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JPH02179643A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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Publication number
JPH02179643A
JPH02179643A JP63335219A JP33521988A JPH02179643A JP H02179643 A JPH02179643 A JP H02179643A JP 63335219 A JP63335219 A JP 63335219A JP 33521988 A JP33521988 A JP 33521988A JP H02179643 A JPH02179643 A JP H02179643A
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JP63335219A
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Yasuo Okamoto
安男 岡本
Tadahiro Sorori
忠弘 曽呂利
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Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光重合性組成物に関する。さらに詳しくは、付
加重合性不飽和結合を有する重合可能な化合物と新規な
組成の光重合開始剤と、必iK応じて線状有機高分子重
合体とを含有する光重合性組成物に関し、たとえば、ア
ルゴンレーザー光源に対しても感応しうる感光性印刷版
の感光層郷に有用な光重合性組成物に関するものである
〔従来の技術〕
付加重合性不飽和結合を有する重合可能な化合物と光重
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、3真的手法により画像の複製を行なう方法は、現在
知られるところである。すなわち、米国特許コ、タコ7
.0λλ号、同コ、り0コ、336号あるいは同j、1
70゜!コ弘号に記載されているように、この種の感光
性組成物は光照射により光重合を起こし、硬化し不溶化
することから、該感光性組成物を適当な皮膜となし、所
望の陰画像を通して光照射を行ない、適当な溶媒により
未露光部のみを除去する(以下、単に現儂と呼ぶ)こと
Kより所望の光重合性組成物の硬化画像を形成すること
ができる。このタイプの感光性組成物は印刷版等を作製
するために使用されるものとして極めて有用であること
は論をまたない。
また、従来、付加重合性不飽和結合を有する重合可能な
化合物のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるた
めに光重合開始剤を添加することが提唱されており、か
かる光重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインエチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノ
ン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、コーエ
チルアントラキノン等が用いられてきた。しかしながら
、これらの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物
の硬化の感応度が低いので画像形成における像露光に長
時間を要した。このため細密な画像の場合には、操作に
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されず、
さらに露光の光源のエネルギー放射量を増大しなければ
ならないためにそれに年なう多大な発熱の放散を考慮す
る必要があった。加えて熱による組成物の皮膜の変形お
よび変質も生じ易い等の問題があった。
また、これらの光重合開始剤Vis。Onm以下の紫外
領域の光源に対する光重合能力に比較し、1700 n
m以上の可視光線領域の光源に対する光重合能力が顕著
に低い。従って、従来の光重合開始剤を含む光重合性組
成物は、応用範囲が著しく限定されていた。
可視光線に感応する光重合系に関して従来いくつかの提
案がなされて来た。かがる提案として、米国特許第2r
jO弘44j号によればある釉の光還元性染料、例えば
、ローズベンガル、エオシン、エリスロシン等が効果的
な可視光感応性を有していると報告されている。また改
良技術として、染料とアミンの複合開始系(特公昭≠!
−20/12号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラ
ジカル発生剤および染料の系(特公昭4t7−3737
7号)、ヘキサアリールビイミダゾールとP−ジアルキ
ルアミノペンジリデ7ヶトンの系(特公昭≠7−2jl
1号、特開昭jlA−/!!コタコ号)、3−ケト置換
クマリン化合物と活性ハロゲン化合物の系(特開昭j1
−/6103号)、置換トリアジンとメロシアニン色素
の系(特開昭!≠−7zioλ号)などの提案がなされ
て来た。これらの技術は確かに可視光線に対して有効で
はある。
しかし、未だその感光速度は充分満足すべきものではな
く、さらに改良技術が望まれていた。
また、近年、紫外線に対する高感度化や、レーザーを用
いて画像を形成する方法が検討され、印刷版作成におけ
るUVプロジェクション露光法、レーザー直接製版、レ
ーザーファクシミリ、ホログラフィ−等が既に実用の段
階であり、これらに対応する高感度な感光材料が開発さ
れているところである。しかし未だ十分な感度を有して
いるとは言えない。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的は、高感度の光重合性組成物を提供するこ
とである。
すなわち、本発明の目的は、広く一般に付加重合性不飽
和結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物
の光重合速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合
性組成物を提供することである。
また本発明の他の目的は、≠00 nm以上の可視光線
、特にAr  レーザーの出力に対応するμI r n
m付近の光に対しても感度の高い光重合開始剤を含んだ
光重合性組成物を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、ある特定の光重合開始剤系が付加重合性不飽和結合
を有する重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大さ
せ、また弘00 nm以上の可視光線に対しても高感度
を示すことを見出し、本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は (1)付加重合性不飽和結合を有する重合可能な化合物 (ii)下記一般式(1) A:酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、
アルキル又はアリール置換された窒素原子またはジアル
キル置換された炭素原子を表わす。
Yl:水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、また
は置換アルコキシカルボニル基を表わす。
R”、R2:水素原子、炭素数/〜itのアルキル基も
しくは置換基として、R30− (−CH2CH20つ一几3、ハロゲン原子(F、α。
Br、I)を有する炭素数/〜/rの置換アルキル基。
但し、几3は水素原子又は炭素数7〜IOのアルキル基
を表し、Bは、ジアルキルアミノ基、水酸基、アシルオ
キシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表わす。
nはθ〜4Aの整数、mは1〜コ0の整数を表わす。
(、iii ) (イ)炭素−ハロゲン結合を有する化合物、(ロ)芳香
族オニウム塩、 (ハ)有機過酸化物、および (ニ)下記一般式(II)で示されるチオ化合物:(こ
こで、R’Jdアルキル基、アリール基または置換アリ
ール基を示し、几5は水素原子またはアルキル基を示す
。また、R4と11.5は、互いに結合して酸素、硫黄
および窒素原子から選ばれたへテロ原子を含んでもよい
j負ないし7員環を形成するに必要な非金属原子群を示
す。) (ホ)ヘキサアリールビイミダゾール (へ)ケトオキシムエステル からなる群から選ばれた少なくとも7つの化合物を含有
することを特徴とする光重合性組成物である。
本発明の上記光重合性組成物には、更に下記の成分(i
V )および/まfcは成分(V)を含有させることに
よし、より一段と高感度な光重合性組成物を得ることが
できる。
(iv )下記一般式(■): (ここで、R6、R7、R8およびR9は互いに同一で
も異人っていてもよく、各々置換又は非置換のアルキル
基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換のア
ルケニル基、置換又は非置換のアルキニル基、もしくは
置換又は非置換の複素環基を示し、R6、l17、R8
および89はその2個以上の基が結合して環状構造を形
