JP4332708B2 - ビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法、並びにビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法 - Google Patents
ビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法、並びにビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4332708B2 JP4332708B2 JP2003155368A JP2003155368A JP4332708B2 JP 4332708 B2 JP4332708 B2 JP 4332708B2 JP 2003155368 A JP2003155368 A JP 2003155368A JP 2003155368 A JP2003155368 A JP 2003155368A JP 4332708 B2 JP4332708 B2 JP 4332708B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- bissilylamino
- formula
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- -1 Chlorosilane compound Chemical class 0.000 title claims description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 33
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 title claims description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- CVNCFZIIZGNVFD-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(trimethylsilyl)prop-2-en-1-amine Chemical compound C[Si](C)(C)N([Si](C)(C)C)CC=C CVNCFZIIZGNVFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 6
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 6
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 5
- BKYIFTSIWZUYBH-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]-n,n-bis(trimethylsilyl)propan-1-amine Chemical compound C[Si](C)(C)N([Si](C)(C)C)CCC[Si](C)(Cl)Cl BKYIFTSIWZUYBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical compound CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFOVZRKWLMSDSL-UHFFFAOYSA-N 3-[chloro(dimethyl)silyl]-n,n-bis(trimethylsilyl)propan-1-amine Chemical compound C[Si](C)(C)N([Si](C)(C)C)CCC[Si](C)(C)Cl AFOVZRKWLMSDSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POFAUXBEMGMSAV-UHFFFAOYSA-N [Si].[Cl] Chemical group [Si].[Cl] POFAUXBEMGMSAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N (3S)-octan-3-ol Natural products CCCCCC(O)CC NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1-hexanol Natural products CCCCC(O)CCC WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHNHFOGQMKPOV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-amine Chemical compound CCCCC(CC)CN LTHNHFOGQMKPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTYFYRHAWNJIQM-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(dimethyl)silyl]-n,n-bis(trimethylsilyl)propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCN([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C BTYFYRHAWNJIQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUFBOKVOZQUQOJ-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]-n,n-bis(trimethylsilyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCN([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C GUFBOKVOZQUQOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGHVWMDDCKVWHW-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilyl-n,n-bis(trimethylsilyl)propan-1-amine Chemical compound C[Si](C)(C)N([Si](C)(C)C)CCC[Si](Cl)(Cl)Cl JGHVWMDDCKVWHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNIUGHSZXXYXER-UHFFFAOYSA-N [Pt].ClC1=C(Cl)C=CCCCC1 Chemical compound [Pt].ClC1=C(Cl)C=CCCCC1 FNIUGHSZXXYXER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- ISRXMEYARGEVIU-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-propan-2-ylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)N(C)C(C)C ISRXMEYARGEVIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、シランカップリング剤、表面処理剤、アミノプロピル変性シリコーンオイル等の製造原料などとして有用な、新規なビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法、並びにビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
