JPH09152717A - ノズル待機装置 - Google Patents
ノズル待機装置Info
- Publication number
- JPH09152717A JPH09152717A JP7312513A JP31251395A JPH09152717A JP H09152717 A JPH09152717 A JP H09152717A JP 7312513 A JP7312513 A JP 7312513A JP 31251395 A JP31251395 A JP 31251395A JP H09152717 A JPH09152717 A JP H09152717A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- developing solution
- pot
- discharge nozzle
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 液滴の除去効果に優れ、しかも現像液の劣化
を生じることなく、ノズルの洗浄が行える、ノズル待機
装置を提供することである。 【解決手段】 ノズルポット８０１は、現像処理の終了
した現像液吐出ノズル６０１を収納する。洗浄ノズル８
０２は、ノズルポット８０１内の現像液吐出ノズル８０
１の外周面に対して洗浄液を吐出することにより、現像
液吐出ノズル８０１の外周面に付着した汚れを洗浄す
る。また、ノズルポット８０１内には、配管８０５を介
して窒素ガスが供給される。さらに、ノズルポット８０
１の底部に設けられたドレイン管８０１ａを介して、外
部の吸引装置によりノズルポット内の気体が吸引され
る。これによって、ノズルポット８０１内で気体流が形
成され、当該気体流の流圧によって現像液吐出ノズル６
０１の外周面に付着した液滴が吸引除去される。
を生じることなく、ノズルの洗浄が行える、ノズル待機
装置を提供することである。 【解決手段】 ノズルポット８０１は、現像処理の終了
した現像液吐出ノズル６０１を収納する。洗浄ノズル８
０２は、ノズルポット８０１内の現像液吐出ノズル８０
１の外周面に対して洗浄液を吐出することにより、現像
液吐出ノズル８０１の外周面に付着した汚れを洗浄す
る。また、ノズルポット８０１内には、配管８０５を介
して窒素ガスが供給される。さらに、ノズルポット８０
１の底部に設けられたドレイン管８０１ａを介して、外
部の吸引装置によりノズルポット内の気体が吸引され
る。これによって、ノズルポット８０１内で気体流が形
成され、当該気体流の流圧によって現像液吐出ノズル６
０１の外周面に付着した液滴が吸引除去される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ノズル待機装置に
関し、より特定的には、基板に対して現像液の吐出が終
了した現像液吐出ノズルを、基板外で待機させるための
装置に関する。
関し、より特定的には、基板に対して現像液の吐出が終
了した現像液吐出ノズルを、基板外で待機させるための
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス
基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基
板等の表面に形成されたフォトリソグラフィー工程に使
用されるフォトレジストや、層間絶縁膜形成用の感光性
ポリイミド樹脂などの各種感光性樹脂膜へ所望のパター
ンを露光した後、当該基板表面に現像液を供給して、露
光パターンを現像するための現像装置が、従来から知ら
れている（例えば、特開平７−２３０１７３号公報参
照）。
基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基
板等の表面に形成されたフォトリソグラフィー工程に使
用されるフォトレジストや、層間絶縁膜形成用の感光性
ポリイミド樹脂などの各種感光性樹脂膜へ所望のパター
ンを露光した後、当該基板表面に現像液を供給して、露
光パターンを現像するための現像装置が、従来から知ら
れている（例えば、特開平７−２３０１７３号公報参
照）。
【０００３】図６は、上記したような従来の現像装置の
構成を示す斜視図である。図７は、図６に示す待機ポッ
ト７内の構成を示す断面図である。図８は、図６および
図７に示す現像液吐出ノズル６に対する現像液および洗
浄液の供給経路を示す図である。以下、これら図６〜図
８を参照して、従来の現像装置、およびそれに用いられ
るノズル待機機構の詳細について説明する。
構成を示す斜視図である。図７は、図６に示す待機ポッ
ト７内の構成を示す断面図である。図８は、図６および
図７に示す現像液吐出ノズル６に対する現像液および洗
浄液の供給経路を示す図である。以下、これら図６〜図
８を参照して、従来の現像装置、およびそれに用いられ
るノズル待機機構の詳細について説明する。
【０００４】図６において、基板支持部材１の上には、
現像されるべき基板（半導体ウエハ、フォトマスク用の
ガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク
用の基板等）２が載置されている。基板支持部材１は、
モータ３によって回転するように構成されている。基板
支持部材１の周囲には、昇降自在な飛散防止板４が設け
られる。この飛散防止板４は、現像処理時に上昇し、基
板２上の現像液が周囲に飛散するのを防ぐ役目を果た
す。
現像されるべき基板（半導体ウエハ、フォトマスク用の
ガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク
用の基板等）２が載置されている。基板支持部材１は、
モータ３によって回転するように構成されている。基板
支持部材１の周囲には、昇降自在な飛散防止板４が設け
られる。この飛散防止板４は、現像処理時に上昇し、基
板２上の現像液が周囲に飛散するのを防ぐ役目を果た
す。
【０００５】また、基板支持部材１の近傍には、軸ＡＸ
の回りに回動可能で、かつ昇降可能な回動アーム５が設
けられる。この回動アーム５の先端部には、垂直下方に
向けて突出する２本の現像液吐出ノズル６が設けられて
いる。これら現像液吐出ノズル６は、配管６１を介し
て、図示しない現像液タンクおよび純水タンクと連結さ
れ、図８に示すように、現像液または純水（洗浄液の一
例）が選択的に供給される。現像液吐出ノズル６は、回
動アーム５によって、基板２と平行な面内で回動し、回
動アーム５が所定角度位置にきたときに、基板２の中心
位置のほぼ直上に位置するように、その取り付け位置が
決められている。
の回りに回動可能で、かつ昇降可能な回動アーム５が設
けられる。この回動アーム５の先端部には、垂直下方に
向けて突出する２本の現像液吐出ノズル６が設けられて
いる。これら現像液吐出ノズル６は、配管６１を介し
て、図示しない現像液タンクおよび純水タンクと連結さ
れ、図８に示すように、現像液または純水（洗浄液の一
例）が選択的に供給される。現像液吐出ノズル６は、回
動アーム５によって、基板２と平行な面内で回動し、回
動アーム５が所定角度位置にきたときに、基板２の中心
位置のほぼ直上に位置するように、その取り付け位置が
決められている。
【０００６】また、基板支持部材１の近傍には、待機ポ
ット７が設けられる。この待機ポット７は、基板２上か
ら待避した現像液吐出ノズル６を受け入れ、次の現像処
理まで待機させるためのものである。図７に示すよう
に、待機ポット７の内底部には、待機中の現像液吐出ノ
ズル６と対向するように、液滴除去機構８が設けられ
る。この液滴除去機構８の上面には、２本の現像液吐出
ノズル６と対向する位置に１対の吸引口８１が設けられ
ている。これら吸引口８１は、内部の中空部８２と連通
しており、当該中空部８２は、チューブ８３を介して、
外部の吸引装置（図示せず）と連結されている。この吸
引装置によって中空部８２内の空気を吸引することによ
り、現像液吐出ノズル６の先端表面に付着した液滴が吸
引除去される。
ット７が設けられる。この待機ポット７は、基板２上か
ら待避した現像液吐出ノズル６を受け入れ、次の現像処
理まで待機させるためのものである。図７に示すよう
に、待機ポット７の内底部には、待機中の現像液吐出ノ
ズル６と対向するように、液滴除去機構８が設けられ
る。この液滴除去機構８の上面には、２本の現像液吐出
ノズル６と対向する位置に１対の吸引口８１が設けられ
ている。これら吸引口８１は、内部の中空部８２と連通
しており、当該中空部８２は、チューブ８３を介して、
外部の吸引装置（図示せず）と連結されている。この吸
引装置によって中空部８２内の空気を吸引することによ
り、現像液吐出ノズル６の先端表面に付着した液滴が吸
引除去される。
【０００７】上記のような構成を有する現像装置におい
て、基板支持部材１の上には、その表面に感光性樹脂膜
（フォトレジスト、感光性ポリイミド樹脂等）が形成さ
れ、かつ所望パターンの露光が終了した基板２が載置さ
れ、真空吸着等によって固定される。次に、モータ３に
よって所定の回転数で基板支持部材１かつ従って基板２
が回転される。次に、回動アーム５が上昇、回動、下降
し、基板２のほぼ中心位置直上に現像液吐出ノズル６が
移動される。次に、飛散防止板４が所定高さまで上昇
