JPH0925283A - シクロトリシロキサン及びその製造方法 - Google Patents
シクロトリシロキサン及びその製造方法Info
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- JPH0925283A JPH0925283A JP19901295A JP19901295A JPH0925283A JP H0925283 A JPH0925283 A JP H0925283A JP 19901295 A JP19901295 A JP 19901295A JP 19901295 A JP19901295 A JP 19901295A JP H0925283 A JPH0925283 A JP H0925283A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低温特性に優れたシリコーンオイルを合成す
るための出発原料として有用であり、低温特性に優れた
グリース、シーリング材等を得ることができる新規なシ
クロトリシロキサンを提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基又は
（メタ）アクリロイルオキシプロピル基であり、Ｒ2 は
メチル基又はフェニル基である）で表されるシクロトリ
シロキサン。
るための出発原料として有用であり、低温特性に優れた
グリース、シーリング材等を得ることができる新規なシ
クロトリシロキサンを提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基又は
（メタ）アクリロイルオキシプロピル基であり、Ｒ2 は
メチル基又はフェニル基である）で表されるシクロトリ
シロキサン。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、低温特性
に優れたグリース、シーリング材等に用いることができ
るシリコーンオイルを合成するための出発原料として有
用なトリメチルシロキシ基を有する新規なシクロトリシ
ロキサン及びその製造方法に関する。
に優れたグリース、シーリング材等に用いることができ
るシリコーンオイルを合成するための出発原料として有
用なトリメチルシロキシ基を有する新規なシクロトリシ
ロキサン及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、シクロトリシロキサンとしては、
例えば、下記一般式：
例えば、下記一般式：
【化３】 ［式中、Ｒ3 は独立に非置換又は置換の炭素原子数１〜
３のアルキル基であり、Ｘはシクロヘキシル基又は下記
一般式： −Ｃn Ｈ2n+1 （式中、ｎは４〜１５の整数である）で表されるアルキ
ル基である］で表されるものが知られている（特開平６
−２７９４６６号公報参照）。しかし、環を構成するケ
イ素原子に結合するトリメチルシロキシ基を有するシク
ロトリシロキサンは知られていない。
３のアルキル基であり、Ｘはシクロヘキシル基又は下記
一般式： −Ｃn Ｈ2n+1 （式中、ｎは４〜１５の整数である）で表されるアルキ
ル基である］で表されるものが知られている（特開平６
−２７９４６６号公報参照）。しかし、環を構成するケ
イ素原子に結合するトリメチルシロキシ基を有するシク
ロトリシロキサンは知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、環を
構成するケイ素原子に結合するトリメチルシロキシ基を
有する新規なシクロトリシロキサン及びその製造方法を
提供することにある。
構成するケイ素原子に結合するトリメチルシロキシ基を
有する新規なシクロトリシロキサン及びその製造方法を
提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、下記一
般式（１）：
般式（１）：
【化４】 （式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基又は
（メタ）アクリロイルオキシプロピル基であり、Ｒ2 は
メチル基又はフェニル基である）で表されるシクロトリ
シロキサンである。
ラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基又は
（メタ）アクリロイルオキシプロピル基であり、Ｒ2 は
メチル基又はフェニル基である）で表されるシクロトリ
シロキサンである。
【０００５】本発明の第二は、下記式（２）：
【化５】 で表されるシラノール基含有オルガノシロキサンと、下