成してもよい。ただし、R6、R7、R8およびR9の
うち、少なくとも1つはアルキル基である。Zのはアル
カリ金属カチオンまたは第弘級アンモニウムカチオ/を
示す。) で表わされる化合物。
(V)−数式(iv): ここで、Arc下記の一般式の一つから選ばれた芳香族
基を表し、R1、R2は水素原子又はアルキル基を表し
、又、R1とR2け互いに結合してアルキレン基を表し
ても良い。
几17 (ただし式中、312〜B16は互いに同一でも異なっ
ていてもよく、各々水素原子、)・ロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール基、水
酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、 3B18基
、−80−R18基又は−802R18基を表すが、但
しR12〜R16基の少なくとも一つは−8−几18基
、−80−R18基又は−802R基を表し、R18は
アルキル基、アルケニル基、R17は水素原子、アルキ
ル基又はアシル基を表す。
で表わされる化合物。
以下、本発明の光重合性組成物の各成分について詳しく
説明する。
本発明に使用される成分(1)の付加重合性不飽和結合
を有する重合可能な化合物は、末端エチレン性不飽和結
合を少なくとも7個、好ましくはλ個以上有する化合物
から選ばれる。
例えばモノマー、プレポリマー、すなわちλ量体、3量
体およびオリゴマー、又はそれらの混合物ならひにそれ
らの共重合体などの化学的形態をもつものである。モノ
マーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン
酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、イソクロトン醗、マレイン酸など)と脂肪
族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等があげられる
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸トのエ
ステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステ
ルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、7.3−ブタンジオ
ールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロノξンドリアクリレート、トリメチロールプロパント
リ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチ
ロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジア
クリレート、/、≠−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、kンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ンルビト
ールトリアクリレート、ンルビトールテトラアクリレー
ト、ソルビトールベンタアクリレート、ソルビトールへ
キサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)
イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマ
ー等がある。
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート
、トリメチロールプロノ髪ントリメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコ
ールジメタクリレート、1.3−ブタンジオールジメタ
クリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ハン
タエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、はンタエリスリトールテト之
メタクリレート、ジにンタエリスリトールジメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート、
ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラ
メタクリレート、ビスCp−(j−メタクリルオキシー
コーヒドロキシプロボキシ)フェニルウジメチルメタン
、ビス−(p−(アクリルオキシエトキシ)フェニルウ
ジメチルメタン等がある。
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールシイ
タフネート、プロピレングリコールシイタコネート、7
.3−ブタンジオールジイタコネ−)、/、44−ブタ
ンジオールシイタコネート、テトラメチレングリコール
シイタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート
、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジク
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラマレートネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジインクロ
トネート、ンルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
マレイン酸エステルとしてハ、エチレングリコールシマ
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあげること
ができる。
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸との
アミドの七ツマ−の具体例としては、メチレンビス−ア
クリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、/、
t−へキサメチレンビス−アクリルアミド、/、A−へ
キサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリ
アミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリル
アミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の例としては、特公昭lIL!r−弘/70r号
公報中に記載されている1分子に1個以上のイソシアネ
ート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一
般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマー
を付加せしめた7分子中に2個以上の重合性ビニル基を
含有するビニルウレタン化合物等があげられる。
(ただし、RおよびR′はHあるいHCH3を示す。) また、特開昭!/−J7/23号に記載されているよう
々ウレタンアクリレート類、特開昭4LIr−6弘/1
F3号、特公昭弘ターψJ15’/号、特公昭12−3
0112O号各公報に記載されているようなポリエステ
ルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸
を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアク
リレートヤメタクリレートをあげることができる。さら
に日本接着協会誌vo1.20. A7.300〜30
7ページに光硬化性七ツマ−及びオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。なお、これら
の使用量は、全成分に対して!〜J−0重tS(以下チ
と略称する。)、好ましくL/θ〜≠θチである。
本発明に使用される成分(i()は、下記−数式(1)
で示される化合物である。
CH2=C()L)COOCH2CH(几’)OH(A
 )又は A:酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、
アルキル又はアリール置換された窒素原子またはジアル
キル置換された炭素原子を表わす。
Yl:水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、また
は置換アルコキシカルボニル基を表わす。
R’、R2:水素原子、炭素数/〜itのアルキル基も
しくは置換基として、R30− (−CH2CH20禿、R3、ハロゲン原子(F、α。
Br、I)を有する炭素数/−/rの置換アルキル基。
但し、R3は水素原子又は炭素数/−,10のアルキル
基を表わし、 Bfl、ジアルキルアミノ基、水酸基、
アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表わす。
nはO〜弘の整数、mは/へ20の整数を表わす。
Yの例を以下に示す。
アルキル基としては炭素原子数がlから/rまでの直線
状、分岐状および環状のアルキル基をあげることができ
、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタ
デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、インペンチ
ル基、イソヘキシル基、5ec−ブチル基、ネオペンチ
ル基、tert−ブチル基、tert−ペンチル基、シ
クロはメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシル基
、コーノルボルニル基をあけることができる。これらの
うちでは、炭素原子数lから10までの直線状、分岐状
のアルキル基ならびに炭素原子数6から70までの環状
のアルキル基が好ましい。最も好ましいのは炭素原子数
lからダまでの直線状および分岐状のアルキル基である
置換アルキル基の置換基としてはハロゲン原子(弗素、
塩素、臭素、沃素)およびヒドロキシル基をあけること
ができ、一方アルキル基としては前述の炭素原子数lか
ら/ltでのアルキル基を、好ましくは同じく/からI
Oまでの直線状、分岐状のアルキル基彦らびに炭素原子
数tからioまでの環状のアルキル基を、最も好ましく
は炭素原子数/から+1での直線状および分岐状のアル
キル基をあげることができる。その具体例としては、ク
ロロメチル基、フロモメチル基、コークロロエチル基、
λ、2.2−)リクロロエチル基、コークロロはメチル
g、/−(クロロメチル)フロビル基、10−iロモデ
シル基、lt−メチルオクタデシル基、クロロシクロヘ
キシル基、ヒドロキシメチル基、コーヒドロキシエチル
基、−一ヒドロキシブチル基、!−ヒドロキシペンチル
基、IO−ヒドロキシデシル基、コーヒドロキシオクタ
デシル基、λ−(ヒドロキシメチル)エチル基、ヒドロ
キシシクロヘキシル基、3−ヒドロキシーーーノルボル
ニル基をあげることができる。
アリール基としては、7個のベンゼン環の残基(フェニ
ル基)、2個および3個の縮合ベンゼン環の残基(ナフ
チル基、アントリル基、フエナントリル基)、−個のベ
ンゼン璋集合系の残基(ビフェニル基)ならびにベンゼ
ン環とj員不飽和環との縮合系の残基(インデニル基、
アセナフチニル基、フルオレニル基)をあげることがで
きる。
置換アリール基としては、前述のアリール基の燦形成炭
素原子にハロゲン原子(弗素原子、塩素原子、臭素原子
、沃素原子)、アミン基、置換アミノ基(モノアルキル
置換アミン基(アルキル基の例、メチル基、エチル基、
プロピル基、ハンチル基、インプロピル基、5ec−ブ
チル基、イソはメチル基)、ジアルキルアミノ基(アル
キル基の例はモノアルキル置換アミンの例と同じ)、モ
ノアシルアミノ基(アシル基の例、アセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル(butyryl)基、 インブチ
リル基、バレリル(valeryl)基)、シアノ基、
アルキル基(炭素原子数がlから/r4での直線状、分
岐状および環状のアルキル基、好ましくは炭素原子数l
から70までの直線状、分岐状および環状のアルキル基
、最も好ましくは炭素原子数/からダまでの直線状およ
び分岐状のアルキル基、これらの具体例はすでに上に述
べた。)、ハロゲノアルキル基(例、クロロメチル基、
コークロロメチル基、!−クロロペンチル基、トリフル
オロメチル基)、アルコキシ基(アルキル基の例、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、イソプロピル
基、インペンチル基、コーメチルブチル基、5ec−7
’チル基)、アリールオキシ基(アリール基の例、フェ
ニル基、/−ナフチル基、コーナフチル基)、アルコキ
シカルボニル基(アルキル基の例、メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基)、アシルオ
キシ基(アシル基の例はモノアシルアミノ基の例と同じ
)、アルコキシスルホニル基(アルキル基の例はアルコ
キシル基のアルキル基の例と同じ)等の置換基が1個又
は2個以上の同じ置換基あるいは互いに異なる置換基が
置換した残基をあげることができる。これらのアリール
基および置換アリール基の具体例としては、フェニル基
、クロロフェニル基、アミノフェニル基、(メチルアミ
ノ)フェニル基、(エチルアミノ)フェニル基、(ジメ
チルアミノ)フェニル基、アセチルアミノフェニル基、
トリル基、エチルフェニル基、(クロロメチル)フェニ
ル基、アセチルフェニル基、フェノキシフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェ
ニル基、アセトキシフェニル基、メトキシスルホニルフ
ェニル基、ナフチル基、コーアミノー/−ナフチル基、
/−ジメチルアミノーーーナフチル基、クロロナフチル
基、メチルナフチル基、アントリル基、フェナントリル
基、インデニル基、ビフェニリル基、クロロビフェニリ
ル基、アミノビフェニリル基、メチルビフェニリル基、
アセナフチニル基をあげることができる。これらのうち
ではフェニル基および上述の置換基が7個又は2個以上
の同じかあるいは互いに異なる上述の置換基が2個以上
置換したフェニル基が好ましい。
アラルキル基としては炭素原子数/から10まで、好ま
しくは同じく/から6までの直線状、分岐状又は環状の
アルキル基にフェニル基又はす7チル基が置換した残基
をあげることができ、その具体例としては、ベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、J−フェニ
ルヘキシル基、10−フェニルデシル基、II−フェニ
ルシクロヘキシル基、/−ナフチルメチル基、コー(/
−ナフチル)エチル基、−一す7チルメチル基をあげる
ことができる。
アルコキシカルボニル基としては、炭素原子数lからl
Otでの直線状、分岐状および環状のアルキル基がオキ
シカルボニル基に結合した残基をあげることができ、そ
の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、フロポキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、5ee−ブトキシカルボニル基、tcrt−ブ
トキシカルボニル基をあけることができる。
−数式(1)で表わされる「Bull、8oc。
Chimie BelgesJ誌第j7巻第JA44〜
37コ頁(/ Vat )(抄碌: 「chemica
lAbstractsJ誌第<zp巻第AOe 〜Ad
d欄(lりjO年))に記載の方法に従って合成するこ
とができる。
以下に一般式CI)の具体例を挙げる。
本発明の好ましい態様で使用される成分(iii )の
−例である炭素−ハロゲン結合を有する化合物としては
、下記−紋穴(V)〜(xi)で示される化合物が好ま
しい。
一般式(V) 工 (式中、Xはハロゲン原子を表わす。Yは−CXa、−
Nl2、−NHR’、−NR’2、−01(’を表わす
。ここでR′はアルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基を表わす。またRVi−cx3 、
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基、置換アルケニル基を表わす。
で表わされる化合物。
一般式(vi): ”19−i’o’l””H3nXn (ただし、R19t’i、アルキル基、置換アルキル基
、アルケニル基、置換アルケニル基、アリル基、置換ア
リル基、アリール基、置換アリール基、ハロゲン原子、
アルコキシ基、置換アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ
基であり、 Xはハロゲン原子であり、 nは7〜3の整数である。)で光わされる化合物。
一般式(Vl+ ’) R2’−Z−CHm−IXm−R” (ただし、Rは、アリール基又は置換アリ−ル基、置換
アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリル
基、置換アリル基、アリール基又は置換アリール基であ
り、B24け一般式(V)中のR′と同じであり、m 
ij /又は2である。)で表わされる化合物。
一般式(viii): ただし、 式中R25n置換されていてもよいアリール基又は複素
環式基であり、 R”h炭素原子/〜3個を有するトリハロアルキル基又
はトリハロアルケニル基であり、pは/、コ又Vijで
ある。
一般式(1x) (ただし、 Lは水素原子又は式: CO+R”)n(CXs)mの
置換基であり、 Mは置換又は非置換のアルキレン基であり、Qはイオウ
、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケ
ン−/、2−イレンL/。
コーフエニレン基又はN−R基であり、M−1−Qは一
緒になって3又はμ異境を形成し、R28Uアルキル基
、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であり、 B27は炭素環式又は複素環式の芳香族基であね、Xは
塩素、臭素又はヨウ素原子であり、q=o及びr = 
/であるか又はq = /及びr=7又はλである。) で表わされる、トリハロゲノメチル基を有するカルボニ
ルメチレン複素環式化合物。
−紋穴(×): (ただし、 xhハロゲン原子であり、tij/〜3の整数であり、
Sはl−μの整数であり、R29は水素原子又はCH3
−tXt基であり、Rは8価の置換されていてもよい不
飽和有機基である)。
で表わされる、ダーハロゲノーS−(ハロゲノメチル−
フェニル)−オキサゾール誘導体。
−紋穴(xi): (ただし、 Xはハロゲン原子であり、Vは1〜3の整数であり、U
は/〜≠の整数であり、几31は水素原子又はC)−1
3y X v基であり、132はU価の置換されていて
もよい不飽和有機基である。)で表わされる、λ−()
・ロゲノメチルーフェニル)−弘一ハロゲノーオキサゾ
ール誘導体。
このような炭素−ノ・ロゲン結合を有する化合物と(、
”’ch、たとえば、若林ら著、Bull、Chem。
Soc、 Japan、  弘コ、コタr4!(iり6
り)記載の化合物、たとえば、−一フェニル弘、t−ビ
ス(トリクロルメチル)−8−トリアジン、λ−(p−
クロルフェニル)−≠、t−ビス(トリクロルメチル)
−8−トリアジン、λ−(p−1リル)−≠、6−ビス
(トリクロルメチル)−S−トリアジン、λ−(p−メ
トキシフェニル) −弘。
6−ビス(トリクロルメチル)−8−トリアジン、コー
(2′、μ′−ジクロルフェニル)−弘、4−ビス(ト
リクロルメチル)−8−)リアジン、コ。
≠、6−トリス(トリクロルメチル)−s−トリアジン
、コーメチルー≠、6−ビス(トリクロルメチル)−8
−)リアジン、J−n−ノニル−μ。
6−ビス(トリクロルメチル)−8−)リアジン、コー
(α、α、β−トリクロルエチル)−μ、t−ビス(ト
リクロルメチル)−8−)リアジン等が挙げられる。そ
の他、英国特許/31♂≠L?λ号明細書記載の化合物
、たとえば、−一スチリルー亭、6−ビス(トリクロル
メチル)−8−)リアジン、2−(p−メチルスチリル
)−弘、6−ビス(トリクロルメチル)−8−)リアジ
ン、コ−(p−メトキシスチリル)−1,G−ビス(ト
ノクロルメチル)−8−トリアジン、コー(p−メトキ
シスチリル)−μmアミノ−4−トリクロルメチル−s
−トリアジン等、特開昭!3−/JjtlZI号記載の
化合物、たとえば、2−(グーメトキシ−ナフト−7−
イル)−44、A−ヒス−トリクロルメチル−8−トリ
アジン、x−(e−エトキシ−ナフト−l−イル)−<
2.+−ビス−トリクロルメチル−8−)リアジン、X
−(≠−(コーエトキシエチル)−ナフト−/−イルツ
ー弘、6−ピスートリクロルメチルーS−トリアジン、
−一(弘、7−シメトキシーナフトー/−イル〕−μ、
6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、X−(
アセナフト−!−イル)−a。
6−ヒス−トリクロルメチルー8−17アジン等、独国
特許33370211号明細書記載の化合物、九とえば 等やその他 衿を挙げることができる。
また、F、 C,5chaefer等によるJ、Org
Chem、; 2り、/jココア/?44()記載の化
合物、たとえば2−メチル−弘、t−ビス(トリブロム
メチル)−8−トリアジン、2.弘、4−トリス(トリ
ブロムメチル)−S−トリアジン、λ、μ、6−トリス
(ジブロムメチル)−8−トリアジン、λ−アミノーク
ーメチルー6−ドリブロムメチルーs−トリアジン、コ
ーメトキシー弘−メチル−6−ドリクロルメチルー8−
トリアジン咎を挙げることができる。
さらに特開昭62−jt2≠l七記載の化合物、たとえ
は しく23 に記載されている合成方法に準じて当業者が容易に合成
することができる次のような化合物群等を挙げることが
できる。
あるいはさらにM、P、Hutt、E、li’。
Elslagerおよびり、 M、 Werbel著J
ournal  of Heterocyclic c
hemistry第7巻(煮3)、第31/頁以降(/
り70年)あるいは、 次のような化合物群 しti3 あるいは、ドイツ特許第26μ/100号に記載されて
いるような化合物、例えば、≠−(弘−メトキシ−スチ
リル)−A−(j・3・3−トリクロルプロはニル)−
1−ピロン及ヒμm(3・μ・!−トリメトキシースチ
リル)−J−1リクロルメチル−λ−ピロン、あるいは
ドイツ特許筒3333≠よ0号に記載されている化合物
、例えば、 Q=S: R=ベンゼン環 あるいはドイツ特許第3021390号に記載の化合物
群、 あるいはドイツ特許第3Qコ/jタタ号に記載の化合物
群例えば、 r を挙げることができる。
また、成分()の別の例である芳香族オニウム塩として
は、周期律表の第■、■及び■族の元素、具体的にはN
、P、As、Sb、Bi、0、S。
Se%Te%または工の芳香族オニウム塩が含まれる。
このような芳香族オニウム塩は、特公昭j2−/ 44
27’7号、特公昭7.2−/u27r号、特公昭jJ
−/μ、27り号に示されている化合物を挙げることが
できる。
具体的には、 をあげることができる。これらの中で好ましいものは、
BF4塩、又はPF、塩の化合物さらに好ましくは芳香
族ヨードニウム塩のBF4塩、又はPF6塩である。
本発明に使用される成分(1■)の他の例である「有機
過酸化物」としては分子中に酸素−酸素結合を1個以上
有する有機化合物のほとんど全てが倉まれるが、その例
としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロ
ヘキサノンパーオキサイド、3.J、j−)リメチルシ
クロヘキサノン/ξ−オキサイド、メチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイド、アセチジアセトンパーオキサイド
、/。
/−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)−J。
!、!−トリメチルシクロヘキサン、/、/−ビス(タ
ーシャリイブチルパーオキシ)シクロヘキサン、λ、2
−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)ブタン、ター
シャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド、ジイソプロビルインゼンハイドロl
e−オキサイド、バラメタンハイドロパーオキサイド、
J、j−ジメチルヘキサン−2,J−シバイドロバ−オ
キサイド、/、/、J、!−テトラメチルブチルハイド
ロノt−オキサイド、ジターシャリイブチルパオキサイ
ド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミ
ルノーオキサイド、ビス(ターシャリイブチルバーオシ
イソプロビル)ベンゼン、λ、j−ジメチルーλ、j−
ジ(ターシャリイブチルパーオキシ)ヘキサン、u、j
−ジメチル−J、t−ジ(ターシャリイブチルパーオキ
シ)ヘキシン−3、アセチルパーオキサイド、インブチ
リルパーオキサイド、オクタノイルノミ−オキサイド、
デカノイルパーオキサイド、ラウロイルノミ−オキサイ
ド、J、j、j−トリメチルヘキサノイルパーオキサイ
ド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、コ、≠−ジク
ロロベンゾイルノe−オキサイド、メタートルオイルノ
?−オキサイド、ジイソプロピル/R−オキシジカーボ
ネート、ジー2−エチルへキシルノで一オキシジカーボ
ネート、ジーコーエトキシエチルパーオキシジカーボネ
ート、ジメトキシイソゾロビルパーオキシカーボネート
、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)ノ耐−オキシ
ジカーボネート、ターシャリイブチルノミ−オキシアセ
テート、ターシャリイブチル/ミーオキシピバレート、
ターシャリイプチルノt−オキシネオデカノエート、タ
ーシャリイヅチル/ξ−オキシオクタノエート、ターシ
ャリイブチルパーオキシ−3゜1、!−トリメチルヘキ
サノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレート
、ターシャリイブチル/に一オキシベンゾエート、ジタ
ーシャリイブチルジパーオキシイソフタレート、λ、!
−ジメチルー2.j−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキ
サン、ターシャリイブチル過酸化マレイン酸、ターシャ
リイブチルノξ−オキシインプロピルカーボネート、J
、J’、≠、弘′−テトラー(t−ブチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3゜3′、グ、4t′−テ
トラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン、!、3’、lt、lI’−テトラ(t−ヘキシル
バーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、J、!’、≠
、弘′−テトラ(t−オクチルノミ−オキシカルボニル
)ベンゾフェノン、’ l ” I ” lグ′−テト
ラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、J
、!’、tl。
q′−テトラ(p−インプロピルクミルパーオキシカル
ボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(1−プチルパ
ーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(1−へ
キシルノξ−オキシ二水素二フタレート)等がある。
これらの中で、3.J’、≠、≠′−テトラ−(t−i
チルノぐ一オキシカルボニル)ペンツフェノン、J、!
