JPH0878310A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
露光装置及び露光方法Info
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- JPH0878310A JPH0878310A JP6212438A JP21243894A JPH0878310A JP H0878310 A JPH0878310 A JP H0878310A JP 6212438 A JP6212438 A JP 6212438A JP 21243894 A JP21243894 A JP 21243894A JP H0878310 A JPH0878310 A JP H0878310A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- stage
- control unit
- distance
- substrate
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 よりスループットが高く、ステップ動作に起
因して生じる位置ずれを発生させない。 【構成】 第１のフォトマスクＭ1 を保持する第１マス
クステージと、第２のフォトマスクＭ2 を保持する第２
マスクステージとは、これらが走査方向（Ｚ方向）に沿
って配列されるように主ステージ上に設けられる。この
主ステージと、基板Ｐを保持する基板ステージとは、走
査方向に沿って可動に設けられる。
因して生じる位置ずれを発生させない。 【構成】 第１のフォトマスクＭ1 を保持する第１マス
クステージと、第２のフォトマスクＭ2 を保持する第２
マスクステージとは、これらが走査方向（Ｚ方向）に沿
って配列されるように主ステージ上に設けられる。この
主ステージと、基板Ｐを保持する基板ステージとは、走
査方向に沿って可動に設けられる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトマスクと基板と
を移動させつつ、フォトマスクの像を基板上に投影露光
を行う走査型の露光装置に関する。
を移動させつつ、フォトマスクの像を基板上に投影露光
を行う走査型の露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ワープロ、パソコン、テレビ等に
用いられる表示素子として、液晶表示パネルが多用され
るようになった。このような液晶表示パネルの製造の際
には、ガラス基板上に薄膜電極をフォトリソグラフィの
手法で所望の形状にパターンニングを行っている。この
種の装置として、例えば図２０に示す如きミラープロジ
ェクションタイプのアライナーが知られている。
用いられる表示素子として、液晶表示パネルが多用され
るようになった。このような液晶表示パネルの製造の際
には、ガラス基板上に薄膜電極をフォトリソグラフィの
手法で所望の形状にパターンニングを行っている。この
種の装置として、例えば図２０に示す如きミラープロジ
ェクションタイプのアライナーが知られている。
【０００３】図２０において、図示なき照明光学系によ
りマスクＭが円弧状の照明領域ＭＩにより照明される。
この照明領域ＭＩからの光は、台形ミラー７１の反射面
７１ａにて光路が９０°偏向された後、凹面鏡７２及び
凸面鏡７３を順に介して再び凹面鏡７２にて反射し、台
形ミラー７１の反射面７１ｂにて光路が９０°偏向され
て、プレートＰ上に照明領域ＭＩの像ＰＩを形成する。
そして、図２０に示すミラープロジェクションタイプの
アライナーにおいては、図示なき移送機構により、マス
クＭとプレートＰとを図中矢印にて示される走査方向に
沿って移動させることにより、マスクＭの像を順次プレ
ートＰ上に転写している。
りマスクＭが円弧状の照明領域ＭＩにより照明される。
この照明領域ＭＩからの光は、台形ミラー７１の反射面
７１ａにて光路が９０°偏向された後、凹面鏡７２及び
凸面鏡７３を順に介して再び凹面鏡７２にて反射し、台
形ミラー７１の反射面７１ｂにて光路が９０°偏向され
て、プレートＰ上に照明領域ＭＩの像ＰＩを形成する。
そして、図２０に示すミラープロジェクションタイプの
アライナーにおいては、図示なき移送機構により、マス
クＭとプレートＰとを図中矢印にて示される走査方向に
沿って移動させることにより、マスクＭの像を順次プレ
ートＰ上に転写している。
【０００４】また、ワープロ、パソコン、テレビ等に用
いられる液晶表示パネルの画面サイズは１０インチ〜１
２インチのものが主流となっている。図６に示す従来の
ミラープロジェクションタイプのアライナーでは、他の
プロセスにおける歩留りの向上やスループットの向上の
ために、１つのプレートから複数の液晶表示パネルを製
造することが行われている。例えば、従来においては、
マスクのサイズが１２インチの２枚分である約４００×
５００ｍｍ程度のものしか存在しないため、このサイズ
のマスクを用いて、１枚のプレートから４つの液晶表示
パネルを製造することが行われている。
いられる液晶表示パネルの画面サイズは１０インチ〜１
２インチのものが主流となっている。図６に示す従来の
ミラープロジェクションタイプのアライナーでは、他の
プロセスにおける歩留りの向上やスループットの向上の
ために、１つのプレートから複数の液晶表示パネルを製
造することが行われている。例えば、従来においては、
マスクのサイズが１２インチの２枚分である約４００×
５００ｍｍ程度のものしか存在しないため、このサイズ
のマスクを用いて、１枚のプレートから４つの液晶表示
パネルを製造することが行われている。
【０００５】具体的には、まず、図２１(a) に示す如き
２つの液晶表示パネルの回路パターンＣＰa 、ＣＰb が
設けられた第１のマスクＭ1 と、図２１(b) に示す如き
プレートＰとを走査しつつ第１のマスクＭ1 の像をプレ
ートＰ上の領域Ｐ1 に転写する。次に、第１のマスクＭ
1 を、図２１(c) に示す如き２つの液晶表示パネルの回
路パターンＣＰc 、ＣＰd が設けられた第２のマスクＭ
2 と交換し、プレートＰを走査直交方向（ステップ方
向）に移動させた後、第２のマスクＭ2 とプレートＰと
を走査しつつ第２のマスクＭ2 の像をプレートＰ上の領
域Ｐ2 に転写する。これにより、プレートＰ上には、４
つの液晶表示パネルの回路パターンの像ＩＰa 〜ＩＰd
が形成される。
２つの液晶表示パネルの回路パターンＣＰa 、ＣＰb が
設けられた第１のマスクＭ1 と、図２１(b) に示す如き
プレートＰとを走査しつつ第１のマスクＭ1 の像をプレ
ートＰ上の領域Ｐ1 に転写する。次に、第１のマスクＭ
1 を、図２１(c) に示す如き２つの液晶表示パネルの回
路パターンＣＰc 、ＣＰd が設けられた第２のマスクＭ
2 と交換し、プレートＰを走査直交方向（ステップ方
向）に移動させた後、第２のマスクＭ2 とプレートＰと
を走査しつつ第２のマスクＭ2 の像をプレートＰ上の領
域Ｐ2 に転写する。これにより、プレートＰ上には、４
つの液晶表示パネルの回路パターンの像ＩＰa 〜ＩＰd
が形成される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
如き従来の技術においては、従来よりも大きなプレート
を用いるためには、たとえ投影光学系の露光フィールド
を大きくしたとしても、マスクのサイズにより１回の走
査露光で露光できる面積が一義的に決まるため、マスク
自体を大型化するか、若しくはマスクの枚数を増やす必
要がある。ここで、マスクに要求される精度を考える
と、マスク自体を大型化することはコストの点において
現実的ではない。
如き従来の技術においては、従来よりも大きなプレート
を用いるためには、たとえ投影光学系の露光フィールド
を大きくしたとしても、マスクのサイズにより１回の走
査露光で露光できる面積が一義的に決まるため、マスク
自体を大型化するか、若しくはマスクの枚数を増やす必
要がある。ここで、マスクに要求される精度を考える
と、マスク自体を大型化することはコストの点において
現実的ではない。
【０００７】また、マスクの枚数を増やす場合には、マ
スクを交換する動作が必要となる。また、プレート自体
を走査直交方向に移動させる動作（ステップ動作）を正
確に行うためには、アライメントを行う必要がある。こ
のため、スループットの低下を招く問題点がある。そこ
で、本発明は、よりスループットが高く、ステップ動作
に起因して生ずる位置ずれを生じない露光装置及び露光
方法を提供することを目的とする。
スクを交換する動作が必要となる。また、プレート自体
を走査直交方向に移動させる動作（ステップ動作）を正
確に行うためには、アライメントを行う必要がある。こ
のため、スループットの低下を招く問題点がある。そこ
で、本発明は、よりスループットが高く、ステップ動作
に起因して生ずる位置ずれを生じない露光装置及び露光
方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明による露光装置は、例えば図４乃至図６に
示す如く、フォトマスク上のパターンを基板上に投影す
る投影光学系(PLa〜PLe)を有し、フォトマスクと基板と
を投影光学系に対して移動させつつ、照明光学系による
照明光に基づいてパターンを基板上に露光する露光装置
であって、第１のフォトマスク(M1)を保持する第１マス
クステージ(TM1) と、第２のフォトマスク(M2)を保持す
る第２マスクステージ(TM2) と、第１及び第２マスクス
テージがフォトマスクの移動方向に沿って配列されるよ
うに設けられた主ステージ(ST)と、基板を保持する基板
ステージ(PS)とを有するように構成される。そして、主
ステージと基板ステージとは、移動方向に沿って可動に
構成される。
めに、本発明による露光装置は、例えば図４乃至図６に
示す如く、フォトマスク上のパターンを基板上に投影す
る投影光学系(PLa〜PLe)を有し、フォトマスクと基板と
を投影光学系に対して移動させつつ、照明光学系による
照明光に基づいてパターンを基板上に露光する露光装置
であって、第１のフォトマスク(M1)を保持する第１マス
クステージ(TM1) と、第２のフォトマスク(M2)を保持す
る第２マスクステージ(TM2) と、第１及び第２マスクス
テージがフォトマスクの移動方向に沿って配列されるよ
うに設けられた主ステージ(ST)と、基板を保持する基板
ステージ(PS)とを有するように構成される。そして、主
ステージと基板ステージとは、移動方向に沿って可動に
構成される。
【０００９】また、上述の目的を達成するために、本発
明による露光方法は、フォトマスク上のパターンを基板
上に投影する投影光学系に対して、フォトマスクと基板
とを移動させつつ、照明光学系による照明光に基づいて
パターンを基板上に露光する露光方法であって、移動の
方向に沿って配列された第１及び第２フォトマスクを一
体に移動させ、かつ基板を移動させつつ、第１及び第２
フォトマスク上のパターンを基板上に露光するものであ
る。
明による露光方法は、フォトマスク上のパターンを基板
上に投影する投影光学系に対して、フォトマスクと基板
とを移動させつつ、照明光学系による照明光に基づいて
パターンを基板上に露光する露光方法であって、移動の
方向に沿って配列された第１及び第２フォトマスクを一
体に移動させ、かつ基板を移動させつつ、第１及び第２
フォトマスク上のパターンを基板上に露光するものであ
る。
【００１０】
【作用】本発明においては、例えば図４に示す如く、第
１フォトマスク(M1)と第２フォトマスク(M2)とを走査方
向に沿って配置しているため、複数のマスクを一回の走
査により露光することができる。このため、本発明で
は、ステップ動作を行う場合に生じるスループットの低
下及び位置ずれを生じることなく、複数のマスクの像を
１枚のプレート上に形成することができる。
１フォトマスク(M1)と第２フォトマスク(M2)とを走査方
向に沿って配置しているため、複数のマスクを一回の走
査により露光することができる。このため、本発明で
は、ステップ動作を行う場合に生じるスループットの低
下及び位置ずれを生じることなく、複数のマスクの像を
１枚のプレート上に形成することができる。
【００１１】なお、本発明においては、例えば図５に示
す如く、第１及び第２マスクステージ(TM1,TM2) は、そ
れぞれ第１及び第２フォトマスク(M1,M2) のパターン形
成面(YZ 平面) に沿った方向において可動であるように
構成されることが好ましい。この構成により、第１及び
第２フォトマスクのパターンの像をプレート上の正確に
位置に露光することが可能となり、さらには、第１及び
第２フォトマスクのパターンをプレート(P) 上にて継い
で露光を行うこと、すなわち継ぎ露光を達成できる。
す如く、第１及び第２マスクステージ(TM1,TM2) は、そ
れぞれ第１及び第２フォトマスク(M1,M2) のパターン形
成面(YZ 平面) に沿った方向において可動であるように
構成されることが好ましい。この構成により、第１及び
第２フォトマスクのパターンの像をプレート上の正確に
位置に露光することが可能となり、さらには、第１及び
第２フォトマスクのパターンをプレート(P) 上にて継い
で露光を行うこと、すなわち継ぎ露光を達成できる。
【００１２】また、本発明において、例えばプレート
(P) 上に、第１フォトマスク(M1)のパターンと第２フォ
トマスク(M2)のパターンとを継ぎ合わせることなく転写
する場合には、すなわち、第１フォトマスク(M1)と第２
フォトマスク(M2)との継ぎ部分にパターンを形成しない
場合には、一走査で多面取り（一枚の基板から複数の液
晶表示素子を形成すること）が達成できる。このとき、
第１フォトマスク(M1)のパターンと第２フォトマスク(M
2)のパターンとの継ぎ目の精度は要求されない。
(P) 上に、第１フォトマスク(M1)のパターンと第２フォ
トマスク(M2)のパターンとを継ぎ合わせることなく転写
する場合には、すなわち、第１フォトマスク(M1)と第２
フォトマスク(M2)との継ぎ部分にパターンを形成しない
場合には、一走査で多面取り（一枚の基板から複数の液
晶表示素子を形成すること）が達成できる。このとき、
第１フォトマスク(M1)のパターンと第２フォトマスク(M
2)のパターンとの継ぎ目の精度は要求されない。
【００１３】また、本発明において、例えば図５及び図
６に示す如く、主ステージ(ST)と基板ステージ(PS)と
は、走査方向(Z方向) に沿って可動な搬送部材(c) 上に
設けられる構成とすることが好ましい。これにより、走
査露光時において、主ステージと基板ステージとが一体
に移動するため、主ステージと基板ステージとのブレに
よるパターン転写精度の低下を抑えることができる。
６に示す如く、主ステージ(ST)と基板ステージ(PS)と
は、走査方向(Z方向) に沿って可動な搬送部材(c) 上に
設けられる構成とすることが好ましい。これにより、走
査露光時において、主ステージと基板ステージとが一体
に移動するため、主ステージと基板ステージとのブレに
よるパターン転写精度の低下を抑えることができる。
【００１４】本発明においては、例えば図２に示す如
く、第１及び第２マスクステージと前記主ステージとを
共通の部材(MS)で構成することも可能である。尚、本発
明においては、例えば図４に示す如く、投影光学系は、
第１及び第２フォトマスクの等倍の正立像をプレート上
に形成する第１及び第２投影光学系(PLa,PLb) を有し、
かつこれらの第１及び第２投影光学系は、走査直交方向
(Y方向) に関して異なる位置に設けられるように構成さ
れることが好ましい。この構成により、走査方向におけ
る基板の大型化に対応できるのみならず、走査直交方向
における基板の大型化にも対応できる。尚、等倍の正立
像とは、上下左右の横倍率が＋１倍となる像のことであ
る。
く、第１及び第２マスクステージと前記主ステージとを
共通の部材(MS)で構成することも可能である。尚、本発
明においては、例えば図４に示す如く、投影光学系は、
第１及び第２フォトマスクの等倍の正立像をプレート上
に形成する第１及び第２投影光学系(PLa,PLb) を有し、
かつこれらの第１及び第２投影光学系は、走査直交方向
(Y方向) に関して異なる位置に設けられるように構成さ
れることが好ましい。この構成により、走査方向におけ
る基板の大型化に対応できるのみならず、走査直交方向
における基板の大型化にも対応できる。尚、等倍の正立
像とは、上下左右の横倍率が＋１倍となる像のことであ
る。
【００１５】
【実施例】以下、図面を参照して本発明による実施例を
説明する。図１は本発明の第１実施例を模式的に示す斜
視図である。この第１実施例は、本発明をミラープロジ
ェクションタイプの露光装置に適用したものである。
尚、図１においては、マスクＭ1,Ｍ2 の走査方向をＺ軸
とし、マスクＭ1,Ｍ2 のパターン形成面内において走査
方向と直交する方向をＹ軸とし、これらのＹ軸及びＺ軸
と直交する方向をＸ軸とする。
説明する。図１は本発明の第１実施例を模式的に示す斜
視図である。この第１実施例は、本発明をミラープロジ
ェクションタイプの露光装置に適用したものである。
尚、図１においては、マスクＭ1,Ｍ2 の走査方向をＺ軸
とし、マスクＭ1,Ｍ2 のパターン形成面内において走査
方向と直交する方向をＹ軸とし、これらのＹ軸及びＺ軸
と直交する方向をＸ軸とする。
【００１６】図１において、マスクＭ1 は、図示なき照
明光学系からの露光光により形成された円弧形状の照明
領域ＭＩにて照明される。照明領域ＭＩにて照明された
マスクＭ1 からの光は、台形ミラー１の反射面１ａによ
り９０°偏向された後、凹面鏡２、凸面鏡３を順に介し
て再び凹面鏡２にて反射される。凹面鏡２にて反射され
た光は台形ミラー１の反射面１ｂに達し、その光路が９
０°偏向されてプレートＰ上に達する。この投影光学系
１〜３により、プレートＰ上には照明領域ＭＩの像ＰＩ
が形成される。尚、照明領域ＭＩの像ＰＩは、図中Ｚ方
向の倍率が＋１倍となり、かつ図中Ｙ方向における倍率
が−１倍となる像である。
明光学系からの露光光により形成された円弧形状の照明
領域ＭＩにて照明される。照明領域ＭＩにて照明された
マスクＭ1 からの光は、台形ミラー１の反射面１ａによ
り９０°偏向された後、凹面鏡２、凸面鏡３を順に介し
て再び凹面鏡２にて反射される。凹面鏡２にて反射され
た光は台形ミラー１の反射面１ｂに達し、その光路が９
０°偏向されてプレートＰ上に達する。この投影光学系
１〜３により、プレートＰ上には照明領域ＭＩの像ＰＩ
が形成される。尚、照明領域ＭＩの像ＰＩは、図中Ｚ方
向の倍率が＋１倍となり、かつ図中Ｙ方向における倍率
が−１倍となる像である。
【００１７】ここで、マスクＭ1 とマスクＭ2 とは、図
２に示す如きマスクステージＭＳ上に載置されている。
図２において、マスクステージＭＳは、ＹＺ平面内にお
いて矩形形状の２つの開口部ＯＰ1,ＯＰ2 を有する。ま
た、マスクステージＭＳ上には、ＹＺ平面においてＬ字
形状の反射部材ＩM が設けられている。このマスクステ
ージＭＳは、ＸＹ平面内においてコの字形状の断面を有
するキャリッジＣ上に設けられており、このキャリッジ
Ｃ上には、ＹＺ平面においてＬ字形状である反射部材Ｉ
P を有するプレートステージＰＳが設けられている。こ
こで、キャリッジＣは、図中Ｚ方向に沿って移動可能に
設けられており、マスクステージＭＳとプレートステー
ジＰＳとは、図中ＹＺ平面内に沿った方向において移動
可能に設けられている。すなわち、本実施例において
は、マスクステージＭＳが第１及び第２マスクステージ
と主ステージとに対応し、プレートステージＰＳが基板
ステージに対応している。さらに、本実施例では、キャ
リッジＣが搬送部材に対応している。
２に示す如きマスクステージＭＳ上に載置されている。
図２において、マスクステージＭＳは、ＹＺ平面内にお
いて矩形形状の２つの開口部ＯＰ1,ＯＰ2 を有する。ま
た、マスクステージＭＳ上には、ＹＺ平面においてＬ字
形状の反射部材ＩM が設けられている。このマスクステ
ージＭＳは、ＸＹ平面内においてコの字形状の断面を有
するキャリッジＣ上に設けられており、このキャリッジ
Ｃ上には、ＹＺ平面においてＬ字形状である反射部材Ｉ
P を有するプレートステージＰＳが設けられている。こ
こで、キャリッジＣは、図中Ｚ方向に沿って移動可能に
設けられており、マスクステージＭＳとプレートステー
ジＰＳとは、図中ＹＺ平面内に沿った方向において移動
可能に設けられている。すなわち、本実施例において
は、マスクステージＭＳが第１及び第２マスクステージ
と主ステージとに対応し、プレートステージＰＳが基板
ステージに対応している。さらに、本実施例では、キャ
リッジＣが搬送部材に対応している。
【００１８】さて、図１に戻って、本実施例において
は、マスクステージＭＳの位置を検出するためのマスク
側干渉計と、プレートステージＰＳの位置を検出するた
めのプレート側干渉計との２つの干渉計を有している。
ここで、マスク側干渉計は、例えばHe-Ne レーザから構
成されるレーザ光源ＬＭと、このレーザ光源ＬＭからの
レーザビームをＹ方向検出系とＺ方向検出系とに分割す
るビームスプリッタＳＭ 1 と、ビームスプリッタＳＭ1
にて分割されたレーザビームを反射部材ＩM のＺ方向に
延びた反射面に向けるビームスプリッタＳＭ2,ＳＭ
3 と、ビームスプリッタＳＭ1 にて分割されたレーザビ
ームを反射部材ＩM のＹ方向に延びた反射面に向けるビ
ームスプリッタＳＭ4 とを有する。なお、図１において
は、固定鏡、この固定鏡へレーザビームを導く光学部材
及び参照鏡と固定鏡とによる干渉光を検出するレシーバ
は図示省略している。
は、マスクステージＭＳの位置を検出するためのマスク
側干渉計と、プレートステージＰＳの位置を検出するた
めのプレート側干渉計との２つの干渉計を有している。
ここで、マスク側干渉計は、例えばHe-Ne レーザから構
成されるレーザ光源ＬＭと、このレーザ光源ＬＭからの
レーザビームをＹ方向検出系とＺ方向検出系とに分割す
るビームスプリッタＳＭ 1 と、ビームスプリッタＳＭ1
にて分割されたレーザビームを反射部材ＩM のＺ方向に
延びた反射面に向けるビームスプリッタＳＭ2,ＳＭ
3 と、ビームスプリッタＳＭ1 にて分割されたレーザビ
ームを反射部材ＩM のＹ方向に延びた反射面に向けるビ
ームスプリッタＳＭ4 とを有する。なお、図１において
は、固定鏡、この固定鏡へレーザビームを導く光学部材
及び参照鏡と固定鏡とによる干渉光を検出するレシーバ
は図示省略している。
【００１９】また、プレート側干渉計は、例えばHe-Ne
レーザから構成されるレーザ光源ＬＰと、このレーザ光
源ＬＰからのレーザビームをＹ方向検出系とＺ方向検出
系とに分割するビームスプリッタＳＰ1 と、ビームスプ
リッタＳＰ1 にて分割されたレーザビームを反射部材Ｉ
P のＺ方向に延びた反射面に向けるビームスプリッタＳ
Ｐ2,ＳＰ3 と、ビームスプリッタＳＰ1 にて分割された
レーザビームを反射部材ＩM のＹ方向に延びた反射面に
向けるビームスプリッタＳＰ4 とを有する。なお、図１
においては、固定鏡と、この固定鏡へレーザビームを導
く光学部材と、参照鏡と固定鏡とによる干渉光を検出す
るレシーバとは図示省略している。
レーザから構成されるレーザ光源ＬＰと、このレーザ光
源ＬＰからのレーザビームをＹ方向検出系とＺ方向検出
系とに分割するビームスプリッタＳＰ1 と、ビームスプ
リッタＳＰ1 にて分割されたレーザビームを反射部材Ｉ
P のＺ方向に延びた反射面に向けるビームスプリッタＳ
Ｐ2,ＳＰ3 と、ビームスプリッタＳＰ1 にて分割された
レーザビームを反射部材ＩM のＹ方向に延びた反射面に
向けるビームスプリッタＳＰ4 とを有する。なお、図１
においては、固定鏡と、この固定鏡へレーザビームを導
く光学部材と、参照鏡と固定鏡とによる干渉光を検出す
るレシーバとは図示省略している。
【００２０】これらのマスク側干渉計とプレート側干渉
計とによって、マスクステージＭＳ及びプレートステー
ジＰＳの位置を検出することが可能となり、ひいてはフ
ォトマスクＭ1,Ｍ2 及びプレートＰの位置を検出するこ
とが可能となる。次に、図１乃至図３を参照して、本実
施例による露光装置の露光動作の一例について説明す
る。図３(a),(b) は本実施例による露光装置に用いられ
る第１及び第２フォトマスクとしてのマスクＭ1,Ｍ2 の
平面図であり、図３(c) はこれらのマスクＭ1,Ｍ2 によ
りプレートＰ上に形成されるパターンの様子を表す平面
図である。
計とによって、マスクステージＭＳ及びプレートステー
ジＰＳの位置を検出することが可能となり、ひいてはフ
ォトマスクＭ1,Ｍ2 及びプレートＰの位置を検出するこ
とが可能となる。次に、図１乃至図３を参照して、本実
施例による露光装置の露光動作の一例について説明す
る。図３(a),(b) は本実施例による露光装置に用いられ
る第１及び第２フォトマスクとしてのマスクＭ1,Ｍ2 の
平面図であり、図３(c) はこれらのマスクＭ1,Ｍ2 によ
りプレートＰ上に形成されるパターンの様子を表す平面
図である。
【００２１】図３において、マスクＭ1 には、走査直交
方向（Ｙ方向）に沿って整列された２つの回路パターン
ＣＰa,ＣＰb が設けられている。また、マスクＭ2 に
は、走査直交方向（Ｙ方向）に沿って整列された２つの
回路パターンＣＰc,ＣＰd が設けられている。ここで、
これらの回路パターンＣＰa 〜ＣＰd は、それぞれ一つ
の液晶表示パネルの回路パターンに対応している。
方向（Ｙ方向）に沿って整列された２つの回路パターン
ＣＰa,ＣＰb が設けられている。また、マスクＭ2 に
は、走査直交方向（Ｙ方向）に沿って整列された２つの
回路パターンＣＰc,ＣＰd が設けられている。ここで、
これらの回路パターンＣＰa 〜ＣＰd は、それぞれ一つ
の液晶表示パネルの回路パターンに対応している。
【００２２】図１及び図２に示すように、マスクＭ1 と
マスクＭ2 とは、キャリッジＣ上に設けられたマスクス
テージＭＳ上に走査方向（Ｚ方向）に沿って載置されて
いる。また、プレートＰは、キャリッジＣに設けられた
プレートステージＰＳ上に載置されている。ここで、図
示なき照明光学系によりマスクＭ1 に対して照明しつつ
キャリッジＣを走査方向に沿って移動させると、図３
(c) に示す如く、プレートＰ上の領域Ｐ1 には、マスク
Ｍ1 の回路パターンＣＰa,ＣＰb の像である回路パター
ン像ＩＰa,ＩＰb が形成される。さらに、キャリッジＣ
を走査方向に沿って移動させると、不図示の照明光学系
はマスクＭ2 を照明することになり、このとき、プレー
トＰ上の領域Ｐ1 とは異なる領域Ｐ2 には、マスクＭ2
の回路パターンＣＰc,ＣＰd の像である回路パターン像
ＩＰc,ＩＰd が形成される。
マスクＭ2 とは、キャリッジＣ上に設けられたマスクス
テージＭＳ上に走査方向（Ｚ方向）に沿って載置されて
いる。また、プレートＰは、キャリッジＣに設けられた
プレートステージＰＳ上に載置されている。ここで、図
示なき照明光学系によりマスクＭ1 に対して照明しつつ
キャリッジＣを走査方向に沿って移動させると、図３
(c) に示す如く、プレートＰ上の領域Ｐ1 には、マスク
Ｍ1 の回路パターンＣＰa,ＣＰb の像である回路パター
ン像ＩＰa,ＩＰb が形成される。さらに、キャリッジＣ
を走査方向に沿って移動させると、不図示の照明光学系
はマスクＭ2 を照明することになり、このとき、プレー
トＰ上の領域Ｐ1 とは異なる領域Ｐ2 には、マスクＭ2
の回路パターンＣＰc,ＣＰd の像である回路パターン像
ＩＰc,ＩＰd が形成される。
【００２３】このように本実施例では、フォトマスクの
走査方向の大きさを大きくすることなく、１回の露光動
作により大きなプレートに対して回路パターン像を形成
することができる。さらに、本実施例では、複数のマス
クを用いているにもかかわらず、走査直交方向にマスク
とプレートとを移動させるステップ動作の必要がないた
め、スループットが高い利点もある。
走査方向の大きさを大きくすることなく、１回の露光動
作により大きなプレートに対して回路パターン像を形成
することができる。さらに、本実施例では、複数のマス
クを用いているにもかかわらず、走査直交方向にマスク
とプレートとを移動させるステップ動作の必要がないた
め、スループットが高い利点もある。
【００２４】さて、上述の第１実施例においては、１つ
の投影光学系を用いているため、走査方向におけるプレ
ートの大型化には対応できるが、走査直交方向における
プレートの大型化には対応できない。このときには、上
記第１実施例の投影光学系１〜３の代わりに、マスクの
等倍の正立像を形成する複数組の投影光学系を設ければ
良い。以下、図４を参照してマスクの等倍の正立像を形
成する複数組の投影光学系を用いた第２実施例を説明す
る。図４は第２実施例による露光装置を概略的に示す斜
視図である。尚、図４においては、図１と同じ座標系を
採用している。
の投影光学系を用いているため、走査方向におけるプレ
ートの大型化には対応できるが、走査直交方向における
プレートの大型化には対応できない。このときには、上
記第１実施例の投影光学系１〜３の代わりに、マスクの
等倍の正立像を形成する複数組の投影光学系を設ければ
良い。以下、図４を参照してマスクの等倍の正立像を形
成する複数組の投影光学系を用いた第２実施例を説明す
る。図４は第２実施例による露光装置を概略的に示す斜
視図である。尚、図４においては、図１と同じ座標系を
採用している。
【００２５】図４において、図示なき照明光学系は、マ
スクＭ1 上に複数の照明領域ＭＩａ〜ＭＩｅを形成す
る。これらの照明領域ＭＩａ〜ＭＩｅにより照明された
マスクＭ1 の像は、５組の投影光学系ＰＬａ〜ＰＬｅに
よりプレートＰ上に照明領域ＭＩａ〜ＭＩｅの等倍の正
立像である露光領域ＰＩａ〜ＰＩｅを形成する。ここ
で、投影光学系ＰＬａは、互いに直交する２つの反射面
を持つ光路偏向部材１１ａ，２１ａとレンズ系１２ａ，
２２ａとレンズ系１２ａ，２２ａの前側焦点位置に配置
された平面鏡１３ａ，２３ａとから構成される。
スクＭ1 上に複数の照明領域ＭＩａ〜ＭＩｅを形成す
る。これらの照明領域ＭＩａ〜ＭＩｅにより照明された
マスクＭ1 の像は、５組の投影光学系ＰＬａ〜ＰＬｅに
よりプレートＰ上に照明領域ＭＩａ〜ＭＩｅの等倍の正
立像である露光領域ＰＩａ〜ＰＩｅを形成する。ここ
で、投影光学系ＰＬａは、互いに直交する２つの反射面
を持つ光路偏向部材１１ａ，２１ａとレンズ系１２ａ，
２２ａとレンズ系１２ａ，２２ａの前側焦点位置に配置
された平面鏡１３ａ，２３ａとから構成される。
【００２６】そして、投影光学系ＰＬａにおいて、マス
クＭ1 上の照明領域ＭＩａからの光は、光路偏向部材１
１ａにより光路が９０度偏向された後、レンズ系１２ａ
を介して屈折され、平面鏡１３ａに達する。ここで、平
面鏡１３ａは投影光学系ＰＬａの瞳位置となるため、こ
こには、照明領域ＭＩａ内のマスクＭ1 のフーリエ変換
像が形成される。次に、平面鏡１３ａにて反射されたレ
ンズ系１２ａからの光は、レンズ系１２を再び介した後
に光路偏向部材１１ａにて光路が９０度偏向される。こ
こで、光路偏向部材の射出側には、照明領域ＭＩａ内の
マスクＭ1 の等倍の倒立像が形成される。この倒立像
は、走査方向（Ｚ方向）において横倍率が＋１倍とな
り、走査直交方向（Ｙ方向）において横倍率が−１倍と
なる。
クＭ1 上の照明領域ＭＩａからの光は、光路偏向部材１
１ａにより光路が９０度偏向された後、レンズ系１２ａ
を介して屈折され、平面鏡１３ａに達する。ここで、平
面鏡１３ａは投影光学系ＰＬａの瞳位置となるため、こ
こには、照明領域ＭＩａ内のマスクＭ1 のフーリエ変換
像が形成される。次に、平面鏡１３ａにて反射されたレ
ンズ系１２ａからの光は、レンズ系１２を再び介した後
に光路偏向部材１１ａにて光路が９０度偏向される。こ
こで、光路偏向部材の射出側には、照明領域ＭＩａ内の
マスクＭ1 の等倍の倒立像が形成される。この倒立像
は、走査方向（Ｚ方向）において横倍率が＋１倍とな
り、走査直交方向（Ｙ方向）において横倍率が−１倍と
なる。
【００２７】さて、等倍の倒立像からの光は、光路偏向
部材２１ａにより９０度曲げられてレンズ系２２ａを介
し、平面鏡２３ａにて反射される。平面鏡２３ａにて反
射された光は、再びレンズ系２２ａを介した後、光路偏
向部材により光路が９０度偏向され、プレートＰ上に達
する。このとき、プレートＰ上には、照明領域ＭＩａ内
のマスクＭ1 の等倍の正立像である露光領域ＰＩａが形
成される。
部材２１ａにより９０度曲げられてレンズ系２２ａを介
し、平面鏡２３ａにて反射される。平面鏡２３ａにて反
射された光は、再びレンズ系２２ａを介した後、光路偏
向部材により光路が９０度偏向され、プレートＰ上に達
する。このとき、プレートＰ上には、照明領域ＭＩａ内
のマスクＭ1 の等倍の正立像である露光領域ＰＩａが形
成される。
【００２８】本実施例においては、投影光学系ＰＬａ，
ＰＬｃ，ＰＬｅは、走査方向（Ｚ方向）に関して同じ位
置となるように、走査直交方向（Ｙ方向）に沿って一列
に配置されている。また、投影光学系ＰＬｂ，ＰＬｄ
は、走査方向に関して投影光学系ＰＬａ，ＰＬｃ，ＰＬ
ｅとは異なる位置になるように、走査直交方向に沿って
一列に配置されている。すなわち、各投影光学系ＰＬａ
〜ＰＬｅは、各々の露光領域又は視野領域（照明領域）
が千鳥状に配列されるように設けられている。
ＰＬｃ，ＰＬｅは、走査方向（Ｚ方向）に関して同じ位
置となるように、走査直交方向（Ｙ方向）に沿って一列
に配置されている。また、投影光学系ＰＬｂ，ＰＬｄ
は、走査方向に関して投影光学系ＰＬａ，ＰＬｃ，ＰＬ
ｅとは異なる位置になるように、走査直交方向に沿って
一列に配置されている。すなわち、各投影光学系ＰＬａ
〜ＰＬｅは、各々の露光領域又は視野領域（照明領域）
が千鳥状に配列されるように設けられている。
【００２９】なお、投影光学系ＰＬｂ〜ＰＬｅの構成に
関しては、投影光学系ＰＬａの構成と同一であるため、
ここでは説明を省略する。本実施例においては、第１フ
ォトマスクとしてのマスクＭ1 と第２フォトマスクとし
てのマスクＭとは、それぞれ微動ステージＴＭ1,ＴＭ2
上に載置されている。以下、図５を参照して微動ステー
ジＴＭ1,ＴＭ2 の構成につき説明する。
関しては、投影光学系ＰＬａの構成と同一であるため、
ここでは説明を省略する。本実施例においては、第１フ
ォトマスクとしてのマスクＭ1 と第２フォトマスクとし
てのマスクＭとは、それぞれ微動ステージＴＭ1,ＴＭ2
上に載置されている。以下、図５を参照して微動ステー
ジＴＭ1,ＴＭ2 の構成につき説明する。
【００３０】図５は微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 の構成を
模式的に示す斜視図であり、図５では図４と同一の座標
系を採用している。図５において、微動ステージＴＭ1,
ＴＭ 2 は、それぞれステージＳＴに対してＹＺ平面内に
おいて微動可能となるようにステージＳＴ上に設けられ
ている。ここで、本実施例では、ステージＳＴに対する
微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 の位置をそれぞれ検出するた
めの干渉計が設けられている。
模式的に示す斜視図であり、図５では図４と同一の座標
系を採用している。図５において、微動ステージＴＭ1,
ＴＭ 2 は、それぞれステージＳＴに対してＹＺ平面内に
おいて微動可能となるようにステージＳＴ上に設けられ
ている。ここで、本実施例では、ステージＳＴに対する
微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 の位置をそれぞれ検出するた
めの干渉計が設けられている。
【００３１】以下、この干渉計について説明する。微動
ステージＴＭ1 上には、２つの移動鏡３４，３８がＹ方
向に沿って設けられており、２つの移動鏡４４，４８が
Ｚ方向に沿って設けられている。同様に、微動ステージ
ＴＭ2 上には、２つの移動鏡５４，５８がＹ方向に沿っ
て設けられており、２つの移動鏡６４，６８がＺ方向に
沿って設けられている。
ステージＴＭ1 上には、２つの移動鏡３４，３８がＹ方
向に沿って設けられており、２つの移動鏡４４，４８が
Ｚ方向に沿って設けられている。同様に、微動ステージ
ＴＭ2 上には、２つの移動鏡５４，５８がＹ方向に沿っ
て設けられており、２つの移動鏡６４，６８がＺ方向に
沿って設けられている。
【００３２】また、微動ステージＴＭ1 に関して微動ス
テージＴＭ2 と反対側のステージＳＴ上には、Ｙ方向に
延びた固定鏡ＩMZ1 が設けられており、微動ステージＴ
Ｍ2に関して微動ステージＴＭ1 と反対側のステージＳ
Ｔ上には、Ｙ方向に延びた固定鏡ＩMZ2 が設けられてい
る。また、ステージＳＴ上には、Ｚ方向に延びた固定鏡
ＩMYが微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 に近接して設けられて
いる。
テージＴＭ2 と反対側のステージＳＴ上には、Ｙ方向に
延びた固定鏡ＩMZ1 が設けられており、微動ステージＴ
Ｍ2に関して微動ステージＴＭ1 と反対側のステージＳ
Ｔ上には、Ｙ方向に延びた固定鏡ＩMZ2 が設けられてい
る。また、ステージＳＴ上には、Ｚ方向に延びた固定鏡
ＩMYが微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 に近接して設けられて
いる。
【００３３】次に、これらの固定鏡ＩMZ1,ＩMZ2,ＩMYと
移動鏡３４，３８，４４，４８，５４，５８，６４，６
８とにビームを導く光学系について、光路を追って説明
する。図５において、ステージＳＴ上に設けられたレー
ザ光源ＬＭ1 からのビームは、ビームスプリッタＢＳ1
により２分割され、このビームスプリッタＢＳ1 を透過
したビームはビームスプリッタ３１へ向かい、ビームス
プリッタＢＳ1 にて反射されたビームはビームスプリッ
タ４１へ向かう。ここで、ビームスプリッタ３１に達す
るビームは２分割され、一方はビームスプリッタ３２へ
向かい、他方はビームスプリッタ３５に達する。ビーム
スプリッタ３２に達するビームは、固定鏡ＩMZ1 へ向か
うビームと、光路偏向部材３３を介した後に移動鏡３４
へ向かうビームとに２分割される。
移動鏡３４，３８，４４，４８，５４，５８，６４，６
８とにビームを導く光学系について、光路を追って説明
する。図５において、ステージＳＴ上に設けられたレー
ザ光源ＬＭ1 からのビームは、ビームスプリッタＢＳ1
により２分割され、このビームスプリッタＢＳ1 を透過
したビームはビームスプリッタ３１へ向かい、ビームス
プリッタＢＳ1 にて反射されたビームはビームスプリッ
タ４１へ向かう。ここで、ビームスプリッタ３１に達す
るビームは２分割され、一方はビームスプリッタ３２へ
向かい、他方はビームスプリッタ３５に達する。ビーム
スプリッタ３２に達するビームは、固定鏡ＩMZ1 へ向か
うビームと、光路偏向部材３３を介した後に移動鏡３４
へ向かうビームとに２分割される。
【００３４】さて、固定鏡ＩMZ1 にて反射されたビーム
は、ビームスプリッタ３２を透過した後、ビームスプリ
ッタ３１を透過する。また、移動鏡３４にて反射された
ビームは、光路偏向部材３３を介してビームスプリッタ
３２にて反射され、ビームスプリッタ３１を透過する。
ビームスプリッタ３１に関して固定鏡ＩMZ1 及び移動鏡
３４の反対側には、図示なきレシーバが設けられてお
り、このレシーバは固定鏡ＩMZ1 を介したビームと移動
鏡３４を介したビームとの干渉光を検出する。レシーバ
が検出する干渉光の強度変化に基づいて、微動ステージ
ＴＭ1 とステージＳＴとの相対的な位置関係を求めるこ
とができる。すなわち、ビームスプリッタ３１，３２、
光路偏向部材３３、移動鏡３４及び固定鏡ＩMZ1 は、微
動ステージＴＭ1 とステージＳＴとのＺ方向に関する相
対的変位を検出する１つの差動干渉計ＩＦz1を構成して
いる。
は、ビームスプリッタ３２を透過した後、ビームスプリ
ッタ３１を透過する。また、移動鏡３４にて反射された
ビームは、光路偏向部材３３を介してビームスプリッタ
３２にて反射され、ビームスプリッタ３１を透過する。
ビームスプリッタ３１に関して固定鏡ＩMZ1 及び移動鏡
３４の反対側には、図示なきレシーバが設けられてお
り、このレシーバは固定鏡ＩMZ1 を介したビームと移動
鏡３４を介したビームとの干渉光を検出する。レシーバ
が検出する干渉光の強度変化に基づいて、微動ステージ
ＴＭ1 とステージＳＴとの相対的な位置関係を求めるこ
とができる。すなわち、ビームスプリッタ３１，３２、
光路偏向部材３３、移動鏡３４及び固定鏡ＩMZ1 は、微
動ステージＴＭ1 とステージＳＴとのＺ方向に関する相
対的変位を検出する１つの差動干渉計ＩＦz1を構成して
いる。
【００３５】また、ビームスプリッタ３５に達したビー
ムは、ビームスプリッタ３６及び光路偏向部材３７によ
り、それぞれ移動鏡３８と固定鏡ＩMZ1 との間で往復光
路を形成し、これらの移動鏡３８と固定鏡ＩMZ1 とにて
反射されたビームは、ビームスプリッタ３６及び光路偏
向部材３７を介した後にビームスプリッタ３５を透過し
て、ビームスプリッタ３５に関して固定鏡とは反対側に
設けられた図示なきレシーバにて検出される。このよう
に、ビームスプリッタ３５，３６、光路偏向部材３７、
移動鏡３８及び固定鏡ＩMZ1 は、微動ステージＴＭ1 と
ステージＳＴとのＺ方向に関する相対的変位を検出する
１つの差動干渉計ＩＦz2を構成している。
ムは、ビームスプリッタ３６及び光路偏向部材３７によ
り、それぞれ移動鏡３８と固定鏡ＩMZ1 との間で往復光
路を形成し、これらの移動鏡３８と固定鏡ＩMZ1 とにて
反射されたビームは、ビームスプリッタ３６及び光路偏
向部材３７を介した後にビームスプリッタ３５を透過し
て、ビームスプリッタ３５に関して固定鏡とは反対側に
設けられた図示なきレシーバにて検出される。このよう
に、ビームスプリッタ３５，３６、光路偏向部材３７、
移動鏡３８及び固定鏡ＩMZ1 は、微動ステージＴＭ1 と
ステージＳＴとのＺ方向に関する相対的変位を検出する
１つの差動干渉計ＩＦz2を構成している。
【００３６】ビームスプリッタＢＳ1 にて反射された後
にビームスプリッタ４１に達するビームは、このビーム
スプリッタ４１にて２分割される。ビームスプリッタ４
１にて反射されたビームは、ビームスプリッタ４２及び
光路偏向部材４３によって、移動鏡４４と固定鏡ＩMYと
の間において往復光路を形成する。そして、移動鏡４４
と固定鏡ＩMYとにて反射されたビームは、もとの光路を
逆進し、ビームスプリッタ４２及び光路偏向部材４３を
介してビームスプリッタ４１を透過する。ビームスプリ
ッタ４１に関して固定鏡ＩMYの反対側には、不図示のレ
シーバが設けられており、移動鏡４４からのビームと固
定鏡ＩMYからのビームとの干渉光を検出する。このよう
に、ビームスプリッタ４１，４２、光路偏向部材４３、
移動鏡４４及び固定鏡ＩMYは、微動ステージＴＭ1 とス
テージＳＴとのＹ方向に関する相対的変位を検出する１
つの差動干渉計ＩＦy1を構成している。
にビームスプリッタ４１に達するビームは、このビーム
スプリッタ４１にて２分割される。ビームスプリッタ４
１にて反射されたビームは、ビームスプリッタ４２及び
光路偏向部材４３によって、移動鏡４４と固定鏡ＩMYと
の間において往復光路を形成する。そして、移動鏡４４
と固定鏡ＩMYとにて反射されたビームは、もとの光路を
逆進し、ビームスプリッタ４２及び光路偏向部材４３を
介してビームスプリッタ４１を透過する。ビームスプリ
ッタ４１に関して固定鏡ＩMYの反対側には、不図示のレ
シーバが設けられており、移動鏡４４からのビームと固
定鏡ＩMYからのビームとの干渉光を検出する。このよう
に、ビームスプリッタ４１，４２、光路偏向部材４３、
移動鏡４４及び固定鏡ＩMYは、微動ステージＴＭ1 とス
テージＳＴとのＹ方向に関する相対的変位を検出する１
つの差動干渉計ＩＦy1を構成している。
【００３７】また、ビームスプリッタ４１を透過したビ
ームは、ビームスプリッタ４５にて反射された後、ビー
ムスプリッタ４６及び光路偏向部材４７により、移動鏡
４８と固定鏡ＩMYとの間において往復光路を形成する。
また、ビームスプリッタ３５に関して固定鏡ＩMYとは反
対側には図示なきレシーバが設けられており、このレシ
ーバは、光路偏向部材４７及びビームスプリッタ４６を
介した移動鏡４８からのビームと、ビームスプリッタ４
６を介した固定鏡ＩMYからのビームとの干渉光を検出す
る。このように、ビームスプリッタ４５，４６、光路偏
向部材４７、移動鏡４８及び固定鏡ＩMYは、微動ステー
ジＴＭ1 とステージＳＴとのＹ方向に関する相対的変位
を検出する１つの差動干渉計ＩＦy2を構成している。
ームは、ビームスプリッタ４５にて反射された後、ビー
ムスプリッタ４６及び光路偏向部材４７により、移動鏡
４８と固定鏡ＩMYとの間において往復光路を形成する。
また、ビームスプリッタ３５に関して固定鏡ＩMYとは反
対側には図示なきレシーバが設けられており、このレシ
ーバは、光路偏向部材４７及びビームスプリッタ４６を
介した移動鏡４８からのビームと、ビームスプリッタ４
６を介した固定鏡ＩMYからのビームとの干渉光を検出す
る。このように、ビームスプリッタ４５，４６、光路偏
向部材４７、移動鏡４８及び固定鏡ＩMYは、微動ステー
ジＴＭ1 とステージＳＴとのＹ方向に関する相対的変位
を検出する１つの差動干渉計ＩＦy2を構成している。
【００３８】これら４組の差動干渉計ＩＦz1，ＩＦz2，
ＩＦy1，ＩＦy2によって、ステージＳＴに対する微動ス
テージＴＭ1 のＹ方向及びＺ方向における変位を求める
ことが可能となり、さらには、ステージＳＴに対する微
動ステージＴＭ1 のＸ方向を軸としたθ方向の回転をも
求めることが可能となる。本実施例においては、ステー
ジＳＴに対する微動ステージＴＭ2 のＹ方向、Ｚ方向及
びθ方向の変位を検出するために、４組の差動干渉計Ｉ
Ｆz3，ＩＦz4，ＩＦy3，ＩＦy4と、これらの差動干渉計
にビームを供給するレーザ光源ＬＭ2 と、ビームスプリ
ッタＢＳ2 とが設けられている。なお、これらの差動干
渉計のうち差動干渉計ＩＦz3，ＩＦz4は上述の差動干渉
計ＩＦz1，ＩＦz2と実質的に同じ機能を有しており、差
動干渉計ＩＦy3，ＩＦy4は上述の差動干渉計ＩＦy1，Ｉ
Ｆy2と実質的に同じ機能を有しているため、ここでは説
明を省略する。
ＩＦy1，ＩＦy2によって、ステージＳＴに対する微動ス
テージＴＭ1 のＹ方向及びＺ方向における変位を求める
ことが可能となり、さらには、ステージＳＴに対する微
動ステージＴＭ1 のＸ方向を軸としたθ方向の回転をも
求めることが可能となる。本実施例においては、ステー
ジＳＴに対する微動ステージＴＭ2 のＹ方向、Ｚ方向及
びθ方向の変位を検出するために、４組の差動干渉計Ｉ
Ｆz3，ＩＦz4，ＩＦy3，ＩＦy4と、これらの差動干渉計
にビームを供給するレーザ光源ＬＭ2 と、ビームスプリ
ッタＢＳ2 とが設けられている。なお、これらの差動干
渉計のうち差動干渉計ＩＦz3，ＩＦz4は上述の差動干渉
計ＩＦz1，ＩＦz2と実質的に同じ機能を有しており、差
動干渉計ＩＦy3，ＩＦy4は上述の差動干渉計ＩＦy1，Ｉ
Ｆy2と実質的に同じ機能を有しているため、ここでは説
明を省略する。
【００３９】尚、レーザ光源ＬＭ1,ＬＭ2 としては、例
えばHe-Ne レーザを適用することができる。また、レー
ザ光源ＬＭ1,ＬＭ2 は、ステージＳＴ上に設ける必要は
なく、例えば１つのレーザ光源からのビームを光ファイ
バによりビームスプリッタＢＳ1,ＢＳ2 へ導く構成をも
取り得る。また、本実施例においては、微動ステージＴ
Ｍ1,ＴＭ2 とステージＳＴとの相対的変位を検出する構
成としているが、プレートステージＰＳとステージＳＴ
とを一体的に支持するキャリッジに対する微動ステージ
ＴＭ1,ＴＭ2 の相対的変位を検出する構成であっても良
い。さらに、走査露光時に移動しない部材に対する相対
的変位、すなわち微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 の絶対的な
位置を検出する構成であっても良い。
えばHe-Ne レーザを適用することができる。また、レー
ザ光源ＬＭ1,ＬＭ2 は、ステージＳＴ上に設ける必要は
なく、例えば１つのレーザ光源からのビームを光ファイ
バによりビームスプリッタＢＳ1,ＢＳ2 へ導く構成をも
取り得る。また、本実施例においては、微動ステージＴ
Ｍ1,ＴＭ2 とステージＳＴとの相対的変位を検出する構
成としているが、プレートステージＰＳとステージＳＴ
とを一体的に支持するキャリッジに対する微動ステージ
ＴＭ1,ＴＭ2 の相対的変位を検出する構成であっても良
い。さらに、走査露光時に移動しない部材に対する相対
的変位、すなわち微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 の絶対的な
位置を検出する構成であっても良い。
【００４０】本実施例においては、マスクＭ1,Ｍ2 の露
光に先立ってマスクＭ1,Ｍ2 とプレートＰとのアライメ
ント動作を実行している。以下に、本実施例によるアラ
イメント動作について図６乃至図１２を参照して説明す
る。ここで、図６は本実施例に適用されるマスクＭ1,Ｍ
2 を示す平面図、図７は本実施例におけるアライメント
動作の状態を示す図、図８はアライメント顕微鏡系の配
置を示す平面図、図９は微動ステージ駆動部の構成を示
す平面図、図１０はキャリッジの構成を示す図、図１１
及び図１２は本実施例のアライメント動作を示すフロー
チャート図である。なお、図６乃至図１２においては、
図４に示す部材と同様の機能を有する部材には同一の符
号を付してある。また、図７においては、複数の投影光
学系のうちの２組の投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂのみを図
示している。
光に先立ってマスクＭ1,Ｍ2 とプレートＰとのアライメ
ント動作を実行している。以下に、本実施例によるアラ
イメント動作について図６乃至図１２を参照して説明す
る。ここで、図６は本実施例に適用されるマスクＭ1,Ｍ
2 を示す平面図、図７は本実施例におけるアライメント
動作の状態を示す図、図８はアライメント顕微鏡系の配
置を示す平面図、図９は微動ステージ駆動部の構成を示
す平面図、図１０はキャリッジの構成を示す図、図１１
及び図１２は本実施例のアライメント動作を示すフロー
チャート図である。なお、図６乃至図１２においては、
図４に示す部材と同様の機能を有する部材には同一の符
号を付してある。また、図７においては、複数の投影光
学系のうちの２組の投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂのみを図
示している。
【００４１】本実施例では、マスクＭ1,Ｍ2 の露光に先
立って、マスクＭ1,Ｍ2 とプレートＰとのアライメント
を実行している。ここで、図６(a) に示す如く、本実施
例に用いられるマスクＭ1 のパターン領域ＭＰ1 にはア
ライメントマーク９１ａ，９１ｂ、９２ａ，９２ｂが設
けられており、マスクＭ2 のパターン領域ＭＰ2 にはア
ライメントマーク９３ａ，９３ｂ、９４ａ，９４ｂが設
けられている。また、本実施例に用いられるプレートＰ
にはアライメントマーク９５ａ，９５ｂ〜９８ａ，９８
ｂが設けられている。
立って、マスクＭ1,Ｍ2 とプレートＰとのアライメント
を実行している。ここで、図６(a) に示す如く、本実施
例に用いられるマスクＭ1 のパターン領域ＭＰ1 にはア
ライメントマーク９１ａ，９１ｂ、９２ａ，９２ｂが設
けられており、マスクＭ2 のパターン領域ＭＰ2 にはア
ライメントマーク９３ａ，９３ｂ、９４ａ，９４ｂが設
けられている。また、本実施例に用いられるプレートＰ
にはアライメントマーク９５ａ，９５ｂ〜９８ａ，９８
ｂが設けられている。
【００４２】そして、マスクＭ1 のパターン領域ＭＰ1
の周囲には、例えばクロム等の蒸着により形成された遮
光部ＬＳＴが設けられており、マスクＭ2 のパターン領
域ＭＰ2 の周囲にも例えばクロム等の蒸着により形成さ
れた遮光部ＬＳＴが設けられている。このマスクＭ1 及
びマスクＭ2 の遮光部ＬＳＴには、クロムパターンから
なるバーコード部ＢＣ1,ＢＣ2 が設けられている。この
バーコード部ＢＣ1,ＢＣ2 には、マスクＭ1,Ｍ2 に関す
る露光条件に関する情報の他に、各マスクＭ1,Ｍ2 及び
各パターン領域ＭＰ1,ＭＰ2 の寸法、各アライメントマ
ーク９１ａ，９１ｂ〜９４ａ，９４ｂの位置に関する情
報が記録されている。
の周囲には、例えばクロム等の蒸着により形成された遮
光部ＬＳＴが設けられており、マスクＭ2 のパターン領
域ＭＰ2 の周囲にも例えばクロム等の蒸着により形成さ
れた遮光部ＬＳＴが設けられている。このマスクＭ1 及
びマスクＭ2 の遮光部ＬＳＴには、クロムパターンから
なるバーコード部ＢＣ1,ＢＣ2 が設けられている。この
バーコード部ＢＣ1,ＢＣ2 には、マスクＭ1,Ｍ2 に関す
る露光条件に関する情報の他に、各マスクＭ1,Ｍ2 及び
各パターン領域ＭＰ1,ＭＰ2 の寸法、各アライメントマ
ーク９１ａ，９１ｂ〜９４ａ，９４ｂの位置に関する情
報が記録されている。
【００４３】また、図７(a) に示す如く、本実施例によ
る露光装置には、マスクＭ1,Ｍ2 上のアライメントマー
ク９１〜９４のＹＺ平面内における位置を検出すると共
に、投影光学系ＰＬａまたはＰＬｂとマスクＭ1 または
Ｍ2 とを介してプレートＰ上のアライメントマーク９５
〜９８を検出するアライメント顕微鏡系ＡＬが設けられ
ている。このアライメント顕微鏡系ＡＬは、マスクＭ1,
Ｍ2 に関して投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂとは反対側に設
けられた対物レンズＯｂと、この対物レンズＯｂを介し
てアライメントマーク９１〜９８に対して照明光を供給
する図示なき照明系と、対物レンズＯｂによるアライメ
ントマーク９１〜９８の像を検出する検出器Ｄｅｃとを
有する。
る露光装置には、マスクＭ1,Ｍ2 上のアライメントマー
ク９１〜９４のＹＺ平面内における位置を検出すると共
に、投影光学系ＰＬａまたはＰＬｂとマスクＭ1 または
Ｍ2 とを介してプレートＰ上のアライメントマーク９５
〜９８を検出するアライメント顕微鏡系ＡＬが設けられ
ている。このアライメント顕微鏡系ＡＬは、マスクＭ1,
Ｍ2 に関して投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂとは反対側に設
けられた対物レンズＯｂと、この対物レンズＯｂを介し
てアライメントマーク９１〜９８に対して照明光を供給
する図示なき照明系と、対物レンズＯｂによるアライメ
ントマーク９１〜９８の像を検出する検出器Ｄｅｃとを
有する。
【００４４】ここで、図８の平面図に示す如く、本実施
例では２組のアライメント顕微鏡系ＡＬａ，ＡＬｂが走
査直交方向（Ｙ方向）に沿って配置されている。これら
のアライメント顕微鏡系ＡＬａ，ＡＬｂは、走査直交方
向に可動に設けられており、露光時には、照明光の光路
外へ退避する。また、アライメント顕微鏡系ＡＬａはマ
スクＭ1,Ｍ2 上のアライメントマーク９１ａ，９２ａ，
９３ａ，９４ａを検出し、アライメント顕微鏡系ＡＬｂ
はマスクＭ1,Ｍ2 上のアライメントマーク９１ｂ，９２
ｂ，９３ｂ，９４ｂを検出する。
例では２組のアライメント顕微鏡系ＡＬａ，ＡＬｂが走
査直交方向（Ｙ方向）に沿って配置されている。これら
のアライメント顕微鏡系ＡＬａ，ＡＬｂは、走査直交方
向に可動に設けられており、露光時には、照明光の光路
外へ退避する。また、アライメント顕微鏡系ＡＬａはマ
スクＭ1,Ｍ2 上のアライメントマーク９１ａ，９２ａ，
９３ａ，９４ａを検出し、アライメント顕微鏡系ＡＬｂ
はマスクＭ1,Ｍ2 上のアライメントマーク９１ｂ，９２
ｂ，９３ｂ，９４ｂを検出する。
【００４５】図７(a) に戻って、本実施例による露光装
置は、アライメント顕微鏡系ＡＬからの検出出力に基づ
いて各ステージ（微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 、ステージ
ＳＴ、プレートステージＰＳ）のＹＺ平面内での位置を
制御するための制御部８０と、この制御部８０からの出
力に基づいて、微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 を駆動させる
微動ステージ駆動部８２，８３と、ステージＳＴを駆動
させるマスクステージ駆動部８４と、プレートステージ
ＰＳを駆動させるプレートステージ駆動部８５と、キャ
リッジＣを駆動させるキャリッジ駆動部８６を有する。
置は、アライメント顕微鏡系ＡＬからの検出出力に基づ
いて各ステージ（微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 、ステージ
ＳＴ、プレートステージＰＳ）のＹＺ平面内での位置を
制御するための制御部８０と、この制御部８０からの出
力に基づいて、微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 を駆動させる
微動ステージ駆動部８２，８３と、ステージＳＴを駆動
させるマスクステージ駆動部８４と、プレートステージ
ＰＳを駆動させるプレートステージ駆動部８５と、キャ
リッジＣを駆動させるキャリッジ駆動部８６を有する。
【００４６】ここで、微動ステージ駆動部８２，８３の
構成について図９を参照して簡単に説明する。図９にお
いて、微動ステージＴＭ1 にはモータ及び押し引き螺子
から構成される微動ステージ駆動部８２ａ，８２ｂ，８
２ｃが設けられており、微動ステージＴＭ2 にはモータ
及び押し引き螺子から構成される微動ステージ駆動部８
３ａ，８３ｂ，８３ｃが設けられている。
構成について図９を参照して簡単に説明する。図９にお
いて、微動ステージＴＭ1 にはモータ及び押し引き螺子
から構成される微動ステージ駆動部８２ａ，８２ｂ，８
２ｃが設けられており、微動ステージＴＭ2 にはモータ
及び押し引き螺子から構成される微動ステージ駆動部８
３ａ，８３ｂ，８３ｃが設けられている。
【００４７】この構成において、微動ステージ駆動部８
２ａのみを作動させれば、微動ステージＴＭ1 は図中Ｚ
方向に沿って移動し、微動ステージ駆動部８２ｂ，８２
ｃを同方向に作動させれば微動ステージＴＭ1 は図中Ｙ
方向に沿って移動する。また、微動ステージ駆動部８２
ｂ，８２ｃを互いに逆方向に移動させれば、微動ステー
ジＴＭ1 は図中Ｘ方向を軸とするθ方向に沿って移動す
る。同様に、微動ステージ駆動部８３ａのみを作動させ
れば、微動ステージＴＭ2 は図中Ｚ方向に沿って移動
し、微動ステージ駆動部８３ｂ，８３ｃを同方向に作動
させれば微動ステージＴＭ2 は図中Ｙ方向に沿って移動
する。また、微動ステージ駆動部８３ｂ，８３ｃを互い
に逆方向に移動させれば、微動ステージＴＭ2 は図中Ｘ
方向を軸とするθ方向に沿って移動する。
２ａのみを作動させれば、微動ステージＴＭ1 は図中Ｚ
方向に沿って移動し、微動ステージ駆動部８２ｂ，８２
ｃを同方向に作動させれば微動ステージＴＭ1 は図中Ｙ
方向に沿って移動する。また、微動ステージ駆動部８２
ｂ，８２ｃを互いに逆方向に移動させれば、微動ステー
ジＴＭ1 は図中Ｘ方向を軸とするθ方向に沿って移動す
る。同様に、微動ステージ駆動部８３ａのみを作動させ
れば、微動ステージＴＭ2 は図中Ｚ方向に沿って移動
し、微動ステージ駆動部８３ｂ，８３ｃを同方向に作動
させれば微動ステージＴＭ2 は図中Ｙ方向に沿って移動
する。また、微動ステージ駆動部８３ｂ，８３ｃを互い
に逆方向に移動させれば、微動ステージＴＭ2 は図中Ｘ
方向を軸とするθ方向に沿って移動する。
【００４８】また、本実施例による露光装置において
は、干渉計からの位置情報を記憶するための例えばＲＡ
Ｍ(Random Access Memory)から構成されるメモリー部８
１をさらに有する。なお、本実施例においては、例えば
図１０に示す如く、プレートステージＰＳをＹＺ平面内
において移動可能に支持するキャリッジＣ上の一部に
は、プレートＰとＸ方向における高さが同一となるよう
に基準マーク部ＦＭが設けられており、この基準マーク
部ＦＭ上には、図中Ｙ方向に沿って設けられた２つの基
準マークＦＭａ，ＦＭｂが設けられている。ここで、投
影光学系ＰＬａ，ＰＬｅ（またはＰＬｂ，ＰＬｄ）を介
して基準マークＦＭａ，ＦＭｂの像をアライメント顕微
鏡系ＡＬにより検出すれば、アライメント顕微鏡系ＡＬ
の初期設定を行うことが可能となる。
は、干渉計からの位置情報を記憶するための例えばＲＡ
Ｍ(Random Access Memory)から構成されるメモリー部８
１をさらに有する。なお、本実施例においては、例えば
図１０に示す如く、プレートステージＰＳをＹＺ平面内
において移動可能に支持するキャリッジＣ上の一部に
は、プレートＰとＸ方向における高さが同一となるよう
に基準マーク部ＦＭが設けられており、この基準マーク
部ＦＭ上には、図中Ｙ方向に沿って設けられた２つの基
準マークＦＭａ，ＦＭｂが設けられている。ここで、投
影光学系ＰＬａ，ＰＬｅ（またはＰＬｂ，ＰＬｄ）を介
して基準マークＦＭａ，ＦＭｂの像をアライメント顕微
鏡系ＡＬにより検出すれば、アライメント顕微鏡系ＡＬ
の初期設定を行うことが可能となる。
【００４９】このアライメント顕微鏡系ＡＬの初期設定
について簡単に説明すると、まず、図１０に示すキャリ
ッジＣをＺ方向に移動させ、図４に示す投影光学系ＰＬ
ａ，ＰＬｅを介して、基準マーク部ＦＭ上の基準マーク
ＦＭａ，ＦＭｂをアライメント顕微鏡系ＡＬにより検出
する。ここで、アライメント顕微鏡系ＡＬの対物レンズ
Ｏｂにより検出器Ｄｅｃ上に形成される基準マークＦＭ
ａ，ＦＭｂの像（投影光学系ＰＬａ，ＰＬｅを介するた
め正確には２次像）の位置を検出器Ｄｅｃの検出中心と
し、このときの、キャリッジＣのＺ方向における位置を
干渉計による測長の原点とする。
について簡単に説明すると、まず、図１０に示すキャリ
ッジＣをＺ方向に移動させ、図４に示す投影光学系ＰＬ
ａ，ＰＬｅを介して、基準マーク部ＦＭ上の基準マーク
ＦＭａ，ＦＭｂをアライメント顕微鏡系ＡＬにより検出
する。ここで、アライメント顕微鏡系ＡＬの対物レンズ
Ｏｂにより検出器Ｄｅｃ上に形成される基準マークＦＭ
ａ，ＦＭｂの像（投影光学系ＰＬａ，ＰＬｅを介するた
め正確には２次像）の位置を検出器Ｄｅｃの検出中心と
し、このときの、キャリッジＣのＺ方向における位置を
干渉計による測長の原点とする。
【００５０】次に、図６、図７、図１１及び図１２を参
照して本実施例のアライメント動作について説明する。 〔ステップ１０〕まず、制御部８０は図示なき入力部か
らの情報に基づいて、プレートＰに対する露光が第１回
目の露光であるか否かを判断する。ここで、露光が第１
回目の露光である場合には、次のステップ１１へ移行
し、第２回目以降の露光である場合には、ステップ３１
へ移行する。 〔ステップ１１〕ステップ１１では、制御部８０はマス
クＭ1 上のアライメントマーク９４ａ，９４ｂのＹＺ面
内における位置をアライメント顕微鏡系ＡＬ及び干渉計
により検出し、次のステップ１２へ移行する。 〔ステップ１２〕ステップ１２では、制御部８０は、ア
ライメントマーク９４ａ，９４ｂのＹＺ面内における位
置をメモリー部８１へ記憶した後、ステップ１３へ移行
する。 〔ステップ１３〕ステップ１３では、制御部８０はキャ
リッジＣを駆動するキャリッジ駆動部８６を制御して、
アライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメントマー
ク９３ａ，９３ｂを位置させた後、次のステップ１４へ
移行する。 〔ステップ１４〕ステップ１４では、制御部８０はマス
クＭ1 上のアライメントマーク９３ａ，９３ｂのＹＺ平
面内における位置をアライメント顕微鏡系ＡＬ及び干渉
計により検出し、次のステップ１５へ移行する。 〔ステップ１５〕ステップ１５では、制御部８０はアラ
イメントマーク９３ａ，９３ｂのＹＺ平面内における位
置をメモリー部８１へ記憶した後、ステップ１６へ移行
する。 〔ステップ１６〕ステップ１６では、制御部８０はメモ
リー部８１に記憶されたアライメントマーク９３ａ，９
３ｂ、９４ａ，９４ｂのＹＺ平面内における位置の情報
に基づいて、マスクＭ2 が所定の位置（Ｙ方向、Ｚ方向
及びθ方向における位置）にあるか否かを判断する。こ
こで、これらのアライメントマーク９３ａ，９３ｂ、９
４ａ，９４ｂが所定の位置にある場合には、制御部８０
はステップ１８へ移行し、所定の位置にない場合には、
制御部８０は次のステップ１７へ移行する。 〔ステップ１７〕ステップ１７では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬにより検出されたアライメント
マーク９３ａ，９３ｂ、９４ａ，９４ｂの位置を、マス
クＭ2 が所定の位置にある場合のアライメントマーク９
３ａ，９３ｂ、９４ａ，９４ｂの位置と一致するよう
に、微動ステージＴＭ2 を駆動する微動ステージ駆動部
８３の制御を行う。ここで、微動ステージＴＭ2 の駆動
に関する制御が完了した後、制御部８０は次のステップ
１８へ移行する。 〔ステップ１８〕ステップ１８では、制御部８０は、上
記ステップ１７における補正された後のアライメントマ
ーク９４ａ，９４ｂ（ステップ１６における所定の位置
にある場合のアライメントマーク９４ａ，９４ｂ）と原
点とのＺ方向における距離１０１と、上記ステップ１７
における補正された後のアライメントマーク９３ａ，９
３ｂ（ステップ１６における所定の位置にある場合のア
ライメントマーク９３ａ，９３ｂ）と原点とのＺ方向に
おける距離１０３とを算出し、これらの距離１０１及び
距離１０３に関する情報をメモリー部８１へ記憶する。
照して本実施例のアライメント動作について説明する。 〔ステップ１０〕まず、制御部８０は図示なき入力部か
らの情報に基づいて、プレートＰに対する露光が第１回
目の露光であるか否かを判断する。ここで、露光が第１
回目の露光である場合には、次のステップ１１へ移行
し、第２回目以降の露光である場合には、ステップ３１
へ移行する。 〔ステップ１１〕ステップ１１では、制御部８０はマス
クＭ1 上のアライメントマーク９４ａ，９４ｂのＹＺ面
内における位置をアライメント顕微鏡系ＡＬ及び干渉計
により検出し、次のステップ１２へ移行する。 〔ステップ１２〕ステップ１２では、制御部８０は、ア
ライメントマーク９４ａ，９４ｂのＹＺ面内における位
置をメモリー部８１へ記憶した後、ステップ１３へ移行
する。 〔ステップ１３〕ステップ１３では、制御部８０はキャ
リッジＣを駆動するキャリッジ駆動部８６を制御して、
アライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメントマー
ク９３ａ，９３ｂを位置させた後、次のステップ１４へ
移行する。 〔ステップ１４〕ステップ１４では、制御部８０はマス
クＭ1 上のアライメントマーク９３ａ，９３ｂのＹＺ平
面内における位置をアライメント顕微鏡系ＡＬ及び干渉
計により検出し、次のステップ１５へ移行する。 〔ステップ１５〕ステップ１５では、制御部８０はアラ
イメントマーク９３ａ，９３ｂのＹＺ平面内における位
置をメモリー部８１へ記憶した後、ステップ１６へ移行
する。 〔ステップ１６〕ステップ１６では、制御部８０はメモ
リー部８１に記憶されたアライメントマーク９３ａ，９
３ｂ、９４ａ，９４ｂのＹＺ平面内における位置の情報
に基づいて、マスクＭ2 が所定の位置（Ｙ方向、Ｚ方向
及びθ方向における位置）にあるか否かを判断する。こ
こで、これらのアライメントマーク９３ａ，９３ｂ、９
４ａ，９４ｂが所定の位置にある場合には、制御部８０
はステップ１８へ移行し、所定の位置にない場合には、
制御部８０は次のステップ１７へ移行する。 〔ステップ１７〕ステップ１７では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬにより検出されたアライメント
マーク９３ａ，９３ｂ、９４ａ，９４ｂの位置を、マス
クＭ2 が所定の位置にある場合のアライメントマーク９
３ａ，９３ｂ、９４ａ，９４ｂの位置と一致するよう
に、微動ステージＴＭ2 を駆動する微動ステージ駆動部
８３の制御を行う。ここで、微動ステージＴＭ2 の駆動
に関する制御が完了した後、制御部８０は次のステップ
１８へ移行する。 〔ステップ１８〕ステップ１８では、制御部８０は、上
記ステップ１７における補正された後のアライメントマ
ーク９４ａ，９４ｂ（ステップ１６における所定の位置
にある場合のアライメントマーク９４ａ，９４ｂ）と原
点とのＺ方向における距離１０１と、上記ステップ１７
における補正された後のアライメントマーク９３ａ，９
３ｂ（ステップ１６における所定の位置にある場合のア
ライメントマーク９３ａ，９３ｂ）と原点とのＺ方向に
おける距離１０３とを算出し、これらの距離１０１及び
距離１０３に関する情報をメモリー部８１へ記憶する。
【００５１】また、制御部８０は、距離１０１，１０３
に関する情報とバーコード部ＢＣ2に記録された情報と
に基づいて、マスクＭ2 のパターン領域ＭＰ2 のＺ方向
における端部と原点との距離１０２，１０４を算出し、
距離１０２，１０４に関する情報をメモリー部８１へ記
憶する。その後、制御部８０は次のステップ１９へ移行
する。 〔ステップ１９〕ステップ１９では、制御部８０はマス
クＭ2 上のアライメントマーク９２ａ，９２ｂのＹＺ面
内における位置をアライメント顕微鏡系ＡＬ及び干渉計
により検出し、次のステップ２０へ移行する。 〔ステップ２０〕ステップ２０では、制御部８０は、ア
ライメントマーク９２ａ，９２ｂのＹＺ面内における位
置をメモリー部８１へ記憶した後、ステップ２１へ移行
する。 〔ステップ２１〕ステップ２１では、制御部８０はキャ
リッジＣを駆動するキャリッジ駆動部８６を制御して、
アライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメントマー
ク９１ａ，９１ｂを位置させる。その後、制御部８０は
ステップ２２へ移行する。 〔ステップ２２〕ステップ２２では、制御部８０はマス
クＭ2 上のアライメントマーク９１ａ，９１ｂのＹＺ平
面内における位置をアライメント顕微鏡系ＡＬ及び干渉
計により検出し、次のステップ２３へ移行する。 〔ステップ２３〕ステップ２３では、制御部８０はアラ
イメントマーク９１ａ，９１ｂのＹＺ平面内における位
置をメモリー部８１へ記憶した後、ステップ２４へ移行
する。 〔ステップ２４〕ステップ２４では、制御部８０はメモ
リー部８１に記憶されたアライメントマーク９１ａ，９
１ｂ、９２ａ，９２ｂのＹＺ平面内における位置の情報
に基づいて、マスクＭ1 がマスクＭ2 に対して所定の位
置（Ｙ方向、Ｚ方向及びθ方向における位置）にあるか
否かを判断する。ここで、これらのアライメントマーク
９１ａ，９１ｂ、９２ａ，９２ｂが所定の位置にある場
合には、制御部８０はステップ２６へ移行し、所定の位
置にない場合には、制御部８０は次のステップ２５へ移
行する。 〔ステップ２５〕ステップ２５では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬにより検出されたアライメント
マーク９１ａ，９１ｂ、９２ａ，９２ｂの位置を、マス
クＭ1 が所定の位置にある場合のアライメントマーク９
３ａ，９３ｂ、９４ａ，９４ｂの位置と一致するよう
に、微動ステージＴＭ1 を駆動する微動ステージ駆動部
８２の制御を行う。その後、制御部８０は次のステップ
２６へ移行する。 〔ステップ２６〕ステップ２６では、制御部８０は、上
記ステップ２５における補正された後のアライメントマ
ーク９２ａ，９２ｂ（ステップ１４における所定の位置
にある場合のアライメントマーク９２ａ，９２ｂ）と原
点とのＺ方向における距離１０５と、上記ステップ２５
における補正された後のアライメントマーク９１ａ，９
１ｂ（ステップ１６における所定の位置にある場合のア
ライメントマーク９１ａ，９１ｂ）と原点とのＺ方向に
おける距離１０７とを算出し、この距離１０５及び距離
１０７に関する情報をメモリー部８１へ記憶する。
に関する情報とバーコード部ＢＣ2に記録された情報と
に基づいて、マスクＭ2 のパターン領域ＭＰ2 のＺ方向
における端部と原点との距離１０２，１０４を算出し、
距離１０２，１０４に関する情報をメモリー部８１へ記
憶する。その後、制御部８０は次のステップ１９へ移行
する。 〔ステップ１９〕ステップ１９では、制御部８０はマス
クＭ2 上のアライメントマーク９２ａ，９２ｂのＹＺ面
内における位置をアライメント顕微鏡系ＡＬ及び干渉計
により検出し、次のステップ２０へ移行する。 〔ステップ２０〕ステップ２０では、制御部８０は、ア
ライメントマーク９２ａ，９２ｂのＹＺ面内における位
置をメモリー部８１へ記憶した後、ステップ２１へ移行
する。 〔ステップ２１〕ステップ２１では、制御部８０はキャ
リッジＣを駆動するキャリッジ駆動部８６を制御して、
アライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメントマー
ク９１ａ，９１ｂを位置させる。その後、制御部８０は
ステップ２２へ移行する。 〔ステップ２２〕ステップ２２では、制御部８０はマス
クＭ2 上のアライメントマーク９１ａ，９１ｂのＹＺ平
面内における位置をアライメント顕微鏡系ＡＬ及び干渉
計により検出し、次のステップ２３へ移行する。 〔ステップ２３〕ステップ２３では、制御部８０はアラ
イメントマーク９１ａ，９１ｂのＹＺ平面内における位
置をメモリー部８１へ記憶した後、ステップ２４へ移行
する。 〔ステップ２４〕ステップ２４では、制御部８０はメモ
リー部８１に記憶されたアライメントマーク９１ａ，９
１ｂ、９２ａ，９２ｂのＹＺ平面内における位置の情報
に基づいて、マスクＭ1 がマスクＭ2 に対して所定の位
置（Ｙ方向、Ｚ方向及びθ方向における位置）にあるか
否かを判断する。ここで、これらのアライメントマーク
９１ａ，９１ｂ、９２ａ，９２ｂが所定の位置にある場
合には、制御部８０はステップ２６へ移行し、所定の位
置にない場合には、制御部８０は次のステップ２５へ移
行する。 〔ステップ２５〕ステップ２５では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬにより検出されたアライメント
マーク９１ａ，９１ｂ、９２ａ，９２ｂの位置を、マス
クＭ1 が所定の位置にある場合のアライメントマーク９
３ａ，９３ｂ、９４ａ，９４ｂの位置と一致するよう
に、微動ステージＴＭ1 を駆動する微動ステージ駆動部
８２の制御を行う。その後、制御部８０は次のステップ
２６へ移行する。 〔ステップ２６〕ステップ２６では、制御部８０は、上
記ステップ２５における補正された後のアライメントマ
ーク９２ａ，９２ｂ（ステップ１４における所定の位置
にある場合のアライメントマーク９２ａ，９２ｂ）と原
点とのＺ方向における距離１０５と、上記ステップ２５
における補正された後のアライメントマーク９１ａ，９
１ｂ（ステップ１６における所定の位置にある場合のア
ライメントマーク９１ａ，９１ｂ）と原点とのＺ方向に
おける距離１０７とを算出し、この距離１０５及び距離
１０７に関する情報をメモリー部８１へ記憶する。
【００５２】また、制御部８０は、距離１０５，１０７
に関する情報とバーコード部ＢＣ1に記録された情報と
に基づいて、マスクＭ1 のパターン領域ＭＰ1 のＺ方向
における端部と原点との距離１０６，１０８を算出し、
距離１０６，１０８に関する情報をメモリー部８１へ記
憶する。以上のステップ１１〜２６を実行することによ
り、第１回目の露光に関するアライメント動作は終了す
る。
に関する情報とバーコード部ＢＣ1に記録された情報と
に基づいて、マスクＭ1 のパターン領域ＭＰ1 のＺ方向
における端部と原点との距離１０６，１０８を算出し、
距離１０６，１０８に関する情報をメモリー部８１へ記
憶する。以上のステップ１１〜２６を実行することによ
り、第１回目の露光に関するアライメント動作は終了す
る。
【００５３】次に、第２回目の露光に関するアライメン
ト動作について説明する。前述のステップ１０におい
て、図示なき入力部からの情報が第２回目以降の露光で
ある場合には、以下のステップ３１へ移行する。 〔ステップ３１〕ステップ３１では、制御部８０は、図
７(a) に示す如く、プレートＰ上のアライメントマーク
９８ａ，９８ｂに対して、マスクＭ2 上のアライメント
マーク９４ａ，９４ｂの位置合わせを行う。具体的に
は、制御部８０は、投影光学系ＰＬｂによるアライメン
トマーク９８ａ，９８ｂの像とアライメントマーク９４
ａ，９４ｂとのＹＺ平面内における位置ずれをアライメ
ント顕微鏡系ＡＬを用いて検出し、これらのアライメン
トマーク９８ａ，９８ｂ、９４ａ，９４ｂが一致するよ
うに、微動ステージ駆動部８３を制御して、微動ステー
ジＴＭ2 上のマスクＭ 2 の位置を調節する。この位置合
わせ動作の完了後、制御部８０は次のステップ３２へ移
行する。 〔ステップ３２〕ステップ３２では、制御部８０は、前
述のステップ３１における位置合わせ完了時の微動ステ
ージＴＭ2 、マスクステージＳＴ及びプレートステージ
ＰＳの干渉計による位置の情報をメモリー部８１へ記憶
させる。
ト動作について説明する。前述のステップ１０におい
て、図示なき入力部からの情報が第２回目以降の露光で
ある場合には、以下のステップ３１へ移行する。 〔ステップ３１〕ステップ３１では、制御部８０は、図
７(a) に示す如く、プレートＰ上のアライメントマーク
９８ａ，９８ｂに対して、マスクＭ2 上のアライメント
マーク９４ａ，９４ｂの位置合わせを行う。具体的に
は、制御部８０は、投影光学系ＰＬｂによるアライメン
トマーク９８ａ，９８ｂの像とアライメントマーク９４
ａ，９４ｂとのＹＺ平面内における位置ずれをアライメ
ント顕微鏡系ＡＬを用いて検出し、これらのアライメン
トマーク９８ａ，９８ｂ、９４ａ，９４ｂが一致するよ
うに、微動ステージ駆動部８３を制御して、微動ステー
ジＴＭ2 上のマスクＭ 2 の位置を調節する。この位置合
わせ動作の完了後、制御部８０は次のステップ３２へ移
行する。 〔ステップ３２〕ステップ３２では、制御部８０は、前
述のステップ３１における位置合わせ完了時の微動ステ
ージＴＭ2 、マスクステージＳＴ及びプレートステージ
ＰＳの干渉計による位置の情報をメモリー部８１へ記憶
させる。
【００５４】また、制御部８０は、この位置情報よりア
ライメントマーク９４ａ，９４ｂと原点とのＺ方向にお
ける距離１１１と、アライメントマーク９８ａ，９８ｂ
と原点とのＺ方向における距離１２１とを算出して、こ
れらの距離１１１，１２１に関する情報をメモリー部８
１へ記憶させる。その後、制御部８０はステップ３３へ
移行する。 〔ステップ３３〕ステップ３３では、制御部８０はキャ
リッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向に
沿って移動させ、次のステップ３４へ移行する。 〔ステップ３４〕ステップ３４では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメントマーク
９７ａ，９７ｂが位置しているか否かを判断する。ここ
で、アライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメント
マーク９７ａ，９７ｂが位置している場合には、制御部
８０は次のステップ３５へ移行し、位置していない場合
には、制御部８０は前のステップ３３へ移行する。 〔ステップ３５〕ステップ３５では、制御部８０は、図
７(b) に示す如く、プレートＰ上のアライメントマーク
９７ａ，９７ｂに対して、マスクＭ2 上のアライメント
マーク９３ａ，９３ｂの位置合わせを行う。具体的に
は、制御部８０は、投影光学系ＰＬｂによるアライメン
トマーク９７ａ，９７ｂの像とアライメントマーク９３
ａ，９３ｂとのＹＺ平面内における位置ずれをアライメ
ント顕微鏡系ＡＬを用いて検出し、これらのアライメン
トマーク９７ａ，９７ｂ、９３ａ，９３ｂが一致するよ
うに、微動ステージ駆動部８３を制御して、微動ステー
ジＴＭ2 上のマスクＭ 2 の位置を調節する。この位置合
わせ動作の完了後、制御部８０は次のステップ３６へ移
行する。 〔ステップ３６〕ステップ３６では、制御部８０は、前
述のステップ３５における位置合わせ完了時の微動ステ
ージＴＭ2 、マスクステージＳＴ及びプレートステージ
ＰＳの干渉計による位置の情報をメモリー部８１へ記憶
させる。
ライメントマーク９４ａ，９４ｂと原点とのＺ方向にお
ける距離１１１と、アライメントマーク９８ａ，９８ｂ
と原点とのＺ方向における距離１２１とを算出して、こ
れらの距離１１１，１２１に関する情報をメモリー部８
１へ記憶させる。その後、制御部８０はステップ３３へ
移行する。 〔ステップ３３〕ステップ３３では、制御部８０はキャ
リッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向に
沿って移動させ、次のステップ３４へ移行する。 〔ステップ３４〕ステップ３４では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメントマーク
９７ａ，９７ｂが位置しているか否かを判断する。ここ
で、アライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメント
マーク９７ａ，９７ｂが位置している場合には、制御部
８０は次のステップ３５へ移行し、位置していない場合
には、制御部８０は前のステップ３３へ移行する。 〔ステップ３５〕ステップ３５では、制御部８０は、図
７(b) に示す如く、プレートＰ上のアライメントマーク
９７ａ，９７ｂに対して、マスクＭ2 上のアライメント
マーク９３ａ，９３ｂの位置合わせを行う。具体的に
は、制御部８０は、投影光学系ＰＬｂによるアライメン
トマーク９７ａ，９７ｂの像とアライメントマーク９３
ａ，９３ｂとのＹＺ平面内における位置ずれをアライメ
ント顕微鏡系ＡＬを用いて検出し、これらのアライメン
トマーク９７ａ，９７ｂ、９３ａ，９３ｂが一致するよ
うに、微動ステージ駆動部８３を制御して、微動ステー
ジＴＭ2 上のマスクＭ 2 の位置を調節する。この位置合
わせ動作の完了後、制御部８０は次のステップ３６へ移
行する。 〔ステップ３６〕ステップ３６では、制御部８０は、前
述のステップ３５における位置合わせ完了時の微動ステ
ージＴＭ2 、マスクステージＳＴ及びプレートステージ
ＰＳの干渉計による位置の情報をメモリー部８１へ記憶
させる。
【００５５】なお、ステップ３５において、微動ステー
ジＴＭ2 上のマスクＭ2 の位置が調節されている場合に
は、マスクＭ2 の移動量に関する情報に基づいて、制御
部８０は、ステップ３２にてメモリー部８１に記憶され
た位置情報を修正する。また、制御部８０は、この位置
情報に基づいて、アライメントマーク９３ａ，９３ｂと
原点とのＺ方向に沿った距離１１３と、アライメントマ
ーク９７ａ，９７ｂと原点とのＺ方向に沿った距離１２
２とを算出して、これらの距離１１３，１２２に関する
情報をメモリー部８１へ記憶させる。
ジＴＭ2 上のマスクＭ2 の位置が調節されている場合に
は、マスクＭ2 の移動量に関する情報に基づいて、制御
部８０は、ステップ３２にてメモリー部８１に記憶され
た位置情報を修正する。また、制御部８０は、この位置
情報に基づいて、アライメントマーク９３ａ，９３ｂと
原点とのＺ方向に沿った距離１１３と、アライメントマ
ーク９７ａ，９７ｂと原点とのＺ方向に沿った距離１２
２とを算出して、これらの距離１１３，１２２に関する
情報をメモリー部８１へ記憶させる。
【００５６】その後、制御部８０は次のステップ３７へ
移行する。 〔ステップ３７〕ステップ３７では、制御部８０は、プ
レートステージＰＳを図中Ｚ方向に移動させるように、
プレートステージ駆動部８５を制御する。その後、制御
部８０は次のステップ３８へ移行する。 〔ステップ３８〕ステップ３８では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬの視野内の所定の位置にプレー
トＰ上のアライメントマーク９６ａ，９６ｂが位置して
いるか否かを判断する。ここで、アライメントマーク９
６ａ，９６ｂがアライメント顕微鏡系ＡＬの視野の所定
の位置に位置している場合には、次のステップ３９へ移
行し、位置していない場合には、ステップ３７へ移行す
る。 〔ステップ３９〕ステップ３９では、制御部８０は、マ
スクステージ駆動部８４を制御して、マスクステージＳ
Ｔを図中Ｚ方向に移動させ、次のステップ４０へ移行す
る。 〔ステップ４０〕ステップ４０では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にマスクＭ1 上のアラ
イメントマーク９２ａ，９２ｂが位置しているか否かを
判断する。ここで、アライメントマーク９２ａ，９２ｂ
がアライメント顕微鏡系の視野内に位置している場合に
は、制御部８０は次のステップ４１へ移行し、位置して
いない場合には、制御部８０はステップ３９へ移行す
る。 〔ステップ４１〕ステップ４１では、制御部８０は、図
７(c) に示す如く、プレートＰ上のアライメントマーク
９６ａとマスクＭ1 上のアライメントマーク９２ａとの
位置合わせを行う。具体的には、制御部８０は、投影光
学系ＰＬｂによるアライメントマーク９６ａの像とアラ
イメントマーク９２ａとのＹＺ平面内における位置ずれ
をアライメント顕微鏡系ＡＬを用いて検出し、これらの
アライメントマーク９６ａ、９２ａが一致するように、
微動ステージ駆動部８２を制御して、微動ステージＴＭ
1 上に載置されるマスクＭ1 の位置を調節する。この位
置合わせ動作の完了後、制御部８０は次のステップ４２
へ移行する。 〔ステップ４２〕ステップ４２では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬによりプレートＰ上のアライメ
ントマーク９６ｂとマスクＭ1 上のアライメントマーク
９２ｂとを検出しつつ、微動ステージ駆動部８２を制御
することにより、これらのアライメントマーク９２ｂ、
９６ｂの位置合わせを行う。その後、制御部８０は次の
ステップ４３へ移行する。 〔ステップ４３〕ステップ４３では、制御部８０は、前
述のステップ３７〜４２における位置合わせ完了時の微
動ステージＴＭ1 、マスクステージＳＴ及びプレートス
テージＰＳの干渉計による位置をメモリー部８１へ記憶
させる。
移行する。 〔ステップ３７〕ステップ３７では、制御部８０は、プ
レートステージＰＳを図中Ｚ方向に移動させるように、
プレートステージ駆動部８５を制御する。その後、制御
部８０は次のステップ３８へ移行する。 〔ステップ３８〕ステップ３８では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬの視野内の所定の位置にプレー
トＰ上のアライメントマーク９６ａ，９６ｂが位置して
いるか否かを判断する。ここで、アライメントマーク９
６ａ，９６ｂがアライメント顕微鏡系ＡＬの視野の所定
の位置に位置している場合には、次のステップ３９へ移
行し、位置していない場合には、ステップ３７へ移行す
る。 〔ステップ３９〕ステップ３９では、制御部８０は、マ
スクステージ駆動部８４を制御して、マスクステージＳ
Ｔを図中Ｚ方向に移動させ、次のステップ４０へ移行す
る。 〔ステップ４０〕ステップ４０では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にマスクＭ1 上のアラ
イメントマーク９２ａ，９２ｂが位置しているか否かを
判断する。ここで、アライメントマーク９２ａ，９２ｂ
がアライメント顕微鏡系の視野内に位置している場合に
は、制御部８０は次のステップ４１へ移行し、位置して
いない場合には、制御部８０はステップ３９へ移行す
る。 〔ステップ４１〕ステップ４１では、制御部８０は、図
７(c) に示す如く、プレートＰ上のアライメントマーク
９６ａとマスクＭ1 上のアライメントマーク９２ａとの
位置合わせを行う。具体的には、制御部８０は、投影光
学系ＰＬｂによるアライメントマーク９６ａの像とアラ
イメントマーク９２ａとのＹＺ平面内における位置ずれ
をアライメント顕微鏡系ＡＬを用いて検出し、これらの
アライメントマーク９６ａ、９２ａが一致するように、
微動ステージ駆動部８２を制御して、微動ステージＴＭ
1 上に載置されるマスクＭ1 の位置を調節する。この位
置合わせ動作の完了後、制御部８０は次のステップ４２
へ移行する。 〔ステップ４２〕ステップ４２では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬによりプレートＰ上のアライメ
ントマーク９６ｂとマスクＭ1 上のアライメントマーク
９２ｂとを検出しつつ、微動ステージ駆動部８２を制御
することにより、これらのアライメントマーク９２ｂ、
９６ｂの位置合わせを行う。その後、制御部８０は次の
ステップ４３へ移行する。 〔ステップ４３〕ステップ４３では、制御部８０は、前
述のステップ３７〜４２における位置合わせ完了時の微
動ステージＴＭ1 、マスクステージＳＴ及びプレートス
テージＰＳの干渉計による位置をメモリー部８１へ記憶
させる。
【００５７】また、制御部８０は、この位置情報よりア
ライメントマーク９２ａ，９２ｂと原点とのＺ方向にお
ける距離１１５と、アライメントマーク９６ａ，９６ｂ
と原点とのＺ方向における距離１２３とを算出して、こ
れらの距離１１５，１２３に関する情報をメモリー部８
１へ記憶させる。その後、制御部８０はステップ４４へ
移行する。 〔ステップ４４〕ステップ４４では、制御部８０はキャ
リッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向に
沿って移動させ、次のステップ４５へ移行する。 〔ステップ４５〕ステップ４５では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメントマーク
９５ａ，９５ｂが位置しているか否かを判断する。ここ
で、アライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメント
マーク９５ａ，９５ｂが位置している場合には、制御部
８０は次のステップ４６へ移行し、位置していない場合
には、制御部８０は前のステップ４４へ移行する。 〔ステップ４６〕ステップ４６では、制御部８０は、図
７(d) に示す如く、プレートＰ上のアライメントマーク
９５ａ，９５ｂに対して、マスクＭ1 上のアライメント
マーク９１ａ，９１ｂの位置合わせを行う。具体的に
は、制御部８０は、投影光学系ＰＬｂによるアライメン
トマーク９５ａ，９５ｂの像とアライメントマーク９１
ａ，９１ｂとのＹＺ平面内における位置ずれをアライメ
ント顕微鏡系ＡＬを用いて検出し、これらのアライメン
トマーク９１ａ，９１ｂ、９５ａ，９５ｂが一致するよ
うに、微動ステージ駆動部８２を制御して、微動ステー
ジＴＭ1 上のマスクＭ 1 の位置を調節する。この位置合
わせ動作の完了後、制御部８０は次のステップ４７へ移
行する。 〔ステップ４７〕ステップ４７では、制御部８０は、前
述のステップ４６における位置合わせ完了時の微動ステ
ージＴＭ1 、マスクステージＳＴ及びプレートステージ
ＰＳの干渉計による位置をメモリー部８１へ記憶させ
る。
ライメントマーク９２ａ，９２ｂと原点とのＺ方向にお
ける距離１１５と、アライメントマーク９６ａ，９６ｂ
と原点とのＺ方向における距離１２３とを算出して、こ
れらの距離１１５，１２３に関する情報をメモリー部８
１へ記憶させる。その後、制御部８０はステップ４４へ
移行する。 〔ステップ４４〕ステップ４４では、制御部８０はキャ
リッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向に
沿って移動させ、次のステップ４５へ移行する。 〔ステップ４５〕ステップ４５では、制御部８０は、ア
ライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメントマーク
９５ａ，９５ｂが位置しているか否かを判断する。ここ
で、アライメント顕微鏡系ＡＬの視野内にアライメント
マーク９５ａ，９５ｂが位置している場合には、制御部
８０は次のステップ４６へ移行し、位置していない場合
には、制御部８０は前のステップ４４へ移行する。 〔ステップ４６〕ステップ４６では、制御部８０は、図
７(d) に示す如く、プレートＰ上のアライメントマーク
９５ａ，９５ｂに対して、マスクＭ1 上のアライメント
マーク９１ａ，９１ｂの位置合わせを行う。具体的に
は、制御部８０は、投影光学系ＰＬｂによるアライメン
トマーク９５ａ，９５ｂの像とアライメントマーク９１
ａ，９１ｂとのＹＺ平面内における位置ずれをアライメ
ント顕微鏡系ＡＬを用いて検出し、これらのアライメン
トマーク９１ａ，９１ｂ、９５ａ，９５ｂが一致するよ
うに、微動ステージ駆動部８２を制御して、微動ステー
ジＴＭ1 上のマスクＭ 1 の位置を調節する。この位置合
わせ動作の完了後、制御部８０は次のステップ４７へ移
行する。 〔ステップ４７〕ステップ４７では、制御部８０は、前
述のステップ４６における位置合わせ完了時の微動ステ
ージＴＭ1 、マスクステージＳＴ及びプレートステージ
ＰＳの干渉計による位置をメモリー部８１へ記憶させ
る。
【００５８】なお、上述のステップ４７において、微動
ステージＴＭ1 上のマスクＭ1 の位置が調節されている
場合には、制御部８０は、微動ステージＴＭ1 の移動量
に基づいて、ステップ４３にてメモリー部８１に記憶さ
れた位置情報を修正する。また、制御部８０は、この位
置情報よりアライメントマーク９１ａ，９１ｂと原点と
のＺ方向における距離１１７と、アライメントマーク９
６ａ，９６ｂと原点とのＺ方向における距離１２４とを
算出して、これらの距離１１７，１２４に関する情報を
メモリー部８１へ記憶させる。
ステージＴＭ1 上のマスクＭ1 の位置が調節されている
場合には、制御部８０は、微動ステージＴＭ1 の移動量
に基づいて、ステップ４３にてメモリー部８１に記憶さ
れた位置情報を修正する。また、制御部８０は、この位
置情報よりアライメントマーク９１ａ，９１ｂと原点と
のＺ方向における距離１１７と、アライメントマーク９
６ａ，９６ｂと原点とのＺ方向における距離１２４とを
算出して、これらの距離１１７，１２４に関する情報を
メモリー部８１へ記憶させる。
【００５９】以上のステップ３１〜４７を実行すること
により、第２回目の露光に関するアライメント動作が達
成される。本実施例では、上述のアライメント動作の終
了後に露光を実行している。以下、本実施例の露光にお
ける制御部８０の動作につき、図６、図７、図１３乃至
図１６を参照して説明する。ここで、図１３は本実施例
における露光動作の状態を示す図、図１４は本実施例に
おけるプレートＰ上のアライメントマークの配置を示す
図、図１５及び図１６は本実施例におるけ制御部８０の
動作を示すフローチャート図である。尚、図７(a) に示
す露光装置においては、制御部８０は複数の光源の点灯
・消灯を制御する光源制御部８７を制御している。 〔ステップ５０〕まず、ステップ５０では、制御部８０
は、図示なき入力部からの情報に基づいて、プレートＰ
に対する露光が第１回目であるか否かを判断する。ここ
で、露光が第１回目である場合には、制御部８０は次の
ステップ５１へ移行し、露光が第２回目以降である場合
には、制御部８０はステップ７０へ移行する。 〔ステップ５１〕ステップ５１では、制御部８０は、キ
ャリッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向
に移動させる。このとき、図示なき干渉計はキャリッジ
ＣのＺ方向における原点からの距離を検出して、この検
出出力を制御部８０へ出力する。その後、制御部８０は
次のステップ５２へ移行する。 〔ステップ５２〕ステップ５２では、制御部８０は、上
記ステップ５１にて検出されるキャリッジＣのＺ方向に
おける原点からの距離が、マスクＭ1 の遮光部ＬＳＴの
端部と原点との距離１０８よりも小さいか否かを判断す
る。
により、第２回目の露光に関するアライメント動作が達
成される。本実施例では、上述のアライメント動作の終
了後に露光を実行している。以下、本実施例の露光にお
ける制御部８０の動作につき、図６、図７、図１３乃至
図１６を参照して説明する。ここで、図１３は本実施例
における露光動作の状態を示す図、図１４は本実施例に
おけるプレートＰ上のアライメントマークの配置を示す
図、図１５及び図１６は本実施例におるけ制御部８０の
動作を示すフローチャート図である。尚、図７(a) に示
す露光装置においては、制御部８０は複数の光源の点灯
・消灯を制御する光源制御部８７を制御している。 〔ステップ５０〕まず、ステップ５０では、制御部８０
は、図示なき入力部からの情報に基づいて、プレートＰ
に対する露光が第１回目であるか否かを判断する。ここ
で、露光が第１回目である場合には、制御部８０は次の
ステップ５１へ移行し、露光が第２回目以降である場合
には、制御部８０はステップ７０へ移行する。 〔ステップ５１〕ステップ５１では、制御部８０は、キ
ャリッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向
に移動させる。このとき、図示なき干渉計はキャリッジ
ＣのＺ方向における原点からの距離を検出して、この検
出出力を制御部８０へ出力する。その後、制御部８０は
次のステップ５２へ移行する。 〔ステップ５２〕ステップ５２では、制御部８０は、上
記ステップ５１にて検出されるキャリッジＣのＺ方向に
おける原点からの距離が、マスクＭ1 の遮光部ＬＳＴの
端部と原点との距離１０８よりも小さいか否かを判断す
る。
【００６０】ここで、キャリッジＣのＺ方向における原
点からの距離が距離１０８以下である場合には、制御部
８０は次のステップ５３へ移行し、距離１０８よりも大
きな場合には、制御部８０は、本ステップ５２を繰り返
して実行する。 〔ステップ５３〕ステップ５３では、制御部８０はマス
クＭ1 に対して照明光ＩＬｂを供給するように光源制御
部８７の制御を行い、ステップ５４へ移行する。 〔ステップ５４〕ステップ５４では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、投影光
学系ＰＬａ，ＰＬｂのＺ方向における光軸間距離Ｌと距
離１０８との差１０８−Ｌよりも小さいか否かを判断す
る。ここで、キャリッジＣのＺ方向における原点からの
距離が距離１０８−Ｌ以下である場合には、次のステッ
プ５５へ移行し、キャリッジＣのＺ方向における原点か
らの距離が距離１０８−Ｌよりも大きな場合には、この
ステップ５４を繰り返して実行する。 〔ステップ５５〕ステップ５５では、制御部８０はマス
クＭ1 に対して照明光ＩＬａを供給するように光源制御
部８７の制御を行う。これにより、マスクＭ2 上には、
照明光ＩＬａ，ＩＬｂが照射される。その後、制御部８
０は次のステップ５６へ移行する。 〔ステップ５６〕ステップ５６では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、マスク
Ｍ1 のパターン領域ＭＰ1 の端部と原点とのＺ方向にお
ける距離１０６よりも小さいか否かを判断する。
点からの距離が距離１０８以下である場合には、制御部
８０は次のステップ５３へ移行し、距離１０８よりも大
きな場合には、制御部８０は、本ステップ５２を繰り返
して実行する。 〔ステップ５３〕ステップ５３では、制御部８０はマス
クＭ1 に対して照明光ＩＬｂを供給するように光源制御
部８７の制御を行い、ステップ５４へ移行する。 〔ステップ５４〕ステップ５４では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、投影光
学系ＰＬａ，ＰＬｂのＺ方向における光軸間距離Ｌと距
離１０８との差１０８−Ｌよりも小さいか否かを判断す
る。ここで、キャリッジＣのＺ方向における原点からの
距離が距離１０８−Ｌ以下である場合には、次のステッ
プ５５へ移行し、キャリッジＣのＺ方向における原点か
らの距離が距離１０８−Ｌよりも大きな場合には、この
ステップ５４を繰り返して実行する。 〔ステップ５５〕ステップ５５では、制御部８０はマス
クＭ1 に対して照明光ＩＬａを供給するように光源制御
部８７の制御を行う。これにより、マスクＭ2 上には、
照明光ＩＬａ，ＩＬｂが照射される。その後、制御部８
０は次のステップ５６へ移行する。 〔ステップ５６〕ステップ５６では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、マスク
Ｍ1 のパターン領域ＭＰ1 の端部と原点とのＺ方向にお
ける距離１０６よりも小さいか否かを判断する。
【００６１】ここで、キャリッジＣのＺ方向における原
点からの距離が距離１０６以下である場合には、制御部
８０は次のステップ５７へ移行し、距離１０６よりも大
きな場合には、制御部８０は当ステップ５６を繰り返し
て実行する。 〔ステップ５７〕ステップ５７では、制御部８０は光源
制御部８７を制御して、照明光ＩＬｂの供給を停止し、
次のステップ５８へ移行する。 〔ステップ５８〕ステップ５８では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、投影光
学系ＰＬａ，ＰＬｂのＺ方向における光軸間距離Ｌと距
離１０６との差１０６−Ｌよりも小さいか否かを判断す
る。
点からの距離が距離１０６以下である場合には、制御部
８０は次のステップ５７へ移行し、距離１０６よりも大
きな場合には、制御部８０は当ステップ５６を繰り返し
て実行する。 〔ステップ５７〕ステップ５７では、制御部８０は光源
制御部８７を制御して、照明光ＩＬｂの供給を停止し、
次のステップ５８へ移行する。 〔ステップ５８〕ステップ５８では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、投影光
学系ＰＬａ，ＰＬｂのＺ方向における光軸間距離Ｌと距
離１０６との差１０６−Ｌよりも小さいか否かを判断す
る。
【００６２】ここで、キャリッジＣのＺ方向における原
点からの距離が距離１０６−Ｌ以下の場合には、制御部
８０は次のステップ５９へ移行し、距離１０６−Ｌより
も大きな場合には、制御部８０はこのステップ５８を繰
り返して実行する。 〔ステップ５９〕ステップ５９では、制御部８０は光源
制御部８７を制御して、照明光ＩＬａの供給を停止し、
次のステップ６０へ移行する。 〔ステップ６０〕ステップ６０では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、マスク
Ｍ2 の遮光部ＬＳＴの端部と原点とのＺ方向における距
離１０４よりも小さいか否かを判断する。
点からの距離が距離１０６−Ｌ以下の場合には、制御部
８０は次のステップ５９へ移行し、距離１０６−Ｌより
も大きな場合には、制御部８０はこのステップ５８を繰
り返して実行する。 〔ステップ５９〕ステップ５９では、制御部８０は光源
制御部８７を制御して、照明光ＩＬａの供給を停止し、
次のステップ６０へ移行する。 〔ステップ６０〕ステップ６０では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、マスク
Ｍ2 の遮光部ＬＳＴの端部と原点とのＺ方向における距
離１０４よりも小さいか否かを判断する。
【００６３】ここで、キャリッジＣのＺ方向における原
点からの距離が距離１０４以下となる場合には、制御部
８０は次のステップ６１へ移行し、距離１０４よりも大
きな場合には、制御部８０はステップ６０を繰り返して
実行する。 〔ステップ６１〕ステップ６１では、制御部８０はマス
クＭ2 に対して照明光ＩＬｂを供給するように光源制御
部８７の制御を行い、次のステップ６２へ移行する。 〔ステップ６２〕ステップ６２では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向のおける原点からの距離が、投影光
学系ＰＬａ，ＰＬｂのＺ方向における光軸間距離Ｌと距
離１０４との差１０４−Ｌよりも小さいか否かを判断す
る。
点からの距離が距離１０４以下となる場合には、制御部
８０は次のステップ６１へ移行し、距離１０４よりも大
きな場合には、制御部８０はステップ６０を繰り返して
実行する。 〔ステップ６１〕ステップ６１では、制御部８０はマス
クＭ2 に対して照明光ＩＬｂを供給するように光源制御
部８７の制御を行い、次のステップ６２へ移行する。 〔ステップ６２〕ステップ６２では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向のおける原点からの距離が、投影光
学系ＰＬａ，ＰＬｂのＺ方向における光軸間距離Ｌと距
離１０４との差１０４−Ｌよりも小さいか否かを判断す
る。
【００６４】ここで、キャリッジＣのＺ方向における原
点からの距離が、距離１０４−Ｌ以下となる場合には、
制御部８０は次のステップ６３へ移行し、距離１０４−
Ｌよりも大きな場合には、制御部８０はステップ６２を
繰り返して実行する。 〔ステップ６３〕ステップ６３では、制御部８０はマス
クＭ2 に対して照明光ＩＬａを供給するように光源制御
部８７の制御を行い、次のステップ６４へ移行する。 〔ステップ６４〕ステップ６４では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、マスク
Ｍ2 のパターン領域ＭＰ2 の端部と原点とのＺ方向にお
ける距離１０２よりも小さいか否かを判断する。
点からの距離が、距離１０４−Ｌ以下となる場合には、
制御部８０は次のステップ６３へ移行し、距離１０４−
Ｌよりも大きな場合には、制御部８０はステップ６２を
繰り返して実行する。 〔ステップ６３〕ステップ６３では、制御部８０はマス
クＭ2 に対して照明光ＩＬａを供給するように光源制御
部８７の制御を行い、次のステップ６４へ移行する。 〔ステップ６４〕ステップ６４では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、マスク
Ｍ2 のパターン領域ＭＰ2 の端部と原点とのＺ方向にお
ける距離１０２よりも小さいか否かを判断する。
【００６５】ここで、キャリッジＣのＺ方向における原
点からの距離が距離１０２以下となる場合には、制御部
８０は次のステップ６５へ移行し、距離１０２よりも大
きな場合には、制御部８０はこのステップ６４を繰り返
して実行する。 〔ステップ６５〕ステップ６５では、制御部８０は光源
制御部８７の制御を行い、照明光ＩＬｂの供給を停止
し、次のステップ６６へ移行する。 〔ステップ６６〕ステップ６６では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、投影光
学系ＰＬａ，ＰＬｂの光軸間距離Ｌと距離１０２との差
１０２−Ｌよりも小さいか否かを判断する。
点からの距離が距離１０２以下となる場合には、制御部
８０は次のステップ６５へ移行し、距離１０２よりも大
きな場合には、制御部８０はこのステップ６４を繰り返
して実行する。 〔ステップ６５〕ステップ６５では、制御部８０は光源
制御部８７の制御を行い、照明光ＩＬｂの供給を停止
し、次のステップ６６へ移行する。 〔ステップ６６〕ステップ６６では、制御部８０は、キ
ャリッジＣのＺ方向における原点からの距離が、投影光
学系ＰＬａ，ＰＬｂの光軸間距離Ｌと距離１０２との差
１０２−Ｌよりも小さいか否かを判断する。
【００６６】ここで、キャリッジＣのＺ方向における原
点からの距離が、距離１０２−Ｌ以下の場合には、制御
部８０は次のステップ６７へ移行し、距離１０２−Ｌよ
りも大きな場合には、制御部８０はこのステップ６６を
繰り返して実行する。 〔ステップ６７〕ステップ６７では、制御部８０は、光
源制御部８７の制御を行い、照明光ＩＬａの供給を停止
する。
点からの距離が、距離１０２−Ｌ以下の場合には、制御
部８０は次のステップ６７へ移行し、距離１０２−Ｌよ
りも大きな場合には、制御部８０はこのステップ６６を
繰り返して実行する。 〔ステップ６７〕ステップ６７では、制御部８０は、光
源制御部８７の制御を行い、照明光ＩＬａの供給を停止
する。
【００６７】以上のステップ５１〜６７を実行すること
により、プレートＰに対する第１回目の露光動作が完了
する。尚、制御部８０は、前述のステップ６７の後に、
複数枚のプレートＰを保持する図示なきプレートストッ
カーへのプレートＰの受渡し位置まで、キャリッジＣを
Ｚ方向に沿って移動させる。その後、制御部８０は、図
示なきアームによりプレートステージＰＳ上にプレート
Ｐをプレートストッカーへ載置し、プレートストッカー
内の未露光のプレートＰをプレートステージＰＳ上に載
置した後、ステップ１０へ移行する。
により、プレートＰに対する第１回目の露光動作が完了
する。尚、制御部８０は、前述のステップ６７の後に、
複数枚のプレートＰを保持する図示なきプレートストッ
カーへのプレートＰの受渡し位置まで、キャリッジＣを
Ｚ方向に沿って移動させる。その後、制御部８０は、図
示なきアームによりプレートステージＰＳ上にプレート
Ｐをプレートストッカーへ載置し、プレートストッカー
内の未露光のプレートＰをプレートステージＰＳ上に載
置した後、ステップ１０へ移行する。
【００６８】尚、上述の一回目の露光動作において、ス
テップ５７とステップ５８との間でマスクステージＳＴ
をキャリッジＣの移動方向とは逆の方向に移動させるこ
とも可能である。このときのマスクステージＳＴの移動
量をパターン領域ＭＰ1 とパターン領域ＭＰ2 とのＺ方
向における間隔とすれば、プレートＰ上において、パタ
ーンの転写される領域が連続したものとなる。
テップ５７とステップ５８との間でマスクステージＳＴ
をキャリッジＣの移動方向とは逆の方向に移動させるこ
とも可能である。このときのマスクステージＳＴの移動
量をパターン領域ＭＰ1 とパターン領域ＭＰ2 とのＺ方
向における間隔とすれば、プレートＰ上において、パタ
ーンの転写される領域が連続したものとなる。
【００６９】次に、第２回目以降の露光時の制御部８０
の動作について説明する。 〔ステップ７０〕ステップ７０では、制御部８０は、キ
ャリッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向
に移動させる。このとき、図示なき干渉計はキャリッジ
Ｃ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳのＺ
方向における原点からの距離を検出して、この検出出力
を制御部８０へ出力する。この検出出力により、制御部
８０はマスクＭ1,Ｍ2 及びプレートＰのＺ方向における
位置を算出する。その後、制御部８０は次のステップ５
２へ移行する。尚、干渉計によるキャリッジＣ、マスク
ステージＳＴ及びプレートステージＰＳのＺ方向の位置
検出は、以下のステップにおいて常時行われる。 〔ステップ７１〕ステップ７１では、制御部８０は、上
記ステップ５１にて算出されるマスクＭ 1 のＺ方向にお
ける原点からの距離が、マスクＭ1 の遮光部ＬＳＴの端
部と原点とのＺ方向の距離１１８よりも小さいか否かを
判断する。ここで、マスクＭ1 のＺ方向における原点か
らの距離が距離１１８以下の場合には、制御部８０はス
テップ７２へ移行し、マスクＭ1 のＺ方向における原点
からの距離が距離１１８よりも大きな場合には、制御部
８０はこのステップ７１を繰り返して実行する。 〔ステップ７２〕ステップ７２では、制御部８０は、図
１３(a) に示す如く、マスクＭ1 に対して照明光ＩＬｂ
を供給するように光源制御部８７の制御を行い、ステッ
プ７３へ移行する。 〔ステップ７３〕ステップ７３では、制御部８０は、マ
スクＭ1 のＺ方向における原点からの距離が、投影光学
系ＰＬａ，ＰＬｂのＺ方向における光軸間距離Ｌと距離
１１８との差１１８−Ｌよりも小さいか否かを判断す
る。ここで、マスクＭ1 のＺ方向における原点からの距
離が距離１１８−Ｌ以下である場合には、次のステップ
７４へ移行し、キャリッジＣのＺ方向における原点から
の距離が距離１１８−Ｌよりも大きな場合には、このス
テップ７３を繰り返して実行する。 〔ステップ７４〕ステップ７４では、制御部８０は、図
１３(b) に示す如く、マスクＭ1 に対して照明光ＩＬａ
を供給するように光源制御部８７の制御を行う。これに
より、マスクＭ2 上には、照明光ＩＬａ，ＩＬｂが照射
される。その後、制御部８０は次のステップ７５へ移行
する。 〔ステップ７５〕ステップ７５では、制御部８０は、図
１３(c) に示す如く、マスクＭ1 のＺ方向における原点
からの距離が、マスクＭ1 のパターン領域ＭＰ1 の端部
と原点との距離１１６（１１４）よりも小さいか否かを
判断する。ここで、マスクＭ1 のＺ方向における原点か
らの距離が距離１１６以下となる場合には、次のステッ
プ７６へ移行する。また、マスクＭ1 のＺ方向における
原点からの距離が距離１２６よりも大きな場合には、こ
のステップ７５を繰り返して実行する。 〔ステップ７６〕ステップ７６では、制御部８０は、図
１３(d) に示す如く、光源制御部８７の制御を行い、照
明光ＩＬｂの供給を停止する。その後、制御部８０は次
のステップ７７へ移行する。 〔ステップ７７〕ステップ７７では、制御部８０は、マ
スクＭ1 のＺ方向における原点からの距離が、光軸間距
離Ｌと距離１１６との差１１６−Ｌよりも小さいか否か
を判断する。ここで、マスクＭ1 のＺ方向における原点
からの距離が距離１１６−Ｌ以下となる場合には、制御
部８０は次のステップ７８へ移行し、距離１１６−Ｌよ
りも大きな場合には、制御部８０はステップ７７を繰り
返して実行する。 〔ステップ７８〕ステップ７８では、制御部８０は、光
源制御部８７の制御を行い、照明光ＩＬａの供給を停止
する。その後、制御部８０は次のステップ７９へ移行す
る。 〔ステップ７９〕ステップ７９では、制御部８０は、キ
ャリッジＣを停止させるようにキャリッジ駆動部８６の
制御を行い、次のステップ８０へ移行する。 〔ステップ８０〕ステップ８０では、制御部８０は、マ
スクステージ駆動部８４を制御して、マスクステージＳ
ＴをＺ方向に沿って移動させ、次のステップ８１へ移行
する。 〔ステップ８１〕ステップ８１では、制御部８０は、マ
スクＭ2 のＺ方向における原点からの距離が、マスクＭ
2 の遮光部ＬＳＴの端部と原点とのＺ方向における距離
１１４（１１６）よりも小さいか否かを判断する。
の動作について説明する。 〔ステップ７０〕ステップ７０では、制御部８０は、キ
ャリッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向
に移動させる。このとき、図示なき干渉計はキャリッジ
Ｃ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳのＺ
方向における原点からの距離を検出して、この検出出力
を制御部８０へ出力する。この検出出力により、制御部
８０はマスクＭ1,Ｍ2 及びプレートＰのＺ方向における
位置を算出する。その後、制御部８０は次のステップ５
２へ移行する。尚、干渉計によるキャリッジＣ、マスク
ステージＳＴ及びプレートステージＰＳのＺ方向の位置
検出は、以下のステップにおいて常時行われる。 〔ステップ７１〕ステップ７１では、制御部８０は、上
記ステップ５１にて算出されるマスクＭ 1 のＺ方向にお
ける原点からの距離が、マスクＭ1 の遮光部ＬＳＴの端
部と原点とのＺ方向の距離１１８よりも小さいか否かを
判断する。ここで、マスクＭ1 のＺ方向における原点か
らの距離が距離１１８以下の場合には、制御部８０はス
テップ７２へ移行し、マスクＭ1 のＺ方向における原点
からの距離が距離１１８よりも大きな場合には、制御部
８０はこのステップ７１を繰り返して実行する。 〔ステップ７２〕ステップ７２では、制御部８０は、図
１３(a) に示す如く、マスクＭ1 に対して照明光ＩＬｂ
を供給するように光源制御部８７の制御を行い、ステッ
プ７３へ移行する。 〔ステップ７３〕ステップ７３では、制御部８０は、マ
スクＭ1 のＺ方向における原点からの距離が、投影光学
系ＰＬａ，ＰＬｂのＺ方向における光軸間距離Ｌと距離
１１８との差１１８−Ｌよりも小さいか否かを判断す
る。ここで、マスクＭ1 のＺ方向における原点からの距
離が距離１１８−Ｌ以下である場合には、次のステップ
７４へ移行し、キャリッジＣのＺ方向における原点から
の距離が距離１１８−Ｌよりも大きな場合には、このス
テップ７３を繰り返して実行する。 〔ステップ７４〕ステップ７４では、制御部８０は、図
１３(b) に示す如く、マスクＭ1 に対して照明光ＩＬａ
を供給するように光源制御部８７の制御を行う。これに
より、マスクＭ2 上には、照明光ＩＬａ，ＩＬｂが照射
される。その後、制御部８０は次のステップ７５へ移行
する。 〔ステップ７５〕ステップ７５では、制御部８０は、図
１３(c) に示す如く、マスクＭ1 のＺ方向における原点
からの距離が、マスクＭ1 のパターン領域ＭＰ1 の端部
と原点との距離１１６（１１４）よりも小さいか否かを
判断する。ここで、マスクＭ1 のＺ方向における原点か
らの距離が距離１１６以下となる場合には、次のステッ
プ７６へ移行する。また、マスクＭ1 のＺ方向における
原点からの距離が距離１２６よりも大きな場合には、こ
のステップ７５を繰り返して実行する。 〔ステップ７６〕ステップ７６では、制御部８０は、図
１３(d) に示す如く、光源制御部８７の制御を行い、照
明光ＩＬｂの供給を停止する。その後、制御部８０は次
のステップ７７へ移行する。 〔ステップ７７〕ステップ７７では、制御部８０は、マ
スクＭ1 のＺ方向における原点からの距離が、光軸間距
離Ｌと距離１１６との差１１６−Ｌよりも小さいか否か
を判断する。ここで、マスクＭ1 のＺ方向における原点
からの距離が距離１１６−Ｌ以下となる場合には、制御
部８０は次のステップ７８へ移行し、距離１１６−Ｌよ
りも大きな場合には、制御部８０はステップ７７を繰り
返して実行する。 〔ステップ７８〕ステップ７８では、制御部８０は、光
源制御部８７の制御を行い、照明光ＩＬａの供給を停止
する。その後、制御部８０は次のステップ７９へ移行す
る。 〔ステップ７９〕ステップ７９では、制御部８０は、キ
ャリッジＣを停止させるようにキャリッジ駆動部８６の
制御を行い、次のステップ８０へ移行する。 〔ステップ８０〕ステップ８０では、制御部８０は、マ
スクステージ駆動部８４を制御して、マスクステージＳ
ＴをＺ方向に沿って移動させ、次のステップ８１へ移行
する。 〔ステップ８１〕ステップ８１では、制御部８０は、マ
スクＭ2 のＺ方向における原点からの距離が、マスクＭ
2 の遮光部ＬＳＴの端部と原点とのＺ方向における距離
１１４（１１６）よりも小さいか否かを判断する。
【００７０】ここで、マスクＭ2 のＺ方向における原点
からの距離が距離１１４よりも大きな場合には、制御部
８０はステップ８１を繰り返して実行し、マスクＭ2 の
Ｚ方向における原点からの距離が距離１１４以下となる
場合には、制御部８０は次のステップ８２へ移行する。 〔ステップ８２〕ステップ８２では、制御部８０はマス
クステップ駆動部８４を制御して、マスクステップＳＴ
を停止させ、次のステップ８３へ移行する。 〔ステップ８３〕ステップ８３では、制御部８０は、プ
レートステージ駆動部８５を制御して、プレートステー
ジＰＳをＺ方向に沿って移動させる。その後、制御部８
０はステップ８４へ移行する。 〔ステップ８４〕ステップ８４では、制御部８０は、プ
レートＰのＺ方向における原点からの距離が、距離１２
５よりも小さいか否かを判断する。
からの距離が距離１１４よりも大きな場合には、制御部
８０はステップ８１を繰り返して実行し、マスクＭ2 の
Ｚ方向における原点からの距離が距離１１４以下となる
場合には、制御部８０は次のステップ８２へ移行する。 〔ステップ８２〕ステップ８２では、制御部８０はマス
クステップ駆動部８４を制御して、マスクステップＳＴ
を停止させ、次のステップ８３へ移行する。 〔ステップ８３〕ステップ８３では、制御部８０は、プ
レートステージ駆動部８５を制御して、プレートステー
ジＰＳをＺ方向に沿って移動させる。その後、制御部８
０はステップ８４へ移行する。 〔ステップ８４〕ステップ８４では、制御部８０は、プ
レートＰのＺ方向における原点からの距離が、距離１２
５よりも小さいか否かを判断する。
【００７１】なお、この距離１２５は、プレートＰ上の
アライメントマーク９７ａ，９７ｂと原点とのＺ方向に
おける距離１２２と、バーコード部ＢＣ2 に記録された
アライメントマーク９７ａ，９７ｂとマスクＭ2 の遮光
部ＬＳＴの端部とのＺ方向における距離ΔＭ1Zとの和１
２２＋ΔＭ1Zから求めることができる。また、距離１２
５は、プレートＰ上のアライメントマーク９６ａ，９６
ｂと原点とのＺ方向における距離１２３と、バーコード
部ＢＣ1 に記録されたアライメントマーク９６ａ，９６
ｂとマスクＭ1 の遮光部ＬＳＴの端部とのＺ方向におけ
る距離ΔＭ2Zとの差１２３−ΔＭ2Zから求めることがで
きる。
アライメントマーク９７ａ，９７ｂと原点とのＺ方向に
おける距離１２２と、バーコード部ＢＣ2 に記録された
アライメントマーク９７ａ，９７ｂとマスクＭ2 の遮光
部ＬＳＴの端部とのＺ方向における距離ΔＭ1Zとの和１
２２＋ΔＭ1Zから求めることができる。また、距離１２
５は、プレートＰ上のアライメントマーク９６ａ，９６
ｂと原点とのＺ方向における距離１２３と、バーコード
部ＢＣ1 に記録されたアライメントマーク９６ａ，９６
ｂとマスクＭ1 の遮光部ＬＳＴの端部とのＺ方向におけ
る距離ΔＭ2Zとの差１２３−ΔＭ2Zから求めることがで
きる。
【００７２】ここで、プレートＰのＺ方向における原点
からの距離が距離１２５以下である場合には、制御部８
０は次のステップ８５へ移行し、距離１２５よりも大き
な場合には、ステップ８４を繰り返して実行する。 〔ステップ８５〕ステップ８５では、制御部８０はプレ
ートステージ制御部８５を制御して、プレートステージ
ＰＳを停止させた後、ステップ８６へ移行する。 〔ステップ８６〕ステップ８６では、制御部８０は、キ
ャリッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向
に移動させ、ステップ８７へ移行する。 〔ステップ８７〕ステップ８７では、図１３(e) に示す
如く、制御部８０はマスクＭ2 に対して照明光ＩＬｂを
供給するように、光源制御部８７の制御を行い、次のス
テップ８８へ移行する。 〔ステップ８８〕ステップ８８では、制御部８０は、マ
スクＭ2 のＺ方向における原点からの距離が、投影光学
系ＰＬａ，ＰＬｂの光軸間距離Ｌと、マスクＭ2 の遮光
部ＬＳＴの端部と原点とのＺ方向における距離１１４と
の差１１４−Ｌよりも小さいか否かを判断する。
からの距離が距離１２５以下である場合には、制御部８
０は次のステップ８５へ移行し、距離１２５よりも大き
な場合には、ステップ８４を繰り返して実行する。 〔ステップ８５〕ステップ８５では、制御部８０はプレ
ートステージ制御部８５を制御して、プレートステージ
ＰＳを停止させた後、ステップ８６へ移行する。 〔ステップ８６〕ステップ８６では、制御部８０は、キ
ャリッジ駆動部８６を制御して、キャリッジＣをＺ方向
に移動させ、ステップ８７へ移行する。 〔ステップ８７〕ステップ８７では、図１３(e) に示す
如く、制御部８０はマスクＭ2 に対して照明光ＩＬｂを
供給するように、光源制御部８７の制御を行い、次のス
テップ８８へ移行する。 〔ステップ８８〕ステップ８８では、制御部８０は、マ
スクＭ2 のＺ方向における原点からの距離が、投影光学
系ＰＬａ，ＰＬｂの光軸間距離Ｌと、マスクＭ2 の遮光
部ＬＳＴの端部と原点とのＺ方向における距離１１４と
の差１１４−Ｌよりも小さいか否かを判断する。
【００７３】ここで、マスクＭ2 のＺ方向における原点
からの距離が、距離１１４−Ｌ以下となる場合には、制
御部８０は次のステップ８９へ移行し、距離１１４−Ｌ
よりも大きな場合には、制御部８０はステップ８８を繰
り返して実行する。 〔ステップ８９〕ステップ８９では、図１３(f) に示す
如く、制御部８０はマスクＭ2 に対して照明光ＩＬａを
供給するように、光源制御部８７の制御を行い、次のス
テップ９０へ移行する。 〔ステップ９０〕ステップ９０では、制御部８０は、マ
スクＭ2 のＺ方向における原点からの距離が、マスクＭ
2 のパターン領域ＭＰ2 と原点とのＺ方向における距離
１１２よりも小さいか否かを判断する。
からの距離が、距離１１４−Ｌ以下となる場合には、制
御部８０は次のステップ８９へ移行し、距離１１４−Ｌ
よりも大きな場合には、制御部８０はステップ８８を繰
り返して実行する。 〔ステップ８９〕ステップ８９では、図１３(f) に示す
如く、制御部８０はマスクＭ2 に対して照明光ＩＬａを
供給するように、光源制御部８７の制御を行い、次のス
テップ９０へ移行する。 〔ステップ９０〕ステップ９０では、制御部８０は、マ
スクＭ2 のＺ方向における原点からの距離が、マスクＭ
2 のパターン領域ＭＰ2 と原点とのＺ方向における距離
１１２よりも小さいか否かを判断する。
【００７４】ここで、マスクＭ2 のＺ方向における原点
からの距離が距離１１２以下となる場合には、制御部８
０は次のステップ９１へ移行し、距離１１２よりも大き
な場合には、図１３(g) に示す如く、制御部８０はステ
ップ９０を繰り返して実行する。 〔ステップ９１〕ステップ９１では、図１３(h) に示す
如く、制御部８０は光源制御部８７の制御を行い、照明
光ＩＬｂの供給を停止し、次のステップ９２へ移行す
る。 〔ステップ９２〕ステップ９２では、制御部８０は、マ
スクＭ2 のＺ方向における原点からの距離が、投影光学
系ＰＬａ，ＰＬｂの光軸間距離Ｌと距離１１２との差１
１２−Ｌよりも小さいか否かを判断する。
からの距離が距離１１２以下となる場合には、制御部８
０は次のステップ９１へ移行し、距離１１２よりも大き
な場合には、図１３(g) に示す如く、制御部８０はステ
ップ９０を繰り返して実行する。 〔ステップ９１〕ステップ９１では、図１３(h) に示す
如く、制御部８０は光源制御部８７の制御を行い、照明
光ＩＬｂの供給を停止し、次のステップ９２へ移行す
る。 〔ステップ９２〕ステップ９２では、制御部８０は、マ
スクＭ2 のＺ方向における原点からの距離が、投影光学
系ＰＬａ，ＰＬｂの光軸間距離Ｌと距離１１２との差１
１２−Ｌよりも小さいか否かを判断する。
【００７５】ここで、マスクＭ2 のＺ方向における原点
からの距離が距離１１２−Ｌ以下である場合には、制御
部８０は次のステップ９３へ移行し、距離１１２−Ｌよ
りも大きな場合には、制御部８０はステップ９２を繰り
返して実行する。 〔ステップ９３〕ステップ９３では、制御部８０は光源
制御部８７の制御を行い、照明光ＩＬａの供給を停止す
る。
からの距離が距離１１２−Ｌ以下である場合には、制御
部８０は次のステップ９３へ移行し、距離１１２−Ｌよ
りも大きな場合には、制御部８０はステップ９２を繰り
返して実行する。 〔ステップ９３〕ステップ９３では、制御部８０は光源
制御部８７の制御を行い、照明光ＩＬａの供給を停止す
る。
【００７６】以上のステップ７０〜９３を実行すること
により、プレートＰに対する第２回目以降の露光動作が
完了する。尚、制御部８０は、前述のステップ９３の後
に、複数枚のプレートＰを保持する図示なきプレートス
トッカーへのプレートＰの受渡し位置まで、キャリッジ
ＣをＺ方向に沿って移動させる。その後、制御部８０
は、図示なきアームによりプレートステージＰＳ上にプ
レートＰをプレートストッカーへ載置し、プレートスト
ッカー内の未露光のプレートＰをプレートステージＰＳ
上に載置した後、ステップ１０へ移行する。
により、プレートＰに対する第２回目以降の露光動作が
完了する。尚、制御部８０は、前述のステップ９３の後
に、複数枚のプレートＰを保持する図示なきプレートス
トッカーへのプレートＰの受渡し位置まで、キャリッジ
ＣをＺ方向に沿って移動させる。その後、制御部８０
は、図示なきアームによりプレートステージＰＳ上にプ
レートＰをプレートストッカーへ載置し、プレートスト
ッカー内の未露光のプレートＰをプレートステージＰＳ
上に載置した後、ステップ１０へ移行する。
【００７７】このように、本実施例においては、第１フ
ォトマスクとしてのマスクＭ1 と第２フォトマスクとし
てのマスクＭ2 とがそれぞれＹＺ平面内において可動な
微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 上に載置されているため、プ
レートＰに対する位置合わせが可能となる。これによ
り、マスクＭ1,Ｍ2 上のパターンを精度良くプレートＰ
上に転写可能となる。また、本実施例においても、キャ
リッジＣに対してマスクステージＳＴが独立に移動可能
であるため、プレートＰ上に形成されるパターンの転写
領域を連続的にすることが可能となる。
ォトマスクとしてのマスクＭ1 と第２フォトマスクとし
てのマスクＭ2 とがそれぞれＹＺ平面内において可動な
微動ステージＴＭ1,ＴＭ2 上に載置されているため、プ
レートＰに対する位置合わせが可能となる。これによ
り、マスクＭ1,Ｍ2 上のパターンを精度良くプレートＰ
上に転写可能となる。また、本実施例においても、キャ
リッジＣに対してマスクステージＳＴが独立に移動可能
であるため、プレートＰ上に形成されるパターンの転写
領域を連続的にすることが可能となる。
【００７８】また、第２実施例においては、走査直交方
向に複数の光学系を千鳥状に配置する構成であるため、
走査直交方向における露光領域の拡大化を図ることがで
きる。このとき、走査方向における露光領域の拡大化
は、走査方向に沿って配置された複数のマスクにより達
成される。なお、本実施例では、照明光ＩＬａ，ＩＬｂ
がマスクＭ1 とマスクＭ2 との間を照射する際に、照明
光ＩＬａ，ＩＬｂの供給を停止しているが、マスクＭ1
とマスクＭ2 との間に遮光板を設ければ、走査露光中に
おいて照明光ＩＬａ，ＩＬｂの供給を停止する必要はな
い。
向に複数の光学系を千鳥状に配置する構成であるため、
走査直交方向における露光領域の拡大化を図ることがで
きる。このとき、走査方向における露光領域の拡大化
は、走査方向に沿って配置された複数のマスクにより達
成される。なお、本実施例では、照明光ＩＬａ，ＩＬｂ
がマスクＭ1 とマスクＭ2 との間を照射する際に、照明
光ＩＬａ，ＩＬｂの供給を停止しているが、マスクＭ1
とマスクＭ2 との間に遮光板を設ければ、走査露光中に
おいて照明光ＩＬａ，ＩＬｂの供給を停止する必要はな
い。
【００７９】また、上述の露光動作においては、キャリ
ッジＣ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳ
の作動時に加わる慣性力を無視している。しかしなが
ら、この慣性力のため、キャリッジＣ、マスクステージ
ＳＴ及びプレートステージＰＳの停止を正確に行うこと
が困難になる場合がある。このときには、キャリッジ
Ｃ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳを停
止させた後、これらのキャリッジＣ、マスクステージＳ
Ｔ及びプレートステージＰＳを逆方向に移動させるよう
に制御することが望ましい。具体的には、上述のステッ
プ７９、ステップ８２及びステップ８５の後に、キャリ
ッジＣ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳ
の原点からの位置がステップ７７、ステップ８１及びス
テップ８４における移動量になるように、キャリッジ
Ｃ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳを逆
方向に移動させる動作を加えれば良い。
ッジＣ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳ
の作動時に加わる慣性力を無視している。しかしなが
ら、この慣性力のため、キャリッジＣ、マスクステージ
ＳＴ及びプレートステージＰＳの停止を正確に行うこと
が困難になる場合がある。このときには、キャリッジ
Ｃ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳを停
止させた後、これらのキャリッジＣ、マスクステージＳ
Ｔ及びプレートステージＰＳを逆方向に移動させるよう
に制御することが望ましい。具体的には、上述のステッ
プ７９、ステップ８２及びステップ８５の後に、キャリ
ッジＣ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳ
の原点からの位置がステップ７７、ステップ８１及びス
テップ８４における移動量になるように、キャリッジ
Ｃ、マスクステージＳＴ及びプレートステージＰＳを逆
方向に移動させる動作を加えれば良い。
【００８０】なお、上述の実施例において、２組のマス
クＭ1,Ｍ2 の互いに対向する側のパターン領域に同一の
パターンを設けても良い。例えば図１７(a) に示す如
く、マスクＭ1 に第１のパターン領域ＭＰ1Aと、共通パ
ターン領域ＭＰC とを設け、マスクＭ2 に第２のパター
ン領域ＭＰ2Aと、マスクＭ1 の共通パターン領域と同一
パターンである共通パターン領域ＭＰC とを設ける。こ
こで、マスクＭ1 上において、マスクＭ1 の共通パター
ン領域ＭＰC は、第１のパターン領域ＭＰ1AのマスクＭ
2 側に設けられている。また、マスクＭ2 上において、
マスクＭ2 の共通パターン領域ＭＰC は、第２のパター
ン領域ＭＰ2AのマスクＭ1 側に設けられている。
クＭ1,Ｍ2 の互いに対向する側のパターン領域に同一の
パターンを設けても良い。例えば図１７(a) に示す如
く、マスクＭ1 に第１のパターン領域ＭＰ1Aと、共通パ
ターン領域ＭＰC とを設け、マスクＭ2 に第２のパター
ン領域ＭＰ2Aと、マスクＭ1 の共通パターン領域と同一
パターンである共通パターン領域ＭＰC とを設ける。こ
こで、マスクＭ1 上において、マスクＭ1 の共通パター
ン領域ＭＰC は、第１のパターン領域ＭＰ1AのマスクＭ
2 側に設けられている。また、マスクＭ2 上において、
マスクＭ2 の共通パターン領域ＭＰC は、第２のパター
ン領域ＭＰ2AのマスクＭ1 側に設けられている。
【００８１】このようなマスクＭ1,Ｍ2 を用いる場合に
は、プレートＰへの露光量を可変にするための減光手段
を照明光学系中に設ける構成が好ましい。このような減
光手段としては、マスクＭ1,Ｍ2 と共役な位置に走査方
向の幅が可変となる可変スリットを設け、このスリット
幅（走査方向におけるスリット開口部の幅）を変化させ
て露光量を可変にする構成や、照明光学系の光路中に照
明光の強度を可変にするための減光フィルターを設ける
構成を採ることができる。
は、プレートＰへの露光量を可変にするための減光手段
を照明光学系中に設ける構成が好ましい。このような減
光手段としては、マスクＭ1,Ｍ2 と共役な位置に走査方
向の幅が可変となる可変スリットを設け、このスリット
幅（走査方向におけるスリット開口部の幅）を変化させ
て露光量を可変にする構成や、照明光学系の光路中に照
明光の強度を可変にするための減光フィルターを設ける
構成を採ることができる。
【００８２】このとき、例えば図１７(b) に示す如く、
マスクＭ1 の第１のパターン領域ＭＰ1Aに照明光が照射
されるときには、所定の強度の照明光を照射し、マスク
Ｍ1の共通パターン領域ＭＰC に照明光が照射される際
には、一定の減光率で照明光の強度を減少させる。そし
て、マスクＭ2 の共通パターン領域ＭＰC に照明光が照
射される際には、一定の率で照明光の強度を増加させ、
マスクＭ2 の第２のパターン領域ＭＰ2Aに照明光が照射
される際には、第１のパターン領域ＭＰ1Aに照射される
強度の等しい強度の照明光を照射する。
マスクＭ1 の第１のパターン領域ＭＰ1Aに照明光が照射
されるときには、所定の強度の照明光を照射し、マスク
Ｍ1の共通パターン領域ＭＰC に照明光が照射される際
には、一定の減光率で照明光の強度を減少させる。そし
て、マスクＭ2 の共通パターン領域ＭＰC に照明光が照
射される際には、一定の率で照明光の強度を増加させ、
マスクＭ2 の第２のパターン領域ＭＰ2Aに照明光が照射
される際には、第１のパターン領域ＭＰ1Aに照射される
強度の等しい強度の照明光を照射する。
【００８３】これにより、図１７(c) に示す如く、プレ
ートＰ上には、第１のパターン領域ＭＰ1Aの像である第
１の転写パターンＴＰ1Aと共通パターン領域の像である
共通転写パターンＴＰC と第２のパターン領域ＭＰ2Aの
像である第２の転写パターンＴＰ2Aとが走査方向に沿っ
て形成される。このとき、共通転写パターンＴＰC の領
域への露光量は、第１及び第２の転写パターンＴＰ1A，
ＴＰ2Aに対する露光量と等しくなるように、照明光の強
度を制御すれば良い。なお、スリット幅を変化させて露
光量を可変にする構成の場合においても、共通転写パタ
ーンＴＰC の領域への露光量は、第１及び第２の転写パ
ターンＴＰ1A，ＴＰ2Aに対する露光量と等しくなるよう
に、減光手段としての可変スリットのスリット幅を制御
すれば良い。
ートＰ上には、第１のパターン領域ＭＰ1Aの像である第
１の転写パターンＴＰ1Aと共通パターン領域の像である
共通転写パターンＴＰC と第２のパターン領域ＭＰ2Aの
像である第２の転写パターンＴＰ2Aとが走査方向に沿っ
て形成される。このとき、共通転写パターンＴＰC の領
域への露光量は、第１及び第２の転写パターンＴＰ1A，
ＴＰ2Aに対する露光量と等しくなるように、照明光の強
度を制御すれば良い。なお、スリット幅を変化させて露
光量を可変にする構成の場合においても、共通転写パタ
ーンＴＰC の領域への露光量は、第１及び第２の転写パ
ターンＴＰ1A，ＴＰ2Aに対する露光量と等しくなるよう
に、減光手段としての可変スリットのスリット幅を制御
すれば良い。
【００８４】また、上述の実施例においては、走査方向
に沿って２組のマスクＭ1,Ｍ2 を設ける構成としている
が、マスクを２組以上設ける構成も可能である。以下、
図１８及び図１９を参照して、３組のマスクを走査方向
に沿って設けた第３実施例について説明する。図１８は
３組のマスクＭ1 〜Ｍ3 をそれぞれ載置する微動ステー
ジＴＭ1 〜ＴＭ3 の概略的な構成を示す平面図であり、
図１９は３組のマスクＭ1 〜Ｍ3 とアライメント顕微鏡
系ＡＬとの配置関係を示す平面図である。
に沿って２組のマスクＭ1,Ｍ2 を設ける構成としている
が、マスクを２組以上設ける構成も可能である。以下、
図１８及び図１９を参照して、３組のマスクを走査方向
に沿って設けた第３実施例について説明する。図１８は
３組のマスクＭ1 〜Ｍ3 をそれぞれ載置する微動ステー
ジＴＭ1 〜ＴＭ3 の概略的な構成を示す平面図であり、
図１９は３組のマスクＭ1 〜Ｍ3 とアライメント顕微鏡
系ＡＬとの配置関係を示す平面図である。
【００８５】図１８において、マスクＭ1 は図中ＹＺ方
向及びθ方向（紙面垂直方向（Ｘ方向）を軸とした回転
方向）に移動可能に設けられた微動ステージＴＭ1 上に
載置されている。この微動ステージＴＭ1 には、モータ
及び押し引き螺子から構成される微動ステージ駆動部Ｂ
1 〜Ｂ3 が設けられている。ここで、微動ステージ駆動
部Ｂ1 のみを動作させれば、微動ステージＴＭ1 は図中
Ｚ方向に沿って移動する。また、微動ステージ駆動部Ｂ
2,Ｂ3 を連動させて同方向に動作させれば、微動ステー
ジＴＭ1 は図中Ｙ方向に沿って移動する。そして、微動
ステージ駆動部Ｂ1,Ｂ2 又は微動ステージ駆動部Ｂ1,Ｂ
3 を動作させれば、微動ステージＴＭ1をθ方向に回転
させることができる。尚、微動ステージ駆動部Ｂ2 及び
微動ステージ駆動部Ｂ3 を互いに逆方向に動作させるこ
とによっても、微動ステージＴＭ 1 をθ方向に回転させ
ることができる。
向及びθ方向（紙面垂直方向（Ｘ方向）を軸とした回転
方向）に移動可能に設けられた微動ステージＴＭ1 上に
載置されている。この微動ステージＴＭ1 には、モータ
及び押し引き螺子から構成される微動ステージ駆動部Ｂ
1 〜Ｂ3 が設けられている。ここで、微動ステージ駆動
部Ｂ1 のみを動作させれば、微動ステージＴＭ1 は図中
Ｚ方向に沿って移動する。また、微動ステージ駆動部Ｂ
2,Ｂ3 を連動させて同方向に動作させれば、微動ステー
ジＴＭ1 は図中Ｙ方向に沿って移動する。そして、微動
ステージ駆動部Ｂ1,Ｂ2 又は微動ステージ駆動部Ｂ1,Ｂ
3 を動作させれば、微動ステージＴＭ1をθ方向に回転
させることができる。尚、微動ステージ駆動部Ｂ2 及び
微動ステージ駆動部Ｂ3 を互いに逆方向に動作させるこ
とによっても、微動ステージＴＭ 1 をθ方向に回転させ
ることができる。
【００８６】また、マスクＭ2 は図中ＹＺ方向及びθ方
向に移動可能に設けられた微動ステージＴＭ2 上に載置
されており、この微動ステージＴＭ2 にはモータ及び押
し引き螺子から構成される微動ステージ駆動部Ｂ4 〜Ｂ
7 が設けられている。ここで、微動ステージ駆動部Ｂ4,
Ｂ5 を互いに逆方向に動作させれば、微動ステージＴＭ
2 はＺ方向に移動する。また、微動ステージ駆動部Ｂ6,
Ｂ7 を連動させて同方向に動作させれば、微動ステージ
ＴＭ2 は図中Ｙ方向に移動する。そして、微動ステージ
駆動部Ｂ4,Ｂ7 または微動ステージ駆動部Ｂ5,Ｂ7 を動
作させれば、微動ステージＴＭ2 はθ方向に回転する。
向に移動可能に設けられた微動ステージＴＭ2 上に載置
されており、この微動ステージＴＭ2 にはモータ及び押
し引き螺子から構成される微動ステージ駆動部Ｂ4 〜Ｂ
7 が設けられている。ここで、微動ステージ駆動部Ｂ4,
Ｂ5 を互いに逆方向に動作させれば、微動ステージＴＭ
2 はＺ方向に移動する。また、微動ステージ駆動部Ｂ6,
Ｂ7 を連動させて同方向に動作させれば、微動ステージ
ＴＭ2 は図中Ｙ方向に移動する。そして、微動ステージ
駆動部Ｂ4,Ｂ7 または微動ステージ駆動部Ｂ5,Ｂ7 を動
作させれば、微動ステージＴＭ2 はθ方向に回転する。
【００８７】そして、マスクＭ3 は図中ＹＺ方向及びθ
方向に移動可能に設けられた微動ステージＴＭ3 上に載
置されており、この微動ステージＴＭ3 にはモータ及び
押し引き螺子から構成される微動ステージ駆動部Ｂ8 〜
Ｂ10が設けられている。ここで、微動ステージ駆動部Ｂ
8 のみを動作させれば、微動ステージＴＭ3 は図中Ｚ方
向に沿って移動する。また、微動ステージ駆動部Ｂ9 Ｂ
10を連動させて同方向に動作させれば、微動ステージＴ
Ｍ3 は図中Ｙ方向に沿って移動する。そして、微動ステ
ージ駆動部Ｂ8,Ｂ9 又は微動ステージ駆動部Ｂ8,Ｂ10を
動作させれば、微動ステージＴＭ3 をθ方向に回転させ
ることができる。尚、微動ステージ駆動部Ｂ9 及び微動
ステージ駆動部Ｂ10を互いに逆方向に動作させることに
よっても、微動ステージＴＭ3 をθ方向に回転させるこ
とができる。
方向に移動可能に設けられた微動ステージＴＭ3 上に載
置されており、この微動ステージＴＭ3 にはモータ及び
押し引き螺子から構成される微動ステージ駆動部Ｂ8 〜
Ｂ10が設けられている。ここで、微動ステージ駆動部Ｂ
8 のみを動作させれば、微動ステージＴＭ3 は図中Ｚ方
向に沿って移動する。また、微動ステージ駆動部Ｂ9 Ｂ
10を連動させて同方向に動作させれば、微動ステージＴ
Ｍ3 は図中Ｙ方向に沿って移動する。そして、微動ステ
ージ駆動部Ｂ8,Ｂ9 又は微動ステージ駆動部Ｂ8,Ｂ10を
動作させれば、微動ステージＴＭ3 をθ方向に回転させ
ることができる。尚、微動ステージ駆動部Ｂ9 及び微動
ステージ駆動部Ｂ10を互いに逆方向に動作させることに
よっても、微動ステージＴＭ3 をθ方向に回転させるこ
とができる。
【００８８】また、本実施例では図１９に示す如く、マ
スクＭ1 〜Ｍ3 上に形成されたアライメントマークＡＭ
11〜ＡＭ24を検出するアライメント顕微鏡系ＡＬa,ＡＬ
b が配置されており、前述の第２実施例と同様の動作を
行うことによって各マスクＭ 1 〜Ｍ3 とプレートＰとの
位置合わせを達成している。なお、上述の各実施例にお
いては、２組のアライメント顕微鏡系ＡＬa,ＡＬbを用
いる構成であるが、例えばマスクＭ1,Ｍ2,（Ｍ3 ）上に
設けられた４箇所のアライメントマークをそれぞれ検出
するために４組のアライメント顕微鏡系を設ける構成で
あっても良い。この構成の場合には、各マスクＭ1,Ｍ2,
（Ｍ3 ）上のアライメントマークとプレートＰ上のアラ
イメントマークとを所定の関係になるように位置合わせ
することができるため、第２実施例に示す如き差動干渉
計による位置制御が不要になる利点がある。
スクＭ1 〜Ｍ3 上に形成されたアライメントマークＡＭ
11〜ＡＭ24を検出するアライメント顕微鏡系ＡＬa,ＡＬ
b が配置されており、前述の第２実施例と同様の動作を
行うことによって各マスクＭ 1 〜Ｍ3 とプレートＰとの
位置合わせを達成している。なお、上述の各実施例にお
いては、２組のアライメント顕微鏡系ＡＬa,ＡＬbを用
いる構成であるが、例えばマスクＭ1,Ｍ2,（Ｍ3 ）上に
設けられた４箇所のアライメントマークをそれぞれ検出
するために４組のアライメント顕微鏡系を設ける構成で
あっても良い。この構成の場合には、各マスクＭ1,Ｍ2,
（Ｍ3 ）上のアライメントマークとプレートＰ上のアラ
イメントマークとを所定の関係になるように位置合わせ
することができるため、第２実施例に示す如き差動干渉
計による位置制御が不要になる利点がある。
【００８９】また、上述の各実施例において、マスクＭ
1 とマスクＭ2 とを同一サイズのものに限られることは
ない。例えば、マスクＭ1 を１２インチとして、マスク
Ｍ2を１０インチとすることも可能である。さらに、マ
スクＭ1 に１２インチの液晶表示パネル用の回路パター
ンが形成されたものを用い、マスクＭ2 に２つの６イン
チの液晶表示パネル用の回路パターンが形成されたもの
を用いることも可能である。
1 とマスクＭ2 とを同一サイズのものに限られることは
ない。例えば、マスクＭ1 を１２インチとして、マスク
Ｍ2を１０インチとすることも可能である。さらに、マ
スクＭ1 に１２インチの液晶表示パネル用の回路パター
ンが形成されたものを用い、マスクＭ2 に２つの６イン
チの液晶表示パネル用の回路パターンが形成されたもの
を用いることも可能である。
【００９０】このように、本発明による各実施例におい
ては、走査直交方向にマスク又はプレートを移動させる
ことなく露光を行うことができるため、スループットの
低下を招くことなく、さらには走査直交方向（ステップ
方向）における位置ずれを生じることなく露光を行うこ
とができる。
ては、走査直交方向にマスク又はプレートを移動させる
ことなく露光を行うことができるため、スループットの
低下を招くことなく、さらには走査直交方向（ステップ
方向）における位置ずれを生じることなく露光を行うこ
とができる。
【００９１】
【発明の効果】以上の通り本発明によれば、よりスルー
プットが高く、ステップ動作に起因して生じる位置ずれ
を生じない露光装置及び露光方法が達成される。
プットが高く、ステップ動作に起因して生じる位置ずれ
を生じない露光装置及び露光方法が達成される。
【図１】本発明による第１実施例の露光装置の構成を概
略的に示す図である。
略的に示す図である。
【図２】第１実施例のキャリッジの構成を概略的に示す
図である。
図である。
【図３】第１実施例におけるマスク及びプレート上のパ
ターン領域を示す平面図である。
ターン領域を示す平面図である。
【図４】本発明による第２実施例の露光装置の構成を概
略的に示す図である。
略的に示す図である。
【図５】第２実施例のマスクステージに設けられる干渉
計の構成を概略的に示す図である。
計の構成を概略的に示す図である。
【図６】第２実施例におけるマスク上のアライメントマ
ークの配置を示す平面図である。
ークの配置を示す平面図である。
【図７】第２実施例のアライメント動作の状態を示す図
である。
である。
【図８】第２実施例におけるマスク上のアライメントマ
ークとアライメント顕微鏡系との配置関係を示す平面図
である。
ークとアライメント顕微鏡系との配置関係を示す平面図
である。
【図９】第２実施例の微動ステージの概略的な構成を示
す平面図である。
す平面図である。
【図１０】第２実施例のキャリッジ上に設けられる基準
マークを示す図である。
マークを示す図である。
【図１１】第２実施例におけるアライメント動作を説明
するフローチャート図である。
するフローチャート図である。
【図１２】第２実施例におけるアライメント動作を説明
するフローチャート図である。
するフローチャート図である。
【図１３】第２実施例における露光動作の状態を示す図
である。
である。
【図１４】第２実施例におけるプレート上のアライメン
トマークの配置を示す平面図である。
トマークの配置を示す平面図である。
【図１５】第２実施例における露光動作を説明するフロ
ーチャート図である。
ーチャート図である。
【図１６】第２実施例における露光動作を説明するフロ
ーチャート図である。
ーチャート図である。
【図１７】第２実施例の変形例を示す図である。
【図１８】第３実施例における微動ステージの構成を示
す図である。
す図である。
【図１９】第３実施例におけるマスク上のアライメント
マークとアライメント顕微鏡系との配置関係を示す平面
図である。
マークとアライメント顕微鏡系との配置関係を示す平面
図である。
【図２０】従来の露光装置の構成を概略的に示す図であ
る。
る。
【図２１】従来の露光装置におけるマスクとプレートと
の様子を示す図である。
の様子を示す図である。
ＰＬａ〜ＰＬｅ … 投影光学系、 Ｍ1 ，Ｍ2 … マスク、 ＴＭ1 ，ＴＭ2 … 微動ステージ、 ＭＳ，ＳＴ … マスクステージ、 ＰＳ … プレートステージ、 Ｃ … キャリッジ、
Claims (8)
- 【請求項１】フォトマスク上のパターンを基板上に投影
する投影光学系を有し、前記フォトマスクと前記基板と
を前記投影光学系に対して移動させつつ、照明光学系に
よる照明光に基づいて前記パターンを前記基板上に露光
する露光装置において、 第１のフォトマスクを保持する第１マスクステージと、 第２のフォトマスクを保持する第２マスクステージと、 前記第１及び第２マスクステージが前記フォトマスクの
移動方向に沿って配列されるように設けられた主ステー
ジと、 前記基板を保持する基板ステージとを有し、 前記主ステージと前記基板ステージとは、前記移動方向
に沿って可動に構成されることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】前記第１マスクステージと前記第２マスク
ステージとは、前記フォトマスクのパターン形成面に沿
った方向に可動であることを特徴とする請求項１記載の
露光装置。 - 【請求項３】前記第１及び第２マスクステージと前記主
ステージとは、共通の部材であることを特徴とする請求
項１記載の露光装置。 - 【請求項４】前記主ステージと前記基板ステージとは、
走査方向に沿って可動な搬送部材に支持されることを特
徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の露光装
置。 - 【請求項５】前記投影光学系は、前記フォトマスクの等
倍の正立像を前記基板上に形成する第１及び第２投影光
学系を有し、前記第１及び第２投影光学系は、走査直交
方向に関して異なる位置に設けられることを特徴とする
請求項１乃至４の何れか１項に記載の露光装置。 - 【請求項６】前記第１フォトマスク上に形成される第１
アライメントマークと、前記第２フォトマスク上に形成
される第２アライメントマークとを検出するアライメン
ト光学系を有することを特徴とする請求項２記載の露光
装置。 - 【請求項７】前記照明光学系の光路中または前記投影光
学系の光路中には、該光路を通過する光束を減光させる
ための手段が配置されることを特徴とする請求項１記載
の露光装置。 - 【請求項８】フォトマスク上のパターンを基板上に投影
する投影光学系に対して、前記フォトマスクと前記基板
とを移動させつつ、照明光学系による照明光に基づいて
前記パターンを前記基板上に露光する露光方法におい
て、 前記移動の方向に沿って配列された第１及び第２フォト
マスクを一体に移動させると共に、前記基板を移動させ
つつ、前記第１及び第２フォトマスク上のパターンを前
記基板上に露光することを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21243894A JP3460325B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 露光装置及び露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21243894A JP3460325B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 露光装置及び露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0878310A true JPH0878310A (ja) | 1996-03-22 |
| JP3460325B2 JP3460325B2 (ja) | 2003-10-27 |
Family
ID=16622613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21243894A Expired - Lifetime JP3460325B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 露光装置及び露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3460325B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09306826A (ja) * | 1996-05-10 | 1997-11-28 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 露光装置 |
| JP2008218769A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Nikon Corp | マスク保持装置、マスク調整方法、露光装置及び露光方法 |
| JP2016191868A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
-
1994
- 1994-09-06 JP JP21243894A patent/JP3460325B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09306826A (ja) * | 1996-05-10 | 1997-11-28 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 露光装置 |
| JP2008218769A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Nikon Corp | マスク保持装置、マスク調整方法、露光装置及び露光方法 |
| JP2016191868A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3460325B2 (ja) | 2003-10-27 |
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