JPH09263070A - 平版印刷用不感脂化処理液 - Google Patents
平版印刷用不感脂化処理液Info
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- JPH09263070A JPH09263070A JP8074674A JP7467496A JPH09263070A JP H09263070 A JPH09263070 A JP H09263070A JP 8074674 A JP8074674 A JP 8074674A JP 7467496 A JP7467496 A JP 7467496A JP H09263070 A JPH09263070 A JP H09263070A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/26—Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
- G03G13/28—Planographic printing plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、公害に対して問題がなく、長期
保存、連続使用、環境変化に対して安定であり、さらに
はエッチング処理時間を短縮することができる不感脂化
処理性能にすぐれた平版印刷用不感脂化処理液を提供す
る。 【解決手段】 特定の構造を含有する非環状アミン及び
アンモニウム化合物から選ばれる少なくとも1種以上を
含有することを特徴とする平版印刷用不感脂化処理液。
保存、連続使用、環境変化に対して安定であり、さらに
はエッチング処理時間を短縮することができる不感脂化
処理性能にすぐれた平版印刷用不感脂化処理液を提供す
る。 【解決手段】 特定の構造を含有する非環状アミン及び
アンモニウム化合物から選ばれる少なくとも1種以上を
含有することを特徴とする平版印刷用不感脂化処理液。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷用不感脂
化処理液に関し、詳しくは電子写真式印刷用原板、直描
型印刷用原版等の主として金属酸化物、金属硫化物と結
着樹脂よりなる平版印刷版に用いる不感脂化処理液に関
する。
化処理液に関し、詳しくは電子写真式印刷用原板、直描
型印刷用原版等の主として金属酸化物、金属硫化物と結
着樹脂よりなる平版印刷版に用いる不感脂化処理液に関
する。
【0002】
【従来の技術】電子写真式平版印刷原板(以下、マスタ
ーと称する)は、酸化亜鉛のごとき光導電性微粉末体を
樹脂結着剤中に分散した感光層を有し、この層上に通常
の電子写真操作を施して、親油性画像を形成させること
によって得られる。
ーと称する)は、酸化亜鉛のごとき光導電性微粉末体を
樹脂結着剤中に分散した感光層を有し、この層上に通常
の電子写真操作を施して、親油性画像を形成させること
によって得られる。
【0003】一般に平版印刷では、水に湿潤され易い非
画線部(親水性部)と湿潤され難い画線部(親油性部)
とから構成された版が使用されているが、電子写真平版
印刷原版は、疎水性の光導電層より成っているためその
まま印刷を施すと、非画線部にも印刷インキが付着し、
正常な印刷を行うことができない。
画線部(親水性部)と湿潤され難い画線部(親油性部)
とから構成された版が使用されているが、電子写真平版
印刷原版は、疎水性の光導電層より成っているためその
まま印刷を施すと、非画線部にも印刷インキが付着し、
正常な印刷を行うことができない。
【0004】それ故に、印刷に先だって印刷原版の非画
線部を不感脂化処理し、親水性を付与してやる必要があ
る。従来より、この種の不感脂化処理液としてフェロシ
アン酸塩、フェリシアン酸塩を主成分とするシアン化物
含有処理液、また、アンミンコバルト錯体、フィチン酸
(イノシットヘキサリン酸)及びその誘導体、グアニジ
ン誘導体を主成分としたシアンフリー処理液が提起され
ている。
線部を不感脂化処理し、親水性を付与してやる必要があ
る。従来より、この種の不感脂化処理液としてフェロシ
アン酸塩、フェリシアン酸塩を主成分とするシアン化物
含有処理液、また、アンミンコバルト錯体、フィチン酸
(イノシットヘキサリン酸)及びその誘導体、グアニジ
ン誘導体を主成分としたシアンフリー処理液が提起され
ている。
【0005】しかしながら、これらの処理液は充分満足
出来る処理液とは言えない。即ち、前者のフェロシアン
酸塩、フェリシアン酸含有処理液の場合は、不感脂化力
は強く、強固な親水性被膜形成能を持ち、成膜速度も速
い利点はあるが、反面フェロシアン酸イオン、フエリシ
アン酸イオンは熱や光に対し不安定で光にさらすと着色
し、沈澱を生じて不感脂化力が弱まり、さらにシアン化
物イオン(CN- )を含有することで遊離シアンとして
検出されることにより排水等、公害の面において種々の
問題を提起する欠点を持っている。
出来る処理液とは言えない。即ち、前者のフェロシアン
酸塩、フェリシアン酸含有処理液の場合は、不感脂化力
は強く、強固な親水性被膜形成能を持ち、成膜速度も速
い利点はあるが、反面フェロシアン酸イオン、フエリシ
アン酸イオンは熱や光に対し不安定で光にさらすと着色
し、沈澱を生じて不感脂化力が弱まり、さらにシアン化
物イオン(CN- )を含有することで遊離シアンとして
検出されることにより排水等、公害の面において種々の
問題を提起する欠点を持っている。
【0006】一方、こうした点を考慮して後者の、アン
ミンコバルト錯体、フィチン酸、グアニジンのような不
感脂化剤を主成分としたシアンフリー処理液が提案され
ているが、これらによっても未だ充分満足すべき平版印
刷原版を得る処理液とは言えない。具体的には、前者の
シアン化物含有処理液に比べ成膜速度が遅く、プロセッ
サーを用いたエッチング方式では1回通しで直ちに印刷
可能な物理強度の高い親水性被膜形成が出来ず、地汚れ
や網点階調につぶれを生じる欠点を有している。従来、
フィチン酸及びその金属誘導体は金属キレート化合物を
形成することは周知の通りで、オフセット印刷原版の不
感脂化剤としてすでに種々提供されている。しかし、こ
れらはいずれも成膜速度が遅く、プロセッサー1回の処
理で印刷可能な親水性被膜が形成されず、このためイン
キ分離性が悪く、地汚れや網点階調のつぶれを生じる欠
点がある。
ミンコバルト錯体、フィチン酸、グアニジンのような不
感脂化剤を主成分としたシアンフリー処理液が提案され
ているが、これらによっても未だ充分満足すべき平版印
刷原版を得る処理液とは言えない。具体的には、前者の
シアン化物含有処理液に比べ成膜速度が遅く、プロセッ
サーを用いたエッチング方式では1回通しで直ちに印刷
可能な物理強度の高い親水性被膜形成が出来ず、地汚れ
や網点階調につぶれを生じる欠点を有している。従来、
フィチン酸及びその金属誘導体は金属キレート化合物を
形成することは周知の通りで、オフセット印刷原版の不
感脂化剤としてすでに種々提供されている。しかし、こ
れらはいずれも成膜速度が遅く、プロセッサー1回の処
理で印刷可能な親水性被膜が形成されず、このためイン
キ分離性が悪く、地汚れや網点階調のつぶれを生じる欠
点がある。
【0007】そこで上記問題点を解決するためにフィチ
ン酸系処理液中に種々の添加剤を添加する検討が行われ
ている。具体的にはアミノカルボン酸の金属錯体などと
の併用(特公平2−39397号)や、へキサメタリン
酸塩との併用(特公昭62−7597号)、低級アミ
ン、アルカノールアミン、ポリアミン類を処理液中に添
加したもの(特開昭54−117201号、特開昭53
−109701号、特開平1−25994号公報等)等
では、使用初期では保水性が良好だが、連続使用すると
エッチングが低下し保水性が低下すること、長期保存後
使用すると保水性が低下し地汚れが発生すること等の問
題があり、十分な効果が得られていない。カチオンポリ
マー類を処理液中に添加したもの(特開昭60−230
99号公報等)では、上記のものと同様に連続使用、長
期保存後性能が低下すること及びさびを生じたりする。
更には、ポリエチレンイミン共重合体類を併用したもの
(特開平7−68967号、同7−137475号等)
が提案されているが、エッチングによる非画像部の親水
化と画像部へのインキ付着性を両立させるラチチュード
が狭いか、あるいは長期連続使用で性能が低下する等の
問題を解消するには到っていない。
ン酸系処理液中に種々の添加剤を添加する検討が行われ
ている。具体的にはアミノカルボン酸の金属錯体などと
の併用(特公平2−39397号)や、へキサメタリン
酸塩との併用(特公昭62−7597号)、低級アミ
ン、アルカノールアミン、ポリアミン類を処理液中に添
加したもの(特開昭54−117201号、特開昭53
−109701号、特開平1−25994号公報等)等
では、使用初期では保水性が良好だが、連続使用すると
エッチングが低下し保水性が低下すること、長期保存後
使用すると保水性が低下し地汚れが発生すること等の問
題があり、十分な効果が得られていない。カチオンポリ
マー類を処理液中に添加したもの(特開昭60−230
99号公報等)では、上記のものと同様に連続使用、長
期保存後性能が低下すること及びさびを生じたりする。
更には、ポリエチレンイミン共重合体類を併用したもの
(特開平7−68967号、同7−137475号等)
が提案されているが、エッチングによる非画像部の親水
化と画像部へのインキ付着性を両立させるラチチュード
が狭いか、あるいは長期連続使用で性能が低下する等の
問題を解消するには到っていない。
【0008】一方、近年、省力化と言う観点から不感脂
化処理システムを組み込んだ特に小型の自動印刷機の普
及がめざましく、また電子写真方式によるオフセットマ
スタ−は製版までの時間短縮が行われており、不感脂化
処理時間の迅速化、ロングライフ化に対応しなければな
らない状況にある。更には、電子写真式マスターのシス
テムにおいても、デジタル露光方式が提案され、従来の
線画・文字を主体とした製版画像に加え、中間調・平網
等の高精細な画像を有するマスターの作成が容易にな
り、印刷工程においても、印刷物上にその高精細な画像
の再現が可能な印刷版が求められている。しかしこれら
のことは、従来公知の不感脂化処理液では困難である。
化処理システムを組み込んだ特に小型の自動印刷機の普
及がめざましく、また電子写真方式によるオフセットマ
スタ−は製版までの時間短縮が行われており、不感脂化
処理時間の迅速化、ロングライフ化に対応しなければな
らない状況にある。更には、電子写真式マスターのシス
テムにおいても、デジタル露光方式が提案され、従来の
線画・文字を主体とした製版画像に加え、中間調・平網
等の高精細な画像を有するマスターの作成が容易にな
り、印刷工程においても、印刷物上にその高精細な画像
の再現が可能な印刷版が求められている。しかしこれら
のことは、従来公知の不感脂化処理液では困難である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は公害に対して
問題がなく、長期保存、連続使用に対して安定であり、
更にはエッチング処理時間を短縮することができる不感
脂化処理性能にすぐれた平版印刷版用不感脂化処理液を
提供する。又、本発明は、中間調・平網等の高精細な画
像の再現性が良好で、かつ非画像部に地汚れを生じるこ
となく印刷できる平版印刷版を作成可能とする平版印刷
用不感脂化処理液を提供する。
問題がなく、長期保存、連続使用に対して安定であり、
更にはエッチング処理時間を短縮することができる不感
脂化処理性能にすぐれた平版印刷版用不感脂化処理液を
提供する。又、本発明は、中間調・平網等の高精細な画
像の再現性が良好で、かつ非画像部に地汚れを生じるこ
となく印刷できる平版印刷版を作成可能とする平版印刷
用不感脂化処理液を提供する。
【0010】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明になる以下
の処理液をエッチングに用いる事で上記問題点の解決を
達成される。本発明のシアンフリー平版印刷用不感脂化
処理液は、下記一般式(I)で表される部分構造を少な
くとも2種以上含有する分岐及び架橋構造を有してもよ
い分子量1×103以上の非環状アミン及び/又はアン
モニウム化合物を少なくとも1種以上含有することを特
徴とする。
の処理液をエッチングに用いる事で上記問題点の解決を
達成される。本発明のシアンフリー平版印刷用不感脂化
処理液は、下記一般式(I)で表される部分構造を少な
くとも2種以上含有する分岐及び架橋構造を有してもよ
い分子量1×103以上の非環状アミン及び/又はアン
モニウム化合物を少なくとも1種以上含有することを特
徴とする。
【0011】
【化5】
【0012】上式中R0は−PO3H2又は−OPO3H2
又はその塩を表わす。好ましくは、本発明のシアンフリ
ー平版印刷用不感脂化処理液は、非環状アミン及び/又
はアンモニウム化合物が一般式(II)で表される重合体
〔A〕及び/又は一般式(III)で表わされる重合体成分
を含有する重合体〔B〕であることを特徴とする。
又はその塩を表わす。好ましくは、本発明のシアンフリ
ー平版印刷用不感脂化処理液は、非環状アミン及び/又
はアンモニウム化合物が一般式(II)で表される重合体
〔A〕及び/又は一般式(III)で表わされる重合体成分
を含有する重合体〔B〕であることを特徴とする。
【0013】
【化6】
【0014】上式中、Xは>NCH2R0又は>N−R7
又はO又はSを表わし、かつ少なくとも2個以上の>N
CH2R0を有する。また、上記R0は一般式(I)中の
R0と同一の内容を表わす。R1〜R7 は、それぞれ置換
基を有してもよく、さらに互いに連結して環を形成して
もよい有機残基を表わす。さらに、上記一般式(II)中
のn、l、fは、それぞれ1以上10以下の整数を表わ
し、m、r、gは、それぞれ0以上の整数を表わし、か
つ重合体〔A〕の重量平均分子量が1×103以上にな
る組み合わせを表わす。
又はO又はSを表わし、かつ少なくとも2個以上の>N
CH2R0を有する。また、上記R0は一般式(I)中の
R0と同一の内容を表わす。R1〜R7 は、それぞれ置換
基を有してもよく、さらに互いに連結して環を形成して
もよい有機残基を表わす。さらに、上記一般式(II)中
のn、l、fは、それぞれ1以上10以下の整数を表わ
し、m、r、gは、それぞれ0以上の整数を表わし、か
つ重合体〔A〕の重量平均分子量が1×103以上にな
る組み合わせを表わす。
【0015】
【化7】
【0016】上記中Wは下記の式
【0017】
【化8】
【0018】を表わし(ただし、R8 は一般式(II)中
のR1〜R7と、R0 は一般式(I)中のR0 と同一の内
容を表わす。) またZは連結基として2価の有機残基を表わす。さら
に、f1 及びf2 は互いに同じでも異なってもよく、そ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜
8の炭化水素基、−COO−T1又は炭素数1〜8の炭
化水素基を介した−COO−T1(T1は炭素数1〜18
の炭化水素基を表わす)を表わす。Yは、単結合もしく
は−COO−、−OCO−、−(CH2)a−COO−、
−(CH2)b−OCO−(a、bは、それぞれ1〜3の
整数を表す)、−CON(k1)−〔k1は水素原子また
は炭素数1〜12の炭化水素基を表す〕、−CONHC
ONH−、−CONHCOO−、−O−、−C6H4−又
は−SO2−を表わす。hは1以上の整数で、かつ重合
体〔B〕の重量平均分子量が1×103以上になる値を
表わす。
のR1〜R7と、R0 は一般式(I)中のR0 と同一の内
容を表わす。) またZは連結基として2価の有機残基を表わす。さら
に、f1 及びf2 は互いに同じでも異なってもよく、そ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜
8の炭化水素基、−COO−T1又は炭素数1〜8の炭
化水素基を介した−COO−T1(T1は炭素数1〜18
の炭化水素基を表わす)を表わす。Yは、単結合もしく
は−COO−、−OCO−、−(CH2)a−COO−、