し、図示しない現像液タンクから現像液吐出ノズル６に
現像液が供給される。その結果、現像液吐出ノズル６か
ら現像液が吐出され、基板２の表面に供給される。この
とき、基板２は、回転しているため、供給された現像液
は、基板２の全体に広がる。次に、基板２の回転が停止
され、現像効果を得るために所定時間待機する。このと
き、回動アーム５が、上昇、回動、下降し、現像液吐出
ノズル６が待機ポット７内に収納される。以後、現像液
吐出ノズル６は、次の現像処理が開始されるまで、待機
ポット７内で待機する。このとき、現像液吐出ノズル６
に洗浄液としての純水が供給される。これによって、現
像液吐出ノズル６の先端に付着した現像液またはゴミ等
の不純物が洗浄される。次に、同時に液滴除去機構８が
作動し、洗浄によって現像液吐出ノズル６の先端に付着
した液滴が吸引される。上記現像処理の終了後、必要に
応じて、基板２に対する洗浄処理、乾燥処理が行われ
る。
て、基板支持部材１の上には、その表面に感光性樹脂膜
（フォトレジスト、感光性ポリイミド樹脂等）が形成さ
れ、かつ所望パターンの露光が終了した基板２が載置さ
れ、真空吸着等によって固定される。次に、モータ３に
よって所定の回転数で基板支持部材１かつ従って基板２
が回転される。次に、回動アーム５が上昇、回動、下降
し、基板２のほぼ中心位置直上に現像液吐出ノズル６が
移動される。次に、飛散防止板４が所定高さまで上昇
し、図示しない現像液タンクから現像液吐出ノズル６に
現像液が供給される。その結果、現像液吐出ノズル６か
ら現像液が吐出され、基板２の表面に供給される。この
とき、基板２は、回転しているため、供給された現像液
は、基板２の全体に広がる。次に、基板２の回転が停止
され、現像効果を得るために所定時間待機する。このと
き、回動アーム５が、上昇、回動、下降し、現像液吐出
ノズル６が待機ポット７内に収納される。以後、現像液
吐出ノズル６は、次の現像処理が開始されるまで、待機
ポット７内で待機する。このとき、現像液吐出ノズル６
に洗浄液としての純水が供給される。これによって、現
像液吐出ノズル６の先端に付着した現像液またはゴミ等
の不純物が洗浄される。次に、同時に液滴除去機構８が
作動し、洗浄によって現像液吐出ノズル６の先端に付着
した液滴が吸引される。上記現像処理の終了後、必要に
応じて、基板２に対する洗浄処理、乾燥処理が行われ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
液滴除去機構８は、単に吸引口８１を現像液吐出ノズル
６の下面に対向配置しただけの構成であるので、液滴の
除去効果が低いという問題点があった。また、従来のノ
ズル洗浄は、現像液吐出ノズル６の内部に純水を供給す
ることにより行われるため、ノズル内部で現像液と洗浄
液とが混合して現像液が劣化し、現像性能に悪影響を及
ぼす恐れがあった。
液滴除去機構８は、単に吸引口８１を現像液吐出ノズル
６の下面に対向配置しただけの構成であるので、液滴の
除去効果が低いという問題点があった。また、従来のノ
ズル洗浄は、現像液吐出ノズル６の内部に純水を供給す
ることにより行われるため、ノズル内部で現像液と洗浄
液とが混合して現像液が劣化し、現像性能に悪影響を及
ぼす恐れがあった。
【０００９】それ故に、本発明の目的は、液滴の除去効
果に優れたノズル待機装置を提供することである。本発
明の他の目的は、現像液の劣化を生じることなく、ノズ
ルの洗浄が行える、ノズル待機装置を提供することであ
る。
果に優れたノズル待機装置を提供することである。本発
明の他の目的は、現像液の劣化を生じることなく、ノズ
ルの洗浄が行える、ノズル待機装置を提供することであ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明は、露光された基板に対して現像液の吐出が終了し
た現像液吐出ノズルを、基板外で待機させるための装置
であって、現像液吐出ノズルを個別的に収納するノズル
ポットと、ノズルポットの底部に設けられるドレイン管
と、ノズルポット内に所定の気体を供給する気体供給手
段と、ドレイン管を介してノズルポット内の流体を吸引
する吸引手段とを備え、気体供給手段による気体供給と
吸引手段による吸引とによってノズルポット内で気体流
を形成し、当該気体流の流圧によって現像液吐出ノズル
外周面に付着した液滴を除去することを特徴とする。
発明は、露光された基板に対して現像液の吐出が終了し
た現像液吐出ノズルを、基板外で待機させるための装置
であって、現像液吐出ノズルを個別的に収納するノズル
ポットと、ノズルポットの底部に設けられるドレイン管
と、ノズルポット内に所定の気体を供給する気体供給手
段と、ドレイン管を介してノズルポット内の流体を吸引
する吸引手段とを備え、気体供給手段による気体供給と
吸引手段による吸引とによってノズルポット内で気体流
を形成し、当該気体流の流圧によって現像液吐出ノズル
外周面に付着した液滴を除去することを特徴とする。
【００１１】上記のように、第１の発明では、現像液吐
出ノズルを収納するノズルポット内で気体流を形成し、
当該気体流の流圧によって現像液吐出ノズル外周面に付
着した液滴を除去するようにしているので、従来の液滴
除去機構のように単に吸引口を現像液吐出ノズルの下面
に対向配置しただけの構成に比べて、液滴の除去効果が
飛躍的に向上する。また、現像液吐出ノズルの下面以外
に付着した液滴も除去できる。
出ノズルを収納するノズルポット内で気体流を形成し、
当該気体流の流圧によって現像液吐出ノズル外周面に付
着した液滴を除去するようにしているので、従来の液滴
除去機構のように単に吸引口を現像液吐出ノズルの下面
に対向配置しただけの構成に比べて、液滴の除去効果が
飛躍的に向上する。また、現像液吐出ノズルの下面以外
に付着した液滴も除去できる。
【００１２】第２の発明は、第１の発明において、ノズ
ルポット内に供給される気体は、現像液の使用温度と一
致するように、温度調整されていることを特徴とする。
ルポット内に供給される気体は、現像液の使用温度と一
致するように、温度調整されていることを特徴とする。
【００１３】上記のように、第２の発明では、ノズルポ
ット内に供給される気体は、現像液の使用温度と一致す
るように、温度調整されているため、現像液吐出ノズル
内に残存している現像液の温度が、所望の温度から変化
することがない。従って、現像特性を常に安定に保つこ
とができる。
ット内に供給される気体は、現像液の使用温度と一致す
るように、温度調整されているため、現像液吐出ノズル
内に残存している現像液の温度が、所望の温度から変化
することがない。従って、現像特性を常に安定に保つこ
とができる。
【００１４】第３の発明は、第１または第２の発明にお
いて、ノズルポット内に供給される気体は、不活性ガス
である。
いて、ノズルポット内に供給される気体は、不活性ガス
である。
【００１５】上記のように、第３の発明では、不活性ガ
スがノズルポット内に供給されるので、現像液吐出ノズ
ル内に残存している現像液または現像液吐出ノズルの表
面に付着している現像液が化学変化を起こさない。従っ
て、そのような化学変化によって現像特性に悪影響が生
じるのを防止できる。
スがノズルポット内に供給されるので、現像液吐出ノズ
ル内に残存している現像液または現像液吐出ノズルの表
面に付着している現像液が化学変化を起こさない。従っ
て、そのような化学変化によって現像特性に悪影響が生
じるのを防止できる。
【００１６】第４の発明は、第３の発明において、ノズ
ルポット内に供給される気体は、窒素ガスである。
ルポット内に供給される気体は、窒素ガスである。
【００１７】上記のように、第４の発明では、不活性ガ
スとして、容易に得られ、比較的安価な窒素ガスが用い
られる。従って、装置のランニングコストが安くなる。
スとして、容易に得られ、比較的安価な窒素ガスが用い
られる。従って、装置のランニングコストが安くなる。
【００１８】第５の発明は、第３の発明において、気体
供給手段は、吸引手段の停止後も、ノズルポット内に不
活性ガスを供給することを特徴とする。
供給手段は、吸引手段の停止後も、ノズルポット内に不
活性ガスを供給することを特徴とする。
【００１９】上記のように、第５の発明では、吸引手段
の停止後も、ノズルポット内に不活性ガスが供給され
る。これによって、全待機中を通じて、現像液吐出ノズ
ルが不活性雰囲気内に置かれ、その内部に残存している
現像液が化学変化を起こすことがない。従って、そのよ
うな化学変化によって現像特性に悪影響が生じるのを防
止できる。
の停止後も、ノズルポット内に不活性ガスが供給され
る。これによって、全待機中を通じて、現像液吐出ノズ
ルが不活性雰囲気内に置かれ、その内部に残存している
現像液が化学変化を起こすことがない。従って、そのよ
うな化学変化によって現像特性に悪影響が生じるのを防
止できる。
【００２０】第６の発明は、第１〜第５のいずれかの発
明において、ノズルポット内において、現像液吐出ノズ
ルの外周面に対して洗浄液を吐出することにより、現像
液吐出ノズルの外周面に付着した汚れを洗浄するための
洗浄手段をさらに備えている。
明において、ノズルポット内において、現像液吐出ノズ
ルの外周面に対して洗浄液を吐出することにより、現像
