JPH01283855A - 半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 19
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005219 brazing Methods 0.000 abstract description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008642 heat stress Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45147—Copper (Cu) as principal constituent
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は樹脂封止型半導体装置に関する。
従来、樹脂封止型半導体装置は、量産性の面では、作業
能率が高く優れており、低価格であるため多くの品種に
用いられてきた。
能率が高く優れており、低価格であるため多くの品種に
用いられてきた。
第3図は従来の樹脂封止型半導体装置の一例を示す半導
体装置の断面図である。まず、第3図に示すように、半
導体チップ1をリードフレーム2のアイランド6の上に
、ろう材4で接合する。次に、金線やアルミニウム線の
ような金属細線7で半導体チップ1の電極パッドと電極
パッドに対応するリードフレーム2の内部リード3とを
接続する。次に、エポキシ樹脂等の樹脂体8でリードフ
レーム2に載置された半導体チップ1を覆い外気に対し
て保護する。更に、樹脂体8より突出したリードフレー
ム2の外部リード5を折曲げて、実装し易いように形成
するようにされていた。
体装置の断面図である。まず、第3図に示すように、半
導体チップ1をリードフレーム2のアイランド6の上に
、ろう材4で接合する。次に、金線やアルミニウム線の
ような金属細線7で半導体チップ1の電極パッドと電極
パッドに対応するリードフレーム2の内部リード3とを
接続する。次に、エポキシ樹脂等の樹脂体8でリードフ
レーム2に載置された半導体チップ1を覆い外気に対し
て保護する。更に、樹脂体8より突出したリードフレー
ム2の外部リード5を折曲げて、実装し易いように形成
するようにされていた。
上述した従来の樹脂封止型半導体装置は、封止樹脂とリ
ードフレームとの密着性が悪いことや、熱膨張係数の不
整合に起因して、樹脂とリードフレームとの界面が剥離
し易すかった。特に、はんだ実装時における急激な熱ス
トレスには非常に敏感で、界面の剥離や樹脂のクラック
等が発生することがあり、この欠陥を通して水分や不純
物が浸入し、ついには半導体素子表面に到達して、半導
体素子のアルミニウム配線やポンディングパッド部を腐
食を生じせしめ、やがては断線に至らしめるという問題
がある。また、ポンディングパッド部は金属細線にて電
気的接続するボンディング作業の都合上、パッシベーシ
ョン膜を形成することができないために、他の配線部分
と比較して腐食を起し易い欠点もあった。
ードフレームとの密着性が悪いことや、熱膨張係数の不
整合に起因して、樹脂とリードフレームとの界面が剥離
し易すかった。特に、はんだ実装時における急激な熱ス
トレスには非常に敏感で、界面の剥離や樹脂のクラック
等が発生することがあり、この欠陥を通して水分や不純
物が浸入し、ついには半導体素子表面に到達して、半導
体素子のアルミニウム配線やポンディングパッド部を腐
食を生じせしめ、やがては断線に至らしめるという問題
がある。また、ポンディングパッド部は金属細線にて電
気的接続するボンディング作業の都合上、パッシベーシ
ョン膜を形成することができないために、他の配線部分
と比較して腐食を起し易い欠点もあった。
本発明の目的は耐湿性の高い構造をもつ樹脂封圧型半導
体装置を提供することである。
体装置を提供することである。
本発明の樹脂封止型半導体装置は、リードフレームのア
イランドに半導体チップが載置され、前記リードフレー
ムの外部リードが連なる内部リードと前記内部リードに
対応する前記半導体チップの電極パッドと金属細線で接
続され、前記外部リードを露出して前記半導体チップを
含めた前記リードフレームの構造体の外周囲を樹脂層で
覆うことによりなる半導体装置において、前記金属細線
が99.99%以上の銅系の金属細線であって、前記外
部リードを除いた前記構造体の外周囲を覆う無機絶縁膜
と、前記無機絶縁膜を覆う樹脂層とを含んで構成される
。
イランドに半導体チップが載置され、前記リードフレー
ムの外部リードが連なる内部リードと前記内部リードに
対応する前記半導体チップの電極パッドと金属細線で接
続され、前記外部リードを露出して前記半導体チップを
含めた前記リードフレームの構造体の外周囲を樹脂層で
覆うことによりなる半導体装置において、前記金属細線
が99.99%以上の銅系の金属細線であって、前記外
部リードを除いた前記構造体の外周囲を覆う無機絶縁膜
と、前記無機絶縁膜を覆う樹脂層とを含んで構成される
。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例を示す半導体装置の断面
図である。まず、従来例と同じように、半導体チップ1
をろう材4によりリードフレーム2のアイランド6に接
合する。次に、99.99%以上の純度をもつ銅系の金
属細線7で半導体チップ1の電極パッドとリードフレー
ム2の内部リードとを接続する。次に、リードフレーム
2のアイランド6に載置された半導体チップ1を含めた
外周囲と、金属細線7及び内部リード3の外周囲に樹脂
と密着性が良好な無機絶縁膜9を形成する。
図である。まず、従来例と同じように、半導体チップ1
をろう材4によりリードフレーム2のアイランド6に接
合する。次に、99.99%以上の純度をもつ銅系の金
属細線7で半導体チップ1の電極パッドとリードフレー
ム2の内部リードとを接続する。次に、リードフレーム
2のアイランド6に載置された半導体チップ1を含めた
外周囲と、金属細線7及び内部リード3の外周囲に樹脂
と密着性が良好な無機絶縁膜9を形成する。
次に、従来例と同様に、樹脂封止して樹脂体8で覆い、
外部リード5を折曲げる。なお、無機絶縁膜9は、その
材料として、例えば、二酸化シリコン(Si02)、窒
化シリコン(SiN)、シリコン酸化窒化物(S ix
OY NZ ) 、リンシリケートガラス(PSG)
、ボロンシリケートガラス(BSG)及び酸化アルミ
ニウム(Al103 )等があり、これらから単層また
は多層膜からなる。
外部リード5を折曲げる。なお、無機絶縁膜9は、その
材料として、例えば、二酸化シリコン(Si02)、窒
化シリコン(SiN)、シリコン酸化窒化物(S ix
OY NZ ) 、リンシリケートガラス(PSG)
、ボロンシリケートガラス(BSG)及び酸化アルミ
ニウム(Al103 )等があり、これらから単層また
は多層膜からなる。
ここで、金属細線7に99.99%以上の純度を有する
銅系の材料に限定した理由は、ボンディング性及び無機
絶縁膜との接着性及び耐蝕性が優れているからである。
銅系の材料に限定した理由は、ボンディング性及び無機
絶縁膜との接着性及び耐蝕性が優れているからである。
もし、この金属細線を99゜99%以下の純度の銅線を
用いると、硬度が高すぎて、ボンディング時に半導体チ
ップが割れることになるし、通常使用している金線の場
合は、無機絶縁膜との密着性が悪い。また、アルミニウ
ム線の場合は、無機絶縁膜との密着性は良いが量産性に
乏しく、無機絶縁膜のわずかの欠陥でも、水分が侵入し
易く、腐食をきたす。このような理由から前述の純度の
高い銅系の金属細線を選んだ。
用いると、硬度が高すぎて、ボンディング時に半導体チ
ップが割れることになるし、通常使用している金線の場
合は、無機絶縁膜との密着性が悪い。また、アルミニウ
ム線の場合は、無機絶縁膜との密着性は良いが量産性に
乏しく、無機絶縁膜のわずかの欠陥でも、水分が侵入し
易く、腐食をきたす。このような理由から前述の純度の
高い銅系の金属細線を選んだ。
また、前述の無機絶縁膜9の形成方法としては、半導体
素子への熱影響や量産性を考慮すると、低温、常圧の状
態で短時間で形成出来ることが望ましく、例えば、紫外
線やレーザのエネルギー、オゾン等を利用した化学的気
相成長法が最も適していることが判明したが、特に限定
するものではない。
素子への熱影響や量産性を考慮すると、低温、常圧の状
態で短時間で形成出来ることが望ましく、例えば、紫外
線やレーザのエネルギー、オゾン等を利用した化学的気
相成長法が最も適していることが判明したが、特に限定
するものではない。
第2図は本発明の第2の実施例を示す半導体装置の断面
図である。この実施例が第1の実施例と異なるところは
、第1の実施例のリードフレーム2のアイランド6を取
除き、代わりに、内部り−ド3を内側に延長して、そこ
に半導体チップ1を絶縁性接着剤10で接着固定する。
図である。この実施例が第1の実施例と異なるところは
、第1の実施例のリードフレーム2のアイランド6を取
除き、代わりに、内部り−ド3を内側に延長して、そこ
に半導体チップ1を絶縁性接着剤10で接着固定する。
このことは、パッケージ時の内部応力を低減し、無機絶
縁膜の剥離や、クラックの原因になる金属細線の変形を
防止することになる。また、無機絶縁膜9として膜の緻
密な窒化膜9を用い防湿効果を高めている。
縁膜の剥離や、クラックの原因になる金属細線の変形を
防止することになる。また、無機絶縁膜9として膜の緻
密な窒化膜9を用い防湿効果を高めている。
これらの構造をとることで、第1の実施例よりもさらに
信頼性に優れた半導体装置が得ることができる。この実
施例は、第1の実施例に比べ、耐湿性の点で更に優れて
いる。
信頼性に優れた半導体装置が得ることができる。この実
施例は、第1の実施例に比べ、耐湿性の点で更に優れて
いる。
以上説明したように本発明は、99.99%以上の純度
をもつ銅系の金属細線と、外部−ドを除き、リードフレ
ームのアイランドに搭載した半導体チップ、内部リード
及び金属細線の全ての外周囲を無機絶縁膜で覆い、この
無機絶縁膜の外周囲を樹脂層で覆うようにしたので、樹
脂と無機絶縁膜、無機絶縁膜と各種構成材料との密着性
の向上、均一化を図ることが可能となり、またポンディ
ングパッド部分にも保護膜を形成したことにもなるため
、はんだ実装時等の急激な熱ストレスによる界面の剥離
や樹脂クラックを大幅に低減し、耐湿性の優れた製品を
市場に提供できる効果がある。
をもつ銅系の金属細線と、外部−ドを除き、リードフレ
ームのアイランドに搭載した半導体チップ、内部リード
及び金属細線の全ての外周囲を無機絶縁膜で覆い、この
無機絶縁膜の外周囲を樹脂層で覆うようにしたので、樹
脂と無機絶縁膜、無機絶縁膜と各種構成材料との密着性
の向上、均一化を図ることが可能となり、またポンディ
ングパッド部分にも保護膜を形成したことにもなるため
、はんだ実装時等の急激な熱ストレスによる界面の剥離
や樹脂クラックを大幅に低減し、耐湿性の優れた製品を
市場に提供できる効果がある。
第1図は本発明の第1の実施例を示す半導体装置の断面
図、第2図は本発明の第2の実施例を示す半導体装置の
断面図、第3図は従来の樹脂封止型半導体装置の一例を
示す半導体装置の断面図である。 1・・・半導体チップ、2・・・リードフレーム、3・
・・内部リード、4・・・ろう材、5・・・外部リード
、6・・・アイランド、7・・・金属細線、8・・・樹
脂体、9・・・無機絶縁膜、10・・・絶縁性接着剤。
図、第2図は本発明の第2の実施例を示す半導体装置の
断面図、第3図は従来の樹脂封止型半導体装置の一例を
示す半導体装置の断面図である。 1・・・半導体チップ、2・・・リードフレーム、3・
・・内部リード、4・・・ろう材、5・・・外部リード
、6・・・アイランド、7・・・金属細線、8・・・樹
脂体、9・・・無機絶縁膜、10・・・絶縁性接着剤。
Claims (1)
- リードフレームのアイランドに半導体チップが載置さ
れ、前記リードフレームの外部リードが連なる内部リー
ドと前記内部リードに対応する前記半導体チップの電極
パッドと金属細線で接続され、前記外部リードを露出し
て前記半導体チップを含めた前記リードフレームの構造
体の外周囲を樹脂層で覆うことによりなる半導体装置に
おいて、前記金属細線が99.99%以上の銅系の金属
細線であって、前記外部リードを除いた前記構造体の外
周囲を覆う無機絶縁膜と、前記無機絶縁膜を覆う樹脂層
とでなることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63114293A JPH01283855A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63114293A JPH01283855A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01283855A true JPH01283855A (ja) | 1989-11-15 |
Family
ID=14634231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63114293A Pending JPH01283855A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01283855A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0601323A1 (en) * | 1992-12-10 | 1994-06-15 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit chip composite |
US5438222A (en) * | 1989-08-28 | 1995-08-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electronic device with plural pad connection of semiconductor chip to leads |
JP2016086047A (ja) * | 2014-10-24 | 2016-05-19 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
-
1988
- 1988-05-10 JP JP63114293A patent/JPH01283855A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5438222A (en) * | 1989-08-28 | 1995-08-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electronic device with plural pad connection of semiconductor chip to leads |
EP0601323A1 (en) * | 1992-12-10 | 1994-06-15 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit chip composite |
US5656830A (en) * | 1992-12-10 | 1997-08-12 | International Business Machines Corp. | Integrated circuit chip composite having a parylene coating |
JP2016086047A (ja) * | 2014-10-24 | 2016-05-19 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
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