JPH02179643A - 光重合性組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 47
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 65
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 44
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 claims abstract 2
- -1 alkali metal cation Chemical class 0.000 claims description 67
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 48
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical class C* 0.000 claims description 25
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 17
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical class N* 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract description 15
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 15
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 abstract description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 12
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 12
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 8
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 8
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 7
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 244000309464 bull Species 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 2
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Chemical group 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- HGTUJZTUQFXBIH-UHFFFAOYSA-N (2,3-dimethyl-3-phenylbutan-2-yl)benzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C(C)(C)C1=CC=CC=C1 HGTUJZTUQFXBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) propanoate Chemical compound CCC(=O)ON=C(C)C(C)=O JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMQMGOPVYNVRFP-BTJKTKAUSA-N (z)-but-2-enedioic acid;2-tert-butylperoxy-2-methylpropane Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.CC(C)(C)OOC(C)(C)C MMQMGOPVYNVRFP-BTJKTKAUSA-N 0.000 description 1
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)ethanol Chemical compound COCOC(C)O RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWDCKLXGUZOEGM-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-3-(3-methoxypropoxy)propane Chemical compound COCCCOCCCOC KWDCKLXGUZOEGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane Chemical group CC(C)C(C)C ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTNISGZEGZHIS-UHFFFAOYSA-N 2-$l^{1}-oxidanyloxy-2-methylpropane Chemical group CC(C)(C)O[O] YKTNISGZEGZHIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 2-[(e)-but-2-enoyl]oxyethyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCOC(=O)\C=C\C APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 2-[(z)-but-2-enoyl]oxyethyl (z)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRDXTHSSNCTAGY-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylpyrrolidine Chemical compound C1CCNC1C1CCCCC1 KRDXTHSSNCTAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKTOIPPVFPJEQO-UHFFFAOYSA-N 4-(3-carboxypropanoylperoxy)-4-oxobutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OOC(=O)CCC(O)=O MKTOIPPVFPJEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFKQIVDSNUCKRF-UHFFFAOYSA-N 4-(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-amine Chemical class NC1=NC=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 YFKQIVDSNUCKRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 4-[(e)-but-2-enoyl]oxybutyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCCCOC(=O)\C=C\C KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYYZDBDROVLTJU-UHFFFAOYSA-N 4-n-Butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(O)C=C1 CYYZDBDROVLTJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKINPMFPGULFQY-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-3-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C(C)(C)C JKINPMFPGULFQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000005894 Albizia lebbeck Species 0.000 description 1
- 240000002234 Allium sativum Species 0.000 description 1
- FBEHFRAORPEGFH-UHFFFAOYSA-N Allyxycarb Chemical compound CNC(=O)OC1=CC(C)=C(N(CC=C)CC=C)C(C)=C1 FBEHFRAORPEGFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 241000238557 Decapoda Species 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKRZKMFTZCFYGB-UHFFFAOYSA-N N-phenylhydroxylamine Chemical compound ONC1=CC=CC=C1 CKRZKMFTZCFYGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 241000238413 Octopus Species 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical group [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 244000299461 Theobroma cacao Species 0.000 description 1
- 235000009470 Theobroma cacao Nutrition 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N [2-[[(e)-but-2-enoyl]oxymethyl]-3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C\C LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methoxymethane Chemical compound COC.CC(O)=O TUVYSBJZBYRDHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229940053200 antiepileptics fatty acid derivative Drugs 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N chlorohydrin Chemical compound CC#CC#CC#CC#C\C=C\C(Cl)CO XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N decanoyl decaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCC XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical group [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- YMRYNEIBKUSWAJ-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl benzene-1,3-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 YMRYNEIBKUSWAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWADXBLMWHFGGU-UHFFFAOYSA-N dodecanoic anhydride Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC(=O)CCCCCCCCCCC NWADXBLMWHFGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- WTOSNONTQZJEBC-UHFFFAOYSA-N erythrosin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(C1C(C(=C(O)C(I)=C1)I)O1)=C2C1=C(I)C(=O)C(I)=C2 WTOSNONTQZJEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical class CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000004611 garlic Nutrition 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical class [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVBJSQCJPSRKSW-UHFFFAOYSA-N n-[1,3-dihydroxy-2-(hydroxymethyl)propan-2-yl]prop-2-enamide Chemical compound OCC(CO)(CO)NC(=O)C=C MVBJSQCJPSRKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L oxido carbonate Chemical compound [O-]OC([O-])=O MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 230000003362 replicative effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 102220038055 rs61743568 Human genes 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000004426 substituted alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- JZFHXRUVMKEOFG-UHFFFAOYSA-N tert-butyl dodecaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(C)(C)C JZFHXRUVMKEOFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N tetraazanium;phosphonato phosphate Chemical group [NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000004385 trihaloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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Abstract
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Description
加重合性不飽和結合を有する重合可能な化合物と新規な
組成の光重合開始剤と、必iK応じて線状有機高分子重
合体とを含有する光重合性組成物に関し、たとえば、ア
ルゴンレーザー光源に対しても感応しうる感光性印刷版
の感光層郷に有用な光重合性組成物に関するものである
。
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、3真的手法により画像の複製を行なう方法は、現在
知られるところである。すなわち、米国特許コ、タコ7
.0λλ号、同コ、り0コ、336号あるいは同j、1
70゜!コ弘号に記載されているように、この種の感光
性組成物は光照射により光重合を起こし、硬化し不溶化
することから、該感光性組成物を適当な皮膜となし、所
望の陰画像を通して光照射を行ない、適当な溶媒により
未露光部のみを除去する(以下、単に現儂と呼ぶ)こと
Kより所望の光重合性組成物の硬化画像を形成すること
ができる。このタイプの感光性組成物は印刷版等を作製
するために使用されるものとして極めて有用であること
は論をまたない。
化合物のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるた
めに光重合開始剤を添加することが提唱されており、か
かる光重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインエチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノ
ン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、コーエ
チルアントラキノン等が用いられてきた。しかしながら
、これらの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物
の硬化の感応度が低いので画像形成における像露光に長
時間を要した。このため細密な画像の場合には、操作に
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されず、
さらに露光の光源のエネルギー放射量を増大しなければ
ならないためにそれに年なう多大な発熱の放散を考慮す
る必要があった。加えて熱による組成物の皮膜の変形お
よび変質も生じ易い等の問題があった。
領域の光源に対する光重合能力に比較し、1700 n
m以上の可視光線領域の光源に対する光重合能力が顕著
に低い。従って、従来の光重合開始剤を含む光重合性組
成物は、応用範囲が著しく限定されていた。
案がなされて来た。かがる提案として、米国特許第2r
jO弘44j号によればある釉の光還元性染料、例えば
、ローズベンガル、エオシン、エリスロシン等が効果的
な可視光感応性を有していると報告されている。また改
良技術として、染料とアミンの複合開始系(特公昭≠!