液吐出ノズルの外周面に付着した汚れを洗浄するための
洗浄手段をさらに備えている。
【００２１】上記のように、第６の発明では、ノズルポ
ット内において、現像液吐出ノズルの外周面に対して洗
浄液を吐出することにより、現像液吐出ノズルの外周面
に付着した汚れを洗浄するようにしているので、ノズル
内部で現像液と洗浄液とが混合することがなく、現像液
が劣化するのを防止できる。
ット内において、現像液吐出ノズルの外周面に対して洗
浄液を吐出することにより、現像液吐出ノズルの外周面
に付着した汚れを洗浄するようにしているので、ノズル
内部で現像液と洗浄液とが混合することがなく、現像液
が劣化するのを防止できる。
【００２２】第７の発明は、基板に対して現像液の吐出
が終了した現像液吐出ノズルを、基板外で待機させるた
めの装置であって、現像液吐出ノズルを個別的に収納す
るノズルポットと、ノズルポットの底部に設けられるド
レイン管と、ノズルポット内において、現像液吐出ノズ
ルの外周面に対して洗浄液を吐出することにより、現像
液吐出ノズルの外周面に付着した汚れを洗浄するための
洗浄手段とを備えている。
が終了した現像液吐出ノズルを、基板外で待機させるた
めの装置であって、現像液吐出ノズルを個別的に収納す
るノズルポットと、ノズルポットの底部に設けられるド
レイン管と、ノズルポット内において、現像液吐出ノズ
ルの外周面に対して洗浄液を吐出することにより、現像
液吐出ノズルの外周面に付着した汚れを洗浄するための
洗浄手段とを備えている。
【００２３】上記のように、第７の発明では、ノズルポ
ット内において、現像液吐出ノズルの外周面に対して洗
浄液を吐出することにより、現像液吐出ノズルの外周面
に付着した汚れを洗浄するようにしているので、ノズル
内部で現像液と洗浄液とが混合することがなく、現像液
が劣化するのを防止できる。
ット内において、現像液吐出ノズルの外周面に対して洗
浄液を吐出することにより、現像液吐出ノズルの外周面
に付着した汚れを洗浄するようにしているので、ノズル
内部で現像液と洗浄液とが混合することがなく、現像液
が劣化するのを防止できる。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施形態について説明する。なお、以下の説明では、主
としてノズル待機装置の構成を示し、それを用いる現像
装置全体の構成については、従来と同様（図１参照）で
あるので、その詳細な説明を省略する。
実施形態について説明する。なお、以下の説明では、主
としてノズル待機装置の構成を示し、それを用いる現像
装置全体の構成については、従来と同様（図１参照）で
あるので、その詳細な説明を省略する。
【００２５】図１は、本発明の第１の実施形態に係るノ
ズル待機装置８００の構成を示す断面図である。このノ
ズル待機装置８００は、現像処理の終了した現像液吐出
ノズルを、基板外の待機位置（ホームポジション）にて
待機させるための装置であって、図７に示す待機ポット
７および液滴除去機構８に代えて、現像装置に設けられ
るものである。
ズル待機装置８００の構成を示す断面図である。このノ
ズル待機装置８００は、現像処理の終了した現像液吐出
ノズルを、基板外の待機位置（ホームポジション）にて
待機させるための装置であって、図７に示す待機ポット
７および液滴除去機構８に代えて、現像装置に設けられ
るものである。
【００２６】図１において、本実施形態で洗浄の対象と
なる現像液吐出ノズル６０１は、その先端にドーム状の
凹部６０１ａが形成されている。ノズル待機装置８００
は、上記のような形状を有する現像液吐出ノズル６０１
を収納するための有底円筒状のノズルポット８０１を備
えている。このノズルポット８０１は、その内径が現像
液吐出ノズル６０１の外径よりも大きく選ばれている。
従って、ノズルポット８０１は、現像液吐出ノズル６０
１の外周面を非接触状態で覆うことになる。このよう
に、本実施形態におけるノズルポット８０１は、図６に
示す従来例のように回動アーム５の先端全体を収納する
待機ポット７とは異なり、各現像液吐出ノズル６０１の
先端部周辺を、個別的に収納するように設けられる。図
１に示す例では、２個の現像液吐出ノズル６０１が回動
アームの先端に設けられているので、これに対応して、
ノズルポット８０１も２個設けられている。なお、２個
のノズルポット８０１は、別部材によって個別的に構成
されても良いし、１つの部材を一体成型することによっ
て構成されても良い。
なる現像液吐出ノズル６０１は、その先端にドーム状の
凹部６０１ａが形成されている。ノズル待機装置８００
は、上記のような形状を有する現像液吐出ノズル６０１
を収納するための有底円筒状のノズルポット８０１を備
えている。このノズルポット８０１は、その内径が現像
液吐出ノズル６０１の外径よりも大きく選ばれている。
従って、ノズルポット８０１は、現像液吐出ノズル６０
１の外周面を非接触状態で覆うことになる。このよう
に、本実施形態におけるノズルポット８０１は、図６に
示す従来例のように回動アーム５の先端全体を収納する
待機ポット７とは異なり、各現像液吐出ノズル６０１の
先端部周辺を、個別的に収納するように設けられる。図
１に示す例では、２個の現像液吐出ノズル６０１が回動
アームの先端に設けられているので、これに対応して、
ノズルポット８０１も２個設けられている。なお、２個
のノズルポット８０１は、別部材によって個別的に構成
されても良いし、１つの部材を一体成型することによっ
て構成されても良い。
【００２７】ノズルポット８０１の上端部近傍の側面に
は、洗浄ノズル８０２が固着されている。この洗浄ノズ
ル８０２には、配管８０４を介して、図示しない外部の
純水タンクから、洗浄液としての純水が供給される。ま
た、洗浄ノズル８０２は、ノズルポット８０１の側部を
貫通するように、水平方向に延びており、その先端は、
ノズルポット８０１の内部において、現像液吐出ノズル
６０１の外周側面と所定距離を隔てて対向している。従
って、洗浄ノズル８０２から吐出される純水は、まず、
現像液吐出ノズル６０１の外周側面に当たる。なお、洗
浄ノズル８０２から吐出された純水が現像液吐出ノズル
６０１の全周に行き渡るようにする目的で、洗浄ノズル
８０２は、ノズルポット８０１の水平断面（円形）に対
して、所定中心角度ずつ離隔して複数個設けられる。好
ましくは、洗浄ノズル８０２は、１つのノズルポット８
０１に対して３個設けられ、それぞれは、ノズルポット
８０１の水平断面で見ると、中心角で１２０°ずつ離隔
している。
は、洗浄ノズル８０２が固着されている。この洗浄ノズ
ル８０２には、配管８０４を介して、図示しない外部の
純水タンクから、洗浄液としての純水が供給される。ま
た、洗浄ノズル８０２は、ノズルポット８０１の側部を
貫通するように、水平方向に延びており、その先端は、
ノズルポット８０１の内部において、現像液吐出ノズル
６０１の外周側面と所定距離を隔てて対向している。従
って、洗浄ノズル８０２から吐出される純水は、まず、
現像液吐出ノズル６０１の外周側面に当たる。なお、洗
浄ノズル８０２から吐出された純水が現像液吐出ノズル
６０１の全周に行き渡るようにする目的で、洗浄ノズル
８０２は、ノズルポット８０１の水平断面（円形）に対
して、所定中心角度ずつ離隔して複数個設けられる。好
ましくは、洗浄ノズル８０２は、１つのノズルポット８
０１に対して３個設けられ、それぞれは、ノズルポット
８０１の水平断面で見ると、中心角で１２０°ずつ離隔
している。
【００２８】また、ノズルポット８０１の内部には、ポ
ット内部で液体（純水，現像液）または気体（窒素ガ
ス）が流れる流路を形成させるための流路形成部材８０
３が設けられる。この流路形成部材８０３は、ノズルポ
ット８０１の内周底面近傍に設けられた支持棒８０６に
よって、ノズルポット８０１の内周底面および内周側面
から浮いた状態で支持されている。この支持棒８０６
は、ノズルポット８０１の水平断面内において、直径方
向に延び、かつその両端がノズルポット８０１の内部側
面に固着されている。流路形成部材８０３は、上記のよ
うに、ノズルポット８０１の内周底面および内周側面か
ら浮いた状態で支持されていることにより、現像液吐出
ノズル６０１の凹部６０１ａと所定間隔を隔てて対向す
る上面８０３ａと、ノズルポット８０１の内周側面と所
定間隔を隔てて対向する円柱状の側面８０３ｂと、ノズ
ルポット８０１の内周底面と所定間隔を隔てて対向する
逆円錐状の底面８０３ｃとを有する。
ット内部で液体（純水，現像液）または気体（窒素ガ
ス）が流れる流路を形成させるための流路形成部材８０
３が設けられる。この流路形成部材８０３は、ノズルポ
ット８０１の内周底面近傍に設けられた支持棒８０６に
よって、ノズルポット８０１の内周底面および内周側面
から浮いた状態で支持されている。この支持棒８０６
は、ノズルポット８０１の水平断面内において、直径方
向に延び、かつその両端がノズルポット８０１の内部側
面に固着されている。流路形成部材８０３は、上記のよ
うに、ノズルポット８０１の内周底面および内周側面か
ら浮いた状態で支持されていることにより、現像液吐出
ノズル６０１の凹部６０１ａと所定間隔を隔てて対向す
る上面８０３ａと、ノズルポット８０１の内周側面と所