−(CH2)b−OCO−(a、bは、それぞれ1〜3の
整数を表す)、−CON(k1)−〔k1は水素原子また
は炭素数1〜12の炭化水素基を表す〕、−CONHC
ONH−、−CONHCOO−、−O−、−C6H4−又
は−SO2−を表わす。hは1以上の整数で、かつ重合
体〔B〕の重量平均分子量が1×103以上になる値を
表わす。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明の化合物は化学構造の特徴
上、従来から知られているフィチン酸及びフィチン酸塩
等のキレート化能を有する化合物に比ベ、キレート反応
性、沈殿形成速度が大幅に向上することから、親水化処
理速度が向上し、また、処理時間が短縮されるものと推
定される。これにより同じランニング枚数でも版が処理
液中に存在している時間が少なく、かつ処理液中で沈殿
などの原因となるZn2+イオン等の混入を押えることが
可能になり、高い不感脂化力を示すことはもちろんのこ
と、経時安定性、ランニング性などが向上するものと考
えられる。本発明の処理液は公害上問題となり、且つ光
や熱によって劣化するフェロシアン、フェリシアン化合
物を含まず、また、従来のシアンフリー処理液に比べ印
刷環境の影響を受けない。更に、長期保存下でも安定
で、変色、沈澱をせず、しかも著しく成膜速度が向上
し、高速エッチング処理によっても地汚れや網点階調の
つぶれの出ない平版印刷原版を得ることが出来る優れた
シアンフリーの処理液である。
上、従来から知られているフィチン酸及びフィチン酸塩
等のキレート化能を有する化合物に比ベ、キレート反応
性、沈殿形成速度が大幅に向上することから、親水化処
理速度が向上し、また、処理時間が短縮されるものと推
定される。これにより同じランニング枚数でも版が処理
液中に存在している時間が少なく、かつ処理液中で沈殿
などの原因となるZn2+イオン等の混入を押えることが
可能になり、高い不感脂化力を示すことはもちろんのこ
と、経時安定性、ランニング性などが向上するものと考
えられる。本発明の処理液は公害上問題となり、且つ光
や熱によって劣化するフェロシアン、フェリシアン化合
物を含まず、また、従来のシアンフリー処理液に比べ印
刷環境の影響を受けない。更に、長期保存下でも安定
で、変色、沈澱をせず、しかも著しく成膜速度が向上
し、高速エッチング処理によっても地汚れや網点階調の
つぶれの出ない平版印刷原版を得ることが出来る優れた
シアンフリーの処理液である。
【0020】上記一般式(I)におけるR0は、−PO3
H2(ホスホン酸基)、−OPO3H 2(リン酸基)又は
それらの塩を表し、好ましい塩としては無機塩(例えば
リチウム、ナトリウム、カリウム等の塩)、アンモニウ
ム塩、又は有機塩基との塩〔例えば1級アミン、2級ア
ミン又は3級アミン(これらアミンにおける炭化水素基
としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロヘキ
シル基、シクロオクチル基、ベンジル基、フェネチル基
等があげられ、又これらの炭化水素基は、ヒドロキシル
基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アミド基
等の置換基を含有していてもよい)、アニリン類(例え
ばアニリン、Nーメチルアニリン、N,N−ジメチルア
ニリン、N−エチルアニリン、N−ブチルアニリン、N
−メチル−N−ブチルアニリン等)、あるいはへテロ原
子含有の環状窒素化合物(例えば、ピリジン、モルホリ
ン、ピペラジン、ピリジン等)〕或いは=NCH2−と
の分子内塩(−N+CH2PO3−H又は−N+CH2OP
O3 -H等)を表わし、これらの塩化合物は、分子中の酸
性基の一部あるいは全てが塩であってもよく、又形成す
る塩は同じでも異なってもよい。
H2(ホスホン酸基)、−OPO3H 2(リン酸基)又は
それらの塩を表し、好ましい塩としては無機塩(例えば
リチウム、ナトリウム、カリウム等の塩)、アンモニウ
ム塩、又は有機塩基との塩〔例えば1級アミン、2級ア
ミン又は3級アミン(これらアミンにおける炭化水素基
としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロヘキ
シル基、シクロオクチル基、ベンジル基、フェネチル基
等があげられ、又これらの炭化水素基は、ヒドロキシル
基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アミド基
等の置換基を含有していてもよい)、アニリン類(例え
ばアニリン、Nーメチルアニリン、N,N−ジメチルア
ニリン、N−エチルアニリン、N−ブチルアニリン、N
−メチル−N−ブチルアニリン等)、あるいはへテロ原
子含有の環状窒素化合物(例えば、ピリジン、モルホリ
ン、ピペラジン、ピリジン等)〕或いは=NCH2−と
の分子内塩(−N+CH2PO3−H又は−N+CH2OP
O3 -H等)を表わし、これらの塩化合物は、分子中の酸
性基の一部あるいは全てが塩であってもよく、又形成す
る塩は同じでも異なってもよい。
【0021】上記一般式(II)におけるR1、R2は水素
原子又は置換基を有してもよく、互いに連結して環を形
成してもよい有機残基を示し、具体的には炭素数1〜1
8の置換されてもよいアルキル基、シクロアルキル基、
アルケニル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ
基、スルフィド基、アミノ基、ハロゲン基、シアノ基、
ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ホスホン
酸基、リン酸基、スルホン酸基(これら酸性基の塩を含
む)、アミド基、スルホンアミド基、エステル基、ウレ
ア基、ウレタン基等を表し、置換基としてアルコキシ
基、スルフィド基、アミノ基、ハロゲン基、シアノ基、
ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ホスホン
酸基、リン酸基、スルホン酸基(これら酸性基の塩を含
む)、アミド基、スルホンアミド基、エステル基、ウレ
ア基、ウレタン基等が挙げられる。さらに、R1 とR2
は互いに連結して置換基を有してもよい炭素数3〜22
の脂肪族環又は芳香族環を形成することができる。
原子又は置換基を有してもよく、互いに連結して環を形
成してもよい有機残基を示し、具体的には炭素数1〜1
8の置換されてもよいアルキル基、シクロアルキル基、
アルケニル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ
基、スルフィド基、アミノ基、ハロゲン基、シアノ基、
ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ホスホン
酸基、リン酸基、スルホン酸基(これら酸性基の塩を含
む)、アミド基、スルホンアミド基、エステル基、ウレ
ア基、ウレタン基等を表し、置換基としてアルコキシ
基、スルフィド基、アミノ基、ハロゲン基、シアノ基、
ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ホスホン
酸基、リン酸基、スルホン酸基(これら酸性基の塩を含
む)、アミド基、スルホンアミド基、エステル基、ウレ
ア基、ウレタン基等が挙げられる。さらに、R1 とR2
は互いに連結して置換基を有してもよい炭素数3〜22
の脂肪族環又は芳香族環を形成することができる。
【0022】RI、R2は、好ましくは水素原子又は炭素
数1〜14の置換されてもよいアキル基(例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、へプチル、へキシル、オクチル、デシル、ドデシ
ル、ヘキサデシル、オクタデシル、2−ヒドロキシエチ
ル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピ
ル、4−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシブチル、2
−メトキシエチル、2−ブトキシエチル、2−エトキシ
エチル、4−メトキシブチル、メチルチオエチル、メチ
ルチオブチル、2−アミノエチル、N,N′−ジメチル
アミノエチル、ピペリジノメチル、ピロリジノエチル、
2−クロロエチル、2−クロロブチル、2−ブロモエチ
ル、2−シアノエチル、4−シアノブチル、2−カルボ
キシエチル、カルボキシメチル、3−カルボキシプロピ
ル、3−モルホリノプロピル、2−モルホリノエチル、
2−スルホエチル、2−ピペリジノエチル、アミドメチ
ル、チオエチル、イミダゾリジドエチル、スルホンアミ
ドエチル、ホスホノプロピル、ホスホノメチルアミノエ
チル等)、
数1〜14の置換されてもよいアキル基(例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、へプチル、へキシル、オクチル、デシル、ドデシ
ル、ヘキサデシル、オクタデシル、2−ヒドロキシエチ
ル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピ
ル、4−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシブチル、2
−メトキシエチル、2−ブトキシエチル、2−エトキシ
エチル、4−メトキシブチル、メチルチオエチル、メチ
ルチオブチル、2−アミノエチル、N,N′−ジメチル
アミノエチル、ピペリジノメチル、ピロリジノエチル、
2−クロロエチル、2−クロロブチル、2−ブロモエチ
ル、2−シアノエチル、4−シアノブチル、2−カルボ
キシエチル、カルボキシメチル、3−カルボキシプロピ
ル、3−モルホリノプロピル、2−モルホリノエチル、
2−スルホエチル、2−ピペリジノエチル、アミドメチ
ル、チオエチル、イミダゾリジドエチル、スルホンアミ
ドエチル、ホスホノプロピル、ホスホノメチルアミノエ
チル等)、
【0023】炭素数2〜18の置換されてもよいアルケ
ニル基(例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル
基、ブテニル基、へキセニル基、へプテニル基、オクテ
ニル基等)、
ニル基(例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル
基、ブテニル基、へキセニル基、へプテニル基、オクテ
ニル基等)、
【0024】炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチル
メチル基、2−ナフチルエチル基、メトキシベンジル
基、エトキシベンジル基、メチルベンジル基等)、
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチル
メチル基、2−ナフチルエチル基、メトキシベンジル
基、エトキシベンジル基、メチルベンジル基等)、
【0025】炭素数5〜8の置換されてもよいシクロア
ルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基等)
ルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基等)
【0026】又は炭素数6〜12の置換されてもよいア
リール基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、ナフチル基、メトキシフェニル基、エ
トキシフェニル基、フルオロフェニル基、メチルクロロ
フェニル基、ジフルオロフェニル基、ブロモフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、メチルカ
ルボニルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
エトキシカルボニルフェニル基、メタンスルホニルフェ
ニル基、シアノフェニル基等)があげられる。
リール基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、ナフチル基、メトキシフェニル基、エ
トキシフェニル基、フルオロフェニル基、メチルクロロ
フェニル基、ジフルオロフェニル基、ブロモフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、メチルカ
ルボニルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
エトキシカルボニルフェニル基、メタンスルホニルフェ
ニル基、シアノフェニル基等)があげられる。
【0027】また、R1、R2が互いに連結して形成され
る環としては、好ましくは、炭素数3〜18の置換され
てもよい脂肪族環(例えば、シクロプロパン、シクロブ
タン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタ
ン、ビシクロ[2,2,1]ヘプテン、ビシクロ[2,
2,2]オクタン等)、炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族環(例えば、ベンゼン、ナフタレン、アント
ラセン、ピロール、ピリジン、イミダゾール、チオフェ
ン等)があげられ、置換基としては、R1,R2で記した
内容と同一のものを含む。
る環としては、好ましくは、炭素数3〜18の置換され
てもよい脂肪族環(例えば、シクロプロパン、シクロブ
タン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタ
ン、ビシクロ[2,2,1]ヘプテン、ビシクロ[2,
2,2]オクタン等)、炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族環(例えば、ベンゼン、ナフタレン、アント
ラセン、ピロール、ピリジン、イミダゾール、チオフェ
ン等)があげられ、置換基としては、R1,R2で記した
内容と同一のものを含む。
【0028】また、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は
前記R1、R2と同じ内容を表わす。
前記R1、R2と同じ内容を表わす。
【0029】上記一般式(III)において、好ましくは、
f1及びf2は、互いに同じでも異ってもよく、各々水素
原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ
素原子)、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基等)、−COOT1
又は−CH2COOT1{T1は炭素数1〜8のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数
7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル
基、3−フェニルプロピル基等)又は置換されてもよい
フェニル基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル
基、メトキシフェニル基等)を表わす}を表わす。
f1及びf2は、互いに同じでも異ってもよく、各々水素
原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ
素原子)、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基等)、−COOT1
又は−CH2COOT1{T1は炭素数1〜8のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数
7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル
基、3−フェニルプロピル基等)又は置換されてもよい
フェニル基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル
基、メトキシフェニル基等)を表わす}を表わす。
【0030】より好ましくは、f1及びf2のうちのいず
れか一方が水素原子を表わす。
れか一方が水素原子を表わす。
【0031】Yは、好ましくは−COO−、OCO−、
−CH2COO−、−CH2OCO−、−CONH−、−
CONHCONH−、−CONHCOO−又は−C6H4
−、−CON(k1)−を表わす。Yが−C6H4−を表
わす場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。置換
基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子
等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル基
等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
−CH2COO−、−CH2OCO−、−CONH−、−
CONHCONH−、−CONHCOO−又は−C6H4
−、−CON(k1)−を表わす。Yが−C6H4−を表
わす場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。置換
基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子
等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル基
等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
【0032】また、k1は、水素原子又は炭素数1〜1
2の炭化水素基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、へキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、2−メトキシエチル基、2−クロロエチル
基、2−シアノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、フェネチ
ル基、フェニル基、トリル基、クロロフェニル基、メト
キシフェニル基、ブチルフェニル基等)を表わす。Z
は、好ましくは二価の脂肪族基又は芳香族基を表わし、
脂肪族基として具体的には−(CH2)m1(m1は2〜
18の整数)、−CH2−C(g1)(g2)−(g1、g2
は、それぞれ水素原子又はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等
の炭素数1〜12のアルキル基を表わす。ただし、g1
とg2のいずれもが水素原子を表わす事はない)、−C
H(g3)−(CH2)m2−(g3は炭素数1〜12のア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、オクチル基等)を表わし、m2は
2〜18の整数を表わす)等が挙げられる。また、二価
の芳香族基としては、例えばベンゼン環基、ナフタレン
環基及び5又は6員の複素環基(複素環を構成するヘテ
ロ原子として、酸素原子、イオウ原子、窒素原子から選
ばれたへテロ原子を少なくとも1種含有する)が挙げら
れる。これらの芳香族基は置換基を有していてもよく、
例えばハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭
素原子等)、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基等)、炭素数1〜6のアルコキシ基(例えばメ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等)
が置換基の例として挙げられる。
2の炭化水素基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、へキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、2−メトキシエチル基、2−クロロエチル
基、2−シアノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、フェネチ
ル基、フェニル基、トリル基、クロロフェニル基、メト
キシフェニル基、ブチルフェニル基等)を表わす。Z
は、好ましくは二価の脂肪族基又は芳香族基を表わし、
脂肪族基として具体的には−(CH2)m1(m1は2〜
18の整数)、−CH2−C(g1)(g2)−(g1、g2
は、それぞれ水素原子又はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等
の炭素数1〜12のアルキル基を表わす。ただし、g1
とg2のいずれもが水素原子を表わす事はない)、−C
H(g3)−(CH2)m2−(g3は炭素数1〜12のア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、オクチル基等)を表わし、m2は
2〜18の整数を表わす)等が挙げられる。また、二価
の芳香族基としては、例えばベンゼン環基、ナフタレン
環基及び5又は6員の複素環基(複素環を構成するヘテ
ロ原子として、酸素原子、イオウ原子、窒素原子から選
ばれたへテロ原子を少なくとも1種含有する)が挙げら
れる。これらの芳香族基は置換基を有していてもよく、
例えばハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭
素原子等)、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基等)、炭素数1〜6のアルコキシ基(例えばメ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等)
が置換基の例として挙げられる。
【0033】複素環基としては、例えばフラン環、チオ
フェン環、ピリジン環、ピラジン環ピペラジン環、テト
ラヒドロフラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン
環、1,3−オキサゾリン環等が挙げられる。
フェン環、ピリジン環、ピラジン環ピペラジン環、テト
ラヒドロフラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン
環、1,3−オキサゾリン環等が挙げられる。
【0034】一般式(III)で表される重合体成分を含む
重合体〔B〕は、一般式(III)の重合体成分単独で形成
されていてもよく、さらには共重合体として少なくと
も、10重量%以上の一般式(III)の重合体成分を含有
していればよい。また好ましくは、40重量%上の一般
式(III)の重合体を含有する。組み合わされる重合体成
分としては、一般式(III)の重合体成分と共重合しうる
ものであればどのような化合物でもよいが好ましくは、
ビニル系モノマー例えば(メタ)アクリル系、(メタ)
アクリルアミド系、スチレン系、(メタ)アクリロニト
リルハロゲン化ビニル系、ビニルエーテル系、ビニルカ
ルボン酸エステル系、芳香族ビニル系等が挙げられる。
重合体〔B〕は、一般式(III)の重合体成分単独で形成
されていてもよく、さらには共重合体として少なくと
も、10重量%以上の一般式(III)の重合体成分を含有
していればよい。また好ましくは、40重量%上の一般
式(III)の重合体を含有する。組み合わされる重合体成
分としては、一般式(III)の重合体成分と共重合しうる
ものであればどのような化合物でもよいが好ましくは、
ビニル系モノマー例えば(メタ)アクリル系、(メタ)
アクリルアミド系、スチレン系、(メタ)アクリロニト
リルハロゲン化ビニル系、ビニルエーテル系、ビニルカ
ルボン酸エステル系、芳香族ビニル系等が挙げられる。
【0035】上記重合体〔A〕、〔B〕は重合平均分子
量が1×103以上であればよい好ましくは1×103以
上、1×106以下であり、より好ましくは、1×103
以上2X105以下である。
量が1×103以上であればよい好ましくは1×103以
上、1×106以下であり、より好ましくは、1×103
以上2X105以下である。
【0036】本発明の一般式(I)〜(III)で表される
化合物について具体例を表−1〜表−5に示す。但し本
発明の範囲は、これらに限定されるものではない。又、
具体例中のP1はホスホン酸メチル基(−CH2PO
3H2)、P2はリン酸メチル基(−CH2OPO3H2)を
表わす。
化合物について具体例を表−1〜表−5に示す。但し本
発明の範囲は、これらに限定されるものではない。又、
具体例中のP1はホスホン酸メチル基(−CH2PO
3H2)、P2はリン酸メチル基(−CH2OPO3H2)を
表わす。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】
【表3】
【0040】
【表4】
【0041】
【表5】
【0042】
【表6】
【0043】
【表7】
【0044】
【表8】
【0045】
【表9】
【0046】本発明の化合物はSYNTHESIS 81〜96(197
9)、「実験化学講座19」(丸善1957年刊)記載のシッ
フ塩基へのホスホン酸の付加反応、アルコールとオルト
リン酸の脱水縮合反応又はアルコールとオキシ塩化リン
の縮合反応等によりモノマー類を合成し単独重合又は各
種共重合モノマーとの共重合による方法ないしはベース
となるアミンオリゴマー(ポリエチレンイミン等)との
上記反応による高分子反応により合成することができ
る。さらに、本発明における各種オリゴマーの重量平均
分子量は水溶液で光散乱法(装置:大塚電子製SLS−
6000R)により求めることができる。
9)、「実験化学講座19」(丸善1957年刊)記載のシッ
フ塩基へのホスホン酸の付加反応、アルコールとオルト
リン酸の脱水縮合反応又はアルコールとオキシ塩化リン
の縮合反応等によりモノマー類を合成し単独重合又は各
種共重合モノマーとの共重合による方法ないしはベース
となるアミンオリゴマー(ポリエチレンイミン等)との
上記反応による高分子反応により合成することができ
る。さらに、本発明における各種オリゴマーの重量平均
分子量は水溶液で光散乱法(装置:大塚電子製SLS−
6000R)により求めることができる。
【0047】本発明の処理液を構成する物質の使用量
は、本処理液1000重量部中、亜鉛イオンとキレート
形成能を有する本発明の化合物10〜300重量部、よ
り好ましくは30〜100重量部である。また本発明の
化合物は単独で用いても2種以上を併用してもかまわな
い。
は、本処理液1000重量部中、亜鉛イオンとキレート
形成能を有する本発明の化合物10〜300重量部、よ
り好ましくは30〜100重量部である。また本発明の
化合物は単独で用いても2種以上を併用してもかまわな
い。
【0048】これらの化合物をイオン交換水又は水道水
に溶解させて本発明の処理液とする。処理液には上記成
分の他にpH調整剤として有機・無機の酸類、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム等の塩基性水酸化物、湿潤剤
としてエチレングリコール、ソルビトール、グリセリ
ン、アラビアゴム、ジプロピレングリコール、ジメチル
アセトアミド、へキシレングリコールブタンジオール、
ブチルセロソルブ、界面活性剤等、防腐剤としてサリチ
ル酸、フェノールパラ安息香酸ブチル、デヒドロ酢酸ナ
トリウム、4−イソチアゾリン−3−オン化合物、2−
ブロモ−2−ニトロ−1,3−プロパンジオール、クロ
ロアセトアミド、防錆剤としてEDTA、ピロリン酸、
メタリン酸、へキサメタリン酸、2−メルカプトベンズ
イミダゾール等を適当量添加して使用することが出来
る。また、処理液を使用するに当たり、処理液のpH値
は3〜6の範囲にするのが好ましい。又、本発明の処理
液は水で稀釈して湿し水としても使用出来る。
に溶解させて本発明の処理液とする。処理液には上記成
分の他にpH調整剤として有機・無機の酸類、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム等の塩基性水酸化物、湿潤剤
としてエチレングリコール、ソルビトール、グリセリ
ン、アラビアゴム、ジプロピレングリコール、ジメチル
アセトアミド、へキシレングリコールブタンジオール、
ブチルセロソルブ、界面活性剤等、防腐剤としてサリチ
ル酸、フェノールパラ安息香酸ブチル、デヒドロ酢酸ナ
トリウム、4−イソチアゾリン−3−オン化合物、2−
ブロモ−2−ニトロ−1,3−プロパンジオール、クロ
ロアセトアミド、防錆剤としてEDTA、ピロリン酸、
メタリン酸、へキサメタリン酸、2−メルカプトベンズ
イミダゾール等を適当量添加して使用することが出来
る。また、処理液を使用するに当たり、処理液のpH値
は3〜6の範囲にするのが好ましい。又、本発明の処理
液は水で稀釈して湿し水としても使用出来る。
【0049】
水 1000重量部 具体例番号B−1の重合体 80重量部 〔実施例2〕上記実施例1の化合物を具体例番号A−1
の重合体に変えた系。 〔実施例3〕上記実施例1の化合物を具体例番号B−5
の重合体に変えた系。 〔実施例4〕上記実施例1の化合物を具体例番号A−5
の重合体に変えた系。 〔比較例A〕上記実施例1の化合物をフィチン酸に変え
た系。 〔比較例B〕上記実施例1の化合物をポリビニルホスホ
ン酸に変えた系。 〔比較例C〕上記実施例1の化合物をポリアリルアミン
に変えた系。 〔比較例D〕上記実施例1の化合物をポリエチレンイミ
ンに変えた系。以上を充分溶解し、KOHを加えてpH
=4.3に調整した。これらを用いた実技評価結果を表
−6に示す。
の重合体に変えた系。 〔実施例3〕上記実施例1の化合物を具体例番号B−5
の重合体に変えた系。 〔実施例4〕上記実施例1の化合物を具体例番号A−5
の重合体に変えた系。 〔比較例A〕上記実施例1の化合物をフィチン酸に変え
た系。 〔比較例B〕上記実施例1の化合物をポリビニルホスホ
ン酸に変えた系。 〔比較例C〕上記実施例1の化合物をポリアリルアミン
に変えた系。 〔比較例D〕上記実施例1の化合物をポリエチレンイミ
ンに変えた系。以上を充分溶解し、KOHを加えてpH
=4.3に調整した。これらを用いた実技評価結果を表
−6に示す。
【0050】
【表10】
【0051】表−6に記した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。
下の通りである。
【0052】注1)地汚れ:ELP−Ix感材及び全自
動製版機ELP404V(富士写真フイルム(株)製)
を1昼夜常温・常湿(20℃、65%)に放置した後、
製版して複写画像を形成し、得られた複写原版を実施例
1〜4及び比較例A〜Dで調製した処理液を入れたエッ
チングマシーンに1回づつ通した。次に、これらの版を
ハマダ611XLA−II型印刷機(ハマダ(株)製)、
湿し水として実施例1の処理液を蒸留水で5倍に希釈し
たものを用いて印刷し、刷り出しから100枚目の印刷
物につき地汚れの有無を目視で評価した。
動製版機ELP404V(富士写真フイルム(株)製)
を1昼夜常温・常湿(20℃、65%)に放置した後、
製版して複写画像を形成し、得られた複写原版を実施例
1〜4及び比較例A〜Dで調製した処理液を入れたエッ
チングマシーンに1回づつ通した。次に、これらの版を
ハマダ611XLA−II型印刷機(ハマダ(株)製)、
湿し水として実施例1の処理液を蒸留水で5倍に希釈し
たものを用いて印刷し、刷り出しから100枚目の印刷
物につき地汚れの有無を目視で評価した。
【0053】注2)着肉性:地汚れ評価の場合と同様に
して複写原版を作成し、得られた複写原版を実施例1〜
4及び比較例A〜Dで調製した処理液を入れたエッチン
グマシーンに1回づつ通した。次に、これらの版を地汚
れ評価の場合と同様に印刷し、刷り出し10枚目の印刷
物の平網部での着肉状態を目視で評価した。
して複写原版を作成し、得られた複写原版を実施例1〜
4及び比較例A〜Dで調製した処理液を入れたエッチン
グマシーンに1回づつ通した。次に、これらの版を地汚
れ評価の場合と同様に印刷し、刷り出し10枚目の印刷
物の平網部での着肉状態を目視で評価した。
【0054】注3)ランニング性:地汚れ評価の場合と
同様にして複写原版を作成し、得られた複写原版200
0枚を実施例1〜4及び比較例A〜Dで調製した処理液
を入れたエッチングマシーンに1回づつ通した。その
後、2000枚目の版を地汚れの場合と同様に印刷及び
地汚れ評価及び沈澱発生等の処理液状態の評価を行っ
た。
同様にして複写原版を作成し、得られた複写原版200
0枚を実施例1〜4及び比較例A〜Dで調製した処理液
を入れたエッチングマシーンに1回づつ通した。その
後、2000枚目の版を地汚れの場合と同様に印刷及び
地汚れ評価及び沈澱発生等の処理液状態の評価を行っ
た。
【0055】注4)経時安定性:実施例1〜4及び比較
例A〜Dの不感脂化液を2週間のサーモ条件下(50
℃、80%RH)においた。その後、地汚れ評価の場合
と同様にして複写原版を作成し、これを上記不感脂化液
を入れたエッチングマシーンに1回通した。その後、地
汚れの場合と同様に印刷及び地汚れの評価を行った。
例A〜Dの不感脂化液を2週間のサーモ条件下(50
℃、80%RH)においた。その後、地汚れ評価の場合
と同様にして複写原版を作成し、これを上記不感脂化液
を入れたエッチングマシーンに1回通した。その後、地
汚れの場合と同様に印刷及び地汚れの評価を行った。
【0056】本発明の実施例1〜4の処理液は地汚れ、
着肉性共に良好で、比較例A、B、Cに比べ明らかに高
いレベルの性能を有している。ランニング性については
比較例A、Cでは処理液中に沈澱が生じ性能が低下する
が、本発明の処理液は2000版ランニングした後でも
沈澱などの発生がなく、初期と同等の性能を有してい
る。さらに、経時安定性も比較例A〜Dに比べ良好で、
長期間の保存にも十分耐えうる性能を持つ。以上のよう
に、環境条件、連続使用、長期保存に耐え、地汚れの出
ない不感脂化処理液は本発明の処理液のみであった。
着肉性共に良好で、比較例A、B、Cに比べ明らかに高
いレベルの性能を有している。ランニング性については
比較例A、Cでは処理液中に沈澱が生じ性能が低下する
が、本発明の処理液は2000版ランニングした後でも
沈澱などの発生がなく、初期と同等の性能を有してい
る。さらに、経時安定性も比較例A〜Dに比べ良好で、
長期間の保存にも十分耐えうる性能を持つ。以上のよう
に、環境条件、連続使用、長期保存に耐え、地汚れの出
ない不感脂化処理液は本発明の処理液のみであった。
【0057】なお、比較例Bで使用されたポリビニルホ
スホン酸は本発明の化合物とその構造が類似しているよ
うに見られ、p調整剤や沈澱防止剤等に使用できる添加
剤として知られている。しかし、その構造は窒素原子が
なく、さらにホスホン酸基がポリマー主鎖に近く自由度
が小さいことから遊離Zn2+と効率よくキレートを形成
することが難しく、キレート沈澱を形成することもなく
すなわち不感脂化処理液としてほとんど機能しないこと
によると考えられる。また、比較例C、Dで使用された
ポリアミン類も遊離Zn2+とほとんどキレート形成力は
なく不感脂化処理液としての使用は困難である。
スホン酸は本発明の化合物とその構造が類似しているよ
うに見られ、p調整剤や沈澱防止剤等に使用できる添加
剤として知られている。しかし、その構造は窒素原子が
なく、さらにホスホン酸基がポリマー主鎖に近く自由度
が小さいことから遊離Zn2+と効率よくキレートを形成
することが難しく、キレート沈澱を形成することもなく
すなわち不感脂化処理液としてほとんど機能しないこと
によると考えられる。また、比較例C、Dで使用された
ポリアミン類も遊離Zn2+とほとんどキレート形成力は
なく不感脂化処理液としての使用は困難である。
【0058】〔実施例5〜22〕実施例1における化合
物を以下の表−7に示す他の化合物に変更し、さらに添
加量を変えて実施例1と同様な評価項目を検討した。
物を以下の表−7に示す他の化合物に変更し、さらに添
加量を変えて実施例1と同様な評価項目を検討した。
【0059】
【表11】
【0060】実施例5〜22は実施例1と同様に地汚
れ、着肉性、環境変化、ランニング性、経時安定性共に
良好であった。
れ、着肉性、環境変化、ランニング性、経時安定性共に
良好であった。
【0061】〔実施例23〜38〕本発明の化合物を以
下の表−8に示すように数種組み合わせ、添加量を80
重量部に固定し、実施例1と同様にして地汚れ、着肉
性、ランニング性、経時安定性を評価した。
下の表−8に示すように数種組み合わせ、添加量を80
重量部に固定し、実施例1と同様にして地汚れ、着肉
性、ランニング性、経時安定性を評価した。
【0062】
【表12】
【0063】実施例23〜38は実施例1と同様に地汚
れ、着肉性、環境変化、ランニング性、経時安定性共に
良好であり、本発明の化合物は数種併用しても問題ない
ことを示す。
れ、着肉性、環境変化、ランニング性、経時安定性共に
良好であり、本発明の化合物は数種併用しても問題ない
ことを示す。
【0064】〔実施例39〜45〕実施例1と同組成の
処理液に表−9に示す種々の湿潤剤、防腐剤、防錆剤を
添加した処理液を実施例1と同様に種々の性能を評価し
た。
処理液に表−9に示す種々の湿潤剤、防腐剤、防錆剤を
添加した処理液を実施例1と同様に種々の性能を評価し
た。
【0065】
【表13】
【0066】実施例39〜45は実施例1と同様に地汚
れ、着肉性、環境変化、ランニング性、経時安定性共に
良好であり、本発明の不感脂化処理液は上記の種々の添
加剤を添加しても性能に影響しない。
れ、着肉性、環境変化、ランニング性、経時安定性共に
良好であり、本発明の不感脂化処理液は上記の種々の添
加剤を添加しても性能に影響しない。
【0067】〔実施例46〕本発明の化合物を含む処理
液を希釈して湿し水として用い、耐刷テストを行なっ
た。マスターの不感脂化処理は実施例1の処理液で行な
った。実施例1の処理液を蒸留水で5倍に希釈したもの
を湿し水として使用。 〔比較例E〕比較例Aの処理液を蒸留水で5倍に希釈し
たものを湿し水として使用。 〔比較例F〕比較例Cの処理液を蒸留水で5倍に希釈し
たものを湿し水として使用。表−10に実施例46及び
比較例E、Fの評価結果を示す。
液を希釈して湿し水として用い、耐刷テストを行なっ
た。マスターの不感脂化処理は実施例1の処理液で行な
った。実施例1の処理液を蒸留水で5倍に希釈したもの
を湿し水として使用。 〔比較例E〕比較例Aの処理液を蒸留水で5倍に希釈し
たものを湿し水として使用。 〔比較例F〕比較例Cの処理液を蒸留水で5倍に希釈し
たものを湿し水として使用。表−10に実施例46及び
比較例E、Fの評価結果を示す。
【0068】
【表14】
【0069】本発明の不感脂化処理液は比較例E、Fと
比較して地汚れが発生せず、湿し水として用いても高い
性能を有する。
比較して地汚れが発生せず、湿し水として用いても高い
性能を有する。
【0070】
【発明の効果】本発明によれば、公害に対して問題がな
く、長期保存、連続使用、環境変化に対して安定であ
り、さらにはエッチング処理時間を短縮することができ
る不感脂化処理性能にすぐれた平版印刷用不感脂化処理
液を提供することができる。また本発明の不感脂化処理
液を水で適宜希釈することにより、湿し水としても有効
に使用することができる。
く、長期保存、連続使用、環境変化に対して安定であ
り、さらにはエッチング処理時間を短縮することができ
る不感脂化処理性能にすぐれた平版印刷用不感脂化処理
液を提供することができる。また本発明の不感脂化処理
液を水で適宜希釈することにより、湿し水としても有効
に使用することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(I)で表される部分構造を少な
くとも2種以上含有する分岐及び架橋構造を有してもよ
い分子量1×103以上の非環状アミン及び/又はアン
モニウム化合物を少なくとも1種以上含有することを特
徴とする平版印刷用不感脂化処理液。 【化1】 式中R0は−PO3H2又は−OPO3H2又はその塩を表
わす。 - 【請求項2】 非環状アミン及び/又はアンモニウム化
合物が一般式(II)で表される重合体〔A〕であること
を特徴とする請求項1記載の平版印刷用不感脂化処理
液。 【化2】 式中、Xは>NCH2R0、>N−R7、O又はSを表わ
