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JPH02303047A - ウエハチヤツク方法及び装置 - Google Patents

ウエハチヤツク方法及び装置

Info

Publication number
JPH02303047A
JPH02303047A JP1122778A JP12277889A JPH02303047A JP H02303047 A JPH02303047 A JP H02303047A JP 1122778 A JP1122778 A JP 1122778A JP 12277889 A JP12277889 A JP 12277889A JP H02303047 A JPH02303047 A JP H02303047A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
plate
chuck plate
chuck
periphery
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1122778A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0666381B2 (ja
Inventor
Michihisa Kato
加藤 道久
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SHIOYA SEISAKUSHO KK
Original Assignee
SHIOYA SEISAKUSHO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SHIOYA SEISAKUSHO KK filed Critical SHIOYA SEISAKUSHO KK
Priority to JP1122778A priority Critical patent/JPH0666381B2/ja
Publication of JPH02303047A publication Critical patent/JPH02303047A/ja
Publication of JPH0666381B2 publication Critical patent/JPH0666381B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Jigs For Machine Tools (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ウェハ等のウェハチャック方法及び装
置に関する。
(従来の技術) 半導体ウェハ、ガラス板、アルミナ、水晶板、セラミッ
ク板、サファイヤ板その他の9エノ−を洗浄、乾燥した
り、各種の塗布等を行ったりするため、ウェハをチャッ
クする装置が権々用いられている。例えば、スクラビン
グ装置では、ウェハを真空ポンプによってチャックプレ
ート上に密着させ、表面から洗浄液やジェット水流を噴
射してブラシ洗浄をしているが、裏面が汚れたり、吸着
作用のためにクエへのセンタ一部が歪んだりするおそれ
がある。また、機械的にクエへの周縁を把持するメカニ
カルチャックでは、9工への裏面に水がまわり込んで付
着するという間聴があった。
(発明の解決課題) 本発明はそのような実情に鑑み、ウェハを載置するだけ
でU単電二支持することができるようにすると共ζ;つ
二への裏面(;洗浄水がまわり込んだり、汚染されるこ
とがないようなウェハチャック方法及び1!置を提供し
ようとするも6である。
(課題解決の手段) 本発明は、上記の目的を達成するよう、ウェハをチャッ
クプレート上ミニ間隙をあけて@置し、該クエへの裏面
に中央から周辺に向けて気体を噴出し、該ウェハをチャ
ックプレート面に吹寄セつつ該チャックプレートを回転
するようにしたウェハチャック方法が提供される。
(実施例) 図において、チャックプレート(1)は、円板状に形成
され、モーター(2)の軸(3)にボス部(4)をねじ
着して回転可能(二設けられている。該チャックプレー
 ) (1)の周囲には、ウェハ(5)の周辺を担持す
るよう複数の支持片(6)を形成してあり、該支持片に
よってウェハ(5)はチャックプレートとの間に狭い間
隙をあけて載置される。該間隙は、後記するように気体
の噴流によってウェハを吹寄せることかできるよう約0
.2〜3θ■に形成するとよい。該支持片(6)は、ポ
リアセタール(デルリン)で作られているがその他の耐
食性、耐薬品性のある合成樹脂材料、金属材料等で作る
ことができ、上記ウェハを載置する係止肩(ηを有する
。該係止肩(7)は、第3図1=示すようC:、下方に
わずか傾斜させてあり、また、上方に立上る支承縁(8
)と該支承縁(8)の上端から斜め外方へ傾斜する案内
面(9)を設けである。該案内面(9)の傾斜角度は、
上方からウェハ(5)を落し込んだとき、該ウェハな的
確(;係止肩(7)へ導くことができるような角度、例
えば約lj度程度:二形成しである。上記支承縁(8)
は、弗7図に示すように、平面からみて直線状に形成し
であるが、排水性を考虞して鋭角に、例えば第9図に示
すように約9θ度に、屈曲させて設けることもできる。
上記支持片(6)は、ねじαGでチャックプレート(1
)に取付けてあり、図において、該支持片間のプレート
の一部には切欠部α◇を形成しであるが、該切欠部を設
けない円板状に形成してもよい。なお、該チャックプレ
ート(1)の、平面からみて横軸方向の一部には、直線
状の爪受入部0を設け、ウェハをチャックから取り出す
際、メカニカル爪(図示略)をウェハ周縁に入り込める
ようにしである。
上記チャックプレート(l)の中央には、周辺に向けて
気体を噴出するよう噴出口Q3を設けである。
該噴出口a3の開口部は、チャックプレート(1)の上
面より深い位置にあり、かつ縁部シニ丸味Q4を形成し
吹き出し音を防ぐと共(二吸着力を増すよう(ニしであ
る。上記噴出口α3の内端には、テフロン系の保護チュ
ーブαGを嵌着してあり、該チューブαGは上記モータ
ー軸(33を貫通して延びクリーン馬ガス等の気体の噴
出fIA<図示略)に連絡している。
該保護チューブにより、N、ガスは金属に接することな
く噴出口α3まで導かれる。なお、該噴出口Q3部分は
、ビスαGによりチャックプレート(1)に固着されて
いる。
而して、ウェハ(5)は、適宜の搬送手段でチャックプ
レート(1)の上面に運んでから該チャックプレートを
上昇させて支持片(6)・・・間で受支するようにした
り、適宜のメカニカル爪(図示略)で周縁を把持してチ
ャックプレート上に落し込むよう(;シて支持片(6)
・・・間で支承する。このよう(−して、チャックプレ
ート(1)上に間隙をあけてウェハを載置したら、クリ
ーンN、ガス等の気体を噴出口I’l:’Iから周辺に
向けて噴出すれば、ウェハ(5)はベル反イ方式により
チャックプレート面に吹寄せられ、確実にチャックされ
る。その後、該チャックプレートを回転しながらクエへ
の表面に洗浄液や高圧ジェット水流を噴射し適宜洗浄ブ
ラシで洗浄すればよい。この際、洗浄液等の液体がクエ
への裏面にまわり込もうとしても、ウェハ裏面とチャッ
クプレートの間にN、ガスが周円状に吹き出しているた
め、裏面に付着するごと゛はない。
洗浄後は、スピンドライできる回転数までチャックプレ
ートを回転してウェハを乾燥し、上記メカニカル爪上し
くは搬送手段で運び出せばよい。
(発明の効果) 本発明は以上のように構成され、クエへの裏面にクリー
ンN、ガス等を吹きつけてウェハ裏面に付着する水分を
除去すると共に該ウェハを支持片に確実に保持でき、ウ
ェハ周縁まできれいに洗浄することができ、裏面を汚染
することもない。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示し、第7図は平面図、第2図
は断面図、第3図は支持片部分の拡大断面図、第4を因
は変形例の平面図である。 1・・・チャックプレート、3・・・モータ軸、5・・
・つエバ、6・・・支持片、13・・・噴出口特許出願
人  株式会社塩谷製作所 第2図     \

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 回転可能なチャックプレートとの間に間隙をあけて
    ウェハを載置し、該ウェハを上記チャックプレートの中
    央から周辺に向けて噴出する気体により該チャックプレ
    ート面に吹寄せつつ回転させることを特徴とするウェハ
    チャック方法。 2 チャックプレートを回転可能に設け、該チヤツクプ
    レートの周囲にウェハの周辺を担持するよう複数の支持
    片を形成しかつ該チャックプレートの中央に周辺に向け
    て気体を噴出するよう噴出口を設けたウェハチャック装
    置。
JP1122778A 1989-05-18 1989-05-18 ウエハチヤツク方法及び装置 Expired - Lifetime JPH0666381B2 (ja)

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