定間隔を隔てて対向する円柱状の側面８０３ｂと、ノズ
ルポット８０１の内周底面と所定間隔を隔てて対向する
逆円錐状の底面８０３ｃとを有する。
【００２９】さらに、ノズルポット８０１内に窒素ガス
（Ｎ2 ）を供給するための配管８０５が設けられる。こ
の配管８０５は、ノズルポット８０１の側面を貫通し、
さらに流路形成部材８０３の側面８０３ｂから流路形成
部材８０３内に進入し、内部でほぼ９０°折れ曲がって
流路形成部材８０３の上面８０３ａの中央部でその先端
が開口している。従って、配管８０５によって供給され
る窒素ガスは、まず、現像液吐出ノズル６０１の凹部６
０１ａの中央部に吹き付けられる。ノズルポット８０１
の底部中央には、ドレイン管８０１ａが一体的に形成さ
れている。このドレイン管８０１ａは、図示しないチュ
ーブを介して、外部の吸引装置（図示せず）と連結され
ている。
（Ｎ2 ）を供給するための配管８０５が設けられる。こ
の配管８０５は、ノズルポット８０１の側面を貫通し、
さらに流路形成部材８０３の側面８０３ｂから流路形成
部材８０３内に進入し、内部でほぼ９０°折れ曲がって
流路形成部材８０３の上面８０３ａの中央部でその先端
が開口している。従って、配管８０５によって供給され
る窒素ガスは、まず、現像液吐出ノズル６０１の凹部６
０１ａの中央部に吹き付けられる。ノズルポット８０１
の底部中央には、ドレイン管８０１ａが一体的に形成さ
れている。このドレイン管８０１ａは、図示しないチュ
ーブを介して、外部の吸引装置（図示せず）と連結され
ている。
【００３０】上記のような構成において、流路形成部材
８０３の上面８０３ａは現像液吐出ノズル６０１の凹部
６０１ａと協働して、また流路形成部材８０３の側面８
０３ｂはノズルポット８０１の内周側面と協働して、ま
た流路形成部材８０３の底面８０３ｃはノズルポット８
０１の内周底面と協働して、液体または気体をドレイン
管８０１ａに導くための流路を形成している。さらに、
ノズルポット８０１の内周側面は、現像液吐出ノズル６
０１の外周側面と協働して、液体または気体をドレイン
管８０１ａに導くための流路を形成している。
８０３の上面８０３ａは現像液吐出ノズル６０１の凹部
６０１ａと協働して、また流路形成部材８０３の側面８
０３ｂはノズルポット８０１の内周側面と協働して、ま
た流路形成部材８０３の底面８０３ｃはノズルポット８
０１の内周底面と協働して、液体または気体をドレイン
管８０１ａに導くための流路を形成している。さらに、
ノズルポット８０１の内周側面は、現像液吐出ノズル６
０１の外周側面と協働して、液体または気体をドレイン
管８０１ａに導くための流路を形成している。
【００３１】図２は、図１に示す現像液吐出ノズル６０
１が、基板上で現像処理を終了し、ノズル待機装置８０
０に戻ってきた時点からの、ノズル待機装置８００の動
作を示すフローチャートである。以下、この図２を参照
して、図１に示すノズル待機装置８００の動作を説明す
る。まず、回動アームによって、現像液吐出ノズル６０
１が、ノズルポット８０１上で降下される。現像液吐出
ノズル６０１の降下が完了すると（ステップＳ１０
１）、現像液吐出ノズル６０１は、ノズルポット８０１
内に収納された状態になる。
１が、基板上で現像処理を終了し、ノズル待機装置８０
０に戻ってきた時点からの、ノズル待機装置８００の動
作を示すフローチャートである。以下、この図２を参照
して、図１に示すノズル待機装置８００の動作を説明す
る。まず、回動アームによって、現像液吐出ノズル６０
１が、ノズルポット８０１上で降下される。現像液吐出
ノズル６０１の降下が完了すると（ステップＳ１０
１）、現像液吐出ノズル６０１は、ノズルポット８０１
内に収納された状態になる。
【００３２】次に、図示しない純水タンクから、洗浄ノ
ズル８０２に対する純水の供給が開始される（ステップ
Ｓ１０２）。これによって、洗浄ノズル８０２から現像
液吐出ノズル６０１の外周面に対して、洗浄液としての
純水が吐出される。その結果、現像液吐出ノズル６０１
の先端部が洗浄され、その表面に付着している現像液ま
たはゴミ等の不純物が洗い流される。なお、洗浄ノズル
８０２は、現像液吐出ノズル６０１の周囲に複数個配置
されているので、現像液吐出ノズル６０１の外周面全体
がまんべんなく洗浄される。また、洗浄によって生じた
廃液は、ドレイン管８０１ａを介して外部へと排出され
る。洗浄ノズル８０２により現像液吐出ノズル６０１の
洗浄処理が所定時間行われると、洗浄ノズル８０２に対
する純水の供給が停止され、洗浄処理が終了する（ステ
ップＳ１０３）。このとき、現像液吐出ノズル６０１の
外周面には、洗浄に使用した純水の液滴、または洗浄し
きれなかった現像液と純水との混合液の液滴が付着する
可能性がある。この液滴は、特に、凹部６０１ａの周縁
部αに集中するものと考えられる。現像液吐出ノズル６
０１の外周面に付着した液滴は、以下に説明するよう
に、窒素ガスのブローによって、ノズルポット８０１外
に排出される。
ズル８０２に対する純水の供給が開始される（ステップ
Ｓ１０２）。これによって、洗浄ノズル８０２から現像
液吐出ノズル６０１の外周面に対して、洗浄液としての
純水が吐出される。その結果、現像液吐出ノズル６０１
の先端部が洗浄され、その表面に付着している現像液ま
たはゴミ等の不純物が洗い流される。なお、洗浄ノズル
８０２は、現像液吐出ノズル６０１の周囲に複数個配置
されているので、現像液吐出ノズル６０１の外周面全体
がまんべんなく洗浄される。また、洗浄によって生じた
廃液は、ドレイン管８０１ａを介して外部へと排出され
る。洗浄ノズル８０２により現像液吐出ノズル６０１の
洗浄処理が所定時間行われると、洗浄ノズル８０２に対
する純水の供給が停止され、洗浄処理が終了する（ステ
ップＳ１０３）。このとき、現像液吐出ノズル６０１の
外周面には、洗浄に使用した純水の液滴、または洗浄し
きれなかった現像液と純水との混合液の液滴が付着する
可能性がある。この液滴は、特に、凹部６０１ａの周縁
部αに集中するものと考えられる。現像液吐出ノズル６
０１の外周面に付着した液滴は、以下に説明するよう
に、窒素ガスのブローによって、ノズルポット８０１外
に排出される。
【００３３】次に、配管８０５に対して、比較的高い圧
力で窒素ガスが供給される。これによって、配管８０５
の先端開口部から、現像液吐出ノズル６０１の凹部６０
１ａに対して、窒素ガスが吐出される（ステップＳ１０
４）。次に、図示しない外部の吸引装置が作動を開始す
る（ステップＳ１０５）。これによって、ドレイン管８
０１ａ内の気圧が低下する。その結果、流路形成部材８
０３の周囲を取り囲むように、窒素ガスの流路が形成さ
れる。この窒素ガスの流圧によって、現像液吐出ノズル
６０１の特に凹部６０１ａおよびその周縁部αに付着し
ている液滴が吹き飛ばされ、窒素ガスと共に、ドレイン
管８０１ａから外部へと放出される。また、吸引装置に
よる吸引量が配管８０５からの窒素ガス供給量よりも多
い場合は、ノズルポット８０１の内周側面と現像液吐出
ノズル６０１の外周側面との間にも外部の空気を吸い込
む流路が形成される。これによって、現像液吐出ノズル
６０１の外周側面に付着した液滴が吸引除去される。
力で窒素ガスが供給される。これによって、配管８０５
の先端開口部から、現像液吐出ノズル６０１の凹部６０
１ａに対して、窒素ガスが吐出される（ステップＳ１０
４）。次に、図示しない外部の吸引装置が作動を開始す
る（ステップＳ１０５）。これによって、ドレイン管８
０１ａ内の気圧が低下する。その結果、流路形成部材８
０３の周囲を取り囲むように、窒素ガスの流路が形成さ
れる。この窒素ガスの流圧によって、現像液吐出ノズル
６０１の特に凹部６０１ａおよびその周縁部αに付着し
ている液滴が吹き飛ばされ、窒素ガスと共に、ドレイン
管８０１ａから外部へと放出される。また、吸引装置に
よる吸引量が配管８０５からの窒素ガス供給量よりも多
い場合は、ノズルポット８０１の内周側面と現像液吐出
ノズル６０１の外周側面との間にも外部の空気を吸い込
む流路が形成される。これによって、現像液吐出ノズル
６０１の外周側面に付着した液滴が吸引除去される。
【００３４】次に、配管８０５に対する窒素ガスの供給
圧力が弱められ（ステップＳ１０６）、外部の吸引装置
の作動が停止される（ステップＳ１０７）。これによっ
て、窒素ガスのブローによる液滴の除去動作が終了す
る。なお、吸引装置の動作停止後も、窒素ガスを弱い圧
力で配管８０５に供給しているのは、ノズル待機中に、
ノズルポット８０１内を不活性気体である窒素ガスで充
満させ、それによって現像液吐出ノズル６０１内に残存
している現像液の化学変化による劣化を防止するためで
ある。
圧力が弱められ（ステップＳ１０６）、外部の吸引装置
の作動が停止される（ステップＳ１０７）。これによっ
て、窒素ガスのブローによる液滴の除去動作が終了す
る。なお、吸引装置の動作停止後も、窒素ガスを弱い圧
力で配管８０５に供給しているのは、ノズル待機中に、
ノズルポット８０１内を不活性気体である窒素ガスで充
満させ、それによって現像液吐出ノズル６０１内に残存
している現像液の化学変化による劣化を防止するためで
ある。
【００３５】なお、液滴の除去動作およびその終了後に
使用される窒素ガスは、その温度が、現像液の常温とほ
ぼ同温度となるように温度調整されている。これによっ
て、現像液吐出ノズル６０１内に残存している現像液の
温度が変化せず、温度変化による現像特性の劣化を防止
することができる。
使用される窒素ガスは、その温度が、現像液の常温とほ
ぼ同温度となるように温度調整されている。これによっ
て、現像液吐出ノズル６０１内に残存している現像液の
温度が変化せず、温度変化による現像特性の劣化を防止
することができる。
【００３６】所定のノズル待機時間を経て、次の現像処
理が近くなると、現像液のプリディスペンスが行われる
（ステップＳ１０８）。すなわち、図示しない現像液タ
ンクから現像液吐出ノズル６０１に対して所定量の現像
液が供給され、現像液吐出ノズル６０１から吐出され
る。このプリディスペンスは、待機中に、現像液吐出ノ
ズル６０１の吐出口から内部に混入する空気を外部へ排
除するために行われる。これによって、現像処理初期時
における現像液の吐出安定性が確保される。なお、プリ
ディスペンスによって現像液吐出ノズル６０１から吐出
された現像液は、ドレイン管８０１ａを介して外部へと
放出される。
理が近くなると、現像液のプリディスペンスが行われる
（ステップＳ１０８）。すなわち、図示しない現像液タ
ンクから現像液吐出ノズル６０１に対して所定量の現像
液が供給され、現像液吐出ノズル６０１から吐出され
る。このプリディスペンスは、待機中に、現像液吐出ノ
ズル６０１の吐出口から内部に混入する空気を外部へ排
除するために行われる。これによって、現像処理初期時
における現像液の吐出安定性が確保される。なお、プリ
ディスペンスによって現像液吐出ノズル６０１から吐出
された現像液は、ドレイン管８０１ａを介して外部へと
放出される。
【００３７】上記のようなプリディスペンスを行うと、
現像液吐出ノズル６０１の外周面に現像液の液滴が付着
する。そのため、この液滴を除去するために、再び、外
部の吸引装置が作動を開始し（ステップＳ１０９）、さ
らに配管８０５に対して比較的高い圧力で窒素ガスが供
給される（ステップＳ１１０）。これによって、現像液
吐出ノズル６０１の外周面に付着した液滴が、窒素ガス
または外部から流れ込む空気の流圧によって除去され
る。このとき使用される窒素ガスも、前述のように温度
調整されている。なお、窒素ガスによる液滴の除去前
に、必要に応じて、純水による現像液吐出ノズル６０１
の洗浄処理（ステップＳ１０２，Ｓ１０３と同様の処
理）を行うようにしても良い。次に、外部の吸引装置の
作動が停止され（ステップＳ１１１）、配管８０５に対
する窒素ガスの供給圧力が弱められる（ステップＳ１１
２）。これによって、窒素ガスのブローによる液滴の除
去動作が終了する。次に、回動アームによって現像液吐
出ノズル６０１が上昇され（ステップＳ１１３）、ノズ
ルの待機動作が終了する。
現像液吐出ノズル６０１の外周面に現像液の液滴が付着
する。そのため、この液滴を除去するために、再び、外
部の吸引装置が作動を開始し（ステップＳ１０９）、さ
らに配管８０５に対して比較的高い圧力で窒素ガスが供
給される（ステップＳ１１０）。これによって、現像液
吐出ノズル６０１の外周面に付着した液滴が、窒素ガス
または外部から流れ込む空気の流圧によって除去され
る。このとき使用される窒素ガスも、前述のように温度
調整されている。なお、窒素ガスによる液滴の除去前
に、必要に応じて、純水による現像液吐出ノズル６０１
の洗浄処理（ステップＳ１０２，Ｓ１０３と同様の処
理）を行うようにしても良い。次に、外部の吸引装置の
作動が停止され（ステップＳ１１１）、配管８０５に対
する窒素ガスの供給圧力が弱められる（ステップＳ１１
２）。これによって、窒素ガスのブローによる液滴の除
去動作が終了する。次に、回動アームによって現像液吐
出ノズル６０１が上昇され（ステップＳ１１３）、ノズ
ルの待機動作が終了する。
【００３８】図３は、本発明の第２の実施形態に係るノ
ズル待機装置９００の構成を示す縦断面図である。ま
た、図４は、図３に示すノズル待機装置９００における
部分詳細図であり、特に、図４（ａ）はノズルポット９
０１の横断面図であり、図４（ｂ）はノズルポット９０
１における流路を詳細に示す部分拡大図である。以下、
これら図３および図４を参照して、第２の実施形態に係
るノズル待機装置９００について詳細に説明する。
ズル待機装置９００の構成を示す縦断面図である。ま
た、図４は、図３に示すノズル待機装置９００における
部分詳細図であり、特に、図４（ａ）はノズルポット９
０１の横断面図であり、図４（ｂ）はノズルポット９０
１における流路を詳細に示す部分拡大図である。以下、
これら図３および図４を参照して、第２の実施形態に係
るノズル待機装置９００について詳細に説明する。
【００３９】このノズル待機装置９００は、前述したノ
ズル待機装置８００と同様、現像処理の終了した現像液
吐出ノズルを、基板外の待機位置（ホームポジション）
にて待機させるための装置であって、図７に示す待機ポ
ット７および液滴除去機構８に代えて、現像装置に設け
られるものである。
ズル待機装置８００と同様、現像処理の終了した現像液
吐出ノズルを、基板外の待機位置（ホームポジション）
にて待機させるための装置であって、図７に示す待機ポ
ット７および液滴除去機構８に代えて、現像装置に設け
られるものである。
【００４０】図３において、本実施形態で洗浄の対象と
なる現像液吐出ノズル６０２は、その先端にドーム状の
凸部６０２ａが形成されている。ノズル待機装置９００
は、上記のような形状を有する現像液吐出ノズル６０２
を収納するためのノズルポット９０１を備えている。こ
のノズルポット９０１は、現像液吐出ノズル６０２の外
面形状とほぼ相似した内面形状を有し、当該現像液吐出
ノズル６０２の外周面と非接触な状態で対向する。な
お、本実施形態では、２個のノズルポット９０１が１つ
の部材によって一体的に形成されている。
なる現像液吐出ノズル６０２は、その先端にドーム状の
凸部６０２ａが形成されている。ノズル待機装置９００
は、上記のような形状を有する現像液吐出ノズル６０２
を収納するためのノズルポット９０１を備えている。こ
のノズルポット９０１は、現像液吐出ノズル６０２の外
面形状とほぼ相似した内面形状を有し、当該現像液吐出
ノズル６０２の外周面と非接触な状態で対向する。な
お、本実施形態では、２個のノズルポット９０１が１つ
の部材によって一体的に形成されている。
【００４１】ノズルポット９０１の側面には、洗浄／ブ
ローノズル９０２が固着されている。この洗浄／ブロー
ノズル９０２には、切替弁９０４を介して、洗浄液とし
ての純水または窒素ガスが供給される。また、洗浄／ブ
ローノズル９０２は、ノズルポット９０１の側部を貫通
するように、水平方向に延びており、その先端は、ノズ
ルポット９０１の内部において、現像液吐出ノズル６０
２の側面上部と所定距離を隔てて対向している。従っ
て、洗浄／ブローノズル９０２から吐出される純水また
は窒素ガスは、まず、現像液吐出ノズル６０２の外周側
面上部に当たる。なお、洗浄／ブローノズル９０２から
吐出された純水または窒素ガスが現像液吐出ノズル６０
２の全周に行き渡るようにする目的で、洗浄／ブローノ
ズル９０２は、ノズルポット９０１の水平断面（円形）
に対して、所定中心角度ずつ離隔して複数個設けられ
る。好ましくは、図４（ａ）に示すように、洗浄／ブロ
ーノズル９０２は、１つのノズルポット９０１に対して
３個設けられ、それぞれは、ノズルポット９０１の水平
断面で見ると、中心角で１２０°ずつ離隔している。ま
た、ノズルポット９０１の底部中央には、ドレイン管９
０１ａが一体的に形成されている。このドレイン管９０
１ａは、図示しないチューブを介して、外部の吸引装置
（図示せず）と連結されている。
ローノズル９０２が固着されている。この洗浄／ブロー
ノズル９０２には、切替弁９０４を介して、洗浄液とし
ての純水または窒素ガスが供給される。また、洗浄／ブ
ローノズル９０２は、ノズルポット９０１の側部を貫通
するように、水平方向に延びており、その先端は、ノズ
ルポット９０１の内部において、現像液吐出ノズル６０
２の側面上部と所定距離を隔てて対向している。従っ
て、洗浄／ブローノズル９０２から吐出される純水また
は窒素ガスは、まず、現像液吐出ノズル６０２の外周側
面上部に当たる。なお、洗浄／ブローノズル９０２から
吐出された純水または窒素ガスが現像液吐出ノズル６０
２の全周に行き渡るようにする目的で、洗浄／ブローノ
ズル９０２は、ノズルポット９０１の水平断面（円形）
に対して、所定中心角度ずつ離隔して複数個設けられ
る。好ましくは、図４（ａ）に示すように、洗浄／ブロ
ーノズル９０２は、１つのノズルポット９０１に対して
３個設けられ、それぞれは、ノズルポット９０１の水平
断面で見ると、中心角で１２０°ずつ離隔している。ま
た、ノズルポット９０１の底部中央には、ドレイン管９
０１ａが一体的に形成されている。このドレイン管９０
１ａは、図示しないチューブを介して、外部の吸引装置
（図示せず）と連結されている。
【００４２】上記のような構成において、ノズルポット
９０１の内周面は、図４（ｂ）に示すように、現像液吐
出ノズル６０２の外周面と協働して、液体または気体を
ドレイン管９０１ａに導くための流路を形成している。
