JPH09301915A - フラボン及びナフタレン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】エストロゲンリセプターに特異的に結合でき
る、エストロゲン作用剤用。 【解決手段】一般式１で表される化合物及びその塩、な
らびに当該化合物を有効成分として含む医薬組成物。 〔式中、Ｒ₁ ：ＯＨ，Ｈ；Ｒ₂ ：アリール置換可アルキ
ル若しくはアルケニル；Ｒ₃ ：Ｈ，アルキル；Ｒ₄ 及び
Ｒ₅ ：Ｈ，アルキル；Ｒ₆ ：ＯＨ，ハロゲン，アルキ
ル；Ｘ：Ｏ，ＣＨ₂ ；----：単結合，二重結合〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エストロゲンリセ
プターに特異的に結合することによりエストロゲン作用
を発揮する化合物に関するものである。また、本発明
は、これらの化合物からなるエストロゲン作用剤として
有用な医薬、及び該化合物を有効成分として含む医薬用
組成物にも関する。

【０００２】

【従来の技術】エストロゲンは女性ホルモンの一種であ
り、発情作用を示すホルモンおよび類似の作用を持つ物
質の総称である。天然に存在するエストロゲンとして
は、ステロイド系のエストロゲンであるエストラジオー
ルが主要なヒト・エストロゲンとして知られている。ス
テロイド系のエストロゲン作用剤としては、例えば、エ
ストロン、エストリオール、エキリン、ホモエストロ
ン、及びエチニルエストラジオール等も知られている。
また非ステロイド系のエストロゲン作用剤として、例え
ばジエチルスチルベステロールやヘキセストロール等が
知られている。

【０００３】これらのエストロゲン作用剤のうち、ステ
ロイド系のエストロゲン作用剤は、例えば、エストロゲ
ンの減少に起因する無月経、無排卵周期症、機能性子宮
出血、子宮発育不全などを適応症とする医薬として用い
られており、更年期障害の治療や乳汁分泌抑制などにも
用いられている。また、非ステロイド系のエストロゲン
作用剤は、主として前立腺癌及び前立腺肥大症などの治
療薬として使用されている。

【０００４】現在使用されているエストロゲン作用剤
は、何れも、胃腸障害、血栓症、子宮出血、肝障害など
の副作用を有するという問題があり、長期投与すると、
子宮体癌や乳癌などが発現する場合があることが知られ
ている。従って、これらの副作用が軽減されたエストロ
ゲン作用剤が望まれている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、優れ
たエストロゲン様作用を有し、エストロゲン剤の有効成
分として有用な化合物を提供することにある。本発明の
別の課題は、優れたエストロゲン様作用を有し、かつ、
従来のエストロゲン剤が有する副作用が軽減された化合
物を提供することにある。本発明のさらに別の課題は、
上記の特徴を有する化合物を有効成分とする医薬を提供
することにあり、併せて、上記の医薬を用いることによ
り、エストロゲンの減少に起因する疾患（例えば、無月
経、無排卵周期症、機能性子宮出血、子宮発育不全等）
や、更年期障害、骨粗鬆症、前立腺癌、前立腺肥大症な
どを治療する方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決すべく鋭意検討を重ね、エストロゲンリセプター
へのエストラジオールの結合において、リガンドである
エストラジオールと拮抗する物質を見いだすべく種々の
化合物を合成した。その結果、特定のフラボン及びナフ
タレン誘導体が強いエストロゲン活性（アゴニスト活
性）を有することを見出した。本発明は、上記の知見を
基にして完成されたものである。

【０００７】すなわち、本発明は、下記の一般式(I):

【０００８】

【化２】

【０００９】［式中、Ｒ₁ は、水素原子又は水酸基を示
し、Ｒ₂ は、無置換若しくはアリール置換のアルキル
基、又は無置換若しくはアリール置換のアルケニル基を
示し、Ｒ₃ は、水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
₄ 及びＲ₅ は、それぞれ独立に水素原子又は低級アルキ
ル基を示し、Ｒ₆ は、水酸基、ハロゲン原子、又は低級
アルキル基を示し、Ｘは、酸素原子またはメチレン基を
示し、----は当該結合が単結合又は二重結合であること
を示す］で表される化合物及びその塩を提供するもので
ある。

【００１０】この発明の好ましい態様によれば、Ｒ₂ が
無置換C_1-6アルキル基、二重結合を１個含む無置換のC
_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル置換若しくは無置
換フェニル基を置換基として有するC_1-4アルキル基であ
り；Ｒ₃ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；
Ｒ₄ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；Ｒ₅
が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；Ｒ₆ が水
酸基、ハロゲン原子、又は無置換C_1-4アルキル基である
上記の化合物及びその塩が提供される。

【００１１】さらに、上記の好ましい化合物及びその塩
において、Ｒ₁ が水酸基であり、かつ、Ｘが酸素原子で
ある化合物及びその塩；Ｒ₁ が水酸基であり、Ｒ₆ が水
酸基であり、Ｘがメチレン基であり、かつ、----の付さ
れた結合が単結合である化合物及びその塩；Ｒ₁ が水素
原子であり、Ｒ₆ が水酸基であり、かつ、Ｘが酸素原子
である化合物及びその塩；並びに、Ｒ₁ が水素原子であ
り、Ｒ₃ が水素原子であり、Ｒ₄ が水素原子であり、Ｒ
₆ が水酸基であり、Ｘがメチレン基であり、かつ、----
の付された結合が単結合である化合物及びその塩が提供
される。

【００１２】また、本発明の別の態様によれば、上記化
合物又は薬理学的に許容されるその塩からなる医薬、及
び上記化合物又は薬理学的に許容されるその塩を有効成
分として含む医薬用組成物が提供される。好ましい医薬
組成物として、エストロゲン作用剤として用いる上記組
成物；エストロゲンの減少に起因する疾患、更年期障
害、前立腺癌、及び前立腺肥大症からなる群から選択さ
れる疾患の予防及び／又は治療に用いる上記組成物；並
びに、乳汁分泌抑制に用いる上記組成物が提供される。
さらに本発明の別の態様により、上記各組成物の製造の
ための上記化合物又は薬理学的に許容されるその塩の使
用も提供される。

【００１３】

【発明の実施の形態】上記の一般式(I) において、Ｒ₂
は無置換若しくはアリール置換のアルキル基、又は無置
換若しくはアリール置換のアルケニル基を示す。Ｒ₂ が
示すアルキル基は直鎖又は分岐鎖のいずれでもよい。ア
ルキル基としては、例えば、メチル、エチル、n-プロピ
ル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、
t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチ
ル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-
メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチ
ル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメ
チルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチ
ル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチ
ルブチル、ヘプチル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘキ
シル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘキシル、5-メチル
ヘキシル、1-プロピルブチル、4,4-ジメチルペンチル、
オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メ
チルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、
6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチル、2-エチルヘキ
シル、5,5-ジメチルヘキシル、ノニル、3-メチルオクチ
ル、4-メチルオクチル、5-メチルオクチル、6-メチルオ
クチル、1-プロピルヘキシル、2-エチルヘプチル、6,6-
ジメチルヘプチル、デシル、1-メチルノニル、3-メチル
ノニル、8-メチルノニル、3-エチルオクチル、3,7-ジメ
チルオクチル、7,7-ジメチルオクチル、ウンデシル、4,
8-ジメチルノニル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、3,7,11- トリメチルドデシル、ヘキ
サデシル、4,8,12- トリメチルトリデシル、1-メチルペ
ンタデシル、14- メチルペンタデシル、13,13-ジメチル
テトラデシル、ヘプタデシル、15- メチルヘキサデシ
ル、オクタデシル、1-メチルヘプタデシル、ノナデシ
ル、アイコシル、3,7,11,15-テトラメチルヘキサデシ
ル、ヘニコシル、及びドコシルなどを挙げることができ
る。好適には、直鎖又は分枝鎖のC_1-10 （炭素数３〜10
個の）アルキル基、より好ましくは直鎖又は分枝鎖のC
_1-6アルキル基、特に好ましくは直鎖又は分枝鎖のC_2-5
アルキル基を用いることができる。

【００１４】Ｒ₂ がアリール置換アルキル基を示す場
合、アルキル基としては上記に例示したものを用いるこ
とができるが、好ましくは直鎖又は分枝鎖のC_1-4アルキ
ル基、より好ましくは直鎖のC_1-4アルキル基を用いるこ
とができる。アルキル基上の置換基であるアリール基
（芳香環基）の位置は特に限定されず、アルキル基上の
任意の位置に置換していてもよい。また、アルキル基上
のアリール基の個数は特に限定されず、１個又は２個以
上、好ましくは１個のアリール基がアルキル基上に置換
していてもよい。アリール基としては、例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、又はピリジル基、好ましくはフェニ
ル基などを用いることができ、これらのアリール基は芳
香環上に１個又は２個以上、好ましくは１個の置換基を
有していてもよい。このような芳香環上の置換基として
は、例えば、直鎖又は分枝鎖のC_1-4アルキル基、好まし
くはメチル基などを用いることができる。より具体的に
は、アリール置換アルキル基として、例えば、ベンジル
基、（2-メチルフェニル）メチル基、（3-メチルフェニ
ル）メチル基、（4-メチルフェニル）メチル基、（３，
４−ジメチルフェニル）メチル基、２−ナフチルメチル
基、4-ピリジルメチル基、2-フェニルエチル基、1-フェ
ニルエチル基、1-フェニルプロピル基、2-フェニルプロ
ピル基、3-フェニルプロピル基、3-フェニル-2- プロピ
ル基、2-フェニルブチル基、3-フェニルブチル基、3-フ
ェニル-2- ブチル基、4-フェニルブチル基、4-フェニル
-2- ブチル基、4-フェニル-3- ブチル基、3,3-ジフェニ
ルプロピル基などを挙げることができる。

【００１５】Ｒ₂ が示すアルケニル基は直鎖又は分岐鎖
のいずれでもよい。アルケニル基中の二重結合の数は特
に限定されないが、１ないし３個、より好ましくは１又
は２個、特に好ましくは１個の二重結合を有していても
よい。アルケニル基に存在するそれぞれの二重結合は、
シス又はトランス配置のいずれの立体配置を有していて
もよい。アルケニル基としては、例えば、2-プロペニ
ル、1-メチル-2- プロペニル、2-メチル-2- プロペニ
ル、2-エチル-2- プロペニル、2-ブテニル、1-メチル-2
- ブテニル、2-メチル-2- ブテニル、1-エチル-2- ブテ
ニル、3-ブテニル、1-メチル-3- ブテニル、2-メチル-3
- ブテニル、3-メチル-2- ブテニル（プレニル）、1-エ
チル-3- ブテニル、2-ペンテニル、1-メチル-2- ペンテ
ニル、2-メチル-2- ペンテニル、3-ペンテニル、1-メチ
ル-3- ペンテニル、2-メチル-3- ペンテニル、4-ペンテ
ニル、1-メチル-4- ペンテニル、2-メチル-4- ペンテニ
ル、2-ヘキセニル、3-ヘキセニル、4-ヘキセニル、5-ヘ
キセニル、9-ヘキサデセニル、シス-9- オクタデセニ
ル、トランス-11-オクタデセニル、シス、シス-9,12-オ
クタデカジエニル、9,12,15-オクタデカトリエニル、6,
9,12- オクタデカトリエニル、9,11,13-オクタデカトリ
エニル、5,8,11,14-アイコサテトラエニル、シス-15-テ
トラコセニルのような直鎖又は分枝鎖のC_2-25 アルケニ
ル基を用いることができる。

【００１６】これらのアルケニル基のうち、好ましくは
直鎖又は分枝鎖のC_2-12 アルケニル基、さらに好ましく
は１個の二重結合を有する直鎖又は分枝鎖のC_2-8アルケ
ニル基、特に好ましくは１個の二重結合を有する直鎖又
は分枝鎖のC_2-6アルケニル基を用いることができる。例
えば、2-プロペニル、3-ブテニル、3ーメチル-2- ブテニ
ル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、2-ヘ
キセニル、4-ヘキセニル、及び9-ヘキサデセニルは特に
好適に使用できる。Ｒ₂ がアリール置換アルケニル基を
示す場合、アルケニル基としては上記に例示したものを
用いることができるが、好ましくは直鎖又は分枝鎖のC
_2-4アルケニル基、より好ましくは直鎖のC_2-4アルケニ
ル基を用いることができる。アルケニル基上の置換基で
あるアリール基の位置は特に限定されず、任意の位置に
置換していてもよい。アリール基としては、上記に例示
した置換若しくは無置換のアリール基を用いることがで
き、アルケニル基上には１個又は２個以上、好ましくは
１個のアリール基が置換していてもよい。例えば、3-フ
ェニル-2- プロペニル、4-(4- メチルフェニル)-3-ブテ
ニルなどを用いることができる。

【００１７】Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₅ 、およびＲ₆ における低
級アルキル基としては直鎖又は分枝鎖のいずれを用いて
もよい。低級アルキル基としては、例えば、メチル、エ
チル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、
2-メチルブチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、n-
ヘキシル、4-メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-メ
チルペンチル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチルブチ
ル、2,2-ジメチルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジ
メチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチ
ル、2-エチルブチルなどの直鎖又は分枝鎖のC_1-6アルキ
ル基、好ましくは直鎖又は分枝鎖のC_1-4アルキル基を用
いることができる。Ｒ₆ におけるハロゲン原子として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子
のいずれを用いてもよい。式(I) の化合物の母核内に存
在する結合のうち、----を付した結合（点線及び実線の
組み合わせで示される結合）は単結合又は二重結合のい
ずれかである。

【００１８】上記一般式で示される化合物は、必要に応
じて塩、好ましくは薬理学上許容しうる塩としてもよ
い。このような塩として、例えば、ナトリウム塩、カリ
ウム塩、リチウム塩、カルシウム塩等の金属塩、アンモ
ニウム塩、モノメチルアミンやトリエチルアミン等の有
機アミン化合物塩などの塩基付加塩を挙げることができ
る。また、本発明の化合物は特定の異性体に限定される
ことはなく、アルケニル基に存在する二重結合に基づく
シス又はトランス異性体の他、分子中に存在することの
ある１又は２以上の不斉炭素に基づく任意の光学異性
体、ラセミ体、２以上の不斉炭素に基づく任意のジアス
テレオ異性体、光学異性体及び／又はジアステレオ異性
体の任意の混合物などもすべて本発明の範囲に包含され
る。さらに、遊離形態及び塩の形態の化合物についての
任意の溶媒和物及び水和物も本発明の範囲の包含され
る。

【００１９】本発明の好ましい化合物としては、例え
ば、 (a) 上記の一般式(I) において、Ｒ₁ が水酸基又は水素
原子であり；Ｒ₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を
１個含む無置換のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル
置換フェニル基若しくは無置換フェニル基が置換したC
_1-4アルキル基であり；Ｒ₃ が水素原子又は無置換C_1-4
アルキル基であり；Ｒ₄ が水素原子又は無置換C_1-4アル
キル基であり；Ｒ₅ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル
基であり；Ｒ₆ が水酸基、ハロゲン原子、又は無置換C
_1-4アルキル基であり；Ｘが酸素原子又はメチレン基で
あり；かつ、----が付された結合が単結合又は二重結合
である化合物を挙げることができる。

【００２０】より好ましい化合物は、例えば、 (b) 上記一般式(I) において、Ｒ₁ が水酸基であり；Ｒ
₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を１個含む無置換
のC_2-6アルケニル基、、又はC_1-4アルキル置換フェニル
基若しくは無置換フェニル基が置換したC_1-4アルキル基
であり；Ｒ₃ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であ
り；Ｒ₄ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；
Ｒ₅ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；Ｒ₆
が水酸基、ハロゲン原子、又は無置換C_1-4アルキル基で
あり；Ｘが酸素原子であり；かつ、----が付された結合
が単結合又は二重結合である化合物； (c) 上記一般式(I) において、Ｒ₁ が水酸基であり；Ｒ
₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を１個含む無置換
のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル置換フェニル基
若しくは無置換フェニル基が置換したC_1-4アルキル基で
あり；Ｒ₃ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であ
り；Ｒ₄ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；
Ｒ₅ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；Ｒ₆
が水酸基であり；Ｘがメチレン基であり；かつ、----が
付された結合が単結合である化合物； (d) 上記一般式(I) において、Ｒ₁ が水素原子であり；
Ｒ₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を１個含む無置
換のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル置換フェニル
基若しくは無置換フェニル基が置換したC_1-4アルキル基
であり；Ｒ₃ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であ
り；Ｒ₄ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；
Ｒ₅ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；Ｒ₆
が水酸基であり；Ｘが酸素原子であり；かつ、----が付
された結合が単結合又は二重結合である化合物；及び (e) 上記一般式(I) において、Ｒ₁ が水素原子であり；
Ｒ₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を１個含む無置
換のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル置換フェニル
基若しくは無置換フェニル基が置換したC_1-4アルキル基
であり；Ｒ₃ が水素原子であり；Ｒ₄ が水素原子であ
り；Ｒ₅ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；
Ｒ₆ が水酸基であり；Ｘがメチレン基であり；かつ、--
--が付された結合が単結合である化合物を挙げることが
できる。

【００２１】特に好ましい化合物としては、 (f) 上記一般式(I) において、Ｒ₁ が水酸基であり；Ｒ
₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を１個含む無置換
のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル置換フェニル基
若しくは無置換フェニル基が置換したC_1-4アルキル基で
あり；Ｒ₃ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であ
り；Ｒ₄ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；
Ｒ₅ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり；Ｒ₆
が水酸基であり；Ｘが酸素原子であり；かつ、----が付
された結合が単結合又は二重結合である化合物； (g) 上記一般式(I) において、Ｒ₁ が水酸基であり；Ｒ
₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を１個含む無置換
のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル置換フェニル基
若しくは無置換フェニル基が置換したC_1-4アルキル基で
あり；Ｒ₃ が水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であ
り；Ｒ₄ が水素原子であり；Ｒ₅ が水素原子又は無置換
C_1-4アルキル基であり；Ｒ₆ が水酸基であり；Ｘがメチ
レン基であり；かつ、----が付された結合が単結合であ
る化合物； (h) 上記一般式(I) において、Ｒ₁ が水素原子であり；
Ｒ₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を１個含む無置
換のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル置換若しくは
無置換のベンジル基であり；Ｒ₃ が水素原子であり；Ｒ
₄ が水素原子であり；Ｒ₅ が水素原子又は無置換C_1-4ア
ルキル基であり；Ｒ₆ が水酸基であり；Ｘが酸素原子で
あり；かつ、----が付された結合が単結合又は二重結合
である化合物；及び (i) 上記一般式(I) において、Ｒ₁ が水素原子であり；
Ｒ₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を１個含む無置
換のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル置換若しくは
無置換のベンジル基であり；Ｒ₃ が水素原子であり；Ｒ
₄ が水素原子であり；Ｒ₅ が水素原子又は無置換C_1-4ア
ルキル基であり；Ｒ₆ が水酸基であり；Ｘがメチレン基
であり；かつ、----が付された結合が単結合である化合
物を挙げることができる。

【００２２】本発明の化合物の好ましい化合物の具体例
を以下の表に示す。表中、例えば、R₂欄に Et, Allyl,
Prenyl, Benzyl, 及び 3-Ph-2-Pro-と記載された化合物
は、それぞれ、一般式(I) においてR₂がCH₃CH₂-, CH₂=C
H-CH₂-, CH₃-CH(CH₃)=CH-CH₂-, C₆H₅-CH₂-, 及び C₆H₅-
CH₂-CH(CH₃)-であることを示す。