アミノプロピルトリアルコキシシラン、アミノプロピルメチルジアルコキシシラン等のアミノプロピルアルコキシシランや、特開平10−17579号公報(特許文献1)記載のビスシリルアミノ基を有するアルコキシシラン化合物は、シランカップリング剤や表面処理剤などとして広く用いられている。
【0003】
これらのアミノプロピルアルコキシシラン及びビスシリルアミノ基を有するアルコキシシラン化合物は、シリカや基盤の表面の水酸基と前記化合物中のアルコキシシリル基とが脱アルコール縮合することにより、アミノプロピル基が導入されて、その目的が達成される。しかしながら、この場合、アルコキシシリル基と水酸基との反応が速くないため、定量的に水酸基をシリル化することは困難であった。
【0004】
この問題を解決する手段として、クロロシラン化合物を用いる方法が挙げられる。しかし、1級アミノ基を有しているクロロシラン化合物は、アミノ基とケイ素−塩素基で反応してしまうために存在し得ず、このため、クロロシラン化合物を用いたのでは、目的とするアミノプロピル基の導入が満足にできないという問題があった。
【0005】
従って、上記問題がなく、目的とするアミノプロピル基を容易にかつ効率良く導入することができ、シランカップリング剤、表面処理剤等として、更にはアミノプロピル変性シリコーンオイルの合成原料などとして使用することができるシラン化合物の開発が望まれていた。
【0006】
【特許文献1】
特開平10−17579号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、目的とするアミノプロピル基を簡単にかつ効率良く導入することができる新規なクロロシラン化合物及びその製造方法、並びにこの化合物を用いたビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、N,N−ビストリメチルシリルアリルアミンと下記一般式(2)
HSi(CH3)nCl3-n (2)
(但し、式中、nは0又は1である。)
で示されるハイドロジェンクロロシラン化合物とを白金触媒下で反応させることにより得られる下記一般式(1)
[(CH3)3Si]2NCH2CH2CH2Si(CH3)nCl3-n (1)
(但し、式中、nは0又は1である。)
で示されるビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物が、目的とするアミノプロピル基を導入することのできるクロロシラン化合物として有用であることを見出した。
【0009】
更に、本発明者は、下記一般式(1)
[(CH3)3Si]2NCH2CH2CH2Si(CH3) n Cl3- n (1)
(但し、式中、nは0又は1である。)
で示されるビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物に下記一般式(3)
ROH (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基である。)
で示される化合物を反応させてオルガノオキシ化することにより、下記一般式(4)
[(CH3)3Si]2NCH2CH2CH2Si(CH3) n (OR)3- n (4)
(式中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を示し、nは0又は1である。)
で示されるビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物を簡単かつ高収率で製造できることを知見した。
【0010】
即ち、上記一般式(1)の化合物は、アミノ基上の水素原子がトリメチルシリル基で置換されているため、クロロシランとして安定に存在でき、この化合物を用いてシリカや基盤を処理すると、定量的にシリカや基盤表面の水酸基と反応させることができる。更に、その反応後にトリメチルシリル基と窒素の結合を加水分解するとアミノ基が再生され、目的とするアミノプロピル基が導入されて、シランカップリング剤や表面処理剤などとしての目的を達成できることを見出した。
【0011】
更に、上記式(1’)のビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物は、上記したように式(3)のアルコールと反応させると、特許文献1に記載されているアミノプロピル変性シリコーンオイルの合成中間原料やシランカップリング剤、表面処理剤として有用な上記一般式(4)で示されるビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物に容易に変換することができることを知見し、本発明を完成するに至ったものである。
【0012】
なお、本発明のビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法は、本出願人が提案した特許文献1記載の製造方法と比較しても、
(i)不安定で扱いづらいハイドロジェンアルコキシシランを用いなくても製造できる。
(ii)種々のアルコキシシランを製造することができる。
という点で工業的に有用である。
【0013】
従って、本発明は、
(i)上記一般式(1)で示されるビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物、
(ii)N,N−ビストリメチルシリルアリルアミンと上記一般式(2)で示されるハイドロジェンクロロシラン化合物とを白金触媒下反応させることを特徴とする、上記一般式(1)で示されるビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物の製造方法、及び
(iii)上記一般式(1)で示されるビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物に上記一般式(3)で示される化合物を反応させ、オルガノオキシ化することを特徴とする、上記一般式(4)で示されるビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法
を提供する。
【0014】
以下、本発明につき、更に詳しく説明すると、本発明のビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物は、下記一般式(1)
[(CH3)3Si]2NCH2CH2CH2Si(CH3)nCl(3-n) (1)
(但し、上記式中、nは0又は1である。)
で示されるもので、この式(1)で示されるビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物として具体的には、N,N−ビストリメチルシリルアミノプロピルメチルジクロロシラン、N,N−ビストリメチルシリルアミノプロピルトリクロロシランが挙げられる。
【0015】
また、本発明における上記一般式(1)で示されるビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物の製造方法としては、例えばN,N−ビストリメチルシリルアリルアミンと下記一般式(2)
HSi(CH3)nCl3-n (2)
(但し、式中、nは0又は1である。)
で示されるハイドロジェンクロロシラン化合物とを白金触媒下反応させる方法が例示される。
【0016】
上記反応で用いられる上記一般式(2)で示されるハイドロジェンクロロシラン化合物は、具体的にはメチルジクロロシラン、トリクロロシランである。
【0017】
上記反応で用いられるN,N−ビストリメチルシリルアリルアミンと上記一般式(2)で示されるハイドロジェンクロロシラン化合物との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、N,N−ビストリメチルシリルアリルアミン1モルに対しハイドロジェンクロロシラン化合物が0.5〜2モル、特に0.8〜1.2モルの範囲が好ましい。
【0018】
また、上記反応で用いられる白金触媒としては、白金族金属を含有する触媒が用いられ、具体的には塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン又はキシレン溶液、テトラキストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビスアセトニトリル白金、ジクロロビスベンゾニトリル白金、ジクロロシクロオクタジエン白金等が例示される。
【0019】
白金触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、N,N−ビストリメチルシリルアリルアミン1モルに対し、白金金属換算で0.000001〜0.01モル、特に0.00001〜0.001モルの範囲が好ましい。
【0020】
上記反応の反応温度は特に限定されないが、0〜120℃、特に20〜100℃が好ましく、1〜20時間程度の反応時間が好ましい。
【0021】
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒などが例示される。これらの溶媒は単独で使用してもよく、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。なお、溶媒の使用量は通常量とすることができる。
【0022】
本発明の上記式(1)のビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物は、アミノ基上の水素原子がトリメチルシリル基で置換されていることから、アミノ基とケイ素−塩素基で反応してしまうことがなく、クロロシランとして安定に存在でき、この化合物を用いてシリカや基盤を処理すると、定量的にシリカや基盤表面の水酸基と反応させることができる。更に、その反応後にトリメチルシリル基と窒素の結合を加水分解することにより、アミノ基が再生され、目的とするアミノプロピル基をシリカや基盤表面などに導入することができる。
【0023】
上記一般式(1)で示される化合物は、上記のようにその物質自体有用なものであるが、下記一般式(1)
[(CH3)3Si]2NCH2CH2CH2Si(CH3) n Cl3- n (1)
(但し、式中、nは0又は1である。)
で示される化合物を上記一般式(3)で示される化合物と反応させることにより、下記一般式(4)
[(CH3)3Si]2NCH2CH2CH2Si(CH3) n (OR)3- n (4)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を示し、nは0又は1である。)
で示されるビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物が得られ、このオルガノオキシシラン化合物は、アミノプロピル変性シリコーンオイルの合成中間原料等として有用である。
【0024】
ここで、上記ビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物を製造するための反応において用いられる化合物は、下記一般式(3)
ROH (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を示す。)
で示されるものである。
【0025】
上記式(3)で示される化合物の具体例としては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−ヘキサノール等のアルコールの他、フェノール、ベンジルアルコール、アリルアルコール等が例示されるが、特にメタノール、エタノールが好適に使用される。
【0026】
上記式(3)の化合物の使用量は、上記式(1)の化合物のSi−Cl結合1モルに対して0.5〜2.0モル、特に0.8〜1.2モルが好ましい。
【0027】
また、上記オルガノオキシ化反応において、反応中に生成する塩化水素を捕捉するために、塩基性化合物を反応系中に存在させて反応を行ってもよい。塩基性化合物の具体例としては、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルジイソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、2−エチルヘキシルアミン、エチレンジアミン、ピロリジン、N−メチルピロリジン、ピペリジン、N−メチルピペリジン、アニリン、n−メチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、トルイジン等のアミン化合物、ピリジン、キノリン、イソキノリン、ピコリン、ルチジン等の含窒素芳香族化合物、アンモニア、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド化合物などが例示される。
【0028】
上記塩基性化合物の添加量は、上記式(1)の化合物のSi−Cl結合1モルに対して0.5〜2.0モル、特に0.8〜1.2モルが好ましい。
【0029】
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒などが例示される。これらの溶媒は単独で使用してもよく、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。溶媒の使用量は通常量の範囲とすることができる。
【0030】
更に、上記反応条件は特に限定されないが、−20〜150℃、特に0〜100℃で1〜20時間、特に2〜10時間とすることができる。
【0031】
【実施例】
以下、実施例と比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【0032】
[実施例1]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N,N−ビストリメチルシリルアリルアミン60.5g(0.3mol)、白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.20gを仕込み、メチルジクロロシラン36.2g(0.315mol)を内温60〜70℃で2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点73〜74℃/40Paの留分を81.8g得た。
【0033】
得られた留分の質量スペクトル、核磁気共鳴スペクトル(1H−NMRスペクトル)、赤外線吸収スペクトル(IRスペクトル)を測定したところ、下記の結果が得られた。
質量スペクトル:m/z 315, 192, 174, 73, 59
1H−NMRスペクトル(重ベンゼン溶媒):図1にチャートで示す。
IRスペクトル:図2にチャートで示す。
【0034】
以上の結果より、得られた化合物はN,N−ビストリメチルシリルアミノプロピルメチルジクロロシランであることが確認された。
【0035】
[実施例2]
実施例1により得られたN,N−ビストリメチルシリルアミノプロピルメチルジクロロシラン63.3g(0.20mol)、トリエチルアミン22.3g(0.44mol)、トルエン120mlを仕込み、メタノール14.1g(0.44mol)を20〜30℃で2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌を行った。その後、水60gを加え、生じたトリエチルアミン塩酸塩を溶解後分液し、有機層を蒸留し、沸点115〜120℃/0.67kPaの留分を58.0g得た。得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトル測定より、この留分はビストリメチルシリルアミノプロピルメチルジメトキシシランであると同定された(収率94%)。
【0036】
[実施例3]
実施例1により得られたN,N−ビストリメチルシリルアミノプロピルメチルジクロロシラン63.3g(0.20mol)、トリエチルアミン22.3g(0.44mol)、トルエン120mlを仕込み、エタノール20.3g(0.44mol)を20〜30℃で2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌を行った。その後、水60gを加え、生じたトリエチルアミン塩酸塩を溶解後分液し、有機層を蒸留し、沸点94〜95℃/0.13kPaの留分を63.9g得た。得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトル測定より、この留分はビストリメチルシリルアミノプロピルメチルジエトキシシランと同定された(収率95%)。
【0037】
[参考例1]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N,N−ビストリメチルシリルアミノプロピルジメチルクロロシラン592.2g(2.0mol)、トリエチルアミン222.6g(2.2mol)、トルエン800mlを仕込み、メタノール70.4g(2.2mol)を20〜30℃で2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌を行った。その後、水300gを加え、生じたトリエチルアミン塩酸塩を溶解後分液した。有機層を蒸留し、沸点90℃/0.4kPaの留分を537.8g得た。得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトル測定より、この留分はN,N−ビストリメチルシリルアミノプロピルジメチルメトキシシランであると同定された(収率92%)。
【0038】
[参考例2]
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N,N−ビストリメチルシリルアミノプロピルジメチルクロロシラン148.1g(0.5mol)、トリエチルアミン55.7g(0.55mol)、トルエン200mlを仕込み、エタノール25.4g(0.55mol)を20〜30℃で2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌を行った。その後、水75gを加え、生じたトリエチルアミン塩酸塩を溶解後分液し、有機層を蒸留し、沸点98〜102℃/0.4kPaの留分を134.5g得た。得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトル測定より、この留分はN,N−ビストリメチルシリルアミノプロピルジメチルエトキシシランと同定された(収率88%)。
【0039】
【発明の効果】
本発明の新規なビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物は、シランカップリング剤、表面処理剤等として有用であり、更に、上記式(3)で示される化合物と反応させることにより、容易かつ高収率に、アミノプロピル変性シリコーンオイル等の合成中間体として有用なビスシリル基を有するオルガノオキシシシラン化合物に変換でき、合成中間体としても有用である。本発明の製造方法によれば、上記ビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物を工業的に有利に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルのチャートである。
【図2】実施例1で得られた化合物の赤外線吸収スペクトルのチャートである。
Claims (3)
- 下記一般式(1)で示されるビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物。
[(CH3)3Si]2NCH2CH2CH2Si(CH3)nCl3-n (1)
(但し、式中、nは0又は1である。) - N,N−ビストリメチルシリルアリルアミンと下記一般式(2)
HSi(CH3)nCl3-n (2)
(但し、式中、nは0又は1である。)
で示されるハイドロジェンクロロシラン化合物とを白金触媒下反応させることを特徴とする、請求項1記載のビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物の製造方法。 - 下記一般式(1)
[(CH3)3Si]2NCH2CH2CH2Si(CH3) n Cl3- n (1)
(但し、式中、nは0又は1である。)
で示されるビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物に下記一般式(3)
ROH (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基である。)
で示される化合物を反応させ、オルガノオキシ化することを特徴とする、下記一般式(4)
[(CH3)3Si]2NCH2CH2CH2Si(CH3) n (OR)3- n (4)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基を示し、nは0又は1である。)
で示されるビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003155368A JP4332708B2 (ja) | 2003-05-30 | 2003-05-30 | ビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法、並びにビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法 |
US10/854,180 US7202375B2 (en) | 2003-05-30 | 2004-05-27 | Bissilylamino group-bearing chlorosilane compound and preparation method, and method of preparing bissilylamino group-bearing organooxysilane compound |
DE602004015670T DE602004015670D1 (de) | 2003-05-30 | 2004-06-01 | Bis(trimethylsilyl)amino-substituierte Chlorsilane |
EP04253241A EP1481980B1 (en) | 2003-05-30 | 2004-06-01 | Bis(trimethylsilyl)aminopropyl substituted chlorosilanes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003155368A JP4332708B2 (ja) | 2003-05-30 | 2003-05-30 | ビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法、並びにビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004352695A JP2004352695A (ja) | 2004-12-16 |
JP4332708B2 true JP4332708B2 (ja) | 2009-09-16 |
Family
ID=33128330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003155368A Expired - Lifetime JP4332708B2 (ja) | 2003-05-30 | 2003-05-30 | ビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法、並びにビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7202375B2 (ja) |
EP (1) | EP1481980B1 (ja) |
JP (1) | JP4332708B2 (ja) |
DE (1) | DE602004015670D1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4788877B2 (ja) * | 2005-06-14 | 2011-10-05 | 信越化学工業株式会社 | トリオルガノシリルアミノ基を有するかご状オリゴシロキサン |
