JPH02303047A - ウエハチヤツク方法及び装置 - Google Patents
ウエハチヤツク方法及び装置Info
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- JPH02303047A JPH02303047A JP1122778A JP12277889A JPH02303047A JP H02303047 A JPH02303047 A JP H02303047A JP 1122778 A JP1122778 A JP 1122778A JP 12277889 A JP12277889 A JP 12277889A JP H02303047 A JPH02303047 A JP H02303047A
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- wafer
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- chuck
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体ウェハ等のウェハチャック方法及び装
置に関する。
置に関する。
(従来の技術)
半導体ウェハ、ガラス板、アルミナ、水晶板、セラミッ
ク板、サファイヤ板その他の9エノ−を洗浄、乾燥した
り、各種の塗布等を行ったりするため、ウェハをチャッ
クする装置が権々用いられている。例えば、スクラビン
グ装置では、ウェハを真空ポンプによってチャックプレ
ート上に密着させ、表面から洗浄液やジェット水流を噴
射してブラシ洗浄をしているが、裏面が汚れたり、吸着
作用のためにクエへのセンタ一部が歪んだりするおそれ
がある。また、機械的にクエへの周縁を把持するメカニ
カルチャックでは、9工への裏面に水がまわり込んで付
着するという間聴があった。
ク板、サファイヤ板その他の9エノ−を洗浄、乾燥した
り、各種の塗布等を行ったりするため、ウェハをチャッ
クする装置が権々用いられている。例えば、スクラビン
グ装置では、ウェハを真空ポンプによってチャックプレ
ート上に密着させ、表面から洗浄液やジェット水流を噴
射してブラシ洗浄をしているが、裏面が汚れたり、吸着
作用のためにクエへのセンタ一部が歪んだりするおそれ
がある。また、機械的にクエへの周縁を把持するメカニ
カルチャックでは、9工への裏面に水がまわり込んで付
着するという間聴があった。
(発明の解決課題)
本発明はそのような実情に鑑み、ウェハを載置するだけ
でU単電二支持することができるようにすると共ζ;つ
二への裏面(;洗浄水がまわり込んだり、汚染されるこ
とがないようなウェハチャック方法及び1!置を提供し
ようとするも6である。
でU単電二支持することができるようにすると共ζ;つ
二への裏面(;洗浄水がまわり込んだり、汚染されるこ
とがないようなウェハチャック方法及び1!置を提供し
ようとするも6である。
(課題解決の手段)
本発明は、上記の目的を達成するよう、ウェハをチャッ
クプレート上ミニ間隙をあけて@置し、該クエへの裏面
に中央から周辺に向けて気体を噴出し、該ウェハをチャ
ックプレート面に吹寄セつつ該チャックプレートを回転
するようにしたウェハチャック方法が提供される。
クプレート上ミニ間隙をあけて@置し、該クエへの裏面
に中央から周辺に向けて気体を噴出し、該ウェハをチャ
ックプレート面に吹寄セつつ該チャックプレートを回転
するようにしたウェハチャック方法が提供される。
(実施例)
図において、チャックプレート(1)は、円板状に形成
され、モーター(2)の軸(3)にボス部(4)をねじ
着して回転可能(二設けられている。該チャックプレー
) (1)の周囲には、ウェハ(5)の周辺を担持す
るよう複数の支持片(6)を形成してあり、該支持片に
よってウェハ(5)はチャックプレートとの間に狭い間
隙をあけて載置される。該間隙は、後記するように気体
の噴流によってウェハを吹寄せることかできるよう約0
.2〜3θ■に形成するとよい。該支持片(6)は、ポ
リアセタール(デルリン)で作られているがその他の耐
食性、耐薬品性のある合成樹脂材料、金属材料等で作る
ことができ、上記ウェハを載置する係止肩(ηを有する
。該係止肩(7)は、第3図1=示すようC:、下方に
わずか傾斜させてあり、また、上方に立上る支承縁(8
)と該支承縁(8)の上端から斜め外方へ傾斜する案内
面(9)を設けである。該案内面(9)の傾斜角度は、
上方からウェハ(5)を落し込んだとき、該ウェハな的
確(;係止肩(7)へ導くことができるような角度、例
えば約lj度程度:二形成しである。上記支承縁(8)
は、弗7図に示すように、平面からみて直線状に形成し
であるが、排水性を考虞して鋭角に、例えば第9図に示
すように約9θ度に、屈曲させて設けることもできる。
され、モーター(2)の軸(3)にボス部(4)をねじ
着して回転可能(二設けられている。該チャックプレー
) (1)の周囲には、ウェハ(5)の周辺を担持す
るよう複数の支持片(6)を形成してあり、該支持片に
よってウェハ(5)はチャックプレートとの間に狭い間
隙をあけて載置される。該間隙は、後記するように気体
の噴流によってウェハを吹寄せることかできるよう約0
.2〜3θ■に形成するとよい。該支持片(6)は、ポ
リアセタール(デルリン)で作られているがその他の耐
食性、耐薬品性のある合成樹脂材料、金属材料等で作る
ことができ、上記ウェハを載置する係止肩(ηを有する
。該係止肩(7)は、第3図1=示すようC:、下方に
わずか傾斜させてあり、また、上方に立上る支承縁(8
)と該支承縁(8)の上端から斜め外方へ傾斜する案内
面(9)を設けである。該案内面(9)の傾斜角度は、
上方からウェハ(5)を落し込んだとき、該ウェハな的
確(;係止肩(7)へ導くことができるような角度、例
えば約lj度程度:二形成しである。上記支承縁(8)
は、弗7図に示すように、平面からみて直線状に形成し
であるが、排水性を考虞して鋭角に、例えば第9図に示
すように約9θ度に、屈曲させて設けることもできる。
上記支持片(6)は、ねじαGでチャックプレート(1
)に取付けてあり、図において、該支持片間のプレート
の一部には切欠部α◇を形成しであるが、該切欠部を設
けない円板状に形成してもよい。なお、該チャックプレ
ート(1)の、平面からみて横軸方向の一部には、直線
状の爪受入部0を設け、ウェハをチャックから取り出す
際、メカニカル爪(図示略)をウェハ周縁に入り込める
ようにしである。
)に取付けてあり、図において、該支持片間のプレート
の一部には切欠部α◇を形成しであるが、該切欠部を設
けない円板状に形成してもよい。なお、該チャックプレ
ート(1)の、平面からみて横軸方向の一部には、直線
状の爪受入部0を設け、ウェハをチャックから取り出す
際、メカニカル爪(図示略)をウェハ周縁に入り込める
ようにしである。
上記チャックプレート(l)の中央には、周辺に向けて
気体を噴出するよう噴出口Q3を設けである。
気体を噴出するよう噴出口Q3を設けである。
該噴出口a3の開口部は、チャックプレート(1)の上
面より深い位置にあり、かつ縁部シニ丸味Q4を形成し
吹き出し音を防ぐと共(二吸着力を増すよう(ニしであ
る。上記噴出口α3の内端には、テフロン系の保護チュ
ーブαGを嵌着してあり、該チューブαGは上記モータ
ー軸(33を貫通して延びクリーン馬ガス等の気体の噴
出fIA<図示略)に連絡している。
面より深い位置にあり、かつ縁部シニ丸味Q4を形成し
吹き出し音を防ぐと共(二吸着力を増すよう(ニしであ
る。上記噴出口α3の内端には、テフロン系の保護チュ
ーブαGを嵌着してあり、該チューブαGは上記モータ
ー軸(33を貫通して延びクリーン馬ガス等の気体の噴
出fIA<図示略)に連絡している。
該保護チューブにより、N、ガスは金属に接することな
く噴出口α3まで導かれる。なお、該噴出口Q3部分は
、ビスαGによりチャックプレート(1)に固着されて
いる。
く噴出口α3まで導かれる。なお、該噴出口Q3部分は
、ビスαGによりチャックプレート(1)に固着されて
いる。
而して、ウェハ(5)は、適宜の搬送手段でチャックプ
レート(1)の上面に運んでから該チャックプレートを
上昇させて支持片(6)・・・間で受支するようにした
り、適宜のメカニカル爪(図示略)で周縁を把持してチ
ャックプレート上に落し込むよう(;シて支持片(6)
・・・間で支承する。このよう(−して、チャックプレ
ート(1)上に間隙をあけてウェハを載置したら、クリ
ーンN、ガス等の気体を噴出口I’l:’Iから周辺に
向けて噴出すれば、ウェハ(5)はベル反イ方式により
チャックプレート面に吹寄せられ、確実にチャックされ
る。その後、該チャックプレートを回転しながらクエへ
の表面に洗浄液や高圧ジェット水流を噴射し適宜洗浄ブ
ラシで洗浄すればよい。この際、洗浄液等の液体がクエ
への裏面にまわり込もうとしても、ウェハ裏面とチャッ
クプレートの間にN、ガスが周円状に吹き出しているた
め、裏面に付着するごと゛はない。
レート(1)の上面に運んでから該チャックプレートを
上昇させて支持片(6)・・・間で受支するようにした
り、適宜のメカニカル爪(図示略)で周縁を把持してチ
ャックプレート上に落し込むよう(;シて支持片(6)
・・・間で支承する。このよう(−して、チャックプレ
ート(1)上に間隙をあけてウェハを載置したら、クリ
ーンN、ガス等の気体を噴出口I’l:’Iから周辺に
向けて噴出すれば、ウェハ(5)はベル反イ方式により
チャックプレート面に吹寄せられ、確実にチャックされ
る。その後、該チャックプレートを回転しながらクエへ
の表面に洗浄液や高圧ジェット水流を噴射し適宜洗浄ブ
ラシで洗浄すればよい。この際、洗浄液等の液体がクエ
への裏面にまわり込もうとしても、ウェハ裏面とチャッ
クプレートの間にN、ガスが周円状に吹き出しているた
め、裏面に付着するごと゛はない。
洗浄後は、スピンドライできる回転数までチャックプレ
ートを回転してウェハを乾燥し、上記メカニカル爪上し
くは搬送手段で運び出せばよい。
ートを回転してウェハを乾燥し、上記メカニカル爪上し
くは搬送手段で運び出せばよい。
(発明の効果)
本発明は以上のように構成され、クエへの裏面にクリー
ンN、ガス等を吹きつけてウェハ裏面に付着する水分を
除去すると共に該ウェハを支持片に確実に保持でき、ウ
ェハ周縁まできれいに洗浄することができ、裏面を汚染
することもない。
ンN、ガス等を吹きつけてウェハ裏面に付着する水分を
除去すると共に該ウェハを支持片に確実に保持でき、ウ
ェハ周縁まできれいに洗浄することができ、裏面を汚染
することもない。
図面は本発明の実施例を示し、第7図は平面図、第2図
は断面図、第3図は支持片部分の拡大断面図、第4を因
は変形例の平面図である。 1・・・チャックプレート、3・・・モータ軸、5・・
・つエバ、6・・・支持片、13・・・噴出口特許出願
人 株式会社塩谷製作所 第2図 \
は断面図、第3図は支持片部分の拡大断面図、第4を因
は変形例の平面図である。 1・・・チャックプレート、3・・・モータ軸、5・・
・つエバ、6・・・支持片、13・・・噴出口特許出願
人 株式会社塩谷製作所 第2図 \
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 回転可能なチャックプレートとの間に間隙をあけて
ウェハを載置し、該ウェハを上記チャックプレートの中
央から周辺に向けて噴出する気体により該チャックプレ
ート面に吹寄せつつ回転させることを特徴とするウェハ
チャック方法。 2 チャックプレートを回転可能に設け、該チヤツクプ
レートの周囲にウェハの周辺を担持するよう複数の支持
片を形成しかつ該チャックプレートの中央に周辺に向け
て気体を噴出するよう噴出口を設けたウェハチャック装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1122778A JPH0666381B2 (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | ウエハチヤツク方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1122778A JPH0666381B2 (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | ウエハチヤツク方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02303047A true JPH02303047A (ja) | 1990-12-17 |
JPH0666381B2 JPH0666381B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=14844380
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1122778A Expired - Lifetime JPH0666381B2 (ja) | 1989-05-18 | 1989-05-18 | ウエハチヤツク方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0666381B2 (ja) |
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- 1989-05-18 JP JP1122778A patent/JPH0666381B2/ja not_active Expired - Lifetime
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