【００２３】

【化３】

【００２４】

【表１】 Ｘ＝Ｏの化合物 ─────────────────────────────── No. ---- Ｒ₁ Ｒ₂ Ｒ₃ Ｒ₄ Ｒ₅ Ｒ₆ ─────────────────────────────── 1 単結合 ＯＨ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 2 単結合 ＯＨ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 3 単結合 ＯＨ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 4 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 5 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 6 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 7 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 8 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 9 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 10 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 11 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 12 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 13 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 14 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 15 単結合 ＯＨ Allyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 16 単結合 ＯＨ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 17 単結合 ＯＨ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 18 単結合 ＯＨ Ｂｕ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 19 単結合 ＯＨ Ｂｕ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 20 単結合 ＯＨ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 21 単結合 ＯＨ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 22 単結合 ＯＨ 2-Butene Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 23 単結合 ＯＨ 2-Butene Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 24 単結合 ＯＨ 3-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 25 単結合 ＯＨ 1-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 26 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｈ ＯＨ 27 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 28 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 29 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 30 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 31 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 32 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 33 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 34 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 35 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 36 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 37 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 38 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 39 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 40 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 41 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 42 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 43 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 44 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 45 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 46 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 47 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 48 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 49 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 50 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 51 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 52 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 53 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 54 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 55 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 56 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 57 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 58 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 59 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 60 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 61 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 62 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 63 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 64 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 65 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 66 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 67 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 68 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 69 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 70 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 71 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 72 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 73 単結合 ＯＨ Pentyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 74 単結合 ＯＨ Pentyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 75 単結合 ＯＨ Pentyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 76 単結合 ＯＨ Pentyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 77 単結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 78 単結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 79 単結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 80 単結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 81 単結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 82 単結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 83 単結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 84 単結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 85 単結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 86 単結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 87 単結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 88 単結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 89 単結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 90 単結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 91 単結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 92 単結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 93 単結合 ＯＨ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 94 単結合 ＯＨ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 95 単結合 ＯＨ 3-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 96 単結合 ＯＨ 3-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 97 単結合 ＯＨ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 98 単結合 ＯＨ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 99 単結合 ＯＨ 2-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 100 単結合 ＯＨ 2-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 101 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 102 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 103 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 104 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 105 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 106 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 107 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 108 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 109 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 110 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 111 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 112 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 113 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 114 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 115 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 116 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 117 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 118 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 119 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 120 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 121 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 122 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 123 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 124 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 125 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 126 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 127 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 128 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 129 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 130 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 131 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 132 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 133 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 134 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 135 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 136 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 137 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 138 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 139 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 140 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 141 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 142 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 143 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 144 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 145 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 146 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 147 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 148 単結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 149 単結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 150 単結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 151 単結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 152 単結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 153 単結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 154 単結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 155 単結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 156 単結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 157 単結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 158 単結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 159 単結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 161 単結合 ＯＨ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 162 単結合 ＯＨ 2-PhEt Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 163 単結合 ＯＨ 2-PhEt Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 164 単結合 ＯＨ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 165 単結合 ＯＨ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 166 単結合 ＯＨ 3-PhPr Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 167 単結合 ＯＨ 3-PhPr Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 168 単結合 ＯＨ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 169 単結合 ＯＨ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 170 単結合 ＯＨ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 171 単結合 ＯＨ 3-Ph-2-Prp Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 172 単結合 ＯＨ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 173 単結合 ＯＨ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 174 単結合 ＯＨ 3-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 175 単結合 ＯＨ 3-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 176 単結合 ＯＨ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 177 単結合 ＯＨ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 178 単結合 ＯＨ 4-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 179 単結合 ＯＨ 4-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 180 二重結合 ＯＨ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 181 二重結合 ＯＨ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 182 二重結合 ＯＨ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 183 二重結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 184 二重結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 185 二重結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 186 二重結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 187 二重結合 ＯＨ Ｐｒ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 188 二重結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 189 二重結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 190 二重結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 191 二重結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 192 二重結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 193 二重結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 194 二重結合 ＯＨ Allyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 195 二重結合 ＯＨ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 196 二重結合 ＯＨ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 197 二重結合 ＯＨ Ｂｕ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 198 二重結合 ＯＨ Ｂｕ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 199 二重結合 ＯＨ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 200 二重結合 ＯＨ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 201 二重結合 ＯＨ 2-Butene Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 202 二重結合 ＯＨ 2-Butene Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 203 二重結合 ＯＨ 3-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 204 二重結合 ＯＨ 1-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 205 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｈ ＯＨ 206 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 207 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 208 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 209 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 210 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 211 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 212 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 213 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 214 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 215 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 216 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 217 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 218 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 219 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 220 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 221 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 222 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 223 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 224 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 225 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 226 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 227 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 228 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 229 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 230 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 231 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 232 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 233 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 234 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 235 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 236 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 237 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 238 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 239 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 240 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 241 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 242 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 243 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 244 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 245 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 246 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 247 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 248 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 249 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 250 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 251 二重結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 252 二重結合 ＯＨ Pentyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 253 二重結合 ＯＨ Pentyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 254 二重結合 ＯＨ Pentyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 255 二重結合 ＯＨ Pentyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 256 二重結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 257 二重結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 258 二重結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 259 二重結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 260 二重結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 261 二重結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 262 二重結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 263 二重結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 264 二重結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 265 二重結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 266 二重結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 267 二重結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 268 二重結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 269 二重結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 270 二重結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 271 二重結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 272 二重結合 ＯＨ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 273 二重結合 ＯＨ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 274 二重結合 ＯＨ 3-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 275 二重結合 ＯＨ 3-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 276 二重結合 ＯＨ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 277 二重結合 ＯＨ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 278 二重結合 ＯＨ 2-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 279 二重結合 ＯＨ 2-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 280 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 281 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 282 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 283 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 284 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 285 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 286 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 287 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 288 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 289 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 290 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 291 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 292 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 293 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 294 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 295 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 296 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 297 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 298 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 299 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 300 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 301 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 302 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 303 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 304 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 305 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 306 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 307 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 308 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 309 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 310 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 311 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 312 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 313 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 314 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 315 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 316 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 317 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 318 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 319 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 320 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 321 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 322 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 323 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 324 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 325 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 326 二重結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 327 二重結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 328 二重結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 329 二重結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 330 二重結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 331 二重結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 332 二重結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 333 二重結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 334 二重結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 335 二重結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 336 二重結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 337 二重結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 338 二重結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 339 二重結合 ＯＨ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 340 二重結合 ＯＨ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 341 二重結合 ＯＨ 2-PhEt Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 342 二重結合 ＯＨ 2-PhEt Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 343 二重結合 ＯＨ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 344 二重結合 ＯＨ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 345 二重結合 ＯＨ 3-PhPr Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 346 二重結合 ＯＨ 3-PhPr Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 347 二重結合 ＯＨ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 348 二重結合 ＯＨ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 349 二重結合 ＯＨ 3-Ph2-Prp Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 350 二重結合 ＯＨ 3-Ph2-Prp Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 351 二重結合 ＯＨ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 352 二重結合 ＯＨ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 353 二重結合 ＯＨ 3-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 354 二重結合 ＯＨ 3-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 355 二重結合 ＯＨ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 356 二重結合 ＯＨ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 357 二重結合 ＯＨ 4-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 358 二重結合 ＯＨ 4-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ ───────────────────────────────

【００２５】

【化４】

【００２６】

【表２】 Ｘ＝ＣＨ₂ の化合物 ─────────────────────────────── No. ---- Ｒ₁ Ｒ₂ Ｒ₃ Ｒ₄ Ｒ₅ Ｒ₆ ─────────────────────────────── 359 単結合 ＯＨ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 360 単結合 ＯＨ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 361 単結合 ＯＨ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 362 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 363 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 364 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 365 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 366 単結合 ＯＨ Ｐｒ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 367 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 368 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 369 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 370 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 371 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 372 単結合 ＯＨ Allyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 373 単結合 ＯＨ Allyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 374 単結合 ＯＨ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 375 単結合 ＯＨ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 376 単結合 ＯＨ Ｂｕ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 377 単結合 ＯＨ Ｂｕ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 378 単結合 ＯＨ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 379 単結合 ＯＨ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 380 単結合 ＯＨ 2-Butene Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 381 単結合 ＯＨ 2-Butene Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 382 単結合 ＯＨ 3-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 383 単結合 ＯＨ 1-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 384 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 385 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 386 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 387 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 388 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 389 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 390 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 391 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 392 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 393 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 394 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｈ ＯＨ 395 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 396 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 397 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 398 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 399 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 400 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 401 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 402 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 403 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 404 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 405 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 406 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 407 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 408 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 409 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 410 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 411 単結合 ＯＨ Prenyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 412 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 413 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 414 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 415 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 416 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 417 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 418 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 419 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 420 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 421 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 422 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 423 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 424 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 425 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 426 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 427 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 428 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 429 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 430 単結合 ＯＨ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 431 単結合 ＯＨ Pentyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 432 単結合 ＯＨ Pentyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 433 単結合 ＯＨ Pentyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 434 単結合 ＯＨ Pentyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 435 単結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 436 単結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 437 単結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 438 単結合 ＯＨ 1-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 439 単結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 440 単結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 441 単結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 442 単結合 ＯＨ 2-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 443 単結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 444 単結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 445 単結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 446 単結合 ＯＨ 3-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 447 単結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 448 単結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 449 単結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 450 単結合 ＯＨ 4-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 451 単結合 ＯＨ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 452 単結合 ＯＨ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 453 単結合 ＯＨ 3-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 454 単結合 ＯＨ 3-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 455 単結合 ＯＨ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 456 単結合 ＯＨ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 457 単結合 ＯＨ 2-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 458 単結合 ＯＨ 2-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 459 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 461 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 462 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 463 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 464 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 465 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 466 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 467 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 468 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 469 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 470 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 471 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 472 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 473 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 474 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 475 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 476 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 477 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 478 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 479 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 480 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 481 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 482 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 483 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 484 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 485 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 486 単結合 ＯＨ Benzyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 487 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 488 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 489 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 490 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 491 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 492 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 493 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 494 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 495 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 496 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 497 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 498 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 499 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 500 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 501 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 502 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 503 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 504 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 505 単結合 ＯＨ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 506 単結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 507 単結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 508 単結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 509 単結合 ＯＨ 2-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 510 単結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 511 単結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 512 単結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 513 単結合 ＯＨ 3-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 514 単結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 515 単結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 516 単結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 517 単結合 ＯＨ 4-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 519 単結合 ＯＨ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 520 単結合 ＯＨ 2-PhEt Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 521 単結合 ＯＨ 2-PhEt Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 522 単結合 ＯＨ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 523 単結合 ＯＨ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 524 単結合 ＯＨ 3-PhPr Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 525 単結合 ＯＨ 3-PhPr Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 526 単結合 ＯＨ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 527 単結合 ＯＨ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 528 単結合 ＯＨ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 529 単結合 ＯＨ 3-Ph2-Prp Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 530 単結合 ＯＨ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 531 単結合 ＯＨ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 532 単結合 ＯＨ 3-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 533 単結合 ＯＨ 3-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 534 単結合 ＯＨ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 535 単結合 ＯＨ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 536 単結合 ＯＨ 4-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 537 単結合 ＯＨ 4-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ ──────────────────────────────────

【００２７】

【化５】

【００２８】

【表３】 Ｘ＝Ｏ の化合物 ─────────────────────────────── No. ---- Ｒ₁ Ｒ₂ Ｒ₃ Ｒ₄ Ｒ₅ Ｒ₆ ─────────────────────────────── 538 単結合 Ｈ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 539 単結合 Ｈ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 540 単結合 Ｈ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 541 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 542 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 543 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 544 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 545 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 546 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 547 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 548 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 549 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 550 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 551 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 552 単結合 Ｈ Allyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 553 単結合 Ｈ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 554 単結合 Ｈ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 555 単結合 Ｈ Ｂｕ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 556 単結合 Ｈ Ｂｕ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 557 単結合 Ｈ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 558 単結合 Ｈ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 559 単結合 Ｈ 2-Butene Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 560 単結合 Ｈ 2-Butene Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 561 単結合 Ｈ 3-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 562 単結合 Ｈ 1-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 563 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 564 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 565 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 566 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 567 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 568 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 569 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 570 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 571 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 572 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 573 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 574 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 575 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 576 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 577 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 578 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 579 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 580 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 581 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 582 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 583 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 584 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 585 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 586 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 587 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 588 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 589 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 590 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 591 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 592 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 593 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 594 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 595 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 596 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 597 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 598 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 599 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 600 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 601 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 602 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 603 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 604 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 605 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 606 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 607 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 608 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 609 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 610 単結合 Ｈ Pentyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 611 単結合 Ｈ Pentyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 612 単結合 Ｈ Pentyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 613 単結合 Ｈ Pentyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 614 単結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 615 単結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 616 単結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 617 単結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 618 単結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 619 単結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 620 単結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 621 単結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 622 単結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 623 単結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 624 単結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 625 単結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 626 単結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 627 単結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 628 単結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 629 単結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 630 単結合 Ｈ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 631 単結合 Ｈ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 632 単結合 Ｈ 3-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 633 単結合 Ｈ 3-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 634 単結合 Ｈ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 635 単結合 Ｈ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 636 単結合 Ｈ 2-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 637 単結合 Ｈ 2-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 638 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 639 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 640 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 641 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 642 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 643 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 644 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 645 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 646 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 647 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 648 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 649 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 650 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 651 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 652 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 653 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 654 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 655 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 656 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 657 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 658 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 659 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 660 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 661 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 662 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 663 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 664 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 665 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 666 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 667 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 668 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 669 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 670 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 671 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 672 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 673 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 674 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 675 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 676 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 677 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 678 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 679 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 680 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 681 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 682 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 683 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 684 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 685 単結合 Ｈ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 686 単結合 Ｈ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 687 単結合 Ｈ 2-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 688 単結合 Ｈ 2-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 689 単結合 Ｈ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 690 単結合 Ｈ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 691 単結合 Ｈ 3-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 692 単結合 Ｈ 3-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 693 単結合 Ｈ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 694 単結合 Ｈ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 695 単結合 Ｈ 4-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 696 単結合 Ｈ 4-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 697 単結合 Ｈ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 698 単結合 Ｈ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 699 単結合 Ｈ 2-PhEt Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 700 単結合 Ｈ 2-PhEt Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 701 単結合 Ｈ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 702 単結合 Ｈ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 703 単結合 Ｈ 3-PhPr Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 704 単結合 Ｈ 3-PhPr Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 706 単結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 707 単結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 708 単結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 709 単結合 Ｈ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 710 単結合 Ｈ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 711 単結合 Ｈ 3-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 712 単結合 Ｈ 3-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 713 単結合 Ｈ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 714 単結合 Ｈ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 715 単結合 Ｈ 4-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 716 単結合 Ｈ 4-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 717 二重結合 Ｈ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 718 二重結合 Ｈ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 719 二重結合 Ｈ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 720 二重結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 721 二重結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 722 二重結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 723 二重結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 724 二重結合 Ｈ Ｐｒ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 725 二重結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 726 二重結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 727 二重結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 728 二重結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 729 二重結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 730 二重結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 731 二重結合 Ｈ Allyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 732 二重結合 Ｈ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 733 二重結合 Ｈ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 734 二重結合 Ｈ Ｂｕ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 735 二重結合 Ｈ Ｂｕ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 736 二重結合 Ｈ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 737 二重結合 Ｈ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 738 二重結合 Ｈ 2-Butene Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 739 二重結合 Ｈ 2-Butene Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 740 二重結合 Ｈ 3-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 741 二重結合 Ｈ 1-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 742 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 743 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 744 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 745 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 746 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 747 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 748 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 749 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 750 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 751 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 752 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 753 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 754 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 755 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 756 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 757 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 758 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 759 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 760 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 761 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 762 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 764 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 765 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 766 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 767 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 768 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 769 二重結合 Ｈ Prenyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 770 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 771 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 772 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 773 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 774 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 775 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 776 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 777 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 778 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 779 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 780 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 781 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 782 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 783 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 784 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 785 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 786 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 787 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 788 二重結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 789 二重結合 Ｈ Pentyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 790 二重結合 Ｈ Pentyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 791 二重結合 Ｈ Pentyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 792 二重結合 Ｈ Pentyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 793 二重結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 794 二重結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 795 二重結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 796 二重結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 797 二重結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 798 二重結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 799 二重結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 800 二重結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 801 二重結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 802 二重結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 803 二重結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 804 二重結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 805 二重結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 806 二重結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 807 二重結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 808 二重結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 809 二重結合 Ｈ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 810 二重結合 Ｈ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 811 二重結合 Ｈ 3-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 812 二重結合 Ｈ 3-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 813 二重結合 Ｈ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 814 二重結合 Ｈ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 815 二重結合 Ｈ 2-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 816 二重結合 Ｈ 2-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 817 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 818 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 819 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 820 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 821 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 822 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 823 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 824 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 825 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 826 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 827 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 828 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 829 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 830 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 831 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 832 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 833 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 834 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 835 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 836 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 837 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 838 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 839 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 840 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 841 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 842 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 843 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 844 二重結合 Ｈ Benzyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 845 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 846 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 847 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 848 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 849 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 851 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 852 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 853 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 854 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 855 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 856 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 857 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 858 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 859 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 860 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 861 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 862 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 863 二重結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 864 二重結合 Ｈ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 865 二重結合 Ｈ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 866 二重結合 Ｈ 2-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 867 二重結合 Ｈ 2-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 868 二重結合 Ｈ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 869 二重結合 Ｈ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 870 二重結合 Ｈ 3-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 871 二重結合 Ｈ 3-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 872 二重結合 Ｈ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 873 二重結合 Ｈ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 874 二重結合 Ｈ 4-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 875 二重結合 Ｈ 4-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 876 二重結合 Ｈ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 877 二重結合 Ｈ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 878 二重結合 Ｈ 2-PhEt Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 880 二重結合 Ｈ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 881 二重結合 Ｈ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 882 二重結合 Ｈ 3-PhPr Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 883 二重結合 Ｈ 3-PhPr Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 884 二重結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 885 二重結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 886 二重結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 887 二重結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 888 二重結合 Ｈ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 889 二重結合 Ｈ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 890 二重結合 Ｈ 3-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 891 二重結合 Ｈ 3-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 892 二重結合 Ｈ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 893 二重結合 Ｈ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 894 二重結合 Ｈ 4-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 895 二重結合 Ｈ 4-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ ───────────────────────────────

【００２９】

【化６】

【００３０】

【表４】 Ｘ＝ＣＨ₂ の化合物 ─────────────────────────────── No. ---- Ｒ₁ Ｒ₂ Ｒ₃ Ｒ₄ Ｒ₅ Ｒ₆ ─────────────────────────────── 896 単結合 Ｈ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 897 単結合 Ｈ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 898 単結合 Ｈ Ｅｔ Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 899 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 900 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 901 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 902 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 903 単結合 Ｈ Ｐｒ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 904 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 905 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 906 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 907 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 908 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 909 単結合 Ｈ Allyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 910 単結合 Ｈ Allyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 911 単結合 Ｈ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 912 単結合 Ｈ Ｂｕ Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 913 単結合 Ｈ Ｂｕ Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 914 単結合 Ｈ Ｂｕ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 915 単結合 Ｈ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 916 単結合 Ｈ 2-Butene Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 917 単結合 Ｈ 2-Butene Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 918 単結合 Ｈ 2-Butene Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 919 単結合 Ｈ 3-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 920 単結合 Ｈ 1-Butene Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 921 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 922 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 923 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 924 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 925 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 926 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 927 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 928 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 929 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 930 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 931 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 932 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 933 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 934 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 935 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 936 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 937 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 938 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 939 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 940 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 941 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 942 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 943 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 944 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 945 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 946 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 947 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 948 単結合 Ｈ Prenyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 949 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 950 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 952 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 953 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 954 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 955 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 956 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 957 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 958 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 959 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 960 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 961 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 962 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 963 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 964 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 965 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 966 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 967 単結合 Ｈ Prenyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 968 単結合 Ｈ Pentyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 969 単結合 Ｈ Pentyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 970 単結合 Ｈ Pentyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 971 単結合 Ｈ Pentyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 972 単結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 973 単結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 974 単結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 975 単結合 Ｈ 1-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 976 単結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 977 単結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 978 単結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 979 単結合 Ｈ 2-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 981 単結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 982 単結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 983 単結合 Ｈ 3-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 984 単結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 985 単結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 986 単結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 987 単結合 Ｈ 4-Pentenyl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 988 単結合 Ｈ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 989 単結合 Ｈ 3-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 990 単結合 Ｈ 3-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 991 単結合 Ｈ 3-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 992 単結合 Ｈ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 993 単結合 Ｈ 2-MeBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 994 単結合 Ｈ 2-MeBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 995 単結合 Ｈ 2-MeBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 996 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 997 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｆ 998 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｃｌ 999 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｂｒ 1000 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｉ 1001 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｍｅ 1002 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｅｔ 1003 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｈ Ｐｒ 1004 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1005 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1006 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1007 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 1008 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 1009 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 1010 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 1011 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 1012 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 1013 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 1014 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 1015 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 1016 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 1017 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 1018 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 1019 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 1020 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 1021 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 1022 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 1023 単結合 Ｈ Benzyl Ｈ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 1024 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1025 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｅｔ ＯＨ 1026 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｐｒ ＯＨ 1027 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｈ Ｂｕ ＯＨ 1028 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｅｔ ＯＨ 1029 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｐｒ ＯＨ 1030 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ Ｂｕ ＯＨ 1031 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｍｅ ｔＢｕ ＯＨ 1032 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｅｔ ＯＨ 1033 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｐｒ ＯＨ 1034 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ Ｂｕ ＯＨ 1035 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｅｔ ｔＢｕ ＯＨ 1036 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｐｒ ＯＨ 1037 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ Ｂｕ ＯＨ 1038 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｐｒ ｔＢｕ ＯＨ 1039 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ Ｂｕ ＯＨ 1040 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ Ｂｕ ｔＢｕ ＯＨ 1041 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 1042 単結合 Ｈ Benzyl Ｍｅ ｔＢｕ ｔＢｕ ＯＨ 1043 単結合 Ｈ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 1044 単結合 Ｈ 2-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1045 単結合 Ｈ 2-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1046 単結合 Ｈ 2-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1047 単結合 Ｈ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 1048 単結合 Ｈ 3-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1049 単結合 Ｈ 3-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1050 単結合 Ｈ 3-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1051 単結合 Ｈ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 1052 単結合 Ｈ 4-MeBzl Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1053 単結合 Ｈ 4-MeBzl Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1054 単結合 Ｈ 4-MeBzl Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1055 単結合 Ｈ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 1056 単結合 Ｈ 2-PhEt Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1057 単結合 Ｈ 2-PhEt Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1058 単結合 Ｈ 2-PhEt Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1059 単結合 Ｈ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 1060 単結合 Ｈ 3-PhPr Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1061 単結合 Ｈ 3-PhPr Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1062 単結合 Ｈ 3-PhPr Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1063 単結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 1064 単結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1065 単結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1066 単結合 Ｈ 3-Ph-2-Prp Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1068 単結合 Ｈ 3-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1069 単結合 Ｈ 3-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1070 単結合 Ｈ 3-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1071 単結合 Ｈ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｈ ＯＨ 1072 単結合 Ｈ 4-PhBu Ｈ Ｈ Ｍｅ ＯＨ 1073 単結合 Ｈ 4-PhBu Ｈ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ 1074 単結合 Ｈ 4-PhBu Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ ＯＨ ─────────────────────────────── 本発明に好適な具体的化合物は、上記表中の No.１、
４、６、９、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２
１、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３１、３
２、３４、３５、３６、３７、３８、３９、４０、４
４、５３、５４、５５、５６、７３、７４、７７、８
１、８２、８５、８６、８９、９０、９３、９４、９
７、１０１、１０９、１１１、１１２、１２９、１４
８、１４９、１５２、１５３、１５６、１５７、１６
０、１６１、１６４、１６５、１６８、１７２、１７
３、１７６、１８０、１８１、１８５、１８８、１９
２、１９５、１９６、１９９、２００、２０３、２０
４、２０５、２０６、２０７、２１０、２１３、２１
６、２３２、２３３、２３４、２５２、２５３、２５
６、２５７、２６０、２６４、２６５、２６８、２６
９、２７２、２７３、２７６、２７７、２８０、２８
８、２８９、３０７、３２７、３２８、３３１、３３
２、３３５、３３６、３３９、３４０、３４３、３４
７、３５１、３５５、３５９、３６４、３６５、３６
７、３７１、３７４、３７５、３７８、３８２、３８
３、３８４、３９２、３９３、４０２、４１１、４１
２、４３１、４３２、４３５、４３６、４３９、４４
０、４４３、４４４、４４７、４４８、４５１、４５
２、４５５、４５６、４５９、４６７、４６８、４８
７、４８８、５０６、５０７、５１０、５１１、５１
４、５１５、５１８、５１９、５２２、５２３、５２
６、５２７、５３０、５３１、５３４、５３５、５３
８、５４１、５４３、５４６、５５０、５５３、５５
７、５６３、５７１、５９１、５９２、６１０、６１
４、６１５、６１８、６１９、６２２、６２３、６２
６、６２７、６３０、６３４、６３８、６４６、６８
５、６８９、６９０、６９３、６９７、７０１、７０
５、７０９、７１３、７１７、７２５、７３２、７３
６、７４０、７４１、７４２、７５０、７５１、７８
９、７９３、７９７、８０１、８０５、８０９、８１
０、８１３、８１７、８２５、８６４、８６８、８７
２、８７６、８９６、８９９、９０４、９０８、９１
１、９１５、９１９、９２０、９２１、９２９、９６
８、９７２、９７６、９８０、９８４、９８８、９９
２、９９６、１００４、１０４３、１０４７、１０５
１、及び１０５５の化合物である。

【００３１】本発明のさらに好適な化合物は、上記表中
の No.９、２６、３４、３５、３６、５３、７３、８
１、９３、９４、１０１、１０９、１１１、１１２、１
２９、１４８、１４９、１５２、１５３、１５６、１５
７、１６０、１６１、１８８、１９５、１９９、２０
０、２０５、２１３、２３２、２３３、２５２、２６
０、２７２、２７３、２８０、２８８、３２７、３３
１、３３５、３３９、３６７、３７４、３７８、３８
４、３９２、４１２、４３１、４３５、４３９、４５
１、４５９、４６７、５０６、５１０、５１４、５１
８、５４６、５５７、５６３、５７１、６１８、６２
２、６３０、６３４、６３８、６４６、６８５、６８
９、６９３、７４２、７５０、７８９、７９７、８１
３、８１７、８２５、８６８、８７２、９１５、９２
１、９２９、９７６、９９２、９９６、１０４３、１０
４７、及び１０５１の化合物である。もっとも、本発明
の範囲は、上記表中に例示した化合物、並びに上記の好
適な化合物に限定されることはない。

【００３２】本発明の化合物は、例えば、以下に記載す
る方法によって製造することができる。以下に示す各ス
キームにおいてR₁ないしR₆はそれぞれ上記と同じものを
示し、R₁' 及びR₆' は、R₁及びR₆が水酸基の場合にはメ
トキシ基又はR₇-O- と同一の基を表す（R₇は水酸基の保
護基を示す）。R₁及びR₆が水酸基以外の基の場合には、
それぞれR₁及びR₆と同一の置換基を表す。

【００３３】R₇の表す水酸基の保護基としては、通常の
有機反応に用いられるものであれば特に限定はないが、
例えば、ホルミル、アセチル、メトキシアセチルの様な
低級アルコキシ基が置換していてもよいアルカノイル
基；ベンゾイル、4-クロロベンゾイル、4-トルオイルの
ようなハロゲン原子又は低級アルキル基が置換していて
もよいベンゾイル基；テトラヒドロピラン-2- イル、4-
メトキシテトラヒドロピラン-2- イル、テトラヒドロチ
オピラン-2- イルのような低級アルコキシ基が置換して
いてもよいテトラヒドロピラニル基又はテトラヒドロチ
オピラニル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、
tert- ブチルジメチルシリルの様な低級アルキルシリル
基；ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル
のような１又は２個のフェニル基が置換していてもよい
低級アルキルシリル基；メトキシメチル、1,1-ジメチル
-1- メトキシメチル、2-メトキシエトキシメチル、エト
キシメチル、エトキシエチルのような低級アルコキシ置
換低級アルキル基；ベンジル、4-メチルベンジル、4-メ
トキシベンジル、4-シアノベンジル、トリフェニルメチ
ルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、
又はシアノ基がベンゼン環に置換していてもよいアラル
キル基；メチルチオメチルのような低級アルキルチオメ
チル基を用いることができる。好適には、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルなどのような低級
アルキル基；ベンジル、4-メトキシベンジル、4-ニトロ
ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチルなど
のような芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル
基；テトラヒドロピラン-2- イル、4-メトキシテトラヒ
ドロピラン-2- イルのような低級アルコキシ基が置換し
ていてもよいテトラヒドロピラニル基；トリメチルシリ
ル、t-ブチルジメチルシリルのような低級アルキルシリ
ル基；メトキシメチル、1,1-ジメチル-1- メトキシメチ
ル、2-メトキシエトキシメチル、エトキシメチル、エト
キシエチルなどの様な低級アルコキシ置換低級アルキル
基；トリクロロエチル、2,2,2-トリクロロエチルなどの
ようなハロゲン原子が置換していてもよいアルキル基；
トリメチルシリルメチル、トリメチルシリルエチルなど
の様な低級アルキルシリル基が置換していてもよいアル
キル基などを用いることができる。これらのうち、メト
キシメチル基を特に好適に用いることができる。

【００３４】

【化７】

【００３５】〔工程１〕本工程は、酸または塩基存在下
で化合物２に対してR₂-L (L は脱離基を示す）で示され
る化合物を作用させて化合物３を得る工程である。脱離
基としては通常の反応に於いて利用されるものであれば
特に限定はないが、例えば、塩素、臭素、沃素のような
ハロゲン原子；アセトキシ、プロピオニルオキシのよう
なアルキルカルボニルオキシ基；クロロアセチルオキ
シ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキ
シ、トリフルオロアセチルオキシのようなハロゲン化ア
ルキルカルボニルオキシ基；メトキシアセチルオキシの
ような低級アルコキシアルキルカルボニルオキシ基；
(E)-2-メチル-2- ブテノイルオキシのような不飽和アル
キルカルボニルオキシ基等の脂肪族アシルオキシ基；ベ
ンゾイルオキシのようなアリールカルボニルオキシ基；
2-ブロモベンゾイルオキシ、4-クロロベンゾイルオキシ
のようなハロゲン化アリールカルボニルオキシ基；2,4,
6-トリメチルベンゾイルオキシ、4-トルオイルオキシの
ような低級アルキル化アリールカルボニルオキシ基；4-
アニソイルオキシのような低級アルコキシ化アリールカ
ルボニルオキシ基；4-ニトロベンゾイルオキシ、2-ニト
ロベンゾイルオキシのようなニトロ化アリールカルボニ
ルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基；トリクロロメチ
ルオキシのようなトリハロゲノメチルオキシ基；メタン
スルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような低
級アルカンスルホニルオキシ基；トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキ
シのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基；
ベンゼンスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキ
シのようなアリールスルホニルオキシ基などを用いるこ
とができる。さらに好適には、ハロゲン原子、低級アル
カンスルホニルオキシ基、ハロゲノ低級アルカンスルホ
ニルオキシ基、またはアリールスルホニルオキシ基を用
いることができる。

【００３６】酸としては、通常の反応において酸触媒と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、若しくは燐酸
のような無機酸、又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホ
ン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、若
しくはトリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等
のブレンステッド酸、あるいは塩化亜鉛、四塩化スズ、
ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロント
リブロミドのようなルイス酸を用いることができる。好
適には、有機強酸又はルイス酸を用いることができ、さ
らに好適にはルイス酸が使用できる。

【００３７】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムt-ブトキシド、リチウムメトキシドのようなアル
カリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリウ
ム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプタ
ンアルカリ金属類；トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類；又は
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよう
な有機金属塩基類を用いることができる。なお、反応を
効率的に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニ
ウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのよ
うな第４級アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6
のようなクラウンエーテル類等を添加することもでき
る。好適にはアルカリ金属炭酸塩を用いることができ
る。

【００３８】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はない。例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノー
ル、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアルコ
ール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のような
アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよ
うなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのような
ニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、ス
ルホランのようなスルホキシド類を挙げることができ
る。好適にはハロゲン化炭化水素、アミド類、又はエー
テル類を用いることができる。

【００３９】反応温度は-78 ℃〜100 ℃であり、好適に
は20℃から使用する溶媒の還流温度までの範囲である。
反応時間は化合物や反応温度などの条件により変化する
が、通常１時間〜50時間程度であり、好適には10時間〜
30時間程度である。

【００４０】反応終了後、本反応の目的化合物３は常法
に従って反応混合物から採取される。例えば、反応混合
物を適宜中和し、不溶物が存在する場合には濾過により
適宜除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
して、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は、必要
ならば常法（例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィ−等の手段）によってさらに精製することができる。

【００４１】〔工程２〕本工程は化合物３の水酸基を保
護して化合物４を得る工程である。保護基がアシル基の
場合には、一般式R₇-L (L は脱離基を示す）又はR₇-O-
R₇と化合物３とを塩基存在下または非存在下に反応させ
る方法（方法１）か、あるいはR₇-OH と各種エステル化
剤と化合物３とを塩基存在下に反応させる方法（方法
２）で行うことができる。

【００４２】方法１において用いる化合物R₇-Lにおける
脱離基(L) は求核残基として脱離する基であれば特に限
定はないが、例えば、塩素、臭素の様なハロゲン原子；
アセトキシ様なアシルオキシ基；又はシアノ基などを用
いることができ、好適にはハロゲン原子又はアシルオキ
シ基を用いることができる。塩基としては、通常の反応
において塩基として使用されるものであれば特に限定は
ないが、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク-7-エン(DBU) のような有機塩基類を用いる
ことができる。なお、4-(N,N- ジメチルアミノ）ピリジ
ンや4-ピロリジノピリジンなどを他の塩基と組み合わせ
て触媒量用いることもでき、また反応を効率的に行わせ
るために、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、
テトラブチルアンモニウムクロリドのような第４級アン
モニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6の様なクラウン
エーテル類などを添加することもできる。反応温度は、
通常、-20 ℃から使用する溶媒の還流温度までの範囲で
行われるが、好適には0 ℃から使用する溶媒の還流温度
の範囲である。反応時間は、反応温度、原料化合物、使
用される塩基または使用される溶媒の種類などの条件に
よって異なるが、通常、10分〜３日程度であり、好適に
は、１時間〜６時間程度である。

【００４３】一般式R₇-Lで示される化合物の具体例とし
ては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロリ
ド、ブチリルクロリド、バレリルクロリド、ヘキサノイ
ルクロリド等のような脂肪族アシルハライド；メトキシ
カルボニルクロリド、エトキシカルボニルクロリド、プ
ロポキシカルボニルクロリドのような低級アルコキシカ
ルボニルハライド；ベンゾイルクロリド、ナフトイルク
ロリドのようなアリールカルボニルハライドなどをあげ
ることができる。一般式R₇-O- R₇で示される化合物の具
体例としては、例えば、ギ酸と酢酸との間で生成される
ような混合酸無水物；無水酢酸、無水プロピオン酸、無
水バレリル酸等のような脂肪族カルボン酸無水物をあげ
ることができる。

【００４４】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類；アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シク
ロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロ
ベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イ
ソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類など
を用いることができる。

【００４５】方法２においてエステル化剤としては、縮
合剤；クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチルのようなハ
ロゲン化ギ酸エステル；シアノリン酸エチルのようなシ
アノリン酸ジエステルなどを挙げることができる。縮合
剤としては、例えば、N-ヒドロキシサクシイミド、1-ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール、N-ヒドロキシ-5- ノルボ
ルネン-2,3- ジカルボキシイミドのようなN-ヒドロキシ
サクシンイミド誘導体とジシクロヘキシルカルボジイミ
ド等のカルボジイミドとの組み合わせ；2,2'-ジピリジ
ルジスルフィド等の活性ジスルフィド類とトリフェニル
ホスフィン等のトリアリールホスフィン類との組み合わ
せ；炭酸 N,N'-ジサクシニミジル等の炭酸ジサクシミニ
ジル誘導体；N,N'- ビス(2- オキソ-3- オキサゾリジニ
ル）ホスフィニッククロリドのようなホスフィニックク
ロリド化合物類；N,N'- ジスクシミジルオキザレート(D
SO) 、N,N'- ジフタールイミドオキザレート(DPO）、1,
1'- ビス（ベンゾトリアゾリル）オキザレート(BBTO)、
1,1'- ビス(6- クロロベンゾトリアゾリル）オキザレー
ト(BCTO)のようなオキザレート誘導体；アゾジカルボン
酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピルなどのア
ゾジカルボン酸誘導体とトリフェニルホスフィン、トリ
ブチルホスフィンなどのトリアラルキルホスフィンとの
組み合わせ；N-エチル-5- フェニルイソキサゾリウム-
3'-スルホナートのようなN-低級アルキル-5- フェニル
イソキサゾリウム-3'-スルホナート類；N,N'- ジシクロ
ヘキシルカルボジイミドのようなカルボジイミド類；2-
クロル-1- メチルピリジニウム・ヨウダイドのような2-
ハロ-1- 低級アルキルピリジニウム・ハライド類；ジフ
ェニルホスホリルアジドのようなジアリールホスホリル
アジド類を挙げることができるが、好適には、ハロゲン
化ギ酸エステル類を用いることができる。

【００４６】塩基としては方法１と同様のものを使用す
ることができる。溶媒としては、反応を阻害せず出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類などを用いることができる。

【００４７】保護基が低級アルキルオキシ基、アラルキ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、１ないし３個のアリ
ール基で置換されたメチル基、又はアルキル基の場合に
は、化合物R₇-L (L は脱離基を示す）を塩基又は酸の存
在下に化合物３と反応させる方法（方法３）、またはR₇
O-C=NHCY₃ （Y はハロゲン原子を示す）と酸とを化合物
３に作用させる方法（方法４）により保護基を導入する
ことができる。

【００４８】方法３において、化合物R₇-Lの脱離基(L)
としては求核残基として脱離する基であれば特に限定は
ないが、例えば、メトキシ、エトキシなどの低級アルキ
ルオキシ基；塩素、臭素、ヨウ素のようなハロゲン原
子；メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオ
キシのような低級アルコキシカルボニルオキシ基；クロ
ロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロ
ロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシのよう
なハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基；メタンスル
ホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような低級ア
ルカンスルホニルオキシ基；トリフルオロメタンスルホ
ニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシの
ようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基；ベン
ゼンスルホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、
p-ニトロベンゼンスルホニルオキシのようなアリールス
ルホニルオキシ基を挙げることができ、更に好適には、
ハロゲン原子、ハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ
基、及びアリールスルホニルオキシ基などを用いること
ができる。

【００４９】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類；トリエチルアミン、トリブ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモ
ルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジ
ン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,
5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビ
シクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ
[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類；
又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドの
ような有機金属塩基類を用いることができ、好適にはア
ルカリ金属水素化物（特に水素化ナトリウム）を使用す
ることができる。

【００５０】酸としては、通常の反応において酸触媒と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような
無機酸、又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パ
ラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオ
ロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド
酸、あるいは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリ
ド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのよう
なルイス酸を用いることができる。好適には有機酸、さ
らに好適には有機強酸を使用することができる。

【００５１】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類；ニトロエタン、ニトロ
ベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イ
ソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を用
いることができる。

【００５２】方法４においてR₇O-C=NHCY₃ で表される化
合物のハロゲン原子(Y) としてはフッ素原子又は塩素原
子などを用いることができ、使用される酸としては、ト
リフルオロ酢酸のようなハロゲノ低級アルカン酸；トリ
フルオロメタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、カ
ンファースルホン酸などの有機スルホン酸；強酸性イオ
ン交換樹脂などを挙げることができる。溶媒は、反応を
阻害せず出発物質をある程度溶解するものであれば特に
限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類を用いることができる。

【００５３】また、保護基がテトラヒドロピラニル基、
テトラヒドロトチオピラニル基、テトラヒドロフラニル
基、テトラヒドロチオフラニル基の場合には、ジヒドロ
ピランなどの対応するジヒドロ体を酸存在下に化合物３
と反応させることによって化合物４を製造することがで
きる（方法５）。

【００５４】酸としては、通常の反応において酸触媒と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような
無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パラ
トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸
或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボ
ロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイ
ス酸を用いることができ、好適には有機酸、さらに好適
には有機強酸を使用することができる。

【００５５】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類；ニトロエタン、ニトロ
ベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イ
ソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を用
いることができる。

【００５６】さらに、保護基がシリル基の場合には、一
般式R₇-L (L は脱離基を示す）で表される化合物を塩基
の存在下又は非存在下に化合物３と反応させることによ
り化合物４を製造することができる（方法６）。

