JPH01135766A - ビフェニル誘導体 - Google Patents
ビフェニル誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は優れた抗脂血作用を有する新規ビフェニル誘導
体に関する。
体に関する。
(従来技術)
高脂血症は成人病である動脈硬化症の主要原因の一つで
あると考えられており、クロフィブレート〔化学名:2
−(4−クロロフェノキシ)−2−メチルプロパン酸エ
チルエステル〕、プロブコール(化学名:4.4’ −
((1−メチルエチリデン)ビス(チオ)〕ビス〔2,
6−ビス(1゜1−ジメチルエチル)フェノール〕)等
の抗脂血剤がその治療・予防剤として用いられている。
あると考えられており、クロフィブレート〔化学名:2
−(4−クロロフェノキシ)−2−メチルプロパン酸エ
チルエステル〕、プロブコール(化学名:4.4’ −
((1−メチルエチリデン)ビス(チオ)〕ビス〔2,
6−ビス(1゜1−ジメチルエチル)フェノール〕)等
の抗脂血剤がその治療・予防剤として用いられている。
高脂血症のうち、高コレステロール血症は特に動脈硬化
症と強い関連性を有する。しかるに一方、コレステロー
ルは血中において超低比重リボ蛋白(V L D L)
コレステロール、低比重リボ蛋白(LDL)コレステロ
ール、高比重リボ蛋白(HDL)コレステロール等の形
で存在しており、このうちVLDL及びLDLは動脈壁
へのコレステロールの沈着を促進し動脈硬化症を引き起
こすが、HDLはコレステロールの動脈壁への沈着を妨
げ動脈硬化症の治療・予防効果を奏することが知られて
いる〔アナルズ・オン・インターナル・メディシン(A
nnals of Internal Medicin
e ) 、第90巻、第85〜91頁(1979年)〕
。従って、動脈硬化症の治療・予防の分野では、近年血
中の総コレステロール量を減少させると同時にHDL−
コレステロール量を増加させうる抗脂血剤の開発が望ま
れてきている。
症と強い関連性を有する。しかるに一方、コレステロー
ルは血中において超低比重リボ蛋白(V L D L)
コレステロール、低比重リボ蛋白(LDL)コレステロ
ール、高比重リボ蛋白(HDL)コレステロール等の形
で存在しており、このうちVLDL及びLDLは動脈壁
へのコレステロールの沈着を促進し動脈硬化症を引き起
こすが、HDLはコレステロールの動脈壁への沈着を妨
げ動脈硬化症の治療・予防効果を奏することが知られて
いる〔アナルズ・オン・インターナル・メディシン(A
nnals of Internal Medicin
e ) 、第90巻、第85〜91頁(1979年)〕
。従って、動脈硬化症の治療・予防の分野では、近年血
中の総コレステロール量を減少させると同時にHDL−
コレステロール量を増加させうる抗脂血剤の開発が望ま
れてきている。
(発明の構成及び効果)
本発明は次式で示されるビフェニル誘導体又はその塩に
関する。
関する。
H
H+
(式中、R1は水素原子又は低級アルコキシカルボニル
基であって、R2は低級アルコキシカルボニル基である
か、又はR1とRzとが互いに結合環Aは置換基を有す
るか又は有しない含硫もしくは含窒素複素環式基を形成
することを表す。)本発明のビフェニル誘導体(T)又
はその塩は抗脂血作用を有し、とりわけ血中の総コレス
テロール値は低下させるが、HDL−コレステロール値
を上昇させるという特長を有する。例えば、2御/讐χ
コレステロール及び0.5W/Wχコール酸ナトリウム
含有飼料でラットを4日間飼育したのち、同飼料に検体
を100■%の割合で混入し、3日間飼W して検体の
血清コレステロール値低下作用及びHDL−コレステロ
ール値上昇作用を調べたところ、本発明の目的化合物で
ある4−ヒドロキシ−5,6−ビス(メトキシカルボニ
ル)−7−(3,4−ジメトキシフェニル)ベンゾ〔b
〕チオフェンは対照群に対し51%の血清コレステロー
ル値低下率及び88%のHDL−コレステロール値上昇
率を示した。
基であって、R2は低級アルコキシカルボニル基である
か、又はR1とRzとが互いに結合環Aは置換基を有す
るか又は有しない含硫もしくは含窒素複素環式基を形成
することを表す。)本発明のビフェニル誘導体(T)又
はその塩は抗脂血作用を有し、とりわけ血中の総コレス
テロール値は低下させるが、HDL−コレステロール値
を上昇させるという特長を有する。例えば、2御/讐χ
コレステロール及び0.5W/Wχコール酸ナトリウム
含有飼料でラットを4日間飼育したのち、同飼料に検体
を100■%の割合で混入し、3日間飼W して検体の
血清コレステロール値低下作用及びHDL−コレステロ
ール値上昇作用を調べたところ、本発明の目的化合物で
ある4−ヒドロキシ−5,6−ビス(メトキシカルボニ
ル)−7−(3,4−ジメトキシフェニル)ベンゾ〔b
〕チオフェンは対照群に対し51%の血清コレステロー
ル値低下率及び88%のHDL−コレステロール値上昇
率を示した。
また、ビフェニル誘導体(I)は毒性が低く、肝機能障
害(例えば、脂肪肝)などの副作用も示さない。例えば
、上記化合物をマウスに1g/kg経口投与し、5日間
観察しても死亡例は認められず、また体重増加の抑制も
なかった。
害(例えば、脂肪肝)などの副作用も示さない。例えば
、上記化合物をマウスに1g/kg経口投与し、5日間
観察しても死亡例は認められず、また体重増加の抑制も
なかった。
本発明に係るビフェニル誘導体の具体例としては、例え
ば、−数式(I)において、R1が水素原子、低級アル
コキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基)であって、Rzが低級アルコキ
シカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基)であるか、又はR1とR2とが互い
に結合基、エトキシ基)、環Aが置換基を有するか又は
有しない含硫もしくは含窒素複素環式基(例えば、チオ
フェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、
ピリミジン環、インドール環、キノリン環、チアゾール
環、オキサゾール環)を形成している化合物をあげるこ
とができる。ここに含硫もしくは含窒素複素環の置換基
としては、低級アルキル基で置換されていてもよいフェ
ニルスルホニル基(例エバ、フェニルスルホニル基、ト
ルエンスルホニル基)をあげることができる。
ば、−数式(I)において、R1が水素原子、低級アル
コキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基)であって、Rzが低級アルコキ
シカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基)であるか、又はR1とR2とが互い
に結合基、エトキシ基)、環Aが置換基を有するか又は
有しない含硫もしくは含窒素複素環式基(例えば、チオ
フェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、
ピリミジン環、インドール環、キノリン環、チアゾール
環、オキサゾール環)を形成している化合物をあげるこ
とができる。ここに含硫もしくは含窒素複素環の置換基
としては、低級アルキル基で置換されていてもよいフェ
ニルスルホニル基(例エバ、フェニルスルホニル基、ト
ルエンスルホニル基)をあげることができる。
上記目的化合物(I)のうち好ましい化合物としては、
R1が水素原子、炭素数2〜5のアルコキシカルボニル
基であって、R2が炭素数2〜5のアルコキシカルボニ
ル基であるか、又はR1とルコキシ基、環Aがチオフェ
ン環、ピリジン環、インドール環又はN−フェニルスル
ホニルインドール環を形成する化合物をあげることがで
きる。
R1が水素原子、炭素数2〜5のアルコキシカルボニル
基であって、R2が炭素数2〜5のアルコキシカルボニ
ル基であるか、又はR1とルコキシ基、環Aがチオフェ
ン環、ピリジン環、インドール環又はN−フェニルスル
ホニルインドール環を形成する化合物をあげることがで
きる。
本発明によれば、ビフェニル誘導体(I)のうちR1が
水素原子又は低級アルコキシカルボニル基であって、R
2が低級アルコキシカルボニル基である化合物は、−数
式 %式%() (式中、R”は水素原子又は低級アルコキシカルボニル
基、R21は低級アルコキシカルボニル基を表す。) (但し、RSは水素原子、アルキル基又はアシル基、R
&は低級アルキル基を表し、R3、R4及び環Aは前記
と同一意味を有する。) で示される化合物又は上記化合物(I[[)のジ低級ア
ルキルアセクール体とを反応させて製することができる
。
水素原子又は低級アルコキシカルボニル基であって、R
2が低級アルコキシカルボニル基である化合物は、−数
式 %式%() (式中、R”は水素原子又は低級アルコキシカルボニル
基、R21は低級アルコキシカルボニル基を表す。) (但し、RSは水素原子、アルキル基又はアシル基、R
&は低級アルキル基を表し、R3、R4及び環Aは前記
と同一意味を有する。) で示される化合物又は上記化合物(I[[)のジ低級ア
ルキルアセクール体とを反応させて製することができる
。
一方、ビフェニル誘導体(I)のうち、R1とR″
(式中、R″及びR1は低級アルキル基、R3、R4及
び環Aは前記と同一意味を有する。)で示されるジ低級
アルコキシカルボニルビフェニル化合物を還元的ラクト
ン化反応に付すことにより製することができる。
び環Aは前記と同一意味を有する。)で示されるジ低級
アルコキシカルボニルビフェニル化合物を還元的ラクト
ン化反応に付すことにより製することができる。
原料化合物はいずれも遊離のまま又はその塩の形で反応
に供することができ、例えば環Aが含窒素複素環である
化合物(■)(そのジ低級アルキルアセタール体を含む
)、(IV)及び(1−a)は無機酸付加塩、有機酸付
加塩等の形で用いることができ、また、RSが水素原子
である化合物(III) (そ、のジ低級アルキルア
セクール体を含む)及び(1−a)はアルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩、第4級アンモニウム塩等の形で用
いることもできる。
に供することができ、例えば環Aが含窒素複素環である
化合物(■)(そのジ低級アルキルアセタール体を含む
)、(IV)及び(1−a)は無機酸付加塩、有機酸付
加塩等の形で用いることができ、また、RSが水素原子
である化合物(III) (そ、のジ低級アルキルア
セクール体を含む)及び(1−a)はアルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩、第4級アンモニウム塩等の形で用
いることもできる。
アセチレン化合物(ff)とアルデヒド化合物(III
)、そのジ低級アルキルアセクール体又はその塩との反
応は、無溶媒又は適当な溶媒中、酸の存在下に実施する
ことができる。酸としては無機酸(例えば、硫酸)及び
有機酸(例えば、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、メタ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸)を、溶媒とし
てはベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジオキサン等の非プロトン性溶
媒を好適に用1することができる。反応は水冷下〜溶媒
の沸点の間で好適に進行する。
)、そのジ低級アルキルアセクール体又はその塩との反
応は、無溶媒又は適当な溶媒中、酸の存在下に実施する
ことができる。酸としては無機酸(例えば、硫酸)及び
有機酸(例えば、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、メタ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸)を、溶媒とし
てはベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジオキサン等の非プロトン性溶
媒を好適に用1することができる。反応は水冷下〜溶媒
の沸点の間で好適に進行する。
また、アセチレン化合物(n)とジヒドロフラン化合物
(rV)又はその塩との反応は、無溶媒又は適当な溶媒
中、酸又は塩基の存在下で好適に実施することができる
。塩基としては、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ
金属ジ低級アルキルアミド等を好適に使用することがで
き、また、酸及び溶媒としては前述の有機又は無機酸及
び非プロトン性溶媒を適宜用いることができる。反応は
冷却下〜溶媒の沸点で好適に進行する。
(rV)又はその塩との反応は、無溶媒又は適当な溶媒
中、酸又は塩基の存在下で好適に実施することができる
。塩基としては、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ
金属ジ低級アルキルアミド等を好適に使用することがで
き、また、酸及び溶媒としては前述の有機又は無機酸及
び非プロトン性溶媒を適宜用いることができる。反応は
冷却下〜溶媒の沸点で好適に進行する。
また、ジ低級アルキルカルボニルビフェニル化合物(1
−a)又はその塩の還元的ラクトン化反応は、該化合物
を慣用の方法で還元したのち、生成物を適宜酸処理して
実施することができる。還元剤としては、例えばボラン
コンプレックス、水素化ホウ素ナトリウム−三フン化ホ
ウ素コンプレックス、水素化ホウ素カルシウム、水素化
ホウ素リチウム又は水素化アルミニウムリチウム等を好
適に用いることができる=溶媒としては、例えばテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等を用いるのが好ましい、一
方、つづいての酸処理工程は、当該還元生成物を前述と
同じ有機又は無機酸で処理して適宜実施することができ
、この際の溶媒としては、例えば低級アルカノール、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、ジオキサン等を用いる
のが好ましい。上記還元的ラクトン化反応は、いずれも
室温〜加熱下で実施するのが好ましい。
−a)又はその塩の還元的ラクトン化反応は、該化合物
を慣用の方法で還元したのち、生成物を適宜酸処理して
実施することができる。還元剤としては、例えばボラン
コンプレックス、水素化ホウ素ナトリウム−三フン化ホ
ウ素コンプレックス、水素化ホウ素カルシウム、水素化
ホウ素リチウム又は水素化アルミニウムリチウム等を好
適に用いることができる=溶媒としては、例えばテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等を用いるのが好ましい、一
方、つづいての酸処理工程は、当該還元生成物を前述と
同じ有機又は無機酸で処理して適宜実施することができ
、この際の溶媒としては、例えば低級アルカノール、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、ジオキサン等を用いる
のが好ましい。上記還元的ラクトン化反応は、いずれも
室温〜加熱下で実施するのが好ましい。
尚、環Aが窒素原子上に置換基を有しない含窒素複素環
である目的化合物(I)は環Aが対応する窒素原子上に
置換基を有する目的化合物(1)から常法によりその置
換基を除去して製することもできる0例えば、環AがN
−フェニルスルホニルインドール環である場合、当該置
換基の除去は通常の還元反応(例えば、陰極還元反応)
に付すことにより実施できる。
である目的化合物(I)は環Aが対応する窒素原子上に
置換基を有する目的化合物(1)から常法によりその置
換基を除去して製することもできる0例えば、環AがN
−フェニルスルホニルインドール環である場合、当該置
換基の除去は通常の還元反応(例えば、陰極還元反応)
に付すことにより実施できる。
かくして得られる本発明の目的化合物(1)は遊離のま
ま又はその塩のいずれの形でも医薬用途に供することが
でき、薬理的に許容しうる塩としては、例えば、アルカ
リ金属塩(例えば、ナトリウム塩)、アルカリ土類金属
塩(例えば、カルシウム塩)、第4級アンモニウム塩(
例えば、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルア
ンモニウム塩)等を、また環Aが窒素原子を含む複素環
である場合には無機酸付加塩(例えば、塩酸塩、臭化水
素酸塩、硫酸塩)、有機酸付加塩(例えば、酢酸塩、シ
ュウ酸塩、ベンゼンスルホン酸塩)等をあげることがで
きる。
ま又はその塩のいずれの形でも医薬用途に供することが
でき、薬理的に許容しうる塩としては、例えば、アルカ
リ金属塩(例えば、ナトリウム塩)、アルカリ土類金属
塩(例えば、カルシウム塩)、第4級アンモニウム塩(
例えば、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルア
ンモニウム塩)等を、また環Aが窒素原子を含む複素環
である場合には無機酸付加塩(例えば、塩酸塩、臭化水
素酸塩、硫酸塩)、有機酸付加塩(例えば、酢酸塩、シ
ュウ酸塩、ベンゼンスルホン酸塩)等をあげることがで
きる。
本発明の目的化合物(I)又はその塩(好ましくは薬理
的に許容しうる塩)は優れた抗脂血作用(例えば、コレ
ステロール低下作用)を有し、高脂血症及び動脈硬化症
(例えば、粥状動脈硬化症、メンケベルク動脈硬化症)
の治療・予防に使用できる。また、血中の全コレステロ
ール値を低下させながらもHDL−コレステロール値は
上昇させるという特長を有するため、とりわけ動脈硬化
症の治療・予防に好適に使用することができる。
的に許容しうる塩)は優れた抗脂血作用(例えば、コレ
ステロール低下作用)を有し、高脂血症及び動脈硬化症
(例えば、粥状動脈硬化症、メンケベルク動脈硬化症)
の治療・予防に使用できる。また、血中の全コレステロ
ール値を低下させながらもHDL−コレステロール値は
上昇させるという特長を有するため、とりわけ動脈硬化
症の治療・予防に好適に使用することができる。
本発明の目的化合物(1)及びその塩は経口及び非経口
投与でき、とりわけ経口投与で用いるのが好ましい。経
口投与する場合は、例えば錠剤、カプセル剤、顆粒剤、
シロップ剤、乳剤、懸濁液剤等として、非経口投与する
場合は、例えば注射剤として用いることができる。又そ
の投与量は疾患の種類及び程度;患者の年齢及び状態な
どにもよるが、通常1日当たりの投与量が1.5〜35
■/ kgとりわけ5〜25w/kgであるのが好まし
い。
投与でき、とりわけ経口投与で用いるのが好ましい。経
口投与する場合は、例えば錠剤、カプセル剤、顆粒剤、
シロップ剤、乳剤、懸濁液剤等として、非経口投与する
場合は、例えば注射剤として用いることができる。又そ
の投与量は疾患の種類及び程度;患者の年齢及び状態な
どにもよるが、通常1日当たりの投与量が1.5〜35
■/ kgとりわけ5〜25w/kgであるのが好まし
い。
尚、本発明の原料化合物(III)及び(rV)は新規
化合物であり、このうち化合物(III)又はそのジ低
級アルキルアセタールは、例えば−数式(但し、Xは水
素原子又は臭素原子を表し、R6及び項八は前記と同一
意味を有する。)で示されるアセタール化合物と、−数
式(但し、R3及びR4は前記と同一意味を有する。)
で示されるベンズアルデヒド化合物とをアルキルリチウ
ムの存在下で反応させてR5が水素原子である化合物(
I[[)のジ低級アルキルアセタールを得、必要とあれ
ば、該化合物を常法で加水分解し、さらに必要とあれば
、その水酸基を常法に従ってアルキル化又はアシル化し
て製することができる。またR5が低級アルキル基であ
る原料化合物(III)は、−数式 (但し、R3、R4及び環Aは前記と同一意味を有する
。) で示される化合物の水酸基を常法に従いアルキル化した
のち、生成物をアルキルリチウムの存在下ジメチルホル
ムアミドと反応させて製することもできる。
化合物であり、このうち化合物(III)又はそのジ低
級アルキルアセタールは、例えば−数式(但し、Xは水
素原子又は臭素原子を表し、R6及び項八は前記と同一
意味を有する。)で示されるアセタール化合物と、−数
式(但し、R3及びR4は前記と同一意味を有する。)
で示されるベンズアルデヒド化合物とをアルキルリチウ
ムの存在下で反応させてR5が水素原子である化合物(
I[[)のジ低級アルキルアセタールを得、必要とあれ
ば、該化合物を常法で加水分解し、さらに必要とあれば
、その水酸基を常法に従ってアルキル化又はアシル化し
て製することができる。またR5が低級アルキル基であ
る原料化合物(III)は、−数式 (但し、R3、R4及び環Aは前記と同一意味を有する
。) で示される化合物の水酸基を常法に従いアルキル化した
のち、生成物をアルキルリチウムの存在下ジメチルホル
ムアミドと反応させて製することもできる。
さらに、ジヒドロフラン化合物(IV)はジアルキルア
セクール化合物(■)(但し、R5は水素原子)を適当
な溶媒中、ホウ酸で加熱処理して製実施例1 2−(α−アセトキシ−3,4−ジメトキシベンジル)
−3−チオフェンカルボアルデヒド1゜5g及びアセチ
レンジカルボン酸ジメチルエステル1.8gのベンゼン
2.5d溶液にトリフルオロ酢酸29■を加え、1時間
加熱還流する。反応液を冷却後、溶媒を減圧留去し、残
金をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶媒:ヘキ
サンー酢酸エチル(1: 1) )で精製する。溶出液
から溶媒を減圧留去して4−ヒドロキシ−5,6−ビス
(メトキシカルボニル)−7−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)ベンゾ(b)チオフェン350■を無色結晶と
して得る。
セクール化合物(■)(但し、R5は水素原子)を適当
な溶媒中、ホウ酸で加熱処理して製実施例1 2−(α−アセトキシ−3,4−ジメトキシベンジル)
−3−チオフェンカルボアルデヒド1゜5g及びアセチ
レンジカルボン酸ジメチルエステル1.8gのベンゼン
2.5d溶液にトリフルオロ酢酸29■を加え、1時間
加熱還流する。反応液を冷却後、溶媒を減圧留去し、残
金をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶媒:ヘキ
サンー酢酸エチル(1: 1) )で精製する。溶出液
から溶媒を減圧留去して4−ヒドロキシ−5,6−ビス
(メトキシカルボニル)−7−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)ベンゾ(b)チオフェン350■を無色結晶と
して得る。
該結晶を酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して無色プリ
ズムを得る。
ズムを得る。
M、p、147〜148 °C
NMR(CDClz ) δ: 3.62(S、 31
()、 3.86(S、 31()、 3.93(S、
68)、 6.94(S、 311)、 7.38(
d、 J=6Hz、 IH)、 7.65(d、 J=
6Hz、 LH)、 11.73(S、 IH) M a s s (m/z) : 402(M”)+
370実施例2〜5 対応原料化合物を実施例1と同様に処理して下記第1表
記載の化合物を得る。(表中、Meはメチル基、Etは
エチル基を表す、以下同様、)第1表 H 実施例6 ジイソプロビルアミン7.0gのテトラヒドロフラン1
0〇−溶液に攪拌下、−70〜−50℃にて1.55M
n−ブチルリチウムのヘキサン溶液45−を加える。混
液を0〜10℃にて30分間攪拌後、再び一70℃に冷
却する。該混液に約10分間を要して、3− (3,4
−ジメトキシフェニル)−1−メトキシ−IH,3H−
ピリジノ(2,3−c)フラン5.0gのテトラヒドロ
フラン2〇−溶液を加え、同温度にて10分間攪拌する
。反応液に酢酸4.2gのテトラヒドロフランI〇−溶
液及びアセチレンジカルボン酸ジメチルエステル2.7
gのテトラヒドロフラン1〇−溶液を加え、同温にて1
0分間攪拌したのち冷却を止め、酢酸4.2gのテトラ
ヒドロフラン10−溶液を加えて10分間攪拌する0反
応液を水300−に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液
を乾燥後、溶媒を減圧留去し、残金をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー〔溶媒:ヘキサンー酢酸エチル(1
: 2) )で精製し、溶出液から溶媒を減圧留去して
、淡褐色油状物1.8gを得る。核油状物をベンゼンに
溶解し、トリフルオロ酢酸1゜6gを加え、室温にて1
時間攪拌する。反応液より溶媒を減圧留去し、残金に酢
酸エチル100dを加え、飽和重炭酸水素ナトリウム水
溶液100dで中和する。該有機層を乾燥後、溶媒を減
圧留去して得られる淡褐色結晶をエーテルで洗浄して、
5−ヒドロキシ−6,7−ビス(メトキシカルボニル)
−8−(3,4−ジメトキシフェニル)キノリン1.3
gを得る。
()、 3.86(S、 31()、 3.93(S、
68)、 6.94(S、 311)、 7.38(
d、 J=6Hz、 IH)、 7.65(d、 J=
6Hz、 LH)、 11.73(S、 IH) M a s s (m/z) : 402(M”)+
370実施例2〜5 対応原料化合物を実施例1と同様に処理して下記第1表
記載の化合物を得る。(表中、Meはメチル基、Etは
エチル基を表す、以下同様、)第1表 H 実施例6 ジイソプロビルアミン7.0gのテトラヒドロフラン1
0〇−溶液に攪拌下、−70〜−50℃にて1.55M
n−ブチルリチウムのヘキサン溶液45−を加える。混
液を0〜10℃にて30分間攪拌後、再び一70℃に冷
却する。該混液に約10分間を要して、3− (3,4
−ジメトキシフェニル)−1−メトキシ−IH,3H−
ピリジノ(2,3−c)フラン5.0gのテトラヒドロ
フラン2〇−溶液を加え、同温度にて10分間攪拌する
。反応液に酢酸4.2gのテトラヒドロフランI〇−溶
液及びアセチレンジカルボン酸ジメチルエステル2.7
gのテトラヒドロフラン1〇−溶液を加え、同温にて1
0分間攪拌したのち冷却を止め、酢酸4.2gのテトラ
ヒドロフラン10−溶液を加えて10分間攪拌する0反
応液を水300−に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液
を乾燥後、溶媒を減圧留去し、残金をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー〔溶媒:ヘキサンー酢酸エチル(1
: 2) )で精製し、溶出液から溶媒を減圧留去して
、淡褐色油状物1.8gを得る。核油状物をベンゼンに
溶解し、トリフルオロ酢酸1゜6gを加え、室温にて1
時間攪拌する。反応液より溶媒を減圧留去し、残金に酢
酸エチル100dを加え、飽和重炭酸水素ナトリウム水
溶液100dで中和する。該有機層を乾燥後、溶媒を減
圧留去して得られる淡褐色結晶をエーテルで洗浄して、
5−ヒドロキシ−6,7−ビス(メトキシカルボニル)
−8−(3,4−ジメトキシフェニル)キノリン1.3
gを得る。
該結晶を酢酸エチル」ヘキサン混液から再結晶して、淡
褐色針状晶を得る。
褐色針状晶を得る。
M、9.183〜184@C
NMR(CDC13) δ: 3.56(S、 38
)、 3.83(s、 3)1)、 3.90(5
,3H)、 3.94(S、 3H)、 6.8
8(S、 3H)、 7 .42(dd、 J=
9Hz、5Hz、 LH)、 8.73(dd、
J=9Hz、2)1z、 18)、 8.96(
dd。
)、 3.83(s、 3)1)、 3.90(5
,3H)、 3.94(S、 3H)、 6.8
8(S、 3H)、 7 .42(dd、 J=
9Hz、5Hz、 LH)、 8.73(dd、
J=9Hz、2)1z、 18)、 8.96(
dd。
J=5Hz、2Hz、 18)、 12.31(S
、 IH)M a s s (+a/z) : 3
97(M”)、365,350実施例7 3−(3,4−ジメトキシフェニル)−1−メトキシ−
4−フェニルスルホニル−IH,3H−インドロ(2,
3−c)フラン31.4g及びアセチレンジカルボン酸
ジメチル28.5gのベンゼン400−溶液を30分間
加熱還流する。反応液にp−1ルエンスルホン酸・1水
和Th127■を加え、更に1時間加熱還流する。冷却
後、溶媒を減圧留去し、残置にエーテル4゛00−を加
える。析出晶を吸引濾取して、4−ヒドロキシ−2゜3
−ビス(メトキシカルボニル)−1−(3,4−ジメト
キシフェニル)−9−フェニルスルホニルカルバゾール
27.5gを得る。
、 IH)M a s s (+a/z) : 3
97(M”)、365,350実施例7 3−(3,4−ジメトキシフェニル)−1−メトキシ−
4−フェニルスルホニル−IH,3H−インドロ(2,
3−c)フラン31.4g及びアセチレンジカルボン酸
ジメチル28.5gのベンゼン400−溶液を30分間
加熱還流する。反応液にp−1ルエンスルホン酸・1水
和Th127■を加え、更に1時間加熱還流する。冷却
後、溶媒を減圧留去し、残置にエーテル4゛00−を加
える。析出晶を吸引濾取して、4−ヒドロキシ−2゜3
−ビス(メトキシカルボニル)−1−(3,4−ジメト
キシフェニル)−9−フェニルスルホニルカルバゾール
27.5gを得る。
M、p、192〜193”C
NMR(CDC13) δ :3.80(S、3H)
、3.86(S、 3H)、 5.27(S、
2H)、 6.60〜8.33(m。
、3.86(S、 3H)、 5.27(S、
2H)、 6.60〜8.33(m。
128)、9.90〜10.16(m、LH)。
M a s s (m/z) : 515(M”)
、375実施例8 対応原料化合物を実施例7と同様に処理して4−ヒドロ
キシ−2,3−ビス(エトキシカルボニル) −1−(
3,4−ジメトキシフェニル)−9−フェニルスルホニ
ルカルバゾールを得る。
、375実施例8 対応原料化合物を実施例7と同様に処理して4−ヒドロ
キシ−2,3−ビス(エトキシカルボニル) −1−(
3,4−ジメトキシフェニル)−9−フェニルスルホニ
ルカルバゾールを得る。
M、p、202〜203’C
実施例9
4−ヒドロキシ−5,6−ビス(メトキシカルボニル)
−7−(3,4−ジメトキシフェニル)−ベンゾ(
b)チオフェン5.0gのテトラヒドロフラン5Qmf
溶液にボラン−メチルスルフィドコンプレックス0.2
4Tnlを加え、40分間加熱還流する。反応液にメタ
ノールSoml及びトリフルオロ酢酸−滴全加え、2゜
5時間加熱還流する。冷却後、反応液を減圧濃縮し、残
置をメタノールで洗浄して、4−ヒドロキシ−5−ヒド
ロキシメチル−7−(3,4−ジメトキシフェニル)ベ
ンゾ(b)チオフェン−6−カルボン酸ラクトン3.9
5gを淡黄色結晶として得る。
−7−(3,4−ジメトキシフェニル)−ベンゾ(
b)チオフェン5.0gのテトラヒドロフラン5Qmf
溶液にボラン−メチルスルフィドコンプレックス0.2
4Tnlを加え、40分間加熱還流する。反応液にメタ
ノールSoml及びトリフルオロ酢酸−滴全加え、2゜
5時間加熱還流する。冷却後、反応液を減圧濃縮し、残
置をメタノールで洗浄して、4−ヒドロキシ−5−ヒド
ロキシメチル−7−(3,4−ジメトキシフェニル)ベ
ンゾ(b)チオフェン−6−カルボン酸ラクトン3.9
5gを淡黄色結晶として得る。
該結晶を酢酸エチル−テトラヒドロフラン混液から再結
晶することにより、黄緑色無定形晶を得る。
晶することにより、黄緑色無定形晶を得る。
M、9.223〜224 @C(分解)NMR(CD
C12) δ: 3.86(S、 38)、 3.
93(S、 3H)、 5.32(S、 2H)、 6
.90〜7.20(m。
C12) δ: 3.86(S、 38)、 3.
93(S、 3H)、 5.32(S、 2H)、 6
.90〜7.20(m。
3H)、 7.53(d、 IH)、 7.7Hd、
LH)、 9.96(br、 1)1) M a s s (II/Z) : 342(M”)
、 327実施例10及び11 対応原料化合物を実施例9と同様に処理して下第2表 H 実施例12 水銀プール陽極/グラファイト陰極の電極反応8の陽極
側に4−ヒドロキシ−2,3−ビス(メトキシカルボニ
ル)−1−(3,4−ジメトキシフェニル)−9−フェ
ニルスルホニルカルバゾール4.0gのN、N−ジメチ
ルホルムアミド5〇−溶液及びトルエンスルホン酸テト
ラエチルアンモニウム塩4.2gを入れ、陰極側にN、
N−ジメチルホルムアミド1〇−及びトルエンスルホン
酸テトラエチルアンモニウム塩4.2gを入れる。水冷
下、200mAにて通電し、1351ク一ロン通電した
ところで反応を停止する。陽極側から反応液をメタノー
ル50−で流出し、酢酸を0.9−加えて溶媒を減圧留
去する。残金に飽和重炭酸ナトリウム水溶液を加え、得
られる結晶を水洗して4−ヒドロキシ−2,3−ビス(
メトキシカルボニル)−1−(3,4−ジメトキシフェ
ニル)カルバゾール2.2gを得る。
LH)、 9.96(br、 1)1) M a s s (II/Z) : 342(M”)
、 327実施例10及び11 対応原料化合物を実施例9と同様に処理して下第2表 H 実施例12 水銀プール陽極/グラファイト陰極の電極反応8の陽極
側に4−ヒドロキシ−2,3−ビス(メトキシカルボニ
ル)−1−(3,4−ジメトキシフェニル)−9−フェ
ニルスルホニルカルバゾール4.0gのN、N−ジメチ
ルホルムアミド5〇−溶液及びトルエンスルホン酸テト
ラエチルアンモニウム塩4.2gを入れ、陰極側にN、
N−ジメチルホルムアミド1〇−及びトルエンスルホン
酸テトラエチルアンモニウム塩4.2gを入れる。水冷
下、200mAにて通電し、1351ク一ロン通電した
ところで反応を停止する。陽極側から反応液をメタノー
ル50−で流出し、酢酸を0.9−加えて溶媒を減圧留
去する。残金に飽和重炭酸ナトリウム水溶液を加え、得
られる結晶を水洗して4−ヒドロキシ−2,3−ビス(
メトキシカルボニル)−1−(3,4−ジメトキシフェ
ニル)カルバゾール2.2gを得る。
該結晶をメタノール−テトラヒドロフラン混液から再結
晶して無色プリズム晶を得る。
晶して無色プリズム晶を得る。
M、p、252〜253 °C(分解)NMR(CDC
13)δ:3.71(S、 3H)、 3.95(S、
3H)、 4.00(S、 6H)、 6.93〜8
.35(n+。
13)δ:3.71(S、 3H)、 3.95(S、
3H)、 4.00(S、 6H)、 6.93〜8
.35(n+。
8H)、 10.80〜12.03(m、 LH)M
a s s (m/z) : 435(M”)、 4
03実施例13及び14 対応原料化合物を実施例12と同様に処理して下記第3
表記載の化合物を得る。
a s s (m/z) : 435(M”)、 4
03実施例13及び14 対応原料化合物を実施例12と同様に処理して下記第3
表記載の化合物を得る。
第3表
0■
参考例1
(1)2−ブロモ−3−ジメトキシメチルピリジン11
.6gのテトラヒドロフラン溶液に攪拌冷却下、1.5
5Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶液32.6−を加
える。混液を冷却下攪拌後、該混液に3.4−ジメトキ
シベンズアルデヒド8゜3gのテトラヒドロフラン溶液
を2加える。攪拌後、反応液を水に注ぎ、さらに酢酸エ
チルを加え有機層を分取する。該有機層を洗浄、乾燥後
、溶媒を減圧留去し、残金をシリカゲルカラムで精製し
て、2−(α−ヒドロキシ−3,4−メトキシベンジル
)−3−ジメトキシメチルピリジン8.4gを黄色結晶
として得る。
.6gのテトラヒドロフラン溶液に攪拌冷却下、1.5
5Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶液32.6−を加
える。混液を冷却下攪拌後、該混液に3.4−ジメトキ
シベンズアルデヒド8゜3gのテトラヒドロフラン溶液
を2加える。攪拌後、反応液を水に注ぎ、さらに酢酸エ
チルを加え有機層を分取する。該有機層を洗浄、乾燥後
、溶媒を減圧留去し、残金をシリカゲルカラムで精製し
て、2−(α−ヒドロキシ−3,4−メトキシベンジル
)−3−ジメトキシメチルピリジン8.4gを黄色結晶
として得る。
M、9.91〜92@C(酢酸エチル−ヘキサンから再
結晶) (2)上記(11の生成物11gをトルエンに加熱溶解
し、ホウ酸32gを加えて加熱還流する。反応液を冷却
後、溶媒を減圧留去する。残金に酢酸エチルを加え、水
洗、乾燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精
製して、3−(3,4−ジメトキシフェニル)−1−メ
トキシ−IH,3H−ピリジノ(2,3−c)フラン6
.5gを淡褐色シラツブとして得る。
結晶) (2)上記(11の生成物11gをトルエンに加熱溶解
し、ホウ酸32gを加えて加熱還流する。反応液を冷却
後、溶媒を減圧留去する。残金に酢酸エチルを加え、水
洗、乾燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精
製して、3−(3,4−ジメトキシフェニル)−1−メ
トキシ−IH,3H−ピリジノ(2,3−c)フラン6
.5gを淡褐色シラツブとして得る。
参考例2
(1)3−ジメトキシメチルチオフェン10.0gを参
考例1−(11と同様に処理して2−(α−ヒドロキシ
−3,4−ジメトキシベンジル)−3−ジメトキシメチ
ルチオフェン18gをシラツブとして得る。
考例1−(11と同様に処理して2−(α−ヒドロキシ
−3,4−ジメトキシベンジル)−3−ジメトキシメチ
ルチオフェン18gをシラツブとして得る。
(2)上記(1)の生成物1.0gのトルエン溶液にホ
ウ酸1.9gを加え、加熱還流する。冷却後、反応液よ
り溶媒を減圧留去し、残金に酢酸エチルを加え洗浄、乾
燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して
、2−(α−ヒドロキシ−3,4−ジメトキシベンジル
)−3−チオフェンカルボアルデヒド470■を無色結
晶として得る。
ウ酸1.9gを加え、加熱還流する。冷却後、反応液よ
り溶媒を減圧留去し、残金に酢酸エチルを加え洗浄、乾
燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して
、2−(α−ヒドロキシ−3,4−ジメトキシベンジル
)−3−チオフェンカルボアルデヒド470■を無色結
晶として得る。
(3)上記(2)の生成物1.5g、無水酢酸661■
、N、N−ジメチルアミノピリジン20gのテトラヒド
ロフラン溶液に氷水冷下、トリエチルアミン818■の
テトラヒドロフラン溶液を加え、攪拌する。反応液にメ
タノールを加え、溶媒を減圧留去する。残金に酢酸エチ
ルを加え、飽和重炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、乾
燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して
、2−(α−アセトキシ−3,4−ジメトキシベンジル
)−3−チオフェンカルボアルデヒド1.7gを無色結
晶として得る。
、N、N−ジメチルアミノピリジン20gのテトラヒド
ロフラン溶液に氷水冷下、トリエチルアミン818■の
テトラヒドロフラン溶液を加え、攪拌する。反応液にメ
タノールを加え、溶媒を減圧留去する。残金に酢酸エチ
ルを加え、飽和重炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、乾
燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して
、2−(α−アセトキシ−3,4−ジメトキシベンジル
)−3−チオフェンカルボアルデヒド1.7gを無色結
晶として得る。
M、p、91〜92°C(酢酸エチル−ヘキサンから再
結晶) 参考例3 対応原料化合物を実施例2と同様に処理して2−(α−
アセトキシ−3,4−ジェトキシベンジル)−3−チオ
フェンカルボアルデヒドを得る。
結晶) 参考例3 対応原料化合物を実施例2と同様に処理して2−(α−
アセトキシ−3,4−ジェトキシベンジル)−3−チオ
フェンカルボアルデヒドを得る。
M、p、68”C
参考例4
(1)1−フェニルスルホニル−3−ジメトキシメチル
インドール19gとN、N、N’、N’、−テトラメチ
ルエチレンジアミン6.5gのテトラヒドロフラン溶液
に攪拌冷却下、1.55Mn−ブチルリチウムのヘキサ
ン溶液40−を加える。混液を室温で攪拌後、再び冷却
下にて3.4−ジメトキシベンズアルデヒド9.3gの
テトラヒドロフラン溶液を加え、室温で撹拌後、反応液
を水に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液を乾燥後、溶
媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して、1−フ
ェニルスルホニル−2−(α−ヒドロキシ−3,4−ジ
メトキシベンジル)−3−ジメトキシメチルインドール
17gをシラツブとして得る。
インドール19gとN、N、N’、N’、−テトラメチ
ルエチレンジアミン6.5gのテトラヒドロフラン溶液
に攪拌冷却下、1.55Mn−ブチルリチウムのヘキサ
ン溶液40−を加える。混液を室温で攪拌後、再び冷却
下にて3.4−ジメトキシベンズアルデヒド9.3gの
テトラヒドロフラン溶液を加え、室温で撹拌後、反応液
を水に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液を乾燥後、溶
媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して、1−フ
ェニルスルホニル−2−(α−ヒドロキシ−3,4−ジ
メトキシベンジル)−3−ジメトキシメチルインドール
17gをシラツブとして得る。
(2)上記(11の生成物0.5gのトルエン溶液にホ
ウ酸0.6gを加えて加熱還流する。反応液を冷却後、
溶媒を減圧留去する。残香に酢酸エチルを加え水洗、乾
燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して
、3− (3,4−ジメトキシフェニル)−1−メトキ
シ−4−フェニルスルホニル−IH,3H−インドロ(
2,3−c)フラン370rrwzを淡黄色結晶として
得る。
ウ酸0.6gを加えて加熱還流する。反応液を冷却後、
溶媒を減圧留去する。残香に酢酸エチルを加え水洗、乾
燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムで精製して
、3− (3,4−ジメトキシフェニル)−1−メトキ
シ−4−フェニルスルホニル−IH,3H−インドロ(
2,3−c)フラン370rrwzを淡黄色結晶として
得る。
M、p、131〜132 °C
参考例5
(1)4−ブロモベラトロール10.85gのテトラヒ
ドロフラン溶液に、冷却下、2.5Mn−ブチルリチウ
ムのヘキサン?容液24dを滴下し、攪拌後、3−チオ
フェンカルボアルデヒド5.61εを加えて攪拌し、室
温にもどす。水を加え、酢酸エチル抽出し、乾燥後、溶
媒を減圧留去して、3−(α−ヒドロキシ−3,4−ジ
メトキシベンジル)チオフェンを得る。該化合物のジメ
チルホルムアミド溶液に水素化ナトリウム2.8gを加
え、室温で攪拌し、さらにヨウ化メチル4.7−を加え
て攪拌する。少量の水を加えたのち、溶媒を減圧留去し
、残香に水を加え、酢酸エチル抽出し、抽出液を乾燥後
、溶媒を減圧留去する。残香をシリカゲルカラムで精製
して、3−(α−メトキシ−3,4−ジメトキシベンジ
ル)チオフェン10.5gを得る。
ドロフラン溶液に、冷却下、2.5Mn−ブチルリチウ
ムのヘキサン?容液24dを滴下し、攪拌後、3−チオ
フェンカルボアルデヒド5.61εを加えて攪拌し、室
温にもどす。水を加え、酢酸エチル抽出し、乾燥後、溶
媒を減圧留去して、3−(α−ヒドロキシ−3,4−ジ
メトキシベンジル)チオフェンを得る。該化合物のジメ
チルホルムアミド溶液に水素化ナトリウム2.8gを加
え、室温で攪拌し、さらにヨウ化メチル4.7−を加え
て攪拌する。少量の水を加えたのち、溶媒を減圧留去し
、残香に水を加え、酢酸エチル抽出し、抽出液を乾燥後
、溶媒を減圧留去する。残香をシリカゲルカラムで精製
して、3−(α−メトキシ−3,4−ジメトキシベンジ
ル)チオフェン10.5gを得る。
(2)上記(1)の生成物4.10gのテトラヒドロフ
ラン溶液に、冷却下、2.5Mn−ブチルリチウムのヘ
キサン溶液6.8−を滴下し、攪拌したのち、N、N−
ジメチルホルムアミド1.25gを加えて攪拌する。反
応液を室温にもどしたのち、水を加え、酢酸エチル抽出
し、抽出液を乾燥後、溶媒を減圧留去する。残香をシリ
カゲルカラムで精製して、3−(α−メトキシ−3,4
−ジメトキシベンジル)−2−チオフェンカルボアルデ
ヒド3.81gを得る。
ラン溶液に、冷却下、2.5Mn−ブチルリチウムのヘ
キサン溶液6.8−を滴下し、攪拌したのち、N、N−
ジメチルホルムアミド1.25gを加えて攪拌する。反
応液を室温にもどしたのち、水を加え、酢酸エチル抽出
し、抽出液を乾燥後、溶媒を減圧留去する。残香をシリ
カゲルカラムで精製して、3−(α−メトキシ−3,4
−ジメトキシベンジル)−2−チオフェンカルボアルデ
ヒド3.81gを得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子又は低級アルコキシカルボニ
ル基であって、R^2は低級アルコキシカルボニル基で
あるか、又はR^1とR^2とが互いに結合して式:▲
数式、化学式、表等があります▼で示される基を形成し
ていることを表し、R^3及びR^4は低級アルコキシ
基を表し、環Aは置換基を有するか又は有しない含硫も
しくは含窒素複素環式基を形成することを表す。)で示
されるビフェニル誘導体又はその塩。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62294736A JPH01135766A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | ビフェニル誘導体 |
IL88295A IL88295A (en) | 1987-11-20 | 1988-11-04 | Biphenyl derivatives, their preparation and pharmaceutical compositions containing them |
US07/268,894 US4952602A (en) | 1987-11-20 | 1988-11-08 | Phenyl benzothiophene hypolipidemic derivatives |
FI885323A FI885323A (fi) | 1987-11-20 | 1988-11-17 | Bifenylderivat. |
EP19880119220 EP0316939A3 (en) | 1987-11-20 | 1988-11-18 | Biphenyl derivatives, preparation method, pharmaceutical compositions comprising them and use |
DK645988A DK645988A (da) | 1987-11-20 | 1988-11-18 | Biphenylderivater, fremgangsmaade til fremstilling deraf samt farmaceutiske praeprater indeholdende samme |
HU885962A HU201911B (en) | 1987-11-20 | 1988-11-18 | Process for producing new biphenyl derivatives and pharmaceutical compositions containing them |
KR1019880015201A KR890008145A (ko) | 1987-11-20 | 1988-11-18 | 비페닐 유도체 및 이의 제조방법 |
AU25707/88A AU611736B2 (en) | 1987-11-20 | 1988-11-18 | (4-hydroxy-5,6-bis(alkoxycarbonyl or lactone)-7- dialkoxyphenyl)benzo(b)thiophene, quinoline and carbazole derivatives useful as hypolipidemic agents |
CN88108026A CN1033276A (zh) | 1987-11-20 | 1988-11-19 | 联苯衍生物及其制法 |
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---|---|---|---|
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---|---|---|---|
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---|---|
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---|---|---|---|
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EP (1) | EP0316939A3 (ja) |
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KR (1) | KR890008145A (ja) |
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AU (1) | AU611736B2 (ja) |
DK (1) | DK645988A (ja) |
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HU (1) | HU201911B (ja) |
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---|---|---|---|---|
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US5169861A (en) * | 1989-03-09 | 1992-12-08 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Benzothiophene compounds |
SK16992000A3 (sk) * | 1998-05-12 | 2001-04-09 | American Home Products Corporation | Benzotiofény, benzofurány, indoly, farmaceutický prostriedok s ich obsahom a ich použitie |
US6251936B1 (en) | 1998-05-12 | 2001-06-26 | American Home Products Corporation | Benzothiophenes, benzofurans, and indoles useful in the treatment of insulin resistance and hyperglycemia |
US6174913B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-01-16 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Naphtho- and dihydrobenzo-thiophene derivatives as cytotoxic antitumor agents |
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---|---|---|---|---|
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JPS6310746A (ja) * | 1986-07-01 | 1988-01-18 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | ナフタレン誘導体 |
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- 1987-11-20 JP JP62294736A patent/JPH01135766A/ja active Pending
-
1988
- 1988-11-04 IL IL88295A patent/IL88295A/xx unknown
- 1988-11-08 US US07/268,894 patent/US4952602A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-17 FI FI885323A patent/FI885323A/fi not_active Application Discontinuation
- 1988-11-18 EP EP19880119220 patent/EP0316939A3/en not_active Ceased
- 1988-11-18 KR KR1019880015201A patent/KR890008145A/ko not_active Application Discontinuation
- 1988-11-18 AU AU25707/88A patent/AU611736B2/en not_active Ceased
- 1988-11-18 DK DK645988A patent/DK645988A/da not_active Application Discontinuation
- 1988-11-18 HU HU885962A patent/HU201911B/hu not_active IP Right Cessation
- 1988-11-19 CN CN88108026A patent/CN1033276A/zh active Pending
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AU611736B2 (en) | 1991-06-20 |
CN1033276A (zh) | 1989-06-07 |
HUT50766A (en) | 1990-03-28 |
FI885323A (fi) | 1989-05-21 |
US4952602A (en) | 1990-08-28 |
KR890008145A (ko) | 1989-07-10 |
EP0316939A2 (en) | 1989-05-24 |
DK645988A (da) | 1989-05-21 |
IL88295A0 (en) | 1989-06-30 |
IL88295A (en) | 1993-03-15 |
FI885323A0 (fi) | 1988-11-17 |
AU2570788A (en) | 1989-05-25 |
HU201911B (en) | 1991-01-28 |
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