JPH02118601A - 防眩観察面を有する光学観察スクリーンの製造方法 - Google Patents
防眩観察面を有する光学観察スクリーンの製造方法Info
- Publication number
- JPH02118601A JPH02118601A JP1218412A JP21841289A JPH02118601A JP H02118601 A JPH02118601 A JP H02118601A JP 1218412 A JP1218412 A JP 1218412A JP 21841289 A JP21841289 A JP 21841289A JP H02118601 A JPH02118601 A JP H02118601A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- film
- temperature
- temp
- antistatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 76
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 72
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 9
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 7
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 10
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 8
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 5
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 244000000626 Daucus carota Species 0.000 description 2
- 235000002767 Daucus carota Nutrition 0.000 description 2
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-O azanium;hydrofluoride Chemical compound [NH4+].F LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- -1 palladium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-8-nitroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(OC)=CC([N+]([O-])=O)=C21 MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150117824 Calr gene Proteins 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001474977 Palla Species 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M gold monochloride Chemical compound [Cl-].[Au+] FDWREHZXQUYJFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- FAKFSJNVVCGEEI-UHFFFAOYSA-J tin(4+);disulfate Chemical compound [Sn+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O FAKFSJNVVCGEEI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/24—Supports for luminescent material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/89—Optical or photographic arrangements structurally combined or co-operating with the vessel
- H01J29/896—Anti-reflection means, e.g. eliminating glare due to ambient light
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/23—Mixtures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の利用分野)
この発明は、例えば陰極線管の観察面などのガラス製支
持体上に防眩効果を持ち、かつ画像を透過する珪酸リチ
ウム被膜を形成する改善された方法に関するものである
。この被膜はまた帯電防止特性を与えるようにすること
もてきる。
持体上に防眩効果を持ち、かつ画像を透過する珪酸リチ
ウム被膜を形成する改善された方法に関するものである
。この被膜はまた帯電防止特性を与えるようにすること
もてきる。
(発明の背景)
1986年1月7日付米国特許第4,560,581号
にはガラス支持体上に、珪酸リチウム製の防眩被膜を形
成する方法か示されている。この方法ては、ガラス支持
体は約40°C〜80°Cに加熱され、次いて、リチウ
ムで安定化されたシリカゾルを含む稀釈された水溶液て
、例えば、エアスプレー法により被覆される。このよう
にして形成した被膜は空気乾燥され、温水で洗われ、再
び空気乾燥されて、その後、100℃以下、好ましくは
約90℃の温度で10〜60分間ベーキンクされる。耐
摩耗性はこのベーキングの温度に直接関係する。ベーキ
ンク温度か高いほど、被膜の耐摩耗性も高くなる。この
方法は1975年8月 5日付米国特許第3.8913
.509号及び1976年2月24日付米国特許第3.
9110.511号に開示の方法とは次の点て異なる。
にはガラス支持体上に、珪酸リチウム製の防眩被膜を形
成する方法か示されている。この方法ては、ガラス支持
体は約40°C〜80°Cに加熱され、次いて、リチウ
ムで安定化されたシリカゾルを含む稀釈された水溶液て
、例えば、エアスプレー法により被覆される。このよう
にして形成した被膜は空気乾燥され、温水で洗われ、再
び空気乾燥されて、その後、100℃以下、好ましくは
約90℃の温度で10〜60分間ベーキンクされる。耐
摩耗性はこのベーキングの温度に直接関係する。ベーキ
ンク温度か高いほど、被膜の耐摩耗性も高くなる。この
方法は1975年8月 5日付米国特許第3.8913
.509号及び1976年2月24日付米国特許第3.
9110.511号に開示の方法とは次の点て異なる。
即ち、これら2つの米国特許の方法では、洗浄の前に、
被覆は150°C以上の温度てベーキングして乾燥させ
ることが必要である。これらの2つの米国特許の発明者
らは、この洗浄に先立つ高温てのベーキングは、被膜の
水に対する溶解性を小さくし、被lりのガラス支持体へ
の接着性を増し、かつ、被膜の耐摩耗性を実用的な値に
まで高めるために必要であると考えていた。
被覆は150°C以上の温度てベーキングして乾燥させ
ることが必要である。これらの2つの米国特許の発明者
らは、この洗浄に先立つ高温てのベーキングは、被膜の
水に対する溶解性を小さくし、被lりのガラス支持体へ
の接着性を増し、かつ、被膜の耐摩耗性を実用的な値に
まで高めるために必要であると考えていた。
1986年1月 7日付米国特許第4,563.6]、
2号には、帯電防止効果及び防眩効果を有しかつ画像を
透過する被膜を外側観察表面に有する陰極線管か開示さ
れている。この被膜組成には、水性リチウム安定化シリ
カゾルのほかに被膜に帯電防止特性を付与する無機金属
化合物か含まれている。この被膜は、例えば、約30分
間約40°C〜45°Cに暖めた管のフェースプレート
にエアスプレー法により塗布される。被膜は乾燥され、
ついて、150°C〜300°Cの間の温度で10〜6
0分間ベーキングを施される。但し、120°Cて10
分間のベーキング(但し、加熱に30分、冷却に30分
をかける)てもよい結果か得られている。このベーキン
グにより、帯電防止・防眩被膜の最終的な電気的、光学
的、物理的特性か現われる。この被膜は、安価で製造が
容易であり、かつ、帯電防止特性を有するとされている
従来の、構造的に異なる4分の1波長防眩被膜よりも、
耐摩耗性及び工場における通常の熱処理に対する耐久性
か高いと述べられている。
2号には、帯電防止効果及び防眩効果を有しかつ画像を
透過する被膜を外側観察表面に有する陰極線管か開示さ
れている。この被膜組成には、水性リチウム安定化シリ
カゾルのほかに被膜に帯電防止特性を付与する無機金属
化合物か含まれている。この被膜は、例えば、約30分
間約40°C〜45°Cに暖めた管のフェースプレート
にエアスプレー法により塗布される。被膜は乾燥され、
ついて、150°C〜300°Cの間の温度で10〜6
0分間ベーキングを施される。但し、120°Cて10
分間のベーキング(但し、加熱に30分、冷却に30分
をかける)てもよい結果か得られている。このベーキン
グにより、帯電防止・防眩被膜の最終的な電気的、光学
的、物理的特性か現われる。この被膜は、安価で製造が
容易であり、かつ、帯電防止特性を有するとされている
従来の、構造的に異なる4分の1波長防眩被膜よりも、
耐摩耗性及び工場における通常の熱処理に対する耐久性
か高いと述べられている。
この米国特許第4,563,612号に記載されている
帯電防止・防眩被膜の欠点は、被膜の最終的な電気的、
光学的、物理的特性を出現させるためには、少なくとも
120°C1好ましくは150°C〜300°Cの範囲
内の温度を採用した、時間と費用のかかるベーキング工
程を用いることである。
帯電防止・防眩被膜の欠点は、被膜の最終的な電気的、
光学的、物理的特性を出現させるためには、少なくとも
120°C1好ましくは150°C〜300°Cの範囲
内の温度を採用した、時間と費用のかかるベーキング工
程を用いることである。
この発明の方法は、ガラス支持体を室温より高い第1の
温度に暖める段階、暖められた支持体の表面をリチウム
÷安定化÷÷シリカツルを含む水溶液の被膜て覆う段階
、ついて、支持体の表面及びその上の被膜を熱源に短時
間さらして、その温度を」二記の第1の温度よりも高い
第2の温度に上昇させる段階とを含んている。この後、
従来と同様に、被膜は水、好ましくは温水で洗われて可
溶性のアルカリ化合物か除去される。
温度に暖める段階、暖められた支持体の表面をリチウム
÷安定化÷÷シリカツルを含む水溶液の被膜て覆う段階
、ついて、支持体の表面及びその上の被膜を熱源に短時
間さらして、その温度を」二記の第1の温度よりも高い
第2の温度に上昇させる段階とを含んている。この後、
従来と同様に、被膜は水、好ましくは温水で洗われて可
溶性のアルカリ化合物か除去される。
好ましくは、第1の温度は約48°C〜50℃である。
被覆はスプレー法等により行うことかてきる。また、こ
の分野で知られているように、例えばパラジウム化合物
のような無機金属化合物を被膜組成に加えて帯電防止特
性を付与するように17てもよい。
の分野で知られているように、例えばパラジウム化合物
のような無機金属化合物を被膜組成に加えて帯電防止特
性を付与するように17てもよい。
驚くべきことには、支持体の表面及びその上の被膜の温
度を第1の温度よりも高い第2の温度(例えば、約65
°C)に高める熱源に上記支持体表面と被膜を短時間さ
らすことて、被膜の光学的及び物理的特性を現出させる
ことができる。被膜が少量のパラジウム化合物を含む場
合には、得られた被膜の帯電防止特性は、前述の米国特
許第4.563,612号の方法によって得られる被膜
のものと同等てあり、しかも、この発明の被膜は短い処
理時間と少ない費用で作ることが可能である。
度を第1の温度よりも高い第2の温度(例えば、約65
°C)に高める熱源に上記支持体表面と被膜を短時間さ
らすことて、被膜の光学的及び物理的特性を現出させる
ことができる。被膜が少量のパラジウム化合物を含む場
合には、得られた被膜の帯電防止特性は、前述の米国特
許第4.563,612号の方法によって得られる被膜
のものと同等てあり、しかも、この発明の被膜は短い処
理時間と少ない費用で作ることが可能である。
(実施例の説明)
この発明の方法は、各処理工程の順序、加熱の方法、い
くつかの温度範囲及び推奨される動作温度以外は、前述
の米国特許第4,563,612号に記載されていると
同様にして実施してもよい。前記米国特許の方法との主
たる相異点は、陰極線管の観察表面を帯電防止、防眩被
膜で被覆した後、熱源を用いて被膜とその下の表面とを
急速に加熱、好ましくは、約30秒間65°Cの温度に
加熱して、被膜の帯電防止特性、光学的特性及び物理的
特性を加熱時間及び費用を低減して現出させるようにし
た点である。この後、被膜を温水(例えば、49°C〜
60°Cの水)で洗い乾燥する。良好な耐摩耗特性及び
耐指紋特性(指紋により変質しないこと)を持つ被膜を
得るための最後の高温ベーキング工程は不要である。さ
らに、処理後、少なくとも1週間は、不良被膜を容易に
除去できる。
くつかの温度範囲及び推奨される動作温度以外は、前述
の米国特許第4,563,612号に記載されていると
同様にして実施してもよい。前記米国特許の方法との主
たる相異点は、陰極線管の観察表面を帯電防止、防眩被
膜で被覆した後、熱源を用いて被膜とその下の表面とを
急速に加熱、好ましくは、約30秒間65°Cの温度に
加熱して、被膜の帯電防止特性、光学的特性及び物理的
特性を加熱時間及び費用を低減して現出させるようにし
た点である。この後、被膜を温水(例えば、49°C〜
60°Cの水)で洗い乾燥する。良好な耐摩耗特性及び
耐指紋特性(指紋により変質しないこと)を持つ被膜を
得るための最後の高温ベーキング工程は不要である。さ
らに、処理後、少なくとも1週間は、不良被膜を容易に
除去できる。
この発明の方法を図のフローチャートに概略的に示す。
フローチャートの工程を開始する前に、防眩被膜を支持
するためのガラス表面か慎重に清浄化される。この表面
としては、例えば、陰極線管のフェースプレートの外表
面、あるいは、陰極線管のフェースプレートに積層され
るガラス製安全パネルの凸面、あるいは、その他、観察
面となるガラス支持体の面、例えば、絵を入れた額縁の
ガラスの面などかある。この表面は、表面に掻き傷を付
けることなく、はこり、ちり、油、さび等を除去するだ
めの公知の摩き法及び洗浄法の任意のものによって清浄
にされる。好ましい方法は、表面を市販の摩き剤て摩き
、ついて脱イオン水でずすぎ、5重量%弗化水素アンモ
ニウム水溶液て表面を拭い、再び脱イオン水でずすぎ、
この脱イオン水を除いた後、表面を空気中て乾燥させる
。
するためのガラス表面か慎重に清浄化される。この表面
としては、例えば、陰極線管のフェースプレートの外表
面、あるいは、陰極線管のフェースプレートに積層され
るガラス製安全パネルの凸面、あるいは、その他、観察
面となるガラス支持体の面、例えば、絵を入れた額縁の
ガラスの面などかある。この表面は、表面に掻き傷を付
けることなく、はこり、ちり、油、さび等を除去するだ
めの公知の摩き法及び洗浄法の任意のものによって清浄
にされる。好ましい方法は、表面を市販の摩き剤て摩き
、ついて脱イオン水でずすぎ、5重量%弗化水素アンモ
ニウム水溶液て表面を拭い、再び脱イオン水でずすぎ、
この脱イオン水を除いた後、表面を空気中て乾燥させる
。
この発明の好ましい実施例によれば、例えば、排気され
封止された管のフェースプレートのような清浄なカラス
支持体が、例えば、炉中で、約50℃に暖められる。温
かいフェースプレートの外表面とフェースプレートに巻
かれた緊締金属バンドか、リチウムや安定化寺←七シリ
カゾルと、硫酸パラジウム、硫酸錫、塩化錫あるいは塩
化金のような水溶性金属化合物との稀釈水溶液て被覆さ
れる。被膜は従来法、例えば、スプレー法により、−層
あるいは数層に塗布することがてきる。フェースプレー
トの温度、被膜形成のための特定の技法及び塗布される
層の数は所望の厚さの被膜か形成されるように実験的に
選択される。フェースプレートの温度は好ましくは48
°C〜50℃である。温度が低すぎると(例えば、20
°C)、被膜がビート状になり、あるいは、鏡面反射率
か高くなりすぎ、一方、温度が高すぎると、外観が乾燥
した印象を与える被膜がてきる。被膜をスプレー法によ
り塗布する場合には、乾燥した被膜の厚さが、作業員が
ガラス支持体の上方的1.83m (約6フイート)に
置いた3管蛍光灯装置の反射から3本の管を見分けるこ
とを可能にするような厚さとすべきであることがわかっ
た。最初の被膜を厚くすると、最後の被膜も厚くなる。
封止された管のフェースプレートのような清浄なカラス
支持体が、例えば、炉中で、約50℃に暖められる。温
かいフェースプレートの外表面とフェースプレートに巻
かれた緊締金属バンドか、リチウムや安定化寺←七シリ
カゾルと、硫酸パラジウム、硫酸錫、塩化錫あるいは塩
化金のような水溶性金属化合物との稀釈水溶液て被覆さ
れる。被膜は従来法、例えば、スプレー法により、−層
あるいは数層に塗布することがてきる。フェースプレー
トの温度、被膜形成のための特定の技法及び塗布される
層の数は所望の厚さの被膜か形成されるように実験的に
選択される。フェースプレートの温度は好ましくは48
°C〜50℃である。温度が低すぎると(例えば、20
°C)、被膜がビート状になり、あるいは、鏡面反射率
か高くなりすぎ、一方、温度が高すぎると、外観が乾燥
した印象を与える被膜がてきる。被膜をスプレー法によ
り塗布する場合には、乾燥した被膜の厚さが、作業員が
ガラス支持体の上方的1.83m (約6フイート)に
置いた3管蛍光灯装置の反射から3本の管を見分けるこ
とを可能にするような厚さとすべきであることがわかっ
た。最初の被膜を厚くすると、最後の被膜も厚くなる。
一般に、被膜が厚くなれば、グレイ(眩しさ)の減少は
大きくなり、発光画像の解像度の低下も大きくなる。逆
に、被膜か薄くなると、それたけグレイの低下も少なく
なり、発光画像の解像度の低下も減少する。
大きくなり、発光画像の解像度の低下も大きくなる。逆
に、被膜か薄くなると、それたけグレイの低下も少なく
なり、発光画像の解像度の低下も減少する。
また、スプレーによって塗布する時は、被膜は外観か乾
燥した感じとなる。乾燥した感じは、(1)被膜の塗布
時のパネルの温度を高くする、(2)圧搾空気てスプレ
ーする時のスプレー中の空気を多くする、(3)被膜を
スプレーする時のスフレ−距離を大きくする。(4)
SiO2/ Li2Dのモル比を大きくすることによっ
て増大させることがてきる。しかし、これか過ぎると被
膜にひびが入る。
燥した感じとなる。乾燥した感じは、(1)被膜の塗布
時のパネルの温度を高くする、(2)圧搾空気てスプレ
ーする時のスプレー中の空気を多くする、(3)被膜を
スプレーする時のスフレ−距離を大きくする。(4)
SiO2/ Li2Dのモル比を大きくすることによっ
て増大させることがてきる。しかし、これか過ぎると被
膜にひびが入る。
外観の乾いた感しか大きくなると、防眩効果も増し、ま
た、発光画像の解像度の損失も大きくなる。逆に、外観
の乾いた感しか小さくなれば、それたけ防眩効果も低下
し、発光画像の解像度の低下も小さくなる。
た、発光画像の解像度の損失も大きくなる。逆に、外観
の乾いた感しか小さくなれば、それたけ防眩効果も低下
し、発光画像の解像度の低下も小さくなる。
好ましくは、被膜の組成は、約1〜10重量%の固体と
、このツル中の全固体の重量に対し0.005〜0.0
2重量%金属元素とを含む水性のリチウム安定化シリカ
ツルである。この金属元素としては、例えば、プラチナ
、パラジウム、錫及び金の中のlまたはそれ以上とする
ことかでき、好ましくは、水溶性の塩としてゾルに導入
される。一般に、無電界メツキて表面を材感するために
使用される金属元素の中の任意のものを、この発明にお
ける金属元素の1乃至それ以上のものとして用いること
ができる。金属元素の濃度か約0.005重量%より低
い時は、帯電防止効果が不足または不安定となる。また
、金属元素の濃度か約0.02重量%を越えると、被膜
はまだらになったり、真珠光沢を呈したり、あるいは、
透光性に悪影響が出る。
、このツル中の全固体の重量に対し0.005〜0.0
2重量%金属元素とを含む水性のリチウム安定化シリカ
ツルである。この金属元素としては、例えば、プラチナ
、パラジウム、錫及び金の中のlまたはそれ以上とする
ことかでき、好ましくは、水溶性の塩としてゾルに導入
される。一般に、無電界メツキて表面を材感するために
使用される金属元素の中の任意のものを、この発明にお
ける金属元素の1乃至それ以上のものとして用いること
ができる。金属元素の濃度か約0.005重量%より低
い時は、帯電防止効果が不足または不安定となる。また
、金属元素の濃度か約0.02重量%を越えると、被膜
はまだらになったり、真珠光沢を呈したり、あるいは、
透光性に悪影響が出る。
ゾル中における、5iO−と桝+÷Li ’i Qの比
は、約41乃至約25=lである。シリカゾルは実質的
に、リチウム以外のアルカリ金属イオン及びヒドロキシ
ル以外の陰イオンを含まない。リチウム安定化シリカゾ
ルは、珪酸リチウム溶液とは実質的に異なり、後者は溶
媒中に溶解した化合物であってゾルてはない。ついて行
われる加熱により、リチウム安定化シリカゾル被膜は乾
燥して珪酸リチウム被膜となる。リチウム安定化シリカ
ツルの代りに、リチウム、ナトリウム及びカリウムのl
以−にのものの珪酸塩の溶液を用いてもよい。また、M
[奨されるリチウム安定化シリカツルの代りに、有機珪
酸塩、例えは、テトラエチルオルトシリケート等を用い
ることもてきる。また、組成中に顔料粒子及び/または
染料を加えて、輝度を初期の値の約50%まて減少させ
、及び/または透過した画像のスペクトル分布を変える
ようにすることもてきる。
は、約41乃至約25=lである。シリカゾルは実質的
に、リチウム以外のアルカリ金属イオン及びヒドロキシ
ル以外の陰イオンを含まない。リチウム安定化シリカゾ
ルは、珪酸リチウム溶液とは実質的に異なり、後者は溶
媒中に溶解した化合物であってゾルてはない。ついて行
われる加熱により、リチウム安定化シリカゾル被膜は乾
燥して珪酸リチウム被膜となる。リチウム安定化シリカ
ツルの代りに、リチウム、ナトリウム及びカリウムのl
以−にのものの珪酸塩の溶液を用いてもよい。また、M
[奨されるリチウム安定化シリカツルの代りに、有機珪
酸塩、例えは、テトラエチルオルトシリケート等を用い
ることもてきる。また、組成中に顔料粒子及び/または
染料を加えて、輝度を初期の値の約50%まて減少させ
、及び/または透過した画像のスペクトル分布を変える
ようにすることもてきる。
暖められたカラス支持体に被膜を形成した後、この被膜
は糸屑や他の異物の粒子等か被膜に伺着しないように慎
重に空気中て乾燥される。被膜とその下の支持体表面は
、通常の赤外線(IR)熱源またはカロット(calr
od)ヒータによって発せられる熱に対して約30秒さ
らす、即ち、スキン(skin)加熱される。カロット
ヒータは米国ニューヨーク州スケネクタディのセネラル
エレクトリック社て製造されている。支持体表面の温度
は、例えば、フェースプレートに取付けた熱電対て測定
して約65°Cである。熱電対の代りに赤外線(IR)
温度計を用いて支持体表面温度を測定するこ J− ともてきる。「スキン」加熱はフェースプレートの本体
は実質的に加熱しない。一般に、加熱温度を高くすると
、製品の防眩効果は低くなり、耐摩耗性は高くなる。従
来は、充分な耐摩耗性を得るためには、】50°C〜3
00°Cの温度範囲内て10〜60分のベーキングか必
要であると考えられていた。
は糸屑や他の異物の粒子等か被膜に伺着しないように慎
重に空気中て乾燥される。被膜とその下の支持体表面は
、通常の赤外線(IR)熱源またはカロット(calr
od)ヒータによって発せられる熱に対して約30秒さ
らす、即ち、スキン(skin)加熱される。カロット
ヒータは米国ニューヨーク州スケネクタディのセネラル
エレクトリック社て製造されている。支持体表面の温度
は、例えば、フェースプレートに取付けた熱電対て測定
して約65°Cである。熱電対の代りに赤外線(IR)
温度計を用いて支持体表面温度を測定するこ J− ともてきる。「スキン」加熱はフェースプレートの本体
は実質的に加熱しない。一般に、加熱温度を高くすると
、製品の防眩効果は低くなり、耐摩耗性は高くなる。従
来は、充分な耐摩耗性を得るためには、】50°C〜3
00°Cの温度範囲内て10〜60分のベーキングか必
要であると考えられていた。
この発明の方法は、被膜をスキン加熱し、その後、洗っ
て可溶性のアルカリ化合物を除くようにすれば、高品質
の帯電防止防眩被膜を作るためには、1時間もの間高い
ベーキンク温度を持続させる必要がないことを明らかに
した。
て可溶性のアルカリ化合物を除くようにすれば、高品質
の帯電防止防眩被膜を作るためには、1時間もの間高い
ベーキンク温度を持続させる必要がないことを明らかに
した。
被膜や約49°C〜60°Cの温度の暖かい脱イオン水
で洗われる。この水は弱い流れとして約5秒間流すこと
か好ましい。被膜か不良の場合は、製造後、少なくとも
1週間まては、不良被膜を5重量%弗化水素アンモニウ
ム水溶液てスポンジ洗いす再 ることにより、管を使用てきる。
で洗われる。この水は弱い流れとして約5秒間流すこと
か好ましい。被膜か不良の場合は、製造後、少なくとも
1週間まては、不良被膜を5重量%弗化水素アンモニウ
ム水溶液てスポンジ洗いす再 ることにより、管を使用てきる。
Δ
この発明の方法によって作られる製品は、ガラス支持体
の観察表面、例えば、陰極線管の外表面なとの上に形成
される帯電防止防眩被膜である。
の観察表面、例えば、陰極線管の外表面なとの上に形成
される帯電防止防眩被膜である。
この被膜は防眩、即ち、反射光を分散させる性質を持ち
、同時に、管の蛍光体スクリーン上の発光像を少なくと
も1cm当り約197本(1インチ当り500本)の解
像度で透過させることかてきる。また、この被膜は諸製
造処理や、その後の湿った雰囲器への露出に対して化学
的に安定している。被膜は摩擦及び指紋に対する耐性を
有し、反射光及び透過光の両方に対して実質的に平坦な
スペクトル応答を示す。
、同時に、管の蛍光体スクリーン上の発光像を少なくと
も1cm当り約197本(1インチ当り500本)の解
像度で透過させることかてきる。また、この被膜は諸製
造処理や、その後の湿った雰囲器への露出に対して化学
的に安定している。被膜は摩擦及び指紋に対する耐性を
有し、反射光及び透過光の両方に対して実質的に平坦な
スペクトル応答を示す。
この発明による製品は従来法によって作ったものに比し
て、(1)同等の画像解像度て鏡面反射か小さく、(2
)表示キャラクタの縁部の遷移が左右される高い周波数
におけるTMTF (透過変調伝達関数)の低下か相当
小さく、(3)観察表面における被膜のくもりか無視し
得る程度のものであるという点においてずぐれている。
て、(1)同等の画像解像度て鏡面反射か小さく、(2
)表示キャラクタの縁部の遷移が左右される高い周波数
におけるTMTF (透過変調伝達関数)の低下か相当
小さく、(3)観察表面における被膜のくもりか無視し
得る程度のものであるという点においてずぐれている。
一例一一
排気され封止された13インチ(約33cn+)方形カ
ラー表示管のフェースプレート表面を公知の摩き技法及
び洗浄法の任意のものを用いて清浄化してほこり、油、
しみ等を除去する。次に、表面を5重量%弗化水素アン
モニウム水溶液で5秒間洗い、温度49℃〜60°Cて
10秒間脱イオン水ですすぐ。フェースプレート表面は
熱いエアナイフを用いて65°Cて乾燥する。ついて、
管を炉に移し、約5〜10分間、または、管のフェース
プレート表面か約45℃〜50°Cになるまで、50°
Cに予熱する。こうする代りに、表面を赤外線で2〜3
分加熱してもよい。暖められたフェースプレート表面上
に、液体の被膜組成をスプレーする。この被膜組成は、 米国プラウエア州つイルミントンのイー・アイ・デュポ
ン社(E、1.DuPont Company)から市
販されているリチウムシリケート48(Lithium
Silicate 48) (22,1%の固体を含む
リチウム安定化シリカツル、比重L17) 8.09文
、米国ペンシルバニア州マルハンのジョンソン・マツシ
ー社(Johnson Matthey Inc、)か
ら市販されているパラジウムD、N、S、(Palla
diuIIID、N。
ラー表示管のフェースプレート表面を公知の摩き技法及
び洗浄法の任意のものを用いて清浄化してほこり、油、
しみ等を除去する。次に、表面を5重量%弗化水素アン
モニウム水溶液で5秒間洗い、温度49℃〜60°Cて
10秒間脱イオン水ですすぐ。フェースプレート表面は
熱いエアナイフを用いて65°Cて乾燥する。ついて、
管を炉に移し、約5〜10分間、または、管のフェース
プレート表面か約45℃〜50°Cになるまで、50°
Cに予熱する。こうする代りに、表面を赤外線で2〜3
分加熱してもよい。暖められたフェースプレート表面上
に、液体の被膜組成をスプレーする。この被膜組成は、 米国プラウエア州つイルミントンのイー・アイ・デュポ
ン社(E、1.DuPont Company)から市
販されているリチウムシリケート48(Lithium
Silicate 48) (22,1%の固体を含む
リチウム安定化シリカツル、比重L17) 8.09文
、米国ペンシルバニア州マルハンのジョンソン・マツシ
ー社(Johnson Matthey Inc、)か
ら市販されているパラジウムD、N、S、(Palla
diuIIID、N。
S、)溶液0.254文、及び
脱イオン水86.289文
を混合して作る。これにより、94.631 (25ガ
ロン)の被膜溶液のハツチか出来る。シリカツルはSi
O□対し i 20のモル比の値か約4.8である。1
3インチ(約3:Icm)管に対し、スプレーを18フ
レーム(4−4−4−6)、1フレームにつき4回のバ
スで施す。(フェースプレートの一端から他端まてのス
プレーの一刷きをバスと呼び、■乃至複数のバスでフェ
ースプレートの全面をカバーすることをフレームと称す
る。)スプレーガンのノズルと管のフェースプレートと
の間に、約20.3〜25.4cm(8〜10インチ)
の間隔を置く。1組4フレームのスプレーか終るごとに
、管を90°回転させる。フェースプレートか熱を持っ
ているために、被膜材料はスプレーの各バス終了後約1
0秒以内に乾く。乾燥した管のフェースプレートは30
秒間IRヒータまたはカロットヒータにさらして、フェ
ースプレー1〜の表面と被膜とを約65°Cにスキン加
熱する。ついて、被膜を、約49°C〜60℃の温度の
脱イオン水の弱い流れを用い叉約5秒間洗う。次に、フ
ェースプレートと被膜を熱いエアナイフによって65°
Cて乾燥する。
ロン)の被膜溶液のハツチか出来る。シリカツルはSi
O□対し i 20のモル比の値か約4.8である。1
3インチ(約3:Icm)管に対し、スプレーを18フ
レーム(4−4−4−6)、1フレームにつき4回のバ
スで施す。(フェースプレートの一端から他端まてのス
プレーの一刷きをバスと呼び、■乃至複数のバスでフェ
ースプレートの全面をカバーすることをフレームと称す
る。)スプレーガンのノズルと管のフェースプレートと
の間に、約20.3〜25.4cm(8〜10インチ)
の間隔を置く。1組4フレームのスプレーか終るごとに
、管を90°回転させる。フェースプレートか熱を持っ
ているために、被膜材料はスプレーの各バス終了後約1
0秒以内に乾く。乾燥した管のフェースプレートは30
秒間IRヒータまたはカロットヒータにさらして、フェ
ースプレー1〜の表面と被膜とを約65°Cにスキン加
熱する。ついて、被膜を、約49°C〜60℃の温度の
脱イオン水の弱い流れを用い叉約5秒間洗う。次に、フ
ェースプレートと被膜を熱いエアナイフによって65°
Cて乾燥する。
ここに記載した組成からパラジウム化合物を除いたもの
は、防眩被膜用に用いることかてきるか、その場合は、
被膜には帯電防止特性はない。
は、防眩被膜用に用いることかてきるか、その場合は、
被膜には帯電防止特性はない。
図はこの発明の方法のフローチャートである。
Claims (1)
- (1)(a)ガラス製支持体を室温より高い第1の温度
に加熱する段階、 (b)リチウム安定化シリカゾルを含む水溶液で上記加
熱された支持体の表面を被覆し、被着された被膜を乾燥
させる段階、 (c)上記支持体の上記表面と上記被着された被膜とを
熱源に短時間さらして、上記表面と上記被着された被膜
とを上記第1の温度より高い第2の温度に上昇させる段
階、 (d)上記乾燥した被膜を水で洗う段階、 及び (c)上記被膜を乾燥させる段階、 とを含む、防眩観察面を有する光学観察スクリーンの製
造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US236403 | 1988-08-25 | ||
US07/236,403 US4965096A (en) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | Method for preparing improved lithium-silicate glare-reducing coating for a cathode-ray tube |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02118601A true JPH02118601A (ja) | 1990-05-02 |
JPH0654361B2 JPH0654361B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=22889348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1218412A Expired - Fee Related JPH0654361B2 (ja) | 1988-08-25 | 1989-08-24 | 防眩観察面を有する光学観察スクリーンの製造方法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4965096A (ja) |
EP (1) | EP0356229B1 (ja) |
JP (1) | JPH0654361B2 (ja) |
KR (1) | KR0125771B1 (ja) |
CN (1) | CN1028577C (ja) |
CA (1) | CA1332898C (ja) |
DD (1) | DD292765A5 (ja) |
DE (1) | DE68912240T2 (ja) |
ES (1) | ES2049326T3 (ja) |
PL (1) | PL161827B1 (ja) |
RU (1) | RU2010376C1 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5281365A (en) * | 1990-03-13 | 1994-01-25 | Samsung Electron Devices Co., Ltd. | Antistatic coating composition for non-glaring picture displaying screen |
US5150004A (en) * | 1990-07-27 | 1992-09-22 | Zenith Electronics Corporation | Cathode ray tube antiglare coating |
JPH05198261A (ja) * | 1991-07-10 | 1993-08-06 | Samsung Display Devices Co Ltd | 陰極線管の製造方法 |
EP0533030B1 (en) * | 1991-09-20 | 1995-06-21 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for forming an anti-reflection film for a cathode-ray tube |
JPH05279597A (ja) * | 1992-04-01 | 1993-10-26 | Colcoat Eng Kk | 帯電防止用被覆組成物 |
ATE142367T1 (de) * | 1992-12-17 | 1996-09-15 | Philips Electronics Nv | Verfahren zum aushärten eines filmes |
US5404073A (en) * | 1993-11-12 | 1995-04-04 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Antiglare/antistatic coating for CRT |
US5725957A (en) * | 1994-07-29 | 1998-03-10 | Donnelly Corporation | Transparent substrate with diffuser surface |
US6001486A (en) * | 1994-07-29 | 1999-12-14 | Donnelly Corporation | Transparent substrate with diffuser surface |
US6163109A (en) * | 1996-08-29 | 2000-12-19 | Hitachi, Ltd. | Cathode ray tube having high and low refractive index films on the outer face of the glass panel thereof |
JPH1069866A (ja) | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Hitachi Ltd | 陰極線管 |
KR19980022934A (ko) * | 1996-09-24 | 1998-07-06 | 손욱 | 음극선관의 색감향상용 대전방지막 형성방법 |
JPH10223160A (ja) * | 1997-02-12 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | カラー陰極線管 |
EP0897898B1 (de) * | 1997-08-16 | 2004-04-28 | MERCK PATENT GmbH | Verfahren zur Abscheidung optischer Schichten |
US7166957B2 (en) * | 2002-08-14 | 2007-01-23 | Thomson Licensing | CRT having a contrast enhancing exterior coating and method of manufacturing the same |
EP1538659A3 (en) * | 2003-06-11 | 2005-06-29 | Fan, Szu Min | Casing structure with yellow light passing surface and its manufacture method |
US7507438B2 (en) * | 2004-09-03 | 2009-03-24 | Donnelly Corporation | Display substrate with diffuser coating |
JP2006305713A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-11-09 | Nikon Corp | 吸着装置、研磨装置、半導体デバイス及び半導体デバイス製造方法 |
US8354143B2 (en) * | 2005-05-26 | 2013-01-15 | Tpk Touch Solutions Inc. | Capacitive touch screen and method of making same |
US9707592B2 (en) | 2014-08-08 | 2017-07-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of forming an anti-glare coating on a substrate |
RU2017122067A (ru) | 2014-11-25 | 2018-12-26 | Ппг Индастриз Огайо, Инк. | Антибликовая сенсорная дисплейная панель и другие изделия с покрытием, а также способы их создания |
FR3068690B1 (fr) * | 2017-07-07 | 2019-08-02 | Saint-Gobain Glass France | Procede d'obtention d'un substrat de verre texture revetu d'un revetement de type sol-gel antireflet. |
JPWO2021182485A1 (ja) * | 2020-03-11 | 2021-09-16 | ||
CN115156009A (zh) * | 2022-06-13 | 2022-10-11 | 无锡机电高等职业技术学校 | 一种提高电子束荧光屏亮度的工艺方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5113487A (en) * | 1974-07-25 | 1976-02-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Koirubaneno kyokyusochi |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3114668A (en) * | 1961-05-26 | 1963-12-17 | Corning Glass Works | Coated optical screens and their production |
US3635751A (en) * | 1969-04-03 | 1972-01-18 | Rca Corp | Lithium silicate glare-reducing coating and method of fabrication on a glass surface |
US3898509A (en) * | 1970-09-28 | 1975-08-05 | Rca Corp | Cathode-ray tube having lithium silicate glare-reducing coating with reduced light transmission and method of fabrication |
US3689312A (en) * | 1971-02-08 | 1972-09-05 | Rca Corp | Spray method for producing a glare-reducing coating |
US3940511A (en) * | 1973-06-25 | 1976-02-24 | Rca Corporation | Method for preparing haze-resistant lithium-silicate glare-reducing coating |
US4563612A (en) * | 1984-06-25 | 1986-01-07 | Rca Corporation | Cathode-ray tube having antistatic silicate glare-reducing coating |
US4560581A (en) * | 1985-04-15 | 1985-12-24 | Rca Corporation | Method for preparing lithium-silicate glare-reducing coating |
-
1988
- 1988-08-25 US US07/236,403 patent/US4965096A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-07-20 CA CA000606255A patent/CA1332898C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-24 DE DE68912240T patent/DE68912240T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-24 KR KR1019890012062A patent/KR0125771B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-08-24 RU SU4614939/21A patent/RU2010376C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1989-08-24 DD DD89332064A patent/DD292765A5/de not_active IP Right Cessation
- 1989-08-24 JP JP1218412A patent/JPH0654361B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-24 CN CN89106499A patent/CN1028577C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-24 EP EP89308564A patent/EP0356229B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-24 ES ES89308564T patent/ES2049326T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-25 PL PL89281160A patent/PL161827B1/pl unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5113487A (en) * | 1974-07-25 | 1976-02-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Koirubaneno kyokyusochi |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0654361B2 (ja) | 1994-07-20 |
CN1040703A (zh) | 1990-03-21 |
DD292765A5 (de) | 1991-08-08 |
RU2010376C1 (ru) | 1994-03-30 |
ES2049326T3 (es) | 1994-04-16 |
DE68912240D1 (de) | 1994-02-24 |
PL161827B1 (en) | 1993-08-31 |
CN1028577C (zh) | 1995-05-24 |
CA1332898C (en) | 1994-11-08 |
DE68912240T2 (de) | 1994-09-01 |
KR900003946A (ko) | 1990-03-27 |
US4965096A (en) | 1990-10-23 |
EP0356229A1 (en) | 1990-02-28 |
EP0356229B1 (en) | 1994-01-12 |
KR0125771B1 (ko) | 1997-12-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH02118601A (ja) | 防眩観察面を有する光学観察スクリーンの製造方法 | |
EP0805474B1 (en) | Composition for anti-glare, anti-static coating | |
JPH0440824B2 (ja) | ||
US3635751A (en) | Lithium silicate glare-reducing coating and method of fabrication on a glass surface | |
US4216259A (en) | Heat reflecting pane and a method of producing it | |
US3940511A (en) | Method for preparing haze-resistant lithium-silicate glare-reducing coating | |
EP3368621B1 (en) | Coated glass sheet | |
US3499780A (en) | Method of making a coated aluminum reflector | |
FR2654096A1 (fr) | Article en vitro-ceramique decore au moyen d'email et procede pour sa production. | |
US8770183B2 (en) | Glass article | |
US4560581A (en) | Method for preparing lithium-silicate glare-reducing coating | |
JP7186184B2 (ja) | 薄膜付き基材の製造方法及び薄膜付き基材 | |
JPH0315722B2 (ja) | ||
US3208874A (en) | Surface finishing of stainless steel | |
JP3473833B2 (ja) | 自動車用部分撥水ガラスおよびその製造方法 | |
JP2001033607A (ja) | 親水性鏡、その形成用組成物、及びその製造方法 | |
US1736667A (en) | Mirror | |
JP2735214B2 (ja) | 表示装置の製造方法 | |
JP2000086297A (ja) | 防汚性熱線遮断ガラス及びその製造方法 | |
JP2002156506A (ja) | 導電性反射防止膜の製造方法 | |
EP1017643B1 (en) | Glass-based copper-mirrors | |
JPH03177337A (ja) | 赤外線反射ガラス | |
JPH03163731A (ja) | 紫外線抑制形ランプの製造方法 | |
JPS61290623A (ja) | 陰極線管パネルの表面処理方法 | |
JPS63103085A (ja) | ほうろうパネルおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |