JPH02168408A - 記録再生用磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
記録再生用磁気ヘッドおよびその製造方法Info
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- JPH02168408A JPH02168408A JP1207717A JP20771789A JPH02168408A JP H02168408 A JPH02168408 A JP H02168408A JP 1207717 A JP1207717 A JP 1207717A JP 20771789 A JP20771789 A JP 20771789A JP H02168408 A JPH02168408 A JP H02168408A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 280
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 24
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 18
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 12
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 7
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 14
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 7
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017112 Fe—C Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/17—Construction or disposition of windings
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、磁気テープ、6J&気デイスク等の磁気記録
媒体対して、記録再生を行うことができる記録再生用磁
気ヘッド、およびその製造方法に関する。
媒体対して、記録再生を行うことができる記録再生用磁
気ヘッド、およびその製造方法に関する。
[従来の技術]
磁気記録媒体に情報の記録および再生を行う従来の記録
再生用磁気ヘッドとしては、例えば、薄膜形成技術を用
いた特開昭50−93127号公報に記載されたものが
ある。
再生用磁気ヘッドとしては、例えば、薄膜形成技術を用
いた特開昭50−93127号公報に記載されたものが
ある。
前記記録再生用磁気ヘッドは、磁気抵抗効果素子と、そ
の両側に、Ma膜と、励磁用のコイルが形成されている
導電性薄膜と、磁気ボールを形成する軟磁性薄膜とが形
成されている膜構造体が、ヘッド基体の一端に、形成さ
れているものである。
の両側に、Ma膜と、励磁用のコイルが形成されている
導電性薄膜と、磁気ボールを形成する軟磁性薄膜とが形
成されている膜構造体が、ヘッド基体の一端に、形成さ
れているものである。
しかしながら、前記記録再生用磁気ヘッドは、記録ギャ
ップとなる軟磁性薄膜相互間に、磁気抵抗効果素子、絶
縁膜、導電性薄膜とが形成されているため、記録ギャッ
プを狭めることが難しく、記録媒体の記録密度を向上さ
せることが困難であるという問題点があったに の問題点を解決するものとして、特開昭51−1484
11号公報に記載されてものがある。
ップとなる軟磁性薄膜相互間に、磁気抵抗効果素子、絶
縁膜、導電性薄膜とが形成されているため、記録ギャッ
プを狭めることが難しく、記録媒体の記録密度を向上さ
せることが困難であるという問題点があったに の問題点を解決するものとして、特開昭51−1484
11号公報に記載されてものがある。
前記記録再生用磁気ヘッドは、励磁用のコイルが形成さ
れている導電性薄膜とその両側に軟磁性薄膜とを形成し
、記録ギャップを狭めることができるように軟磁性薄膜
相互間には、磁気抵抗素子を設けずに、軟磁性膜の外側
に隣接させて、磁気抵抗効果素子とその両側に磁気シー
ルドのための磁性膜とを、ヘッド基体の一端に形成した
ものである。
れている導電性薄膜とその両側に軟磁性薄膜とを形成し
、記録ギャップを狭めることができるように軟磁性薄膜
相互間には、磁気抵抗素子を設けずに、軟磁性膜の外側
に隣接させて、磁気抵抗効果素子とその両側に磁気シー
ルドのための磁性膜とを、ヘッド基体の一端に形成した
ものである。
また、いわゆるバルク型の記録再生用磁気ヘッドでは、
特開昭60−121506号公報に記載されたものがあ
るが、これは、非常に幅の狭い再生トラック幅に形成さ
れている磁気抵抗効果素子の両側に直接リード線を接続
することは、接続箇所が設けられていないために、非常
に難しく、また、磁気抵抗効果素子の位置決めも非常に
難しく、開示されている技術だけでは、製品製造の実現
性が乏しいと思われる。
特開昭60−121506号公報に記載されたものがあ
るが、これは、非常に幅の狭い再生トラック幅に形成さ
れている磁気抵抗効果素子の両側に直接リード線を接続
することは、接続箇所が設けられていないために、非常
に難しく、また、磁気抵抗効果素子の位置決めも非常に
難しく、開示されている技術だけでは、製品製造の実現
性が乏しいと思われる。
[発明が解決しようとする課H]
前述した薄膜成形技術を用いたものは、再生磁界を検出
する磁気抵抗素子と記り磁界を発生する軟磁性膜とが、
薄膜で形成されているため、S/N比、記録再生特性、
記録密度の向上の点に関して、優れたものである。
する磁気抵抗素子と記り磁界を発生する軟磁性膜とが、
薄膜で形成されているため、S/N比、記録再生特性、
記録密度の向上の点に関して、優れたものである。
しかしながら、薄膜成型技術を用いた記録再生用磁気ヘ
ッドは、いずれも、磁気抵抗効果素子。
ッドは、いずれも、磁気抵抗効果素子。
絶縁膜、導電性薄膜、軟磁性膜を形成しなけらばならず
、膜形成工程が多い、特に、特開昭51−148411
号公報に記載されているものでは、記録密度を向上には
適しているが、磁気シールドのための磁性膜が設けられ
ているため、さらに、膜形成工程が多くなり、製造コス
トが嵩むという問題点があった。
、膜形成工程が多い、特に、特開昭51−148411
号公報に記載されているものでは、記録密度を向上には
適しているが、磁気シールドのための磁性膜が設けられ
ているため、さらに、膜形成工程が多くなり、製造コス
トが嵩むという問題点があった。
また、励磁用のコイルが形成されている導電性薄膜は、
コイルを形成する上で、多数の製造工程を必要とし、特
に、磁力を強めて高記録密度を実現するために、コイル
を複数層形成する場合においては、さらに製造工程が多
くなるとともに、製品の歩留が低くなり、製造コストが
嵩んでしまう。
コイルを形成する上で、多数の製造工程を必要とし、特
に、磁力を強めて高記録密度を実現するために、コイル
を複数層形成する場合においては、さらに製造工程が多
くなるとともに、製品の歩留が低くなり、製造コストが
嵩んでしまう。
今日、磁気記録再生装置を取り扱う家電業界やコンピュ
ータ業界では、前述したような記録再生特性等の諸特性
が優れた高品質のものについて、いかに低価格化を実現
するか凌ぎを削っている。
ータ業界では、前述したような記録再生特性等の諸特性
が優れた高品質のものについて、いかに低価格化を実現
するか凌ぎを削っている。
本発明の目的は、このような従来技術の問題点について
着目してなされたもので、S/N比や記録再生特性に優
れ、記O@度を上げることができるとともに、製品製造
工程が少なく製造コストを低減することができる記録再
生用磁気ヘッドを提供することである。
着目してなされたもので、S/N比や記録再生特性に優
れ、記O@度を上げることができるとともに、製品製造
工程が少なく製造コストを低減することができる記録再
生用磁気ヘッドを提供することである。
[課題を解決するための手段]
かかる目的を達成するための記録再生用磁気ヘッドは。
コイルが巻かれる第1の磁路形成部材と、前記第1の磁
路形成部材とともに、磁路を形成する第2の磁路形成部
材と。
路形成部材とともに、磁路を形成する第2の磁路形成部
材と。
前記第1の磁路形成部材と前記第2の磁路形成部材との
フロントギャップ部に形成され、磁界の変化を検出する
磁気検出素子と、軟磁性膜とを有する膜構造体とを備え
ていることを特徴とするものである。
フロントギャップ部に形成され、磁界の変化を検出する
磁気検出素子と、軟磁性膜とを有する膜構造体とを備え
ていることを特徴とするものである。
ここで、前記第1の磁路形成部材と第2の磁路形成部材
とは、共に、磁性材で形成されているものでもよい、ま
た、共に、非磁性部材と磁路を形成する磁性材とで形成
されているものでもよい。
とは、共に、磁性材で形成されているものでもよい、ま
た、共に、非磁性部材と磁路を形成する磁性材とで形成
されているものでもよい。
また、いずれか一方が、磁性材で、他方が、非磁性部材
と磁路を形成する磁性材で形成されているものでもよい
。
と磁路を形成する磁性材で形成されているものでもよい
。
なお、前記磁気検出素子に対して、前記軟磁性膜を有す
る側に、非磁性部材と磁路を形成する磁性材とで形成さ
れる磁路形成部材が有する場合には、前記軟磁性膜が、
磁路を形成する前記磁性材を形成してもよい。また、磁
路形成部材が磁性材で形成されている場合にも、前記軟
磁性膜が磁路を形成するようにしてもよい。
る側に、非磁性部材と磁路を形成する磁性材とで形成さ
れる磁路形成部材が有する場合には、前記軟磁性膜が、
磁路を形成する前記磁性材を形成してもよい。また、磁
路形成部材が磁性材で形成されている場合にも、前記軟
磁性膜が磁路を形成するようにしてもよい。
なお、前記磁性材は、Ni−ZnフェライトまたはMn
−Znフェライトで形成されていることが好ましC)。
−Znフェライトで形成されていることが好ましC)。
また、前記非磁性材は、アルミナ。
アルミナチタンカーバイト、ジルコニア等の耐摩耗性を
有する非磁性セラミックで、形成することが好ましい。
有する非磁性セラミックで、形成することが好ましい。
また、前記軟磁性膜を前記磁気検出素子のいずれか一方
にのみ設ける場合には、トレーリング側に設けることが
好ましい。
にのみ設ける場合には、トレーリング側に設けることが
好ましい。
前記第1の磁路形成部材と前記第2の磁路形成部材との
バックギャップ部には、該第1の磁路形成部材と前記第
2の磁路形成部材とを磁気的に接続する軟磁性膜を有す
ることが好ましい。
バックギャップ部には、該第1の磁路形成部材と前記第
2の磁路形成部材とを磁気的に接続する軟磁性膜を有す
ることが好ましい。
また、前記磁気検出素子に隣接させて絶縁性を有する非
磁性膜を形成して、該非磁性膜上に、前記磁気検出素子
に電流を供給する引出導体を設け。
磁性膜を形成して、該非磁性膜上に、前記磁気検出素子
に電流を供給する引出導体を設け。
該引出導体の端部に、引出線が接続される引出線接続用
パッドを設けることが好ましい。
パッドを設けることが好ましい。
前記軟磁性膜の膜厚は、記録磁界が形成される記録ギャ
ップの間隔より、厚いことが好ましい。
ップの間隔より、厚いことが好ましい。
前記軟磁性膜のトラック幅方向の長さは、前記磁気検出
素子のトラック幅方向の長さより、長いことが好ましい
。
素子のトラック幅方向の長さより、長いことが好ましい
。
前記フロントギャップ部のトラック幅方向の長さは、前
記軟磁性膜のトラック幅方向の長さより、長いことが好
ましい。
記軟磁性膜のトラック幅方向の長さより、長いことが好
ましい。
前記第1の磁路形成部材のコイルが巻かれる部位のトラ
ック幅方向長さは、前記フロントギャップ部のトラック
幅方向の長さとバンクギャップ部のトラック幅方向の長
さとのうちいずれか短い方より、短いことが好ましい。
ック幅方向長さは、前記フロントギャップ部のトラック
幅方向の長さとバンクギャップ部のトラック幅方向の長
さとのうちいずれか短い方より、短いことが好ましい。
また、磁路を形成すべく、前記第1の磁路形成部材と前
記第2の磁路形成部材とが、互いに接合する少なくとも
一方の接合面に、接着剤が流れ込む四部を形成してもよ
い。
記第2の磁路形成部材とが、互いに接合する少なくとも
一方の接合面に、接着剤が流れ込む四部を形成してもよ
い。
また、前記第2の磁路形成部材に対して、2以上の前記
第1の磁路形成部材を設けてもよい。
第1の磁路形成部材を設けてもよい。
また、前記記録再生用磁気ヘッドは、前記第2の磁路形
成部材が、イl上面を有するスライダー部材を形成し、
前記第1の磁路形成部材が、コア部材を形成する浮上型
記録再生用磁気ヘッドでもよい。
成部材が、イl上面を有するスライダー部材を形成し、
前記第1の磁路形成部材が、コア部材を形成する浮上型
記録再生用磁気ヘッドでもよい。
ここで、前記スライダー部材の前記コア部材と対向する
面に、前記コア部材に巻かれるコイルを回避するための
コイル用回避部を形成して、前記コア部材に前記膜構造
体を形成してもよい。
面に、前記コア部材に巻かれるコイルを回避するための
コイル用回避部を形成して、前記コア部材に前記膜構造
体を形成してもよい。
前記磁気検出素子は、磁気抵抗効果素子またはホール素
子に、バイアス磁界を印加するシャント暎、永久磁石膜
、ソフトフィルム股、バーバーポール膜等を被着したも
のが好ましい。
子に、バイアス磁界を印加するシャント暎、永久磁石膜
、ソフトフィルム股、バーバーポール膜等を被着したも
のが好ましい。
なお、フロントギャップとは、記録媒体側の第1の磁路
形成部材と第2の磁路形成部材との間に。
形成部材と第2の磁路形成部材との間に。
形成されるギャップのことで、フロントギャップ部は、
フロントギャップを形成する第1の磁路形成部材と第2
の磁路形成部材の壁面およびその近傍をも含んでいる。
フロントギャップを形成する第1の磁路形成部材と第2
の磁路形成部材の壁面およびその近傍をも含んでいる。
。
また、バックギャップとは、前言己フロントギャップに
対して、記録媒体に遠い側の第1の磁路形成部材と第2
の磁路形成部材との間に、形成されるギャップのことで
、バックギャップ部も、フロントギャップ部と同様に、
バックギャップを形成する第1の磁性部材と第2の磁性
部材の壁面およびその近傍を含んでいる。
対して、記録媒体に遠い側の第1の磁路形成部材と第2
の磁路形成部材との間に、形成されるギャップのことで
、バックギャップ部も、フロントギャップ部と同様に、
バックギャップを形成する第1の磁性部材と第2の磁性
部材の壁面およびその近傍を含んでいる。
また、前記目的を達成するための記録再生用磁気ヘッド
の製造方法は、 記録再生用磁気ヘッドの母材となるヘット基体に、磁界
の変化を検出する磁気検出素子と軟磁性膜とを薄膜形成
して膜構造体を形成し、前記膜構造体が形成された前記
ヘッド基体に、コア部材を接合し、前記コア部材にコイ
ルを設けることを特徴とするものである。
の製造方法は、 記録再生用磁気ヘッドの母材となるヘット基体に、磁界
の変化を検出する磁気検出素子と軟磁性膜とを薄膜形成
して膜構造体を形成し、前記膜構造体が形成された前記
ヘッド基体に、コア部材を接合し、前記コア部材にコイ
ルを設けることを特徴とするものである。
なお、前記ヘッド基体は、前記コア部材に接合されるも
う一方のコア部材を形成してもよい、また、スライダー
部材を形成してもよい。
う一方のコア部材を形成してもよい、また、スライダー
部材を形成してもよい。
[作用]
軟磁性膜が、磁気検出素子の両側に有するものでは、記
録時、コイルに所望の信号電流を流すと。
録時、コイルに所望の信号電流を流すと。
それぞれの軟磁性膜が磁気ポールとなり、軟磁性膜相互
間に、記録磁界が発生して、記録媒体が磁化されて所望
の信号が記録される。
間に、記録磁界が発生して、記録媒体が磁化されて所望
の信号が記録される。
また、磁気検出素子の第1の磁路形成部材または第2の
磁路形成部材のいずれか一方の側のみに軟磁性膜を有す
るものでは、軟磁性膜と他方の磁路形成部材とが磁気ポ
ールと成り、軟磁性膜と前記他方の磁路形成部材との間
に、記録磁界が発生して所望の信号が記録される。
磁路形成部材のいずれか一方の側のみに軟磁性膜を有す
るものでは、軟磁性膜と他方の磁路形成部材とが磁気ポ
ールと成り、軟磁性膜と前記他方の磁路形成部材との間
に、記録磁界が発生して所望の信号が記録される。
記録媒体への情報の記録は、トレーリング側に形成され
る記録磁界で行われるが、トレーリング側に軟磁性膜が
設けられていると、記録磁界が前記軟磁性膜に集中し、
シャープな記録磁界で、情報を記録することができ、高
保磁力の磁気記録媒体にも高密度で記録品質の良い記録
が行える。
る記録磁界で行われるが、トレーリング側に軟磁性膜が
設けられていると、記録磁界が前記軟磁性膜に集中し、
シャープな記録磁界で、情報を記録することができ、高
保磁力の磁気記録媒体にも高密度で記録品質の良い記録
が行える。
磁気ポールと成る軟磁性膜の膜厚の長さが、記録ギャッ
プと同等以上であれば、一方の磁気ポールと成る軟磁性
膜または磁路形成部材とそれに対して磁気検出素子を介
して有する磁路形成部材との間の距離が、記録ギャップ
の2倍以上の長さに成り、磁気検出素子に対して軟磁性
膜よりさらに外側に有する磁路形成部材は、磁気ポール
とは成りえず、確実に所望の軟磁性膜および磁路形成部
材が磁気ポールを形成することができる。
プと同等以上であれば、一方の磁気ポールと成る軟磁性
膜または磁路形成部材とそれに対して磁気検出素子を介
して有する磁路形成部材との間の距離が、記録ギャップ
の2倍以上の長さに成り、磁気検出素子に対して軟磁性
膜よりさらに外側に有する磁路形成部材は、磁気ポール
とは成りえず、確実に所望の軟磁性膜および磁路形成部
材が磁気ポールを形成することができる。
また、磁路形成部材が、非磁性材を有して構成するのも
では、非磁性材を耐摩耗性を有する非磁性セラミックス
を選定すると、磁路形成部材の寿命を長くすることがで
きる。
では、非磁性材を耐摩耗性を有する非磁性セラミックス
を選定すると、磁路形成部材の寿命を長くすることがで
きる。
また、前記軟磁性膜を高飽和磁束密度の磁性材で形成す
ると、磁気飽和が起こりに<<、高保磁力の記録媒体に
も、充分な磁化状態を残せる記録磁界を発生させること
ができ、記録密度を向上させることができる。
ると、磁気飽和が起こりに<<、高保磁力の記録媒体に
も、充分な磁化状態を残せる記録磁界を発生させること
ができ、記録密度を向上させることができる。
再生時には、記録媒体に記録された信号の再生磁界が磁
気検出素子で読み取られる。
気検出素子で読み取られる。
この際、磁気抵抗効果膜等で構成される磁気検出素子で
再生しているため、誘導形の再生ヘッドのような擬似ギ
ャップによるゴースト等のノイズは発生せず、また、軟
磁性膜が、磁気シールドと成るため、再生磁界以外の外
部磁界を読み取ることがなく、S/N比を良くすること
ができる。
再生しているため、誘導形の再生ヘッドのような擬似ギ
ャップによるゴースト等のノイズは発生せず、また、軟
磁性膜が、磁気シールドと成るため、再生磁界以外の外
部磁界を読み取ることがなく、S/N比を良くすること
ができる。
軟磁性膜のトラック幅方向の長さを磁気検出素子のトラ
ック幅方向の長さより、長くしたものでは、記録再生用
磁気ヘッドの記録媒体に対するトラック位置決め誤差に
より生ずるノイズ記録領域の読み出しを防ぐことができ
、S/N比を良くすることができる。
ック幅方向の長さより、長くしたものでは、記録再生用
磁気ヘッドの記録媒体に対するトラック位置決め誤差に
より生ずるノイズ記録領域の読み出しを防ぐことができ
、S/N比を良くすることができる。
また、磁気検出素子および軟磁性膜は、フォトリソグラ
フィ技術等によりバターニングすることができるので、
それぞれの寸法、絶対的な位置、相対的な位置を、容易
に、かつ、高精度に、所望の寸法および位置に合わせる
ことができる。
フィ技術等によりバターニングすることができるので、
それぞれの寸法、絶対的な位置、相対的な位置を、容易
に、かつ、高精度に、所望の寸法および位置に合わせる
ことができる。
したがって、軟磁性膜と磁気検出素子のトラック幅方向
の中心位置のズレを極めて小さくすることができるので
、前記ノイズ記録領域の読み出し防止のために、再生ト
ラック幅となる磁気検出素子のトラック幅方向の長さを
、記録トラック幅となる軟磁性膜のトラック幅方向の長
さより短くする量を、無駄なく設定して少なくすること
ができ。
の中心位置のズレを極めて小さくすることができるので
、前記ノイズ記録領域の読み出し防止のために、再生ト
ラック幅となる磁気検出素子のトラック幅方向の長さを
、記録トラック幅となる軟磁性膜のトラック幅方向の長
さより短くする量を、無駄なく設定して少なくすること
ができ。
軟磁性膜のトラック幅方向の長さを長くすることができ
、S/N比を良くすることができる。
、S/N比を良くすることができる。
また、記録特性および再生特性に大きく影響を与える要
因の1つである軟磁性膜のギャップ深さと、磁気検出素
子の記録媒体対向面からの深さと、軟磁性膜と磁気検出
素子との相対的な位置関係とを、精度良く、かつ、容易
に仕上げることができるので、記録特性および再生特性
を良くすること′ができる。
因の1つである軟磁性膜のギャップ深さと、磁気検出素
子の記録媒体対向面からの深さと、軟磁性膜と磁気検出
素子との相対的な位置関係とを、精度良く、かつ、容易
に仕上げることができるので、記録特性および再生特性
を良くすること′ができる。
このように、軟磁性膜と磁気検出素子とを薄膜形成技術
により形成すると、前記諸特性のバラツキを小さくする
ことができるととものに、高品質のものを高歩留で生産
することができる。
により形成すると、前記諸特性のバラツキを小さくする
ことができるととものに、高品質のものを高歩留で生産
することができる。
磁気ポールを形成する軟磁性膜を、磁路形成部材とは別
に設けたので、フロントギャップ部のトラック幅方向の
長さは、軟磁性膜のトラック幅方向の長さである記録ト
ラック幅に依存することなく長くすることができるため
、フロントギャップ部での第1の磁路形成部材と第2の
磁性部材との接合面の面積を大きくすることができ、フ
ロントギャップ部での接合強度を高めることができる。
に設けたので、フロントギャップ部のトラック幅方向の
長さは、軟磁性膜のトラック幅方向の長さである記録ト
ラック幅に依存することなく長くすることができるため
、フロントギャップ部での第1の磁路形成部材と第2の
磁性部材との接合面の面積を大きくすることができ、フ
ロントギャップ部での接合強度を高めることができる。
また、逆に言えば、記録トラック幅となる軟磁性膜のト
ラック幅方向の長さを、フロントギャップ部におけるト
ラック幅方向の長さに、依存することなく小さくするこ
とができるので、記録密度を向上させることができる。
ラック幅方向の長さを、フロントギャップ部におけるト
ラック幅方向の長さに、依存することなく小さくするこ
とができるので、記録密度を向上させることができる。
磁気検出素子を、絶縁性を有する非磁性膜上に形成し、
その非磁性膜上に引出導体を形成するとともに、引出線
接続用パッドを設けたものでは、引出線を接続する部位
が確保されているので、引出線の接続が容易になるとと
もに、バイアス磁界を印加するための電流を磁気検出素
子に供給する外部回路と、磁気検出素子との接続信頼性
を高めることができる。
その非磁性膜上に引出導体を形成するとともに、引出線
接続用パッドを設けたものでは、引出線を接続する部位
が確保されているので、引出線の接続が容易になるとと
もに、バイアス磁界を印加するための電流を磁気検出素
子に供給する外部回路と、磁気検出素子との接続信頼性
を高めることができる。
第1の磁路形成部材のコイルが巻かれる部位のトラック
幅方向長さを、フロントギャップ部のトラック幅方向の
長さとバックギャップ部のトラック幅方向の長さとのう
ち短い方より、短くシて、第1の磁路形成部材のコイル
が巻かれる部位を細くしたものでは、第1の磁路形成部
材を軽量化することができるとともに、第1の磁路形成
部材のコイルが巻かれる部位の中心からコイルの最外周
部までの距離を短くすることができ、コイルの慣性モー
メントを小さくすることができるので、記録媒体の上下
の変動に対する浮上量の変動や、所定のトラック位置へ
の移動に対する浮上量の変動における磁気ヘッドの追従
性を高めることができる。
幅方向長さを、フロントギャップ部のトラック幅方向の
長さとバックギャップ部のトラック幅方向の長さとのう
ち短い方より、短くシて、第1の磁路形成部材のコイル
が巻かれる部位を細くしたものでは、第1の磁路形成部
材を軽量化することができるとともに、第1の磁路形成
部材のコイルが巻かれる部位の中心からコイルの最外周
部までの距離を短くすることができ、コイルの慣性モー
メントを小さくすることができるので、記録媒体の上下
の変動に対する浮上量の変動や、所定のトラック位置へ
の移動に対する浮上量の変動における磁気ヘッドの追従
性を高めることができる。
第1の磁路形成部材と第2のa路形成部材とが、互いに
接合する少なくとも一方の接合面に、凹部が形成されて
いるものでは、接着剤を前記接合面に塗布する際、接着
剤が、凹部に流れ込み、確実に接合面に有することにな
るので、第1の磁路形成部材と第2の磁路形成部材との
接続信頼性を高めることができる。
接合する少なくとも一方の接合面に、凹部が形成されて
いるものでは、接着剤を前記接合面に塗布する際、接着
剤が、凹部に流れ込み、確実に接合面に有することにな
るので、第1の磁路形成部材と第2の磁路形成部材との
接続信頼性を高めることができる。
スライダー部材のコア部材との対向する面に、コイルを
回避するためのコイル用回避部を形成したものでは、ス
ライダー部材を軽量化できるとともに、コア部材にコイ
ル用回避部を設けなくてもよいので、コア部材の記録媒
体に対する相対的移動方向の長さを短くすることができ
て、コア部材を軽量化することができる。
回避するためのコイル用回避部を形成したものでは、ス
ライダー部材を軽量化できるとともに、コア部材にコイ
ル用回避部を設けなくてもよいので、コア部材の記録媒
体に対する相対的移動方向の長さを短くすることができ
て、コア部材を軽量化することができる。
また、本発明に係る各種記録再生用磁気ヘッドは、薄膜
形成技術により形成するコイルおよびそれに供なう絶縁
膜を必要としないので、薄膜形成工程を少なくすること
ができる。特に、記録磁界を強めて記録密度を高めよう
とする際には、より成膜工程が多くなりかつ複雑になる
薄膜コイルを有しないので、その効果は、顕著である。
形成技術により形成するコイルおよびそれに供なう絶縁
膜を必要としないので、薄膜形成工程を少なくすること
ができる。特に、記録磁界を強めて記録密度を高めよう
とする際には、より成膜工程が多くなりかつ複雑になる
薄膜コイルを有しないので、その効果は、顕著である。
(以下余白)
[実施例]
以下、本発明の各種実施例を図に基づき説明する。
なお、各種実施例につき、同一の部位には、同一の符号
を付し、その説明を省略する。
を付し、その説明を省略する。
記録再生用磁気ヘッドの第1の実施例について、第1図
〜第7図に基づき説明する。
〜第7図に基づき説明する。
なお、本実施例は、記録再生用磁気ヘッドの一般的な構
成を示すための実施例である。
成を示すための実施例である。
第1図に示すように、励磁用のコイル12が巻かれ第1
の磁路形成部材を形成する第1の磁性部材10に、第2
の磁性部材21が接合されている。
の磁路形成部材を形成する第1の磁性部材10に、第2
の磁性部材21が接合されている。
第1の磁性部材10と第2の磁性部材21とは。
Ni−ZnフェライトやMn−Znフェライトの多粘品
材または単結晶材で形成されている。
材または単結晶材で形成されている。
第2の磁性部材21の第1の磁性部材10と対向する面
には、A1□O4や5in2などからなる絶縁性を有す
る非磁性膜6を介して、記録時の一方の磁気ボールとな
る第2の軟磁性膜2が形成されている。
には、A1□O4や5in2などからなる絶縁性を有す
る非磁性膜6を介して、記録時の一方の磁気ボールとな
る第2の軟磁性膜2が形成されている。
第1の磁路形成部材とともに磁路を形成する第2の磁路
形成部材2oは、第2の磁性部材21と非磁性膜6と第
2の軟磁性膜2とで構成されている。
形成部材2oは、第2の磁性部材21と非磁性膜6と第
2の軟磁性膜2とで構成されている。
記録時のもう一方の磁気ポールとなる第1の軟磁性膜4
は、第2の軟磁性膜2と第1の軟磁性膜4との間に、記
録ギャップを形成すべく、第2の軟磁性膜2上に、Al
2O3やSiO□などからなる絶縁性を有する非磁性膜
7,22を介して、形成されている。
は、第2の軟磁性膜2と第1の軟磁性膜4との間に、記
録ギャップを形成すべく、第2の軟磁性膜2上に、Al
2O3やSiO□などからなる絶縁性を有する非磁性膜
7,22を介して、形成されている。
非磁性膜7,22間のフロントギャップ側には、磁気検
出素子3が設けられている。
出素子3が設けられている。
磁気検出素子3は、磁気抵抗効果膜(以下、MR膜)と
、MR膜にバイアス磁界を印加するシャント膜とで構成
されている。
、MR膜にバイアス磁界を印加するシャント膜とで構成
されている。
MR膜は、外部から応力を受けても、その磁気抵抗効果
特性に影響が表われる事が少ないよう、逆磁歪定数がゼ
ロに近い1例えば、Niが80〜83%、Feが20〜
17%のパーマロイ材等の材料を用いるのが望ましい。
特性に影響が表われる事が少ないよう、逆磁歪定数がゼ
ロに近い1例えば、Niが80〜83%、Feが20〜
17%のパーマロイ材等の材料を用いるのが望ましい。
また1MR膜の厚さは、優れた磁気抵抗効果特性を示す
約200〜900人程度であることが望ましい。
約200〜900人程度であることが望ましい。
非磁性膜7のバックギャップ側には、第1の磁性部材1
0と第2の軟磁性膜2とを磁気的に接続するためのバッ
クギャップ軟磁性膜5が、形成されている。
0と第2の軟磁性膜2とを磁気的に接続するためのバッ
クギャップ軟磁性膜5が、形成されている。
バックギャップ軟磁性膜5は、非磁性膜7゜22を賞通
し、第2の軟磁性膜2と接続されている。
し、第2の軟磁性膜2と接続されている。
前述した第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性膜2は、
再生時に磁気検出素子3に対する磁気シールドの役目を
する。
再生時に磁気検出素子3に対する磁気シールドの役目を
する。
前記磁気シールドは、既知のごとく記録媒体から情報を
再生する際、再生磁界以外の外部磁界をシールドし、再
生分解能を良くするためのものであが、第1の軟磁性膜
4および第2の軟磁性膜2の膜厚は、直接再生分解能に
は関係しない、一方、再生分解能に直接影響を与えるの
は、シールド間隔即ち第1の軟磁性膜10と第2の軟磁
性膜20の間隔で、第4図でGQ、で示される長さであ
る。
再生する際、再生磁界以外の外部磁界をシールドし、再
生分解能を良くするためのものであが、第1の軟磁性膜
4および第2の軟磁性膜2の膜厚は、直接再生分解能に
は関係しない、一方、再生分解能に直接影響を与えるの
は、シールド間隔即ち第1の軟磁性膜10と第2の軟磁
性膜20の間隔で、第4図でGQ、で示される長さであ
る。
したがって、再生時における磁気シールド効果を得るた
めの第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性膜2の膜厚は
、第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性膜2の磁気抵抗
をMR膜の磁気抵抗と同じレベルとなる程薄くしないか
ぎり、自由に選定する事が可能であり、言い替えれば、
第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性膜2の膜厚は、M
R膜と同程度の透磁率を有している材質であれば、MR
膜の膜厚に比し充分に厚い約0.5μm以上で良く、特
に、磁気シールド効果を考慮することなく、記録特性面
から選定できる。第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性
膜2の膜厚は、ここでは、第3図に示すように、第1の
軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2の間隔GQ1と同等の厚
さに仕上げられている。
めの第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性膜2の膜厚は
、第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性膜2の磁気抵抗
をMR膜の磁気抵抗と同じレベルとなる程薄くしないか
ぎり、自由に選定する事が可能であり、言い替えれば、
第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性膜2の膜厚は、M
R膜と同程度の透磁率を有している材質であれば、MR
膜の膜厚に比し充分に厚い約0.5μm以上で良く、特
に、磁気シールド効果を考慮することなく、記録特性面
から選定できる。第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性
膜2の膜厚は、ここでは、第3図に示すように、第1の
軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2の間隔GQ1と同等の厚
さに仕上げられている。
第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性膜2は、記録時に
は、磁気ポールとなるので、記録媒体に強い磁界をかけ
るために、高飽和磁束密度を有し透磁率の良い材質が望
まれる。特に、高記録密度を実現する場合においては、
記録媒体の保磁力が高いものが要求され、最近では記録
媒体は、その保磁力が、1 、000工ルステツド以上
のスパッタ媒体、メツキ媒体が使用されるようになって
おり。
は、磁気ポールとなるので、記録媒体に強い磁界をかけ
るために、高飽和磁束密度を有し透磁率の良い材質が望
まれる。特に、高記録密度を実現する場合においては、
記録媒体の保磁力が高いものが要求され、最近では記録
媒体は、その保磁力が、1 、000工ルステツド以上
のスパッタ媒体、メツキ媒体が使用されるようになって
おり。
本実施例では、それに対応して、第1の軟磁性膜4およ
び第2の軟磁性膜2は、 Fe−Al−8L系合金で形
成されている。
び第2の軟磁性膜2は、 Fe−Al−8L系合金で形
成されている。
また、磁気検出素子3が配置される位置は、第1の軟磁
性膜4と第2の軟磁性膜2とから等距離ではなく、いず
れかの軟磁性膜2,4の方によっていることが好ましく
、本実施例では、m気検出素子3を構成するシャント膜
を第1の磁性膜4に対面させて、磁気検出素子3を第1
の磁性膜4の方に配置している。これは、磁気検出素子
3に近い方の軟磁性膜からの磁気的なカップリングで、
MR膜にバイアス磁界がかかりやすくなるためである。
性膜4と第2の軟磁性膜2とから等距離ではなく、いず
れかの軟磁性膜2,4の方によっていることが好ましく
、本実施例では、m気検出素子3を構成するシャント膜
を第1の磁性膜4に対面させて、磁気検出素子3を第1
の磁性膜4の方に配置している。これは、磁気検出素子
3に近い方の軟磁性膜からの磁気的なカップリングで、
MR膜にバイアス磁界がかかりやすくなるためである。
第1の磁性部材10と第2の磁性部材21との間に形成
される前記各種層の構造を第4図〜第7図に基づき、さ
らに詳細に説明する。
される前記各種層の構造を第4図〜第7図に基づき、さ
らに詳細に説明する。
第5図に示すように、第2の磁性部材21上には、非磁
性膜6を介して第2の軟磁性膜2が形成されている。第
2の軟磁性膜2上には、絶縁性を有する非磁性膜22が
形成され、その上に、磁気検出素子3と、磁気検出素子
3を構成するシャント膜に接続される引出導体8.8が
、形成されている。
性膜6を介して第2の軟磁性膜2が形成されている。第
2の軟磁性膜2上には、絶縁性を有する非磁性膜22が
形成され、その上に、磁気検出素子3と、磁気検出素子
3を構成するシャント膜に接続される引出導体8.8が
、形成されている。
引出導体8,8および磁気検出素子3上には。
非磁性膜7が形成されている。非磁性膜7の中央近傍と
、引出導体8,8の端部に該当する位置には、貫通孔7
a、7b、7bが、形成されている。
、引出導体8,8の端部に該当する位置には、貫通孔7
a、7b、7bが、形成されている。
また、非磁性膜22の中央近傍にも1貫通孔7aの位置
に対応して1貫通孔22aが形成されている。
に対応して1貫通孔22aが形成されている。
非磁性1lI7上には、バックギャップ軟磁性膜5と、
磁気検出素子3を酩動するための外部回路から伸びる図
示されていない引出線が接続される引出線接続用パット
9,9とが、形成されている。
磁気検出素子3を酩動するための外部回路から伸びる図
示されていない引出線が接続される引出線接続用パット
9,9とが、形成されている。
引出線接続用パッド9,9は、ハンダメツキで形成され
ている。
ている。
バックギャップ軟磁性膜5は、第6図に示すように、非
磁性膜7,22の貫通孔7a、22aを介して、第2の
軟磁性膜2と接続されている。また、引出線接続用パッ
ト9,9は、第7図に示すように、非磁性膜7の貫通孔
7bを介して、引出導体8,8の端部と接続されている
。
磁性膜7,22の貫通孔7a、22aを介して、第2の
軟磁性膜2と接続されている。また、引出線接続用パッ
ト9,9は、第7図に示すように、非磁性膜7の貫通孔
7bを介して、引出導体8,8の端部と接続されている
。
引出導体8と引出線接続用パット9と間には、密着力を
増加させるための密着力向上膜や、金属原子の相互の拡
散を防止するための拡散防止膜を設けることが好ましい
、密着力向上膜や拡散防止膜などの中間膜は、引出導体
8と引出線接続用パット9の材質、および、後の製造工
程中もしくは、実使用中の熱履歴等の条件によりそれに
耐え得る適切な材質のものを選定する必要がある。
増加させるための密着力向上膜や、金属原子の相互の拡
散を防止するための拡散防止膜を設けることが好ましい
、密着力向上膜や拡散防止膜などの中間膜は、引出導体
8と引出線接続用パット9の材質、および、後の製造工
程中もしくは、実使用中の熱履歴等の条件によりそれに
耐え得る適切な材質のものを選定する必要がある。
このような前記各種膜は、蒸着法と、スパッタ法と、メ
ツキ法とのうち、それぞれに適した方法で成膜し、フォ
トリソグラフィ技術、エツチング技術、またはイオンミ
ーリング技術等のパターニング技術を用いて、容易に形
成することができる9なお、磁気検出素子3および第1
の軟磁性膜を成膜する際には、同時に、記録媒体対向面
を機械加工する際の加工終点検知用のパターンを形成し
ておくとよい、この加工終点検知用のパターンとは、加
工を終了するための目印で1例えば、顕微鏡等で目印を
wi察しながら機械加工する目視チエツク用のパターン
や、電気抵抗体で構成され、この抵抗値を測定しながら
ある抵抗値になった時点で加工を停止するようにする抵
抗検知用のパターン等のことである。この加工終点検知
用パターンを形成しておくと、記録再生用磁気ヘッドの
記録媒体対向面を高精度で機械加工仕上げすることがで
きる。
ツキ法とのうち、それぞれに適した方法で成膜し、フォ
トリソグラフィ技術、エツチング技術、またはイオンミ
ーリング技術等のパターニング技術を用いて、容易に形
成することができる9なお、磁気検出素子3および第1
の軟磁性膜を成膜する際には、同時に、記録媒体対向面
を機械加工する際の加工終点検知用のパターンを形成し
ておくとよい、この加工終点検知用のパターンとは、加
工を終了するための目印で1例えば、顕微鏡等で目印を
wi察しながら機械加工する目視チエツク用のパターン
や、電気抵抗体で構成され、この抵抗値を測定しながら
ある抵抗値になった時点で加工を停止するようにする抵
抗検知用のパターン等のことである。この加工終点検知
用パターンを形成しておくと、記録再生用磁気ヘッドの
記録媒体対向面を高精度で機械加工仕上げすることがで
きる。
第1の軟磁性膜4の記録媒体と垂直方向の幅は、第3図
に示されるギャップ深さGdwで、0.5〜10μ−程
度の記録効率が良好な値で仕上げられている。また、磁
気検出素子3の記録媒体と垂直方向の幅は、つまり、記
録媒体対向面からの深さは、Gdρで仕上げられている
。
に示されるギャップ深さGdwで、0.5〜10μ−程
度の記録効率が良好な値で仕上げられている。また、磁
気検出素子3の記録媒体と垂直方向の幅は、つまり、記
録媒体対向面からの深さは、Gdρで仕上げられている
。
第1の軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2のトラック幅方向
の長さTwi、T%+2は、第3図に示すように、第1
の磁性部材10のトラック幅方向の長さTcより短く、
磁気検出素子3のトラック幅方向の長さTRより僅かに
長く、形成されている。
の長さTwi、T%+2は、第3図に示すように、第1
の磁性部材10のトラック幅方向の長さTcより短く、
磁気検出素子3のトラック幅方向の長さTRより僅かに
長く、形成されている。
このように、前記各種膜が形成された第2の磁性部材2
1に、コイル用溝を有している第1の磁性部材10が、
接着剤11で接合されている。そして、第1の磁性部材
10のコイル用溝に、コイル12が施されている。
1に、コイル用溝を有している第1の磁性部材10が、
接着剤11で接合されている。そして、第1の磁性部材
10のコイル用溝に、コイル12が施されている。
接合剤11は、フロントギャップ部およびバックギャッ
プ部における接合状態の経時的な変化を考慮し、ガラス
材が用いられている。
プ部における接合状態の経時的な変化を考慮し、ガラス
材が用いられている。
次に、第1の実施例の作用について説明する。
記録時には、コイル12に所望の信号電流を流すことに
より、第1の軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2との間に、
記録磁界が発生し、記録媒体が磁化されて所望の信号が
記録される。
より、第1の軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2との間に、
記録磁界が発生し、記録媒体が磁化されて所望の信号が
記録される。
第1の軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2との間が記録ギャ
ップと成り記録磁界が発生するのは、第1の軟磁性膜4
の膜厚が、第1の軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2との間
隔GQ工と同等以上の値となっているため、第1の磁性
部材10と第2の軟磁性膜2との間隔(112が、GQ
□の値の2倍以上の値で、記録ギャップとしての役割り
を果たさないためである。
ップと成り記録磁界が発生するのは、第1の軟磁性膜4
の膜厚が、第1の軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2との間
隔GQ工と同等以上の値となっているため、第1の磁性
部材10と第2の軟磁性膜2との間隔(112が、GQ
□の値の2倍以上の値で、記録ギャップとしての役割り
を果たさないためである。
また、第1の軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2は、高飽和
磁束密度の磁性材であるFe−Al−3i系合金で形成
されているため、磁気飽和が起こりにくく、高保磁力の
記録媒体に対して充分な磁化状態が残せる記録磁界を発
生させることができ、記録密度を向上させることができ
る。なお、実験では。
磁束密度の磁性材であるFe−Al−3i系合金で形成
されているため、磁気飽和が起こりにくく、高保磁力の
記録媒体に対して充分な磁化状態が残せる記録磁界を発
生させることができ、記録密度を向上させることができ
る。なお、実験では。
膜厚1〜2μmでFe−Al−8i系合金の磁性体を用
いると、保磁力1 、000エルステツドの記録媒体に
、30.0OOF−C−Iの記録密度を実現している。
いると、保磁力1 、000エルステツドの記録媒体に
、30.0OOF−C−Iの記録密度を実現している。
再生時には、記録媒体に記録された信号による再生磁界
が磁気検出素子3で読み取られる。
が磁気検出素子3で読み取られる。
この際、MR膜で構成される磁気検出素子3で再生して
いるため、誘導形の再生ヘッドのような擬似ギャップに
よるゴーストやコンタ−と称されるノイズは発生せず、
さらに、第1の軟磁性r44と第2の軟磁性膜2とが、
磁気シールドとなるため、再生磁界以外の外部磁界を読
み取ることがなく、S/N比をよくすることができる。
いるため、誘導形の再生ヘッドのような擬似ギャップに
よるゴーストやコンタ−と称されるノイズは発生せず、
さらに、第1の軟磁性r44と第2の軟磁性膜2とが、
磁気シールドとなるため、再生磁界以外の外部磁界を読
み取ることがなく、S/N比をよくすることができる。
また、磁気検出素子3による再生では、記録媒体と記録
再生用磁気ヘッドとの相対速度と再生特性とは、無関係
であるため1例えば、5インチ以下の磁気ディスクのよ
うに周速度が遅く相対速度が遅いものでも、高記録密度
に書き込まれた磁気ディスクから情報を高出力で読み取
ることができる。
再生用磁気ヘッドとの相対速度と再生特性とは、無関係
であるため1例えば、5インチ以下の磁気ディスクのよ
うに周速度が遅く相対速度が遅いものでも、高記録密度
に書き込まれた磁気ディスクから情報を高出力で読み取
ることができる。
再生トラック幅となる磁気検出素子3のトラック幅方向
の長さTIが、記録トラック幅となる第1の軟磁性膜4
のトラック幅方向の長さTw□より、短いので、記録再
生用磁気ヘッドの記録媒体に対するトラック位置決め誤
差により生ずるノイズ記録領域の読み出しを防止するこ
とができる。
の長さTIが、記録トラック幅となる第1の軟磁性膜4
のトラック幅方向の長さTw□より、短いので、記録再
生用磁気ヘッドの記録媒体に対するトラック位置決め誤
差により生ずるノイズ記録領域の読み出しを防止するこ
とができる。
また、前記各種膜は、フォトリングラフィ技術等により
パターニングされているので、高精度に。
パターニングされているので、高精度に。
かつ、容易に位置合せが可能で、その精度は、容易にL
1以下とすることが可能である。
1以下とすることが可能である。
したがって、第1の軟磁性膜4と第2の軟磁性膜2と磁
気検出素子3のトラック幅方向の中心位置のズレを極め
て小さくすることができるので。
気検出素子3のトラック幅方向の中心位置のズレを極め
て小さくすることができるので。
前記トラック位置決め誤差により生ずる前記ノイズ記録
領域の読み出し防止を図るために、磁気検出素子3のト
ラック幅方向の長さT11を、第1の軟磁性膜4のトラ
ック幅方向の長さTwlより、短くする量を小さくする
ことができ、再生トラック幅となる第1の軟磁性膜4の
トラック幅方向の長さTV、を長くすることができ、S
/N比を良くすることができる。
領域の読み出し防止を図るために、磁気検出素子3のト
ラック幅方向の長さT11を、第1の軟磁性膜4のトラ
ック幅方向の長さTwlより、短くする量を小さくする
ことができ、再生トラック幅となる第1の軟磁性膜4の
トラック幅方向の長さTV、を長くすることができ、S
/N比を良くすることができる。
また、記録特性および再生特性に大きく影響を与える要
因の1つである第1の軟磁性膜4のギャップ深さGdw
と、磁気検出素子3の記録媒体対向面からの深さGd2
と、第1の軟磁性膜4と磁気検出素子3の相対的な位置
関係とを、精度良く、かつ、容易に仕上げることができ
るので、記録特性および再生特性を良くすることができ
るとともに、性能バラツキを小さくすることができ、高
歩留で高品質のものを生産することができる。
因の1つである第1の軟磁性膜4のギャップ深さGdw
と、磁気検出素子3の記録媒体対向面からの深さGd2
と、第1の軟磁性膜4と磁気検出素子3の相対的な位置
関係とを、精度良く、かつ、容易に仕上げることができ
るので、記録特性および再生特性を良くすることができ
るとともに、性能バラツキを小さくすることができ、高
歩留で高品質のものを生産することができる。
第1の磁性部材10と第2の磁性部材21とのフロント
ギャップ部でのトラック幅方向の接合長さは、第1の磁
性1部材10のトラック幅方向の長さTcである。この
長さTcは、第1の磁性部材10と第2の磁性部材21
とは別に、磁気ポールとなる第1の軟磁性膜4と第2の
軟磁性膜2とを設けたので、記録トラック幅T%+2に
依存することなく、大きくすることができるため、接合
面積を大きくすることができ、フロントギャップ部での
第1の磁性部材10と第2の磁性部材21との接合強度
を大きくすることができる。したがって、記録再生用磁
気ヘッドの記録媒体対向面やその他の部分の機械加工に
おいて、接合部での剥離に対する考慮をすることなく機
械加工することができる。
ギャップ部でのトラック幅方向の接合長さは、第1の磁
性1部材10のトラック幅方向の長さTcである。この
長さTcは、第1の磁性部材10と第2の磁性部材21
とは別に、磁気ポールとなる第1の軟磁性膜4と第2の
軟磁性膜2とを設けたので、記録トラック幅T%+2に
依存することなく、大きくすることができるため、接合
面積を大きくすることができ、フロントギャップ部での
第1の磁性部材10と第2の磁性部材21との接合強度
を大きくすることができる。したがって、記録再生用磁
気ヘッドの記録媒体対向面やその他の部分の機械加工に
おいて、接合部での剥離に対する考慮をすることなく機
械加工することができる。
また、第1の磁性部材10のトラック幅方向の長さTc
と記録トラック@Tw、との長さ関係を、逆に言えば、
記録トラック幅となる第1の軟磁性膜4のトラック幅方
向の長さTす、を、第1の磁性部材IOのトラック幅方
向の長さTcに、依存することなく小さくすることがで
きることであるから、トラック幅方向の記録密度を向上
させることができる。
と記録トラック@Tw、との長さ関係を、逆に言えば、
記録トラック幅となる第1の軟磁性膜4のトラック幅方
向の長さTす、を、第1の磁性部材IOのトラック幅方
向の長さTcに、依存することなく小さくすることがで
きることであるから、トラック幅方向の記録密度を向上
させることができる。
極薄の磁気検出素子3および引出導体8は1段差のない
非磁性膜22上に形成されているので、段切れの恐れが
小さい、また、引出線接続用パッド9は、前記外部回路
から伸びる図示されていない引出線の接続に適したハン
ダメツキで形成されるので、断線および接続部の剥離等
が生じにくく、接続信頼性を高めることができる。
非磁性膜22上に形成されているので、段切れの恐れが
小さい、また、引出線接続用パッド9は、前記外部回路
から伸びる図示されていない引出線の接続に適したハン
ダメツキで形成されるので、断線および接続部の剥離等
が生じにくく、接続信頼性を高めることができる。
なお、本実施例では、MRllにバイアス磁界を印加す
るものとして、シャント膜を用いたが、バイアス磁界を
印加することができるものであれば、永久磁石膜、電流
バイアス膜、ソフトフィルム膜、バーバーポール膜等を
用いてもよい。
るものとして、シャント膜を用いたが、バイアス磁界を
印加することができるものであれば、永久磁石膜、電流
バイアス膜、ソフトフィルム膜、バーバーポール膜等を
用いてもよい。
また、第1の軟磁性膜4および第2の軟磁性膜2は、F
e−Al−8i系合金で形成したが、Ni−Fe磁性材
、N1−Faと絶縁体の多層膜、Co−金属系非晶質膜
、Fe−C系多層膜などの高飽和磁束密度を有するもの
を用いてもよい。
e−Al−8i系合金で形成したが、Ni−Fe磁性材
、N1−Faと絶縁体の多層膜、Co−金属系非晶質膜
、Fe−C系多層膜などの高飽和磁束密度を有するもの
を用いてもよい。
また、引出線接続用パッド9と外部回路から伸びる引出
線との接続には、一般的に、ハンダ付けや超音波ボンデ
ィング、ポールボンディング等で行なわれ、引出線接続
用パッド9は、それぞれの接続方法に適した材質のもの
を選定すれば良い6例えば、Au材で形成した場合には
、Au材はハンダ付は性、超音波接合性が良いので、接
合強度を高めることができ、また、メツキ法やスパッタ
法等による成膜を容易に行うことができる。
線との接続には、一般的に、ハンダ付けや超音波ボンデ
ィング、ポールボンディング等で行なわれ、引出線接続
用パッド9は、それぞれの接続方法に適した材質のもの
を選定すれば良い6例えば、Au材で形成した場合には
、Au材はハンダ付は性、超音波接合性が良いので、接
合強度を高めることができ、また、メツキ法やスパッタ
法等による成膜を容易に行うことができる。
第1の磁性部材10と前記各種層が形成された第2の磁
性部材2】とを接合する際に、本実施例では、ガラス材
を用いたが、エポキシ系あるいはその他の有機接着剤を
用いてもよい。有機接着剤を用いた場合には、高温を必
要とするガラス材を用いるときのように、第1の磁性部
材10と第2の磁性部材21との熱膨張率の違いによる
接合歪みを極力抑えるために、同一の材質を用いる等の
制約を受けることはない。
性部材2】とを接合する際に、本実施例では、ガラス材
を用いたが、エポキシ系あるいはその他の有機接着剤を
用いてもよい。有機接着剤を用いた場合には、高温を必
要とするガラス材を用いるときのように、第1の磁性部
材10と第2の磁性部材21との熱膨張率の違いによる
接合歪みを極力抑えるために、同一の材質を用いる等の
制約を受けることはない。
バックギャップ軟磁性膜5は、バックギャップ側の第1
の磁路形成部材を形成する第1の磁性部材10と第2の
磁路形成部材20との接合部における磁気抵抗を小さく
するために設けたものであるが、構造上、バックギャッ
プ部での磁気抵抗が大きくならない場合は、設けなくて
もよい。
の磁路形成部材を形成する第1の磁性部材10と第2の
磁路形成部材20との接合部における磁気抵抗を小さく
するために設けたものであるが、構造上、バックギャッ
プ部での磁気抵抗が大きくならない場合は、設けなくて
もよい。
第2の磁性部材21は、磁性フェライトを用いた例を示
したが、アルミナ、アルミナチタンカーバイト、ジルコ
ニア等の非磁性セラミックを用いると、同様の構成で、
同一の効果を得ることができるとともに、第2の磁路形
成部材20の耐摩耗性を向上させることができる。
したが、アルミナ、アルミナチタンカーバイト、ジルコ
ニア等の非磁性セラミックを用いると、同様の構成で、
同一の効果を得ることができるとともに、第2の磁路形
成部材20の耐摩耗性を向上させることができる。
以上に、説明したシャント膜の材質、軟磁性膜2.4の
材質、引出線接続用パッド9の材質、接着剤の材質、第
2の磁性部材21の材質、バックギャップ軟磁性膜5の
設置については、以下の各種実施例においても同様なの
で、その説明を省略する。
材質、引出線接続用パッド9の材質、接着剤の材質、第
2の磁性部材21の材質、バックギャップ軟磁性膜5の
設置については、以下の各種実施例においても同様なの
で、その説明を省略する。
また、非磁性l116は、第2の磁性部材21に、多結
晶磁性フェライトや焼結性非磁性セラミック材のような
多孔質性のものを用いて構成した場合、その上に直接軟
磁性膜を被着させると、軟磁性膜上に、凹凸が形成され
、磁気特性を劣化させることがあり、これを避けるため
に設けられている。
晶磁性フェライトや焼結性非磁性セラミック材のような
多孔質性のものを用いて構成した場合、その上に直接軟
磁性膜を被着させると、軟磁性膜上に、凹凸が形成され
、磁気特性を劣化させることがあり、これを避けるため
に設けられている。
したがって、第2の磁性部材21が、単結晶性の場合で
僅かな凹凸も存在しない場合や、第2の軟磁性膜2の膜
厚が、下地の凹凸や面粗さの影響が出ない程に、厚い場
合には、第8図に示すように、非磁性膜6を設けなくて
もよい。
僅かな凹凸も存在しない場合や、第2の軟磁性膜2の膜
厚が、下地の凹凸や面粗さの影響が出ない程に、厚い場
合には、第8図に示すように、非磁性膜6を設けなくて
もよい。
次に、記録再生用磁気ヘッドの第2の実施例について、
第9図および第10図を用いて説明する。
第9図および第10図を用いて説明する。
本実施例の記録再生用磁気ヘッドは、第9図に示すよう
に、第2の磁性部材21に、絶縁性を何する非磁性膜2
2、磁気検出素子3、第1の軟磁性膜4.バックギャッ
プ軟磁性膜5を順次成膜し。
に、第2の磁性部材21に、絶縁性を何する非磁性膜2
2、磁気検出素子3、第1の軟磁性膜4.バックギャッ
プ軟磁性膜5を順次成膜し。
コイル12が巻かれ第1の磁路形成部材を形成する第1
の磁性部材10を接着剤11で接合したものである。な
お、本実施例は、非磁性膜6および第2の軟磁性膜2が
設けられていない以外、第1の実施例と同一に構成され
ている。また、本実施例では、第2の磁性部材21のみ
が、第2の磁路形成部材を形成している。
の磁性部材10を接着剤11で接合したものである。な
お、本実施例は、非磁性膜6および第2の軟磁性膜2が
設けられていない以外、第1の実施例と同一に構成され
ている。また、本実施例では、第2の磁性部材21のみ
が、第2の磁路形成部材を形成している。
本実施例では、記録媒体30は、第9図に示される矢印
の方向に相対的に走行するものとする。
の方向に相対的に走行するものとする。
記録する際には、第1の軟磁性膜4と第2の磁性部材2
1との間GQ、に、第9図に示すような記録磁界Bが形
成される。記録磁界Bは、トレーリング側に軟磁性膜4
が設けられているため、トレーリング側の記録磁界がシ
ャープになっている。
1との間GQ、に、第9図に示すような記録磁界Bが形
成される。記録磁界Bは、トレーリング側に軟磁性膜4
が設けられているため、トレーリング側の記録磁界がシ
ャープになっている。
したがって、記録媒体30に記録する時には、記録再生
用磁気ヘッドのトレーリング側の記録磁界で記録して行
くため、シャープな記録磁界で。
用磁気ヘッドのトレーリング側の記録磁界で記録して行
くため、シャープな記録磁界で。
所望の信号を記録することができ、高保磁力の磁気記録
媒体にも高密度で記録品質の良い記録が行える。
媒体にも高密度で記録品質の良い記録が行える。
本実施例は、リーディング側の磁気ポールとなる第2の
磁性部材21が、飽和磁束密度のあまり高くない磁性フ
ェライトで形成されているので。
磁性部材21が、飽和磁束密度のあまり高くない磁性フ
ェライトで形成されているので。
第1の実施例のものと比べて、記B磁界の出力を大きく
することができず、記録密度を向上させる点ではやや劣
る。しかし、それ以外は、第1の実施例と同様の効果を
有するとともに、第2の軟磁性膜2および非磁性膜6が
配置していない分、構造が簡単で、製造コストを低下す
ることができる。
することができず、記録密度を向上させる点ではやや劣
る。しかし、それ以外は、第1の実施例と同様の効果を
有するとともに、第2の軟磁性膜2および非磁性膜6が
配置していない分、構造が簡単で、製造コストを低下す
ることができる。
次に、第11図および第12図に基づき、第2の実施例
の変形例について説明する。
の変形例について説明する。
本実施例の記録再生用磁気ヘッドは、記録媒体30の相
対的走行方向が逆になった場合の対応例で、第11図に
示すように、第2の磁性部材21上に、第2の軟磁性膜
2.絶縁性を有する非磁性部材22、磁気検出素子3、
非磁性膜7を、順次成膜し、第1の磁路形成部材を形成
する第1の磁性部材10を接着剤11で接合したもので
ある。
対的走行方向が逆になった場合の対応例で、第11図に
示すように、第2の磁性部材21上に、第2の軟磁性膜
2.絶縁性を有する非磁性部材22、磁気検出素子3、
非磁性膜7を、順次成膜し、第1の磁路形成部材を形成
する第1の磁性部材10を接着剤11で接合したもので
ある。
なお、第2の磁路形成部材は、第2の磁性部材21と第
2の軟磁性膜2とで構成されている。
2の軟磁性膜2とで構成されている。
本実施例は、第2の実施例の記録再生用磁気ヘッドにお
ける第1の軟磁性膜4の替わりに、第2の軟磁性膜2を
設けたものであるが、記録再生用磁気ヘッドのトレーリ
ング側にのみ、軟磁性膜が設けられており、基本的には
、第2の実施例と同様の構成で、その効果も、第2の実
施例と変わるものではない。
ける第1の軟磁性膜4の替わりに、第2の軟磁性膜2を
設けたものであるが、記録再生用磁気ヘッドのトレーリ
ング側にのみ、軟磁性膜が設けられており、基本的には
、第2の実施例と同様の構成で、その効果も、第2の実
施例と変わるものではない。
本実施例および第2の実施例は、第13図に示すように
、第2の磁性部材21上に成膜する第1層目に非磁性部
材6を設けてもよい。
、第2の磁性部材21上に成膜する第1層目に非磁性部
材6を設けてもよい。
この場合、第2の磁性部材21上に凹凸があっても、そ
れが第2の軟磁性l模2等に影響をおよぼすことがない
で、第2の磁性部材21が多孔質性のものでも使用する
ことができる。
れが第2の軟磁性l模2等に影響をおよぼすことがない
で、第2の磁性部材21が多孔質性のものでも使用する
ことができる。
次に、記録再生用磁気ヘッドの第3の実施例を第14図
および第15図に基づき説明する。
および第15図に基づき説明する。
本実施例の記録再生用磁気ヘッドは、コイル12が巻か
れる第1の非磁性部材14と、第2の非磁性部材21と
、前記各種抜と、第1の非磁性部材14に形成される磁
性膜13とから構成されている。なお1本実施例は、前
述した第1の磁性部材10と第2の磁性部材21とが非
磁性はで成形され、第1の非磁性部材14に磁性膜13
が形成されている以外は、第1の実施例と同一構成であ
る。また、本実施例において、第1の磁路形成部材10
aは、第1の非磁性部材14と磁性膜13とで構成され
、第2の磁路形成部材20aは、第2の非磁性部材21
aと非磁性膜6と第2の軟磁性膜2とで構成されている
。
れる第1の非磁性部材14と、第2の非磁性部材21と
、前記各種抜と、第1の非磁性部材14に形成される磁
性膜13とから構成されている。なお1本実施例は、前
述した第1の磁性部材10と第2の磁性部材21とが非
磁性はで成形され、第1の非磁性部材14に磁性膜13
が形成されている以外は、第1の実施例と同一構成であ
る。また、本実施例において、第1の磁路形成部材10
aは、第1の非磁性部材14と磁性膜13とで構成され
、第2の磁路形成部材20aは、第2の非磁性部材21
aと非磁性膜6と第2の軟磁性膜2とで構成されている
。
第1の非磁性部材14および第2の非磁性部材21aは
、アルミナ、アルミナチタンカーバイト、ジルコニア等
のU摩耗性の優れている非磁性セラミックで形成されて
いる。
、アルミナ、アルミナチタンカーバイト、ジルコニア等
のU摩耗性の優れている非磁性セラミックで形成されて
いる。
磁性膜13は、軟磁性膜2,4と同一の材料で形成され
ており、第14図に示すように、6Bgを確保するため
、第1の非磁性部材14上に、フロントギャップ側から
バックギャップ側まで、形成されている。
ており、第14図に示すように、6Bgを確保するため
、第1の非磁性部材14上に、フロントギャップ側から
バックギャップ側まで、形成されている。
磁性膜13は記録時の磁路の一部を構成するので、磁性
膜13の厚さは、磁気抵抗を小さくするために、極力厚
い方が望ましく、5μm以上が望ましい。このような厚
い膜を被着するには、スパッタ法による被着方法でも行
なえるが、メツキ法を用いる方が被着設備の使用効率が
良く好ましい。
膜13の厚さは、磁気抵抗を小さくするために、極力厚
い方が望ましく、5μm以上が望ましい。このような厚
い膜を被着するには、スパッタ法による被着方法でも行
なえるが、メツキ法を用いる方が被着設備の使用効率が
良く好ましい。
メツキを行う際には、電極となるCu等の金属に磁性g
il 3と同一の材質のものをスパッタ法で被着させて
おき、これを電極として第1の非磁性部材14に磁性膜
13をメツキ被着させる。この場合は、磁性膜13の材
料としては、Ni−Fe合金が適している。なお、Fe
−Al−8i系合金等はスパッタ法で被着する;とが可
能である。
il 3と同一の材質のものをスパッタ法で被着させて
おき、これを電極として第1の非磁性部材14に磁性膜
13をメツキ被着させる。この場合は、磁性膜13の材
料としては、Ni−Fe合金が適している。なお、Fe
−Al−8i系合金等はスパッタ法で被着する;とが可
能である。
磁性膜13と第1の軟磁性膜4は、同種金属であるため
拡散接合方法を用いて、両者の間に隙間を発生させない
ようにすることが可能である。ガラス材等の接合剤を用
いた時は、磁性膜13と第1の軟磁性膜4の間には隙間
が生じないよう、接合時の接合荷重を大きくする等の方
策を取る必要がある。
拡散接合方法を用いて、両者の間に隙間を発生させない
ようにすることが可能である。ガラス材等の接合剤を用
いた時は、磁性膜13と第1の軟磁性膜4の間には隙間
が生じないよう、接合時の接合荷重を大きくする等の方
策を取る必要がある。
本実施例の記録再生用磁気ヘッドは、第1の実施例と同
様の効果を得ることができるのみならず。
様の効果を得ることができるのみならず。
第1の非磁性部材14および第2の非磁性部材21aが
耐摩耗性に優れたセラミック材料で形成されているので
、記録媒体対向面の摩耗による劣化を減少させることが
でき、寿命を長くすることができる。
耐摩耗性に優れたセラミック材料で形成されているので
、記録媒体対向面の摩耗による劣化を減少させることが
でき、寿命を長くすることができる。
したがって、記録媒体が磁気ヘッドに接触し。
磁気ヘッドを摩耗させるような、例えば、磁気テープ装
置用磁気ヘッドや、フロッピー装置用磁気ヘッド、ハー
ドディスク装置用磁気ヘッドに、特に適している。
置用磁気ヘッドや、フロッピー装置用磁気ヘッド、ハー
ドディスク装置用磁気ヘッドに、特に適している。
(以下余白)
前記各種実施例は、記録再生用磁気ヘッドの基本構造に
関するもので、この構造を磁気ディスクに適用したもの
について、次に説明する。
関するもので、この構造を磁気ディスクに適用したもの
について、次に説明する。
記録再生用磁気ヘッドの第4の実施例について、第16
図〜第18図を用いて説明する。
図〜第18図を用いて説明する。
本実施例の記録再生用磁気ヘッドは、第2の実施例にお
ける第1の磁性部材10をコイル35を収納するための
コイル用溝が形成されているコアブロック34とし、第
2の磁性部材21を磁気ディスクとの間の気流で揚力を
生じせしめるための??上面が形成されているスライダ
ー31としたものである。
ける第1の磁性部材10をコイル35を収納するための
コイル用溝が形成されているコアブロック34とし、第
2の磁性部材21を磁気ディスクとの間の気流で揚力を
生じせしめるための??上面が形成されているスライダ
ー31としたものである。
磁気ディスク面に対向し、情報の記録・再生を行うフロ
ントギャップ部32内には、情報の読取りを行うための
MR素子33が配設されている。
ントギャップ部32内には、情報の読取りを行うための
MR素子33が配設されている。
この記録再生用磁気ヘッドは、記録時には、コイル35
に記録電流を流すことによって励起される磁束がコアブ
ロック34とスライダー31を通り、6B気デイスクに
対向したフロントギャップ部32より飛び出し記録され
る。また、再生時には。
に記録電流を流すことによって励起される磁束がコアブ
ロック34とスライダー31を通り、6B気デイスクに
対向したフロントギャップ部32より飛び出し記録され
る。また、再生時には。
フロントギャップ部32内に設けられたMR素子33で
磁気ディスクからの漏洩磁束を感知し電圧に変換して、
MR素子33から引出した図示されていない引出導体に
接続されている引出線接続用バット36.36に、ハン
ダ付は等で接続されている引出線37.37によって外
部回路に伝達される。
磁気ディスクからの漏洩磁束を感知し電圧に変換して、
MR素子33から引出した図示されていない引出導体に
接続されている引出線接続用バット36.36に、ハン
ダ付は等で接続されている引出線37.37によって外
部回路に伝達される。
次に、フロントギャップ部32の構造について以下に述
べる。
べる。
スライダー31に成る磁性基板上に、Ni−Feまたは
Fe−At−8i系合金からなる軟磁性膜42が、厚さ
2〜5μmにスパッタ法あるいは蒸着法等で被着され、
エツチングにより所望の記録トラック幅Twに形成され
ている。
Fe−At−8i系合金からなる軟磁性膜42が、厚さ
2〜5μmにスパッタ法あるいは蒸着法等で被着され、
エツチングにより所望の記録トラック幅Twに形成され
ている。
その上に、0.2〜0.8μ畑のAl、03,5in2
等の無機材料の絶縁性を有する第1非磁性膜38を介し
て1MR素子33を構成するNi−Fe等の材料のMR
膜39(厚さ200〜900人)と、MR膜39に密着
して配置し電磁誘導によってMR膜39にバイアス磁界
を印加するためのシャント膜40(厚さ1000〜20
00人)とが、スパッタリング、蒸着等の方法で被着さ
れ、エツチングにより所望の再生トラック@T8および
形状に形成されている。
等の無機材料の絶縁性を有する第1非磁性膜38を介し
て1MR素子33を構成するNi−Fe等の材料のMR
膜39(厚さ200〜900人)と、MR膜39に密着
して配置し電磁誘導によってMR膜39にバイアス磁界
を印加するためのシャント膜40(厚さ1000〜20
00人)とが、スパッタリング、蒸着等の方法で被着さ
れ、エツチングにより所望の再生トラック@T8および
形状に形成されている。
さらにその上には、MR素子33を保護するとともに、
フロントギャップ部32の一部を構成する第2非磁性膜
41が、厚さ0.1〜0.5μ糟で形成されている。
フロントギャップ部32の一部を構成する第2非磁性膜
41が、厚さ0.1〜0.5μ糟で形成されている。
なお、引出線接続用パッド36.36は、図示されてい
ない前記引出導体の端部に、Au、Cu等の導電材料を
、スパッタリングやエツチング等により表面に露出する
よう形成したものである。
ない前記引出導体の端部に、Au、Cu等の導電材料を
、スパッタリングやエツチング等により表面に露出する
よう形成したものである。
記録再生用磁気ヘッドは、このように各種薄膜が形成さ
れた磁性材基板を浮上面を有する短冊状ブロックに加工
し、短冊状ブロックとコアブロック34とをガラス材4
3で接合したものである。
れた磁性材基板を浮上面を有する短冊状ブロックに加工
し、短冊状ブロックとコアブロック34とをガラス材4
3で接合したものである。
このガラス接合においては、ガラス溶融温度が高すぎる
とMR膜39の磁気特性、電気特性が劣化することが考
えられるため、極力低温度とする必要があり、例えば、
PbO系の軟化点300〜500℃の低融点ガラスを使
用することが望ましし箋。
とMR膜39の磁気特性、電気特性が劣化することが考
えられるため、極力低温度とする必要があり、例えば、
PbO系の軟化点300〜500℃の低融点ガラスを使
用することが望ましし箋。
このような構造では、記録トラックl1liTT−がコ
アブロック34のlll1Tcに関係なく決定されるた
め、記憶容量を増大化するためにトラック幅を狭小化す
る必要がある場合でもコアブロック4の幅Tcを大きく
できる、すなわち、Tw<Tcとすることにより、引出
線接続用パッド36.36の間隔およびそれ自体の大き
さを大きくでき、引出線@37の引出しを容易にするこ
とができる。
アブロック34のlll1Tcに関係なく決定されるた
め、記憶容量を増大化するためにトラック幅を狭小化す
る必要がある場合でもコアブロック4の幅Tcを大きく
できる、すなわち、Tw<Tcとすることにより、引出
線接続用パッド36.36の間隔およびそれ自体の大き
さを大きくでき、引出線@37の引出しを容易にするこ
とができる。
また、記録トラックと再生トラックの幅Tす。
TRおよび位置が、薄膜プロセスで決定できるため、記
録トラックと再生トラックとの整合性をよくすることが
でき、S/N比を向上させることができる。
録トラックと再生トラックとの整合性をよくすることが
でき、S/N比を向上させることができる。
前記実施例では、スライダー31とMR素子33との間
に軟磁性膜42を配置したが、トレーリング側が、コア
ブロック側34である場合には、コアブロック34とM
R素子33との間に軟磁性膜42を配置した構造でも、
同様な効果を有する記録再生用磁気ヘッドを実現するこ
とができる。
に軟磁性膜42を配置したが、トレーリング側が、コア
ブロック側34である場合には、コアブロック34とM
R素子33との間に軟磁性膜42を配置した構造でも、
同様な効果を有する記録再生用磁気ヘッドを実現するこ
とができる。
この実施例を第4の実施例の変形例として、第19図お
よび第20図を用いて説明する。
よび第20図を用いて説明する。
スライダー31に、第1非磁性膜38と、MR膜39と
、シャント膜40と、第2非磁性膜41とを第4の実施
例で示した方法と同様に形成した後、軟磁性膜44を形
成する。
、シャント膜40と、第2非磁性膜41とを第4の実施
例で示した方法と同様に形成した後、軟磁性膜44を形
成する。
この形成方法は、第2非磁性膜41上に、軟磁性膜44
を付着し、所望形状にエツチングした後、Al2O,等
の絶縁材料を付着し、エツチングあるいは研摩等で軟磁
性膜44を表面に露出する方法がとられる。
を付着し、所望形状にエツチングした後、Al2O,等
の絶縁材料を付着し、エツチングあるいは研摩等で軟磁
性膜44を表面に露出する方法がとられる。
このような構造でも、記録トラック位置中心と再生トラ
ック位置中心の整合性、および、’rW<Tcとするこ
とによる引出線37の引出しの容易性は、第4の実施例
と何ら変わることはない、この構造では、再生ギャップ
長G8にガラス接合層が含まず薄膜プロセスにおける膜
厚精度によるばらつきのみとなる為、再生特性はより安
定になる。
ック位置中心の整合性、および、’rW<Tcとするこ
とによる引出線37の引出しの容易性は、第4の実施例
と何ら変わることはない、この構造では、再生ギャップ
長G8にガラス接合層が含まず薄膜プロセスにおける膜
厚精度によるばらつきのみとなる為、再生特性はより安
定になる。
なお、軟磁性膜44をMR素子33の両側に配置しても
よい。この構造では、軟磁性膜44を高磁束密度のもの
を選定することにより、記録の際の磁気ポールの飽和磁
束密度を高めることができ。
よい。この構造では、軟磁性膜44を高磁束密度のもの
を選定することにより、記録の際の磁気ポールの飽和磁
束密度を高めることができ。
より記録密度を高めることができる。
次に、記録再生用磁気ヘッドの第5の実施例について、
第21図に基づき説明する。
第21図に基づき説明する。
本実施例の記録再生用磁気ヘッドは、MR素子33等の
各種薄膜が形成されたコアブロック34aと、コイル用
溝が形成されているスライダー 31 aとをガラス材
43で接合したもので、薄膜形成プロセス、最終形状の
磁気ヘッドに加工するプロセスは、前述した方法と変わ
らない。また。
各種薄膜が形成されたコアブロック34aと、コイル用
溝が形成されているスライダー 31 aとをガラス材
43で接合したもので、薄膜形成プロセス、最終形状の
磁気ヘッドに加工するプロセスは、前述した方法と変わ
らない。また。
フロントギャップ部32内の構造は、第4の実施例、そ
の変形例で示したものと同様にすることが可能である。
の変形例で示したものと同様にすることが可能である。
本実施例では、スライダー31aにコイル用溝を形成し
たので、スライダー31aの軽量化を図かることができ
るとともに、コアブロック34aにコイル用溝を形成し
なくてもよいので、磁気ディスクに対する相対的移動方
向の幅を狭めることができ、コアブロック34aの軽量
化も図ることができる。
たので、スライダー31aの軽量化を図かることができ
るとともに、コアブロック34aにコイル用溝を形成し
なくてもよいので、磁気ディスクに対する相対的移動方
向の幅を狭めることができ、コアブロック34aの軽量
化も図ることができる。
ところで、スライダー31aまたはコアブロック34a
あるいはその両方は、磁気ディスクの記録面との耐摩耗
性を考慮し、Al2O,−Tic等の非磁性材料を用い
てもよい。この場合においては、非磁性材料が用いられ
たスライダー31aまたはコアブロック34aあるいは
その両方に、前述の磁性薄膜を配置して、磁気回路を形
成することにより実現可能である。
あるいはその両方は、磁気ディスクの記録面との耐摩耗
性を考慮し、Al2O,−Tic等の非磁性材料を用い
てもよい。この場合においては、非磁性材料が用いられ
たスライダー31aまたはコアブロック34aあるいは
その両方に、前述の磁性薄膜を配置して、磁気回路を形
成することにより実現可能である。
次に、記録再生用磁気ヘッドの第6の実施例について、
第22図〜第29図に基づき説明する。
第22図〜第29図に基づき説明する。
本実施例の記録再生用磁気ヘッドは、スライダー51に
、2つのコアブロック52.52を実装している点と、
コアブロック52の形状および引出線接続パッド53,
53.53配置が異なっている点以外は、第2の実施例
および第4の実施例の変形例と同一構成である。
、2つのコアブロック52.52を実装している点と、
コアブロック52の形状および引出線接続パッド53,
53.53配置が異なっている点以外は、第2の実施例
および第4の実施例の変形例と同一構成である。
スライダー51のトラック幅方向の両側には、それぞれ
、コアブロック52.52が取付けられるように、第1
非磁性膜38、MR素子33、第2非磁性膜41、軟磁
性膜44、バックギャップ軟磁性膜45が、前述した薄
膜形成プロセスにより、形成されている。
、コアブロック52.52が取付けられるように、第1
非磁性膜38、MR素子33、第2非磁性膜41、軟磁
性膜44、バックギャップ軟磁性膜45が、前述した薄
膜形成プロセスにより、形成されている。
第1非磁性膜38上には、M R素子33をそのままコ
アブロック52.52間の中央方向に伸ばして引出導体
が形成さており、引出線接続用パッド53,53.53
は、前記引出導体の端部に接続されている。
アブロック52.52間の中央方向に伸ばして引出導体
が形成さており、引出線接続用パッド53,53.53
は、前記引出導体の端部に接続されている。
コアブロック52.52のスライダー51との接合部近
傍のトラック幅方向の長さは、コアブロック52.52
のその他の部位の1−ラック幅方向の長さと比べて、長
く、前記接合部での接合強度が十分得られるように、設
定されている。
傍のトラック幅方向の長さは、コアブロック52.52
のその他の部位の1−ラック幅方向の長さと比べて、長
く、前記接合部での接合強度が十分得られるように、設
定されている。
したがって、スライダー51とコアブロック52との接
合強度を高めることができるとともに。
合強度を高めることができるとともに。
コアブロック52のコイル35を施す部位を細くできる
ので、コアブロック52を軽量化することができる。ま
た、コアブロック52のコイル35を施す部位の中心か
らコイル35の最外周部までの第24図に示す距jlE
を短くすることができ、コイル35の慣性モーメントを
小さくすることができる。一方、引出線接続用パッド5
3,53゜53をスライダー51のトラック幅方向の中
央近傍に設けたので、磁気ディスクに対して垂直方向の
スライダー51の長さを短くすることができ、スライダ
ー51の軽量化を図ることができる。
ので、コアブロック52を軽量化することができる。ま
た、コアブロック52のコイル35を施す部位の中心か
らコイル35の最外周部までの第24図に示す距jlE
を短くすることができ、コイル35の慣性モーメントを
小さくすることができる。一方、引出線接続用パッド5
3,53゜53をスライダー51のトラック幅方向の中
央近傍に設けたので、磁気ディスクに対して垂直方向の
スライダー51の長さを短くすることができ、スライダ
ー51の軽量化を図ることができる。
このように、コアブロック52およびスライダー51の
軽量化を図ることができるので、記録再生用磁気ヘッド
を磁気ディスク上に浮上させた際の浮動量の変化の追従
性を向上させることができる。
軽量化を図ることができるので、記録再生用磁気ヘッド
を磁気ディスク上に浮上させた際の浮動量の変化の追従
性を向上させることができる。
本実施例の記録再生用ヘッドは、前述したように、第2
の実施例および第4の実施例の変形例と基本的には同一
構成であるため、これらの実施例と同様の効果を有する
ことは言うまでもない。
の実施例および第4の実施例の変形例と基本的には同一
構成であるため、これらの実施例と同様の効果を有する
ことは言うまでもない。
次に、本実施例の製造方法について、説明する。
まず、第25図に示すように、複数のスライダー51を
切り出すことができるスライダー店i反60上に、前記
各種膜を前述した薄膜形成プロセスにより、形成する。
切り出すことができるスライダー店i反60上に、前記
各種膜を前述した薄膜形成プロセスにより、形成する。
そして、各種膜が形成されたスライダー基板60から、
5個取りのスライダーブロック61を切り出す。
5個取りのスライダーブロック61を切り出す。
一方で、5個取りのスライダーブロック61に対応させ
て、第28図に示すように、5個取りのスライダーブロ
ック61との接合面に接合用のガラス材43が付着され
ている5組取りのコアブロック65を形成しておく。
て、第28図に示すように、5個取りのスライダーブロ
ック61との接合面に接合用のガラス材43が付着され
ている5組取りのコアブロック65を形成しておく。
5組取りのコアブロック65には、コイル用溝66と、
コアブロック52,52.〜の切り離し用の溝67.6
7、〜とが、形成されている。
コアブロック52,52.〜の切り離し用の溝67.6
7、〜とが、形成されている。
次に、ガラス材43に熱を加えて、5個取りのスライダ
ーブロック61と5組取りのコアブロック65とを接合
する。
ーブロック61と5組取りのコアブロック65とを接合
する。
そして、5組取りのコアブロック65を分難してから、
スライダー51の記録媒体対向面を加工して浮上面を形
成し、前記記録媒体対向面をラップ仕上げする。なお、
MR素子33および軟磁性膜44に、第1の実施例で説
明した前記加工終点検知用のパターンが形成されている
ならば、これに基づきラップ仕上げをすることが好まし
い。
スライダー51の記録媒体対向面を加工して浮上面を形
成し、前記記録媒体対向面をラップ仕上げする。なお、
MR素子33および軟磁性膜44に、第1の実施例で説
明した前記加工終点検知用のパターンが形成されている
ならば、これに基づきラップ仕上げをすることが好まし
い。
次に、5個取りのスライダーブロック61を各スライダ
ー51,51.〜に切断してから、切断面仕上げる。
ー51,51.〜に切断してから、切断面仕上げる。
最後に、コイル35を施し、引出線を引出線接続用パッ
ド53に接続して、浮動型記録再生用磁気ヘッドを完成
させる。
ド53に接続して、浮動型記録再生用磁気ヘッドを完成
させる。
なお、第30図に示すように、第2非磁性膜41上に形
成されるバックギャップ軟磁性膜45は、島状に2つの
軟磁性膜から形成してもよい。
成されるバックギャップ軟磁性膜45は、島状に2つの
軟磁性膜から形成してもよい。
このように、2つまたは複数の軟磁性膜45゜45を形
成し、コアブロック52との接合面に凹凸部を形成する
と、凹部46に接着剤43を確実に流し込めるため、コ
アブロック2oとスライダー51との接合信頼性を高め
ることができる。なお、バックギャップ軟磁性膜45.
45が島状に複数形成されても、バックギャップ部での
接合面を大きくすることができるので、接合面での磁気
抵抗の増大を防ぐことができ、記録特性を劣化させるこ
とはない。
成し、コアブロック52との接合面に凹凸部を形成する
と、凹部46に接着剤43を確実に流し込めるため、コ
アブロック2oとスライダー51との接合信頼性を高め
ることができる。なお、バックギャップ軟磁性膜45.
45が島状に複数形成されても、バックギャップ部での
接合面を大きくすることができるので、接合面での磁気
抵抗の増大を防ぐことができ、記録特性を劣化させるこ
とはない。
また、本実施例においても、第3の実施例で示したよう
に、スライダー51およびコアブロック52を耐摩耗性
に優れた非磁性セラミックスで形成してもよい。スライ
ダー51およびコアブロック52に非磁性セラミックス
を用いると、浮動型記録再生用磁気ヘッドでは、耐コン
タクトストップ特性や耐ヘツドクラツシユ性を向上させ
ることができる。
に、スライダー51およびコアブロック52を耐摩耗性
に優れた非磁性セラミックスで形成してもよい。スライ
ダー51およびコアブロック52に非磁性セラミックス
を用いると、浮動型記録再生用磁気ヘッドでは、耐コン
タクトストップ特性や耐ヘツドクラツシユ性を向上させ
ることができる。
次に、第7の実施例として、第31図に基づき。
磁気テープの記録再生用磁気ヘッドについて説明する。
本実施例の記録再生用磁気ヘッドは、マルチトラック型
で、リーディング側のコア70とトレーリング側のコア
71とを、それぞれトラック1陥方向に複数一体的に形
成したものである。
で、リーディング側のコア70とトレーリング側のコア
71とを、それぞれトラック1陥方向に複数一体的に形
成したものである。
リーディング側のコア70,70.・・・と1〜レーリ
ング側のコア71,71.・・・との間には、第1の実
施例で説明した各種膜が、形成されている。
ング側のコア71,71.・・・との間には、第1の実
施例で説明した各種膜が、形成されている。
また、リーディング側のコア70およびトレーリング側
のコア71は、それぞれ、第1の実施例における第1の
磁性部材10.第2の磁性部材21を構成している。
のコア71は、それぞれ、第1の実施例における第1の
磁性部材10.第2の磁性部材21を構成している。
リーディング側のコア7oとトレーリング側のコア71
とを接合して形成されるヘッドの磁気テープと接触する
面の形状は、空気を巻き込まない安定したテープタッチ
が得られるように、形成されている。
とを接合して形成されるヘッドの磁気テープと接触する
面の形状は、空気を巻き込まない安定したテープタッチ
が得られるように、形成されている。
本実施例の記録再生ヘッドの製造は、まず、リード側の
コア70が複数形成されているリープ、rング側コアブ
ロック72、または、トレーリング側のコア71が複数
形成されているトレーリング側のコアブロック73のい
ず九かに、前記各種膜を形成する。そして、それらを接
合し、磁気テープとの接触面を機械加工により仕上げる
。次に、引出線接続用パッド74に引出線を接続し、コ
イル75を巻き付ける。
コア70が複数形成されているリープ、rング側コアブ
ロック72、または、トレーリング側のコア71が複数
形成されているトレーリング側のコアブロック73のい
ず九かに、前記各種膜を形成する。そして、それらを接
合し、磁気テープとの接触面を機械加工により仕上げる
。次に、引出線接続用パッド74に引出線を接続し、コ
イル75を巻き付ける。
なお、本実施例は、第1の実施例と基本構造を同じくし
、磁気テープ用マルチトラック型の記録再生ヘッドを構
成するものであるが、第2の実施例、第3の実施例と基
本構造を同じくするものも、同様に、磁気テープ用マル
チトラック型の記録再生ヘッドを構成することができる
ことは、言うまでもない。
、磁気テープ用マルチトラック型の記録再生ヘッドを構
成するものであるが、第2の実施例、第3の実施例と基
本構造を同じくするものも、同様に、磁気テープ用マル
チトラック型の記録再生ヘッドを構成することができる
ことは、言うまでもない。
[発明の効果]
本発明によれば、磁気検出素子と磁気ポールを構成する
軟磁性膜とを薄膜形成できるので、記録ギャップ、記録
および再生トラック幅を狭めることができて、記録密度
を上げることができ、また、S/N比や記録再生特性を
良くすることができるとともに、薄膜コイルやそれに伴
う粕林暎を形成する必要がないので、製品製造工程が少
なく製造コストを低減することができる。
軟磁性膜とを薄膜形成できるので、記録ギャップ、記録
および再生トラック幅を狭めることができて、記録密度
を上げることができ、また、S/N比や記録再生特性を
良くすることができるとともに、薄膜コイルやそれに伴
う粕林暎を形成する必要がないので、製品製造工程が少
なく製造コストを低減することができる。
第1図は第1の実施例の全体斜視図、第2図は第1図に
おけるn−n線断面図、第3図は■矢視図、第4図は第
1の磁路形成部材の平面図、第5図は第4図におけるv
−v#i!断面図、第6図は第4図におけるVl−VI
線断面図、第7図は第4図における■−■線断面図、第
8図は第1の実施例の変形例の断面図、第9図は第2の
実施例の断面図。 第10図は第9図におけるX矢視図、第11図は第2の
実施例の変形例の断面図、第12図は第11図における
朋矢視図、第13図は第2の実施例のその他の変形例の
断面図、第14図は第3の実施例の断面図、第15図は
第14図におけるXV矢視図、第16図は第4の実施例
の全体斜視図、第17図は第16図におけるxv1矢視
図、第18図は第17図におけるX■−X■線断面図、
第19図は第4の実施例の変形例の上面図、第20図は
第19図におけるXX −XX線断面図、第21図は第
5の実施例の全体斜視図、第22図は第6の実施例の全
体斜視図、第23図は第22図におけるXXl−XXI
XX線断面図24図は第22図におけるXXN矢視図、
第25図はスライダー基板の正面図、第26図は第25
図におけるXX1I−XXSI線断面図、第27図は第
25図におけるXX■−X X jl線断面図、第28
図は5個取りのコアブロックの全体斜視図、第29図は
5個取りのスライダーブロックの全体斜視図、第30図
は第6の実施例の変形例の要部斜視図、第31図は第7
の実施例の全体斜視図である。 2・・・第2の軟磁性膜、3・・・磁気検出素子、4・
第1の軟磁性膜、5・・・バックギャップ軟磁性膜。 6.7.22・・・非磁性膜、8・・・引出導体、9゜
36.53・・・引出線接続用パッド、10・・・第1
の磁性部材(第1の磁路形成部材)、10a・・・第1
の磁路形成部材、11.43・・・接着剤、12゜35
.75・・・コイル、14・・・第1の非磁性部材。 20.20a・・・第2の磁路形成部材、21・・・第
2の磁性部材、21a・・・第2の非磁性部材、31゜
31a、51・・・スライダー、32・・・フロントギ
ャップ部、34,34a、52・・・コアブロック、4
6・・・凹部、60・・・スライダー基板、61・・・
5個取りスライダーブロック、65・・・5個取りコア
ブロック。
おけるn−n線断面図、第3図は■矢視図、第4図は第
1の磁路形成部材の平面図、第5図は第4図におけるv
−v#i!断面図、第6図は第4図におけるVl−VI
線断面図、第7図は第4図における■−■線断面図、第
8図は第1の実施例の変形例の断面図、第9図は第2の
実施例の断面図。 第10図は第9図におけるX矢視図、第11図は第2の
実施例の変形例の断面図、第12図は第11図における
朋矢視図、第13図は第2の実施例のその他の変形例の
断面図、第14図は第3の実施例の断面図、第15図は
第14図におけるXV矢視図、第16図は第4の実施例
の全体斜視図、第17図は第16図におけるxv1矢視
図、第18図は第17図におけるX■−X■線断面図、
第19図は第4の実施例の変形例の上面図、第20図は
第19図におけるXX −XX線断面図、第21図は第
5の実施例の全体斜視図、第22図は第6の実施例の全
体斜視図、第23図は第22図におけるXXl−XXI
XX線断面図24図は第22図におけるXXN矢視図、
第25図はスライダー基板の正面図、第26図は第25
図におけるXX1I−XXSI線断面図、第27図は第
25図におけるXX■−X X jl線断面図、第28
図は5個取りのコアブロックの全体斜視図、第29図は
5個取りのスライダーブロックの全体斜視図、第30図
は第6の実施例の変形例の要部斜視図、第31図は第7
の実施例の全体斜視図である。 2・・・第2の軟磁性膜、3・・・磁気検出素子、4・
第1の軟磁性膜、5・・・バックギャップ軟磁性膜。 6.7.22・・・非磁性膜、8・・・引出導体、9゜
36.53・・・引出線接続用パッド、10・・・第1
の磁性部材(第1の磁路形成部材)、10a・・・第1
の磁路形成部材、11.43・・・接着剤、12゜35
.75・・・コイル、14・・・第1の非磁性部材。 20.20a・・・第2の磁路形成部材、21・・・第
2の磁性部材、21a・・・第2の非磁性部材、31゜
31a、51・・・スライダー、32・・・フロントギ
ャップ部、34,34a、52・・・コアブロック、4
6・・・凹部、60・・・スライダー基板、61・・・
5個取りスライダーブロック、65・・・5個取りコア
ブロック。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、コイルが巻かれる第1の磁路形成部材と、前記第1
の磁路形成部材とともに、磁路を形成する第2の磁路形
成部材と、 前記第1の磁路形成部材と前記第2の磁路形成部材との
フロントギャップ部に形成され、磁界の変化を検出する
磁気検出素子と、軟磁性膜とを有する膜構造体とを備え
ていることを特徴とする記録再生用磁気ヘッド。 2、磁界の変化を検出する磁気検出素子と、軟磁性膜と
を有する膜構造体と、 前記膜構造体が形成されるヘッド基体と、 前記ヘッド基体とともに磁路を形成し、コイルが巻かれ
る磁路形成部材とを有することを特徴とする記録再生用
磁気ヘッド。 3、前記第1の磁路形成部材と前記第2の磁路形成部材
とは、共に磁性材で形成されていることを特徴とする請
求項1記載の記録再生用磁気ヘッド。 4、前記第1の磁路形成部材と前記第2の磁路形成部材
とは、共に非磁性材と磁路を形成する磁性材とで形成さ
れていることを特徴とする請求項1記載の記録再生用磁
気ヘッド。 5、前記第1の磁路形成部材と前記第2の磁路形成部材
とのいずれか一方が、磁性材で形成され、他方が、非磁
性材と磁路を形成する磁性材とで形成されていることを
特徴とする請求項1記載の記録再生用磁気ヘッド。 6、前記軟磁性膜は、前記磁気検出素子の少なくともト
レーリング側に有することを特徴とする請求項1、3、
4、または5記載の記録再生用磁気ヘッド。 7、前記軟磁性膜は、前記磁気検出素子の両側に有する
ことを特徴とする請求項1、3、4、または5記載の記
録再生用磁気ヘッド。 8、前記第1の磁路形成部材と前記第2の磁路形成部材
とのバックギャップ部に、該第1の磁路形成部材と該第
2の磁路形成部材とを磁気的に接続する軟磁性膜を有す
ることを特徴とする請求項1、3、4、5、6、または
7記載の記録再生用磁気ヘッド。 9、前記磁気検出素子に隣接させて、絶縁性を有する非
磁性膜を形成し、 前記非磁性膜上に、前記磁気検出素子に電流を供給する
引出導体を設け、 前記引出導体の端部に、引出線が接続される引出線接続
用パッドを設けたことを特徴とする請求項1、3、4、
5、6、7、または8記載の記録再生用磁気ヘッド。 10、前記軟磁性膜の膜厚が、記録磁界が形成される記
録ギャップの間隔より、厚いことを特徴とする請求項1
、3、4、5、6、7、8、または9記載の記録再生用
磁気ヘッド。 11、前記軟磁性膜のトラック幅方向の長さが、前記磁
気検出素子のトラック幅方向の長さより、長いことを特
徴とする請求項1、3、4、5、6、7、8、9、また
は10記載の記録再生用磁気ヘッド。 12、前記フロントギャップ部のトラック幅方向の長さ
が、前記軟磁性膜のトラック幅方向の長さより、長いこ
とを特徴とする請求項1、3、4、5、6、7、8、9
、10、または11記載の記録再生用磁気ヘッド。 13、前記第1の磁路形成部材のコイルが巻かれる部位
のトラック幅方向長さが、前記フロントギャップ部のト
ラック幅方向の長さとバンクギャップ部のトラック幅方
向の長さとのうちいずれか短い方より、短いことを特徴
とする請求項1、3、4、5、6、7、8、9、10、
11、または12記載の記録再生用磁気ヘッド。 14、磁路を形成すべく、前記第1の磁路形成部材と前
記第2の磁路形成部材とが、互いに接合する少なくとも
一方の接合面に、接着剤が流れ込む凹部を形成したこと
を特徴とする請求項1、3、4、5、6、7、8、9、
10、11、12、または13記載の記録再生用磁気ヘ
ッド。 15、前記第2の磁路形成部材に対して、2以上の前記
第1の磁路形成部材を有することを特徴とする請求項1
、3、4、6、7、8、9、10、11、12、13、
または14記載の記録再生用磁気ヘッド。 16、請求項1、3、4、5、7、8、9、10、11
、12、13、14、または15記載の記録再生用磁気
ヘッドであって、 前記第2の磁路形成部材が、浮上面を有するスライダー
部材を形成し、 前記第1の磁路形成部材がコア部材を形成することを特
徴とする浮上型記録再生用磁気ヘッド。 17、前記スライダー部材の前記コア部材と対向する面
に、前記コア部材に巻かれるコイルを回避するためのコ
イル用回避部を形成し、 前記コア部材に前記膜構造体を形成したことを特徴とす
る請求項16記載の浮上型記録再生用磁気ヘッド。 18、記録再生用磁気ヘッドの母材となるヘッド基体に
、磁界の変化を検出する磁気検出素子と軟磁性膜とを薄
膜形成して膜構造体を形成し、前記膜構造体が形成され
た前記ヘッド基体に、コア部材を接合し、 前記コア部材にコイルを設けたことを特徴とする記録再
生用磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1207717A JPH02168408A (ja) | 1988-09-19 | 1989-08-10 | 記録再生用磁気ヘッドおよびその製造方法 |
US07/408,690 US5181149A (en) | 1988-09-19 | 1989-09-18 | Magnetic recording/reproducing head assembly |
KR1019890013410A KR930001145B1 (ko) | 1988-09-19 | 1989-09-19 | 기록재생용 자기헤드 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23231088 | 1988-09-19 | ||
JP63-232310 | 1988-09-19 | ||
JP1207717A JPH02168408A (ja) | 1988-09-19 | 1989-08-10 | 記録再生用磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02168408A true JPH02168408A (ja) | 1990-06-28 |
Family
ID=26516425
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1207717A Pending JPH02168408A (ja) | 1988-09-19 | 1989-08-10 | 記録再生用磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5181149A (ja) |
JP (1) | JPH02168408A (ja) |
KR (1) | KR930001145B1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04284443A (ja) * | 1991-03-14 | 1992-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気ヘッド |
EP0521442A2 (en) * | 1991-07-02 | 1993-01-07 | Sony Corporation | Composite thin film recording/reproducing head |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0452846B1 (en) * | 1990-04-16 | 1996-02-28 | Hitachi, Ltd. | Narrow track thin film magnetic head and fabrication method thereof |
JP3106541B2 (ja) * | 1991-04-15 | 2000-11-06 | 日本電気株式会社 | 磁気ヘッド駆動回路 |
KR930008725A (ko) * | 1991-10-01 | 1993-05-21 | 프레데릭 얀 스미트 | 자기기록 운반체상의 트랙으로부터 디지탈 신호를 재생시키는 장치 |
KR200156789Y1 (ko) * | 1992-08-06 | 1999-09-01 | 요트.게.아. 롤페즈 | 다층구조를 가진 자기헤드와 그 제조방법 |
US5475550A (en) * | 1992-08-25 | 1995-12-12 | Seagate Technology, Inc. | Enhanced cross-talk suppression in magnetoresistive sensors |
DE69431815D1 (de) * | 1993-05-31 | 2003-01-09 | Tdk Corp | Magnetische Aufzeichnungs-/Wiedergabemethode |
EP0650156A1 (en) * | 1993-10-21 | 1995-04-26 | Seagate Technology International | Contact scheme for minimizing inductive pickup in magnetoresistive read heads |
US5680283A (en) * | 1994-09-30 | 1997-10-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic head and magnetic disk drive |
US6088204A (en) * | 1994-12-01 | 2000-07-11 | International Business Machines Corporation | Magnetoresistive magnetic recording head with permalloy sensor layer deposited with substrate heating |
JP3447164B2 (ja) * | 1995-12-08 | 2003-09-16 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録再生装置 |
EP0780833A3 (en) * | 1995-12-20 | 1999-01-07 | Ampex Corporation | Improved magnetic recording system having a saturable layer and detection using MR element |
US5978186A (en) * | 1996-03-14 | 1999-11-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head and reproducing apparatus with head having central core with winding thereabout and wire therethrough |
JP4297585B2 (ja) * | 2000-02-28 | 2009-07-15 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | 磁気記録再生装置 |
JP2004334945A (ja) * | 2003-05-02 | 2004-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 複合型磁気ヘッド及びその製造方法 |
JP4649433B2 (ja) * | 2007-03-27 | 2011-03-09 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、磁気記憶装置及び磁気メモリ |
US8107197B2 (en) * | 2008-12-30 | 2012-01-31 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Slider with integrated writer and semiconductor heterostucture read sensor |
US8559123B2 (en) * | 2010-06-14 | 2013-10-15 | Tdk Corporation | Magnetic recording device, magnetic recording method and magnetic recording medium for shingle write scheme |
US9594995B1 (en) * | 2016-01-25 | 2017-03-14 | Smartdisplayer Technology Co., Ltd. | Magnetic card |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3887945A (en) * | 1973-12-12 | 1975-06-03 | Ibm | Head assembly for recording and reading, employing inductive and magnetoresistive elements |
US3975772A (en) * | 1975-06-02 | 1976-08-17 | International Business Machines Corporation | Double shielded magnetorestive sensing element |
US4255772A (en) * | 1979-06-29 | 1981-03-10 | International Business Machines Corporation | Read/write magnetic head assembly with magnetoresistive sensor |
US4547824A (en) * | 1982-12-17 | 1985-10-15 | International Business Machines Corporation | Dual biasing for integrated inductive MR head |
JPS60121156A (ja) * | 1983-12-02 | 1985-06-28 | Takeuchi Tekko Kk | 車両の水垢除去装置 |
US4803580A (en) * | 1987-02-17 | 1989-02-07 | Magnetic Peripherals Inc. | Double-gap magnetoresistive head having an elongated central write/shield pole completely shielding the magnetoresistive sensor strip in the read gap |
-
1989
- 1989-08-10 JP JP1207717A patent/JPH02168408A/ja active Pending
- 1989-09-18 US US07/408,690 patent/US5181149A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-19 KR KR1019890013410A patent/KR930001145B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04284443A (ja) * | 1991-03-14 | 1992-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気ヘッド |
EP0521442A2 (en) * | 1991-07-02 | 1993-01-07 | Sony Corporation | Composite thin film recording/reproducing head |
EP0521442A3 (ja) * | 1991-07-02 | 1994-08-03 | Sony Corp |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR930001145B1 (ko) | 1993-02-19 |
US5181149A (en) | 1993-01-19 |
KR900005380A (ko) | 1990-04-14 |
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