−20/12号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラ
ジカル発生剤および染料の系(特公昭4t7−3737
7号)、ヘキサアリールビイミダゾールとP−ジアルキ
ルアミノペンジリデ7ヶトンの系(特公昭≠7−2jl
1号、特開昭jlA−/!!コタコ号)、3−ケト置換
クマリン化合物と活性ハロゲン化合物の系(特開昭j1
−/6103号)、置換トリアジンとメロシアニン色素
の系(特開昭!≠−7zioλ号)などの提案がなされ
て来た。これらの技術は確かに可視光線に対して有効で
はある。
く、さらに改良技術が望まれていた。
いて画像を形成する方法が検討され、印刷版作成におけ
るUVプロジェクション露光法、レーザー直接製版、レ
ーザーファクシミリ、ホログラフィ−等が既に実用の段
階であり、これらに対応する高感度な感光材料が開発さ
れているところである。しかし未だ十分な感度を有して
いるとは言えない。
とである。
和結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物
の光重合速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合
性組成物を提供することである。
、特にAr レーザーの出力に対応するμI r n
m付近の光に対しても感度の高い光重合開始剤を含んだ
光重合性組成物を提供することにある。
果、ある特定の光重合開始剤系が付加重合性不飽和結合
を有する重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大さ
せ、また弘00 nm以上の可視光線に対しても高感度
を示すことを見出し、本発明に到達したものである。
アルキル又はアリール置換された窒素原子またはジアル
キル置換された炭素原子を表わす。
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、また
は置換アルコキシカルボニル基を表わす。
しくは置換基として、R30− (−CH2CH20つ一几3、ハロゲン原子(F、α。
を表し、Bは、ジアルキルアミノ基、水酸基、アシルオ
キシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表わす。
族オニウム塩、 (ハ)有機過酸化物、および (ニ)下記一般式(II)で示されるチオ化合物:(こ
こで、R’Jdアルキル基、アリール基または置換アリ
ール基を示し、几5は水素原子またはアルキル基を示す
。また、R4と11.5は、互いに結合して酸素、硫黄
および窒素原子から選ばれたへテロ原子を含んでもよい
j負ないし7員環を形成するに必要な非金属原子群を示
す。) (ホ)ヘキサアリールビイミダゾール (へ)ケトオキシムエステル からなる群から選ばれた少なくとも7つの化合物を含有
することを特徴とする光重合性組成物である。
V )および/まfcは成分(V)を含有させることに
よし、より一段と高感度な光重合性組成物を得ることが
できる。
も異人っていてもよく、各々置換又は非置換のアルキル
基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換のア
ルケニル基、置換又は非置換のアルキニル基、もしくは
置換又は非置換の複素環基を示し、R6、l17、R8
および89はその2個以上の基が結合して環状構造を形
成してもよい。ただし、R6、R7、R8およびR9の
うち、少なくとも1つはアルキル基である。Zのはアル
カリ金属カチオンまたは第弘級アンモニウムカチオ/を
示す。) で表わされる化合物。
基を表し、R1、R2は水素原子又はアルキル基を表し
、又、R1とR2け互いに結合してアルキレン基を表し
ても良い。
ていてもよく、各々水素原子、)・ロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール基、水
酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、 3B18基
、−80−R18基又は−802R18基を表すが、但
しR12〜R16基の少なくとも一つは−8−几18基
、−80−R18基又は−802R基を表し、R18は
アルキル基、アルケニル基、R17は水素原子、アルキ
ル基又はアシル基を表す。
説明する。
を有する重合可能な化合物は、末端エチレン性不飽和結
合を少なくとも7個、好ましくはλ個以上有する化合物
から選ばれる。
体およびオリゴマー、又はそれらの混合物ならひにそれ
らの共重合体などの化学的形態をもつものである。モノ
マーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン
酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、イソクロトン醗、マレイン酸など)と脂肪
族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等があげられる
。
ステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステ
ルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、7.3−ブタンジオ
ールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロノξンドリアクリレート、トリメチロールプロパント
リ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチ
ロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジア
クリレート、/、≠−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、kンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ンルビト
ールトリアクリレート、ンルビトールテトラアクリレー
ト、ソルビトールベンタアクリレート、ソルビトールへ
キサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)
イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマ
ー等がある。
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート
、トリメチロールプロノ髪ントリメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコ
ールジメタクリレート、1.3−ブタンジオールジメタ
クリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ハン
タエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、はンタエリスリトールテト之
メタクリレート、ジにンタエリスリトールジメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート、
ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラ
メタクリレート、ビスCp−(j−メタクリルオキシー
コーヒドロキシプロボキシ)フェニルウジメチルメタン
、ビス−(p−(アクリルオキシエトキシ)フェニルウ
ジメチルメタン等がある。
タフネート、プロピレングリコールシイタコネート、7
.3−ブタンジオールジイタコネ−)、/、44−ブタ
ンジオールシイタコネート、テトラメチレングリコール
シイタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート
、ソルビトールテトライタコネート等がある。
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラマレートネート等がある。
ジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジインクロ
トネート、ンルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
ができる。
アミドの七ツマ−の具体例としては、メチレンビス−ア
クリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、/、
t−へキサメチレンビス−アクリルアミド、/、A−へ
キサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリ
アミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリル
アミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
公報中に記載されている1分子に1個以上のイソシアネ
ート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一
般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマー
を付加せしめた7分子中に2個以上の重合性ビニル基を
含有するビニルウレタン化合物等があげられる。
々ウレタンアクリレート類、特開昭4LIr−6弘/1
F3号、特公昭弘ターψJ15’/号、特公昭12−3
0112O号各公報に記載されているようなポリエステ
ルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸
を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアク
リレートヤメタクリレートをあげることができる。さら
に日本接着協会誌vo1.20. A7.300〜30
7ページに光硬化性七ツマ−及びオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。なお、これら
の使用量は、全成分に対して!〜J−0重tS(以下チ
と略称する。)、好ましくL/θ〜≠θチである。
で示される化合物である。
)又は A:酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、
アルキル又はアリール置換された窒素原子またはジアル
キル置換された炭素原子を表わす。
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、また
は置換アルコキシカルボニル基を表わす。
しくは置換基として、R30− (−CH2CH20禿、R3、ハロゲン原子(F、α。
基を表わし、 Bfl、ジアルキルアミノ基、水酸基、
アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表わす。
状、分岐状および環状のアルキル基をあげることができ
、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタ
デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、インペンチ
ル基、イソヘキシル基、5ec−ブチル基、ネオペンチ
ル基、tert−ブチル基、tert−ペンチル基、シ
クロはメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシル基
、コーノルボルニル基をあけることができる。これらの
うちでは、炭素原子数lから10までの直線状、分岐状
のアルキル基ならびに炭素原子数6から70までの環状
のアルキル基が好ましい。最も好ましいのは炭素原子数
lからダまでの直線状および分岐状のアルキル基である
。
塩素、臭素、沃素)およびヒドロキシル基をあけること
ができ、一方アルキル基としては前述の炭素原子数lか
ら/ltでのアルキル基を、好ましくは同じく/からI
Oまでの直線状、分岐状のアルキル基彦らびに炭素原子
数tからioまでの環状のアルキル基を、最も好ましく
は炭素原子数/から+1での直線状および分岐状のアル
キル基をあげることができる。その具体例としては、ク
ロロメチル基、フロモメチル基、コークロロエチル基、
λ、2.2−)リクロロエチル基、コークロロはメチル
g、/−(クロロメチル)フロビル基、10−iロモデ
シル基、lt−メチルオクタデシル基、クロロシクロヘ
キシル基、ヒドロキシメチル基、コーヒドロキシエチル
基、−一ヒドロキシブチル基、!−ヒドロキシペンチル
基、IO−ヒドロキシデシル基、コーヒドロキシオクタ
デシル基、λ−(ヒドロキシメチル)エチル基、ヒドロ
キシシクロヘキシル基、3−ヒドロキシーーーノルボル
ニル基をあげることができる。
ル基)、2個および3個の縮合ベンゼン環の残基(ナフ
チル基、アントリル基、フエナントリル基)、−個のベ
ンゼン璋集合系の残基(ビフェニル基)ならびにベンゼ
ン環とj員不飽和環との縮合系の残基(インデニル基、
アセナフチニル基、フルオレニル基)をあげることがで
きる。
素原子にハロゲン原子(弗素原子、塩素原子、臭素原子
、沃素原子)、アミン基、置換アミノ基(モノアルキル
置換アミン基(アルキル基の例、メチル基、エチル基、
プロピル基、ハンチル基、インプロピル基、5ec−ブ
チル基、イソはメチル基)、ジアルキルアミノ基(アル
キル基の例はモノアルキル置換アミンの例と同じ)、モ
ノアシルアミノ基(アシル基の例、アセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル(butyryl)基、 インブチ
リル基、バレリル(valeryl)基)、シアノ基、
アルキル基(炭素原子数がlから/r4での直線状、分
岐状および環状のアルキル基、好ましくは炭素原子数l
から70までの直線状、分岐状および環状のアルキル基
、最も好ましくは炭素原子数/からダまでの直線状およ
び分岐状のアルキル基、これらの具体例はすでに上に述
べた。)、ハロゲノアルキル基(例、クロロメチル基、
コークロロメチル基、!−クロロペンチル基、トリフル
オロメチル基)、アルコキシ基(アルキル基の例、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、イソプロピル
基、インペンチル基、コーメチルブチル基、5ec−7
’チル基)、アリールオキシ基(アリール基の例、フェ
ニル基、/−ナフチル基、コーナフチル基)、アルコキ
シカルボニル基(アルキル基の例、メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基)、アシルオ
キシ基(アシル基の例はモノアシルアミノ基の例と同じ
)、アルコキシスルホニル基(アルキル基の例はアルコ
キシル基のアルキル基の例と同じ)等の置換基が1個又
は2個以上の同じ置換基あるいは互いに異なる置換基が
置換した残基をあげることができる。これらのアリール
基および置換アリール基の具体例としては、フェニル基
、クロロフェニル基、アミノフェニル基、(メチルアミ
ノ)フェニル基、(エチルアミノ)フェニル基、(ジメ
チルアミノ)フェニル基、アセチルアミノフェニル基、
トリル基、エチルフェニル基、(クロロメチル)フェニ
ル基、アセチルフェニル基、フェノキシフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェ
ニル基、アセトキシフェニル基、メトキシスルホニルフ
ェニル基、ナフチル基、コーアミノー/−ナフチル基、
/−ジメチルアミノーーーナフチル基、クロロナフチル
基、メチルナフチル基、アントリル基、フェナントリル
基、インデニル基、ビフェニリル基、クロロビフェニリ
ル基、アミノビフェニリル基、メチルビフェニリル基、
アセナフチニル基をあげることができる。これらのうち
ではフェニル基および上述の置換基が7個又は2個以上
の同じかあるいは互いに異なる上述の置換基が2個以上
置換したフェニル基が好ましい。
しくは同じく/から6までの直線状、分岐状又は環状の
アルキル基にフェニル基又はす7チル基が置換した残基
をあげることができ、その具体例としては、ベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、J−フェニ
ルヘキシル基、10−フェニルデシル基、II−フェニ
ルシクロヘキシル基、/−ナフチルメチル基、コー(/
−ナフチル)エチル基、−一す7チルメチル基をあげる
ことができる。
Otでの直線状、分岐状および環状のアルキル基がオキ
シカルボニル基に結合した残基をあげることができ、そ
の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、フロポキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、5ee−ブトキシカルボニル基、tcrt−ブ
トキシカルボニル基をあけることができる。
37コ頁(/ Vat )(抄碌: 「chemica
lAbstractsJ誌第<zp巻第AOe 〜Ad
d欄(lりjO年))に記載の方法に従って合成するこ
とができる。
−例である炭素−ハロゲン結合を有する化合物としては
、下記−紋穴(V)〜(xi)で示される化合物が好ま
しい。
Nl2、−NHR’、−NR’2、−01(’を表わす
。ここでR′はアルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基を表わす。またRVi−cx3 、
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基、置換アルケニル基を表わす。
、アルケニル基、置換アルケニル基、アリル基、置換ア
リル基、アリール基、置換アリール基、ハロゲン原子、
アルコキシ基、置換アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ
基であり、 Xはハロゲン原子であり、 nは7〜3の整数である。)で光わされる化合物。
アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリル
基、置換アリル基、アリール基又は置換アリール基であ
り、B24け一般式(V)中のR′と同じであり、m
ij /又は2である。)で表わされる化合物。
環式基であり、 R”h炭素原子/〜3個を有するトリハロアルキル基又
はトリハロアルケニル基であり、pは/、コ又Vijで
ある。
置換基であり、 Mは置換又は非置換のアルキレン基であり、Qはイオウ
、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケ
ン−/、2−イレンL/。
緒になって3又はμ異境を形成し、R28Uアルキル基
、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であり、 B27は炭素環式又は複素環式の芳香族基であね、Xは
塩素、臭素又はヨウ素原子であり、q=o及びr =
/であるか又はq = /及びr=7又はλである。) で表わされる、トリハロゲノメチル基を有するカルボニ
ルメチレン複素環式化合物。
Sはl−μの整数であり、R29は水素原子又はCH3
−tXt基であり、Rは8価の置換されていてもよい不
飽和有機基である)。
フェニル)−オキサゾール誘導体。
は/〜≠の整数であり、几31は水素原子又はC)−1
3y X v基であり、132はU価の置換されていて
もよい不飽和有機基である。)で表わされる、λ−()
・ロゲノメチルーフェニル)−弘一ハロゲノーオキサゾ
ール誘導体。
”’ch、たとえば、若林ら著、Bull、Chem。
り)記載の化合物、たとえば、−一フェニル弘、t−ビ
ス(トリクロルメチル)−8−トリアジン、λ−(p−
クロルフェニル)−≠、t−ビス(トリクロルメチル)
−8−トリアジン、λ−(p−1リル)−≠、6−ビス
(トリクロルメチル)−S−トリアジン、λ−(p−メ
トキシフェニル) −弘。
(2′、μ′−ジクロルフェニル)−弘、4−ビス(ト
リクロルメチル)−8−)リアジン、コ。
、コーメチルー≠、6−ビス(トリクロルメチル)−8
−)リアジン、J−n−ノニル−μ。
(α、α、β−トリクロルエチル)−μ、t−ビス(ト
リクロルメチル)−8−)リアジン等が挙げられる。そ
の他、英国特許/31♂≠L?λ号明細書記載の化合物
、たとえば、−一スチリルー亭、6−ビス(トリクロル
メチル)−8−)リアジン、2−(p−メチルスチリル
)−弘、6−ビス(トリクロルメチル)−8−)リアジ
ン、コ−(p−メトキシスチリル)−1,G−ビス(ト
ノクロルメチル)−8−トリアジン、コー(p−メトキ
シスチリル)−μmアミノ−4−トリクロルメチル−s
−トリアジン等、特開昭!3−/JjtlZI号記載の
化合物、たとえば、2−(グーメトキシ−ナフト−7−
イル)−44、A−ヒス−トリクロルメチル−8−トリ
アジン、x−(e−エトキシ−ナフト−l−イル)−<
2.+−ビス−トリクロルメチル−8−)リアジン、X
−(≠−(コーエトキシエチル)−ナフト−/−イルツ
ー弘、6−ピスートリクロルメチルーS−トリアジン、
−一(弘、7−シメトキシーナフトー/−イル〕−μ、
6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、X−(
アセナフト−!−イル)−a。
特許33370211号明細書記載の化合物、九とえば 等やその他 衿を挙げることができる。
Chem、; 2り、/jココア/?44()記載の化
合物、たとえば2−メチル−弘、t−ビス(トリブロム
メチル)−8−トリアジン、2.弘、4−トリス(トリ
ブロムメチル)−S−トリアジン、λ、μ、6−トリス
(ジブロムメチル)−8−トリアジン、λ−アミノーク
ーメチルー6−ドリブロムメチルーs−トリアジン、コ
ーメトキシー弘−メチル−6−ドリクロルメチルー8−
トリアジン咎を挙げることができる。
は しく23 に記載されている合成方法に準じて当業者が容易に合成
することができる次のような化合物群等を挙げることが
できる。
ournal of Heterocyclic c
hemistry第7巻(煮3)、第31/頁以降(/
り70年)あるいは、 次のような化合物群 しti3 あるいは、ドイツ特許第26μ/100号に記載されて
いるような化合物、例えば、≠−(弘−メトキシ−スチ
リル)−A−(j・3・3−トリクロルプロはニル)−
1−ピロン及ヒμm(3・μ・!−トリメトキシースチ
リル)−J−1リクロルメチル−λ−ピロン、あるいは
ドイツ特許筒3333≠よ0号に記載されている化合物
、例えば、 Q=S: R=ベンゼン環 あるいはドイツ特許第3021390号に記載の化合物
群、 あるいはドイツ特許第3Qコ/jタタ号に記載の化合物
群例えば、 r を挙げることができる。
は、周期律表の第■、■及び■族の元素、具体的にはN
、P、As、Sb、Bi、0、S。
27’7号、特公昭7.2−/u27r号、特公昭jJ
−/μ、27り号に示されている化合物を挙げることが
できる。
BF4塩、又はPF、塩の化合物さらに好ましくは芳香
族ヨードニウム塩のBF4塩、又はPF6塩である。
過酸化物」としては分子中に酸素−酸素結合を1個以上
有する有機化合物のほとんど全てが倉まれるが、その例
としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロ
ヘキサノンパーオキサイド、3.J、j−)リメチルシ
クロヘキサノン/ξ−オキサイド、メチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイド、アセチジアセトンパーオキサイド
、/。
ーシャリイブチルパーオキシ)シクロヘキサン、λ、2
−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)ブタン、ター
シャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド、ジイソプロビルインゼンハイドロl
e−オキサイド、バラメタンハイドロパーオキサイド、
J、j−ジメチルヘキサン−2,J−シバイドロバ−オ
キサイド、/、/、J、!−テトラメチルブチルハイド
ロノt−オキサイド、ジターシャリイブチルパオキサイ
ド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミ
ルノーオキサイド、ビス(ターシャリイブチルバーオシ
イソプロビル)ベンゼン、λ、j−ジメチルーλ、j−
ジ(ターシャリイブチルパーオキシ)ヘキサン、u、j
−ジメチル−J、t−ジ(ターシャリイブチルパーオキ
シ)ヘキシン−3、アセチルパーオキサイド、インブチ
リルパーオキサイド、オクタノイルノミ−オキサイド、
デカノイルパーオキサイド、ラウロイルノミ−オキサイ
ド、J、j、j−トリメチルヘキサノイルパーオキサイ
ド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、コ、≠−ジク
ロロベンゾイルノe−オキサイド、メタートルオイルノ
?−オキサイド、ジイソプロピル/R−オキシジカーボ
ネート、ジー2−エチルへキシルノで一オキシジカーボ
ネート、ジーコーエトキシエチルパーオキシジカーボネ
ート、ジメトキシイソゾロビルパーオキシカーボネート
、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)ノ耐−オキシ
ジカーボネート、ターシャリイブチルノミ−オキシアセ
テート、ターシャリイブチル/ミーオキシピバレート、
ターシャリイプチルノt−オキシネオデカノエート、タ
ーシャリイヅチル/ξ−オキシオクタノエート、ターシ
ャリイブチルパーオキシ−3゜1、!−トリメチルヘキ
サノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレート
、ターシャリイブチル/に一オキシベンゾエート、ジタ
ーシャリイブチルジパーオキシイソフタレート、λ、!
−ジメチルー2.j−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキ
サン、ターシャリイブチル過酸化マレイン酸、ターシャ
リイブチルノξ−オキシインプロピルカーボネート、J
、J’、≠、弘′−テトラー(t−ブチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3゜3′、グ、4t′−テ
トラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン、!、3’、lt、lI’−テトラ(t−ヘキシル
バーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、J、!’、≠
、弘′−テトラ(t−オクチルノミ−オキシカルボニル
)ベンゾフェノン、’ l ” I ” lグ′−テト
ラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、J
、!’、tl。
ボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(1−プチルパ
ーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(1−へ
キシルノξ−オキシ二水素二フタレート)等がある。
チルノぐ一オキシカルボニル)ペンツフェノン、J、!
’、4t、≠′−テトラー(t−アミルパーオキシカル
ボニル)ベンゾフェノン、J、J’弘、μ′−テトラ(
t−へキシルバーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
!、3’、II、弘′−テトラ(t−オクチル/髪−オ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3.J’、II、’
I−’−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンソ
フエ/7,3.3’弘、参′−テトラ(p−イソプロピ
ルクミル、e−オキシカルボニル)ベンゾフェノン、シ
ーt −7’チルジパーオキシイソフメレートなどの過
酸化エステル系が好ましい。
、下記−紋穴(II)で示される。
リール基を示し、R5は水素原子またはアルキル基を示
す。また、R4とR5は、互いに結合して酸素、硫黄お
よび窒素原子から選ばれたベテロ原子を含んでもよいj
負ないじ7員環を形成するに必要な非金属原子群を示す
。)上記−紋穴i)におけるR のアルキル基としては
炭素原子数ノル≠個のものが好ましい。またR4のアリ
ール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数
3〜10個のものが好ましく、置換アリール基としては
、上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン
原子、メチル基のようなアルキル基、メトキシ基、エト
キシ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれ
る。
、下表に示すような化合物が挙げられる。
t’−テトラフェニルビイミダゾール、λ。
j’−テトラフェニルビイミダゾール、2゜2′−ビ
ス(o * p−ジクロロフェニル)−l。
2、λ′−ビス(0−クロロフェニル)−μ、4L′j
、 j’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(o、o’ −ジクロロフェニ
ル)−μ、i、j 、j’−fトラ7エ二ルビイミダゾ
ール、λ、2′−ビス(O−ニトロフェニル)−+、≠
’、z、t’−テトラフェニルビイミダゾール、コ、λ
′−ビス(0−メチルフェニル)−≠、<1’、!、j
r’−テトラフェニルビイミダゾール、2.2’−ビス
(0−トリフルオロフェニル)−U、≠I 、 3 、
61−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ミノブタンーコーオン、3−アセトキシイミノブタン−
2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−
オン、コーアセトキシイミノはンタンー3−オン、コー
アセトキシイミノー/−フェニルプロノン−7−オン、
λ−ペンツイロキシイミノ−7−フェニルプロパン−/
−オン、3−p−)ルエンスルホニルオキシイミノブタ
ン−2−オン、λ−エトキシカルボニルオキシイミノ−
/−フェニルプロパン−7−オン等カ挙&i’うれる。
(nl)で示される化合物である。
も異なっていてもよく、各々置換又は非置換のアルキル
基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換のア
ルケニル基、置換又は非置換のアルキニル基、もしくは
置換又は非置換の複素環基を示[2、R6、R7、几8
およびR9はその2個以上の基が結合して環状構造を形
成してもよい。ただし、R6、R7、R8およびR9の
うち、少なくとも7つはアルキル基である。Zeはアル
カリ金属カチオンまたは第弘級アンモニウムカチオンを
示す) 上記R6〜R9のアルキル基としては、直鎖、分枝、環
状のものが含まれ、炭素原子数/〜/lのものが好まし
い。具体的にはメチル、エチル、プロピル、インプロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリ
ル、シクロブチル、シクロはメチル、シクロヘキシルな
どが含まれる。
に、ハロゲン原子(例えば−CJl−Brなど)、シア
ノ基、ニトロ基、アリール基(好ましくここで334、
R35は独立して水素原子、炭素数/−/≠のアルキル
基、又はアリール基を示す。)、−COOR” (ここ
で336は水素原子、炭素数/〜/≠のアルキル基、又
はアリール基を示す。)、−ocort37又は−03
37(ここで337は炭素数l〜/μのアルキル基、又
はアリール基を示す。)を置換基として有するものが含
まれる。
フチル基などの/〜3環のアリールが含まれ、置換アリ
ール基としては、上記のようなアリール基に前述の置換
アルキル基の置換基又は、炭素数/〜/弘のアルキル基
を有するものが含まれる。
Iの直鎖、分枝、環状のものが含まれ、!換アルケニル
基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基と
して挙げたものが含まれる。
直鎖又は分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の置換
基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙げた
ものが含まれる。
くはj〜7員環の複素環基を示し、この複素環基には縮
合環を有していもよい。更に置換基として前述の置換ア
リール基の置換基として挙げたものを有していてもよい
。
国特許J、Jt7.弘!3号、同弘、31tJ、Iり1
号、ヨーロッパ特許10?、77λ号、βJ10り、7
73号に記載されている化合物および以下に示すもの、
が挙げられる。
ら選ばれた芳香族基を表し、R,Rは水素原子又はアル
キル基を表し、又、RとRは互いに結合してアルキレン
基を表しても良い。
される化合物〔成分(■)〕を含有させることにより、
更に感度を高めることができる。
なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール基、
水酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、 5R18
基、・−80−B18基又は−8O18R基を表すが、
但し312〜B 16基の少なくとも一つは一8R18
基、−8o−R18基又−8O2R基を表し、Rはアル
キル基、アルケニル基、R17H水素原子、アルキル基
又はアシル基を表す。
基としては、メチル、エチル、プロピルなどの炭素数7
〜20個のものが挙げられる。また、Rと几 が結合し
て形成するアルキレン基としてしは、テトラメチレン、
ぼンタメチレン等があげられる。Ar1Cおける112
〜R16のアルキル基としては炭素数l〜≠個のものが
あげられる。また、アルケニル基としては炭素数3〜1
2のものがあげられる。さらにR12〜H16のアリー
ル基としてはフェニル基があげられる。さらにアルコキ
シ基としては炭素数l−μのものがあけられる。
3 c6H17 4H9 々どがあげられる。
C−2である。
は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合に
は有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発明
における光重合開始剤系のzh、光重合可能なエチレン
性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状有機高分
子重合体との合計に対して0 、0/%からtoe4の
範囲で使用するのが好ましい。より好ましくは、7%か
ら30%で良好な結果を得る。
分(ii)と成分(iii )の比は、成分(+ii
)の有機染料1重量部に対して、成分(ii)を0゜0
3〜30p量部が適当であり、より好ましくは0、/−
10重量部、最も好ましくはO,2〜5重量部である。
)の有機染料1重量部に対して、成分(iv )をQ
。
〜くけ0.0λ〜−〇重量部、最も好ましくは0.OJ
〜10重景部で重量。更Kまた成分(V)の化合物を併
用する場合には、成分(i++ )の有機染料/ff1
t部に対して成分(V)を0.0/−,30重量部使用
するのが適当であり、より好ましくは0.02〜コO重
量部、最も好ましくけ0.0j 〜10@#c部である
。
ての線状有機高分子重合体を含有させることが好ましい
。このような「線状有機高分子重合体」としては、光重
合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有している
線状有機高分子重合体である限9、どれを使用しても構
わない。好ましくは水現像或は弱アルカリ水現像を可能
とする水あるいは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である
線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重
合体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、
弱アルカリ水或は有機溶剤現像剤としての用途に応じて
選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子重合体を
用いると水現像が可能になる。この様な線状有機高分子
重合体としては、側鎖にカルボン酸を有する付加重合体
、例えば特開昭39−1!A/j号、特公昭144−j
41cjJ7号、特公昭61−/λ377号、特公昭j
4’ −23957号、特開昭j≠−タ27コ3号、特
開昭!デーJJIJt号、特開昭!ターフ104cr号
に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合
体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロト
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体等がある。
導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれ
らの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)ア
クリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(
メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビ
ニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性
線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエ
チレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度
をあげるためにアルコール可溶性ナイロンやλ、−−ビ
ス=(≠−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエビクロ
ロヒドリン0JIJエーテル等も有用である。これらの
線状有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させ
ることができる。しかしPo重f%を越える場合には形
成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好
ましくはJ O−4j係である。また光重合可能なエチ
レン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、it比
で//り〜7/3の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は3/7〜j/!である。
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノ
ール、ジ−t−フチルーp−クレゾール、ヒロガロール
、t −ブチルカテコール、はンゾキノン、仏、参′−
チオビス(3−メチル−4−t−ブチルフェノ・−ル)
、コ、2′−メチレンビス(≠−メチルーa−を一ブチ
ルフェノール)、N−ニトロンフェニルヒドロキシアミ
ン第一セリウム塩等があげられる。熱重合防止剤の添加
fは、全組成物の重量に対して約o、oi%〜約j%が
好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防
止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのよつな高級脂
肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層
の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加f
は、全組成物の約0.j%〜約10(4が好ましい。さ
らに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を添
加してもよい。染料および顔料の添加fjtは全組成物
の約0.1e4〜約4〜約jましい。
、その他の公知の添加剤を加えてもよい。
々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ケトン、シクロヘキサン、64エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレンクリ
コールモノエチルエーテル、エチレンクリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、フロピレン
ゲリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサラン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、3−メトキシプロ/cノール、
メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、フロピレンゲリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロ
ピルアセテ−)、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、r−ブチロラクトン、乳酸メチル、
乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは
混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の
固形分の濃度は、コ〜ZOX*チが適当である。
g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0゜j−
1g/m2である。
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなど)がラミネートされた紙、また、例えばアルミニ
ウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、鉤などのよ
うな金属の板、さらに1例えば二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、フロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
などのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属
がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチッ
クフィルムなどがあげられる。これらの支持体のうち、
アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安
価であるので特に好ましい。更に、特公昭1it−/♂
3コア号に記載されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートも好ましい。
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。特
公昭<47−j/27号に記載されているようにアルミ
ニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸
塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。上
記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼
酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機
酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二
種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極
としてt流を流すことにより実施される。
いるようなシリケーHit着も有効である。
02号、特開昭!2−30!03号に開示されているよ
うな電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理
および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である
。
るような機械的相面化、化学的エツチング、電解グレイ
ン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったも
のも好適である。
えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属
塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等
を下塗りしたものも好適である。
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性の向上
環のために施されるものである。
気中の酸素による重合禁止作用を防止す゛るため、例え
ばポリビニルアルコール%にケン化度タタチ以上のポリ
ビニルアルコール、酸性セルロース類などのような酸素
遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい
。この様な保護層の塗布方法については、例えば米附特
許第3゜4#r、3//号、特公昭j!−≠り72り号
に評しく記載されている。
できる。さらに、印刷版、プリント基板郷作成の際のフ
ォトレジスト等多方面に適用することが可能である。特
に本発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可視
光領域までの幅広い分光感度特性により、Ar レー
ザー等の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好
な効果が得られる。
したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を
得る。これらの光重合性組成物を平版印刷版の作成に使
用する際の好ましい現像液としては、特公昭!7−7弘
27号に記載されているような現像液があげられ、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第
ニリン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸
ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤
やモノエタノールアミン又はジェタノールアミンなどの
ような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。該アルカ
リ溶液の濃度が0.1〜10重量%、好ましくは0 、
1−.1重量%罠なるように添加される。
やにンジルアルコール、コーフェノキシエタノール、2
−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量含むこと
ができる。例えば、米国特許筒、3,373./7/号
および同第3.tit。
。
/号、特公昭!t−32弘64L号、同j6−弘Jrt
o号の各公報圧記載されている現像液も優れている。
域の活性光線に対して高感度を有する。
灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、
メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーランプ
、蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用できる
。
らの実施例に限定されるものではない。
μOOメツシュのパミストンの水懸濁液とを用いその表
面を砂目室てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化
ナトリウムに7o’cで60秒間浸漬してエツチングし
た後、流水で水洗後コOチ硝酸で中和洗浄し、次いで水
洗した。これを■え=/ 2.7Vの条件下で正弦波の
交番波形電流を用いて/チ硝酸水溶液中でitoクーロ
ン/dm2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った。
であった。引き続いて30%の硫酸水溶液中に浸漬しz
t 0cで2分間デスマットした後、コOチ硫酸水溶液
中、電流密度コA/dm2において陽極酸化皮膜の厚さ
が2.7g/m2になるように2分間陽極酸化処理した
。
感光性組成物を乾燥塗布重量が/、弘g/m2となるよ
うに塗布し、ro 0c2分間乾燥させ感光層を形成さ
せた。
アクリレート/メタク リル酸共重合体 (共重合モル比10/、20) 2.0g光重合
開始剤 Xgフッ素系ノニオン
界面活性剤 Q、03gメチルエチルケトン
+20gプロピレングリコールモノメチ ルエーテルアセテート −0gこの感光層
上にポリビニルアルコール(ケン化度、r t 、 !
〜J”?acル%、重合度1ooo’)o31kft
%の水溶液を乾燥塗布重量が2g7m2となるように塗
布し、10o’c/2分間乾燥させた。
=arrnm)の各単色光を用いた。可視光はタングス
テンランプを光源としケンコー光学フイAター(Ken
ko optical filter)BP−4Aり
を通して得た。感光測定には富士PSステップガイド(
富士写真フィルム株式会社製、初段の透過光学濃度が0
.02で順次O9/!増えていき73段まであるステッ
プタブレット)を使用した行った。感材膜面部での照度
がxtLUXで秒露光した時のPSステップガイドのク
リアー段数で示した。
定した。
−3)の波長≠r r nmのシングルラインをビーム
径2jμで使用しAr レーザーの強度を変え、スキ
ャンした(NDフィルター使用)。
れた時のAr レーザーの強度を感度とした。
った。
i ) −7 光重合開始剤として、 下記の化合物を用い、 そ の組合せを変えた時の感度の結果を表/〜3にホ(1r
r )−/ す。
)−s e の Ph5BOH2Ph、N(nc4H9)。
において成分(ii)、(m )を含むものは高感度で
ある。更に、成分(1■)および/または成分(V)を
含む場合は、より一層高感度になることが判る。
Claims (3)
- (1)(i)付加重合性不飽和結合を有する重合可能な
化合物 (ii)下記一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I a〕 又は ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I b〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I c〕 A:酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、
アルキル又はアリール置換された 窒素原子またはジアルキル置換された炭素 原子を表わす。 Y^1:水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、置換アリール基、アラルキル 基、アシル基、または置換アルコキシカル ボニル基を表わす。 R^1、R^2:水素原子、炭素数1〜18のアルキル
基もしくは置換基として、R^3O−、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、−COOR^3、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、ハロゲン原子(F
、 Cl、Br、I)を有する炭素数1〜18の置換アルキ
ル基。但し、R^3は水素原子又は炭素数1〜10のア
ルキル基を表わし、 Bは、ジアルキルアミノ基、水酸基、アシ ルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表 わす。 nは0〜4の整数、mは1〜20の整数を 表わす。 (iii) (イ)炭素−ハロゲン結合を有する化合物、(ロ)芳香
族オニウム塩、 (ハ)有機過酸化物、および (ニ)下記一般式(II)で示されるチオ化合物:▲数式
、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表
等があります▼(II) (ここで、R^4はアルキル基、アリール基または置換
アリール基を示し、R^5は水素原子またはアルキル基
を示す。また、R^4とR^5は、互いに結合して酸素
、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んで
もよい5員ないし7員環を形成するに必要な非金属原子
群を示す。) (ホ)ヘキサアリールビイミダゾール (へ)ケトオキシムエステル からなる群から選ばれた少なくとも1つの化合物を含有
することを特徴とする光重合性組成物。 - (2)請求項1において更に、 (iv)下記一般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (ここで、R^6、R^7、R^8およびR^9は互い
に同一でも異なつていてもよく、各々置換又は非置換の
アルキル基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非
置換のアルケニル基、置換又は非置換のアルキニル基、
もしくは置換又は非置換の複素環基を示し、R^6、R
^7、R^8およびR^9はその2個以上の基が結合し
て環状構造を形成してもよい。ただし、R^6、R^7
、R^8およびR^9のうち、少なくとも1つはアルキ
ル基である。Z^■はアルカリ金属カチオンまたは第4
級アンモニウムカチオンを示す。) で表わされる化合物を含有することを特徴とする光重合
性組成物。 - (3)請求項1または2において、更に (v)一般式(iv): ▲数式、化学式、表等があります▼(iv) ここで、Arは下記の一般式の一つから選ばれた芳香族
基を表し、R^1、R^2は水素原子又はアルキル基を
表し、又、R^1とR^2は互いに結合してアルキレン
基を表しても良い。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし式中、R^1^2〜R^1^6は互いに同一で
も異なつていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール
基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−S−
R^1^8基、−SO−R^1^8基又は−SO_2R
^1^8基を表すが、但しR^1^2〜R^1^6基の
少なくとも一つは−S−R^1^8基、−SO−R^1
^8基又は−SO_2R^1^8基を表し、R^1^8
はアルキル基、アルケニル基、R^1^7は水素原子、
アルキル基又はアシル基を表す。 Y^2は水素原子又は▲数式、化学式、表等があります
▼を表す。) で表わされる化合物。 を含有することを特徴とする光重合性組成物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63335219A JP2571113B2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 光重合性組成物 |
US07/456,968 US5049481A (en) | 1988-12-29 | 1989-12-26 | Sensitizers for photopolymerizable compositions |
EP89313607A EP0377321B1 (en) | 1988-12-29 | 1989-12-27 | Photopolymerizable composition |
DE68921867T DE68921867T2 (de) | 1988-12-29 | 1989-12-27 | Photopolymerisierbare Zusammensetzung. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP63335219A JP2571113B2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 光重合性組成物 |
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JPH02179643A true JPH02179643A (ja) | 1990-07-12 |
JP2571113B2 JP2571113B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=18286094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP63335219A Expired - Fee Related JP2571113B2 (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 光重合性組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5049481A (ja) |
EP (1) | EP0377321B1 (ja) |
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EP0377321A3 (en) | 1991-11-06 |
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DE68921867T2 (de) | 1995-07-20 |
EP0377321A2 (en) | 1990-07-11 |
EP0377321B1 (en) | 1995-03-22 |
JP2571113B2 (ja) | 1997-01-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071024 Year of fee payment: 11 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071024 Year of fee payment: 11 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 12 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees | ||
S531 | Written request for registration of change of domicile |
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R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
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|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
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R371 | Transfer withdrawn |
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