記一般式（３）： Ｒ1 Ｒ2 ＳｉＣｌ2 （３） （式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記と同じである）で表される
ジクロロシランを塩酸捕捉剤の存在下に反応させる前記
一般式（１）に記載のシクロトリシロキサンの製造方法
である。
記一般式（３）： Ｒ1 Ｒ2 ＳｉＣｌ2 （３） （式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記と同じである）で表される
ジクロロシランを塩酸捕捉剤の存在下に反応させる前記
一般式（１）に記載のシクロトリシロキサンの製造方法
である。
【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。シクロトリシロキサン 本発明のシクロトリシロキサンは、前記一般式（１）で
表され、式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基、アリール
基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル
基又は（メタ）アクリロイルオキシプロピル基であり、
Ｒ2 はメチル基又はフェニル基である。前記Ｒ1 のアル
キル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert
−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ド
デシル基等の炭素原子数１〜１２のアルキル基が挙げら
れ、さらに代表的なものは炭素原子数１〜８のメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基である。
表され、式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基、アリール
基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル
基又は（メタ）アクリロイルオキシプロピル基であり、
Ｒ2 はメチル基又はフェニル基である。前記Ｒ1 のアル
キル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert
−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ド
デシル基等の炭素原子数１〜１２のアルキル基が挙げら
れ、さらに代表的なものは炭素原子数１〜８のメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基である。
【０００７】前記Ｒ1 のアリール基としては、例えば、
フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフ
ェニリル基等の炭素原子数６〜１８のアリール基が挙げ
られ、さらに代表的なものは炭素原子数６〜１２のフェ
ニル基、トリル基、ナフチル基である。前記Ｒ1 のアラ
ルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェニルエチ
ル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等の炭素
原子数７〜１２のアラルキル基が挙げられ、さらに代表
的なものは炭素原子数７〜９のベンジル基、フェニルプ
ロピル基である。
フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフ
ェニリル基等の炭素原子数６〜１８のアリール基が挙げ
られ、さらに代表的なものは炭素原子数６〜１２のフェ
ニル基、トリル基、ナフチル基である。前記Ｒ1 のアラ
ルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェニルエチ
ル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等の炭素
原子数７〜１２のアラルキル基が挙げられ、さらに代表
的なものは炭素原子数７〜９のベンジル基、フェニルプ
ロピル基である。
【０００８】前記Ｒ1 のハロゲン化アルキル基として
は、例えば、クロロメチル基、２−ブロモエチル基、３
−クロロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピ
ル基、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフル
オロヘキシル基等の炭素原子数１〜１２のハロゲン化ア
ルキル基が挙げられ、さらに代表的ものは炭素原子数１
〜６の３−クロロプロピル基、３，３，３−トリフルオ
ロプロピル基、３，３，４，４，５，５，６，６，６−
ノナフルオロヘキシル基である。
は、例えば、クロロメチル基、２−ブロモエチル基、３
−クロロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピ
ル基、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフル
オロヘキシル基等の炭素原子数１〜１２のハロゲン化ア
ルキル基が挙げられ、さらに代表的ものは炭素原子数１
〜６の３−クロロプロピル基、３，３，３−トリフルオ
ロプロピル基、３，３，４，４，５，５，６，６，６−
ノナフルオロヘキシル基である。
【０００９】前記Ｒ1 のアルケニル基としては、例え
ば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニ
ル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基、シ
クロヘキセニル基等の炭素原子数２〜１２のアルケニル
基が挙げられ、さらに代表的なものは炭素原子数２〜６
のビニル基、アリル基、ヘキセニル基である。
ば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニ
ル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基、シ
クロヘキセニル基等の炭素原子数２〜１２のアルケニル
基が挙げられ、さらに代表的なものは炭素原子数２〜６
のビニル基、アリル基、ヘキセニル基である。
【００１０】このようなＲ1 の中でもより低温特性に優
れたシリコーンオイルが得られる点で、水素原子、メチ
ル基、ビニル基、フェニル基が特に好ましい。本発明の
シクロトリシロキサンの具体例としては、特にこれらに
限定されるものではないが、例えば、下記式で表される
ものが挙げられる。
れたシリコーンオイルが得られる点で、水素原子、メチ
ル基、ビニル基、フェニル基が特に好ましい。本発明の
シクロトリシロキサンの具体例としては、特にこれらに
限定されるものではないが、例えば、下記式で表される
ものが挙げられる。
【００１１】
【化６】 （式中、Ｐｈはフェニル基である）
【００１２】シクロトリシロキサンの製造方法 本発明の製造方法は、前記式（２）で表されるシラノー
ル基含有オルガノシロキサンと、前記一般式（３）で表
されるジクロロシランを塩酸捕捉剤の存在下に反応させ
る方法である。前記ジクロロシランとしては、例えば、
メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチ
ルエチルジクロロシラン、メチルプロピルジクロロシラ
ン、メチルヘキシルジクロロシラン、メチルオクチルジ
クロロシラン、メチルデシルジクロロシラン、メチルド
デシルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラ
ン、ジフェニルジクロロシラン、メチルベンジルジクロ
ロシラン、（２−フェニルプロピル）メチルジクロロシ
ラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルジ
クロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、（メタ）
アクリロイルオキシプロピルメチルジクロロシラン、フ
ェニルジクロロシラン、エチルフェニルジクロロシラ
ン、ビニルフェニルジクロロシラン等が挙げられる。
ル基含有オルガノシロキサンと、前記一般式（３）で表
されるジクロロシランを塩酸捕捉剤の存在下に反応させ
る方法である。前記ジクロロシランとしては、例えば、
メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチ
ルエチルジクロロシラン、メチルプロピルジクロロシラ
ン、メチルヘキシルジクロロシラン、メチルオクチルジ
クロロシラン、メチルデシルジクロロシラン、メチルド
デシルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラ
ン、ジフェニルジクロロシラン、メチルベンジルジクロ
ロシラン、（２−フェニルプロピル）メチルジクロロシ
ラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルジ
クロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、（メタ）
アクリロイルオキシプロピルメチルジクロロシラン、フ
ェニルジクロロシラン、エチルフェニルジクロロシラ
ン、ビニルフェニルジクロロシラン等が挙げられる。
【００１３】前記ジクロロシランの使用量は、シラノー
ル基含有オルガノシロキサン１モル当たり、通常０．８
〜１．２モル、好ましくは０．９〜１．０モルである。
前記塩酸捕捉剤としては、塩酸と安定な塩を形成するも
のであれば特に制限はなく、例えば、アンモニア、ジメ
チルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等のアミン化
合物が挙げられる。前記塩酸捕捉剤の使用量は、前記ジ
クロロシラン１モル当たり、２〜３モル、好ましくは２
〜２．５モルである。前記シラノール基含有オルガノシ
ロキサンとジクロロシランの反応は、溶媒を用いなくて
も進行するが、溶媒を用いることにより収率良く本発明
のシクロトリシロキサンを得ることができる。前記溶媒
としては、前記シラノール基含有オルガノシロキサン及
びジクロロシランと相溶性がある溶媒であれば特に制限
はなく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサン等のエーテル系溶媒；トルエン；キシレ
ン；ヘキサン等の有機溶媒が挙げられ、これらは単独で
或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。反
応温度は、０〜２０℃が好ましく、温度をこの範囲に設
定することにより反応を良好に進行させることができ
る。反応時間は、所定の原料を反応容器に投入した後、
１０分〜４時間程度でよい。
ル基含有オルガノシロキサン１モル当たり、通常０．８
〜１．２モル、好ましくは０．９〜１．０モルである。
前記塩酸捕捉剤としては、塩酸と安定な塩を形成するも
のであれば特に制限はなく、例えば、アンモニア、ジメ
チルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等のアミン化
合物が挙げられる。前記塩酸捕捉剤の使用量は、前記ジ
クロロシラン１モル当たり、２〜３モル、好ましくは２
〜２．５モルである。前記シラノール基含有オルガノシ
ロキサンとジクロロシランの反応は、溶媒を用いなくて
も進行するが、溶媒を用いることにより収率良く本発明
のシクロトリシロキサンを得ることができる。前記溶媒
としては、前記シラノール基含有オルガノシロキサン及
びジクロロシランと相溶性がある溶媒であれば特に制限
はなく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサン等のエーテル系溶媒；トルエン；キシレ
ン；ヘキサン等の有機溶媒が挙げられ、これらは単独で
或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。反
応温度は、０〜２０℃が好ましく、温度をこの範囲に設
定することにより反応を良好に進行させることができ
る。反応時間は、所定の原料を反応容器に投入した後、
１０分〜４時間程度でよい。
【００１４】このようにして得られる本発明のシクロト
リシロキサンは、特に、低温特性に優れたグリース、シ
ーリング材等に用いることができるシリコーンオイルを
合成するための出発原料として有用である。
リシロキサンは、特に、低温特性に優れたグリース、シ
ーリング材等に用いることができるシリコーンオイルを
合成するための出発原料として有用である。
【００１５】
【実施例】実施例１ 四つ口フラスコにトリエチルアミン１６０ｇ（１．５８
モル）及びトルエン５００ｇを投入しこれらが均一にな
るように攪拌した。次にフラスコの内容物の温度を０〜
１０℃に保ちながら、フラスコ内に前記式（２）で表さ
れるシラノール基含有オルガノシロキサン２５０ｇ
（０．７９モル）をメチルエチルケトン２００ｇに溶解
した溶液、及びジメチルジクロロシラン１０２ｇ（０．
７９モル）をトルエン３５０ｇに溶解した溶液を同時に
２時間かけて滴下した。滴下終了後、フラスコの内容物
を１時間攪拌し、得られた反応混合物を水洗し、６４℃
（沸点）／２．５Torrで減圧蒸留して無色透明の液状の
反応生成物１６７ｇを得た（収率：５５％）。この反応
生成物は、ガスクロマトグラフ質量分析（以下、ＧＣ−
ＭＳ分析という）、 1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲ吸収測定の結
