JPH01225706A - 銅微粒子の製造方法 - Google Patents
銅微粒子の製造方法Info
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- JPH01225706A JPH01225706A JP5029888A JP5029888A JPH01225706A JP H01225706 A JPH01225706 A JP H01225706A JP 5029888 A JP5029888 A JP 5029888A JP 5029888 A JP5029888 A JP 5029888A JP H01225706 A JPH01225706 A JP H01225706A
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Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は微細な銅粒子の製造方法に関するものである。
(従来技術とその問題点)
従来、銅微粒子の製造方法としては、酸化銅粒子を水性
媒体中でヒドラジンなどの還元剤を用いて還元する方法
が用いられてきた。
媒体中でヒドラジンなどの還元剤を用いて還元する方法
が用いられてきた。
ところが、この方法では、還元された粒子の粒径が酸化
物の粒径に依存するために粒径のコントロールが難しく
、かつ還元された粒子同士が引き寄せ合うために凝集し
た粒度分布の幅の広い銅粒子しか得られないという欠点
を有していた。
物の粒径に依存するために粒径のコントロールが難しく
、かつ還元された粒子同士が引き寄せ合うために凝集し
た粒度分布の幅の広い銅粒子しか得られないという欠点
を有していた。
本発明は上記の欠点を解消せんがためになされたもので
あり、分散した、粒度分布の幅の狭い微細な銅粒子の粒
径コントロール可能な製造方法を提供せんとするもので
ある。
あり、分散した、粒度分布の幅の狭い微細な銅粒子の粒
径コントロール可能な製造方法を提供せんとするもので
ある。
(問題点を解決するための手段)
本発明は銅アンモニウム錯体溶液中の銅イオンを還元し
て銅微粒子を製造する方法において、還元剤としてヒド
ロキシル(−OH)基を1個もしくは数個含む芳香族化
合物を用いることによって単分散した銅微粒子を得るこ
とを特徴とするものである。
て銅微粒子を製造する方法において、還元剤としてヒド
ロキシル(−OH)基を1個もしくは数個含む芳香族化
合物を用いることによって単分散した銅微粒子を得るこ
とを特徴とするものである。
而して本発明の製造方法において、ヒドロキシル(−O
H)基を1個もしくは数個含む芳香族化合物を用いる理
由は、これらの酸化還元電位が銅アンモニウム錯体溶液
を還元するのに適当であると同時に粒子同士の凝集を防
ぐ働きがあるためである。
H)基を1個もしくは数個含む芳香族化合物を用いる理
由は、これらの酸化還元電位が銅アンモニウム錯体溶液
を還元するのに適当であると同時に粒子同士の凝集を防
ぐ働きがあるためである。
さらに本発明において、銅アンモニウム錯体溶液のpH
は7.5よりも低いと銅の水酸化物の沈殿が生成し、1
3より高いとアンモニアガスの発生が多くなり、反応が
遅くなるので、7.5〜13の範囲がより好ましく、還
元剤としてヒドロキシル基を1個もしくは数個を含む芳
香族化合物水溶液のpHは0.5よりも低いと反応が極
端に遅くなるので、0.5以上がより好ましい。また、
反応時の温度は30°Cより低いと反応が遅く、 10
0°Cを超えると銅微粒子が凝集してくるので、30〜
100°Cの範囲がより好ましい。
は7.5よりも低いと銅の水酸化物の沈殿が生成し、1
3より高いとアンモニアガスの発生が多くなり、反応が
遅くなるので、7.5〜13の範囲がより好ましく、還
元剤としてヒドロキシル基を1個もしくは数個を含む芳
香族化合物水溶液のpHは0.5よりも低いと反応が極
端に遅くなるので、0.5以上がより好ましい。また、
反応時の温度は30°Cより低いと反応が遅く、 10
0°Cを超えると銅微粒子が凝集してくるので、30〜
100°Cの範囲がより好ましい。
ここで本発明の実施例について説明する。
(実施例1)
硫酸銅結晶19.7gを水に溶解し11の水溶液とした
後、28%のアンモニア水を加えて銅アンモニウム錯体
溶液とし、そのpHを9に調整する。
後、28%のアンモニア水を加えて銅アンモニウム錯体
溶液とし、そのpHを9に調整する。
また、ヒドロキノン150gを水に溶解し11の水溶液
とした後、28%のアンモニア水を加えてpH=3.0
に調整する。ここで、この2液の温度を40°Cにし、
銅アンモニウム錯体溶液を撹拌しながらヒドロキノン水
溶液を添加し、30分間反応させる。
とした後、28%のアンモニア水を加えてpH=3.0
に調整する。ここで、この2液の温度を40°Cにし、
銅アンモニウム錯体溶液を撹拌しながらヒドロキノン水
溶液を添加し、30分間反応させる。
得られた銅微粒子は濾過、洗浄して、粒度分布測定及び
電子顕微鏡観察を行った。
電子顕微鏡観察を行った。
その結果、この銅微粒子は多面体で、平均粒径が1.1
μm、粒度分布は0.8〜1.5μmに70%が入るシ
ャープなものであった。
μm、粒度分布は0.8〜1.5μmに70%が入るシ
ャープなものであった。
(実施例2)
硫酸銅結晶126gを水に溶解し12の水溶液とした後
、28%のアンモニア水を加えて銅アンモニウム錯体溶
液とし、そのpHを12に調整する。
、28%のアンモニア水を加えて銅アンモニウム錯体溶
液とし、そのpHを12に調整する。
また、ヒドロキノン100gを水に溶解し12の水溶液
とした後、28%のアンモニア水を加えてpH−5に調
整する。ここで、この2液の温度を70°Cにし、銅ア
ンモニウム錯体溶液を撹拌しながらヒドロキノン水溶液
を添加し、30分間反応させる。
とした後、28%のアンモニア水を加えてpH−5に調
整する。ここで、この2液の温度を70°Cにし、銅ア
ンモニウム錯体溶液を撹拌しながらヒドロキノン水溶液
を添加し、30分間反応させる。
得られた銅微粒子は濾過、洗浄して、粒度分布測定及び
電子顕微鏡観察を行った。
電子顕微鏡観察を行った。
その結果、この銅微粒子は多面体で平均粒径が1.5μ
m、粒度分布は1.2〜1.8μmに70%が入るシャ
ープなものであった。
m、粒度分布は1.2〜1.8μmに70%が入るシャ
ープなものであった。
(実施例3)
硫酸銅結晶197gを水に溶解し12の水溶液とした後
、28%のアン、モニア水を加えて銅アンモニウム錯体
溶液とし、そのpHを8に調整する。
、28%のアン、モニア水を加えて銅アンモニウム錯体
溶液とし、そのpHを8に調整する。
また、ピロガロール100gを水に溶解し11の水溶液
とした後、28%のアンモニア水を加えてpH=4.0
に調整する。ここでこの2液の温度を50°Cにし銅ア
ンモニウム錯体溶液を撹拌しながらピロガロール水溶液
を添加し50分間反応させる。
とした後、28%のアンモニア水を加えてpH=4.0
に調整する。ここでこの2液の温度を50°Cにし銅ア
ンモニウム錯体溶液を撹拌しながらピロガロール水溶液
を添加し50分間反応させる。
得られた銅微粒子は濾過、洗浄して、粒度分布測定及び
電子顕微鏡観察を行った。
電子顕微鏡観察を行った。
その結果、この銅微粒子は多面体で平均粒径が0.7μ
m、粒度分布は0.5〜1.0μmに70%が入るシャ
ープなものであった。
m、粒度分布は0.5〜1.0μmに70%が入るシャ
ープなものであった。
(従来例)
水1.000mIlを撹拌しながら平均粒径5μmの酸
化第2銅50gを分散懸濁させる。
化第2銅50gを分散懸濁させる。
さらにこの液を撹拌しながら70’Cまで昇温し、80
%の抱水ヒドラジン水溶液200m lを添加後、70
゛Cで2時間撹拌した。
%の抱水ヒドラジン水溶液200m lを添加後、70
゛Cで2時間撹拌した。
得られた銅微粒子は濾過、洗浄して粒度分布測定及び電
子顕微鏡観察をおこなった。
子顕微鏡観察をおこなった。
その結果、この銅微粒子は不定形で、平均粒径が3.5
μm、粒度分布は0.5〜10μmと幅が広く、凝集し
たものであった。
μm、粒度分布は0.5〜10μmと幅が広く、凝集し
たものであった。
(発明の効果)
上記の説明で明らかなように本発明の製造方法は銅アン
モニウム錯体溶液を還元して銅微粒子を製造する方法に
おいて、還元剤としてヒドロキシル(−0H)基を1個
もしくは数個含む芳香族化合物を用いることにより、従
来法では得られなかった単分散した粒度分布の幅の狭い
微細な銅粒子を粒径をコントロールして製造できるので
、従来の製造方法にとって代わることのできる画期的な
ものと言える。
モニウム錯体溶液を還元して銅微粒子を製造する方法に
おいて、還元剤としてヒドロキシル(−0H)基を1個
もしくは数個含む芳香族化合物を用いることにより、従
来法では得られなかった単分散した粒度分布の幅の狭い
微細な銅粒子を粒径をコントロールして製造できるので
、従来の製造方法にとって代わることのできる画期的な
ものと言える。
出願人 田中貴金属工業株式会社
永井忠雄
Claims (1)
- 銅アンモニウム錯体溶液を還元して銅微粒子を製造す
る方法において、還元剤としてヒドロキシル(−OH)
基を1個もしくは数個含む芳香族化合物を用いることに
よって単分散した銅微粒子を得ることを特徴とする銅微
粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5029888A JPH01225706A (ja) | 1988-03-03 | 1988-03-03 | 銅微粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5029888A JPH01225706A (ja) | 1988-03-03 | 1988-03-03 | 銅微粒子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01225706A true JPH01225706A (ja) | 1989-09-08 |
Family
ID=12854990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5029888A Pending JPH01225706A (ja) | 1988-03-03 | 1988-03-03 | 銅微粒子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01225706A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003141948A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-05-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 微細金属構造体の形成方法とそれを用いたセラミックパッケージ、マルチチップ用基板およびプラズマディスプレイパネル用基板 |
CN111530636A (zh) * | 2020-05-09 | 2020-08-14 | 昆明理工大学 | 一种铜氨络合物梯级活化氧化铜矿强化硫化浮选回收的方法 |
-
1988
- 1988-03-03 JP JP5029888A patent/JPH01225706A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003141948A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-05-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 微細金属構造体の形成方法とそれを用いたセラミックパッケージ、マルチチップ用基板およびプラズマディスプレイパネル用基板 |
CN111530636A (zh) * | 2020-05-09 | 2020-08-14 | 昆明理工大学 | 一种铜氨络合物梯级活化氧化铜矿强化硫化浮选回收的方法 |
CN111530636B (zh) * | 2020-05-09 | 2021-03-23 | 昆明理工大学 | 一种铜氨络合物梯级活化氧化铜矿强化硫化浮选回收的方法 |
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