【００５７】R₇-Lで示される化合物の脱離基(L) は求核
残基として脱離する基であれば特に限定はないが、例え
ば、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子；アセトキ
シ、プロピオニルオキシのようなアルキルカルボニルオ
キシ基；クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキ
シ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチル
オキシのようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ
基；メトキシアセチルオキシのような低級アルコキシア
ルキルカルボニルオキシ基；(E)-2-メチル-2- ブテノイ
ルオキシのような不飽和アルキルカルボニルオキシ基等
の脂肪族アシルオキシ基；ベンゾイルオキシのようなア
リールカルボニルオキシ基；2-ブロモベンゾイルオキ
シ、4-クロロベンゾイルオキシのようなハロゲン化アリ
ールカルボニルオキシ基；2,4,6-トリメチルベンゾイル
オキシ、4-トルオイルオキシのような低級アルキル化ア
リールカルボニルオキシ基；4-アニソイルオキシのよう
な低級アルコキシ化アリールカルボニルオキシ基；4-ニ
トロベンゾイルオキシ、2-ニトロベンゾイルオキシのよ
うなニトロ化アリールカルボニルオキシ基等の芳香族ア
シルオキシ基；トリクロロメチルオキシのようなトリハ
ロゲノメチルオキシ基；メタンスルホニルオキシ、エタ
ンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオ
キシ基；トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタ
フルオロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級
アルカンスルホニルオキシ基；ベンゼンスルホニルオキ
シ、p-トルエンスルホニルオキシのようなアリールスル
ホニルオキシ基を用いることができる。好適には、ハロ
ゲン原子、ハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基、
又はアリールスルホニルオキシ基などを用いることがで
きる。

【００５８】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば、特に限定はないが、好適
には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジ
メチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-
ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5
- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO)
、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU)
のような有機塩基類；又はブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類などを用
いることができる。なお、4-(N,N'-ジメチルアミノ）ピ
リジン又は4-ピロリジノピリジンなどを他の塩基と組み
合わせて触媒量用いることができ、また、反応を効率的
に行わせるためにベンジルトリエチルアンモニウムクロ
リド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第４
級アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のような
クラウンエーテル類等を添加することもできる。

【００５９】溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質
をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好
適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテ
ルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類；ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類を用いることができる。

【００６０】〔工程３〕化合物４を塩基存在下にアルデ
ヒド化合物と縮合して化合物５を得る工程である。塩基
としては、通常の反応において塩基として使用されるも
のであれば特に限定はないが、例えば、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属
炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水
素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うなアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのような
アルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類；ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキ
シド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコ
キシド類；メチルメルカプタンナトリウム、エチルメル
カプタンナトリウムのようなメルカプタンアルカリ金属
類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-
(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニリ
ン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.
0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタ
ン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク- 7-
エン(DBU) のような有機塩基類；又はブチルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類
を用いることができる。好適にはアルカリ金属水素化物
を使用することができる。反応を効率的に行わせるため
に、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリドやテトラ
ブチルアンモニウムクロリドのような第４級アンモニウ
ム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のようなクラウンエー
テル類等を添加することもできる。

【００６１】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノー
ル、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアルコ
−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなア
ルコ−ル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類を用いることができ、好
適にはアミド類を使用することができる。

【００６２】反応温度は-78 ℃〜30℃であり、好適には
-30 ℃〜10℃の範囲である。反応時間は、化合物の種類
や反応温度などの条件により変化するが、通常、１時間
〜20時間程度であり、好適には２時間〜５時間程度であ
る。反応終了後、溶剤を留去して得られる濃縮物に水を
注ぎ、この混合物を水と混和しない溶剤、例えば、ベン
ゼン、エーテル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液から
溶剤を留去することにより化合物５を得ることができ、
この生成物をさらに精製することなく次の工程に用いる
ことが可能である。もっとも、所望により各種クロマト
グラフィーあるいは再結晶法などの手法によりさらに精
製を行うことも可能である。

【００６３】〔工程４〕化合物５を塩基で処理すること
により閉環して化合物６を製造する工程である。塩基と
しては、通常の反応において塩基として使用されるもの
であれば特に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属
炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水
素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うなアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのような
アルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類；ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキ
シド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコ
キシド類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジ
ン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチル
アニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ
[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オ
クタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク
- 7-エン(DBU) のような有機塩基類；又はブチルリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩
基類を挙げることができる。好適にはアルカリ金属水酸
化物を用いることができる。反応を効率的に行わせるた
めに、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テト
ラブチルアンモニウムクロリドのような第４級アンモニ
ウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のようなクラウンエ
ーテル類等を添加することもできる。

【００６４】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノー
ル、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアルコ
−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のような
アルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよ
うなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのような
ニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、ス
ルホランのようなスルホキシド類などを用いることがで
きる。好適にはアルコール類を用いることができる。

【００６５】反応温度は-50 ℃〜50℃の範囲、好適には
0 ℃〜30℃の範囲である。反応時間は、化合物や反応温
度などの条件により変化するが、通常１時間〜20時間程
度であり、好適には３時間〜10時間程度である。反応終
了後、溶剤を留去して得られた濃縮物を水に注ぎ、水と
混和しない溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エ
チルなどで抽出し、抽出液から溶剤を留去することによ
り化合物６を得ることができ、この生成物をさらに精製
することなく次の工程に用いることが可能である。もっ
とも、所望により各種クロマトグラフィーあるいは再結
晶法などの手法によりさらに精製を行うことも可能であ
る。

【００６６】〔工程５]本工程は、化合物６の水酸基の
保護基を除去して、一般式（Ｉ）で示される本発明の化
合物においてＸが酸素原子であり----が付された結合が
単結合である化合物（化合物７）を得る工程である。水
酸基の保護基の除去はその種類によって異なるが、一般
にこの分野の技術において周知の方法によって以下の様
に実施される。水酸基の保護基としてシリル基を使用し
た場合には、通常、フッ化テトラブチルアンモニウムの
ようなフッ素アニオンを生成する化合物で処理すること
により除去することができる。反応溶媒は、反応を阻害
しないものであれば特に限定はないが、テトラヒドロフ
ランやジオキサンのようなエーテル類が好適である。反
応温度及び反応時間は特に限定されないが、通常、室温
で10〜18時間程度実施される。水酸基の保護基がアラル
キル基又はアラルキルオキシカルボニル基である場合に
は、通常、溶媒中で還元剤と接触させることにより（好
適には、触媒下に常温で接触還元することにより）除去
するか、あるいは酸化剤を用いて除去することができ
る。接触還元による除去において使用される溶媒として
は、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、メタノール、エタノール、イソプロパノールのよう
なアルコ−ル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類；トルエン、ベンゼ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、
酢酸プロピルのようなエステル類；酢酸のような脂肪酸
類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適であ
る。触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるも
のであれば特に限定はないが、好適には、パラジウム炭
素、水酸化パラジウム、ラネ−ニッケル、酸化白金、白
金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホス
フィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムを用
いることができる。圧力は特に限定されないが、通常１
〜10気圧程度で行なうことができる。反応温度及び反応
時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等の条件により
異なるが、通常、０〜100 ℃で、５分〜24時間実施され
る。酸化による除去において溶媒としては、本反応に関
与しないものであれば特に限定はないが、好適には含水
有機溶媒を用いることができる。このような有機溶媒と
しては、例えば、アセトンのようなケトン類；メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン
化炭化水素類；アセトニトリルのようなニトリル類；ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなア
ミド類；及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類などを用いることができる。酸化剤としては、通常
の酸化反応に使用される化合物であれば特に限定はない
が、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、ア
ンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ
-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン(DDQ) を用いることが
できる。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び
触媒の種類等の条件により異なるが、通常、０〜150 ℃
で10〜24時間程度実施される。また、液体アンモニア中
若しくはメタノール、エタノールのようなアルコ−ル中
において、−78℃〜−20℃で金属リチウム、金属ナトリ
ウムのようなアルカリ金属類を作用させることによって
も除去することが可能である。

【００６７】さらに、溶媒中で塩化アルミニウム−沃化
ナトリウム、又はトリメチルシリルイオダイドのような
アルキルシリルハライド類を用いて除去することができ
る。溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特
に限定はないが、例えば、アセトニトリルのようなニト
リル類；メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素類；又はこれらの混合溶媒を使用するこ
とができる。反応温度及び反応時間は、出発物質や溶媒
等の条件により異なるが、通常は０〜50℃で５分〜３日
間行えばよい。なお、反応基質が硫黄原子を有する場合
は、好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用
いられる。

【００６８】水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香
族アシル基、又はアルコキシカルボニル基である場合に
は、溶媒中で塩基で処理することにより除去することが
できる。塩基としては、化合物の他の部分に影響を与え
ないものであれば特に限定はないが、例えば、ナトリウ
ムメトキシドのような金属アルコキシド類；炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金
属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物；又はアンモニ
ア水、濃アンモニア−メタノールのようなアンモニア類
が用いられる。溶媒としては、通常の加水分解反応に使
用されるものであれば特に限定はないが、例えば、水；
メタノール、エタノール、n-プロパノールのようなアル
コール類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類等の有機溶媒、又は水と上記有機溶媒との混合
溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は、出発物
質、溶媒及び使用される塩基等の条件に応じて異なり特
に限定はないが、副反応を抑制するために、通常は０〜
150 ℃の範囲の温度で１〜10時間程度行えばよい。

【００６９】水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、
テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニ
ル基又は置換されたエチル基である場合には、通常、溶
媒中で酸で処理することにより除去することができる。
酸としては、通常、ブレンステッド酸として使用される
ものであれば特に限定はなく、好適には、塩酸、硫酸の
ような無機酸又は酢酸、パラトルエンスルホン酸のよう
な有機酸を用いることができるが、ダウエックス50Wの
ような強酸性の陽イオン交換樹脂を用いてもよい。溶媒
としては、本反応に関与しないものであれば特に限定は
ないが、メタノール、エタノールのようなアルコール
類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類；又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適であ
る。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用
される酸の種類等の条件により異なるが、通常は０〜50
℃で10分〜18時間程度行えばよい。

【００７０】水酸基の保護基が、アルケニルオキシカル
ボニル基である場合は、通常、水酸基の保護基が前記の
脂肪族アシル基、芳香族アシル基、又はアルコキシカル
ボニル基である場合の除去反応の条件と同様に、塩基と
処理することにより達成される。なお、アリルオキシカ
ルボニルの場合は、パラジウム、及びトリフェニルホス
フィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除
去する方法が簡便であり、副反応が少ないので好適であ
る。

【００７１】〔工程６〕化合物７に酸化剤を作用させ
て、一般式（Ｉ）で示される本発明の化合物においてＸ
が酸素原子であり----が付された結合が二重結合である
化合物（化合物８）を得る工程である。本工程に使用さ
れる酸化剤としては、通常、酸化反応に使用されるもの
であれば特に限定はないが、例えば、過マンガン酸カリ
ウム、二酸化マンガンのような酸化マンガン類；四酸化
ルテニウムのような酸化ルテニウム類；二酸化ゼレンの
ようなゼレン化合物；塩化鉄のような鉄化合物；四酸化
オスミウムのようなオスミウム化合物；酸化銀のような
銀化合物；酢酸水銀のような水銀化合物；酸化鉛、四酢
酸鉛のような酸化鉛化合物；クロム酸カリウム、クロム
酸−硫酸錯体、クロム酸−ピリジン錯体のようなクロム
酸化合物、アンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) の
ようなセリウム化合物等の無機金属酸化剤；塩素分子、
臭素分子、沃素分子のようなハロゲン分子；過沃素酸ナ
トリウムのような過沃素酸類；オゾン；過酸化水素水；
亜硝酸のような亜硝酸化合物；亜塩素酸カリウム、亜塩
素酸ナトリウムのような亜塩素酸化合物；過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウムのような過硫酸化合物等の無機酸
化剤；DMSO酸化に使用される試薬類（ジメチルスルホキ
シドとジシクロヘキシルカルボジイミド、オキザリルク
ロリド、無水酢酸若しくは五酸化燐との錯体又はピリジ
ン−無水硫酸の錯体）；t-ブチルヒドロパーオキシドの
ようなパーオキシド類；トリフェニルメチルカチオンの
ような安定なカチオン類；N-ブロモコハク酸イミドのよ
うなコハク酸イミド類；次亜塩素酸t-ブチルのような次
亜塩素酸化合物；アゾジカルボン酸エステルのようなア
ゾジカルボン酸化合物；ジメチルジスルフィド、ジフェ
ニルジスルフィド、ジピリジルジスルフィドのようなジ
スルフィド類とトリフェニルホスフィン；亜硝酸メチル
のような亜硝酸エステル類；四臭化メタンのようなテト
ラハロゲン化炭素、2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p- ベ
ンゾキノン(DDQ) のようなキノン化合物等の有機酸化剤
を挙げることができる。好適にはハロゲン分子を用いる
ことができる。

【００７２】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類；メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭化水素類；エーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類；メタノール、エタノ
ール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、イソアミルアルコールのようなア
ルコール類；硫酸水のような希釈酸；水酸化ナトリウム
水のような希釈塩基；水；アセトン、メチルエチルケト
ンのようなケトン類；ピリジンのような有機塩基又はア
セトニトリルのようなニトリル類を用いることができ
る。好適にはピリジンを使用できる。反応温度は-50 ℃
〜100 ℃の範囲であり、反応時間は反応温度、原料化合
物又は使用される溶媒の種類などの条件によって異なる
が、通常30分〜15時間程度である。反応終了後、溶媒を
留去して濃縮された反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液から溶媒を留去することによって目的物
を単離することができる。所望により、各種クロマトグ
ラフィーあるいは再結晶法などの手段により精製するこ
とができる。

【００７３】

【化８】

【００７４】〔工程７〕化合物９と化合物10を酸触媒存
在下に縮合して化合物11を得る工程である。酸触媒とし
ては通常の反応に於いて酸触媒として用いられるもので
あれば特に限定はないが、好適には、トリメチルシリル
トリフルオロメタンスルホネートのようなトリ低級アル
キルシリルトリフルオロメタンスルホネート類；四塩化
錫のような錫類；臭化亜鉛のような亜鉛類；四塩化チタ
ンのようなチタン類；過塩素酸銀、ホウフッ化銀のよう
な銀類；又は過塩素酸トリメチルシリルエステル、過塩
素酸トリフェニルメチルエステルのような過塩素酸類を
用いることができる。溶媒としては、反応を阻害せず出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類などを用いることができる。

【００７５】反応温度は、通常 -50℃〜60℃の範囲であ
り、好適には-10 ℃〜30℃である。反応時間は、化合物
や反応温度などの条件により変化するが、通常１時間〜
20時間であり、好適には２時間〜６時間程度である。反
応終了後、たとえば溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、
水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢
酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶媒を留去すること
によって目的物を単離することができ、得られた生成物
を精製することなく次の工程に用いることが可能であ
る。所望により、各種クロマトグラフィーあるいは再結
晶法などの手段により精製することもできる。

【００７６】〔工程８〕本工程は、溶媒の存在下あるい
は非存在下で化合物11に対してウィティッヒ反応を行っ
て化合物12を得る工程である。ウィティッヒ試薬として
は、ジエチルホスホノ酢酸エチル、ジメチルホスホノ酢
酸エチルのようなホスホノ酢酸エチル類；ヨウ化エトキ
シカルボニルトリフェニルホスホニウム等のエトキシカ
ルボニルホスホニウム塩類等を挙げることができる。塩
基としては、通常の反応において塩基として使用される
ものであれば特に限定はないが、例えば、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属
炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水
素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うなアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのような
アルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類；ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキ
シド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコ
キシド類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジ
ン、4-(N,N- ジメチルアミノ)ピリジン、N,N-ジメチル
アニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ
[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オ
クタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク
- 7-エン(DBU) のような有機塩基類又はブチルリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩
基類を用いることができる。なお、反応を効率的に行わ
せるために、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリ
ド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第４級
アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のようなク
ラウンエーテル類等を添加することもできる。

【００７７】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのような
エステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
ーテル類；メタノール、エタノール、n-プロパノール、
イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、t-
ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブのようなアルコール類；ニトロエ
タン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセト
ニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類を用いることができる。

【００７８】反応温度は通常０℃〜300 ℃の範囲であ
り、好適には 50 ℃〜200 ℃である。反応時間は化合物
や反応温度などの条件により変化するが、通常１時間〜
20時間程度であり、好適には３時間〜10時間程度であ
る。反応終了後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶媒を留去することに
よって目的物を単離することができる。この生成物をさ
らに精製することなく次の工程に用いることが可能であ
る。所望により、各種クロマトグラフィーあるいは再結
晶法などの手段により精製することもできる。

【００７９】〔工程９〕本工程は、化合物12のα, β−
二重結合に対して接触水素添加反応を施して化合物13を
得る工程である。使用される触媒としては、例えば、パ
ラジウム炭素、酸化白金、ラネ−ニッケルなどを挙げる
ことができる。溶媒としては、例えば、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類；テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類；酢酸のような脂肪酸；
又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒等を用いること
ができる。反応温度は通常０℃〜100 ℃の範囲であり、
好適には10℃〜50℃である。反応時間は化合物や反応温
度などの条件により変化するが、通常１時間〜30時間程
度であり、好適には２時間〜10時間程度である。反応終
了後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しな
い溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸エチルなど
で抽出し、抽出液より溶媒を留去することによって目的
物を単離することができる。この生成物をそのまま次の
工程に用いることが可能である。所望により、各種クロ
マトグラフィーあるいは再結晶法などの手段によりさら
に精製を行うこともできる。

【００８０】〔工程10〕本工程は、不活性溶媒の存在下
あるいは非存在下で化合物13を酸触媒下に閉環して同時
に脱保護するか、または閉環した後に脱保護することに
よって化合物14を得る工程である。酸触媒としては、通
常の反応に於いて酸触媒として用いられるものであれば
特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、
過塩素酸、燐酸、ポリリン酸のような無機酸、又は酢
酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスル
ホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸のような有機酸等のブレンステッド酸；あるいは塩
化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリ
フルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸を用
いることができる。好適にはポリリン酸及びルイス酸を
使用することができる。

【００８１】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル
のような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類を挙げることができる。

【００８２】反応温度は通常-100℃〜200 ℃であり、好
適には-78 ℃〜100 ℃である。反応時間は化合物や反応
温度などの条件により変化するが、通常、１時間〜50時
間程度であり、好適には２時間〜30時間程度である。反
応終了後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和
しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸エチル
などで抽出し、抽出液より溶媒を留去することによって
目的物を単離することができ、このようにして得られた
生成物をさらに精製することなく次の工程に用いること
ができる。所望により、各種クロマトグラフィーあるい
は再結晶法などの手段により精製することもできる。

【００８３】〔工程11〕本工程は、化合物14の水酸基を
塩基の存在下でR₂-L (L は脱離基を示す）で表される化
合物と反応させて化合物15を得る工程である。R₂-Lの化
合物における脱離基(L) としては、通常の反応に於いて
利用されるものであれば特に限定はないが、例えば、塩
素、臭素、沃素のようなハロゲン原子；アセトキシ、プ
ロピオニルオキシのようなアルキルカルボニルオキシ
基、クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、
トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキ
シのようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基；メ
トキシアセチルオキシのような低級アルコキシアルキル
カルボニルオキシ基；(E)-2-メチル-2- ブテノイルオキ
シのような不飽和アルキルカルボニルオキシ基等の脂肪
族アシルオキシ基；ベンゾイルオキシのようなアリ−ル
カルボニルオキシ基；2-ブロモベンゾイルオキシ、4-ク
ロロベンゾイルオキシのようなハロゲン化アリ−ルカル
ボニルオキシ基；2,4,6-トリメチルベンゾイルオキシ、
4-トルオイルオキシのような低級アルキル化アリ−ルカ
ルボニルオキシ基；4-アニソイルオキシのような低級ア
ルコキシ化アリ−ルカルボニルオキシ基；4-ニトロベン
ゾイルオキシ、2-ニトロベンゾイルオキシのようなニト
ロ化アリ−ルカルボニルオキシ基等の芳香族アシルオキ
シ基；トリクロロメチルオキシのようなトリハロゲノメ
チルオキシ基；メタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ基；
トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタフルオロ
エタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級アルカン
スルホニルオキシ基；ベンゼンスルホニルオキシ、p-ト
ルエンスルホニルオキシのようなアリ−ルスルホニルオ
キシ基を用いることができる。より好適には、ハロゲン
原子、低級アルカンスルホニルオキシ基、ハロゲノ低級
アルカンスルホニルオキシ基、またはアリールスルホニ
ルオキシ基などを使用することができる。

【００８４】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリ
ウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプ
タンアルカリ金属類；トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5-エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類；又は
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよう
な有機金属塩基類を用いることができ、好適にはアルカ
リ金属炭酸塩を使用することができる。反応を効率的に
行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムクロ
リド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第４
級アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のような
クラウンエーテル類等を添加することもできる。

【００８５】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル
のような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタ
ノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノ
ール、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアル
コール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノ
ール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のよう
なアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンの
ようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのよう
なニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロ
トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、
スルホランのようなスルホキシド類を用いることができ
る。

【００８６】反応温度は通常０℃〜150 ℃であり、好適
には20℃〜100 ℃である。反応時間は化合物や反応温度
などの条件により変化するが、通常１時間〜10時間程度
であり、好適には２時間〜５時間程度である。反応終了
後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶媒を留去することによって目的物
を単離することができ、このようにして得られた生成物
をさらに精製することなく次の工程に用いることができ
る。所望により、各種クロマトグラフィーや再結晶法な
どの手段により精製することも可能である。

【００８７】〔工程12〕本工程は、化合物15を酸処理し
て転位反応により一般式（Ｉ）で表される本発明の化合
物においてＸがメチレンであり----が付された結合が単
結合の化合物16を得る工程である。酸触媒としては、通
常の反応において酸触媒として使用されるものであれば
特に限定はないが、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、
過塩素酸、燐酸のような無機酸、又は酢酸、蟻酸、蓚
酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリ
フルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような
有機酸等のブレンステッド酸；あるいは塩化亜鉛、四塩
化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、
ボロントリブロミド、塩化ガリウム、塩化ゲルマニウム
のようなルイス酸；モンモリロナイトの様な酸性粘土を
用いることができる。好適にはルイス酸および酸性粘土
を用いることができ、より好適には酸性粘土を使用する
ことができる。

【００８８】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノー
ル、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノー
ル、イソブタノール、t-ブタノール、イソアミルアルコ
ール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなア
ルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニ
トロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類を用いることができる。

【００８９】反応温度は通常-20 ℃〜100 ℃であり、好
適には０℃〜50℃である。反応時間は化合物や反応温度
などの条件により変化するが、通常１時間〜30時間程度
であり、好適には５時間〜24時間程度である。反応終了
後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって目的物
を単離することができる。所望により、各種クロマトグ
ラフィーあるいは再結晶法などの手法により精製するこ
とも可能である。

【００９０】

【化９】

【００９１】〔工程13〕本工程は、化合物12を製造する
別法として上記スキームに示す方法の第一の工程であ
り、化合物11を金属及び金属塩存在下でブロモ酢酸エス
テルと処理することにより化合物17を得る工程である。
金属及び金属塩としては、通常の縮合反応に用いられる
ものであれば特に限定はないが、好適にはマグネシウ
ム、亜鉛、亜鉛銅合金、錫、二塩化錫、セリウム、塩化
セリウム、ヨウ化サマリウム等を用いることができる。
溶媒としては、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解
するものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエーテル類；ニトロベンゼンのようなニトロ
化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのよう
なニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホラ
ンのようなスルホキシド類を用いることができる。

【００９２】反応温度は通常-100℃〜200 ℃であり、好
適には０℃〜100 ℃である。反応時間は化合物や反応温
度などの条件により変化するが、通常１時間〜20時間程
度であり、好適には３時間〜10時間程度である。反応終
了後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しな
い溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなど
で抽出し、抽出液より溶媒を留去することによって目的
物を単離することができ、このようにして得られた生成
物をさらに精製することなく次の工程に用いることがで
きる。所望により、各種クロマトグラフィーあるいは再
結晶法などの手法により精製することもできる。

【００９３】〔工程14〕本工程は、化合物17を塩基存在
下若しくは非存在下に脱水して化合物12を得る工程であ
る。脱水剤としては通常の反応に於いて脱水剤として用
いられるものであれば特に限定はないが、例えば、N-エ
チル-5- フェニルイソオキサゾリウム-3'-スルホナ−ト
のようなN-低級アルキル-5- アリールイソオキサゾリウ
ム-3'-スルホナ−ト類；N',N'-ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド(DCC) のようなN',N'-ジシクロアルキルカルボ
ジイミド類；ジ-2- ピリジルジセレニドのようなジヘテ
ロアリールジセレニド類；2-クロル-1- メチルピリジニ
ウム・ヨーダイドのような2-ハロ-1- 低級アルキルピリ
ジニウム・ハライド類；塩化チオニル；オキザリルクロ
リド；５塩化リン等などを用いることができる。

【００９４】塩基としては、通常の反応において塩基と
して使用されるものであれば特に限定はないが、例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム t- ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリ
ウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプ
タンアルカリ金属類；トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5-エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類；又は
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよう
な有機金属塩基類を用いることができる。反応を効率的
に行わせるために、ベンジルトリエチルアンモニウムク
ロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第
４級アンモニウム塩類、ジベンゾ-18-クラウン-6のよう
なクラウンエーテル類等を添加することもできる。

【００９５】溶媒としては、反応を阻害せず出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエーテル類；アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シク
ロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロ
ベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イ
ソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチル
スルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙
げることができる。

【００９６】反応温度は通常-20 ℃〜150 ℃であり、好
適には０℃〜100 ℃である。反応時間は化合物や反応温
度などの条件により変化するが、通常１時間〜10時間で
あり、好適には２時間〜５時間程度である。反応終了
後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって目的物
を単離することができ、このようにして得られた生成物
をさらに精製することなく次の工程に用いることができ
る。所望により、各種クロマトグラフィーあるいは再結
晶法などの手法により精製を行うことも出来る。

【００９７】

【化１０】

【００９８】〔工程15〕本工程は、化合物18と化合物19
とを金属または金属塩存在下に反応させて化合物13を製
造する別の方法である。金属及び金属塩としては、通常
の縮合反応に用いられるものであれば特に限定はない
が、好適にはリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネ
シウム、亜鉛、亜鉛銅合金、錫、二塩化錫、セリウム、
塩化セリウム、ヨウ化サマリウム等を用いることができ
る。溶媒としては、反応を阻害せず出発物質をある程度
溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、ヘ
キサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような
脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエー
テルのようなエーテル類；ニトロエタン、ニトロベンゼ
ンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホロトリアミドのようなアミド類を用いることがで
きる。

【００９９】反応温度は通常-50 ℃〜50℃であり、好適
には-30 ℃〜20℃である。反応時間は化合物や反応温度
などの条件により変化するが、通常１時間〜10時間程度
であり、好適には２時間〜８時間程度である。反応終了
後、溶媒を留去して反応液を水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、例えば、ベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって目的物
を単離することができ、このようにして得られた生成物
をさらに精製することなく次の工程に用いることができ
る。所望により、各種クロマトフラフィーあるいは再結
晶法などの手法により精製することもできる。

【０１００】以上、本発明の化合物の製造方法を詳細に
説明したが、本発明の化合物の製造方法はこれらに限定
されることはない。また、本明細書の実施例には、さら
に具体的に本発明の化合物の製造方法が説明されている
ので、本明細書の上記の開示や実施例の開示を参照する
ことにより、また、本明細書に説明されたこれらの方法
に必要に応じて適宜の改変や修飾を加えることにより、
上記一般式（Ｉ）に包含される本発明の化合物がいずれ
も製造可能であることは当業者に容易に理解されよう。

【０１０１】本発明の化合物又はその生理学的に許容さ
れる塩は、エストロゲン・リセプターに特異的に結合す
ることができ、優れたエストロゲン作用を発揮すること
ができる。従って、本発明の別の態様によれば、上記一
般式（Ｉ）で示される化合物及びその生理学的に許容さ
れる塩からなる医薬が提供される。本発明の上記医薬は
エストロゲン作用剤として有用であり、例えば、ヒトを
含む哺乳類、好ましくはヒトにおけるエストロゲン減少
に起因する無月経、無排卵周期症、機能性子宮出血、及
び子宮発育不全症などの疾患、更年期障害、骨粗鬆症、
前立腺癌、前立腺肥大症などの予防及び／又は治療のほ
か、乳汁分泌抑制などに用いることができる。本発明の
さらに別の態様によれば、エストロゲン減少に起因する
疾患、更年期障害、骨粗鬆症、前立腺癌、及び前立腺肥
大症からなる群から選ばれる疾患の予防及び／又は治療
方法であって、上記化合物の有効量をヒトを含む哺乳類
に投与する工程を含む方法、並びに、上記化合物の有効
量をヒトを含む哺乳類に投与する工程を含む乳汁分泌の
抑制方法が提供される。もっとも、本発明の化合物を医
薬として用いる場合の適用対象は上記のものに限定され
ることはない。

【０１０２】本発明の化合物を医薬として用いる際に
は、それ自体を経口的あるいは非経口的に投与してもよ
いが、上記化合物の１種又は２種以上と製剤上許容され
る他の添加物とを含む医薬用組成物の形態で用いること
が好ましい。従って、本発明のさらに別の態様により、
本発明の化合物と製剤上許容される添加物とを含む医薬
組成物が提供され、さらに上記医薬組成物の製造のため
の本発明の化合物の使用も提供される。このような医薬
用組成物としては、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒
剤、散剤、若しくはシロップ剤などの経口用組成物；又
は、注射剤、点滴剤、座剤、貼付剤、外用剤などの非経
口投与用組成物を例示することができるが、本発明の医
薬用組成物はこれらに限定されることはない。

【０１０３】このような組成物の製造には、例えば、賦
形剤（例えば、乳糖、マンニット、トウモロコシデンプ
ン、結晶セルロース等）；結合剤（例えば、セルロース
誘導体、アラビアゴム、ゼラチン等）；崩壊剤（例え
ば、カルボキシメチルセルロースカルシウム等）；滑沢
剤（例えば、タルク、ステアリン酸マグネシウム等）；
安定剤；矯味矯臭剤；注射剤用溶剤（例えば、注射用蒸
留水、エタノール、グリセリン等）等を用いることがで
き、当業界で周知の方法に従って製剤化することが可能
である。投与量は化合物の種類、症状、治療又は予防の
目的、患者の年齢など種々の要因を勘案して適宜決定さ
れるべきであるが、例えば、成人一日あたりの投与量の
下限は約 0.6 mg 、好ましくは 6 mg 程度であり、上限
は約 600 mg 、好適には 120 mg 程度である。このよう
な一日投与量を数回に分けて投与することもできる。

【０１０４】

【０１０５】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明の範囲はこれらに実施例に限定され
ることはない。

【０１０６】

【実施例１】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3- メトキシフェニ
ル)-8 -(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (1a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 13.4 g
(79.7 mmol)をTHF に溶解し、イソプレニルクロライド
10.8 g (104 mmol)及び炭酸カリウム14.3 g (104mmol)
を加えて 20 時間加熱還流した後、溶媒を留去し、残渣
を酢酸エチルに溶解して水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール=2
0:1)に付して精製して 9.79 g (52%) の結晶を得た。 TLC:Rf=0.4 (塩化メチレン：メタノール=10:1, シリカ
ゲル t.l.c. MERCK 社製, Kieselgel 60 F₂₅₄)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD)δ:5.81(s,1H,aro-H),5.
22(dt,1H,J=1.32,5.27Hz,CH=C),3.27(d,2H,J=7.25Hz,CH
₂),2.64(s,3H,Me),1.78(s,3H,Me),1.69(s,3H,Me)(1b) 3
- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン
5.13 g (21.7 mmol) をTHF 200 mlに溶解し、氷冷下に
メトキシメチルクロライド 9.62 g (119.5mmol)及びジ
イソプロピルエチルアミン 16.82 g (130.4 mmol) を加
えて室温で８時間攪拌後、溶媒を留去し、酢酸エチルを
加えて水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル
=6:1) に付して精製し、3.85g (52.7%)の油状物を得
た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.81(s,1H,OH),6.39(s,1
H,arom-H),5.25(s,2H,-CH₂),3.51(s,3H,-OMe),3.47(s,3
H,-OMe),3.30(d,2H,J=7.26Hz,-CH₂),2.66(s,3H,-CH₃),
1.78(s,3H,-CH₃),1.66(s,3H,-Me) (1c) ジモム保護3-イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキ
シアセトフェノン 1 g (3 mmol) をDMF 20 ml に溶解
し、氷冷下で水素化ナトリウム 285 mg (6 mmol)を加え
て30分攪拌後、モム保護 3- メトキシ-4- ヒドロキシベ
ンズアルデヒド 600mg (11.9 mmol) を加えて室温で３
時間攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加えて有機
層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチ
ル=6:1) に付して精製し、1 g (64.4%) の油状物を得
た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ: 13.8(s,1H,-OH),7.83(d,
1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.73(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.26-
7.15(m,3H,arom-H),6.37(s,1H,arom-H),5.27(s,2H,-OCH
₂),5.26(s,2H,-OCH₂),5.24(s,2H,-OCH₂),5.22(m,1H,-C
H),3.92(s,3H,-OCH₃),3.52(s,3H,3H,-OCH₃,-OCH₃),3.48
(s,3H,-OCH₃),3.33(d,2H,J=6.8Hz,-CH₂),1.79(s,3H,-CH
₃),1.67(s,3H,-CH₃) (1d) カルコン体 500 mg (1.2 mmol)をメタノール 30
mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪拌
後、2N-HCl 15ml を加えて６時間加熱攪拌した。溶媒を
留去して飽和重曹水、水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：
ヘキサン=2:1) に付して精製し所望の化合物 130 mg (1
7.0%) を結晶として得た。 TLC:Rf=0.35 （酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 194
〜196 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ :12.09(s,1H,-OH),7.02-
6.92(m,3H,arom-H),5.99(s,1H,arom-H),5.57(d,d,1H,J=
1.32,5.28Hz,-CH),5.22(m,1H,-CH=C),3.92(s,3H,OMe),
3.24(d,2H,J=6.6Hz,-CH₂),2.93(d,d,d,2H,J=3.3,12.54,
17.15Hz,-CH₂),1.65(s,3H,Me),1.65(s,3H,Me )

【０１０７】

【実施例２】5,7-ジヒドロキシ-2-(3-ヒドロキシ-3- メトキシフェニ
ル)-8 -(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (2a) 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフ
ェノン 1 g (3 mmol) をDMF 20 ml に溶解し氷冷下、水
素化ナトリウム 285 mg (6 mmol)を加えて30分攪拌し、
その後、モム保護 3- ヒドロキシ-4- メトキシベンズア
ルデヒド 600 mg(11.9 mmol) を加えて室温で３時間攪
拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加えて有機層を水
洗した。飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル
=2:1) に付して精製し、1.24 g（79.8%)の油状物を得
た。

【０１０８】TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.9(s,1H,-OH),7.84(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.72(d,2H,J=15.8Hz,-CH=C),7.50-
6.88(m,3H,arom-H),6.41(s,1H,arom-H),5.28(s,2H,-OCH
₂),5.26(s,2H,-OCH₂),5.24(s,2H,-OCH₂),5.20(m,1H,-C
H),3.91(s,3H,-OCH₃),3.53(s,2H,-OCH₃),3.48(s,3H,-OC
H₃),3.33(d,2H,J=7.26Hz,-CH),1.78(s,3H,-CH₃),1.67
(s,3H,-CH₃) (2b) カルコン体 730 mg (1.5 mmol)をメタノール 40
mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪拌
後、2N-HCl 15 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶媒を
留去し、酢酸エチルを加えて飽和重曹水、水及び飽和食
塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶
媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して精製し所望
の化合物100mg (18%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.3（酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 105 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:12.10(s,1H,-OH),7.01(m,
3H,arom-H),5.99(s,1H,arom-H),5.45(d,d,2H,J=3.3,12.
54Hz),5.19(m,1H),3.900(s,1H,-OMe),3.23(d,2H,J=7.26
Hz),2.83(d,d,d,2H,J=3.3,12.54,17.16Hz),1.65(s,3H,-
Me),1.64(s,3H,-Me)

【０１０９】

【実施例３】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8 -(3-メ
チルブチル)-4-クロマノン (3a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 370 mgをエタノール 30 mlに溶解
し、10% Pd-C 150 mg を加えて水素気流下に接触水素添
加を行った。４時間後にセライト濾過し、溶媒を留去し
て残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル=3:1) に付して精製し、油状物 150 mg (40%) を得
た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),6.38(s,1
H,arom-H),5.25(s,2H,-OCH₂),5.22(s,2H,-OCH₂),3.51
(s,3H,-OCH₃),3.48(s,3H,-OCH₃),2.65(s,3H,O=C-CH₃),
2.62-2.56(m,2H,-CH₂),1.78-1.53(m,1H,-CH),1.40-1.31
(m,3H,-CH₃),0.95(s,3H,-CH₃),0.92(s,3H,-CH₃) (3b) 3-(3-メチルブチル)-2,4,6-トリヒドロキシアセト
フェノン 150 mg (0.4 mmol)をDMF 10 ml に溶解した。
氷冷下、水素化ナトリウム 44 mg (0.8 mmol) を加えて
30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベンズアルデヒ
ド 76 mg (0.4 mmol) を加えて室温で３時間攪拌した。
溶媒を留去し、酢酸エチルを加えて有機層を水洗した。
飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル=5:1）に付
して精製し、150 mg（68.4%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.54
(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.05(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),
6.38(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-OCH₂),5.23(s,2H,-OC
H₂),5.20(s,2H,-OCH₂),3.52(s,3H,-OCH₃),3.49(s,3H,-O
CH₃),3.48(s,3H,-OCH₃),2.62(m,2H,-CH₂),1.60(m,1H,-C
H),1.39(m,2H,-CH₂),0.96(s,3H,-CH₃),0.94(s,3H,-CH₃) (3c) カルコン体 150 mg (0.456 mmol)をメタノール 3
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で６時間攪拌
した。その後、2N-HCl 15ml を加ええ６時間加熱攪拌
し、溶媒を留去した。酢酸エチルを加えて飽和重曹水、
水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥して減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付
して精製し所望の化合物 16 mg (11.4 %) を結晶として
得た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン＝２：１）m p 196
〜198 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:12.11(s,1H,-OH),7.30(d,
2H,J=8.58Hz,arom-H),6.87(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),5.9
7(s,1H,arom-H),5.32(d,d,1H,J=2.64,12.54Hz),2.89(d,
d,d,2H,J=3.0,12.54,17.16Hz),2.52(d,d,2H,J=7.92,10.
56Hz),1.53(m,1H,CH=Me),1.35(d,d,2H,J=7.92,10.56H
z),0.89(s,3H,Me),0.86(s,3H,Me)

【０１１０】

【実施例４】8-アリル- 5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニ
ル)-4-クロマノン (4a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 4.76 g (2
8.3 mmol) をTHF 300 mlに溶解し、アリルブロミド 2.6
g (33.9 mmol)及び炭酸カリウム9.3 g (56.6 mmol) を
加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去し、残渣 420 m
g にTHF 100 mlを加えて溶解し、氷冷下にメトキシメチ
ルクロライド 760 mg (0.95 mmol) 及びジイソプロピル
エチルアミン 1.46 g (1.8 mmol)を加えて室温で８時間
攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加えて水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル=6:1) に
付して精製し、140 mg (1.5%)の黄色油状物を得た。 TLC:Rf=0.4 (塩化メチレン：メタノ−ル=10:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:13.8(ns,1H,-OH),
6.41(s,1H,arom-H),6.01-5.86(m,1H,-CH=C),5.26(s,2H,
-OCH₂),5.22(s,2H,-OCH₂),5.12-4.91(m,2H,-CH₂),3.51
(s,3H,-OCH₃),3.46(s,3H,-OCH₃),3.35(m,2H,-CH₂),2.67
(s,3H,-CH₃) (4b) ジモム保護 3- アリル-2,4,6- トリヒドロキシア
セトフェノン 140 mg (6.47 mmol) をDMF 10 ml に溶解
した。氷冷下、水素化ナトリウム 42 mg (0.94 mmol)を
加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベンズア
ルデヒド 78 mg (0.47 mmol)を加えて室温で３時間攪拌
した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え有機層を水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝5:1)に
付して精製し 160 mg （71.2%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),7.84(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.77(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.54
(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.06(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),
6.40(s,1H,arom-H),6.01-5.89(m,1H,-CH),5.28(s,2H,-O
CH₂),5.24(s,2H,-OCH₂),5.21(s,2H,-OCH₂),5.12-4.48
(m,2H,-CH=CH-),3.59(s,3H,-OCH₃),3.49(s,3H,-OCH₃),
3.48(s,3H,-OCH₃),3.39(m,2H,-CH₂) (4c) カルコン体 160 mg (0.3 mmol)をメタノール 30
mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪拌し
た。2N-HCl 15 mlを加えて６時間加熱攪拌した後、溶媒
を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和
食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下に
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して精製し所望
の化合物 30 mg (20.2%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 193-19
5 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:12.1(s,1H,-OH),7.29(d,2
H,J=8.58Hz,arom-H),6.92(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.00
(s,1H,arom-H),5.91(m,1H,CH=C),5.33(d,d,1H,J=3.3,1
3.2Hz,-CH),4.95(d,d,1H,J=3.3,9.3Hz,CH=C),3.29(d,2
H,J=5.94Hz),2.90(d,d,d,2H,J=2.64,12.54,17.16Hz )

【０１１１】

【実施例５】5,7-ジヒドロキシ-2-(3,4-ジヒドロキシフェニル)-8-(3
- メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (5a) 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフ
ェノン 299 mg (0.8 mmol)をDMF 10 ml に溶解し、氷冷
下に水素化ナトリウム 88 mg (1.6 mmol) を加え30分攪
拌した。その後、ジモム保護3,4-ジヒドロキシベンズア
ルデヒド 1.97 g(11.9 mmol) を加えて室温で３時間攪
拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水
洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル=
4:1) に付して精製し300 mg (85.8%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=2:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.73(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.50-
7.18(m,4H,arom-H),6.41(s,1H,arom-H),5.28(s,2H, -OC
H₂),5.24(s,2H,-OCH₂),5.22(s,2H,-OCH₂),3.52(s,3H,3
H,-OCH₃,-OCH₃),3.48(s,3H,-OCH₃),3.32(d,2H,J=7.26H
z,-CH₂),1.78(s,3H,-CH₃),1.67(s,3H,-CH₃) (5b) カルコン体 300 mg (0.58 mmol) をメタノール 3
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で６時間攪拌
した後、2N-HCl 15ml を加えて６時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下
に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して精製し
所望の化合物 22 mg (9.6%) を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=1:1), m.p. 168 ℃¹ H-NMR(270MHz, CDCl₃) δ:12.11(s,1H,-OH),7.30-6.80
(m,3H,arom-H),5.99(s,1H,arom-H),5.40(d,d,2H,J=3.3,
12.54Hz),5.19(m,1H),3.24(d,2H,J=6.6Hz,-CH₂),2.93
(d,d,d,2H,J=3.3,12.54,17.15Hz,-CH₂),1.65(s,3H,-M
e),1.65(s,3H,-CH₂)

【０１１２】

【実施例６】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-3-メチル
-8-(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (6a) 2,4,6- トリヒドロキシプロピオフェノン 5 g (2
7.4 mmol)をTHF 300 mlに溶解し、イソプレニルクロラ
イド 2.87 g (27.4 mmol) 及び炭酸カリウム 7.58g (5
4.8 mmol) を加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去
し、残渣 680 mg にTHF 200 mlを加えて溶解し、氷冷下
にメトキシメチルクロライド 1.09 g (13.5 mmol) 及び
ジイソプロピルエチルアミン 2.1 g (16.2 mmol)を加え
て室温で８時間攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを
加えて水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸
エチル=5:1) に付して精製し、330 mg (3.5%) の油状物
を得た。 TLC:Rf=0.4 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:13.8(s,1H,-OH),6.
39(s,1H,arom-H),5.24(s,2H,-OCH₂),5.22(s,2H,-OCH₂),
5.20(m,1H,-CH),3.50(s,3H,-OCH₃),3.47(s,3H,-OCH₃),
3.30(d,2H,J=8.26Hz,-CH₂),3.06(q,2H,J=7.26Hz,-CH₂),
1.77(s,3H,-CH₃),1.65(s,3H,-CH₃),1.17(t,3H,J=7.26H
z,-CH₃) (6b) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシプロピオフェノン 330 mg (0.97 mmol) をDMF 10 m
l に溶解し氷冷下、水素化ナトリウム 106 mg (2.1 mmo
l)を加えて30分攪拌した後、モム保護 4- ヒドロキシベ
ンズアルデヒド 162 mg (0.97 mmol) を加えて室温で３
時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機
層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル=5:1）に付して精製し、180 mg（44.1%)の油状物を
得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=3:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:11.4(s,1H,-OH),7.34(d,2
H,J=8.58Hz,arom-H),7.04(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.79
(m,1H,-CH=C),6.43(s,1H,arom-H),5.27(m,1H,-CH),5.23
(s,2H,-OCH₂),5.18(s,2H,-OCH₂),5.03(s,2H,-OCH₂),3.4
7(s,3H,3H,-OCH₃,-OCH₃),3.32(s,3H,-OCH₃),2.19(m,3H,
C=C-CH₃),1.79(s,3H,-CH₃),1.68(s,3H,-CH₃) (6c) カルコン体 180 mg (0.41 mmol) をメタノール 1
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で６時間攪拌
した後、2N-HCl 15 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル: ヘキサン=2:1) に付してト
ランス体、シス体を分別精製し、トランス体 40 mg(36.
2%) 及びシス体 11 mg (0.099%) を結晶として得た。 トランス体：TLC:Rf=0.3 (ヘキサン: 酢酸エチル=2:1),
m.p.157-160℃ シス体 ：TLC:Rf=0.25(ヘキサン: 酢酸エチル=2:1),
m.p.60-63℃ トランス体：¹H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:12.28(s,1H,
-OH),7.27(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.87(d,2H,J=8.58H
z,arom-H),5.98(s,1H,arom-H),5.16(m,1H,-OH),4.89(d,
1H,J=11.88Hz,-CH),3.18(d,2H,J=7.26Hz,-CH₂),2.96(d,
q,1H,J=7.26,11.87Hz,-CH),1.64(s,3H,-Me),1.56(s,3H,
-Me),1.01(d,3H,J=7.26Hz,-Me) シス体 ： ¹H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:12.16(s,1H,
-OH),7.38-6.84(m,4H,arom-H),6.00(s,1H,arom-H),5.44
(d,1H,J=3.3Hz,-CH),5.23(m,1H),3.30(d,2H,J=7.0Hz,-C
H₂),2.48(d,q,1H,J=2.64,7.26Hz,-CH),1.72(s,3H,-Me),
1.68(s,3H,-Me),1.00(d,3H,J=7.26Hz,-Me)

【０１１３】

【実施例７】2-(4- クロロフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチル
-2- ブテニル)-4-クロマノン (7a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 500mg (1.47 mmol) をDMF 30 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 142 mg (2.94 mm
ol) を加えて30分攪拌した後、p-クロロベンズアルデヒ
ド 200 mg (1.47mmol) を加えて室温で３時間攪拌し
た。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル=5:1）
に付して精製し、500 mg（73%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.7(s,1H,-OH),7.87(d,1
H,J=15.1Hz,-CH=C),7.68(d,1H,J=15.1Hz,-CH=C),7.51
(d,2H,J=8.57Hz,arom-H),7.36(d,2H,J=8.57Hz,arom-H),
6.38(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-OCH₂),5.24(s,2H,-OC
H₂),5.22(m,1H,-CH),3.50(s,3H,-OCH₃),3.48(s,3H,-OCH
₃),3.32(d,2H,J=7.26Hz,-CH₂),1.79(s,3H,-CH₃),1.67
(s,3H,-CH₃) (7b) カルコン体 500 mg (1 mmol)をメタノール 30 ml
に溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪拌した
後、2N-HCl 20 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶媒を
留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和食
塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下
に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=4:1) に付して精製し
所望の化合物 70 mg (18%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=3:1), m.p. 162 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:12.0(s,1H,-OH),7.
39(m,4H,arom-H) 5.99(s,1H,arom-H),5.38(dd,1H,J=3.
3,12.5Hz,-CH),5.18(m,1H,-CH),3.23(d,2H,J=7.26Hz,-C
H₂),2.88(ddd,2H,J=3.3,12.5,17.1Hz,-CH₂),1.66(s,3H,
-CH₃),1.63(s,3H,-CH₃)

【０１１４】

【実施例８】2-(4- ブロモフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチル
-2- ブテニル)-4-クロマノン (8a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 450mg (1.33 mmol) をDMF 40 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 128 mg (2.66 mm
ol) を加えて30分攪拌した後、p-ブロモベンズアルデヒ
ド 246 mg (1.33mmol) を加えて室温で３時間攪拌し
た。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル=3:1）
に付して精製し、590 mg（87.4%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.7(bs,1H,-OH),7.88(d,
1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.67(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.52
(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.44(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),
6.38(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-OCH₂),5.24(s,2H,-OC
H₂),5.21(m,1H,-CH),3.50(s,3H,-OCH₃),3.48(s,3H,-OCH
₃),3.33(d,2H,J=7.26Hz,-CH₂),1.78(s,3H,-CH₃),1.67
(s,3H,-CH₃) (8b) カルコン体 590 mg (1.16 mmol) をメタノール 4
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加え室温で６時間攪拌し
た後、2N-HCl 25 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶媒
を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和
食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧
下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=4:1) に付して精製
し所望の化合物 60 mg (15.1%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=3:1), m.p. 164℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ :12.0(bs,1H,-OH),
7.54(d,2H,J=7.9Hz,arom-H),7.34(d,2H,J=7.9Hz,arom-
H),5.99(s,1H,arom-H),5.37(dd,1H,J=3.3,12.5Hz,-CH),
5.18(m,1H,-CH),3.24(d,2H,J=7.2Hz,-CH₂),2.88(ddd,2
H,J=3.3,12.5,17.1Hz,-CH₂),1.66(s,3H,-CH₃),1.63(s,3
H,-CH₃)

【０１１５】

【実施例９】2-(4- フルオロフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチ
ル-2- ブテニル)-4-クロマノン (9a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 400mg (1.18 mmol) をDMF 40 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 113 mg (2.36 mm
ol) を加えて30分攪拌した後、p-フロロベンズアルデヒ
ド 147 mg (1.18mmol) を加えて室温で３時間攪拌し
た。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル=5:1）
に付して精製し、450 mg（86%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=3:1）¹ H-NMR (270MHz,CDCl₃) δ:13.7(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.71(d.1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.56-
7.14(m,4H,arom-H),6.38(s,1H,arom-H),5.27(s,2H,-OCH
₂),5.24(s,2H,-OCH₂),5.22(m,1H,-CH),3.51(s,3H,-OC
H₃),3.48(s,3H,-OCH₃),3.43(d,2H,J=6.6Hz,-CH₂),1.79
(s,3H,-CH₃),1.67(s,3H,-CH₃) (9b) カルコン体 450 mg (1 mmol)をメタノール 40 ml
に溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪拌した
後、2N-HCl 25 mlを加え６時間加熱攪拌した。溶媒を留
去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和食塩
水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1）に付して精製し所
望の化合物130 mg (17.0%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.6（酢酸エチル：ヘキサン=3:1), m.p. 152-15
3 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:12.0(s,1H,-OH),7.
46-7.08(m,4H,arom-H),5.99(s,1H,arom-H),5.39(dd,1H,
J=3.3,12.5Hz,-CH),5.18(m,1H,-CH),3.24(d,2H,J=7.26H
z,-CH₂),2.86(ddd,2H,J=2.6,12.5,17.1Hz,-CH₂),1.66
(s,3H,-CH₃),1.63(s3H,-CH₃)

【０１１６】

【実施例１０】2-(4- アセトアミノフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-
メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (10a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 700mg (2 mmol)をDMF 40 ml に溶
解し、氷冷下に水素化ナトリウム 200 mg (4 mmol)を加
えて30分攪拌した後、p-アセトアミノベンズアルデヒド
340 mg (2 mmol)を加えて室温で３時間攪拌した。溶媒
を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗した。飽和
食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
して減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル）に付して精製し、400
mg（39.8%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.6 (酢酸エチル）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),7.84(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.70(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.69
(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.51(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),
6.38(s,1H,arom-H),5.28(s,2H,-OCH₂),5.24(s,2H,-OC
H₂),5.22(m,1H,-CH),3.50(s,3H,-OCH₃),3.48(s,3H,-OCH
₃),3.32(d,2H,J=7.26Hz,-CH₂),2.18(s,3H,O=C-CH₃),1.7
8(s,3H,-CH₃),1.60(s,3H,-CH₃) (10b) カルコン体 400 mg (0.82 mmol) をメタノール 8
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で６時間攪拌
した後、2N-HCl 20 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して精
製し所望の化合物 13.9 mg (4.1%) を結晶として得た。

【０１１７】TLC:Rf=0.4（酢酸エチル：ヘキサン=1:1),
m.p. 222-223 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:11.9(s,1H,-OH),7.
56(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),7.40(d,2H,J=8.58Hz,arom-
H),6.03(s,1H,arom-H),5.37(dd,1H,J=3.3,12.58Hz,-C
H),5.20(m,1H,-CH),3.28(d,2H,J=7.26Hz,-CH₂),2.89(dd
d,2H,J=3.0,12.5,17.1Hz,-CH₂),2.20(s,3H,O=C-CH₃),1.
68(s,3H,3H,-CH₃,-CH₃)

【０１１８】

【実施例１１】5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチル-2- ブテニル)-2-フェニ
ル- 4-クロマノン (11a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 400mg (1.18 mmol) をDMF 40 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 62 mg (2.36 mmo
l)を加えて30分攪拌した後、ベンズアルデヒド 142 mg
(1.18 mmol) を加えて室温で３時間攪拌した。溶媒を留
去して酢酸エチルを加え、有機層を水洗した。飽和食塩
水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン：酢酸エチル=5:1）に付して精製
し、470 mg（89.8%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),7.87(d,1
H,J=15.18Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.18Hz,-CH=C),7.49
(d,2H,J=7.9Hz,arom-H),7.20(d,2H,J=7.9Hz,arom-H),6.
39(s,2H),5.26(s,2H,-OCH₂),5.20(s,2H,-OCH₂),5.17(m,
1H,-CH),3.57(s,3H,-OCH₃),3.48(s,3H,-OCH₃),3.32(d,2
H,J=7.26Hz,-CH₃),2.37(s,3H,-CH₃),1.78(s,3H,-CH₃),
1.67(s,3H,-CH₃) (11b) カルコン体 470 mg (1 mmol)をメタノール 50 ml
に溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪拌した
後、2N-HCl 20 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶媒を
留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和食
塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶
媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル：ヘキサン=4:1）に付して精製し所望
の化合物 64 mg (17%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.7（酢酸エチル：ヘキサン=3:1), m.p. 162-16
3 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ：１２．１（ｓ，１
Ｈ，−ＯＨ），７．３４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈ
ｚ，ａｒｏｍ−Ｈ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５
８Ｈｚ，ａｒｏｍ−Ｈ），５．９８（ｓ，１Ｈ，ａｒｏ
ｍ−Ｈ），５．３７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３，１２．
５Ｈｚ，−ＣＨ），５．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ＝
Ｃ），３．２４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−Ｃ
Ｈ_２），２．７９（ｄｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．６，１２．
５，１７．１Ｈｚ，−ＣＨ_２），２．３１（ｓ，３Ｈ，
−ＣＨ_３），１．６６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ_３），１．６
３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ_３）

【０１１９】

【実施例１２】５，７−ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3- メチルフェ
ニル)-8-(3- メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン (12a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 400mg (1.18 mmol) をDMF 40 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 113 mg (2.36 mm
ol) を加えて30分攪拌した後、モム保護 3- メチル-4-
ヒドロキシベンズアルデヒド 213 mg (1.18 mmol) を加
えて室温で３時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチル
を加え、有機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し
て残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル=6:1）に付して精製し、480 mg（80.8%)
の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=3:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),7.81(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.73(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.41-
7.04(m,3H,arom-H),6.83(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-C
H₂),5.24(s,2H,2H,-CH₂,-CH₂),5.20(m,1H,-CH),3.56(s,
3H,-OCH₃),3.52(s,3H,-OCH₃),3.48(s,3H,-OCH₃),3.32
(d,2H,J=6.6Hz,-CH₂),2.26(s,3H,-CH₃),1.78(s,3H,-C
H₃),1.66(s,3H,-CH₃) (12b) カルコン体 480 mg (0.95 mmol) をメタノール 4
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で６時間攪拌
した後、2N-HCl 25 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=4:1) に付して精
製し、所望の化合物 20 mg (5.9%) を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 156-15
8 ℃¹ H-NMR(270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ：７．３２−６．７８
（ｍ，３Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），５．９７（ｓ，１Ｈ，ａ
ｒｏｍ−Ｈ），５．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３，１
２．８Ｈｚ，−ＣＨ），５．１９（ｍ，１Ｈ，−Ｃ
Ｈ），３．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２６Ｈｚ，−ＣＨ
_２），２．８９（ｄｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝３．２，１２．
８，１７．２Ｈｚ，−ＣＨ_２），２．２６（ｓ，３Ｈ，
−ＣＨ_３），１．６５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ_３），１．６
３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ_３）

【０１２０】

【実施例１３】７−ヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8-(3- メチ
ル-2- ブテニル)-4-クロマノン (13a) 2,4-ジヒドロキシアセトフェノン 7 g (46 mmol)
をTHF 300 mlに溶解し、イソプレニルクロライド 4.78
g (46 mmol) 及び炭酸カリウム 19.1 g (138 mmol)を加
えて20時間加熱還流した後、溶媒を留去した。残渣 2.6
9 g にTHF 200 mlを加えて溶解し、氷冷下にメトキシメ
チルクロライド 1.97 g (24.4 mmol) 及びジイソプロピ
ルエチルアミン 3.15 g (24.4 mmol) を加えて室温で８
時間攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加え水洗し
た。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒を留去して残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル=6:1）に
付して精製し、1.63 g (61%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.6 (塩化メチレン：メタノ−ル=10:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:12.8(s,1H,-OH),7.61-6.6
4(m,2H,arom-H),5.28(s,2H,-OCH₂),5.21(m,1H,-CH),3.5
0(s,3H,-OCH₃),3.39(d,2H,J=7.26Hz,-CH₂),2.58(s,3H,O
=C-CH₃),1.81(s,3H,-CH₃),1.69(s,3H,-CH₃) (13b) モム保護 3- イソプレニル-2,4- ジヒドロキシア
セトフェノン 500 mg (1.89 mmol) をDMF 10 ml に溶解
し、氷冷下に水素化ナトリウム 173 mg (3.78 mmol) を
加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベンズア
ルデヒド 314 mg(3.78 mmol) を加えて室温で３時間攪
拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を水
洗した。飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル
=6:1）に付して精製し、660 mg（81.3%)の油状物を得
た。

【０１２１】TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=4:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:12.8(s,1H,-OH),7.88(d,1
H,15.8Hz,-CH=C),7.80-6.71(m,6H,arom-H),7.51(d,1H,J
=15.8Hz,-CH=C),5.31(s,2H,-OCH₂),5.27(m,1H,-CH),5.2
5(s,2H,-OCH₂),3.51(s,3H,3H,-OCH₃,-OCH₃),3.44(d,2H,
J=7.26Hz,-CH₂),1.82(s,3H,-CH₃),1.72(s,3H,-CH₃) (13c) カルコン体 660 mg (1.59 mmol) をメタノール 5
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で６時間攪拌
した後、2N-HCl 25 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶
媒を留去した後に酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及
び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1）に付し
て精製し、所望の化合物 86.7 mg (16.8%)を結晶として
得た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 183 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:12.8(s,1H,-OH),7.
67-6.51(m,6H,arom-H),5.34(dd,1H,J=3.3,12.5Hz,-CH),
5.21(m,1H,-CH),3.32(d,2H,J=7.2Hz,-CH₂),2.79(ddd,2
H,J=3.3,12.5,17.1Hz,-CH₂),1.65(s,3H,-CH₃),1.64(s,3
H,-CH₃)

【０１２２】

【実施例１４】8-シンナミル-5,7- ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェ
ニル)-4-クロマノン (14a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 5 g (2
9.5 mmol)をTHF 300 mlに溶解し、シンナミルブロミド
5.8 g (29.5 mmol)及び炭酸カリウム 12.2 g (88.4 mmo
l) を加えて20時間加熱還流した後、溶媒を留去して残
渣を酢酸エチルに溶解した。水洗後、硫酸マグネシウム
で乾燥して減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール=2
0:1)に付して精製し 2.42 g (23.7%) の黄色結晶を得
た。 TLC:Rf=0.4 (塩化メチレン：メタノ−ル=10:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:7.33 -7.13(m,5H,a
rom-H),6.49-6.29(m,2H,-CH₂),5.84(s,1H,arom-H),3.46
-3.45(m,2H,-CH₂),2.67(s,3H,-CH₃) (14b) 3- シンナミル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフ
ェノン 2 g (6.9 mmol)をTHF 80 ml に溶解し、氷冷下
にメトキシメチルクロライド 2.8g (34.8 mmol)及びジ
イソプロピルエチルアミン 5.4 g (41.8 mmol)を加えて
室温で８時間攪拌した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加
えて水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル=6:1）に付して精製し、800 mg(30.8%)の黄色油状
物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),7.31-7.1
0(m,5H,arom-H),6.44-6.26(m,2H,-CH=CH),6.40(s,1H,ar
om-H),5.25(s,2H,-OCH₂),5.24(s,2H,-OCH₂),3.50(s,3H,
-OCH₃),3.45(s,3H,-OCH₃),2.66(s,3H,-CH₃) (14c) ジモム保護 3- シンナミル-2,4,6- トリヒドロキ
シアセトフェノン 740 mg (1.99 mmol) をDMF 10 ml に
溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 100 mg (3.8mmol)
を加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベンズ
アルデヒド 331 mg (1.99 mmol) を加えて室温で３時間
攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を
水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル
=4:1）に付して精製し、310 mg（29.3%)の油状物を得
た。

【０１２３】TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=2:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.9(s,1H,-OH),7.82(d,1
H,J=15.18Hz,-CH=C),7.76(d,1H,J=15.18Hz,-CH=C),7.56
-7.04(m,9H,arom-H),6.47-6.29(m,2H,-CH₂),5.28(s,2H,
-OCH₂),5.26(s,2H,-OCH₂),5.17(s,2H,-OCH₂),3.59(s,3
H,-OCH₃),3.49(s,3H,-OCH₃),3.47(s,3H,-OCH₃) (14d) カルコン体 310 mg (0.58 mmol) をメタノール 4
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で６時間攪拌
した後、2N-HCl 15 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して精
製し、所望の化合物 40 mg (17.5%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.35 （酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 90-9
2 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ：１２．１（ｓ，１
Ｈ，−ＯＨ），７．３０２−６．８３（ｍ，９Ｈ，ａｒ
ｏｍ−Ｈ），６．３９−６．２１（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ＝
ＣＨ），６．０１（ｓ，１Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），５．３
２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６４，１２．５４Ｈｚ，−Ｃ
Ｈ），３．４２（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ_２），３．０９−
２．７３（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ_２）

【０１２４】

【実施例１５】８−ベンジル-5,7- ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェ
ニル)-4-クロマノン (15a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 5 g (2
9.6 mmol)をTHF 300 mlに溶解し、ベンジルブロミド 5
g (29.6 mmol)及び炭酸カリウム 12.2 g (88.8 mmol)
を加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去して残渣を酢
酸エチルに溶解し、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し
て減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（塩化メチレン：メタノール=20:1)に
付して精製し510 mg (6.65%) の結晶を得た。 TLC:Rf=0.4 (塩化メチレン：メタノ−ル=10:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:7.32-7.04(m,5H,ar
om-H),5.82(s,1H,arom-H),3.89(s,2H,-CH₂Ph),2.63(s,3
H,-CH₃) (15b) 3- ベンジル-2,4,6- トリヒドロキシアセトフェ
ノン 510 mg (1.97 mmol) をTHF 70 ml に溶解し、氷冷
下にメトキシメチルクロライド 795 mg (9.85 mmol) 及
びジイソプロピルエチルアミン 1.53 g (11.8 mmol) を
加えて室温で８時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチ
ルを加えて有機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：酢酸エチル=5:1）に付して精製し、240 mg (3
4.8%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.7 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.9(s,1H,-OH),7.30-6.9
9(m,5H,arom-H),6.39(s,1H,arom-H),5.25(s,2H,-OCH₂),
5.20(s,2H,-OCH₂),3.96(s,2H,CH₂Ph), 3.50(s,3H,-OC
H₃),3.35(s,3H,-OCH₃),2.65(s,3H,-CH₃) (15c) ジモム保護 3- ベンジル-2,4,6- トリヒドロキシ
アセトフェノン 240g (0.69 mmol) をDMF 20 ml に溶解
し、氷冷下に水素化ナトリウム 67 mg (13.8 mmol)を加
えて30分攪拌した後、ベンズアルデヒド 115 mg (0.69
mmol) を加えて室温で３時間攪拌した。溶媒を留去して
酢酸エチルを加え、有機層を水洗した。飽和食塩水で洗
浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ヘキサン：酢酸エチル=4:1）に付して精製し、14
0 mg（40.7%)の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン: 酢酸エチル=2:1）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.9(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.0Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.0Hz,-CH=C),7.75-
7.04(m,9H,arom-H),6.40(s,1H,arom-H),5.27(s,2H-OC
H₂),5.22(s,2H,-OCH₂),5.21(s,2H,-OCH₂),3.99(bs,2H,-
CH₂),3.52(s,3H,-CH₃),3.48(s,3H,-CH₃),3.36(s,3H,-CH
₃) (15d) カルコン体 140 mg (0.28 mmol) をメタノール 1
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で６時間攪拌
した後、2N-HCl 10 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1）に付して精
製し、所望の化合物 10 mg (9.8%) を結晶として得た。 TLC:Rf=0.35 （酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 218-
219 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:12.2(s,1H,-OH),7.
29-6.91(m,9H,arom-H),6.08(s,1H,arom-H),5.41(dd,1H,
J=3.0,12.5Hz,-CH),3.85(s,2H,-CH₂Ph),2.99(m,2H,-C
H₂)

【０１２５】

【実施例１６】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8-(3- フ
ェニルプロピル)-4-クロマノン (16a) ジモム保護 3- シンナミル-2,4,6- トリヒドロキ
シアセトフェノン 340 mg (1 mmol)をエタノール 80 ml
に溶解し、10% Pd-C 200 mg を加え室温で水素気流下に
接触水素添加を行った。３時間後、反応液をセライト濾
過した濾液から溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル=3:1) に付
して精製し mg の油状物を得た。 TLC:Rf=0.5（ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:13.8(s,1H,-OH),7.
27-7.11(m,5H,arom-H),6.37(s,1H,arom-H),5.23(s,2H,-
OCH₂),5.19(s,2H,-OCH₂),3.50(s,3H,-OCH₃),3.44(s,3H,
-OCH₃),2.69-2.65(m,4H,-CH₂,-CH₂),1.83(m,2H,-CH₂) (16b) ジモム保護 3- フェニルプロピル-2,4,6- トリヒ
ドロキシアセトフェノン340 mg (0.91 mmol) をDMF 20
ml に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 83 mg(1.82 m
mol)を加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベ
ンズアルデヒド151 mg (0.91 mmol) を加えて室温で３
時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機
層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル=5:1) に付して精製し、320 mg（71.3%)の無色油状
物を得た。 TLC:Rf=0.6 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.1Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.1Hz,-CH=C),7.56-
7.04(m,9H,arom-H),6.38(s,1H,arom-H),5.26(s,2H,-OCH
₂),5.21(s,2H,2H,-OCH₂,-OCH₂),3.52(s,3H,-OCH₃),3.48
(s,3H,-OCH₃),3.46(s,3H,-OCH₃),2.69(m,2H,2H,-CH₂,-C
H₂),1.85(m,2H,-CH₂) (16c) カルコン体 320 mg (0.85 mmol) をメタノール 5
0 mlに溶解し、1N-NaOHを数滴加えて室温で６時間攪拌
した後、2N-HCl 14 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶
媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減
圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して精
製し、所望の化合物 80 mg (24%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.35 （酢酸エチル：ヘキサン=1:1), m.p. 161
-162℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:12.0(s,1H,-OH),7.
26-6.85(m,9H,arom-H),5.98(s,1H,arom-H),5.38(dd,1H,
J=2.6,12.5Hz,-CH),2.88(ddd,2H,J=2.6,12.5,17.1Hz,-C
H₂),2.64-2.56(m,2H,2H,-CH₂,-CH₂),1.88-1.78(m,2H,-C
H₂)

【０１２６】

【実施例１７】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8-(2- メ
チルベンジル)-4-クロマノン (17a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 6 g (3
2.2 mmol)をTHF 400 mlに溶解し、2-メチルベンジルブ
ロミド 6 g (32.3 mmol)及び炭酸カリウム 13.4 g(96.9
mmol) を加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去し、
残渣 820 mg にTHF200 mlを加えて溶解し、氷冷下にメ
トキシメチルクロライド 1.21 g (15 mmol)及びジイソ
プロピルエチルアミン 1.94 g (15 mmol) を加えて室温
で８時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、
有機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢
酸エチル=5:1) に付して精製し、410 mg (3.53%)の油状
物を得た。 TLC:Rf=0.4 (ヘキサン：酢酸エチル=3:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:13.89(s,1H,-OH),
7.24 -6.89(m,4H,arom-H),6.43(s,1H,arom-H),5.28(s,2
H,-OCH₂),5.15(s,2H,-OCH₂),3.90(s,2H,-CH₂Ph),3.53
(s,3H,-OCH₃),3.28(s,3H,-OCH₃),2.97(s,3H,-CH₃),2.43
(s,3H,-CH₃) (17b) ジモム保護 3-(2-メチルベンジル)-2,4,6-トリヒ
ドロキシアセトフェノン410 mg (1.13 mmol) をDMF 20
ml に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 100 mg (2.2
mmol)を加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシ
ベンズアルデヒド190 mg (1.13 mmol) を加えて室温で
３時間攪拌した。溶媒を留去しえ酢酸エチルを加え、有
機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸
エチル=4:1) に付して精製し、430 mg（74%)の油状物を
得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=2:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.9(s,1H,-OH),7.85(d,1
H,J=15.1Hz,-CH=C),7.76(d,1H,J=15.1Hz,-CH=C),7.56-
6.89(m,8H,arom-H),6.43(s,1H,-CH),5.30(s,2H,-OCH₂),
5.20(s,2H,-OCH₂),5.16(s,2H,-OCH₂),3.93(s,2H,-CH₂P
h),3.54(s,2H,-OCH₃),3.48(s,3H,-OCH₃),3.28(s,3H,-OC
H₃),2.44(s,3H,-CH₃) (17c) カルコン体 430 mg (0.8 mmol)をメタノール 50
mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪拌し
た後、2N-HCl 20 mlを加えて６時間加熱攪拌した。溶媒
を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和
食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して精製し、
所望の化合物 50 mg (15.7%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 198 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:12.1(s,1H,-OH),7.
11-6.77(m,8H,arom-H),6.02(s,1H,arom-H),5.26(dd,1H,
J=3.3,12.5Hz,-CH),3.83(s,2H,-CH₂Ph),2.98(ddd,2H,J=
3.3,12.5,17.1Hz,-CH₂),2.29(s,3H,-CH₃)

【０１２７】

【実施例１８】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8-(3- メ
チルベンジル)-4-クロマノン (18a) 2,4,6- トリヒドロキシアセトフェノン 6 g (3
2.4 mmol)をTHF 300 mlに溶解し、3-メチルベンジルブ
ロミド 6 g (32.3 mmol)及び炭酸カリウム 13.4 g(96.9
mmol) を加えて20時間加熱還流した。溶媒を留去した
残渣 1.25 g にTHF200 mlを加えて溶解し、氷冷下にメ
トキシメチルクロライド 1.85 g (22.9 mmol) 及びジイ
ソプロピルエチルアミン 3 g (22.9 mmol)を加えて室温
で８時間攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、
有機層を水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢
酸エチル=6:1) に付して精製し、660 mg (5.68%)の油状
物を得た。 TLC:Rf=0.4 (ヘキサン：酢酸エチル=3：1 ）¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:13.89(s,1H,-OH),
7.19 -6.84(m,4H,arom-H),6.43(s,1H,arom-H),5.27(s,2
H,-OCH₂),5.13(s,2H,-OCH₂),3.91(s,2H,-CH₂Ph),3.53
(s,3H,-OCH₃),3.28(s,3H,-OCH₃),2.98(s,3H,-CH₃),2.38
(s,3H,-CH₃) (18b) ジモム保護 3-(3-メチルベンジル)-2,4,6-トリヒ
ドロキシアセトフェノン330 mg (0.9 mmol)をDMF 20 ml
に溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム80 mg (1.8 mmo
l)を加えて30分攪拌した後、モム保護p-ヒドロキシベン
ズアルデヒド 152mg (0.9 mmol)を加えて室温で３時間
攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、有機層を
水洗した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル
=4:1) に付して精製し、270 mg（57.7%)の油状物を得
た。

【０１２８】TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=2:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:13.8(s,1H,-OH),7.83(d,1
H,J=15.8Hz,-CH=C),7.75(d,1H,J=15.8Hz,-CH=C),7.14-
6.93(m,8H,arom-H),6.40(s,1H,arom-H),5.27(s,2H,-OCH
₂),5.23(s,2H,-OCH₂),5.21(s,2H,-OCH₂),3.96(s,2H,-CH
₂),3.52(s,3H,-OCH₃),3.49(s,3H,-OCH₃),3.39(s,3H,-OC
H₃),2.28(s,3H,-CH₃) (18c) カルコン体 270 mg (0.52 mmol) をメタノール 2
00 ml に溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪
拌した後、2N-HCl 10 mlを加えて６時間加熱攪拌した。
溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び
飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して
精製し、所望の化合物 20 mg(11.3%) を結晶として得
た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 215 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:12.1(s,1H,-OH),7.
35-6.83(m,8H,arom-H),5.98(s,1H,arom-H),5.29(dd,1H,
J=3.3,12.5Hz,-CH),3.83(s,2H,-CH₂Ph),2.88(ddd,2H,J=
3.3,12.5,17.1Hz,-CH₂),2.21(s,3H,-CH₃)

【０１２９】

【実施例１９】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3,5- ジメチルフェ
ニル)-8-(3- メチル-2-ブテニル)-4-クロマノン (19a) ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロ
キシアセトフェノン 300mg (0.9 mmol)をDMF 10 ml に
溶解し、氷冷下に水素化ナトリウム 81 mg (1.9mmol)
を加えて30分攪拌した後、ベンズアルデヒド 180 mg
(0.8 mmol)を加えて室温で３時間攪拌した。溶媒を留去
してメタノール 20 mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて
室温で６時間攪拌した後、2N-HCl 15 mlを加え６時間加
熱攪拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=
2:1) に付して精製し、所望の化合物 61 mg (19.2%)を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.58 （酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 139-
140 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:7.06(s,2H,arom-
H),6.01(s,1H,arom-H),5.31 -5.26(m,1H,-CH),5.25-5.2
0(m,1H,-CH=C),3.31(d,2H,J=7.2Hz,-CH₂),3.11-2.79(m,
2H,-CH₂),2.28(s,3H,3H,-CH₃,-CH₃),1.57(s,3H,-CH₃)

【０１３０】

【実施例２０】2-(3,5- ジ t-ブチル-4- ヒドロキシフェニル)-5,7-ジ
ヒドロキシ-8-(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン ジモム保護 3- イソプレニル-2,4,6- トリヒドロキシア
セトフェノン 300 mg(0.9 mmol)をDMF 10 ml に溶解
し、氷冷下に水素化ナトリウム 81 mg (1.9 mmol) を加
えて30分攪拌した後、ベンズアルデヒド 257 mg (0.9 m
mol)を加えて室温で３時間攪拌した。溶媒を留去してメ
タノール 20 mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で
６時間攪拌した後、2N-HCl 15 mlを加えて６時間加熱攪
拌した。溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹
水、水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に
付して精製し、所望の化合物 52 mg (12.7%)を結晶とし
て得た。 TLC:Rf=0.58 （酢酸エチル：ヘキサン=3:1), m.p. 190-
195 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:7.26(s,2H,arom-
H),6.01(s,1H,arom-H),5.36-5.30(m,1H,-CH),5.26-5.21
(m,1H,-CH),3.31(m,2H,-CH₂),3.15-2.77(m,2H,-CH₂),1.
71(s,6H,-CH₃,-CH₃),1.46(s,18H,t-Bu)

【０１３１】

【実施例２１】7-ヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3,5- ジメチルフェニ
ル)- 8-(3-メチル-2- ブテニル)-4-クロマノン モム保護 3- イソプレニル-2,4- ジヒドロキシアセトフ
ェノン 300 mg (1.1 mmol)をDMF 10 ml に溶解し、氷冷
下に水素化ナトリウム 100 mg (2.2 mmol)を加えて30分
攪拌した後、ベンズアルデヒド 220 mg (1.1 mmol)を加
えて室温で３時間攪拌した。溶媒を留去してメタノール
20 mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪
拌した後、2N-HCl 15 mlを加えて６時間加熱攪拌した。
溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び
飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧
下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して精製
し、所望の化合物 68.4 mg(17%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.25 （酢酸エチル：ヘキサン=3:1), m.p. 174-
175 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:7.76(d,1H,J=8.6H
z,arom-H),7.08(s,2H,arom-H),6.53(d,1H,J=8.6Hz,arom
-H),5.35 -5.34(m,1H,-CH),5.30-5.29(m,1H,-CH=C),3.4
2(d,2H,J=6.83Hz,-CH₂),3.06-2.74(m,2H,-CH₂),2.29(s,
3H,3H,-CH₃,-CH₃),1.76(s,3H,3H,-CH₃,-CH₃)

【０１３２】

【実施例２２】2-(3,5- ジ t-ブチル-4- ヒドロキシフェニル)-7-ヒド
ロキシ-8-(3-メチル-2-ブテニル)-4-クロマノン モム保護 3- イソプレニル-2,4- ジヒドロキシアセトフ
ェノン 300 mg (1.1 mmol)をDMF 10 ml に溶解し、氷冷
下に水素化ナトリウム 100 mg (2.2 mmol)を加えて30分
攪拌した後、ベンズアルデヒド 315 mg (1.1 mmol)を加
えて室温で３時間攪拌した。溶媒を留去してメタノール
20 mlに溶解し、1N-NaOH を数滴加えて室温で６時間攪
拌した後、2N-HCl 15 mlを加えて６時間加熱攪拌した。
溶媒を留去して酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び
飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧
下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して精製
し、所望の化合物 89.7 mg(18%)を結晶として得た。 TLC:Rf=0.58 （酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 180-
184 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ：７．７０−７．６
７（ｍ，２Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），６．５４−６．５１
（ｍ，２Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），５．３７（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝２．９，１３．２Ｈｚ，−ＣＨ），５．２８（ｍ，
１Ｈ，−ＣＨ），３．３７（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ_２），
３．０９−２．７７（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ_２），１．６６
（ｓ，３Ｈ，３Ｈ，−ＣＨ_３，−ＣＨ_３），１．４６
（ｓ，１８Ｈ，ｔ−Ｂｕ）

【０１３３】

【実施例２３】７−ヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシフェニル)-8- (3-メチ
ル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 136 mg (0.42mmol)をピリジン 10 mlに溶
解し、室温でヨウ素 107 mg (0.42 mmol) を加えた後、
90℃で５時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=
1:1) に付して精製し、所望の化合物 66 mg (49%)を結
晶として得た。 TLC:Rf=0.10 （酢酸エチル：ヘキサン=1:1), m.p. 152-
153 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ :7.90-6.23(m,6H,a
rom-H),6.66(s,1H,-CH ),5.31(m,1H,-CH),3.67(d,2H,-C
H₂),1.84(s,3H,-CH₃),1.70(s,3H,-CH₃)

【０１３４】

【実施例２４】5,7-ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3- メチルフェニ
ル)-8- (3-メチル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 48.8 mg (0.14mmol) をピリジン 10 mlに
溶解し、室温でヨウ素35 mg (0.14mmol) を加えた後、9
0℃で５時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=
1:1) に付して精製し、所望の化合物 11.6 mg (24%)を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.31 （酢酸エチル：ヘキサン=1:1), m.p. 145-
153 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ ：７．６９−６．
８７（ｍ，３Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），６．５３（ｓ，１
Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），６．３０（ｓ，１Ｈ，−ＣＨ），
５．２８（ｄｄ，１Ｈ，−ＣＨ），３．５４（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝７．７５Ｈｚ，−ＣＨ_２），２．３０（ｓ，３
Ｈ，−ＣＨ_３），１．８４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ_３），
１．７０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ_３）