９０１の内周面は、図４（ｂ）に示すように、現像液吐
出ノズル６０２の外周面と協働して、液体または気体を
ドレイン管９０１ａに導くための流路を形成している。
【００４３】図５は、図３に示す現像液吐出ノズル６０
２が、基板上で現像処理を終了し、ノズル待機装置９０
０に戻ってきた時点からの、ノズル待機装置９００の動
作を示すフローチャートである。以下、この図５を参照
して、図３に示すノズル待機装置９００の動作を説明す
る。まず、回動アームによって、現像液吐出ノズル６０
２が、ノズルポット９０１上で降下される。現像液吐出
ノズル６０２の降下が完了すると（ステップＳ２０
１）、現像液吐出ノズル６０２は、ノズルポット９０１
内に収納された状態になる。これによって、ノズルポッ
ト９０１の内周面と現像液吐出ノズル６０２の外周面と
の間で、液体または気体をドレイン管９０１ａに導くた
めの流路が形成される（図４（ｂ）参照）。
２が、基板上で現像処理を終了し、ノズル待機装置９０
０に戻ってきた時点からの、ノズル待機装置９００の動
作を示すフローチャートである。以下、この図５を参照
して、図３に示すノズル待機装置９００の動作を説明す
る。まず、回動アームによって、現像液吐出ノズル６０
２が、ノズルポット９０１上で降下される。現像液吐出
ノズル６０２の降下が完了すると（ステップＳ２０
１）、現像液吐出ノズル６０２は、ノズルポット９０１
内に収納された状態になる。これによって、ノズルポッ
ト９０１の内周面と現像液吐出ノズル６０２の外周面と
の間で、液体または気体をドレイン管９０１ａに導くた
めの流路が形成される（図４（ｂ）参照）。
【００４４】次に、切替弁９０４が、洗浄／ブローノズ
ル９０２に対して、洗浄液すなわち純水を供給する状態
に切り換えられる（ステップＳ２０２）。これによっ
て、洗浄／ブローノズル９０２から現像液吐出ノズル６
０２の外周面に対して、純水が吐出される（ステップＳ
２０３）。その結果、現像液吐出ノズル６０２の先端部
が洗浄され、その表面に付着している現像液またはゴミ
等の不純物が洗い流される。なお、洗浄／ブローノズル
９０２は、図４（ｂ）に示すように、現像液吐出ノズル
６０２の周囲に複数個配置されているので、現像液吐出
ノズル６０２の外周面全体がまんべんなく洗浄される。
また、洗浄によって生じた廃液は、ドレイン管９０１ａ
を介して外部へと排出される。洗浄／ブローノズル９０
２により現像液吐出ノズル６０２の洗浄処理が所定時間
行われると、洗浄／ブローノズル９０２に対する純水の
供給が停止され、洗浄処理が終了する（ステップＳ２０
４）。このとき、現像液吐出ノズル６０２の外周面に
は、洗浄に使用した純水の液滴、または洗浄しきれなか
った現像液と純水との混合液の液滴が付着する可能性が
ある。この液滴は、以下に説明するように、窒素ガスの
ブローによって、ノズルポット９０１外に排出される。
ル９０２に対して、洗浄液すなわち純水を供給する状態
に切り換えられる（ステップＳ２０２）。これによっ
て、洗浄／ブローノズル９０２から現像液吐出ノズル６
０２の外周面に対して、純水が吐出される（ステップＳ
２０３）。その結果、現像液吐出ノズル６０２の先端部
が洗浄され、その表面に付着している現像液またはゴミ
等の不純物が洗い流される。なお、洗浄／ブローノズル
９０２は、図４（ｂ）に示すように、現像液吐出ノズル
６０２の周囲に複数個配置されているので、現像液吐出
ノズル６０２の外周面全体がまんべんなく洗浄される。
また、洗浄によって生じた廃液は、ドレイン管９０１ａ
を介して外部へと排出される。洗浄／ブローノズル９０
２により現像液吐出ノズル６０２の洗浄処理が所定時間
行われると、洗浄／ブローノズル９０２に対する純水の
供給が停止され、洗浄処理が終了する（ステップＳ２０
４）。このとき、現像液吐出ノズル６０２の外周面に
は、洗浄に使用した純水の液滴、または洗浄しきれなか
った現像液と純水との混合液の液滴が付着する可能性が
ある。この液滴は、以下に説明するように、窒素ガスの
ブローによって、ノズルポット９０１外に排出される。
【００４５】次に、切替弁９０４が、洗浄／ブローノズ
ル９０２に対して、窒素ガスを供給する状態に切り換え
られる（ステップＳ２０５）。これによって、洗浄／ブ
ローノズル９０２から現像液吐出ノズル６０２の外周面
に対して、窒素ガスが吐出される（ステップＳ２０
６）。次に、図示しない外部の吸引装置が作動を開始す
る（ステップＳ２０７）。これによって、ドレイン管９
０１ａ内の気圧が低下し、ノズルポット９０１の内周面
と現像液吐出ノズル６０２の外周面との間で形成される
流路を、窒素ガスが流れる。その結果、窒素ガスの流圧
によって、現像液吐出ノズル６０２の外周面に付着して
いる液滴が吹き飛ばされ、窒素ガスと共に、ドレイン管
９０１ａから外部へと放出される。
ル９０２に対して、窒素ガスを供給する状態に切り換え
られる（ステップＳ２０５）。これによって、洗浄／ブ
ローノズル９０２から現像液吐出ノズル６０２の外周面
に対して、窒素ガスが吐出される（ステップＳ２０
６）。次に、図示しない外部の吸引装置が作動を開始す
る（ステップＳ２０７）。これによって、ドレイン管９
０１ａ内の気圧が低下し、ノズルポット９０１の内周面
と現像液吐出ノズル６０２の外周面との間で形成される
流路を、窒素ガスが流れる。その結果、窒素ガスの流圧
によって、現像液吐出ノズル６０２の外周面に付着して
いる液滴が吹き飛ばされ、窒素ガスと共に、ドレイン管
９０１ａから外部へと放出される。
【００４６】次に、外部の吸引装置の作動が停止される
と共に、洗浄／ブローノズル９０２に対する窒素ガスの
供給が停止される（ステップＳ２０８）。これによっ
て、窒素ガスのブローによる液滴の除去動作が終了す
る。なお、前述の第１の実施形態と同様に、吸引装置の
動作停止後も、窒素ガスを弱い圧力で洗浄／ブローノズ
ル９０２に供給するようにしても良い。また、液滴の除
去動作に使用される窒素ガスは、好ましくは、前述の第
１の実施形態と同様、その温度が、現像液の常温とほぼ
同温度となるように温度調整されている。
と共に、洗浄／ブローノズル９０２に対する窒素ガスの
供給が停止される（ステップＳ２０８）。これによっ
て、窒素ガスのブローによる液滴の除去動作が終了す
る。なお、前述の第１の実施形態と同様に、吸引装置の
動作停止後も、窒素ガスを弱い圧力で洗浄／ブローノズ
ル９０２に供給するようにしても良い。また、液滴の除
去動作に使用される窒素ガスは、好ましくは、前述の第
１の実施形態と同様、その温度が、現像液の常温とほぼ
同温度となるように温度調整されている。
【００４７】所定のノズル待機時間を経て、次の現像処
理が近くなると、図２のステップＳ１０８と同様に、現
像液のプリディスペンスが行われる（ステップＳ２０
９）。すなわち、図示しない現像液タンクから現像液吐
出ノズル６０２に対して所定量の現像液が供給され、現
像液吐出ノズル６０２から吐出される。これによって、
現像液吐出ノズル６０２の吐出口から内部に混入した空
気が、外部へ排除される。なお、プリディスペンスによ
って現像液吐出ノズル６０２から吐出された現像液は、
ドレイン管９０１ａを介して外部へと放出される。
理が近くなると、図２のステップＳ１０８と同様に、現
像液のプリディスペンスが行われる（ステップＳ２０
９）。すなわち、図示しない現像液タンクから現像液吐
出ノズル６０２に対して所定量の現像液が供給され、現
像液吐出ノズル６０２から吐出される。これによって、
現像液吐出ノズル６０２の吐出口から内部に混入した空
気が、外部へ排除される。なお、プリディスペンスによ
って現像液吐出ノズル６０２から吐出された現像液は、
ドレイン管９０１ａを介して外部へと放出される。
【００４８】上記のようなプリディスペンスによって現
像液吐出ノズル６０１の外周面に付着した液滴を除去す
るために、再び、切替弁９０４が、洗浄／ブローノズル
９０２に対して、窒素ガスを供給する状態に切り換えら
れる（ステップＳ２１０）。これによって、洗浄／ブロ
ーノズル９０２から現像液吐出ノズル６０２の外周面に
対して、窒素ガスが吐出される（ステップＳ２１１）。
次に、外部の吸引装置が作動を開始する（ステップＳ２
１２）。その結果、現像液吐出ノズル６０２の外周面に
付着した液滴が、窒素ガスの流圧によって除去される。
このとき使用される窒素ガスも、前述と同様に温度調整
されている。なお、窒素ガスによる液滴の除去前に、必
要に応じて、純水による現像液吐出ノズル６０２の洗浄
処理（ステップＳ２０２〜Ｓ２０４と同様の処理）を行
うようにしても良い。次に、外部の吸引装置の作動が停
止されると共に、洗浄／ブローノズル９０２に対する窒
素ガスの供給が停止される（ステップＳ２１３）。これ
によって、窒素ガスのブローによる液滴の除去動作が終
了する。次に、回動アームによって現像液吐出ノズル６
０２が上昇され（ステップＳ２１４）、ノズルの待機動
作が終了する。
像液吐出ノズル６０１の外周面に付着した液滴を除去す
るために、再び、切替弁９０４が、洗浄／ブローノズル
９０２に対して、窒素ガスを供給する状態に切り換えら
れる（ステップＳ２１０）。これによって、洗浄／ブロ
ーノズル９０２から現像液吐出ノズル６０２の外周面に
対して、窒素ガスが吐出される（ステップＳ２１１）。
次に、外部の吸引装置が作動を開始する（ステップＳ２
１２）。その結果、現像液吐出ノズル６０２の外周面に
付着した液滴が、窒素ガスの流圧によって除去される。
このとき使用される窒素ガスも、前述と同様に温度調整
されている。なお、窒素ガスによる液滴の除去前に、必
要に応じて、純水による現像液吐出ノズル６０２の洗浄
処理（ステップＳ２０２〜Ｓ２０４と同様の処理）を行
うようにしても良い。次に、外部の吸引装置の作動が停
止されると共に、洗浄／ブローノズル９０２に対する窒
素ガスの供給が停止される（ステップＳ２１３）。これ
によって、窒素ガスのブローによる液滴の除去動作が終
了する。次に、回動アームによって現像液吐出ノズル６
０２が上昇され（ステップＳ２１４）、ノズルの待機動
作が終了する。
【００４９】なお、上記各実施形態では、ノズルポット
内に窒素ガスを供給するようにしたが、その他の不活性
ガス（例えば、ヘリウムガス）を供給するようにしても
良い。また、現像液の劣化がそれほど問題にならないの
であれば、反応性の低いその他の気体（例えば、空気）
を供給するようにしても良い。
内に窒素ガスを供給するようにしたが、その他の不活性
ガス（例えば、ヘリウムガス）を供給するようにしても
良い。また、現像液の劣化がそれほど問題にならないの
であれば、反応性の低いその他の気体（例えば、空気）
を供給するようにしても良い。
【図１】本発明の第１の実施形態に係るノズル待機装置
８００の構成を示す断面図である。
８００の構成を示す断面図である。
【図２】図１に示す現像液吐出ノズル６０１が、基板上
で現像処理を終了し、ノズル待機装置８００に戻ってき
た時点からの、ノズル待機装置８００の動作を示すフロ
ーチャートである。
で現像処理を終了し、ノズル待機装置８００に戻ってき
た時点からの、ノズル待機装置８００の動作を示すフロ
ーチャートである。
【図３】本発明の第２の実施形態に係るノズル待機装置
９００の構成を示す縦断面図である。
９００の構成を示す縦断面図である。
【図４】図３に示すノズル待機装置９００における部分
詳細図であり、特に、図４（ａ）はノズルポット９０１
の横断面図であり、図４（ｂ）はノズルポット９０１に
おける流路を詳細に示す部分拡大図である。
詳細図であり、特に、図４（ａ）はノズルポット９０１
の横断面図であり、図４（ｂ）はノズルポット９０１に
おける流路を詳細に示す部分拡大図である。
【図５】図３に示す現像液吐出ノズル６０２が、基板上
で現像処理を終了し、ノズル待機装置９００に戻ってき
た時点からの、ノズル待機装置９００の動作を示すフロ
ーチャートである。
で現像処理を終了し、ノズル待機装置９００に戻ってき
た時点からの、ノズル待機装置９００の動作を示すフロ
ーチャートである。
【図６】従来の現像装置の構成を示す斜視図である。
【図７】図６に示す待機ポット７内の構成を示す断面図
である。
である。
【図８】図６および図７に示す現像液吐出ノズル６に対
する現像液および洗浄液の供給経路を示す図である。
する現像液および洗浄液の供給経路を示す図である。
６０１，６０２…現像液吐出ノズル ８００…ノズル待機装置 ８０１…ノズルポット ８０１ａ…ドレイン管 ８０２…洗浄ノズル ８０３…流路形成部材 ８０４…純水供給用の配管 ８０５…窒素ガス供給用の配管 ８０６…支持棒 ９００…ノズル待機装置 ９０１…ノズルポット ９０１ａ…ドレイン管 ９０２…洗浄／ブローノズル ９０４…切替弁
Claims (7)
- 【請求項１】 基板に対して現像液の吐出が終了した現
像液吐出ノズルを、基板外で待機させるための装置であ
って、 前記現像液吐出ノズルを個別的に収納するノズルポット
と、 前記ノズルポットの底部に設けられるドレイン管と、 前記ノズルポット内に所定の気体を供給する気体供給手
段と、 前記ドレイン管を介して前記ノズルポット内の流体を吸
引する吸引手段とを備え、 前記気体供給手段による気体供給と前記吸引手段による
吸引とによって前記ノズルポット内で気体流を形成し、
当該気体流の流圧によって前記現像液吐出ノズル外周面
に付着した液滴を除去することを特徴とする、ノズル待
機装置。 - 【請求項２】 前記ノズルポット内に供給される気体
は、前記現像液の使用温度と一致するように、温度調整
されていることを特徴とする、請求項１に記載のノズル
待機装置。 - 【請求項３】 前記ノズルポット内に供給される気体
は、不活性ガスである、請求項１または２に記載のノズ
ル待機装置。 - 【請求項４】 前記ノズルポット内に供給される気体
は、窒素ガスである、請求項３に記載のノズル待機装
置。 - 【請求項５】 前記気体供給手段は、前記吸引手段の停
止後も、前記ノズルポット内に不活性ガスを供給するこ
とを特徴とする、請求項３に記載のノズル待機装置。 - 【請求項６】 前記ノズルポット内において、前記現像
液吐出ノズルの外周面に対して洗浄液を吐出することに
より、現像液吐出ノズルの外周面に付着した汚れを洗浄
するための洗浄手段をさらに備える、請求項１〜５のい
ずれかに記載のノズル待機装置。 - 【請求項７】 現像液の吐出が終了した現像液吐出ノズ
ルを、基板外で待機させるための装置であって、 前記現像液吐出ノズルを個別的に収納するノズルポット
と、 前記ノズルポットの底部に設けられるドレイン管と、 前記ノズルポット内において、前記現像液吐出ノズルの
外周面に対して洗浄液を吐出することにより、現像液吐
出ノズルの外周面に付着した汚れを洗浄するための洗浄
手段とを備える、ノズル待機装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31251395A JP3391963B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | ノズル待機装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31251395A JP3391963B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | ノズル待機装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09152717A true JPH09152717A (ja) | 1997-06-10 |
| JP3391963B2 JP3391963B2 (ja) | 2003-03-31 |
Family
ID=18030133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31251395A Expired - Lifetime JP3391963B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | ノズル待機装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3391963B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11329955A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-30 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置および処理方法 |
| KR100505180B1 (ko) * | 2002-02-20 | 2005-08-01 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 노즐세정장치를 구비한 액정적하장치 및 액정적하방법 |
| JP2010082582A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Sokudo Co Ltd | 薬液吐出用ノズルの待機ポット及び薬液塗布装置並びに薬液塗布方法 |
| KR20120016011A (ko) * | 2010-08-12 | 2012-02-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액 처리 장치, 액 처리 방법 및 기억 매체 |
| JP2013243284A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Sokudo Co Ltd | 現像処理装置 |
| US9927760B2 (en) | 2012-05-22 | 2018-03-27 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Development processing device |
| KR20230097352A (ko) * | 2021-12-24 | 2023-07-03 | 세메스 주식회사 | 홈 포트 및 기판 처리 장치 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06254464A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Seikosha Co Ltd | 液状物吐出装置 |