EP2160414B1 (en) | 2007-06-18 | 2017-05-10 | Bridgestone Corporation | Polymers functionalized with halosilanes containing an amino group |
JP5257656B2 (ja) * | 2008-04-03 | 2013-08-07 | 日立化成株式会社 | 電子部品装置の封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 |
CN105199107A (zh) * | 2015-11-09 | 2015-12-30 | 齐齐哈尔大学 | 一种新型氨基硅油的合成方法 |
JP6531656B2 (ja) * | 2016-01-19 | 2019-06-19 | 信越化学工業株式会社 | 含窒素オルガノキシシラン化合物の製造方法 |
JP6767182B2 (ja) * | 2016-07-01 | 2020-10-14 | 信越化学工業株式会社 | アミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンを含む乳化組成物 |
JP6702136B2 (ja) * | 2016-10-28 | 2020-05-27 | 信越化学工業株式会社 | ビスシリルアミノ基を有するシラン化合物の製造方法 |
EP3577123B1 (de) * | 2018-02-06 | 2020-04-15 | Wacker Chemie AG | Verfahren zur herstellung von aminopropylalkoxysilanen |
JP7047809B2 (ja) * | 2019-04-17 | 2022-04-05 | 信越化学工業株式会社 | ビスシリルアミノ基含有有機ポリシラザン化合物及びその製造方法並びにこれを含む組成物及び硬化物 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2762823A (en) * | 1953-12-17 | 1956-09-11 | Dow Corning | Organosiloxane amines |
JP3414134B2 (ja) | 1996-07-01 | 2003-06-09 | 信越化学工業株式会社 | N,n−ビス(トリメチルシリル)アミノプロピルシラン化合物及びその製造方法 |
-
2003
- 2003-05-30 JP JP2003155368A patent/JP4332708B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-05-27 US US10/854,180 patent/US7202375B2/en active Active
- 2004-06-01 EP EP04253241A patent/EP1481980B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-06-01 DE DE602004015670T patent/DE602004015670D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1481980A1 (en) | 2004-12-01 |
US7202375B2 (en) | 2007-04-10 |
JP2004352695A (ja) | 2004-12-16 |
EP1481980B1 (en) | 2008-08-13 |
DE602004015670D1 (de) | 2008-09-25 |
US20040242911A1 (en) | 2004-12-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4332708B2 (ja) | ビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法、並びにビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法 | |
JP2003532734A (ja) | 第二級アミノイソブチルアルコキシシラン類の調製 | |
JP5652829B2 (ja) | 無水条件におけるシラノールの製造方法 | |
JPS6320834B2 (ja) | ||
JP4655790B2 (ja) | ケイ素化合物 | |
JPH0371436B2 (ja) | ||
JP4344936B2 (ja) | 両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JP4257515B2 (ja) | 1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンの製造方法 | |
JP3915875B2 (ja) | N−置換−3−シリルプロピルアミン類及びその誘導体の製造方法 | |
JP2002020392A (ja) | N−アルケニルアザシラシクロペンタン、およびその製造方法 | |
JPH11209385A (ja) | 1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンの製造方法 | |
JP4433168B2 (ja) | 保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物 | |
JP4336970B2 (ja) | 保護されたカルボキシル基を有するシラン化合物及びその製造方法 | |
JPH11322766A (ja) | ビス(3−アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼン化合物の製造方法 | |
JP2002012597A (ja) | 有機ケイ素化合物 | |
JP3124910B2 (ja) | シクロトリシロキサン及びその製造方法 | |
JPH06107671A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
JP2980250B2 (ja) | 3−(2−オキソ−1−ピロリジニル)プロピルシラン化合物の製造方法 | |
JP2512348B2 (ja) | ブタジエニル基含有シロキサン化合物及びその製造方法 | |
JPH0474187A (ja) | フタルイミド基を有するシラン | |
JPH0786116B2 (ja) | シラン化合物およびその製造方法 | |
US9139603B2 (en) | [3-(2-norbornyl)-2-norbornyl]silane compound and making method | |
KR100765342B1 (ko) | 시아노아세톡시기가 치환된 실리콘 결합제의 제조방법과 그 제조물 | |
JPS6340437B2 (ja) | ||
JPH08157487A (ja) | シクロテトラシロキサンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090326 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090527 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090609 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4332708 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150703 Year of fee payment: 6 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |