JPH02266978A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ビームを用いて情報が記録再生される光情報
記録媒体に関するものである。

〔従来の技術〕

光情報記録媒体の一つである光ディスクは、再生専用型
光ディスクと記録可能型光ディスクに分けることができ
る。

再生専用型光ディスクは、透明な基板上に金型としての
金属原盤を用い、射出成形等の方法により微細な凹凸を
形成し、反射膜を被着したものである。

この方法は、ガラス盤への感光剤塗布、レーザビームに
よる情報記録、現像、電気メツキ、金属原盤作製、射出
成形９反射膜形成、保護膜塗布の工程を必要とし、金属
原盤を作製するには多大な費用が必要であるため、少品
種大量生産に適した方法である。しかし、少規模な光デ
ィスクの生産には不適切であり、この場合−枚の光ディ
スクは高価になってしまう。

小規模生産に適した方法として記録可能型光ディスクを
用いることが考えられる。これは従来公知のように、透
明基板上に設けられた光記録膜に半導体レーザ光を照射
して孔をあけるか、あるいは結晶相転移を生起せしめて
情報を記録したもので、反射光にて情報を再生すること
が出来る。この様に記録可能型光ディスクを用いると金
属原盤を作製する必要もなく安価に再生専用型光ディス
クを製造することができる。

しかし、この方法で作られた再生専用型光ディスクの反
射率は５０％以下であり、反射率７０９Ａ以上を要求さ
れる一般の再生専用型光ディスクの規格を満足すること
ができず、市販のＬＤプレーヤやＣＤプレーヤ等の再生
専用型光デイスク再生装置では再生することができない
。

かかる問題を解決し、市販の再生専用型光ディスクと同
等性能のものを安価に小規模生産し、市販の再生専用型
光デイスク再生機にて再生可能な光ディスクを製造する
方法として特開昭６２−１１９７５５が示されている。

これは、透明基体上に記録光ビーム吸収性を機色素記ｉ
！膜を形成し、光ビームを照射し、該記録膜にビットと
呼ばれる孔をあけて情報を記録し、その後記録膜を光ビ
ームに対して透明とする操作を加え、更に反射膜を被覆
する方法で、充分な反射率をもった記録媒体を得ること
ができる。

しかしながらこの様に、情報を記録した後光記録膜を透
明化させ、さらに反射膜を被覆させる操作を行うには、
特別な装置が必要となり、製造工程が複雑化する欠点が
あった。従って又、かかる設備を保有していない一般ユ
ーザでは、記録後直ちに再生することができない等の問
題点があった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は上記欠点を解消し、光ビームにより情報を記録
した後、大がかりな装置による特別な操作を必要とせず
に情報を再生することができ、しかも反射率の高い光情
報記録媒体を堤供することを目的としてなされたもので
ある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明による光情報記録媒体は、透明基体１光記録膜及
び反射膜を備え、上記光記録膜として三セレン化アンチ
モン（ｓ　ｂ、　ｓ　６３　）を用い、この膜厚を５５
ｎ−〜１０２１−としたことを特徴とするものである。

〔作用〕

５ｂｚＳｅｓｆＩ膜は、成膜後の無処理状態での複素屈
折率ｎ、が、波長７８０ｒｖにおいて３．８−０．１５
ｉであり、１７０℃〜２００℃の熱処理後の複素屈折率
ｎ、は、４．７−０．７ｉに変化する。

従って、透明基体上に５ｂｌＳｅ３記録膜及び反射膜を
積層した光情報記録媒体は、その基体側から入射する波
長７８０ｎ＠の光ビームに対する未記録部反射率及び記
録部反射率が、第２図に示す特性曲線１１のごとく変化
し、ｓｂよ５ｅ３１１の膜厚を適切に選択することによ
り、記録前が７０％以上、記録後が２８％以下という一
般の再生専用型光ディスクとして充分満足出来る性能を
有した光情報記録媒体を得ることができる。

〔実施例〕

第１図に、本発明による記録媒体の一実施例を示す。

図において透明基体１６として、外径１２０ｕ。

内径５ｆｌ、厚さ１．２鶴であって、表面片側にピッチ
１゜６μｍ、幅０．７μｍ、深さ０．０７μ餉のスパイ
ラル状トラッキング溝をもったポリカーボネート基板を
用い、この上に記録膜として、公知の技術であるスパッ
タリング法を用いて５ｂｌＳｅ３Ｊｆｌ１１７を９Ｏｎ
−の厚さに成膜し、続いてＡｕ反射膜１８を７７．５ｎ
−の膜厚に成膜した。

このようにして作製した光記録媒体の反射率は、波長λ
−７８０ｎｍの光ビームに対して７８％であった。この
ディスクに波長λ−８３ｏｎ−の半４体レーザビームを
照射し情報を記録した後、情報記録部の波長７８０ｎｍ
における反射率を測定したところ２７％であり、記録前
及び後の各反射率は再生専用型光ディスクの規格に合致
していた。

なお、反射率が記録前において７０％以上、記録後にお
いて２８％以下となるＳｂ２　Ｓｅ３記録膜の膜厚は、
第２図斜線命妬如く９０ｎ−〜１０２ｎ−の範囲であっ
た。

本実施例においては、反射膜をＡｕとしたが、これは波
長λ−７８ｏｎ−における反射率が最も高いことによる
。Ａｕの他Ａ　ｇ　＊　　Ｃｕ　、Ａ　Ｉを用いても反
射率が記録前で７０％以上、記録後で２８％以下の光情
報記録媒体を得ることができるが、反射膜のλ−７８０
ｎｍにおける反射率が低くなるにしたがって５ｂｌＳｅ
３の適切な膜厚範囲は小さくなる。

本発明の他の実施例として、５ＪＳｅｌ記録膜と反射膜
の間に透明誘電体膜を配置した例について述べる。

前記実施例と同様にして、ポリカーボネート基板上にＳ
ｂ零Ｓｅ３膜を膜厚８０ｎｓ＋に成膜し、さらにＺｎＳ
誘電体膜を膜厚５０ｎ−に成膜、さらにＡ１反射膜を７
０ローに成膜した。

こうして作製した光情報記録媒体の、波長λ−７８Ｏｎ
−における記録前及び後の反射率は、それぞれ７３％及
び２２％であり再生専用型光ディスクの反射率の規格に
合致していた。

本実施例において記録前の反射率が７０％以上であり、
かつ記録後の反射率が２８％以下となる５ｂｌＳｅ１記
録膜の膜厚範囲は７６ｎ−〜８２ｎ−であった。

また本実施例において、Ａ１反射膜をＡｕ反射膜におき
かえ、ＳｂｍＳｅ２膜の膜厚を種々変化させて反射率を
測定したところ、前述の様な一般の再生専用型光ディス
クの反射率規格を満足するであり、Ａ１反射膜を用いた
場合に比較して、５ｂａｓｅｓ記録膜の適切な膜厚範囲
を広くすることができる。

第３図は、前述のごとく、透明基体１６上のＳｂ、ｓｅ
、記１１１１１７とＡｕ反射１１９Ｉ（膜厚８０ｒｉｍ
以上）との間に、透明誘電体膜を積層した光情報記録媒
体に、透明基体側より波長λ−７８０ｎ■の光ビームを
入射させたとき、情報未記録分の反射率が７０％以上で
、情報記録部の反射率が２８％以下となる様にする為の
、５ＪＳｅ１３記録膜のおいては、再生専用型光ディス
クの反射率を満足する光情報記録媒体を得ることができ
る。

上記実施例においては、誘電体膜としてＺｎ５（Ｉ！！
折率ｎ＝２．３）を用いたが、本発明ではこれに限らず
、Ｓ　％　０．Ｓ　ｉ　Ｏｓ　、Ｔａｇ　Ｏｓ等の酸化
物、Ａ　Ｉ　Ｎ、　Ｓ　１　ｓ　Ｎａ等の窒化物、ｓｂ
寞Ｓ、、Ｇ・Ｓ等のカルコゲン化物、ＭｇＦｔ、ＣａＦ
＊等のフッ化物等の様に、再生光ビームの波長において
透明であれば使用することができる。

本実施例の如く、ｓｂ茸Ｓｅ、記録ＷＡ１７と反射Ｗ４
１８の間に誘電体膜を配置すると、５ｂｌＳｅ、記録膜
が記録光ビームを吸収し、発生した熱が熱良導性膜であ
る反射膜への拡散するのを防止し、小さい記録光ビーム
エネルギにて情報を記録することができる。また、この
誘電体膜の光学厚さを例えば７０〜１００ｎｓの範囲に
選択することにより、誘電体の無い場合に比べて５ｂｓ
Ｓｌ１１３記録膜の膜厚範囲を広くすることができる。

〔発明の効果〕

本発明においては光記録膜として３ｂｌＳｅｓを用いて
その膜厚１５５ｎ−〜１０２ａｓとしたので、未記録部
の反射率が７０％以上かつ記録部の反射率２８％以下と
することが出来、また、情報を光学記録した後は特別大
がかりな設備を必要とすることなく、直ちに情報を再生
することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による光ディスクの一実施例を示す断面
図と、第２図はそのＳｂ、Ｓｅ、記録膜膜厚と反射率の
関係を示す図、第３図は本発明による光ディスクの他の
実施例を示す誘電体膜の光学厚さと、５ｂｌＳｅｌ記録
膜膜厚の関係を示す図である。 １６−・・透明基板 １７−３ｂ、Ｓ・、膜 １８−Ａｕ反射膜 ｇ。 ／ＤＱ ｒＯ ｓｂ、ｓａ、頗厚 Ｃ？Ｌ鳴）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基体、光記録膜及び反射膜を備え、上記光記
   録膜として三セレン化アンチモン（Ｓｂ＿２Ｓｅ＿３）
   を用い、この膜厚を５５ｎｍ〜１０２ｎｍとしたことを
   特徴とする光情報記録媒体。
2. （２）上記光記録膜と反射膜の間に透明誘電体膜を配置
   し、該誘電体膜の光学厚さを２７０ｎｍ以下としたこと
   を特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。