果、１，３−ビス（トリメチルシロキシ）−１，３，
５，５−テトラメチルシクロトリシロキサンであること
が確認された。なお、ＧＣ−ＭＳ分析、ＩＲ吸収及び 1
Ｈ−ＮＭＲ測定の結果を以下に示し、ＧＣ−ＭＳチャー
トを図１に、ＩＲチャートを図２に、 1Ｈ−ＮＭＲチャ
ートを図３に示す。 （ＧＣ−ＭＳ分析） ［Ｍ−ＣＨ3 ］+ ＝３５５ （ＩＲ吸収分析） １０２０ｃｍ-1 ： Ｓｉ−Ｏ １０８５ｃｍ-1 ： Ｏ−ＳｉＣＨ3 （ 1Ｈ−ＮＭＲ測定） δ０．１５〜０．５ ｐｐｍ（Ｓｉ−ＣＨ3 ３０Ｈ）
モル）及びトルエン５００ｇを投入しこれらが均一にな
るように攪拌した。次にフラスコの内容物の温度を０〜
１０℃に保ちながら、フラスコ内に前記式（２）で表さ
れるシラノール基含有オルガノシロキサン２５０ｇ
（０．７９モル）をメチルエチルケトン２００ｇに溶解
した溶液、及びジメチルジクロロシラン１０２ｇ（０．
７９モル）をトルエン３５０ｇに溶解した溶液を同時に
２時間かけて滴下した。滴下終了後、フラスコの内容物
を１時間攪拌し、得られた反応混合物を水洗し、６４℃
（沸点）／２．５Torrで減圧蒸留して無色透明の液状の
反応生成物１６７ｇを得た（収率：５５％）。この反応
生成物は、ガスクロマトグラフ質量分析（以下、ＧＣ−
ＭＳ分析という）、 1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲ吸収測定の結
果、１，３−ビス（トリメチルシロキシ）−１，３，
５，５−テトラメチルシクロトリシロキサンであること
が確認された。なお、ＧＣ−ＭＳ分析、ＩＲ吸収及び 1
Ｈ−ＮＭＲ測定の結果を以下に示し、ＧＣ−ＭＳチャー
トを図１に、ＩＲチャートを図２に、 1Ｈ−ＮＭＲチャ
ートを図３に示す。 （ＧＣ−ＭＳ分析） ［Ｍ−ＣＨ3 ］+ ＝３５５ （ＩＲ吸収分析） １０２０ｃｍ-1 ： Ｓｉ−Ｏ １０８５ｃｍ-1 ： Ｏ−ＳｉＣＨ3 （ 1Ｈ−ＮＭＲ測定） δ０．１５〜０．５ ｐｐｍ（Ｓｉ−ＣＨ3 ３０Ｈ）
【００１６】実施例２ 四つ口フラスコにトリエチルアミン２０２ｇ（２．０モ
ル）及びトルエン５００ｇを投入しこれらが均一になる
ように攪拌した。次にフラスコの内容物の温度を０〜１
０℃に保ちながら、フラスコ内に前記式（２）で表され
るシラノール基含有オルガノシロキサン３１４ｇ（１．
０モル）をトルエン１００ｇに溶解した溶液、及びビニ
ルメチルジクロロシラン１４１ｇ（１．０モル）をトル
エン２５０ｇに溶解した溶液を同時に２時間かけて滴下
した。滴下終了後、フラスコの内容物を３０分間攪拌
し、得られた反応混合物を水洗し、７４℃（沸点）／３
Torrで減圧蒸留して無色透明の液状の反応生成物１５６
ｇを得た（収率：４１％）。この反応生成物は、ＧＣ−
ＭＳ分析、 1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲ吸収測定の結果、１，
３−ビス（トリメチルシロキシ）−１，３，５−トリメ
チル−５−ビニルシクロトリシロキサンであることが確
認された。なお、ＧＣ−ＭＳ分析、ＩＲ吸収及び 1Ｈ−
ＮＭＲ測定の結果を以下に示し、ＩＲチャートを図４に
示す。 （ＧＣ−ＭＳ分析） ［Ｍ−ＣＨ3 ］+ ＝３６７ （ＩＲ吸収分析） １０２０ｃｍ-1 ： Ｓｉ−Ｏ １０８５ｃｍ-1 ： Ｏ−ＳｉＣＨ3 １５９５ｃｍ-1 ： Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 （ 1Ｈ−ＮＭＲ測定） δ０．１５〜０．５ ｐｐｍ（Ｓｉ−ＣＨ3 ２７Ｈ） δ５．５ 〜５．８ ｐｐｍ（Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 ３Ｈ）
ル）及びトルエン５００ｇを投入しこれらが均一になる
ように攪拌した。次にフラスコの内容物の温度を０〜１
０℃に保ちながら、フラスコ内に前記式（２）で表され
るシラノール基含有オルガノシロキサン３１４ｇ（１．
０モル）をトルエン１００ｇに溶解した溶液、及びビニ
ルメチルジクロロシラン１４１ｇ（１．０モル）をトル
エン２５０ｇに溶解した溶液を同時に２時間かけて滴下
した。滴下終了後、フラスコの内容物を３０分間攪拌
し、得られた反応混合物を水洗し、７４℃（沸点）／３
Torrで減圧蒸留して無色透明の液状の反応生成物１５６
ｇを得た（収率：４１％）。この反応生成物は、ＧＣ−
ＭＳ分析、 1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲ吸収測定の結果、１，
３−ビス（トリメチルシロキシ）−１，３，５−トリメ
チル−５−ビニルシクロトリシロキサンであることが確
認された。なお、ＧＣ−ＭＳ分析、ＩＲ吸収及び 1Ｈ−
ＮＭＲ測定の結果を以下に示し、ＩＲチャートを図４に
示す。 （ＧＣ−ＭＳ分析） ［Ｍ−ＣＨ3 ］+ ＝３６７ （ＩＲ吸収分析） １０２０ｃｍ-1 ： Ｓｉ−Ｏ １０８５ｃｍ-1 ： Ｏ−ＳｉＣＨ3 １５９５ｃｍ-1 ： Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 （ 1Ｈ−ＮＭＲ測定） δ０．１５〜０．５ ｐｐｍ（Ｓｉ−ＣＨ3 ２７Ｈ） δ５．５ 〜５．８ ｐｐｍ（Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ2 ３Ｈ）
【００１７】実施例３ 四つ口フラスコにトリエチルアミン３０．３ｇ（０．３
モル）及びトルエン１００ｇを投入しこれらが均一にな
るように攪拌した。次にフラスコの内容物の温度を０〜
５℃に保ちながら、フラスコ内に前記式（２）で表され
るシラノール基含有オルガノシロキサン４７．１ｇ
（０．１５モル）を１，４−ジオキサン６０ｇに溶解し
た溶液、及びメチルジクロロシラン１７．３ｇ（０．１
５モル）をトルエン１００ｇに溶解した溶液を同時に１
時間かけて滴下した。滴下終了後、フラスコの内容物を
１時間攪拌し、得られた反応混合物を水洗し、６０℃
（沸点）／３Torrで減圧蒸留して無色透明の液状の反応
生成物２１ｇを得た（収率：４０％）。この反応生成物
は、ＧＣ−ＭＳ分析、 1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲ吸収測定の
結果、１，３−ビス（トリメチルシロキシ）−１，３，
５−トリメチルシクロトリシロキサンであることが確認
された。なお、ＧＣ−ＭＳ分析、ＩＲ吸収及び 1Ｈ−Ｎ
ＭＲ測定の結果を以下に示し、ＩＲチャートを図５に示
す。 （ＧＣ−ＭＳ分析） ［Ｍ−Ｈ］+ ＝３５５ （ＩＲ吸収分析） １０２０ｃｍ-1 ： Ｓｉ−Ｏ １０８５ｃｍ-1 ： Ｏ−ＳｉＣＨ3 ２１５８ｃｍ-1 ： Ｓｉ−Ｈ （ 1Ｈ−ＮＭＲ測定） δ０．１５〜０．５ ｐｐｍ（Ｓｉ−ＣＨ3 ２７Ｈ） δ４．３ 〜４．６ ｐｐｍ（Ｓｉ−Ｈ １Ｈ）
モル）及びトルエン１００ｇを投入しこれらが均一にな
るように攪拌した。次にフラスコの内容物の温度を０〜
５℃に保ちながら、フラスコ内に前記式（２）で表され
るシラノール基含有オルガノシロキサン４７．１ｇ
（０．１５モル）を１，４−ジオキサン６０ｇに溶解し
た溶液、及びメチルジクロロシラン１７．３ｇ（０．１
５モル）をトルエン１００ｇに溶解した溶液を同時に１
時間かけて滴下した。滴下終了後、フラスコの内容物を
１時間攪拌し、得られた反応混合物を水洗し、６０℃
（沸点）／３Torrで減圧蒸留して無色透明の液状の反応
生成物２１ｇを得た（収率：４０％）。この反応生成物
は、ＧＣ−ＭＳ分析、 1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲ吸収測定の
結果、１，３−ビス（トリメチルシロキシ）−１，３，
５−トリメチルシクロトリシロキサンであることが確認
された。なお、ＧＣ−ＭＳ分析、ＩＲ吸収及び 1Ｈ−Ｎ
ＭＲ測定の結果を以下に示し、ＩＲチャートを図５に示
す。 （ＧＣ−ＭＳ分析） ［Ｍ−Ｈ］+ ＝３５５ （ＩＲ吸収分析） １０２０ｃｍ-1 ： Ｓｉ−Ｏ １０８５ｃｍ-1 ： Ｏ−ＳｉＣＨ3 ２１５８ｃｍ-1 ： Ｓｉ−Ｈ （ 1Ｈ−ＮＭＲ測定） δ０．１５〜０．５ ｐｐｍ（Ｓｉ−ＣＨ3 ２７Ｈ） δ４．３ 〜４．６ ｐｐｍ（Ｓｉ−Ｈ １Ｈ）
【００１８】実施例４ 四つ口フラスコにピリジン１０ｇ（１２８ミリモル）及
びトルエン５０ｇを投入しこれらが均一になるように攪
拌した。次にフラスコの内容物の温度を０〜１０℃に保
ちながら、フラスコ内に前記式（２）で表されるシラノ
ール基含有オルガノシロキサン２０ｇ（６４ミリモル）
をトルエン５０ｇに溶解した溶液、及びジフェニルジク
ロロシラン１６．１ｇ（６４ミリモル）をトルエン５０
ｇに溶解した溶液を同時に３０分間かけて滴下した。滴
下終了後、フラスコの内容物を１５分間攪拌し、得られ
た反応混合物を水洗し、１５０℃（沸点）／１Torrで減
圧蒸留して無色透明の液状の反応生成物２０ｇを得た
（収率：６５％）。この反応生成物は、ＧＣ−ＭＳ分
析、 1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲ吸収測定の結果、１，３−ビ
ス（トリメチルシロキシ）−５，５−ジフェニル−１，