| JPH06318543A (ja) * | 1992-01-08 | 1994-11-15 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JPH0725967A (ja) * | 1993-07-06 | 1995-01-27 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 親水性一液型ポリウレタン組成物、防水材、壁材、床舗装材及び水膨潤性シ−リング材 |
-
1995
- 1995-11-30 JP JP31251395A patent/JP3391963B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06318543A (ja) * | 1992-01-08 | 1994-11-15 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JPH06254464A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Seikosha Co Ltd | 液状物吐出装置 |
| JPH0725967A (ja) * | 1993-07-06 | 1995-01-27 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 親水性一液型ポリウレタン組成物、防水材、壁材、床舗装材及び水膨潤性シ−リング材 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11329955A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-30 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置および処理方法 |
| KR100505180B1 (ko) * | 2002-02-20 | 2005-08-01 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 노즐세정장치를 구비한 액정적하장치 및 액정적하방법 |
| JP2010082582A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Sokudo Co Ltd | 薬液吐出用ノズルの待機ポット及び薬液塗布装置並びに薬液塗布方法 |
| KR20120016011A (ko) * | 2010-08-12 | 2012-02-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액 처리 장치, 액 처리 방법 및 기억 매체 |
| JP2012043836A (ja) * | 2010-08-12 | 2012-03-01 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
| JP2013243284A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Sokudo Co Ltd | 現像処理装置 |
| US9927760B2 (en) | 2012-05-22 | 2018-03-27 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Development processing device |
| US10960426B2 (en) | 2012-05-22 | 2021-03-30 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Development processing device |
| KR20230097352A (ko) * | 2021-12-24 | 2023-07-03 | 세메스 주식회사 | 홈 포트 및 기판 처리 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3391963B2 (ja) | 2003-03-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3265238B2 (ja) | 液膜形成装置及びその方法 | |
| US6090205A (en) | Apparatus for processing substrate | |
| US5939139A (en) | Method of removing coated film from substrate edge surface and apparatus for removing coated film | |
| KR101139202B1 (ko) | 노즐 세정 장치, 노즐 세정 방법 및 노즐 세정 프로그램을기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 | |
| KR101015659B1 (ko) | 기판 세정방법 및 현상 장치 | |
| US5854953A (en) | Method for developing treatment | |
| US8147153B2 (en) | Rinsing method, developing method, developing system and computer-read storage medium | |
| JP3391963B2 (ja) | ノズル待機装置 | |
| KR20190015998A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
| KR101840842B1 (ko) | 액처리 장치 및 액처리 방법 그리고 액처리용 기억 매체 | |
| JP3580664B2 (ja) | 現像装置および現像方法 | |
| JPH09298181A (ja) | 基板の裏面洗浄装置 | |
| JP2891951B2 (ja) | フォトレジスト現像装置 | |
| JP2003178944A (ja) | 現像処理方法及び現像処理装置 | |
| US6289550B1 (en) | Jet cleaning device for developing station | |
| JP2002166217A (ja) | 基板処理装置 | |
| US6357938B1 (en) | Coating and developing process system | |
| JP6648248B2 (ja) | 基板処理方法 | |
| JP2004260214A (ja) | 現像装置および現像方法 | |
| JPH039328Y2 (ja) | ||
| JPH09152272A (ja) | 回転式基板乾燥方法および回転式基板乾燥装置 | |
| JP3338544B2 (ja) | 乾燥方法及び乾燥装置 | |
| JPH09148212A (ja) | 薬液吐出ノズル | |
| JP3342790B2 (ja) | ノズル待機ポット | |
| JP2000340491A (ja) | 回転式基板処理装置及び回転式基板処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090124 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090124 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100124 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100124 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100124 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110124 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110124 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120124 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120124 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130124 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130124 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130124 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140124 Year of fee payment: 11 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |