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JPH0259424A - 無水フッ化ネオジムの製造方法 - Google Patents

無水フッ化ネオジムの製造方法

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Publication number
JPH0259424A
JPH0259424A JP63210103A JP21010388A JPH0259424A JP H0259424 A JPH0259424 A JP H0259424A JP 63210103 A JP63210103 A JP 63210103A JP 21010388 A JP21010388 A JP 21010388A JP H0259424 A JPH0259424 A JP H0259424A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ndof
ndf
heating
ndf3
calcining
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63210103A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2638620B2 (ja
Inventor
Hideo Tamamura
玉村 英雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP63210103A priority Critical patent/JP2638620B2/ja
Publication of JPH0259424A publication Critical patent/JPH0259424A/ja
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Publication of JP2638620B2 publication Critical patent/JP2638620B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は最近高性能磁石として注目されているNd−F
e−B系磁石用の原料となるNdおよびNd合金の製造
に好適な無水Nd F、の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
一般にNdまたはNd合金は無水Nd F、(以下Nd
 F、という)を原料としてCa還元法、或いは溶融塩
電解法によって製造されており、NdF、は通常NdC
l3等のNd化合物にフッ酸を反応させてN d F 
、−n Htoとし、これを加熱してつくられているが
、詳細については記載された文献がない。
〔発明が解決し・ようとする課題〕
しかし、本発明者等は先に上記いずれの方法においても
、市販の無水Nd F、を原料として使用すると、Nd
の収率が理論値をはるかに下まわるばかりでなく、さら
に製造過程で種々なトラブルが発生することを知見し発
表した。(Ca還元法については特開昭60−7794
3号公報、溶融塩電解については、特願昭63−173
487)。
本発明者らは、その原因を究明すべく鋭意研究を行った
結果、市販の無水NdF、には3〜10豐t%のNdO
Fが含有されており、これが収率の低下、或いはトラブ
ルの原因となっていることを発見した。すなわち、 (a)Ca等の金属還元法でNdまたはNd合金を製造
する工程における反応は、下記(1)式によって行われ
る。
2NdFs+3Ca+Fe ”’ Nd−Fe+3Ca
Ft  1.−(t)(1)式の反応においてCa C
L *は生成したCaF、を溶解し、Nd化合物をCa
C!、−CaF。
との分離をよくするために添加されるものである。
しかし、NdOFが存在すると、(1)の還元反応がN
dOFの量だけ進行しないばかりでなく、NdOFはC
a、CI、との溶解がスムースに行われず、生成した合
金の中に残留するため、生成合金の品位を低下させる。
(b)N d F 、を用いる溶融塩電解法としては、
LiF−NdF、系でNdF、を電解する方法とLiF
−NdF、−Nd、O,系でN d to sを電解す
る方法とがある。
上記電解法において、NdOFが存在するとNdOFは
電気分解されないのでNd F3中のNciOF相当分
だけコストアップする。
また、NdOFが存在する浴は比重が太き(粘性が大で
、溶解度が小さいため、正常な電解浴の下部に析出する
。したがって生成した溶融Nd合金に懸濁し易く、C’
a還元還元量様に合金の品位を低下させることになる。
さらに溶融塩電解法は、その特性上連続運転が行われる
ものであるため、Nd F、が電解されてNdOFが電
解されないと電解浴中のN d OF a度は次第に高
くなる。したがって、長時間運転を行うと、N d O
F蓄積により正常な運転が維持出来なくなり、中断せざ
るを得ない。
したがってNt−1またはNd合金を効率よくつくるに
は、NdOF含有量の少ない無水Nd F、を使用する
ことが必要で、NdF3中にNdOFが混入する原因に
ついて研究を行った結果法のことが判明した。
無水Nd F3の製造は、前記のようにNd化合物にフ
ッ酸CHF ’)を反応させ、NdF、・nH。
0をつくりこれを加熱して得られる。
Nd化合物としてN d CI 2を例として化学反応
式を示すと NdC15+3HF+n1ltONdFs’n1ltO
+311CI・・・(2) 1a4L NdFs・n1ltO*dFz + nHtO+++ 
(a)N3112. 、If、O”−’= NdOF 
+ 21!F   −(4)NdF3  +  l/2
 0!  ’乙−−メL  Ndop  +  F! 
   ・・・ (5)上記の反応で(2)式で得られた
水を含んだNdF、・nH,oを加熱して(3)式の反
応によって無水NdF、をつくれれば問題はない。
しかし加熱条件が適切でないと、空気中の水分や酸素と
(4)(5)式によって反応し、NdOFが生成し、こ
れが混入されたNdF、となる。すなわち、(3)の3
反応で加熱温度が低過ぎると水分が残留し、高すぎると
(4)(5)の反応によってNdOFを含んだNd F
、となり、さらに加熱温度が高いと全てがNdOFとな
る。
このことは、市販のNdF、中のl’1−dOFの量が
各ロットによって、大きく変化していることとも一致す
る。
本発明は」1記の事情に鑑み、Nd F3・nH,○を
加熱して、NdOFの含有量の少ないNd F。
が得られる製造方法を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記の目的を達成するため、加熱条件を種々検討した結
果、本発明の方法においては、大気中で加熱する場合に
は、加熱温度を100〜s o o ’cとし、l O
−’mmHg以下の減圧下で加熱する場合には、加熱温
度を50〜1100°Cとする条件が適することを見出
した。
〔作用〕
本発明の方法は上記の構成となっているので、(4)(
5)式で示した反応がいずれも抑制される。
NdF、’nH,Oを加熱してNdF、を得る方法とし
ては、 i)大気中で加熱する方法 ii)  減圧下で加熱する方法 目i)不活性ガス雰囲気で加熱する方法iV)  i)
〜1ii)を組を組合わせる方法が考えられるが、iV
)の方法は、+)〜1ii)の条件が決まれば選択でき
るので、i)〜1ii)の条件について説明する。
i)大気中において加熱する方法 上記(3)式の反応が進行して(4)(5)式の反応が
起こらない温度選定すると、(3)式の反応は、NdF
3・nH,Oを100°Cに保持することによって完了
する。(4)(5)の反応は大気中の水分、0.の影響
を受けるので、同じ条件で加熱しても容器に入れた試料
の大気に接触している上部と、接触していない下部とで
は異なり、上部が650℃程度から除々にNdOFの生
成が認められるのに対し、下部では、800℃程度にな
ってはじめてNdOFの生成が認められる。
したがって大気中における加熱温度範囲は100〜80
0°C1特に100〜650℃が好ましい。
ii)減圧下における加熱方法 減圧下においては、加熱されるNd F、・nH。
Oと接する雰囲気中の水分、○、が少なく、さらに発生
するH、Oは、真空ポンプ等の減圧手段によって逐次除
去されるので、さらに可酷な加熱条件下でもNdOFの
生成が抑制されるが、その加熱条件は、減圧度とのかね
合いによって決まる。
例えば容易に到達できるI O−’mn+Hg程度の真
空度における加熱温度は、50〜1100°C,特に1
00〜800°Cが好ましい。
一般に、大気中で焼成した方が経済的であるが減下で焼
成すると適正温度範囲が広(なり短時間で焼成できる。
また、加熱中にNclF、・nHtoが撹拌される例え
ばロータリーキルン等わ用いれば均一でバラつきの少な
いNdF3得られ、特に大気中の焼成に有効である。
1ii)  不活性ガス雰囲気で加熱する方法この方法
は、(3)の反応が進行するとH,Oが発生し、これが
Nd F3と反応してNdOFが生成する(4)の反応
が起こるので、本発明の方法としては不適当である。
実施例1 NdC1,と)(Fとを反応させて得たNdF、・nH
,Oを容器に入れ、大気中で1時間、種々な温度で加熱
焼成した。各温度で加熱したNd F。
について、気発損失量を測定して残存水分を求め、また
NdF、N中のNdOFmを容器中の上部および下部の
試料について測定し、NdOF/NdF3の重量比を求
めた。
気発損失量 サンプルを大気中で200 ’Cで1時間乾燥した。
N d F 、中のNdOF量の測定 Cuのにα線を用いて回折X線のN d F sピーク
とNdOFピークを求めた。定量に使用したピークは、
Nd F、は2θ=28.3°、NdOFは2θ=27
.2°である。
結果を第1図に示す。図より100〜800℃特に10
0〜650°Cの温度で焼成すると、NdOFが殆どな
く、また水分を含有しないNd F。
が得られることがわかる。
また、400℃で焼成したNd F、の回折X線のパタ
ーンを第2図に示し、対象として市販のNdF、の回折
X線のパターンを第3図に示した。
図中Aは、Nd F、のピーク、BはNdOFのピーク
を示すもので、本発明の方法によってつくられたNd 
F、にはNdOFのピークが現れていない。
実施例2 10 ”mm11gで焼成した他は実施例1と同じにし
た。結果を第4図に示す。図より明らかなように、大気
中の焼成に比して広い範囲の温度域でNdOFを含有量
の殆どないNdF、が得られ、かつ短時間で製品が得ら
れることがわかる。また600°Cで焼成して得たNd
F、の回折X線は第2図と同様のパターンを示した。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明のNd F3製造方法はN’
d OFか殆ど含有しないNdF、が得られるので、こ
れを原料としてNd或いはNd合金を製造する際、Ca
還元法、溶融電解法のいずれにおいても、収率が大幅に
増大し、またトラブルの発生が解消されるので、運転が
簡単となって省力化され、設備の維持が容易となるなど
多くの効果が発揮される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、大気中で焼成した場合の各種温度における脱
水率および上部および下部における試料のNdOF/N
dF3の重量比を示す図、第2図は大気中で400℃の
温度で焼成したNd F、の回折X線の図、第3図は市
販NdF、の回折X線の図、第4図は10−’mmHg
の減圧下で焼成した試料の各温度における脱水率、およ
び上部、下部の試料のN d OF / N d F 
3の重量比を示す図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、NdF_3・nH_2Oを加熱焼成してNdOFが
    2wt%以下の無水フッ化ネオジムを製造する方法であ
    って、大気中で100〜800℃の温度で焼成すること
    を特徴とする無水フッ化ネオジムの製造方法。 2、NdF_3・nH_2Oを加熱焼成してNdOFが
    2wt%以下の無水フッ化ネオジムを製造する方法であ
    って、10^−^1mmHg以下の減圧下、50〜11
    00℃の温度で焼成することを特徴とする無水フッ化ネ
    オジムの製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5516644A (en) * 1991-07-29 1996-05-14 Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. Electrochemical immunochromatographic assay
JP2013056826A (ja) * 2012-10-29 2013-03-28 Tokyo Univ Of Science 微粒子分散溶液の製造方法、及びLnOX−LnX3複合体粒子の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5516644A (en) * 1991-07-29 1996-05-14 Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. Electrochemical immunochromatographic assay
US6218134B1 (en) 1991-07-29 2001-04-17 Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. Process for specific binding assay for measuring the amount of analyte in a liquid test sample
JP2013056826A (ja) * 2012-10-29 2013-03-28 Tokyo Univ Of Science 微粒子分散溶液の製造方法、及びLnOX−LnX3複合体粒子の製造方法

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