３−ジメチルシクロトリシロキサンであることが確認さ
れた。なお、ＧＣ−ＭＳ分析、ＩＲ吸収及び 1Ｈ−ＮＭ
Ｒ測定の結果を以下に示す。
びトルエン５０ｇを投入しこれらが均一になるように攪
拌した。次にフラスコの内容物の温度を０〜１０℃に保
ちながら、フラスコ内に前記式（２）で表されるシラノ
ール基含有オルガノシロキサン２０ｇ（６４ミリモル）
をトルエン５０ｇに溶解した溶液、及びジフェニルジク
ロロシラン１６．１ｇ（６４ミリモル）をトルエン５０
ｇに溶解した溶液を同時に３０分間かけて滴下した。滴
下終了後、フラスコの内容物を１５分間攪拌し、得られ
た反応混合物を水洗し、１５０℃（沸点）／１Torrで減
圧蒸留して無色透明の液状の反応生成物２０ｇを得た
（収率：６５％）。この反応生成物は、ＧＣ−ＭＳ分
析、 1Ｈ−ＮＭＲ及びＩＲ吸収測定の結果、１，３−ビ
ス（トリメチルシロキシ）−５，５−ジフェニル−１，
３−ジメチルシクロトリシロキサンであることが確認さ
れた。なお、ＧＣ−ＭＳ分析、ＩＲ吸収及び 1Ｈ−ＮＭ
Ｒ測定の結果を以下に示す。
【００１９】 （ＧＣ−ＭＳ分析） ［Ｍ］+ ＝４９４ （ＩＲ吸収分析） １０２０ｃｍ-1 ： Ｓｉ−Ｏ １０８５ｃｍ-1 ： Ｏ−ＳｉＣＨ3 （ 1Ｈ−ＮＭＲ測定） δ０．２〜０．８ ｐｐｍ（Ｓｉ−ＣＨ3 ２４Ｈ） δ７．３〜７．８ ｐｐｍ（Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ5 １０Ｈ）
【００２０】実施例５ 乾燥窒素ガスで置換した四つ口フラスコ内に実施例１で
得られた１，３−ビス（トリメチルシロキシ）−１，
３，５，５−テトラメチルシクロトリシロキサン３０ｇ
（８０ミリモル）及びテトラヒドロフラン１００ｇを投
入した。次に、フラスコ内容物を０〜１０℃に保持し、
フラスコ内にリチウムトリメチルシラノレート０．９６
ｇ（１０ミリモル）をフラスコ内容物を攪拌しながら投
入した後、１０分間熟成を行った。次いで、フラスコ内
にトリメチルクロロシラン１．３ｇを添加してフラスコ
内容物を３０分間攪拌し、反応を停止した。得られた反
応生成物を水洗した後、溶媒を留去して無色透明のシリ
コーンオイルを得た（収率８０％）。得られたシリコー
ンオイルについて示差熱分析（ＤＳＣ）を行い、該シリ
コーンオイルの低温特性を評価した。結果を表１に示
す。なお、対照として、下記式： Ｍｅ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）85ＳｉＭｅ3 で表されるジメチルポリシロキサンの示差熱分析（ＤＳ
Ｃ）による低温特性を評価した。結果を表１に併記す
る。
得られた１，３−ビス（トリメチルシロキシ）−１，
３，５，５−テトラメチルシクロトリシロキサン３０ｇ
（８０ミリモル）及びテトラヒドロフラン１００ｇを投
入した。次に、フラスコ内容物を０〜１０℃に保持し、
フラスコ内にリチウムトリメチルシラノレート０．９６
ｇ（１０ミリモル）をフラスコ内容物を攪拌しながら投
入した後、１０分間熟成を行った。次いで、フラスコ内
にトリメチルクロロシラン１．３ｇを添加してフラスコ
内容物を３０分間攪拌し、反応を停止した。得られた反
応生成物を水洗した後、溶媒を留去して無色透明のシリ
コーンオイルを得た（収率８０％）。得られたシリコー
ンオイルについて示差熱分析（ＤＳＣ）を行い、該シリ
コーンオイルの低温特性を評価した。結果を表１に示
す。なお、対照として、下記式： Ｍｅ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）85ＳｉＭｅ3 で表されるジメチルポリシロキサンの示差熱分析（ＤＳ
Ｃ）による低温特性を評価した。結果を表１に併記す
る。
【００２１】
【表１】
【００２２】（評価）対照のジメチルポリシロキサン
は、示差熱分析により融点ピークが−３９℃及び−５１
℃に認められた。これに対し、本発明のシクロトリシロ
キサンから得られたシリコーンオイルは、融点ピークが
認められず、常温から低温領域まで固化することなく流
動性を示し、極めて低温特性に優れている。
は、示差熱分析により融点ピークが−３９℃及び−５１
℃に認められた。これに対し、本発明のシクロトリシロ
キサンから得られたシリコーンオイルは、融点ピークが
認められず、常温から低温領域まで固化することなく流
動性を示し、極めて低温特性に優れている。
【００２３】
【発明の効果】本発明のシクロトリシロキサンは新規の
化合物であり、低温特性に優れたシリコーンオイルを合
成するための出発原料として有用である。従って、本発
明によると、低温特性に優れたグリース、シーリング材
