JPH0191419A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の属する分野の説明コ 本発明は被露光体に原板上のパターン像、例えば半導体
回路を露光転写する露光装置に関する。

［従来の技術の説明］ 半導体露光装置てはマスク上の不要な部分を焼き付けな
いようマスキング機構をそなえているものかある。

この種のマスキング機構は、ステップアンドリピート露
光を行なう縮小投影露光装置、いわゆるステッパには、
備えられている場合か多い。第６図は、一般的なステッ
パの構成を示すものて、Ａは露光光を照射する為の照明
光学系、Ｂはマスク（レチクル）のパターンをウェハに
結像させる為の縮小投影レンズ、Ｃはウェハをステップ
する為のＸＹステージを示す。また、図中ａ、ｂは、そ
れぞれマスク及びウェハの焦点面を示している。

ステッパの場合、図の様な構成において、照明光学系の
中にマスクの焦点面ａと光学的に共役な面を設け、この
位置にマスキンク４１！！４１を備えている。図中Ｃか
マスク面ａと共役となる面で、１かマスキング機構を示
す。このようにマスク面と共役な而て、遮光板を駆動す
ることにより、露光光の照射サイズを任意に選択し、露
光範囲を制限することか可能となる。

［発明が解決しようとしている問題点コしかし、この方
式は光学系の光路に対し、マスクが固定であるという前
提か無ければマスク上のマスキングされる部分か移動に
伴って変化するのて不都合である。第５図にミラープロ
ジェクション方式の露光装置の構成を示す。図中りは照
明光学系、Ｅは投影ミラー、Ｆはキャリジと呼ばれ、マ
スク２と被露光体３を一体て拘束しているものである。

ＧはキャリジＦを走査方向に駆動するキャリジドライバ
である。このような反射型光学系を用いた露光装置ては
、光束は幅２〜６ｍｍ程度の円孤状となり、マスク全面
を同時に照射することはできない。そこで、キャリジド
ライバＧによりマスク２と被露光体３を一体として図中
矢印の方向に走査（スキャン）することで、マスクの全
面照射を行なう。

従って、ミラープロジェクション方式の露光装置におい
ては、ステッパて用いられているように、照明光学系の
中の光学的に共役な面に、遮光板を設けて、選択的に露
光範囲を限定するという方式は使用てきなかった。最近
てはウェハを複数箇所に分割し、別々に焼き付けを行な
う方式（ステップアンドスキャン方式）も行なわれてき
ており、この時分割を正確に行なうためマスキングの必
要性が生じてきた。またさらに、従来のマスキング方式
は遮光板（いわゆるマスキングツレード）という板か駆
動されて露光光を遮光するものである為、当然マスク全
面の任意の領域をマスキングしようとすれば、−枚の遮
光板はマスク以上大きな面積か必要てあり、マスキング
機構を備える為には非常に大きなスペースが必要であっ
た。

本発明は、上記問題に対応し、マスクか光学系に対し固
定されていない露光装置においても、露光範囲を選択的
に限定てきるようになる機能を達成することを目的とし
ている。

を保持する手段と、前記光源と保持手段とを相対変位さ
せる手段と、を有し、前記相対変位手段で前記光源と保
持手段とを相対変位させて、前記光源からの光て前記第
一の物体に形成されたパターンを前記第二の物体に露光
転写する装置に於て、前記光源から前記第一物体を経て
前記第二物体に達する光の一部を遮光して前記第二物体
上の露光範囲を制限する手段を、前記相対変位時に前記
光源に対し前記保持手段と一緒に変位する様に設けて上
記目的を達成している。

［実施例］ 本発明の一実施例を具体的に説明する。第１図はマスキ
ング機構全体の斜視図である。この機構は第５図のマス
ク２の下である４の位置に、キャリジＦに固定して備え
られている。

１０ａ〜１０ｄの４枚の遮光フィルムか、それぞれパル
スモータｌｌａ〜ｌｉｄにより独立に駆動され、このフ
ィルムによってマスクを透過する光か選択的に遮光され
、結果的に斜線部１２の領域のみ露光か行なわれること
になる。

ここで１３はパルスモータｌｌａ〜ｌｉｄは不図示の制
御機構によって、所望の遮光域か形成される様駆動制御
される。ミラープロジェクション方式の露光光束て幅２
〜６ｍｌの円弧状を成している。このマスキンク機構を
もう少しわかり易く説明する為、第２図から第４図に４
個のうち１個の遮光ユニットを取り出しである。第２図
において、遮光フィルム１０ａはその一端かフィルム固
定金具１０２に接着固定され、他端は巻き取りローラー
１０１に末端を接着された上１巻き取られている。この
フィルム１０ａの全長はマスク２の全面をおおうのに充
分な長さをもっている。フィルム固定金具１０２の両端
にはリボン１０３ａ、１０３ｂの一端か接着固定され、
リボン１０３ａ、１０３ｂの他端は巻き取りローラー１
０５ａ、１０５ｂに末端を接着された上、巻き取られて
いる。ローラー１０４ａ、１０４ｂはたんなるアイドラ
ーである。このような構成において、パルスモータ１１
ａにより巻き取りローラー１０５ａ。

１０５ｂを矢印の方向に駆動すると、リボン１０３ａ、
１０３ｂは巻き取りローラー１０５ａ、１０５ｂに巻き
取られ、これにともない遮光フィルム１０ａは（−）Ｙ
方向に駆動される。また逆に回転すると、リボン １０３ａ、１０３ｂは巻き取りローラー１０５ａ、１０
５ｂから送り出される。すると遮光フィルム１０ａは巻
き取りローラー１０１に巻き取られ（＋）Ｙ方向に進ん
でゆく。

巻き取りローラーの断面図を第４図に示す。

巻き取りローラー１０１はエンドキャップ１０７ａ、１
０７ｂに支持され、エンドキャップ１０７ａ、１０７ｂ
は軸受１０８ａ。

１０８ｂにより固定軸１１０を中心に回転する。またロ
ーラー内部にはコイルへネ１１Ｏがあり、その一端は軸
１０９に、他端はエンドキャップ１０７ａに固定されて
いる。このコイルへネ１１０により巻き取りローラーｌ
ｏｔは常に遮光フィルムｌｏａを巻き取る方向に回転力
か加えられている。尚、本実施例ては遮光フィルムの材
質は厚さ２０ＪＬｍのスポンジチタンてあり、リボン１
０３の材質は布を用いている。

またここてはアイドラー１０４を介してリボン１０３を
巻き取っているか、これは端に本実施例に於てスペース
の制約を受けたたけてスペースさえ許されるならこのア
イドラー１０４の場所に巻き取りローラー１０５を配置
しても同等問題は無い。

以上の機構を第１図に示すとうり４個備え、これらを独
立に駆動してやることにより、マスク２の全面に関し任
意のポジションのマスキングが可能となる。

前記実施例ては、このマスキング機構をマスク２の真下
である４の位置に置いたか、被露光基板３の真上にこの
機構を置いても全く同し効果か得られる。

また、マスク２と基板３の間には第１図の遮光フィルム
１０ａとｌＯｃたけをほき、１０ｂと１０ｄは、照明光
学系りの中に置いても同様の効果か得られる。

［効果の説明］ 学系の中にマスキング機構を置にことては不可能てあっ
た反射型投影露光装置に於けるマスキングが可能となっ
た。

また従来、マスキンクツレード自体か非常に大きく、そ
のスペースの確保かなかなか困難であったか、これをフ
レキシブルなフィルムに替え、これを巻き取るという手
法を用いたことにより非常にコンパクトな機構とするこ
とが可能となった。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明によるところのマスキング機構全体の側
視図、 第２図は第１図の一部の側視図、 第３図は第２図の断面図、 第４図は第３図の断面図、 第５図は反射投影露光装置の構成の概略図、第６図は縮
小投影露光装置、いわゆるステッパの構成の概略図であ
る。 図中Ａはステッパの照明光学系、Ｂは投影レンズ、Ｃは
ＸＹ反テーシ、Ｄは反射投影露光装置の照明光学系、Ｅ
は投影ミラー、Ｆはキャリジ、２はマスク、３は被露光
基板、４はマスキング機構取付位置、１０ａ〜１０ｄは
遮光フィルム、１２は露光領域、１３は露光光束、１０
１は巻取ローラー、１０３はリボン、１０５は巻取ロー
ラーである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）露光用の光源と、第一の物体と第二の物体とを保
   持する手段と、前記光源と保持手段とを相対変位させる
   手段と、を有し、前記相対変位手段で前記光源と保持手
   段とを相対変位させて、前記光源からの光で前記第一の
   物体に形成されたパターンを前記第二の物体に露光転写
   する装置に於て、前記光源から前記第一物体を経て前記
   第二物体に達する光の一部を遮光して前記第二物体上の
   露光範囲を制限する手段を、前記相対変位時に前記光源
   に対し前記保持手段と一緒に変位する様に設けた事を特
   徴とする露光装置。
2. （２）前記制限手段は、前記光源からの光を遮断するた
   めのシート部材と、前記シート部材を巻き取るためのロ
   ーラー手段と、前記ローラー手段を露光範囲に応じて回
   転させる為の回転駆動手段とを有することを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の露光装置。