光の主光線の入射角に応じて
形成することにより、前記各単位ビツトの入射光
に対する指向性を個別に制御したことを特徴とす
る読取り装置。1. An imaging system, a sensor array for reading a document through the imaging system, and a light shielding means having a predetermined opening provided to restrict light incident on the photosensitive area of each unit bit constituting the sensor array. By forming the aperture of the light shielding means according to the incident angle of the principal ray of light incident on each unit bit via the imaging system, the directivity of each unit bit with respect to the incident light can be adjusted. A reading device characterized in that the following are individually controlled.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56197217A JPS5897861A (en) | 1981-12-08 | 1981-12-08 | Sensor having directivity |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56197217A JPS5897861A (en) | 1981-12-08 | 1981-12-08 | Sensor having directivity |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5897861A JPS5897861A (en) | 1983-06-10 |
JPH0318354B2 true JPH0318354B2 (en) | 1991-03-12 |
Family
ID=16370775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS62112123A (en) * | 1985-11-12 | 1987-05-23 | Copal Electron Co Ltd | Spot diameter control device |
JP6549366B2 (en) * | 2014-09-19 | 2019-07-24 | 株式会社リコー | PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT, IMAGE READER, AND IMAGE FORMING APPARATUS |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5242071B2 (en) * | 1972-02-02 | 1977-10-21 | ||
JPS55108777A (en) * | 1979-02-14 | 1980-08-21 | Hitachi Ltd | Light receiving element |
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JPS56122172A (en) * | 1980-02-28 | 1981-09-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Photoelectric converter and manufacture thereof |
JPS5834750B2 (en) * | 1975-12-27 | 1983-07-28 | 株式会社クボタ | Kansousouchi |
Family Cites Families (3)
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JPS5834750U (en) * | 1981-08-29 | 1983-03-07 | ソニー株式会社 | solid-state image sensor |
-
1981
- 1981-12-08 JP JP56197217A patent/JPS5897861A/en active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5242071B2 (en) * | 1972-02-02 | 1977-10-21 | ||
JPS5834750B2 (en) * | 1975-12-27 | 1983-07-28 | 株式会社クボタ | Kansousouchi |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5897861A (en) | 1983-06-10 |
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