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JPH0944854A - 光ディスク及び記録装置 - Google Patents

光ディスク及び記録装置

Info

Publication number
JPH0944854A
JPH0944854A JP19345895A JP19345895A JPH0944854A JP H0944854 A JPH0944854 A JP H0944854A JP 19345895 A JP19345895 A JP 19345895A JP 19345895 A JP19345895 A JP 19345895A JP H0944854 A JPH0944854 A JP H0944854A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pits
pit row
closest
pit
blank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19345895A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumi Suzuki
克己 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP19345895A priority Critical patent/JPH0944854A/ja
Publication of JPH0944854A publication Critical patent/JPH0944854A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 再生信号の振幅を略一定範囲に留め、高密度
化記録にあっても確実に再生信号を2値化することがで
きる光ディスクを提供するにある。 【解決手段】 光ディスク1において、最密ピット列の
プリピットの本来あるべき位置を変えずにプリピットの
長さ方向の両側を長くすることにより、最密ピット列の
プリピットとその間のブランク部分のデューティ比をブ
ランク部分の方が短くなるように設定し、他のピット列
のブランク部分は、最密ピット列のブランクの長さに設
定されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光ディスク及び
この光ディスクの製造方法に係り、特に、高密度の記録
が可能な光ディスク及びこの光ディスクにプリフォーマ
ットを形成記録する記録方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、情報の大容量化に伴い、これを保
存するメモリとして光ディスクが注目されている。光デ
ィスクは、直径約1μmのビームスポットに集光したレ
ーザビームにより記録膜上に略同一サイズの記録マーク
が形成される為、極めて高密度の記録が可能である。
【0003】光ディスクは、CD、或いは、LDで代表
される再生専用型、電子ファイリング装置等で代表され
る1回の書き込みのみが可能な追記型、及びHDD、或
いは、FDDと同様に書換可能なリライタブル型に大別
される。更に、リライタブル型の光ディスクには、垂直
磁化膜に磁界を印加すると共にレーザビームを照射して
情報を記録・消去する光磁気記録方式及びレーザビーム
の照射により、記録膜を非晶質と結晶質とに選択的に変
化させれることにより情報を記録・消去する相変化記録
方式がある。
【0004】近年、これらの光ディスクの高密度化に伴
い、予め、光ディスク上に書かれているエンボス状のピ
ット情報も益々高密度化されている。ピットマーク列と
して、例えば、図8の(a)及び(b)に示すようなプ
リアンブル部分がエンボスピットP1 の最密パターンで
あり、これに続いてヘッダー等のそれ以外の比較的疎な
ピットP2 のパターンが配列されている場合、通常、最
密パターンの間隔が光ビームスポットに対して十分に離
間されていれば、図8の(b)に示すように光ビームス
ポットBs が2つのピットP1 、P2 に同時に照射され
るようなことがなく、最密パターン信号振幅と最疎パタ
ーンの信号振幅とは、図8の(c)に示すようにそれほ
ど変化せず、図8の(c)に破線で示すように2値化の
スレショルドレベルThをほぼ一定とすることができ
る。このような配列に対して情報の高密度化記録のため
に、図9の(a)及び(b)に示すように最密パターン
のエンボスピットP1 の間隔が狭められると、図9の
(b)に実線で示すように光ビームスポットBs が2つ
の最密ピットに同時に形成されるようになり、図9の
(c)に示すように再生信号の上端が低くなり、下端が
高くなって結果的に最密パターンの信号振幅が小さくな
る。
【0005】図8の(c)及び図9の(c)に示される
再生信号波形の2値化の為にスライスレベルを設定する
と場合には、図8の(c)に示すように最密パターンの
信号振幅と比較的疎のパターンの信号振幅とが略同一の
場合には、既に説明したようにスライスレベルThが略
一定し、パターンの変わり目でそれほど変化されない。
これに対して、図9の(c)に示すように最密パターン
の信号振幅と他のパターンの信号振幅とが大きく異なる
場合には、絶えず振幅の略中心に設定されるスライスレ
ベルTh1 、Th2 が信号振幅の変わり目でその変化に
追いつけず、ヘッダー部分のピット列が読めなくなる問
題がある。
【0006】この問題点を改善するため次のような提案
がなされている。すなわち、図10にプリピットのパタ
ーンの改善された例を示す。この例では、短いピット列
が密に配列された最密パターンでは、1と0に相当する
パターンがデューティ比50%で形成するところを、信
号が暗くなる凹部分、即ち、ピットが凸部分、即ち、ピ
ット間平坦部としてのブランクに対して長くなるよう
に、例えば、デューティ比を60%〜70%に設定され
ている。また、ID部のように比較的長いピット列が配
列される疎のパターンに対しても暗くなる凹部分が通常
設定よりも長く設定され、凸部分は、最密パターンと同
一に設定されている。
【0007】このように、凹部分のデューティ比を多く
して、凸部分を短くした場合に高密度化しても2値化の
為のスレッショルドレベルの変動を抑制できる効果につ
いて説明する。
【0008】まず、従来の光ディスクにおけるピット配
列を示す図9の(b)に示されるピット間の平坦部に略
その中心が形成されている光ビームスポットa1及びa
2に着目すると、最密パターンのプリピットがデューテ
ィ比50%で形成されている場合、最密パターン部分で
の凸部と最疎パターン部分の凸部では、光ビームスポッ
トa1とa2内の明るい部分と暗い部分の比率は、全く
同一である。また、最密パターンと最疎パターンの凹
部、即ち、ピット内に略その中心が位置された光ビーム
スポットb1とb2に着目すると、最密パターン部分に
当たったスポット内の方が最疎パターン部分に当たった
スポット内より明るい部分が多いことがわかる。これに
より、最密パターンと最疎パターンの凸部から返ってく
る光の強度は、略同一で、凹部から返ってくる光の強度
は、疎のパターンの方がより暗くなっていることにな
る。従って、図9の(c)に示されるように再生信号が
得られることとなる。
【0009】次に、改良されたピット列について図10
を参照して説明する。図10の(b)に示すように最密
パターンと最疎パターンの凸部に当たった光ビームスポ
ットc1とc2内では、明部と暗部の比率は、同一であ
るが、図9の(b)に示すスポットa1とa2の場合と
比べると、明部が狭くなっているため、図10の(c)
に示すように明部から返ってくる光強度は、図9の
(c)の場合と比べてより暗くなっている。一方、図1
0の(b)に示すように最密パターンと最疎パターンの
凹部に形成された光ビームスポットd1とd2内の明部
と暗部の比率は、最疎パターンの暗部の方が多いが、図
10の(b)に示す光ビームスポットb1と図10の
(b)に示す光ビームスポットd1を比較すると光ビー
ムスポットd1内の方が、暗部の比率が多くなっている
のがわかる。
【0010】以上のことを再生信号の信号レベルの絶対
値(図9の(c)及び図10の(c)に信号レベルA1
、A2 、B1 、B2 、C1 、C2 、D1 、D2 で示さ
れている。)の関係で整理すると、 A1=A2>C1=C2、B1>B2、D1>D2 且つ、B1>D1、B2=D2 となり、再生信号の振幅で比較すると、 A1−B1<C1−D1、A2−B2>C2−D2 となり、図9と図10との比較から明らかなように、最
密パターンからの再生信号振幅は、より大きく、最疎パ
ターンからの再生信号振幅は、より小さくなっている。
結果的に最密パターンと最疎パターンからの再生信号振
幅の相対的な変化量は、小さくなっていることになる。
【0011】しかし、この改良された提案にも次のよう
な欠点があった。図11の(a)〜(c)に示すよう
に、従来例の場合は、最密パターンと最疎パターンの再
生波形は振幅変動は大きいが、これを2値化したあとの
1、0のパターンは基本的に等間隔に並んでいるが、図
11の(d)〜(e)に示すように、本来暗くなるべき
凹部の一端(図中の波線部)から一方向に暗部のデュー
ティを大きくして行くと、その再生波形は一部ジッター
が大きくなり、これを2値化すると、図11の(f)、
(g)の1、0の並びを見てわかるとおり、g1、g
2、g3、g4のようなイレギュラーが生じてエラーの
原因となった。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上述のよ
うな事情に鑑みなされたものであって、記録密度を上げ
たプリピットを再生する場合において、最密パターンに
続いて最疎パターンを2値化する際のスライスレベル変
動、または、最疎パターンに続いて最密パターンを2値
化する際のスライスレベル変動を最小限に抑えるよう
に、あらかじめプリピットのパターンを形成し、かつ再
生信号のジッターが大きくなることなく、エラーの発生
を抑えることができる光ディスク及びその製造方法を提
供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】この発明の光ディスク
は、複数のトラックの各トラックに密なパターンで配列
された複数のピット及びピット間の複数のブランクから
なる最密ピット列からなる同期データと疎なパターンで
配列された複数のピット及びピット間の複数のブランク
からなる疎ピット列からなるアドレスデータとからな
り、このピット列に集光される集光ビームによってピッ
ト列上に形成されるビームスポットが最密ピット列にお
いて1つのブランク及びこれに連続する2個のピットの
両端にまで広がり、或いは、最密ピット列の1つのピッ
トが光スポットの中に入る大きさの関係にピット及びブ
ランクが設定されている複数のプリフォーマットデータ
が記録されているものにおいて、プリフォーマットデー
タの、最密ピット列のピットの本来あるべき位置を変え
ずにピットの長さ方向の両側を長くすることにより、最
密ピット列のピットとその間のブランク部分のデューテ
ィ比をブランク部分の方が短くなるように設定し、他の
ピット列のブランク部分は、最密ピット列のブランクの
長さに設定されている。
【0014】この発明の光ディスクは、複数のトラック
の各トラックに密なパターンで配列された複数のピット
及びピット間の複数のブランクからなる最密ピット列か
らなる同期データと疎なパターンで配列された複数のピ
ット及びピット間の複数のブランクからなる疎ピット列
からなるアドレスデータとからなり、このピット列に集
光される集光ビームによってピット列上に形成されるビ
ームスポットが最密ピット列において1つのブランク及
びこれに連続する2個のピットの両端にまで広がり、或
いは、最密ピット列の1つのピットが光スポットの中に
入る大きさの関係にピット及びブランクが設定されてい
る複数のプリフォーマットデータが記録され、プリフォ
ーマットデータに続けてデータが記録され、この記録さ
れているデータが再生されるものにおいて、プリフォー
マットデータの、最密ピット列のピットの本来あるべき
位置を変えずにピットの長さ方向の両側を長くすること
により、最密ピット列のピットとその間のブランク部分
のデューティ比をブランク部分の方が短くなるように設
定し、他のピット列のブランク部分は、最密ピット列の
ブランクの長さに設定されている。
【0015】この発明の光ディスクは、複数のトラック
の各トラックに密なパターンで配列された複数のピット
及びピット間の複数のブランクからなる最密ピット列か
らなる同期データと疎なパターンで配列された複数のピ
ット及びピット間の複数のブランクからなる疎ピット列
からなるアドレスデータとからなり、このピット列に集
光される集光ビームによってピット列上に形成されるビ
ームスポットが最密ピット列において1つのブランク及
びこれに連続する2個のピットの両端にまで広がり、或
いは、最密ピット列の1つのピットが光スポットの中に
入る大きさの関係にピット及びブランクが設定されてい
る複数のプリフォーマットデータが記録され、プリフォ
ーマットデータに続けて記録されているデータが再生さ
れるものにおいて、プリフォーマットデータの、最密ピ
ット列のピットの本来あるべき位置を変えずにピットの
長さ方向の両側を長くすることにより、最密ピット列の
ピットとその間のブランク部分のデューティ比をブラン
ク部分の方が短くなるように設定し、他のピット列のブ
ランク部分は、最密ピット列のブランクの長さに設定さ
れている。
【0016】この発明の光ディスクは、複数のトラック
の各トラックに密なパターンで配列された複数のピット
及びピット間の複数のブランクからなる最密ピット列か
らなる同期データと疎なパターンで配列された複数のピ
ット及びピット間の複数のブランクからなる疎ピット列
からなるアドレスデータとからなり、このピット列に集
光される集光ビームによってピット列上に形成されるビ
ームスポットが最密ピット列において1つのブランク及
びこれに連続する2個のピットの両端にまで広がり、或
いは、最密ピット列の1つのピットが光スポットの中に
入る大きさの関係にピット及びブランクが設定されてい
る複数のプリフォーマットデータが記録され、プリフォ
ーマットデータに続けてデータが記録されるものにおい
て、プリフォーマットデータの、最密ピット列のピット
の本来あるべき位置を変えずにピットの長さ方向の両側
を長くすることにより、最密ピット列のピットとその間
のブランク部分のデューティ比をブランク部分の方が短
くなるように設定し、他のピット列のブランク部分は、
最密ピット列のブランクの長さに設定されている。
【0017】この発明の光ディスクは、複数のトラック
の各トラックに密なパターンで配列された複数のピット
及びピット間の複数のブランクからなる最密ピット列か
らなる同期データと疎なパターンで配列された複数のピ
ット及びピット間の複数のブランクからなる疎ピット列
からなるアドレスデータとからなり、このピット列に集
光される集光ビームによってピット列上に形成されるビ
ームスポットが最密ピット列において1つのブランク及
びこれに連続する2個のピットの両端にまで広がり、或
いは、最密ピット列の1つのピットが光スポットの中に
入る大きさの関係にピット及びブランクが設定されてい
る複数のプリフォーマットデータが記録されているもの
において、プリフォーマットデータの、最密ピット列の
ピットの本来あるべき位置を変えずにピットの長さ方向
の両側を長くすることにより、最密ピット列のピットと
その間のブランク部分のデューティ比をブランク部分の
方が短くなるように設定し、他のピット列のブランク部
分は、最密ピット列のブランクの長さに設定されてい
る。
【0018】この発明の記録装置は、光ディスク上のト
ラックに対して所定間隔ごとに再生時の基準用の同期コ
ードと光ディスク上の位置を示すアドレスデータからな
るプリフォーマットデータを記録するものにおいて、光
ディスク上の位置に対応するアドレスデータをコードに
変換する変換手段、同期コードとこの変換手段により変
換されたコードとに応じて光ビームを発生する発生手
段、この発生手段により発生される光ビームにより光デ
ィスク上に同期コードに対応した密なパターンで配列さ
れた複数のピット及びピット間の複数のブランクからな
る最密ピット列とアドレスデータのコードに対応した疎
なパターンで配列された複数のピット及びピット間の複
数のブランクからなる疎ピット列からなるプリフォーマ
ットデータを記録する記録手段を有し、この記録手段に
より記録されるプリフォーマットデータの、最密ピット
列のピットの本来あるべき位置を変えずにピットの長さ
方向の両側を長くすることにより、最密ピット列のピッ
トとその間のブランク部分のデューティ比をブランク部
分の方が短くなるように設定し、他のピット列のブラン
ク部分は、最密ピット列のブランクの長さに設定されて
いる。
【0019】この発明の記録方法は、光ディスク上のト
ラックに対して所定間隔ごとに再生時の基準用の同期コ
ードと光ディスク上の位置を示すアドレスデータからな
るプリフォーマットデータを記録するものにおいて、光
ディスク上の位置に対応するアドレスデータをコードに
変換し、同期コードとこの変換されたコードとに応じて
光ビームを発生し、この発生される光ビームにより光デ
ィスク上に同期コードに対応した密なパターンで配列さ
れた複数のピット及びピット間の複数のブランクからな
る最密ピット列とアドレスデータのコードに対応した疎
なパターンで配列された複数のピット及びピット間の複
数のブランクからなる疎ピット列からなるプリフォーマ
ットデータを記録し、この記録されるプリフォーマット
データの、最密ピット列のピットの本来あるべき位置を
変えずにピットの長さ方向の両側を長くすることによ
り、最密ピット列のピットとその間のブランク部分のデ
ューティ比をブランク部分の方が短くなるように設定
し、他のピット列のブランク部分は、最密ピット列のブ
ランクの長さに設定されている。
【0020】この発明の原盤製造装置は、光ディスクを
作成するのに用いる原盤上のトラックに対して所定間隔
ごとに再生時の基準用の同期コードと光ディスク上の位
置を示すアドレスデータからなるプリフォーマットデー
タを記録するものにおいて、原盤上の位置に対応するア
ドレスデータをコードに変換する変換手段、同期コード
とこの変換手段により変換されたコードとに応じて光ビ
ームを発生する発生手段、この発生手段により発生され
る光ビームにより原盤上に同期コードに対応した密なパ
ターンで配列された複数のピット及びピット間の複数の
ブランクからなる最密ピット列とアドレスデータのコー
ドに対応した疎なパターンで配列された複数のピット及
びピット間の複数のブランクからなる疎ピット列からな
るプリフォーマットデータを作成する作成手段を有し、
この作成手段により作成されるプリフォーマットデータ
の、最密ピット列のピットの本来あるべき位置を変えず
にピットの長さ方向の両側を長くすることにより、最密
ピット列のピットとその間のブランク部分のデューティ
比をブランク部分の方が短くなるように設定し、他のピ
ット列のブランク部分は、最密ピット列のブランクの長
さに設定されている。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施例に係る光
ディスク及びこの光ディスクへのプリフォーマットデー
タの記録形成方法を図面を参照にしながら説明する。図
1の(a)〜(c)、図2の(a)〜(e)は、この発
明の光ディスク1へのプリフォーマットの記録方法によ
って形成されたプリフォーマットピット列Pのパターン
の1例とその再生信号の例が示されている。
【0022】一般に、フォーマットされた、例えば、M
・CAV方式でフォーマットされた光ディスクでは、ト
ラックが略同心円状に配列され、半径方向に複数のトラ
ックからなる複数の帯状の領域、即ち、複数のゾーンに
区分されるとともに円周方向に沿ってデータを記録する
単位としての複数のセクタに区分され、各ゾーンでは、
セクタ数が同一に設定されている。各ゾーン毎に、その
ゾーンに属するトラックからデータを再生する為、及
び、データを記録するの為の夫々異なる固有の所定周波
数を有するデータクロックが定められ、そのトラックの
ヘッダ部に予め記録されている。光ディスクの各ゾーン
の各セクタは、予めフォーマット情報として記録されて
いるプリフォーマットエリアとしてのヘッダ部と後にユ
ーザが情報を記録するデータエリアとしてのデータフィ
ールドとから構成されている。ヘッダ部は、1セクタの
開始を明示するセクタマーク部、データクロックを導出
する同期コードが記録されているVFO部、ID情報が
記録されているID部が複数個周期的に配列されてい
る。また、データフィ―ルドの最後尾には、次のセクタ
ーとデータフィ―ルドとの境を明らかにする為にデータ
が書き込まれていないギャップ領域が設けられている。
VFO部、ID情報部、データフィ―ルドは、(2−
7)変調されたデータで、“1”と“1”の間に“0”
が2ヶ〜7ヶ挿入された形式の変調データで光ディスク
1上にピットマークが形成され、これが再生される。I
D部には、ID情報としてトラックナンバ、セクタナン
バ及びCRCコードが記録されている。VFO部には、
「101010…」のような一定周期で“1”が読み出
される同期コードが記録されている。これらの信号は、
再生信号としてデータ処理回路に供給され、このデータ
処理回路において、各ゾーンに固有のデータクロックで
プリフォーマットデータとしてのID情報、即ち、アド
レス情報(トラック番号、セクタ番号等)及び再生デー
タが読み出される。
【0023】この発明のVFO部のように短いピット列
が密に配列された最密パターンでは、1と0に相当する
パターンがデューティ比50%で形成するところを、信
号が暗くなる凹部分、即ち、ピットが凸部分、即ち、ピ
ット間平坦部としてのブランクに対して長くなるよう
に、例えば、デューティ比を60%〜70%に設定され
ている。この際、最密ピット列のプリピットの本来ある
べき位置を変えずにプリピットの長さ方向の両側を長く
することにより、ピットの長さを長くしている。また、
ID部のように比較的長いピット列が配列される疎のパ
ターンに対しても暗くなる凹部分が通常設定よりも長く
設定され、凸部分は、最密パターンと同一に設定されて
いる。
【0024】このように、図1の(a)(b)、図2の
(a)(b)に示すように、従来のディーティ50%で
作製すべきエンボスピットの中心位置は、変えないで暗
部に相当する凹部をピットの中心に対して両側に延ばし
たことを特徴とする。こうすることで、図1の(c)、
図2の(c)に示すように明部と暗部の中心位置は変わ
らないため、図1の(d)(e)に示すように、再生時
に2値化後の1、0の間隔にイレギュラーが生ずること
なく、かつ、最密パターンと最疎パターンの再生信号の
振幅段差は軽減されているため、ヘッダ部が読めなくな
るという不具合点も解消される。
【0025】以下、実施例を用いて、本発明の光ディス
クの製造方法を説明する。 (実施例の1)この発明の光ディスクを製造するために
用いられる光ディスク原盤を製造する工程を図3の
(a)〜(d)を参照して説明する。まず、図3の
(a)に示されているようにガラス基板5が洗浄され、
その後、このガラス基板5が乾燥される。次に、図3の
(b)に示すように、このガラス基板5にフォトレジス
ト6が塗布される。なお、ガラス原板5にフォトレジス
ト6が塗布されたものを光ディスク原盤とする。このフ
ォトレジスト6に対し、図3の(c)に示すようにフォ
ーマット情報に応じて変調されたレーザビーム7が対物
レンズ8により集光されてこのフォトレジスト6が感光
される。この結果、フォトレジスト6には、感光部9が
形成される。そして図3の(c)に示す光ディスク原盤
を現像することにより、感光部9は除去され、図3の
(d)に示されるように、ピット10が形成される。
【0026】なお、通常、ピット10の断面形状は矩形
あるいは台形である。そして従来の光ディスク原盤の膜
厚dは、再生信号が最大となる。λ/4n(λ:再生レ
ーザ波長、n:基板の屈折率)とし、膜厚dとピットの
深さdを同一に設定している。
【0027】この背景下で、原盤製造装置を用いて次の
ようなシュミレーションを行った。図9及び図10に符
号b1 、d1 に示すように、高密度記録をシミュレート
するため、再生レーザビームのビームスポット中に最密
パターンに対応する最小ピットがすっぽり入ってしまう
場合を想定した。まず、従来例のピットの有る無しをデ
ューティ比50%とするため、フォトレジスト6に対し
てレーザ光7のパルス幅をデューティ比50%でオンオ
フして感光させた。実際に基板上に形成されるピットの
長さは、フォトレジストを塗った基板の回転スピードと
レーザ光のオンオフの時間で一義的に定まる。この例の
場合、再生光ビームは、波長685nmで対物レンズの
NA0.6であるので、基板上へ集光したレーザスポッ
トの直径は、約1μmである。従って、この実施例で
は、凹部のピット長が0.5μm、ピットが無い凸部長
さも0.5μmとなるように原盤を作製した。ピットの
無い凹部の長さは、最密パターン以外の長いピットに続
く場合も同じ0.5μmとなる。この原盤をサンプルA
と名付けた。
【0028】ついで、図10に示すように最密ピットパ
ターンのデューテー比を変更した光ディスクにおける再
生信号の振幅変動が抑制される本発明の効果を確認する
ため、原盤を作製時に最密ピットパターンに対応して照
射レーザのパルスオンとオフのデューティ比を60%と
40%、70%と30%、80%と20%に変えて、フ
ォトレジスト上に照射し、ディスク上で最密パターンに
対応した実際の物理ピット(凹部)とブランク(凸部)
の長さが、0.6μmと0.4μm、0.7μmと0.
3μm、0.8μmと0.2μmとなるような原盤を作
製し、これらをそれぞれサンプルB、サンプルC、サン
プルDと名付けた。尚、この照射レーザのパルスオン/
オフ時に、本来の物理ピット(凹部)の中心位置は変え
ずに、凹部を両側の伸ばすようにカッティングを行っ
た。サンプルB、C、Dでは、最密パターン以外の長い
ピットに続くブランク(凸部)の長さが、それぞれ0.
4μm、0.3μm、0.2μmとなり、かつ、凸部の
中心位置も本来あるべき位置からずれていないことは言
うまでもない。これらの関係を図4の(a)、(b)、
(c)、(d)に示す。
【0029】さて、このように作製した3.5インチの
サンプルA、B、C、Dのディスク原盤を用いて、メッ
キを行い、スタンパを作製した。これらのスタンパA、
B、C、Dを用いて更に、プラスチック基板成形を行
い、材質がポリカーボネートで直径3.5インチ、厚さ
1.2mmのディスク基板A、B、C、Dを作製した。
更に、これらのディスク基板を、真空蒸着器の中にセッ
トし、Alからなる反射膜を成膜した。最終的にできた
再生用のディスクサンプルを、最初の原盤に対応させて
同様にサンプルA、B、C、Dと名付けた。
【0030】これら3.5インチ径のサンプルディスク
A、B、C、Dを図5に示すディスクドライブ装置に装
填して、再生信号の2値化実験を行った。図5に示され
たディスク21をスピンドルモータ22によって、所定
の回転数まで回転させた。ディスク21は、先の原盤記
録によってピット状のグループ溝が形成されており、光
学ヘッド20は、このグループ溝とディスクの面振れに
追従して動く様に、フォーカス駆動制御31、トラック
駆動制御32のそれぞれの回路で制御されている。ディ
スク表面29にあるプリピットは、レーザドライバ回路
27によって制御されたレーザビームで読み出され、光
学ヘッド20によって再生され、この再生されたアナロ
グ信号は、プリアンプ23によって増幅され、2値化回
路24によって1、0の2値信号へ変換され、変復調回
路25を通って、原盤記録した元の情報26として再生
される。
【0031】2値化回路24では、アナログ信号を2値
化する為にある一定のスライスレベルを参照してそのレ
ベルより高い波形のピークが検出され、この検出出力と
して論理値1が出力される。また、そのレベルよりも低
い波形が検出されて論理値0が出力される。このような
スライスレベルは、一般に波形の振幅の中央に定められ
ている。
【0032】これらのサンプルディスクA、B、C、D
は、コンピュータ用のデータを情報として入力されてい
るため、まず、2値化回路のスライスレベルをPLLで
引き込むため、プリアンブルと呼ばれる最密記録のプリ
ピットパターンとそれに続くデータのアドレスを示すヘ
ッダー部分、更に引き続いてデータ部分となっている。
【0033】この実施例では、プリアンブルに引き続く
ヘッダー部分を、このドライブの2値化回路で読めるか
どうかを試験した。その結果、サンプルA、Bディスク
ではプリアンブル部に続くヘッダー部で、スライスレベ
ルが大きく変動して、ヘッダーを読むことはできなかっ
た。一方、サンプルC、Dディスクでは、通常どおりヘ
ッダーを読むことができた。図6の(a)、(b)、
(c)、(d)には、この実施例で作製したサンプルデ
ィスクA及びCの再生アナログ波形が示されている。図
6の(c)、(d)では、プリアンブル信号とヘッダー
信号振幅の段差が激しいのに対して図6の(a)、
(b)では、大部ゆるやかな変化になっていることが容
易に理解できる。
【0034】ついで、これのサンプルC、Dのヘッダー
の読みとり率を測定したところ、ディスクの内、中、外
周でそれぞれ99.999%を越えており、2枚ともエ
ラーが発生していないことが確認された。
【0035】以上、本発明によれば、光ディスク等の情
報記録媒体に対して、連続光の照射によって情報を再生
するものであって、あらかじめ基板上に形成されている
凹凸状のプリピットと基板上へ集光された光スポット径
(光の中心強度が1/e2になる部分の直径)の関係
が、(1)少なくとも光スポット径が、最密パターンに
対応した2個のプリピットの両端にかかる場合、または
(2)最密パターンに対応した1個のプリピットが光ス
ポットの中にほとんど入ってしまうかのいずれかの場合
について、本来のプリピットがあるべき位置は変えず
に、プリピットの両側を伸ばすことで、最密パターンに
対応したプリピット部分とその間のブランク部分の中心
位置は変えずに、デューティ比をブランク部分の方が短
くなるように設定し、その他の疎のパターンに対するブ
ランク部分は、最密パターンに対応したブランクの長さ
と同じに設定することにより、再生時に再生波形のジッ
ターの変動減少させ、結果としてエラーの発生を押さえ
て、尚かつ、最密パターンとそれ以外特に最疎パターン
との再生信号振幅変動を減少させて、信号処理のスライ
スレベルを安定化させ、安定した2値化を行うことがで
きる。
【0036】本発明は、従来例及び実施例のいずれも、
プリピット部分が凹部で、ブランク部分が凸部で説明し
たが、反対にプリピット部分が凸で、ブランク部分が凹
である場合でも全く同様の効果が期待できることは、言
うまでもない。また、本発明は、基板にあらかじめプリ
ピットが形成されている場合について説明したが、基板
上に記録膜が成膜されていて、ドライブ装置のレーザ光
を記録膜上に集光して、追記形の記録、または消去可能
形の記録を行う場合であっても、全く同様の効果が期待
できることは言うまでもない。以下、相変化形の記録消
去可能光ディスクの実施例を説明する。
【0037】(実施例の2)連続グループ溝を形成し
た、直径3.5インチ、厚さ1.2mmのポリカーボネ
ート製基板上に、図7に示すように、ZnS・SiO2
からなる誘電体膜51を2700A、GeSbTeの3
元合金からなる相変化形記録膜52を200A、ZnS
・SiO2 誘電体膜53を200A、Al合金からなる
反射膜54を2000A、この順に積層した相変化形光
ディスクに対して、図5に示す光ディスクドライブ装置
を用いて、記録再生を行った。
【0038】パルス波形発生器34により、生じた最密
パターン及び任意波形パターンをこの順にA/D変換器
35を通した後、レーザドライブ回路27によって光学
ヘッド20を駆動し、光ディスク面でのレーザ記録パワ
ー13mWにて、相変化光ディスク21に最密パターン
と任意パターンに対応したマークを記録した。この場合
レーザの波長は685nmで対物レンズのNAは0.6
であるため、集光したレーザの直径は、約1μmであ
る。相変化光ディスク21は、未記録部の反射率が約2
0%で、記録を行うとマークの部分は10%まで反射率
が下がる。
【0039】記録された最小のマーク径は、約0.5μ
mで最短ピットピッチが約1.0μmの場合について、
図6の(a)、(b)、(c)、(d)のプリピットの
場合と同じ実験を行った。すなわち、記録のレーザのパ
ルス幅を制御することにより、本来記録すべきマークの
中心位置を変えずに、マークの両側へ長く伸ばすように
して、反射率10%の暗い記録マークの長さを0.5μ
m、0.6μm、0.7μm、0.8μm、これに対応
して、反射率が20%の明るいブランク部分が0.5μ
m、0.4μm、0.3μm、0.2μmとなるように
最密パターンの記録を行った。また、それぞれの最密パ
ターンの後には、記録マークが任意の長さでブランク部
分は、それぞれ0.5μm、0.4μm、0.3μm、
0.2μmとなるように(2、7)変調でピットポジシ
ョン記録に従い、データを記録した。これらの記録デー
タを図4に示したと同じ対応で、データA、B、C、D
とした。その後、レーザパワーを0.7mWにまで下げ
て、連続光にて再生した。2値化の方式は、実施例1と
同様に再生波形の中央をスライスした。この実施例2で
は、実施例1と異なり、再生光量の暗くなる部分(マー
クの中心位置)が1となり、明るくなる部分(ブランク
部分の中心)が0となることである。PLLは、実施例
1と同様に最密パターンに相当するプリアンブルで引き
込んで、その後のデータ部を2値化しようとしたとこ
ろ、データAは、判別できなかったが、データB、C、
Dは、記録したときの情報を再生することができた。
【0040】以上、本発明によれば、光ディスク等の記
録媒体に対して、レーザ光の照射によって情報の記録消
去再生するものであって、最密パターンに対応した最短
記録マークと集光された光スポット径(光の中心強度が
1/e2になる部分の直径)の関係が、(1)少なくと
も光スポット径が、最密パターンに対応した2個の記録
マークの両端にかかる場合、または(2)最密パターン
に対応した最短記録マーク1個が光スポットの中にほと
んど入ってしまうかのいずれかの場合について、本来記
録マークを形成するべき中心位置は変えずに、マークの
長さを両側へ伸ばすことで最密パターンに対応した最短
記録マークとその間のブランク部分のデューティ比をブ
ランク部分の方は短くなるように記録し、その他の疎の
パターンに対するブランク部分は、最密パターンに対応
したブランクの長さと同じに記録することにより、再生
2値化信号処理時に、マーク部の中心位置とブランク部
の中心位置を変えずに、従って結果として再生信号のジ
ッターを増大すること無く、尚かつ、最密パターンとそ
れ以外、特に最疎パターンとの振幅変動を抑えて、信号
処理のスライスレベルを安定化させ、安定した2値化を
行うことができる。
【0041】
【発明の効果】以上のように、この発明の記録方法によ
れば、再生信号の振幅を略一定範囲に留め、高密度化記
録にあっても確実に再生信号を2値化することができる
光ディスクを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の光ディスクの高密度で配列されたピ
ット列を示す断面図、集光スポット径とこの高密度配列
のプリピット列との関係を示す平面図、及び再生された
再生信号の波形図である。
【図2】従来のディーティ50%で作製すべきエンボス
ピットに対するこの発明のエンボスピットの位置、この
エンボスピットによる再生信号と2値化出力を示す図で
ある。
【図3】図1、図2に示された光ディスクを製造するた
めの原盤を製作する過程を概略的に示す断面図である。
【図4】図3に示される工程により製造された種々の原
盤から作られるサンプル光ディスクのピット列の種々の
例を示す平面図である。
【図5】図4に示されたサンプル光ディスクを再生する
ための光ディスク装置を概略的に示すブロック図であ
る。
【図6】図4に示したサンプルディスクから再生された
再生信号を示す波形図である。
【図7】この発明の記録方法が適用される光ディスクの
断面図である。
【図8】従来の光ディスクのピット列を示す断面図、集
光スポット径とプリピット列との関係を示す平面図、及
び再生された再生信号の波形図である。
【図9】従来の光ディスクの高密度で配列されたピット
列を示す断面図、集光スポット径とこの高密度配列のプ
リピット列との関係を示す平面図、及び再生された再生
信号の波形図である。
【図10】図9の問題点が改善された例に対する光ディ
スクの高密度で配列されたピット列を示す断面図、集光
スポット径とこの高密度配列のプリピット列との関係を
示す平面図、及び再生された再生信号の波形図である。
【図11】図10の改善例における問題点を説明するた
めのディーティ50%で作製すべきエンボスピットによ
る再生信号と2値化出力と、改善されたエンボスピット
による再生信号と2値化出力を示す図である。
【符号の説明】
1…光ディスク P…プリフォーマットピット列 5…ガラス基板 6…フォトレジスト 8…対物レンズ 9…感光部 20…光学ヘッド

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のトラックの各トラックに密なパタ
    ーンで配列された複数のピット及びピット間の複数のブ
    ランクからなる最密ピット列からなる同期データと疎な
    パターンで配列された複数のピット及びピット間の複数
    のブランクからなる疎ピット列からなるアドレスデータ
    とからなり、このピット列に集光される集光ビームによ
    ってピット列上に形成されるビームスポットが最密ピッ
    ト列において1つのブランク及びこれに連続する2個の
    ピットの両端にまで広がり、或いは、最密ピット列の1
    つのピットが光スポットの中に入る大きさの関係にピッ
    ト及びブランクが設定されている複数のプリフォーマッ
    トデータが記録されている光ディスクにおいて、 プリフォーマットデータの、最密ピット列のピットの本
    来あるべき位置を変えずにピットの長さ方向の両側を長
    くすることにより、最密ピット列のピットとその間のブ
    ランク部分のデューティ比をブランク部分の方が短くな
    るように設定し、他のピット列のブランク部分は、最密
    ピット列のブランクの長さに設定されていることを特徴
    とする光ディスク。
  2. 【請求項2】 複数のトラックの各トラックに密なパタ
    ーンで配列された複数のピット及びピット間の複数のブ
    ランクからなる最密ピット列からなる同期データと疎な
    パターンで配列された複数のピット及びピット間の複数
    のブランクからなる疎ピット列からなるアドレスデータ
    とからなり、このピット列に集光される集光ビームによ
    ってピット列上に形成されるビームスポットが最密ピッ
    ト列において1つのブランク及びこれに連続する2個の
    ピットの両端にまで広がり、或いは、最密ピット列の1
    つのピットが光スポットの中に入る大きさの関係にピッ
    ト及びブランクが設定されている複数のプリフォーマッ
    トデータが記録され、プリフォーマットデータに続けて
    データが記録され、この記録されているデータが再生さ
    れる光ディスクにおいて、 プリフォーマットデータの、最密ピット列のピットの本
    来あるべき位置を変えずにピットの長さ方向の両側を長
    くすることにより、最密ピット列のピットとその間のブ
    ランク部分のデューティ比をブランク部分の方が短くな
    るように設定し、他のピット列のブランク部分は、最密
    ピット列のブランクの長さに設定されていることを特徴
    とする光ディスク。
  3. 【請求項3】 複数のトラックの各トラックに密なパタ
    ーンで配列された複数のピット及びピット間の複数のブ
    ランクからなる最密ピット列からなる同期データと疎な
    パターンで配列された複数のピット及びピット間の複数
    のブランクからなる疎ピット列からなるアドレスデータ
    とからなり、このピット列に集光される集光ビームによ
    ってピット列上に形成されるビームスポットが最密ピッ
    ト列において1つのブランク及びこれに連続する2個の
    ピットの両端にまで広がり、或いは、最密ピット列の1
    つのピットが光スポットの中に入る大きさの関係にピッ
    ト及びブランクが設定されている複数のプリフォーマッ
    トデータが記録され、プリフォーマットデータに続けて
    記録されているデータが再生される光ディスクにおい
    て、 プリフォーマットデータの、最密ピット列のピットの本
    来あるべき位置を変えずにピットの長さ方向の両側を長
    くすることにより、最密ピット列のピットとその間のブ
    ランク部分のデューティ比をブランク部分の方が短くな
    るように設定し、他のピット列のブランク部分は、最密
    ピット列のブランクの長さに設定されていることを特徴
    とする光ディスク。
  4. 【請求項4】 複数のトラックの各トラックに密なパタ
    ーンで配列された複数のピット及びピット間の複数のブ
    ランクからなる最密ピット列からなる同期データと疎な
    パターンで配列された複数のピット及びピット間の複数
    のブランクからなる疎ピット列からなるアドレスデータ
    とからなり、このピット列に集光される集光ビームによ
    ってピット列上に形成されるビームスポットが最密ピッ
    ト列において1つのブランク及びこれに連続する2個の
    ピットの両端にまで広がり、或いは、最密ピット列の1
    つのピットが光スポットの中に入る大きさの関係にピッ
    ト及びブランクが設定されている複数のプリフォーマッ
    トデータが記録され、プリフォーマットデータに続けて
    データが記録される光ディスクにおいて、 プリフォーマットデータの、最密ピット列のピットの本
    来あるべき位置を変えずにピットの長さ方向の両側を長
    くすることにより、最密ピット列のピットとその間のブ
    ランク部分のデューティ比をブランク部分の方が短くな
    るように設定し、他のピット列のブランク部分は、最密
    ピット列のブランクの長さに設定されていることを特徴
    とする光ディスク。
  5. 【請求項5】 複数のトラックの各トラックに密なパタ
    ーンで配列された複数のピット及びピット間の複数のブ
    ランクからなる最密ピット列からなる同期データと疎な
    パターンで配列された複数のピット及びピット間の複数
    のブランクからなる疎ピット列からなるアドレスデータ
    とからなり、このピット列に集光される集光ビームによ
    ってピット列上に形成されるビームスポットが最密ピッ
    ト列において1つのブランク及びこれに連続する2個の
    ピットの両端にまで広がり、或いは、最密ピット列の1
    つのピットが光スポットの中に入る大きさの関係にピッ
    ト及びブランクが設定されている複数のプリフォーマッ
    トデータが記録されている光ディスクにおいて、 プリフォーマットデータの、最密ピット列のピットの本
    来あるべき位置を変えずにピットの長さ方向の両側を長
    くすることにより、最密ピット列のピットとその間のブ
    ランク部分のデューティ比をブランク部分の方が短くな
    るように設定し、他のピット列のブランク部分は、最密
    ピット列のブランクの長さに設定されていることを特徴
    とする記録方法。
  6. 【請求項6】 光ディスク上のトラックに対して所定間
    隔ごとに再生時の基準用の同期コードと光ディスク上の
    位置を示すアドレスデータからなるプリフォーマットデ
    ータを記録する記録装置において、 光ディスク上の位置に対応するアドレスデータをコード
    に変換する変換手段と、 同期コードとこの変換手段により変換されたコードとに
    応じて光ビームを発生する発生手段と、 この発生手段により発生される光ビームにより光ディス
    ク上に同期コードに対応した密なパターンで配列された
    複数のピット及びピット間の複数のブランクからなる最
    密ピット列とアドレスデータのコードに対応した疎なパ
    ターンで配列された複数のピット及びピット間の複数の
    ブランクからなる疎ピット列からなるプリフォーマット
    データを記録する記録手段とを有し、 この記録手段により記録されるプリフォーマットデータ
    の、最密ピット列のピットの本来あるべき位置を変えず
    にピットの長さ方向の両側を長くすることにより、最密
    ピット列のピットとその間のブランク部分のデューティ
    比をブランク部分の方が短くなるように設定し、他のピ
    ット列のブランク部分は、最密ピット列のブランクの長
    さに設定されていることを特徴とする記録装置。
  7. 【請求項7】 光ディスク上のトラックに対して所定間
    隔ごとに再生時の基準用の同期コードと光ディスク上の
    位置を示すアドレスデータからなるプリフォーマットデ
    ータを記録する記録方法において、 光ディスク上の位置に対応するアドレスデータをコード
    に変換し、 同期コードとこの変換されたコードとに応じて光ビーム
    を発生し、 この発生される光ビームにより光ディスク上に同期コー
    ドに対応した密なパターンで配列された複数のピット及
    びピット間の複数のブランクからなる最密ピット列とア
    ドレスデータのコードに対応した疎なパターンで配列さ
    れた複数のピット及びピット間の複数のブランクからな
    る疎ピット列からなるプリフォーマットデータを記録
    し、 この記録されるプリフォーマットデータの、最密ピット
    列のピットの本来あるべき位置を変えずにピットの長さ
    方向の両側を長くすることにより、最密ピット列のピッ
    トとその間のブランク部分のデューティ比をブランク部
    分の方が短くなるように設定し、他のピット列のブラン
    ク部分は、最密ピット列のブランクの長さに設定されて
    いることを特徴とする記録方法。
  8. 【請求項8】 光ディスクを作成するのに用いる原盤上
    のトラックに対して所定間隔ごとに再生時の基準用の同
    期コードと光ディスク上の位置を示すアドレスデータか
    らなるプリフォーマットデータを記録する原盤製造装置
    において、 原盤上の位置に対応するアドレスデータをコードに変換
    する変換手段と、 同期コードとこの変換手段により変換されたコードとに
    応じて光ビームを発生する発生手段と、 この発生手段により発生される光ビームにより原盤上に
    同期コードに対応した密なパターンで配列された複数の
    ピット及びピット間の複数のブランクからなる最密ピッ
    ト列とアドレスデータのコードに対応した疎なパターン
    で配列された複数のピット及びピット間の複数のブラン
    クからなる疎ピット列からなるプリフォーマットデータ
    を作成する作成手段とを有し、 この作成手段により作成されるプリフォーマットデータ
    の、最密ピット列のピットの本来あるべき位置を変えず
    にピットの長さ方向の両側を長くすることにより、最密
    ピット列のピットとその間のブランク部分のデューティ
    比をブランク部分の方が短くなるように設定し、他のピ
    ット列のブランク部分は、最密ピット列のブランクの長
    さに設定されていることを特徴とする原盤製造装置。
JP19345895A 1995-07-28 1995-07-28 光ディスク及び記録装置 Pending JPH0944854A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006091093A (ja) * 2004-09-21 2006-04-06 Fujitsu Ltd 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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