JPH08332465A - 洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
洗浄方法及び洗浄装置Info
- Publication number
- JPH08332465A JPH08332465A JP16471095A JP16471095A JPH08332465A JP H08332465 A JPH08332465 A JP H08332465A JP 16471095 A JP16471095 A JP 16471095A JP 16471095 A JP16471095 A JP 16471095A JP H08332465 A JPH08332465 A JP H08332465A
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- Japan
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- cleaning
- washing
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- tank
- cleaning liquid
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被洗浄物の洗浄中に再汚染を防止できる洗浄
方法、洗浄装置を提供する。 【構成】 洗浄槽１内を水平に循環する洗浄液２の液流
を一方向層流２ａとし、一方向層流２ａ中を下流から上
流に向けて被洗浄物を移動させる。そして、洗浄中に
洗浄液２に向けて超音波振動子３から超音波を放射す
る。洗浄槽１は、洗浄槽１内を水平に循環する洗浄液２
の液流を一方向層流にする整流板４及び６と、一方向層
流２ａ中を下流から上流に向けて被洗浄物を保持して移
動させる回転体１２を備えている。洗浄中に被洗浄物か
ら離れた汚れによる洗浄液の汚染は、上流の洗浄液の方
が下流の洗浄液よりも少ないから、被洗浄物を下流から
上流に向けて移動させると、洗浄中の再汚染を防止でき
る。
方法、洗浄装置を提供する。 【構成】 洗浄槽１内を水平に循環する洗浄液２の液流
を一方向層流２ａとし、一方向層流２ａ中を下流から上
流に向けて被洗浄物を移動させる。そして、洗浄中に
洗浄液２に向けて超音波振動子３から超音波を放射す
る。洗浄槽１は、洗浄槽１内を水平に循環する洗浄液２
の液流を一方向層流にする整流板４及び６と、一方向層
流２ａ中を下流から上流に向けて被洗浄物を保持して移
動させる回転体１２を備えている。洗浄中に被洗浄物か
ら離れた汚れによる洗浄液の汚染は、上流の洗浄液の方
が下流の洗浄液よりも少ないから、被洗浄物を下流から
上流に向けて移動させると、洗浄中の再汚染を防止でき
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、ハード
ディスクの基板となるアルミニューム板、光学部品、ガ
ラス板、油成分の付着した部品等の被洗浄物の洗浄に適
用して好適な洗浄方法及び洗浄装置に関する。
ディスクの基板となるアルミニューム板、光学部品、ガ
ラス板、油成分の付着した部品等の被洗浄物の洗浄に適
用して好適な洗浄方法及び洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、被洗浄物の汚染を洗浄するための
洗浄方法、洗浄装置が多々知られている。図２には、従
来提案された洗浄装置の一例（特開平６ー１０６０１１
号公報参照）を示している。
洗浄方法、洗浄装置が多々知られている。図２には、従
来提案された洗浄装置の一例（特開平６ー１０６０１１
号公報参照）を示している。
【０００３】図２において、洗浄装置は、洗浄槽２０内
の底部に整流装置２１を全断面にわたり介装し、上部に
帰還槽２２及びオーバーフロー槽２３を設け、帰還槽２
２から循環通路２４をポンプ２５及びフィルター２６を
設けて洗浄槽２０の底部に接続する。そして前記オーバ
ーフロー槽２３からオーバーフローする汚染された粒子
を含有する液２７を排出し、残りの洗浄液は前記循環通
路２４にて循環させる。その結果、洗浄槽２０内におい
ては、洗浄液の上昇流は前記整流装置２１にて全断面に
おいて均一な層流となり、洗浄槽２０内において、微粒
子の循環を阻止して微粒子を除去する。２８は洗浄液供
給口である。
の底部に整流装置２１を全断面にわたり介装し、上部に
帰還槽２２及びオーバーフロー槽２３を設け、帰還槽２
２から循環通路２４をポンプ２５及びフィルター２６を
設けて洗浄槽２０の底部に接続する。そして前記オーバ
ーフロー槽２３からオーバーフローする汚染された粒子
を含有する液２７を排出し、残りの洗浄液は前記循環通
路２４にて循環させる。その結果、洗浄槽２０内におい
ては、洗浄液の上昇流は前記整流装置２１にて全断面に
おいて均一な層流となり、洗浄槽２０内において、微粒
子の循環を阻止して微粒子を除去する。２８は洗浄液供
給口である。
【０００４】このようにして洗浄槽２０内で循環する洗
浄液中の微粒子を効率的に除去することができる。とこ
ろで、前記洗浄装置において、被洗浄物を洗浄槽２０内
に入れて洗浄する場合、被洗浄物を洗浄槽２０の上方か
ら入れなければならない。一方、前記洗浄装置は洗浄液
を上昇流として循環させているので、洗浄液の上方の洗
浄液層は下方の洗浄液層よりも僅かではあるが被洗浄物
から離れた汚れによって汚染している。そのため、洗浄
した被洗浄物を引き上げる際に、被洗浄物は洗浄液の上
方を通過する際に、再汚染に繋がることになる。
浄液中の微粒子を効率的に除去することができる。とこ
ろで、前記洗浄装置において、被洗浄物を洗浄槽２０内
に入れて洗浄する場合、被洗浄物を洗浄槽２０の上方か
ら入れなければならない。一方、前記洗浄装置は洗浄液
を上昇流として循環させているので、洗浄液の上方の洗
浄液層は下方の洗浄液層よりも僅かではあるが被洗浄物
から離れた汚れによって汚染している。そのため、洗浄
した被洗浄物を引き上げる際に、被洗浄物は洗浄液の上
方を通過する際に、再汚染に繋がることになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点に
鑑み、被洗浄物を再汚染することなく洗浄できる洗浄方
法及び洗浄装置を提供する点にある。
鑑み、被洗浄物を再汚染することなく洗浄できる洗浄方
法及び洗浄装置を提供する点にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明洗浄方法は、洗浄
槽内を水平に循環する洗浄液の液流を一方向層流とし、
該一方向層流中を下流から上流に向けて被洗浄物を移動
させ、洗浄液に向けて超音波を放射することを特徴とす
る。前記洗浄方法を実現する洗浄装置は、洗浄槽と、該
洗浄槽内を水平に循環する洗浄液の液流を一方向層流に
する整流手段と、該一方向層流中を下流から上流に向け
て被洗浄物を移動させる移動手段と、洗浄液に向けて超
音波を放射する超音波放射手段とを備えることを特徴と
する。洗浄槽を循環する洗浄液流の上流から下流に向け
て僅かに傾斜させても良い。
槽内を水平に循環する洗浄液の液流を一方向層流とし、
該一方向層流中を下流から上流に向けて被洗浄物を移動
させ、洗浄液に向けて超音波を放射することを特徴とす
る。前記洗浄方法を実現する洗浄装置は、洗浄槽と、該
洗浄槽内を水平に循環する洗浄液の液流を一方向層流に
する整流手段と、該一方向層流中を下流から上流に向け
て被洗浄物を移動させる移動手段と、洗浄液に向けて超
音波を放射する超音波放射手段とを備えることを特徴と
する。洗浄槽を循環する洗浄液流の上流から下流に向け
て僅かに傾斜させても良い。
【０００７】
【実施例】本発明洗浄方法の原理は、洗浄液を水平方向
に循環させて被洗浄物を洗浄した場合、被洗浄物から離
れた汚れによる洗浄液の汚染度は、上流の洗浄液が下流
の洗浄液よりも少ないという認識に基づいている。そこ
で、洗浄槽内を水平方向に循環する洗浄液の下流から上
流に向けて被洗浄物を移動させることにより洗浄を行
い、洗浄の終了した被洗浄物を洗浄液の上流側で洗浄槽
から引き上げることにより再汚染を防止することができ
る。
に循環させて被洗浄物を洗浄した場合、被洗浄物から離
れた汚れによる洗浄液の汚染度は、上流の洗浄液が下流
の洗浄液よりも少ないという認識に基づいている。そこ
で、洗浄槽内を水平方向に循環する洗浄液の下流から上
流に向けて被洗浄物を移動させることにより洗浄を行
い、洗浄の終了した被洗浄物を洗浄液の上流側で洗浄槽
から引き上げることにより再汚染を防止することができ
る。
【０００８】図１には、前記原理に基づく本発明の実施
例の要部縦断面（図１のＡ）及び要部平面（図１のＢ）
を示している。図１の（Ａ）及び図１の（Ｂ）におい
て、１はステンレス等で構成された洗浄槽であって、該
洗浄槽１内には洗浄液２が供給口１４から供給されて満
杯になっている。なお、前記供給口１４は、後述する整
流手段を構成する整流板４よりも上流に設けるのが好適
である。
例の要部縦断面（図１のＡ）及び要部平面（図１のＢ）
を示している。図１の（Ａ）及び図１の（Ｂ）におい
て、１はステンレス等で構成された洗浄槽であって、該
洗浄槽１内には洗浄液２が供給口１４から供給されて満
杯になっている。なお、前記供給口１４は、後述する整
流手段を構成する整流板４よりも上流に設けるのが好適
である。
【０００９】前記洗浄槽１の底部外側に超音波振動子
３、３が任意個数固定されており、該超音波振動子３か
ら放射された超音波を利用して洗浄液２中に漬けられた
被洗浄物の超音波洗浄を行う。
３、３が任意個数固定されており、該超音波振動子３か
ら放射された超音波を利用して洗浄液２中に漬けられた
被洗浄物の超音波洗浄を行う。
【００１０】４は洗浄槽１の一端側に寄せられて設けた
整流板であって、該整流板４は縦横にマトリックス状に
配列された、例えば円形の貫通孔４ａを複数個形成した
ステンレス板から成り、前記洗浄槽１の底板１ａ、両側
板１ｂ、１ｃに固定されている。そして、該整流板４に
て洗浄槽１内を水平に循環する洗浄液２を整流して、液
流を一方向層流２ａにする。前記整流板４に形成した貫
通孔の大きさは、洗浄液の流量と流速によって適宜決定
する。
整流板であって、該整流板４は縦横にマトリックス状に
配列された、例えば円形の貫通孔４ａを複数個形成した
ステンレス板から成り、前記洗浄槽１の底板１ａ、両側
板１ｂ、１ｃに固定されている。そして、該整流板４に
て洗浄槽１内を水平に循環する洗浄液２を整流して、液
流を一方向層流２ａにする。前記整流板４に形成した貫
通孔の大きさは、洗浄液の流量と流速によって適宜決定
する。
【００１１】５は、オーバーフロー槽で、前記整流板４
と同様の形状を備え、貫通孔６ａを複数個形成した整流
板６にて前記洗浄槽１と仕切られており、前記循環する
洗浄液２の下流側において、前記貫通孔から流出する洗
浄液及び溢れ出た洗浄液２ａを受ける。また、７は、前
記洗浄槽１の外部に並設したリザーブタンクであって、
前記オーバーフロー層５に流出した洗浄液２ａをリザー
ブする。該リザーブタンク７には図示しないスキマー等
が設けられており、回収した洗浄液２ｃの表面を浮遊す
る汚染物などを取り除くのに有効である。このリザーブ
タンク７は、洗浄工程によって必要応じて設ければ良
い。
と同様の形状を備え、貫通孔６ａを複数個形成した整流
板６にて前記洗浄槽１と仕切られており、前記循環する
洗浄液２の下流側において、前記貫通孔から流出する洗
浄液及び溢れ出た洗浄液２ａを受ける。また、７は、前
記洗浄槽１の外部に並設したリザーブタンクであって、
前記オーバーフロー層５に流出した洗浄液２ａをリザー
ブする。該リザーブタンク７には図示しないスキマー等
が設けられており、回収した洗浄液２ｃの表面を浮遊す
る汚染物などを取り除くのに有効である。このリザーブ
タンク７は、洗浄工程によって必要応じて設ければ良
い。
【００１２】８は、前記オーバーフロー槽５と前記リザ
ーブタンク７とを繋ぐ洗浄液循環通路、９は、前記リザ
ーブタンク７と前記洗浄槽１とを繋ぐ洗浄液循環通路で
あって、洗浄液循環通路９には循環ポンプ１０及び汚染
された洗浄液から微粒子などを取り除くフィルタ１１が
設けられている。
ーブタンク７とを繋ぐ洗浄液循環通路、９は、前記リザ
ーブタンク７と前記洗浄槽１とを繋ぐ洗浄液循環通路で
あって、洗浄液循環通路９には循環ポンプ１０及び汚染
された洗浄液から微粒子などを取り除くフィルタ１１が
設けられている。
【００１３】このように構成された洗浄装置において、
新しく洗浄槽１内に供給口１４から満杯に供給された洗
浄液２を前記循環ポンプ１０にて循環させると、洗浄液
２は前記整流板４及び整流板６にて整流され、上流から
下流のオーバーフロー槽５側へ一様に向かう一方向層流
２ａとなる。
新しく洗浄槽１内に供給口１４から満杯に供給された洗
浄液２を前記循環ポンプ１０にて循環させると、洗浄液
２は前記整流板４及び整流板６にて整流され、上流から
下流のオーバーフロー槽５側へ一様に向かう一方向層流
２ａとなる。
【００１４】一方、被洗浄物（図示せず）は矢印の向
きに洗浄槽１内に所定保持手段にて保持されて移動し、
前記一方向層流２ａの洗浄液２中に漬けられる。この一
方向層流２ａの洗浄液２中に漬けられた被洗浄物は、矢
印にて示すように層流２ａの下流から層流２ａの上流
に向けて、つまり、前記整流板４側に向けて移動させ
る。そして、洗浄の済んだ被洗浄物を矢印に示す向き
に引き上げて次の洗浄工程へ被洗浄物を移動させる。
きに洗浄槽１内に所定保持手段にて保持されて移動し、
前記一方向層流２ａの洗浄液２中に漬けられる。この一
方向層流２ａの洗浄液２中に漬けられた被洗浄物は、矢
印にて示すように層流２ａの下流から層流２ａの上流
に向けて、つまり、前記整流板４側に向けて移動させ
る。そして、洗浄の済んだ被洗浄物を矢印に示す向き
に引き上げて次の洗浄工程へ被洗浄物を移動させる。
【００１５】また、前記超音波振動子３からは、洗浄液
２に向けて超音波が放射されているので、被洗浄物が層
流２ａの下流から上流に向けて移動する間に超音波洗浄
がなされ、被洗浄物に付着した汚染物を超音波洗浄する
ことができる。
２に向けて超音波が放射されているので、被洗浄物が層
流２ａの下流から上流に向けて移動する間に超音波洗浄
がなされ、被洗浄物に付着した汚染物を超音波洗浄する
ことができる。
【００１６】図１の（Ｂ）において、前記洗浄液２中に
漬けられた被洗浄物は、所定の保持手段（図示せず）に
載せられ、該保持手段は洗浄槽１の長手方向両内側に取
り付けられた回転体１２、１２に支持されて循環する洗
浄液の下流から上流に向けて移動させる。この場合は前
記回転体１２はモータ１３にて駆動し回転させれば良い
る。
漬けられた被洗浄物は、所定の保持手段（図示せず）に
載せられ、該保持手段は洗浄槽１の長手方向両内側に取
り付けられた回転体１２、１２に支持されて循環する洗
浄液の下流から上流に向けて移動させる。この場合は前
記回転体１２はモータ１３にて駆動し回転させれば良い
る。
【００１７】被洗浄物保持手段の移動は、前記回転体１
２に代えて、被洗浄物を載せた保持手段を吊して被洗浄
物を洗浄液の下流から上流へ向けて移動させても良く、
この場合は、前記回転体１２による洗浄液の乱れが発生
せず、層流を安定して得ることができる。
２に代えて、被洗浄物を載せた保持手段を吊して被洗浄
物を洗浄液の下流から上流へ向けて移動させても良く、
この場合は、前記回転体１２による洗浄液の乱れが発生
せず、層流を安定して得ることができる。
【００１８】また、前記洗浄装置を用いて被洗浄物を洗
浄するに当たり、前記洗浄槽１を循環する洗浄液の上流
から下流に向けて１〜３度、好適には１〜２度の傾斜を
持たせて実施しても良い。
浄するに当たり、前記洗浄槽１を循環する洗浄液の上流
から下流に向けて１〜３度、好適には１〜２度の傾斜を
持たせて実施しても良い。
【００１９】なお、前記洗浄槽１等を循環させる間に洗
浄液２が蒸発などにより減少することがあるので、前記
洗浄液供給口１４から必要に応じて適宜補給する。
浄液２が蒸発などにより減少することがあるので、前記
洗浄液供給口１４から必要に応じて適宜補給する。
【００２０】
【発明の効果】以上、本発明洗浄方法及び洗浄装置によ
れば、循環する一方向層流の洗浄液中に被洗浄物を漬け
て、下流から上流に向けて移動させるようにしたから、
洗浄液中を移動中に被洗浄物が再汚染せず洗浄効果が増
し、しかも、洗浄の済んだ被洗浄物を洗浄槽から取り出
す際の再汚染を防止することができる。
れば、循環する一方向層流の洗浄液中に被洗浄物を漬け
て、下流から上流に向けて移動させるようにしたから、
洗浄液中を移動中に被洗浄物が再汚染せず洗浄効果が増
し、しかも、洗浄の済んだ被洗浄物を洗浄槽から取り出
す際の再汚染を防止することができる。
【図１】本発明実施例の要部説明図である。
【図２】従来の洗浄装置の一例を示す図である。
１ 洗浄槽 ２ 洗浄液 ２ａ 洗浄液の一方向層流 ３ 超音波振動子 ４、６ 整流板 ４ａ、６ａ 整流板に形成した貫通孔
Claims (7)
- 【請求項１】 洗浄槽内を水平に循環する洗浄液の液流
を一方向層流とし、該一方向層流中を下流から上流に向
けて被洗浄物を移動させることを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項２】 請求項１の洗浄方法おいて、洗浄液に向
けて超音波を放射することを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２の洗浄方法おい
て、循環する洗浄液中の汚染物を除去することを特徴と
する洗浄方法。 - 【請求項４】 洗浄槽と、該洗浄槽内を水平に循環する
洗浄液の液流を一方向層流にする整流手段と、該一方向
層流中を下流から上流に向けて被洗浄物を移動させる移
動手段を備えることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項５】 請求項４の洗浄装置において、洗浄液に
向けて超音波を放射する超音波放射手段を備えることを
特徴とする洗浄装置。 - 【請求項６】 請求項４または５の洗浄装置において、
洗浄液を循環させる循環手段と、該循環手段に洗浄液中
の汚染物を除去するフィルタを設けたことを特徴とする
洗浄装置。 - 【請求項７】 請求項４又は５又は６の洗浄装置におい
て、洗浄槽を循環する洗浄液流の上流から下流に向けて
傾斜させることを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16471095A JPH08332465A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16471095A JPH08332465A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08332465A true JPH08332465A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15798419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16471095A Pending JPH08332465A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08332465A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7040330B2 (en) * | 2003-02-20 | 2006-05-09 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for megasonic cleaning of patterned substrates |
| US8327861B2 (en) | 2006-12-19 | 2012-12-11 | Lam Research Corporation | Megasonic precision cleaning of semiconductor process equipment components and parts |
| CN109013536A (zh) * | 2018-07-11 | 2018-12-18 | 田康 | 一种硅粉超声波清洗装置 |
-
1995
- 1995-06-07 JP JP16471095A patent/JPH08332465A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7040330B2 (en) * | 2003-02-20 | 2006-05-09 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for megasonic cleaning of patterned substrates |
| US8327861B2 (en) | 2006-12-19 | 2012-12-11 | Lam Research Corporation | Megasonic precision cleaning of semiconductor process equipment components and parts |
| CN109013536A (zh) * | 2018-07-11 | 2018-12-18 | 田康 | 一种硅粉超声波清洗装置 |
| CN109013536B (zh) * | 2018-07-11 | 2021-08-20 | 崇义县源德矿业有限公司 | 一种硅粉超声波清洗装置 |
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