し、かつ少なくとも2個以上の>NCH2R0を有する。
また、上記R0は一般式(I)中のR0と同一の内容を表
わす。R1〜R7は、それぞれ置換基を有してもよく、さ
らに互いに連結して環を形成してもよい有機残基を表わ
す。さらに.上記一般式(II)中のn、l、fは、それ
ぞれ1以上10以下の整数を表わし、m、r、gは、そ
れぞれ0以上の整数を表わし、かつ重合体〔A〕の重量
平均分子量が1×103以上になる組み合わせを表わ
す。 - 【請求項3】 非環状アミン及び/又はアンモニウム化
合物が一般式(III)で表わされる重合体成分を含有する
重合体〔B〕であることを特徴とする請求項1記載の平
版印刷用不感脂化処理液。 【化3】 式中Wは下記の式 【化4】 を表わし(ただし、R8は一般式(II)中のR1〜R
7と、R0は一般式(I)中のR0 と同一の内容を表わ
す。) またZは連結基として2価の有機残基を表わす。さら
に、f1及びf2は互いに同じでも異なってもよく、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8
の炭化水素基、−COO−T1又は炭素数1〜8の炭化
水素基を介した−COO−T1(T1は炭素数1〜18の
炭化水素基を表す)をわ表す。Yは、単結合もしくは−
COO−、−OCO−、−(CH2)a−COO−、−
(CH2)b−OCO−(a、bは、それぞれ1〜3の整
数を表わす)、−CON(k1)−〔k1は水素原子また
は炭素数1〜12の炭化水素基を表わす〕、−CONH
CONH−、−CONHCOO−、−O−、−C6H4−
又は−SO2−を表す。hは1以上の整数で、かつ重合
体〔B〕の重量平均分子量が1×103以上になる値を
表わす。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8074674A JPH09263070A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 平版印刷用不感脂化処理液 |
US08/828,967 US5965660A (en) | 1996-03-28 | 1997-03-27 | Desensitizing solution for lithography |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8074674A JPH09263070A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 平版印刷用不感脂化処理液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09263070A true JPH09263070A (ja) | 1997-10-07 |
Family
ID=13554019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8074674A Pending JPH09263070A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 平版印刷用不感脂化処理液 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5965660A (ja) |
JP (1) | JPH09263070A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011051228A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Fujifilm Corp | 印刷用湿し水及び平版印刷版の印刷方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6096485A (en) * | 1998-10-22 | 2000-08-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Desensitizing solution for lithographic printing |
DE102004057294A1 (de) * | 2004-11-26 | 2006-06-01 | Basf Drucksysteme Gmbh | Verwendung von Polymeren, welche mit Säuregruppen modifizierte Aminogruppen aufweisen, zur Herstellung von Feuchtmitteln oder Feuchtmittelkonzentraten sowie in Feuchtmittelumläufen für den Offsetdruck |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1197974A (en) * | 1966-07-11 | 1970-07-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | A Photolithographic Printing Process |
US3803070A (en) * | 1966-10-14 | 1974-04-09 | Gestetner Ltd | Lithographic printing |
GB2103382B (en) * | 1981-06-23 | 1985-02-27 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Improvement in or relating to a lithographic printing plate |
US4510228A (en) * | 1982-04-22 | 1985-04-09 | Mitsubishi Paper Mills, Ltd. | Lithographic printing plate with gelatin layers having pH values below isoelectric point |
US4501811A (en) * | 1982-10-16 | 1985-02-26 | Mitsubishi Paper Mills, Ltd. | Process for making lithographic printing plates |
GB2161948B (en) * | 1984-05-29 | 1987-07-29 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Panchromatic silver halide photographic element |
DE3882179T3 (de) * | 1987-08-03 | 1997-07-10 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Zusatzmittel für lithographische Drucktinte. |
-
1996
- 1996-03-28 JP JP8074674A patent/JPH09263070A/ja active Pending
-
1997
- 1997-03-27 US US08/828,967 patent/US5965660A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011051228A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Fujifilm Corp | 印刷用湿し水及び平版印刷版の印刷方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5965660A (en) | 1999-10-12 |
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