【０１３５】

【実施例２５】２−（４− ブロモフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-
メチル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 27 mg (0.07mmol) をピリジン 10 mlに溶
解し、室温でヨウ素 17 mg (0.07 mmol)を加えた後、90
℃で５時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重曹
水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム
で乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=4:
1) に付して精製し、所望の化合物 5 mg (19%) を結晶
として得た。 TLC:Rf=0.35 （酢酸エチル：ヘキサン=3:1), m.p. 220-
224 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ :7.76-7.65(m,4H,a
rom-H),6.66(s,1H,-CH),6.34(s,1H,arom-H),5.29(m,1H-
U),3.59(d,2H,J=7.04Hz,-CH₂),1.86(s,3H,-CH₃),1.77
(s,3H,-CH₃)

【０１３６】

【実施例２６】2-(4- クロロフェニル)-5,7-ジヒドロキシ-8-(3-メチル
-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 45.8 mg (0.13 mmol)をピリジン 10 mlに
溶解し、室温でヨウ素32 mg (0.13 mmol)を加えた後、9
0℃で５時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=
2:1) に付して精製し、所望の化合物 8.3 mg (18%) を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.34 （酢酸エチル：ヘキサン=4:1), m.p. 198-
202 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ ：７．８８−７．
５０（ｍ，４Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），６．６４（ｓ，１
Ｈ，−ＣＨ），６．３２（ｓ，１Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），
５．２５−５．１９（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），３．５５
（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ_２），１．８２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ
_３），１．７０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ_３）

【０１３７】

【実施例２７】５，７−ジヒドロキシ-2-(4-ヒドロキシ-3- メトキシフ
ェニル)-8- (3-メチル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 132.8 mg (0.36 mmol) をピリジン 15 ml
に溶解し、室温でヨウ素 91 mg (0.36 mmol)を加えた
後、90℃で５時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽
和重曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネ
シウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサ
ン=2:1) に付して精製し、所望の化合物 49.7 mg (38%)
を結晶として得た。 TLC:Rf=0.26 （酢酸エチル：ヘキサン=3:2), m.p. 200-
210 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ :7.46-7.00(m,3H,a
rom-H),6.55(s,1H,-CH),6.30(s,1H,arom-H),5.31(m,1H,
-CH),3.97(s,3H,-OCH₃),3.54(m,2H,-CH₂),1.81(s,3H,-C
H₃),1.69(s,3H,-CH₃)

【０１３８】

【実施例２８】5,7-ジヒドロキシ-2-(3-ヒドロキシ-4- メトキシフェニ
ル)-8- (3-メチル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 74.6 mg (0.2 mmol) をピリジン 10 mlに
溶解し、室温でヨウ素51 mg (0.2 mmol) を加えた後、9
0℃で５時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=
2:1) に付して精製し、所望の化合物 26.1 mg (35%)を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.25 （酢酸エチル：ヘキサン=3:2), m.p. 190-
198 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ ：７．４７−６．
９６（ｍ，３Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），６．５４（ｓ，１
Ｈ，−ＣＨ），６．３０（ｓ，１Ｈ，ａｒｏｍ−Ｈ），
５．２７（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），３．５４（ｍ，２Ｈ，
−ＣＨ_２），１．８３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ_３），１．７
０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ_３）

【０１３９】

【実施例２９】５，７−ジヒドロキシ-2-(4-メチルフェニル)-8- (3-メ
チル-2- ブテニル)-4(4H)-クロメノン フラバノン体 48.9 mg (0.14 mmol)をピリジン 10 mlに
溶解し、室温でヨウ素37 mg (0.14 mmol)を加えた後、9
0℃で５時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=
3:1) に付して精製し、所望の化合物 8.3 mg (17%) を
結晶として得た。 TLC:Rf=0.47 （酢酸エチル：ヘキサン=2:1), m.p. 220-
222 ℃¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ :7.83-7.32(m,4H,a
rom-H),6.63(s,1H,-CH,),6.30(s,1H,arom-H),5.28(m,1
H,-CH),3.55(d,2H,J=6.69Hz,-CH₂),2.45(s,3H,-CH₃)

【０１４０】

【実施例３０】6,8-ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5- (3-メ
チル-2- ブテニル)-3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オ
ン (30a) 乾燥THF 30 ml に予めヘキサンで洗浄したリチウ
ム分散物 200 mg を懸濁させ、窒素雰囲気下に3,5-ジメ
トキシベンジルクロライド 1 g (5.3 mmol) およびp-メ
トキシケイ皮酸メチルエステル 1 g (5.3mmol)を-20 ℃
で加えて４時間攪拌した。反応液をTHF で希釈し、次い
で飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて有機層を抽出し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル：ヘキサン=4:1) に付して精製し、所望の化合物
546 mg (27%) を得た。 TLC:Rf=0.5 (ヘキサン：酢酸エチル=4:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:7.06(d,2H,J=8.58Hz,arom
-H),6.80(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.26(m,1H,arom-H),
6.18-6.17(m,2H,arom-H),3.78(s,3H,OCH₃),3.70(s,3H,3
H,OCH₃,OCH₃),3.52(s,3H,OCH₃),3.34(m,1H,-CH),2.80
(m,2H,-CH₂),2.63(m,2H,-CH₂) (30b) エステル体 300 mg (0.87mmol)にポリリン酸 5 g
を加え、窒素気流下に 80 ℃で２時間加熱攪拌した。水
及び酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、飽和重曹水、
水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣 260 mg を塩化メ
チレン70 ml に溶解し 1M 三臭化ボロン溶液 5.2 ml を
-78℃で加えて室温で８時間攪拌した。メタノール、酢
酸エチル、水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=
1:1)に付して精製し、所望の化合物 200 mg (87.5%) を
得た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=2:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:12.8(s,1H,-OH),7.
11(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.81(d,2H,J=8.58Hz,arom-
H),6.22-6.21(m,2H,arom-H),3.37-3.24(m,2H,-CH),3.01
-2.98(m,2H,-CH₂),2.81 -2.71(m,2H,-CH₂) (30c) トリフェノール体 200 mg (0.75 mmol) をDMF 20
ml に溶解し、イソプレニルクロリド 78 mg (0.75 mmo
l)および炭酸カリウム 100 mg (0.75 mmol) を加えて80
℃で３時間加熱攪拌した。酢酸エチルを加えて飽和重曹
水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム
で乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:
1) に付して精製し、所望の化合物 230 mg (90%) を得
た。 TLC:Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン=2:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:12.8(s,1H,-OH),7.
12(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.82(d,2H,arom-H),6.30-6.
29(m,2H,arom-H),5.48 -5.42(m,1H,-CH),4.54-4.51(m,2
H,-CH₂),3.37-3.25(m,1H,-CH),3.02-2.99(m,2H,-CH₂),
2.88-2.71(m,2H,-CH₂),1.79(s,3H,-CH₃),1.73(s,3H,-CH
₃) (30d) モノイソプレニルエーテル 230 mg (0.67 mmol)
を塩化メチレン 10 mlに溶解し、窒素気流下にモンモリ
ロナイトKSF 50 mg を懸濁させて一昼夜攪拌した。反応
液をセライト濾過し、濾液に酢酸エチルを加えて水及び
飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=2:1) に付して
精製し、所望の化合物 20 mg (8.6%) を得た。 TLC:Rf=0.4（酢酸エチル：ヘキサン=2:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃+CD₃OD) δ:13.7(s,1H,-OH),7.
12(d,2H,J=8.58Hz,arom-H),6.82(d,2H,J=8.58Hz,arom-
H),6.23(s,1H,arom-H),5.05-4.99(m,1H,-CH),3.28-3.25
(m,2H,-CH₂),3.23-3.13(m,2H,-CH₂),2.98 -2.71(m,m,2
H,1H,-CH₂,-CH),1.69(s,3H,-CH₃),1.66(s,3H,-CH₃) (30e) 3,5-ジメトキシフェニル酢酸 3 g (15.4 mmol)を
ベンゼン 50 mlに懸濁させ、氷冷下にオキザリルクロリ
ド 2 g (16.0 mmol)及びDMF ２滴を加えて３時間攪拌し
た。溶媒を留去した後、アニソール 10 ml及び塩化アル
ミ 2.1 g (15.8 mmol)を加えて室温で３時間攪拌した。
希塩酸及び酢酸エチルを加えて抽出し、有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=3:1) に付して
精製し、所望の化合物 3.18 g (72.4%) を得た。 TLC:Rf=0.7（酢酸エチル：ヘキサン=2:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:7.99(d,2H,J=8.6Hz,arom-
H),6.92(d,2H,J=8.6Hz,arom-H),6.43-6.34(m,3H,arom-
H),4.15(s,2H,-CH₂),3.85(s,3H,-CH₃),3.76(s,3H,3H,-O
CH₃,-OCH₃) (30f) 予めヘキサンで洗浄したナトリウムヒドリド 14
g (62.5 mmol) を氷冷下でトリエチルフォスフォノアセ
テート 14 g (62.5 mmol) に加えて30分攪拌した後、
(3,5- ジメトキシベンジル)(4'- メトキシフェニル) ケ
トン 3.18 g (11.1mmol) を加えて120 ℃で３時間攪拌
した。反応液に酢酸エチルを加えて水及び飽和食塩水で
洗浄して溶媒を留去した。残渣 3 gをエタノール 100 m
l に溶解して10% Pd-C 500 mgを加え、水素気流下に室
温で３時間接触水素添加した。反応液をセライト濾過し
た後、濾液の溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン=6:1) に付し
て精製し、所望の化合物 2.38g (60%) を得た。 TLC:Rf=0.7（酢酸エチル：ヘキサン=5:1)¹ H-NMR (270MHz, CDCl₃) δ:7.02(d,2H,J=8.6Hz,arom-
H),6.79(d,2H,J=8.6Hz,arom-H),6.28-6.26(m,1H,arom-
H),6.20-6.19(m,2H,arom-H),3.99(q,2H,J=7.1Hz,-CH₂),
3.76(s,3H,-OCH₃),3.71(s,3H,3H,-OCH₃,-OCH₃),3.38-3.
32(m,1H,-CH),2.83-2.79(m,2H,-CH₂),2.68-2.50(m,2H,-
CH₂),1.11(t,3H,J=7.1Hz,-CH₃) (30g) (3,5- ジメトキシベンジル) (4'-メトキシフェニ
ル) ケトン 7.47 g (26mmol) をTHF 150 mlに溶解し、
亜鉛−銅合金（約亜鉛 91%及び銅 5%) 3.2 gとブロモ酢
酸エチル 3.5 ml を加えて窒素雰囲気下で６時間環流し
た。反応液に希塩酸及び酢酸エチルを加えて抽出し、有
機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣 7.61 g に
ベンゼン 100 ml 及びp-トルエンスルホンニルクロリド
100 mg (0.524 mmol ) を加えて窒素気流下で３時間環
流させた。反応液に水及び酢酸エチルを加えて抽出し、
有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去した。残渣 7.18 g
をエタノール 100 ml に溶解して 10% Pd-C 500 mgを加
えて水素気流下に室温で６時間接触水素添加した。反応
液をセライト濾過した後に溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン
=6:1) に付して精製し、所望の化合物 5.66 g(57%)を得
た。この化合物の物理化学的性状は、上記(30f) で得ら
れた化合物と同一であった。

【０１４１】

【発明の効果】本発明の化合物はエストロゲンリセプタ
ーに特異的に結合するので、エストロゲン作用剤などの
医薬として有用である。

【０１４２】

【試験例】

【０１４３】

【試験例１】エストロゲンレセプターへの親和性 エストロゲンレセプターへの親和性は、Thibodeau,S.N.
らの方法（Clin. Chem., 27, 678-691 (1981) ）を一部
改変し、用いることにより測定した。即ち、ウシ子宮を
摩砕し、100,000Gで、１時間超遠心して得られる細胞可
溶画分中のエストロゲンリセプター（エストロゲン結合
蛋白質）を用いて試験を行なった。最終濃度が、１ｎＭ
となるように希釈した〔³ Ｈ〕エストラジオール（１３
６Ｃｉ／mmol）溶液１０μl 、検体溶液（若しくは溶媒
のみ）１０μl 、前記細胞可溶画分２００μl を含む反
応液を混和した後に、４℃の状態で一晩保存した。反応
液中の遊離の〔³ Ｈ〕エストラジオールをデキストラン
（Dextran Ｔ７０、ファルマシア社製）被覆活性炭（Ｃ
４３８６、シグマ社製）で吸着除去した後、エストロゲ
ンリセプターに結合した〔³ Ｈ〕エストラジオール量
を、液体シンチレーションカウンターで測定することに
より、エストロゲンリセプターに結合した〔³ Ｈ〕エス
トラジオール量を求めた。非特異的結合測定のために
は、検体溶液の代わりに、〔³ Ｈ〕エストラジオールの
５００倍過剰のエストラジオールを添加し、同様の処理
をした。検体のエストロゲンレセプターへの親和性は、
〔³ Ｈ〕エストラジオールのエストロゲンリセプターに
対する結合の阻害率として、次式で求めた。 結合阻害率＝１００−（ａ／ｂ×１００） ａ：検体添加のｄｐｍ−非特異的結合のｄｐｍ ｂ：検体非添加のｄｐｍ−非特異的結合のｄｐｍ なお、エストラジオール拮抗作用を示す対照化合物とし
て、ゲニステインを用いた。

【０１４４】

【化１１】

【０１４５】

【試験例２】エストロゲン活性：培養細胞に対する効果 エストロゲンにより増殖が促進されるヒト乳癌由来細胞
Ｔ４７Ｄ（Reddel, R.R. ＆ Sutherland, R. L., Eur.
J. Clin. Oncol., 20, 1419-1424 (1984)）を用いて、
本発明化合物のエストロゲン様活性を試験した。即ち、
Ｔ４７Ｄ細胞３０００個を、９６穴のマイクロテストプ
レートの各穴に播種し、細胞が接着した後に、２００Ｉ
Ｕ／Ｉのインスリン及び内在性のエストロゲンを活性炭
で除去したウシ胎児血清を１０％含むＲＰＭＩ１６４０
培地に代えた。ここに、検体溶液（又は溶媒のみ）を加
え、３７℃で４日間培養した。

【０１４６】また、エストラジオール細胞増殖効果に、
本発明の化合物が拮抗するか否かを確認するために、
０．１ｎＭエストラジオール溶液と検体溶液（又は０．
１ｎＭエストラジオール溶液のみ）を同時に加えた実験
も行った。培養後、Ｔ４７Ｄ細胞の増殖の度合いを、Ca
rmichael, J.らの方法（Cancer Res., 47, 936-942 (19
87) ）に従い、ＭＴＴ〔(3-(4,5-dimethyl-2-thiazoly
l)-2,5-diphenyl-2H-tetrazolium bromide)〕を用い
て、波長５５０ｎｍにおける吸光度を指標として検出し
た。増殖促進率は以下の式により求めた。 増殖促進率＝ａ／ｂ×１００ ａ：検体添加時の吸光度 ｂ：検体非添加時の吸光度 各検体の種々の濃度での増殖促進率をプロットして、各
検体の最大効果のエストラジオールの最大効果に対する
割合（Ｅ_max ）、Ｅ_max の１／２の効果を与える濃度
（ＥＣ₅₀）及び０．１ｎＭエストラジオールの作用に５
０％拮抗する濃度（ＩＣ₅₀（Ｔ４７Ｄ））を求めた。な
お、対照化合物として、ゲニステインを用いた。

【０１４７】本発明の化合物は、細胞増殖促進効果を有
するが（ＥＣ₅₀の結果から）、ゲニステインのようなフ
ルアゴニストではなく、パーシャルアゴニストであり
（Ｅ_max の結果から）、ゲニステインにはない、エスト
ロゲンアンタゴニスト活性を有する（ＩＣ₅₀の結果か
ら）ことから、子宮癌や乳癌の増殖をもたらさない、骨
粗鬆症の予防剤又は治療剤となる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/35 ＡＥＫ Ａ６１Ｋ 31/35 ＡＥＫ Ｃ０７Ｄ 311/30 Ｃ０７Ｄ 311/30 311/32 311/32 (72)発明者 岩野 雄次 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 飯島 康輝 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 瀧 基彦 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 北岡 政弘 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の式： 【化１】 ［式中、 Ｒ₁ は、水酸基又は水素原子を示し、 Ｒ₂ は、無置換若しくはアリール置換のアルキル基、又
   は無置換若しくはアリール置換のアルケニル基を示し、 Ｒ₃ は、水素原子又は低級アルキル基を示し、 Ｒ₄ 及びＲ₅ はそれぞれ独立に水素原子又は低級アルキ
   ル基を示し、 Ｒ₆ は水酸基、ハロゲン原子、又は低級アルキル基を示
   し、 Ｘは酸素原子またはメチレン基を示し、 ----の付された結合は当該結合が単結合又は二重結合で
   あることを示す］で表される化合物及びその塩。
2. 【請求項２】Ｒ₂ が、無置換C_1-6アルキル基、二重結合
   を１個含む無置換のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキ
   ル置換若しくは無置換フェニル基を置換基として有する
   C_1-4アルキル基であり、 Ｒ₃ が、水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり、 Ｒ₄ が、水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり、 Ｒ₅ が、水素原子又は無置換C_1-4アルキル基であり、 Ｒ₆ が、水酸基、ハロゲン原子、又は無置換C_1-4アルキ
   ル基である請求項１に記載の化合物及びその塩。
3. 【請求項３】Ｒ₁ が水酸基であり、かつ、Ｘが酸素原子
   である請求項２に記載の化合物及びその塩。
4. 【請求項４】Ｒ₆ が水酸基である請求項３に記載の化合
   物及びその塩。
5. 【請求項５】Ｒ₁ が水酸基であり、Ｒ₆ が水酸基であ
   り、Ｘがメチレン基であり、かつ、----の付された結合
   が単結合である請求項２に記載の化合物及びその塩。
6. 【請求項６】Ｒ₄ が水素原子である請求項５に記載の化
   合物及びその塩。
7. 【請求項７】Ｒ₁ が水素原子であり、Ｒ₆ が水酸基であ
   り、かつ、Ｘが酸素原子である請求項２に記載の化合物
   及びその塩。
8. 【請求項８】Ｒ₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合を
   １個含む無置換のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキル
   置換若しくは無置換のベンジル基であり、Ｒ₃ が水素原
   子であり、かつ、Ｒ₄ が水素原子である請求項７に記載
   の化合物及びその塩。
9. 【請求項９】Ｒ₁ が水素原子であり、Ｒ₃ が水素原子で
   あり、Ｒ₄ が水素原子であり、Ｒ₆が水酸基であり、Ｘ
   がメチレン基であり、かつ、----の付された結合が単結
   合である請求項２に記載の化合物及びその塩。
10. 【請求項１０】Ｒ₂ が無置換C_1-6アルキル基、二重結合
    を１個含む無置換のC_2-6アルケニル基、又はC_1-4アルキ
    ル置換若しくは無置換のベンジル基である請求項９に記
    載の化合物及びその塩。
11. 【請求項１１】請求項１ないし１０のいずれか１項に記
    載の化合物又は薬理学的に許容されるその塩からなる医
    薬。
12. 【請求項１２】請求項１ないし１０のいずれか１項に記
    載の化合物又は薬理学的に許容されるその塩を有効成分
    として含む医薬用組成物。
13. 【請求項１３】エストロゲン作用剤として用いる請求項
    １２に記載の医薬用組成物。
14. 【請求項１４】エストロゲンの減少に起因する疾患、更
    年期障害、前立腺癌、及び前立腺肥大症からなる群から
    選択される疾患の予防及び／又は治療に用いる請求項１
    ３に記載の医薬用組成物。
15. 【請求項１５】乳汁分泌抑制に用いる請求項１３に記載
    の医薬用組成物。
16. 【請求項１６】請求項１２ないし１５のいずれか１項に
    記載の医薬組成物の製造のための請求項１ないし１０の
    いずれか１項に記載の化合物の使用。