’、4t、≠′−テトラー(t−アミルパーオキシカル
ボニル)ベンゾフェノン、J、J’弘、μ′−テトラ(
t−へキシルバーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
!、3’、II、弘′−テトラ(t−オクチル/髪−オ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3.J’、II、’
I−’−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンソ
フエ/7,3.3’弘、参′−テトラ(p−イソプロピ
ルクミル、e−オキシカルボニル)ベンゾフェノン、シ
ーt −7’チルジパーオキシイソフメレートなどの過
酸化エステル系が好ましい。
本発明で使用される成分(1■)としてのチオ化合物は
、下記−紋穴(II)で示される。
(ここで、R4はアルキル基、アリール基または置換ア
リール基を示し、R5は水素原子またはアルキル基を示
す。また、R4とR5は、互いに結合して酸素、硫黄お
よび窒素原子から選ばれたベテロ原子を含んでもよいj
負ないじ7員環を形成するに必要な非金属原子群を示す
。)上記−紋穴i)におけるR のアルキル基としては
炭素原子数ノル≠個のものが好ましい。またR4のアリ
ール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数
3〜10個のものが好ましく、置換アリール基としては
、上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン
原子、メチル基のようなアルキル基、メトキシ基、エト
キシ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれ
る。
−紋穴(II)で示されるチオ化合物の具体例としては
、下表に示すような化合物が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾールとしてハ、コ。
λ′−ビス(0−クロロフェニル)−弘 p/l 、 
t’−テトラフェニルビイミダゾール、λ。
J’−ビス(0−7’ロモフエニル)−≠ alj 、
 j’−テトラフェニルビイミダゾール、2゜2′−ビ
ス(o * p−ジクロロフェニル)−l。
u’、J’ 、t’−テトラフェニルビイミダゾール、
2、λ′−ビス(0−クロロフェニル)−μ、4L′j
 、 j’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(o、o’ −ジクロロフェニ
ル)−μ、i、j 、j’−fトラ7エ二ルビイミダゾ
ール、λ、2′−ビス(O−ニトロフェニル)−+、≠
’、z、t’−テトラフェニルビイミダゾール、コ、λ
′−ビス(0−メチルフェニル)−≠、<1’、!、j
r’−テトラフェニルビイミダゾール、2.2’−ビス
(0−トリフルオロフェニル)−U、≠I 、 3 、
61−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ケトオキシムエステルとしては、3−ペンゾイロキシイ
ミノブタンーコーオン、3−アセトキシイミノブタン−
2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−
オン、コーアセトキシイミノはンタンー3−オン、コー
アセトキシイミノー/−フェニルプロノン−7−オン、
λ−ペンツイロキシイミノ−7−フェニルプロパン−/
−オン、3−p−)ルエンスルホニルオキシイミノブタ
ン−2−オン、λ−エトキシカルボニルオキシイミノ−
/−フェニルプロパン−7−オン等カ挙&i’うれる。
本発明に使用される成分(jV ) 11、下記−紋穴
(nl)で示される化合物である。
下記−紋穴(■): (ここで、R6、R7、R8およびR9は互いに同一で
も異なっていてもよく、各々置換又は非置換のアルキル
基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換のア
ルケニル基、置換又は非置換のアルキニル基、もしくは
置換又は非置換の複素環基を示[2、R6、R7、几8
およびR9はその2個以上の基が結合して環状構造を形
成してもよい。ただし、R6、R7、R8およびR9の
うち、少なくとも7つはアルキル基である。Zeはアル
カリ金属カチオンまたは第弘級アンモニウムカチオンを
示す) 上記R6〜R9のアルキル基としては、直鎖、分枝、環
状のものが含まれ、炭素原子数/〜/lのものが好まし
い。具体的にはメチル、エチル、プロピル、インプロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリ
ル、シクロブチル、シクロはメチル、シクロヘキシルな
どが含まれる。
また置換アルキル基としては、上記のようなアルキル基
に、ハロゲン原子(例えば−CJl−Brなど)、シア
ノ基、ニトロ基、アリール基(好ましくここで334、
R35は独立して水素原子、炭素数/−/≠のアルキル
基、又はアリール基を示す。)、−COOR” (ここ
で336は水素原子、炭素数/〜/≠のアルキル基、又
はアリール基を示す。)、−ocort37又は−03
37(ここで337は炭素数l〜/μのアルキル基、又
はアリール基を示す。)を置換基として有するものが含
まれる。
上記几6〜R9のアリール基としては、フェニル基、ナ
フチル基などの/〜3環のアリールが含まれ、置換アリ
ール基としては、上記のようなアリール基に前述の置換
アルキル基の置換基又は、炭素数/〜/弘のアルキル基
を有するものが含まれる。
上記R6〜R9のアルケニル基としては、炭素数λ〜/
Iの直鎖、分枝、環状のものが含まれ、!換アルケニル
基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基と
して挙げたものが含まれる。
上記R−Rのアルキニル基としては、炭素数2〜itの
直鎖又は分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の置換
基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙げた
ものが含まれる。
また、上記R−Rの複素環基としてはN。
Sおよび0の少なくとも1つを含む!員環以上、好まし
くはj〜7員環の複素環基を示し、この複素環基には縮
合環を有していもよい。更に置換基として前述の置換ア
リール基の置換基として挙げたものを有していてもよい
一般式(I)で示される化合物例としては具体的には米
国特許J、Jt7.弘!3号、同弘、31tJ、Iり1
号、ヨーロッパ特許10?、77λ号、βJ10り、7
73号に記載されている化合物および以下に示すもの、
が挙げられる。
(iil )−/ (iil )−グ (iil ) −4 (+11) −7 (++i )−2 (llj ) −1 (iil ) −3 (iil )−2 (lii)−10 (ii+)−tt 一般式(iv )において、Arは下記一般式の一つか
ら選ばれた芳香族基を表し、R,Rは水素原子又はアル
キル基を表し、又、RとRは互いに結合してアルキレン
基を表しても良い。
(Ill) −/2 (m)−t3 本発明の光重合性組成物には、下記一般式(1v)で示
される化合物〔成分(■)〕を含有させることにより、
更に感度を高めることができる。
奢 (fcだし式中、R12〜R16fl互いに同一でも異
なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール基、
水酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、 5R18
基、・−80−B18基又は−8O18R基を表すが、
但し312〜B 16基の少なくとも一つは一8R18
基、−8o−R18基又−8O2R基を表し、Rはアル
キル基、アルケニル基、R17H水素原子、アルキル基
又はアシル基を表す。
アクリロイル等があげられる。
このような化合物の具体例としては、 上記一般式(iv )におけるR  と凡 のアルキル
基としては、メチル、エチル、プロピルなどの炭素数7
〜20個のものが挙げられる。また、Rと几 が結合し
て形成するアルキレン基としてしは、テトラメチレン、
ぼンタメチレン等があげられる。Ar1Cおける112
〜R16のアルキル基としては炭素数l〜≠個のものが
あげられる。また、アルケニル基としては炭素数3〜1
2のものがあげられる。さらにR12〜H16のアリー
ル基としてはフェニル基があげられる。さらにアルコキ
シ基としては炭素数l−μのものがあけられる。
R17のアシル基としてはアセチル、プロピオニル、H
3 c6H17 4H9 々どがあげられる。
この中で好ましいもの[C−/、C−2、C−tおよび
C−2である。
本発明の組成物中のこれらの光重合開始剤系の含有濃度
は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合に
は有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発明
における光重合開始剤系のzh、光重合可能なエチレン
性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状有機高分
子重合体との合計に対して0 、0/%からtoe4の
範囲で使用するのが好ましい。より好ましくは、7%か
ら30%で良好な結果を得る。
本発明に使用される光重合開始剤としての成分である成
分(ii)と成分(iii )の比は、成分(+ii 
)の有機染料1重量部に対して、成分(ii)を0゜0
3〜30p量部が適当であり、より好ましくは0、/−
10重量部、最も好ましくはO,2〜5重量部である。
更に成分(iv )を併用する場合には、成分(iii
 )の有機染料1重量部に対して、成分(iv )をQ
0/−30**部使用するのが適当であり、更に好まI
〜くけ0.0λ〜−〇重量部、最も好ましくは0.OJ
〜10重景部で重量。更Kまた成分(V)の化合物を併
用する場合には、成分(i++ )の有機染料/ff1
t部に対して成分(V)を0.0/−,30重量部使用
するのが適当であり、より好ましくは0.02〜コO重
量部、最も好ましくけ0.0j 〜10@#c部である
本発明の光重合性組成物には、(vl)バインダーとし
ての線状有機高分子重合体を含有させることが好ましい
。このような「線状有機高分子重合体」としては、光重
合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有している
線状有機高分子重合体である限9、どれを使用しても構
わない。好ましくは水現像或は弱アルカリ水現像を可能
とする水あるいは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である
線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重
合体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、
弱アルカリ水或は有機溶剤現像剤としての用途に応じて
選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子重合体を
用いると水現像が可能になる。この様な線状有機高分子
重合体としては、側鎖にカルボン酸を有する付加重合体
、例えば特開昭39−1!A/j号、特公昭144−j
41cjJ7号、特公昭61−/λ377号、特公昭j
4’ −23957号、特開昭j≠−タ27コ3号、特
開昭!デーJJIJt号、特開昭!ターフ104cr号
に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合
体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロト
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体等がある。
また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘
導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれ
らの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)ア
クリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(
メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビ
ニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性
線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエ
チレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度
をあげるためにアルコール可溶性ナイロンやλ、−−ビ
ス=(≠−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエビクロ
ロヒドリン0JIJエーテル等も有用である。これらの
線状有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させ
ることができる。しかしPo重f%を越える場合には形
成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好
ましくはJ O−4j係である。また光重合可能なエチ
レン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、it比
で//り〜7/3の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は3/7〜j/!である。
また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノ
ール、ジ−t−フチルーp−クレゾール、ヒロガロール
、t −ブチルカテコール、はンゾキノン、仏、参′−
チオビス(3−メチル−4−t−ブチルフェノ・−ル)
、コ、2′−メチレンビス(≠−メチルーa−を一ブチ
ルフェノール)、N−ニトロンフェニルヒドロキシアミ
ン第一セリウム塩等があげられる。熱重合防止剤の添加
fは、全組成物の重量に対して約o、oi%〜約j%が
好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防
止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのよつな高級脂
肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層
の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加f
は、全組成物の約0.j%〜約10(4が好ましい。さ
らに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を添
加してもよい。染料および顔料の添加fjtは全組成物
の約0.1e4〜約4〜約jましい。
加えて、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や
、その他の公知の添加剤を加えてもよい。
本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布する際には種
々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、64エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレンクリ
コールモノエチルエーテル、エチレンクリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、フロピレン
ゲリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサラン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、3−メトキシプロ/cノール、
メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、フロピレンゲリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロ
ピルアセテ−)、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、r−ブチロラクトン、乳酸メチル、
乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは
混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の
固形分の濃度は、コ〜ZOX*チが適当である。
その被傍景は乾燥後の重tで約0./g/m2〜約/θ
g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0゜j−
1g/m2である。
上記支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなど)がラミネートされた紙、また、例えばアルミニ
ウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、鉤などのよ
うな金属の板、さらに1例えば二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、フロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
などのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属
がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチッ
クフィルムなどがあげられる。これらの支持体のうち、
アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安
価であるので特に好ましい。更に、特公昭1it−/♂
3コア号に記載されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウム水溶液に浸
漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。特
公昭<47−j/27号に記載されているようにアルミ
ニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸
塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。上
記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼
酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機
酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二
種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極
としてt流を流すことにより実施される。
また、米国特許第J、l、!r、itλ号に記載されて
いるようなシリケーHit着も有効である。
更に、特公昭グt−27≠t1号、特開昭jλ−!16
02号、特開昭!2−30!03号に開示されているよ
うな電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理
および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である
また、特開昭ja −,2r rり3号に開示されてい
るような機械的相面化、化学的エツチング、電解グレイ
ン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったも
のも好適である。
更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、りと
えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有す
る重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属
塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等
を下塗りしたものも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性の向上
環のために施されるものである。
支持体上に設けられた光重合性組成物の層の上には、空
気中の酸素による重合禁止作用を防止す゛るため、例え
ばポリビニルアルコール%にケン化度タタチ以上のポリ
ビニルアルコール、酸性セルロース類などのような酸素
遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい
。この様な保護層の塗布方法については、例えば米附特
許第3゜4#r、3//号、特公昭j!−≠り72り号
に評しく記載されている。
また本発明の光重合性組成物は通常の光重合反応に使用
できる。さらに、印刷版、プリント基板郷作成の際のフ
ォトレジスト等多方面に適用することが可能である。特
に本発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可視
光領域までの幅広い分光感度特性により、Ar  レー
ザー等の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好
な効果が得られる。
本発明の光重合性組成物を用いた感光材料は、画像露光
したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を
得る。これらの光重合性組成物を平版印刷版の作成に使
用する際の好ましい現像液としては、特公昭!7−7弘
27号に記載されているような現像液があげられ、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第
ニリン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸
ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤
やモノエタノールアミン又はジェタノールアミンなどの
ような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。該アルカ
リ溶液の濃度が0.1〜10重量%、好ましくは0 、
1−.1重量%罠なるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やにンジルアルコール、コーフェノキシエタノール、2
−ブトキシェタノールのような有機溶媒を少量含むこと
ができる。例えば、米国特許筒、3,373./7/号
および同第3.tit。
≠10号rC記載されているものを挙けることができる
更に、特開昭jO−−460/号、声331−5t3μ
/号、特公昭!t−32弘64L号、同j6−弘Jrt
o号の各公報圧記載されている現像液も優れている。
〔発明の効果〕
本発明の光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い領
域の活性光線に対して高感度を有する。
従って光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各水鋏
灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、
メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーランプ
、蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用できる
〔実施例〕
以下実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。
実施例1〜り、比較例/ −,1 厚さo、sommのアルミニウム板をナイロンブラシと
μOOメツシュのパミストンの水懸濁液とを用いその表
面を砂目室てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化
ナトリウムに7o’cで60秒間浸漬してエツチングし
た後、流水で水洗後コOチ硝酸で中和洗浄し、次いで水
洗した。これを■え=/ 2.7Vの条件下で正弦波の
交番波形電流を用いて/チ硝酸水溶液中でitoクーロ
ン/dm2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った。
その表面粗さを測定したところ、o、tμ(Ra表示)
であった。引き続いて30%の硫酸水溶液中に浸漬しz
t 0cで2分間デスマットした後、コOチ硫酸水溶液
中、電流密度コA/dm2において陽極酸化皮膜の厚さ
が2.7g/m2になるように2分間陽極酸化処理した
このように処理されたアルミニウム板上に1下記組成の
感光性組成物を乾燥塗布重量が/、弘g/m2となるよ
うに塗布し、ro 0c2分間乾燥させ感光層を形成さ
せた。
トリメチロールプロパントリ(ア クリロイルオキシプロピル)エ ーチル             λ、Ogアリルメタ
アクリレート/メタク リル酸共重合体 (共重合モル比10/、20)    2.0g光重合
開始剤            Xgフッ素系ノニオン
界面活性剤   Q、03gメチルエチルケトン   
      +20gプロピレングリコールモノメチ ルエーテルアセテート       −0gこの感光層
上にポリビニルアルコール(ケン化度、r t 、 !
 〜J”?acル%、重合度1ooo’)o31kft
%の水溶液を乾燥塗布重量が2g7m2となるように塗
布し、10o’c/2分間乾燥させた。
感光性試験は、可視光、及びkr  レーザー光(波長
=arrnm)の各単色光を用いた。可視光はタングス
テンランプを光源としケンコー光学フイAター(Ken
ko optical  filter)BP−4Aり
を通して得た。感光測定には富士PSステップガイド(
富士写真フィルム株式会社製、初段の透過光学濃度が0
.02で順次O9/!増えていき73段まであるステッ
プタブレット)を使用した行った。感材膜面部での照度
がxtLUXで秒露光した時のPSステップガイドのク
リアー段数で示した。
なお、Ar  レーザー光での感度も次のようにして測
定した。
レーザー光HAr  レーザー(レフセル製モデルタj
−3)の波長≠r r nmのシングルラインをビーム
径2jμで使用しAr  レーザーの強度を変え、スキ
ャンした(NDフィルター使用)。
現像後に得られた線巾を測定し、27μの線巾が再現さ
れた時のAr  レーザーの強度を感度とした。
現像は、下記の現像液にコz ’C,/分間浸漬して行
った。
1”/にケイ酸カリウム         JOg(i
i ) −7 光重合開始剤として、 下記の化合物を用い、 そ の組合せを変えた時の感度の結果を表/〜3にホ(1r
r )−/ す。
(i+ ) −3 (il+ )−一 (+n ) −3 (+! )−μ (ljl ) −1 (i++ ) −a (1■)−≠ eの Ph5B  nc4Hg +N(’04Hg)4(iv
)−s e    の Ph5BOH2Ph、N(nc4H9)。
表1〜3に示された結果から、本発明の光重合性組成物
において成分(ii)、(m )を含むものは高感度で
ある。更に、成分(1■)および/または成分(V)を
含む場合は、より一層高感度になることが判る。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(i)付加重合性不飽和結合を有する重合可能な
    化合物 (ii)下記一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I a〕 又は ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I b〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I c〕 A:酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、
    アルキル又はアリール置換された 窒素原子またはジアルキル置換された炭素 原子を表わす。 Y^1:水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
    ール基、置換アリール基、アラルキル 基、アシル基、または置換アルコキシカル ボニル基を表わす。 R^1、R^2:水素原子、炭素数1〜18のアルキル
    基もしくは置換基として、R^3O−、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、−COOR^3、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、ハロゲン原子(F
    、 Cl、Br、I)を有する炭素数1〜18の置換アルキ
    ル基。但し、R^3は水素原子又は炭素数1〜10のア
    ルキル基を表わし、 Bは、ジアルキルアミノ基、水酸基、アシ ルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表 わす。 nは0〜4の整数、mは1〜20の整数を 表わす。 (iii) (イ)炭素−ハロゲン結合を有する化合物、(ロ)芳香
    族オニウム塩、 (ハ)有機過酸化物、および (ニ)下記一般式(II)で示されるチオ化合物:▲数式
    、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表
    等があります▼(II) (ここで、R^4はアルキル基、アリール基または置換
    アリール基を示し、R^5は水素原子またはアルキル基
    を示す。また、R^4とR^5は、互いに結合して酸素
    、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んで
    もよい5員ないし7員環を形成するに必要な非金属原子
    群を示す。) (ホ)ヘキサアリールビイミダゾール (へ)ケトオキシムエステル からなる群から選ばれた少なくとも1つの化合物を含有
    することを特徴とする光重合性組成物。
  2. (2)請求項1において更に、 (iv)下記一般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (ここで、R^6、R^7、R^8およびR^9は互い
    に同一でも異なつていてもよく、各々置換又は非置換の
    アルキル基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非
    置換のアルケニル基、置換又は非置換のアルキニル基、
    もしくは置換又は非置換の複素環基を示し、R^6、R
    ^7、R^8およびR^9はその2個以上の基が結合し
    て環状構造を形成してもよい。ただし、R^6、R^7
    、R^8およびR^9のうち、少なくとも1つはアルキ
    ル基である。Z^■はアルカリ金属カチオンまたは第4
    級アンモニウムカチオンを示す。) で表わされる化合物を含有することを特徴とする光重合
    性組成物。
  3. (3)請求項1または2において、更に (v)一般式(iv): ▲数式、化学式、表等があります▼(iv) ここで、Arは下記の一般式の一つから選ばれた芳香族
    基を表し、R^1、R^2は水素原子又はアルキル基を
    表し、又、R^1とR^2は互いに結合してアルキレン
    基を表しても良い。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし式中、R^1^2〜R^1^6は互いに同一で
    も異なつていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、
    アルキル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール
    基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−S−
    R^1^8基、−SO−R^1^8基又は−SO_2R
    ^1^8基を表すが、但しR^1^2〜R^1^6基の
    少なくとも一つは−S−R^1^8基、−SO−R^1
    ^8基又は−SO_2R^1^8基を表し、R^1^8
    はアルキル基、アルケニル基、R^1^7は水素原子、
    アルキル基又はアシル基を表す。 Y^2は水素原子又は▲数式、化学式、表等があります
    ▼を表す。) で表わされる化合物。 を含有することを特徴とする光重合性組成物。
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Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0695971A1 (en) 1994-08-03 1996-02-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
JP2003055341A (ja) * 2001-08-17 2003-02-26 Jsr Corp スルホニル構造を有する化合物、それを用いた感放射線性酸発生剤、ポジ型感放射線性樹脂組成物、及びネガ型感放射線性樹脂組成物
EP1635219A1 (en) 2004-08-27 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1703323A1 (en) 2005-03-18 2006-09-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, image-recording material and image-recording method
EP1757984A1 (en) 2005-08-22 2007-02-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
JP2008112186A (ja) * 2002-02-13 2008-05-15 Fujifilm Corp 電子線、euv又はx線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP2039509A1 (en) 2007-09-18 2009-03-25 FUJIFILM Corporation Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor
EP2042928A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
EP2042921A2 (en) 2007-09-26 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
EP2048539A1 (en) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
WO2009113217A1 (ja) * 2008-03-11 2009-09-17 国立大学法人京都大学 新規な光カチオン重合開始剤
WO2009116442A1 (ja) 2008-03-17 2009-09-24 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、着色感光性組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子
EP2105797A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
WO2009119610A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP2128704A2 (en) 2008-05-29 2009-12-02 Fujifilm Corporation Processing Liquid for Lithographic Printing Plate Development and Method of Producing Lithographic Printing Plates
EP2131239A1 (en) 2008-05-29 2009-12-09 Fujifilm Corporation Processing liquid for lithographic printing plate development and method of producing lithographic printing plates
EP2157478A2 (en) 2008-08-22 2010-02-24 Fujifilm Corporation Method of producing lithographic printing plate
WO2010021364A1 (ja) 2008-08-22 2010-02-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2159640A1 (en) 2008-08-29 2010-03-03 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
EP2177357A2 (en) 2008-08-29 2010-04-21 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2236497A1 (en) 2009-03-31 2010-10-06 FUJIFILM Corporation Colored curable composition, method for producing color filter, color filter, solid-state image pickup device, and liquid crystal display device
WO2013039235A1 (ja) 2011-09-15 2013-03-21 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
WO2013065853A1 (ja) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
JP2013538243A (ja) * 2010-06-28 2013-10-10 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 金属を含まない漂白用組成物
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2764769B2 (ja) * 1991-06-24 1998-06-11 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH05281728A (ja) * 1992-04-01 1993-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH0725921A (ja) * 1993-05-27 1995-01-27 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
DE4418645C1 (de) * 1994-05-27 1995-12-14 Sun Chemical Corp Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial
US5609992A (en) * 1994-11-01 1997-03-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JP3478630B2 (ja) * 1995-02-09 2003-12-15 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US5731363A (en) * 1995-03-20 1998-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition containing sensitizing dye and titanocene compound
JP3651713B2 (ja) * 1996-02-29 2005-05-25 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US6140384A (en) * 1996-10-02 2000-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition containing a sensitizing dye with cyano or substituted carbonyl groups
US5837586A (en) * 1997-02-14 1998-11-17 Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. 4-(alkoxyhydroxy)styryl triazine photinitiators and photo sensitive composition
BR9807790B1 (pt) * 1997-02-26 2010-05-18 bases fotoativadas contendo nitrogênio baseadas em alfa-amÈnio cetonas, imìnio cetonas ou amidìnio cetonas e aril boratos, composição que as contém e processo para execução de reações catalisadas por base.
US6551761B1 (en) 1997-02-26 2003-04-22 Ciba Specialty Chemical Corporation Photoactivatable nitrogen-containing bases based on α-ammonium ketones, iminium ketones or amidinium ketones and aryl borates
US6473220B1 (en) 1998-01-22 2002-10-29 Trivium Technologies, Inc. Film having transmissive and reflective properties
JP3238369B2 (ja) * 1998-04-10 2001-12-10 ソニーケミカル株式会社 フォトレジスト用組成物、及びフレキシブルプリント配線板の製造方法
JP2006171015A (ja) * 2000-06-02 2006-06-29 Hodogaya Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性材料
JP2002139833A (ja) * 2000-11-02 2002-05-17 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物および感光感熱記録材料
JP4512281B2 (ja) 2001-02-22 2010-07-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
JP4266077B2 (ja) 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US7595934B2 (en) 2002-03-26 2009-09-29 Brilliant Film Llc Integrated sub-assembly having a light collimating or transflecting device
US7345824B2 (en) * 2002-03-26 2008-03-18 Trivium Technologies, Inc. Light collimating device
US6900003B2 (en) * 2002-04-12 2005-05-31 Shipley Company, L.L.C. Photoresist processing aid and method
JP2004126050A (ja) 2002-09-30 2004-04-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
DE60327141D1 (de) 2002-09-30 2009-05-28 Fujifilm Corp Polymerisierbare Zusammensetzung und Flachdruckplattenvorläufer
JP4137577B2 (ja) 2002-09-30 2008-08-20 富士フイルム株式会社 感光性組成物
EP1431032B1 (en) 2002-12-18 2015-12-09 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor
JP4150261B2 (ja) 2003-01-14 2008-09-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の製版方法
JP2004252201A (ja) 2003-02-20 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US7573550B2 (en) * 2003-05-20 2009-08-11 Brilliant Film, Llc Devices for use in non-emissive displays
JP4299639B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-22 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
JP2005099284A (ja) 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及び平版印刷版原版
US8226253B2 (en) 2008-02-27 2012-07-24 Lubart Neil D Concentrators for solar power generating systems

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1286898B (de) * 1965-11-10 1969-01-09 Kalle Ag Lichtempfindliche Schicht
US4062686A (en) * 1976-04-21 1977-12-13 Eastman Kodak Company Sensitizers for photocrosslinkable polymers
JPS5928326B2 (ja) * 1976-12-02 1984-07-12 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPS5928328B2 (ja) * 1977-11-29 1984-07-12 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPS5495687A (en) * 1978-01-11 1979-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS6053300B2 (ja) * 1978-08-29 1985-11-25 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
US4282309A (en) * 1979-01-24 1981-08-04 Agfa-Gevaert, N.V. Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer
JPS5989303A (ja) * 1982-11-12 1984-05-23 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPS6076735A (ja) * 1983-10-04 1985-05-01 Agency Of Ind Science & Technol 光硬化樹脂組成物
US4636459A (en) * 1985-03-06 1987-01-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable compositions
US4950581A (en) * 1987-07-06 1990-08-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JP2538992B2 (ja) * 1987-07-21 1996-10-02 三菱化学株式会社 光重合性組成物

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0695971A1 (en) 1994-08-03 1996-02-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
JP2003055341A (ja) * 2001-08-17 2003-02-26 Jsr Corp スルホニル構造を有する化合物、それを用いた感放射線性酸発生剤、ポジ型感放射線性樹脂組成物、及びネガ型感放射線性樹脂組成物
JP4701231B2 (ja) * 2002-02-13 2011-06-15 富士フイルム株式会社 電子線、euv又はx線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2008112186A (ja) * 2002-02-13 2008-05-15 Fujifilm Corp 電子線、euv又はx線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
EP3051349A1 (en) 2003-07-29 2016-08-03 FUJIFILM Corporation Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof
EP1635219A1 (en) 2004-08-27 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP3182204A1 (en) 2004-09-10 2017-06-21 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition
EP2109000A1 (en) 2004-09-10 2009-10-14 FUJIFILM Corporation Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same
EP1703323A1 (en) 2005-03-18 2006-09-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, image-recording material and image-recording method
EP1757984A1 (en) 2005-08-22 2007-02-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
EP1930770A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Imaging recording material and novel compound
EP1975707A1 (en) 2007-03-27 2008-10-01 Fujifilm Corporation Curable composition and planographic printing plate precursor
EP2048539A1 (en) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
EP2039509A1 (en) 2007-09-18 2009-03-25 FUJIFILM Corporation Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor
EP2042921A2 (en) 2007-09-26 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
EP2042532A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound
EP2042928A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
WO2009113217A1 (ja) * 2008-03-11 2009-09-17 国立大学法人京都大学 新規な光カチオン重合開始剤
US8293809B2 (en) 2008-03-11 2012-10-23 Kyoto University Cationic photopolymerization initiator
JPWO2009113217A1 (ja) * 2008-03-11 2011-07-21 国立大学法人京都大学 新規な光カチオン重合開始剤
WO2009116442A1 (ja) 2008-03-17 2009-09-24 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、着色感光性組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子
WO2009119610A1 (ja) 2008-03-25 2009-10-01 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2105797A1 (en) 2008-03-25 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2131239A1 (en) 2008-05-29 2009-12-09 Fujifilm Corporation Processing liquid for lithographic printing plate development and method of producing lithographic printing plates
EP2128704A2 (en) 2008-05-29 2009-12-02 Fujifilm Corporation Processing Liquid for Lithographic Printing Plate Development and Method of Producing Lithographic Printing Plates
WO2010021364A1 (ja) 2008-08-22 2010-02-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2157478A2 (en) 2008-08-22 2010-02-24 Fujifilm Corporation Method of producing lithographic printing plate
EP2159640A1 (en) 2008-08-29 2010-03-03 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
EP2177357A2 (en) 2008-08-29 2010-04-21 Fujifilm Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
EP2236497A1 (en) 2009-03-31 2010-10-06 FUJIFILM Corporation Colored curable composition, method for producing color filter, color filter, solid-state image pickup device, and liquid crystal display device
JP2013538243A (ja) * 2010-06-28 2013-10-10 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 金属を含まない漂白用組成物
US9657435B2 (en) 2010-06-28 2017-05-23 Basf Se Metal free bleaching composition
WO2013039235A1 (ja) 2011-09-15 2013-03-21 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
WO2013065853A1 (ja) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法

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EP0377321B1 (en) 1995-03-22
JP2571113B2 (ja) 1997-01-16
US5049481A (en) 1991-09-17

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