等を得ることができる。
化合物であり、低温特性に優れたシリコーンオイルを合
成するための出発原料として有用である。従って、本発
明によると、低温特性に優れたグリース、シーリング材
等を得ることができる。
【図１】 実施例１で得られたシクロトリシロキサンの
ＧＣ−ＭＳチャートである。
ＧＣ−ＭＳチャートである。
【図２】 実施例１で得られたシクロトリシロキサンの
ＩＲチャートである。
ＩＲチャートである。
【図３】 実施例１で得られたシクロトリシロキサンの
1Ｈ−ＮＭＲチャートである。
1Ｈ−ＮＭＲチャートである。
【図４】 実施例２で得られたシクロトリシロキサンの
ＩＲチャートである。
ＩＲチャートである。
【図５】 実施例３で得られたシクロトリシロキサンの
ＩＲチャートである。
ＩＲチャートである。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基又は
（メタ）アクリロイルオキシプロピル基であり、Ｒ2 は
メチル基又はフェニル基である）で表されるシクロトリ
シロキサン。 - 【請求項２】下記式（２）： 【化２】 で表されるシラノール基含有オルガノシロキサンと、下
記一般式（３）： Ｒ1 Ｒ2 ＳｉＣｌ2 （３） （式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基又は
（メタ）アクリロイルオキシプロピル基であり、Ｒ2 は
メチル基又はフェニル基である）で表されるジクロロシ
ランを塩酸捕捉剤の存在下に反応させる請求項１に記載
のシクロトリシロキサンの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07199012A JP3124910B2 (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | シクロトリシロキサン及びその製造方法 |
| US08/678,755 US5693735A (en) | 1995-07-12 | 1996-07-11 | Trimethylsiloxy group-containing polysiloxane and a process for producing the same |
| US08/923,082 US5852153A (en) | 1995-07-12 | 1997-09-04 | Trimethylsiloxy group-containing polysiloxane and a process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07199012A JP3124910B2 (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | シクロトリシロキサン及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0925283A true JPH0925283A (ja) | 1997-01-28 |
| JP3124910B2 JP3124910B2 (ja) | 2001-01-15 |
Family
ID=16400649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07199012A Expired - Fee Related JP3124910B2 (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | シクロトリシロキサン及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3124910B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013136662A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
-
1995
- 1995-07-12 JP JP07199012A patent/JP3124910B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013136662A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3124910B2 (ja) | 2001-01-15 |
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