JPH08278507A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH08278507A JPH08278507A JP7083662A JP8366295A JPH08278507A JP H08278507 A JPH08278507 A JP H08278507A JP 7083662 A JP7083662 A JP 7083662A JP 8366295 A JP8366295 A JP 8366295A JP H08278507 A JPH08278507 A JP H08278507A
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- liquid crystal
- substrates
- crystal display
- film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】特別な遮光処理が不要で、シール部近傍で光漏
れが生じず、かつ、大きなシール接着力を保つことがで
きる液晶表示装置を提供する。 【構成】それぞれ透明画素電極31、32と配向膜2
1、22とを設けた面が対向するように2枚の透明ガラ
ス基板11、12をスペーサ65を介して所定の間隙を
隔てて重ね合わせ、両基板11、12間の縁周囲に枠状
に設けたシール材1により両基板を貼り合わせると共
に、シール材1の内側の両基板間に液晶層50を封止し
て成り、かつ、両基板の一方の対向面に、黒鉛を含む有
機系樹脂膜または黒鉛膜から成るブラックマトリクス2
を設け、シール材1をブラックマトリクス2の端部と基
板11面にまたがるようにこれらに直接接して設けた構
成。
れが生じず、かつ、大きなシール接着力を保つことがで
きる液晶表示装置を提供する。 【構成】それぞれ透明画素電極31、32と配向膜2
1、22とを設けた面が対向するように2枚の透明ガラ
ス基板11、12をスペーサ65を介して所定の間隙を
隔てて重ね合わせ、両基板11、12間の縁周囲に枠状
に設けたシール材1により両基板を貼り合わせると共
に、シール材1の内側の両基板間に液晶層50を封止し
て成り、かつ、両基板の一方の対向面に、黒鉛を含む有
機系樹脂膜または黒鉛膜から成るブラックマトリクス2
を設け、シール材1をブラックマトリクス2の端部と基
板11面にまたがるようにこれらに直接接して設けた構
成。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、透明導電膜、配向膜等
をそれぞれ設けた2枚の透明絶縁基板を重ね合わせ、両
基板間の縁周囲に設けたシール材により、両基板を貼り
合わせると共に両基板間に液晶を封止して成り、かつ、
一方の基板面上にブラックマトリクスを設けた液晶表示
素子を具備する単純マトリクス方式またはアクティブ・
マトリクス方式の液晶表示装置に関する。
をそれぞれ設けた2枚の透明絶縁基板を重ね合わせ、両
基板間の縁周囲に設けたシール材により、両基板を貼り
合わせると共に両基板間に液晶を封止して成り、かつ、
一方の基板面上にブラックマトリクスを設けた液晶表示
素子を具備する単純マトリクス方式またはアクティブ・
マトリクス方式の液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は、例えば、表示用透明画
素電極と配向膜等をそれぞれ積層した面が対向するよう
に所定の間隔を隔ててガラス等からなる2枚の透明絶縁
基板を重ね合わせ、該両基板間の縁部に枠状に設けたシ
ール材により、両基板を貼り合わせると共に、シール材
の一部に設けた液晶封入口から両基板間のシール材の内
側に液晶を封入、封止し、さらに両基板の外側にそれぞ
れ偏光板を設けてなる液晶表示素子(すなわち、液晶表
示部、液晶表示パネル、あるいはLCD:リキッド ク
リスタル ディスプレイとも称す)と、液晶表示素子の
下に配置され、液晶表示素子に光を供給するバックライ
トと、液晶表示素子の外周部の外側に配置した液晶表示
素子の駆動用回路基板と、これらの各部材を保持するモ
ールド成形品である枠状体と、これらの各部材を収納
し、液晶表示窓があけられた金属製フレーム等を含んで
構成されている。また、一方の基板面上に透明画素電極
に対応して例えば赤色、緑色、青色等のカラーフィルタ
を設けることにより、カラー表示が可能となり、さら
に、カラーフィルタどうしの間に、バックライトの光を
遮光する膜であるブラックマトリクスを設けることによ
り、各画素の輪郭がブラックマトリクスによってはっき
りとし、表示コントラストが向上する。
素電極と配向膜等をそれぞれ積層した面が対向するよう
に所定の間隔を隔ててガラス等からなる2枚の透明絶縁
基板を重ね合わせ、該両基板間の縁部に枠状に設けたシ
ール材により、両基板を貼り合わせると共に、シール材
の一部に設けた液晶封入口から両基板間のシール材の内
側に液晶を封入、封止し、さらに両基板の外側にそれぞ
れ偏光板を設けてなる液晶表示素子(すなわち、液晶表
示部、液晶表示パネル、あるいはLCD:リキッド ク
リスタル ディスプレイとも称す)と、液晶表示素子の
下に配置され、液晶表示素子に光を供給するバックライ
トと、液晶表示素子の外周部の外側に配置した液晶表示
素子の駆動用回路基板と、これらの各部材を保持するモ
ールド成形品である枠状体と、これらの各部材を収納
し、液晶表示窓があけられた金属製フレーム等を含んで
構成されている。また、一方の基板面上に透明画素電極
に対応して例えば赤色、緑色、青色等のカラーフィルタ
を設けることにより、カラー表示が可能となり、さら
に、カラーフィルタどうしの間に、バックライトの光を
遮光する膜であるブラックマトリクスを設けることによ
り、各画素の輪郭がブラックマトリクスによってはっき
りとし、表示コントラストが向上する。
【0003】図16(a)は従来の単純マトリクス方式
カラー液晶表示素子の要部概略断面図、(b)は従来の
別の単純マトリクス方式カラー液晶表示素子の要部概略
断面図である。なお、(a)と(b)では、ブラックマ
トリクスの構成のみ異なり、他の構成はすべて同一であ
る。
カラー液晶表示素子の要部概略断面図、(b)は従来の
別の単純マトリクス方式カラー液晶表示素子の要部概略
断面図である。なお、(a)と(b)では、ブラックマ
トリクスの構成のみ異なり、他の構成はすべて同一であ
る。
【0004】11、12は透明ガラス基板(電極基
板)、(a)において、2は透明ガラス基板11上に設
けた黒鉛を顔料として含むレジスト膜(有機系樹脂膜)
または黒鉛膜から成るブラックマトリクス、(b)にお
いて、3は透明ガラス基板11上に設けたCr(クロ
ム)等の金属膜から成るブラックマトリクス、33は透
明ガラス基板11上に設けたカラーフィルタ、23はカ
ラーフィルタ33の保護膜(平滑層)、31、32は透
明ガラス基板11上の保護膜23上、透明ガラス基板1
2にそれぞれ設けた透明画素電極、21、22は配向
膜、50は液晶層、1は両基板11、12間の縁周囲に
枠状に設け、両基板11、12を貼り合わせると共に、
その内側の両基板11、12間に液晶層50を封止する
シール材、65は液晶層50中に多数個分散され、両基
板11、12間の間隔を規定する小さな球状のスペーサ
(ギャップ保持材)、62はこれらの各部材で構成され
る液晶表示素子である。なお、基板11上に設けた透明
電極31と、基板12上に設けた透明電極32とは基板
面と垂直な方向から見た場合、それぞれ直交する方向に
帯状に伸張して設けてある。また、カラーフィルタ33
は赤色、緑色、青色のカラーフィルタ33が順番に配列
形成されている。
板)、(a)において、2は透明ガラス基板11上に設
けた黒鉛を顔料として含むレジスト膜(有機系樹脂膜)
または黒鉛膜から成るブラックマトリクス、(b)にお
いて、3は透明ガラス基板11上に設けたCr(クロ
ム)等の金属膜から成るブラックマトリクス、33は透
明ガラス基板11上に設けたカラーフィルタ、23はカ
ラーフィルタ33の保護膜(平滑層)、31、32は透
明ガラス基板11上の保護膜23上、透明ガラス基板1
2にそれぞれ設けた透明画素電極、21、22は配向
膜、50は液晶層、1は両基板11、12間の縁周囲に
枠状に設け、両基板11、12を貼り合わせると共に、
その内側の両基板11、12間に液晶層50を封止する
シール材、65は液晶層50中に多数個分散され、両基
板11、12間の間隔を規定する小さな球状のスペーサ
(ギャップ保持材)、62はこれらの各部材で構成され
る液晶表示素子である。なお、基板11上に設けた透明
電極31と、基板12上に設けた透明電極32とは基板
面と垂直な方向から見た場合、それぞれ直交する方向に
帯状に伸張して設けてある。また、カラーフィルタ33
は赤色、緑色、青色のカラーフィルタ33が順番に配列
形成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】図16(a)に示した
ように、黒鉛を顔料として含むレジスト膜または黒鉛膜
を用いてブラックマトリクス2を形成した液晶表示素子
62では、基板11上に設けたブラックマトリクス2の
上にシール材1を設けると(図ではブラックマトリクス
2の上にシール材1は設けてない)、液晶表示素子62
の製造、加工工程中で生じる基板11の歪みにブラック
マトリクス2が耐えられず、シール部のブラックマトリ
クス2がはがれ、液晶封入が不十分となる。このため、
(a)図に示したように、シール部にはブラックマトリ
クス2を設けず、シール材11を上下ガラス基板11、
12のガラス面に直接接着する構造にしなければならな
い。この結果、基板面方向において、シール材1とブラ
ックマトリクス膜2との間に約0.3〜1.5mmの隙間
66ができて、遮光性が悪くなり、表示品質が低下する
ため、この部分の別な遮光処理が必要となる問題があ
る。
ように、黒鉛を顔料として含むレジスト膜または黒鉛膜
を用いてブラックマトリクス2を形成した液晶表示素子
62では、基板11上に設けたブラックマトリクス2の
上にシール材1を設けると(図ではブラックマトリクス
2の上にシール材1は設けてない)、液晶表示素子62
の製造、加工工程中で生じる基板11の歪みにブラック
マトリクス2が耐えられず、シール部のブラックマトリ
クス2がはがれ、液晶封入が不十分となる。このため、
(a)図に示したように、シール部にはブラックマトリ
クス2を設けず、シール材11を上下ガラス基板11、
12のガラス面に直接接着する構造にしなければならな
い。この結果、基板面方向において、シール材1とブラ
ックマトリクス膜2との間に約0.3〜1.5mmの隙間
66ができて、遮光性が悪くなり、表示品質が低下する
ため、この部分の別な遮光処理が必要となる問題があ
る。
【0006】一方、図16(b)に示したように、Cr
等の金属膜を用いてブラックマトリクス3を形成した液
晶表示素子62では、基板11を表示画面側(観察側)
に配置する場合、金属膜面の反射率は高いため、基板1
1の内面の広い面積にわたって形成されたブラックマト
リクス3により、表示画面側の外部光が外側に反射し、
画面が見にくく(鏡のようになる)、表示コントラスト
特性が低下し、表示品質が低下する問題がある。
等の金属膜を用いてブラックマトリクス3を形成した液
晶表示素子62では、基板11を表示画面側(観察側)
に配置する場合、金属膜面の反射率は高いため、基板1
1の内面の広い面積にわたって形成されたブラックマト
リクス3により、表示画面側の外部光が外側に反射し、
画面が見にくく(鏡のようになる)、表示コントラスト
特性が低下し、表示品質が低下する問題がある。
【0007】本発明の目的は、特別な遮光処理が不要
で、シール部近傍で光漏れが生じず、かつ、シール接着
力を保つことができる液晶表示装置を提供することにあ
る。
で、シール部近傍で光漏れが生じず、かつ、シール接着
力を保つことができる液晶表示装置を提供することにあ
る。
【0008】また、本発明の別の目的は、表示画面側の
外部光が外側に反射し、画面が鏡のように見にくくなら
ず、かつ、シール接着力を保つと共に、シール部からの
光漏れが防止できる液晶表示装置を提供することにあ
る。
外部光が外側に反射し、画面が鏡のように見にくくなら
ず、かつ、シール接着力を保つと共に、シール部からの
光漏れが防止できる液晶表示装置を提供することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために、それぞれ透明画素電極と配向膜とを設
けた面が対向するように、2枚のガラス等から成る透明
絶縁基板を所定の間隙を隔てて重ね合わせ、前記両基板
間の縁周囲に枠状に設けたシール材により、前記両基板
を貼り合わせると共に、前記シール材の内側の前記両基
板間に液晶を封止して成り、かつ、前記両基板の少なく
とも一方の前記対向面にブラックマトリクスを設けた液
晶表示素子を有する液晶表示装置において、前記ブラッ
クマトリクスの端部と前記透明絶縁基板面との段差部に
またがるように、前記シール材を設けたことを特徴とす
る。
解決するために、それぞれ透明画素電極と配向膜とを設
けた面が対向するように、2枚のガラス等から成る透明
絶縁基板を所定の間隙を隔てて重ね合わせ、前記両基板
間の縁周囲に枠状に設けたシール材により、前記両基板
を貼り合わせると共に、前記シール材の内側の前記両基
板間に液晶を封止して成り、かつ、前記両基板の少なく
とも一方の前記対向面にブラックマトリクスを設けた液
晶表示素子を有する液晶表示装置において、前記ブラッ
クマトリクスの端部と前記透明絶縁基板面との段差部に
またがるように、前記シール材を設けたことを特徴とす
る。
【0010】また、前記ブラックマトリクスは、黒鉛を
顔料として含むレジスト膜、または黒鉛膜等の有機系樹
脂膜から成ることを特徴とする。
顔料として含むレジスト膜、または黒鉛膜等の有機系樹
脂膜から成ることを特徴とする。
【0011】また、前記シール材を前記ブラックマトリ
クスの端部と前記透明絶縁基板面にまたがるように、こ
れらに直接接して設けたことを特徴とする。
クスの端部と前記透明絶縁基板面にまたがるように、こ
れらに直接接して設けたことを特徴とする。
【0012】さらに、本発明は、表示領域の前記ブラッ
クマトリクスは、黒鉛を含む有機系樹脂膜または黒鉛膜
から成り、前記シール材と少なくとも一方の前記透明絶
縁基板との間に金属膜から成るブラックマトリクスを介
在させたことを特徴とする。
クマトリクスは、黒鉛を含む有機系樹脂膜または黒鉛膜
から成り、前記シール材と少なくとも一方の前記透明絶
縁基板との間に金属膜から成るブラックマトリクスを介
在させたことを特徴とする。
【0013】
【作用】本発明では、ブラックマトリクスを設けた側の
透明絶縁基板のシール部においても、シール接着強度の
大きいガラス等から成る基板面とブラックマトリクスと
に直接接してシール材を設けることにより、シール接着
力を保つことができる。また、ブラックマトリクスをシ
ール材の内部まで設けるため、シール材とブラックマト
リクスとの間にすき間が存在しないので、光漏れが生じ
ない。したがって、表示品質の低下も生じず、かつ、特
別な遮光処理も不要である。なお、ブラックマトリクス
を設けない側の透明絶縁基板のシール部においては、基
板面に直接接してシール材を接着することができる。
透明絶縁基板のシール部においても、シール接着強度の
大きいガラス等から成る基板面とブラックマトリクスと
に直接接してシール材を設けることにより、シール接着
力を保つことができる。また、ブラックマトリクスをシ
ール材の内部まで設けるため、シール材とブラックマト
リクスとの間にすき間が存在しないので、光漏れが生じ
ない。したがって、表示品質の低下も生じず、かつ、特
別な遮光処理も不要である。なお、ブラックマトリクス
を設けない側の透明絶縁基板のシール部においては、基
板面に直接接してシール材を接着することができる。
【0014】また、別の本発明では、表示領域における
ブラックマトリクスとしては、表示画面側の外部光が外
側に反射し、画面が鏡のように見にくくならない黒鉛を
顔料として含む有機系樹脂膜または黒鉛膜を用い、一
方、シール部には接着強度の大きい金属膜を使用するこ
とにより、シール接着力を保つと共に、シール部からの
光漏れも防止できる。
ブラックマトリクスとしては、表示画面側の外部光が外
側に反射し、画面が鏡のように見にくくならない黒鉛を
顔料として含む有機系樹脂膜または黒鉛膜を用い、一
方、シール部には接着強度の大きい金属膜を使用するこ
とにより、シール接着力を保つと共に、シール部からの
光漏れも防止できる。
【0015】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例について
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【0016】実施例1 図1は本発明の実施例1の単純マトリクス方式カラー液
晶表示装置の液晶表示素子の要部概略断面図である。
晶表示装置の液晶表示素子の要部概略断面図である。
【0017】11、12は透明ガラス基板(電極基
板)、(a)において、2は透明ガラス基板11上に設
けた黒鉛を顔料として含むレジスト膜(有機系樹脂膜)
または黒鉛膜から成るブラックマトリクス、33は透明
ガラス基板11上に設けたカラーフィルタ、23はカラ
ーフィルタ33の保護膜(平滑層)、31、32は透明
ガラス基板11上の保護膜23上、透明ガラス基板12
にそれぞれ設けた透明画素電極、21、22は配向膜、
50は液晶層、1は両基板11、12間の縁周囲に枠状
に設け、両基板11、12を貼り合わせると共に、その
内側の両基板11、12間に液晶層50を封止するシー
ル材、65は液晶層50中に多数個分散され、両基板1
1、12間の間隔を規定する小さな球状のスペーサ(ギ
ャップ保持材)、62はこれらの各部材で構成される液
晶表示素子である。なお、基板11上に設けた透明電極
31と、基板12上に設けた透明電極32とは基板面と
垂直な方向から見た場合、それぞれ直交する方向に帯状
に伸張して設けてある。また、カラーフィルタ33は赤
色、緑色、青色のカラーフィルタ33が順番に配列形成
されている。
板)、(a)において、2は透明ガラス基板11上に設
けた黒鉛を顔料として含むレジスト膜(有機系樹脂膜)
または黒鉛膜から成るブラックマトリクス、33は透明
ガラス基板11上に設けたカラーフィルタ、23はカラ
ーフィルタ33の保護膜(平滑層)、31、32は透明
ガラス基板11上の保護膜23上、透明ガラス基板12
にそれぞれ設けた透明画素電極、21、22は配向膜、
50は液晶層、1は両基板11、12間の縁周囲に枠状
に設け、両基板11、12を貼り合わせると共に、その
内側の両基板11、12間に液晶層50を封止するシー
ル材、65は液晶層50中に多数個分散され、両基板1
1、12間の間隔を規定する小さな球状のスペーサ(ギ
ャップ保持材)、62はこれらの各部材で構成される液
晶表示素子である。なお、基板11上に設けた透明電極
31と、基板12上に設けた透明電極32とは基板面と
垂直な方向から見た場合、それぞれ直交する方向に帯状
に伸張して設けてある。また、カラーフィルタ33は赤
色、緑色、青色のカラーフィルタ33が順番に配列形成
されている。
【0018】本実施例では、図1に示すように、透明ガ
ラス基板11上に設けた最も外側のブラックマトリクス
2の端部と透明ガラス基板11面にまたがるように、シ
ール材1をこれらに直接接して設けてある。このよう
に、ブラックマトリクス2を設けた側の透明ガラス基板
11のシール部においても、シール接着強度の大きいガ
ラス基板11面とブラックマトリクス2とに直接接して
シール材1を設けることにより、シール接着力を保つこ
とができる。したがって、製品の信頼性を向上できる。
また、ブラックマトリクス2をシール材1の内部まで設
けるため、シール材1とブラックマトリクス2との間に
すき間が存在しないので、光漏れが生じない。したがっ
て、表示品質の低下も生じず、かつ、特別な遮光処理が
不要であり、製造コストも上昇しない。なお、ブラック
マトリクス2を設けない側の透明ガラス基板12のシー
ル部においては、ガラス基板12面に直接接してシール
材1を接着しているので、シール接着力を保つことがで
きる。また、カラー液晶表示モジュールの外形寸法を小
さくできる効果もある。さらに、黒鉛を含むレジスト膜
または黒鉛膜は、従来の顔料を含むレジスト膜よりも反
射率が低いので、表示画面側の外部光が外側に反射し、
画面が鏡のように見にくくならない。
ラス基板11上に設けた最も外側のブラックマトリクス
2の端部と透明ガラス基板11面にまたがるように、シ
ール材1をこれらに直接接して設けてある。このよう
に、ブラックマトリクス2を設けた側の透明ガラス基板
11のシール部においても、シール接着強度の大きいガ
ラス基板11面とブラックマトリクス2とに直接接して
シール材1を設けることにより、シール接着力を保つこ
とができる。したがって、製品の信頼性を向上できる。
また、ブラックマトリクス2をシール材1の内部まで設
けるため、シール材1とブラックマトリクス2との間に
すき間が存在しないので、光漏れが生じない。したがっ
て、表示品質の低下も生じず、かつ、特別な遮光処理が
不要であり、製造コストも上昇しない。なお、ブラック
マトリクス2を設けない側の透明ガラス基板12のシー
ル部においては、ガラス基板12面に直接接してシール
材1を接着しているので、シール接着力を保つことがで
きる。また、カラー液晶表示モジュールの外形寸法を小
さくできる効果もある。さらに、黒鉛を含むレジスト膜
または黒鉛膜は、従来の顔料を含むレジスト膜よりも反
射率が低いので、表示画面側の外部光が外側に反射し、
画面が鏡のように見にくくならない。
【0019】なお、一般的にシール材1の塗布幅w1は
1.5mm〜2.0mmであるが、液晶表示素子62の製
造工程中における加工歪みを吸収できるシール幅w2は
0.3mm以上、遮光性を実用上問題ないレベルにする
には(w1−w2)を1.2mm〜1.7mmとする。
1.5mm〜2.0mmであるが、液晶表示素子62の製
造工程中における加工歪みを吸収できるシール幅w2は
0.3mm以上、遮光性を実用上問題ないレベルにする
には(w1−w2)を1.2mm〜1.7mmとする。
【0020】また、シール接着力を保つ別な方法として
黒鉛の顔料を含むレジスト膜から成るブラックマトリク
ス2の接着力を強くする方法も考えられるが、こうする
と、ホトリソグラフィを用いた製造方法では、ブラック
マトリクス2の微細成膜形成が難しくなる。また、ブラ
ックマトリクスを印刷する方法では、ブラックマトリク
スの成膜時の膜厚が厚くなる問題がある。
黒鉛の顔料を含むレジスト膜から成るブラックマトリク
ス2の接着力を強くする方法も考えられるが、こうする
と、ホトリソグラフィを用いた製造方法では、ブラック
マトリクス2の微細成膜形成が難しくなる。また、ブラ
ックマトリクスを印刷する方法では、ブラックマトリク
スの成膜時の膜厚が厚くなる問題がある。
【0021】図3は前記実施例1の液晶表示素子の製造
フローを示す図、図4(A)〜(M)は図3の工程A〜
Mに対応する工程断面図、図5(a)〜(h)は図3、
4の工程K〜Mの一部を詳細に示す図である。
フローを示す図、図4(A)〜(M)は図3の工程A〜
Mに対応する工程断面図、図5(a)〜(h)は図3、
4の工程K〜Mの一部を詳細に示す図である。
【0022】以下、前記実施例1の液晶表示素子の製造
方法について、図3、4に基いて順に説明する。図3の
工程A〜Mは図4の(A)〜(M)に対応する。
方法について、図3、4に基いて順に説明する。図3の
工程A〜Mは図4の(A)〜(M)に対応する。
【0023】まず、工程Aにおいて一方の透明ガラス基
板12を洗浄処理し、工程Bにおいて電極パターン32
を形成し、工程Cにおいて配向膜22を形成する。
板12を洗浄処理し、工程Bにおいて電極パターン32
を形成し、工程Cにおいて配向膜22を形成する。
【0024】一方、工程Eにおいて他方の透明ガラス基
板11を洗浄処理した後、工程Fにおいてブラックマト
リクス2を形成し、工程Gにおいて赤色、緑色、青色の
カラーフィルタ33を形成し、工程Hにおいて保護膜2
3を形成し、工程Iにおいて電極パターン31を形成
し、工程Jにおいて配向膜21を形成する。
板11を洗浄処理した後、工程Fにおいてブラックマト
リクス2を形成し、工程Gにおいて赤色、緑色、青色の
カラーフィルタ33を形成し、工程Hにおいて保護膜2
3を形成し、工程Iにおいて電極パターン31を形成
し、工程Jにおいて配向膜21を形成する。
【0025】つぎに、工程Dにおいて透明ガラス基板1
2面にもう一方の透明ガラス基板11との間隙を維持す
るためのスペーサ1を散布または塗布する。
2面にもう一方の透明ガラス基板11との間隙を維持す
るためのスペーサ1を散布または塗布する。
【0026】一方、工程Kにおいて透明ガラス基板11
の縁周囲にエポキシ系のシール材1を枠状に塗布し、工
程Lにおいて2枚の透明ガラス基板11、12を重ね合
わせ、各電極31、32間の間隙を維持するように加圧
した状態で加熱し、シール材1を硬化させて両透明ガラ
ス基板11、12の液晶封入口(図5(g)、(h)の
符号51参照)を除く周囲をシールする。ついで、工程
Mにおいて両透明ガラス基板11、12の間隙を真空減
圧して液晶層50を真空封入し、その後、封入口を封止
材(図5(h)の符号69参照)で封止する。以降、次
工程により処理を加え、カラー液晶表示モジュールが完
成する。
の縁周囲にエポキシ系のシール材1を枠状に塗布し、工
程Lにおいて2枚の透明ガラス基板11、12を重ね合
わせ、各電極31、32間の間隙を維持するように加圧
した状態で加熱し、シール材1を硬化させて両透明ガラ
ス基板11、12の液晶封入口(図5(g)、(h)の
符号51参照)を除く周囲をシールする。ついで、工程
Mにおいて両透明ガラス基板11、12の間隙を真空減
圧して液晶層50を真空封入し、その後、封入口を封止
材(図5(h)の符号69参照)で封止する。以降、次
工程により処理を加え、カラー液晶表示モジュールが完
成する。
【0027】つぎに、前記工程K〜Mの詳細を図5を用
いて説明する。
いて説明する。
【0028】電極3等を形成し、工程Kを経た透明ガラ
ス基板11を図(c)に示す。なお、図4においては、
基板12にスペーサ65を散布したが、図5において
は、基板11にシール材1を塗布すると共に、スペーサ
65を散布した。つぎに、(d)に示すように、透明ガ
ラス基板11、12を重ね合わせて加圧し、スペーサ6
5を圧縮し、所定の間隙を維持する。つぎに、シール材
1を加熱、硬化させて両透明ガラス基板11、12を接
着シールする(上記工程L、図4(L))。つぎに、
(e)に示すように、加圧を解放するため、ガラス基板
11、12内の楕円形に変形していたスペーサ65が元
の形状に戻ろうとする。このため、シール材1は基板の
歪みに耐える接着力が必要となる。つぎに、(f)に示
すように、両基板11、12間に液晶を封入するため、
両基板間を真空にした状態で、(g)に示すように、液
晶槽67内に収容してある液晶68中に封入口51をデ
ィップし、封入口51から両基板間に液晶を真空封入す
る。つぎに、両基板間の間隙を所定の値に調整した後、
(h)に示すように、封入口51を封止材69により封
止する。
ス基板11を図(c)に示す。なお、図4においては、
基板12にスペーサ65を散布したが、図5において
は、基板11にシール材1を塗布すると共に、スペーサ
65を散布した。つぎに、(d)に示すように、透明ガ
ラス基板11、12を重ね合わせて加圧し、スペーサ6
5を圧縮し、所定の間隙を維持する。つぎに、シール材
1を加熱、硬化させて両透明ガラス基板11、12を接
着シールする(上記工程L、図4(L))。つぎに、
(e)に示すように、加圧を解放するため、ガラス基板
11、12内の楕円形に変形していたスペーサ65が元
の形状に戻ろうとする。このため、シール材1は基板の
歪みに耐える接着力が必要となる。つぎに、(f)に示
すように、両基板11、12間に液晶を封入するため、
両基板間を真空にした状態で、(g)に示すように、液
晶槽67内に収容してある液晶68中に封入口51をデ
ィップし、封入口51から両基板間に液晶を真空封入す
る。つぎに、両基板間の間隙を所定の値に調整した後、
(h)に示すように、封入口51を封止材69により封
止する。
【0029】実施例2 図2は本発明の実施例2の単純マトリクス方式カラー液
晶表示装置の液晶表示素子の要部概略断面図である。本
実施例では、一般に使用される環境より厳しい冷熱条件
変化に耐え得るシール構造を示す。なお、図1に示した
部材と同一の機能を有するものは同一の符号を付し、そ
の繰り返しの説明は省略する。
晶表示装置の液晶表示素子の要部概略断面図である。本
実施例では、一般に使用される環境より厳しい冷熱条件
変化に耐え得るシール構造を示す。なお、図1に示した
部材と同一の機能を有するものは同一の符号を付し、そ
の繰り返しの説明は省略する。
【0030】表示領域におけるブラックマトリクス2
は、実施例1と同様の黒鉛を顔料として含むレジスト膜
(有機系樹脂膜)または黒鉛膜で形成し、透明ガラス基
板11のシール部1におけるブラックマトリクス2は金
属膜で形成し、シール材1を透明ガラス基板11の金属
膜3面でシール接着してある。すなわち、表示領域にお
けるブラックマトリクスとしては、表示画面側の外部光
が外側に反射し、画面が鏡のように見にくくならない黒
鉛を含むレジスト膜(または黒鉛膜)を用い、一方、シ
ール部には接着強度の大きい金属膜を使用することによ
り、シール接着力を保つと共に、シール部からの光漏れ
も防止できる。なお、ブラックマトリクス2を設けない
側の透明ガラス基板12のシール部においては、ガラス
基板12面に直接接してシール材1を接着しているの
で、シール接着力を保つことができる。本実施例におい
ても、実施例1と同様に、表示領域の表示コントラスト
特性を向上すると共に、液晶表示モジュールの外形寸法
を小さくすることができる。実施例2の方が実施例1に
比べて、シール接着力が大きいので、信頼性が高いが、
製造コストが上昇する。
は、実施例1と同様の黒鉛を顔料として含むレジスト膜
(有機系樹脂膜)または黒鉛膜で形成し、透明ガラス基
板11のシール部1におけるブラックマトリクス2は金
属膜で形成し、シール材1を透明ガラス基板11の金属
膜3面でシール接着してある。すなわち、表示領域にお
けるブラックマトリクスとしては、表示画面側の外部光
が外側に反射し、画面が鏡のように見にくくならない黒
鉛を含むレジスト膜(または黒鉛膜)を用い、一方、シ
ール部には接着強度の大きい金属膜を使用することによ
り、シール接着力を保つと共に、シール部からの光漏れ
も防止できる。なお、ブラックマトリクス2を設けない
側の透明ガラス基板12のシール部においては、ガラス
基板12面に直接接してシール材1を接着しているの
で、シール接着力を保つことができる。本実施例におい
ても、実施例1と同様に、表示領域の表示コントラスト
特性を向上すると共に、液晶表示モジュールの外形寸法
を小さくすることができる。実施例2の方が実施例1に
比べて、シール接着力が大きいので、信頼性が高いが、
製造コストが上昇する。
【0031】本実施例の製造フローにおいては、図3の
工程F(図4(F))において、シール部に相当する位
置に、Cr等の金属膜から成るブラックマトリクス3を
形成し、その後、黒鉛を含むレジスト膜(または黒鉛
膜)から成るブラックマトリクス2を形成する。その他
は図3、4、5に示した上記実施例1と同様である。
工程F(図4(F))において、シール部に相当する位
置に、Cr等の金属膜から成るブラックマトリクス3を
形成し、その後、黒鉛を含むレジスト膜(または黒鉛
膜)から成るブラックマトリクス2を形成する。その他
は図3、4、5に示した上記実施例1と同様である。
【0032】以下、図1、2に実施例1、2として示し
た本発明が適用可能な単純マトリクス方式の液晶表示装
置について説明する。
た本発明が適用可能な単純マトリクス方式の液晶表示装
置について説明する。
【0033】図6は本発明が適用可能な液晶表示素子の
一例の要部分解斜視図である。
一例の要部分解斜視図である。
【0034】図6において、液晶層50を挟持する2枚
の上、下電極基板11、12間で液晶分子がねじれたら
せん状構造をなすように配向させるには、例えばガラス
からなる透明な上、下電極基板11、12上の、液晶に
接する、例えばポリイミドからなる有機高分子樹脂から
なる配向膜21、22の表面を、例えば布などで一方向
にこする方法、いわゆるラビング法が採られている。こ
のときのこする方向、すなわちラビング方向、上電極基
板11においてはラビング方向6、下電極基板12にお
いてはラビング方向7が液晶分子の配列方向となる。こ
のようにして配向処理された2枚の上、下電極基板1
1、12をそれぞれのラビング方向6、7が互いにほぼ
180度から360度で交叉するように間隙d1をもた
せて対向させ、2枚の電極基板11、12を液晶を注入
するための切欠け部、すなわち、切欠け部(液晶封入
口)51を備えた枠状のシール材52により接着し、そ
の間隙に正の誘電異方性をもち、旋光性物質を所定量添
加されたネマチック液晶を封入すると、液晶分子はその
電極基板間で図中のねじれ角θのらせん状構造の分子配
列をする。なお31、32はそれぞれ例えば酸化インジ
ウム又はITO(インジウム チン オキサイド(Indium
Tin Oxide))からなる透明な上、下電極である。このよ
うにして構成された液晶セル60の上電極基板11の上
側に複屈折効果をもたらす部材(以下複屈折部材と称
す。藤村他「STN−LCD用位相差フィルム」、雑誌
電子材料1991年2月号第37−41頁)40が配設
されており、さらにこの部材40および液晶セル60を
挟んで上、下偏光板15、16が設けられる。
の上、下電極基板11、12間で液晶分子がねじれたら
せん状構造をなすように配向させるには、例えばガラス
からなる透明な上、下電極基板11、12上の、液晶に
接する、例えばポリイミドからなる有機高分子樹脂から
なる配向膜21、22の表面を、例えば布などで一方向
にこする方法、いわゆるラビング法が採られている。こ
のときのこする方向、すなわちラビング方向、上電極基
板11においてはラビング方向6、下電極基板12にお
いてはラビング方向7が液晶分子の配列方向となる。こ
のようにして配向処理された2枚の上、下電極基板1
1、12をそれぞれのラビング方向6、7が互いにほぼ
180度から360度で交叉するように間隙d1をもた
せて対向させ、2枚の電極基板11、12を液晶を注入
するための切欠け部、すなわち、切欠け部(液晶封入
口)51を備えた枠状のシール材52により接着し、そ
の間隙に正の誘電異方性をもち、旋光性物質を所定量添
加されたネマチック液晶を封入すると、液晶分子はその
電極基板間で図中のねじれ角θのらせん状構造の分子配
列をする。なお31、32はそれぞれ例えば酸化インジ
ウム又はITO(インジウム チン オキサイド(Indium
Tin Oxide))からなる透明な上、下電極である。このよ
うにして構成された液晶セル60の上電極基板11の上
側に複屈折効果をもたらす部材(以下複屈折部材と称
す。藤村他「STN−LCD用位相差フィルム」、雑誌
電子材料1991年2月号第37−41頁)40が配設
されており、さらにこの部材40および液晶セル60を
挟んで上、下偏光板15、16が設けられる。
【0035】液晶50における液晶分子のねじれ角θは
180度から360度の範囲の値を採り得るが好ましく
は200度から300度であるが、透過率−印加電圧カ
ーブのしきい値近傍の点灯状態が光を散乱する配向とな
る現象を避け、優れた時分割特性を維持するという実用
的な観点からすれば、230度から270度の範囲がよ
り好ましい。この条件は基本的には電圧に対する液晶分
子の応答をより敏感にし、優れた時分割特性を実現する
ように作用する。また優れた表示品質を得るためには液
晶層50の屈折率異方性Δn1とその厚さd1の積Δn1
・d1は好ましくは0.5μmから1.0μm、より好ま
しくは0.6μmから0.9μmの範囲に設定することが
望ましい。
180度から360度の範囲の値を採り得るが好ましく
は200度から300度であるが、透過率−印加電圧カ
ーブのしきい値近傍の点灯状態が光を散乱する配向とな
る現象を避け、優れた時分割特性を維持するという実用
的な観点からすれば、230度から270度の範囲がよ
り好ましい。この条件は基本的には電圧に対する液晶分
子の応答をより敏感にし、優れた時分割特性を実現する
ように作用する。また優れた表示品質を得るためには液
晶層50の屈折率異方性Δn1とその厚さd1の積Δn1
・d1は好ましくは0.5μmから1.0μm、より好ま
しくは0.6μmから0.9μmの範囲に設定することが
望ましい。
【0036】複屈折部材40は液晶セル60を透過する
光の偏光状態を変調するように作用し、液晶セル60単
体では着色した表示しかできなかったものを白黒の表示
に変換するものである。このためには複屈折部材40の
屈折率異方性Δn2とその厚さd2の積Δn2・d2が極め
て重要で、好ましくは0.4μmから0.8μm、より好
ましくは0.5μmから0.7μmの範囲に設定する。
光の偏光状態を変調するように作用し、液晶セル60単
体では着色した表示しかできなかったものを白黒の表示
に変換するものである。このためには複屈折部材40の
屈折率異方性Δn2とその厚さd2の積Δn2・d2が極め
て重要で、好ましくは0.4μmから0.8μm、より好
ましくは0.5μmから0.7μmの範囲に設定する。
【0037】さらに、この液晶表示素子(液晶表示パネ
ル)62は複屈折による楕円偏光を利用しているので偏
光板15、16の軸と、複屈折部材40として一軸性の
透明複屈折板を用いる場合はその光学軸と、液晶セル6
0の電極基板11、12の液晶配列方向6、7との関係
が極めて重要である。
ル)62は複屈折による楕円偏光を利用しているので偏
光板15、16の軸と、複屈折部材40として一軸性の
透明複屈折板を用いる場合はその光学軸と、液晶セル6
0の電極基板11、12の液晶配列方向6、7との関係
が極めて重要である。
【0038】上記いずれの例においても一軸性透明複屈
折部材40として、液晶分子のねじれのない平行配向液
晶セルを用いたが、むしろ20度から60度程度液晶分
子がねじれた液晶層を用いた方が角度による色変化が少
ない。このねじれた液晶層は、前述の液晶層50同様、
配向処理が施された一対の透明基板の配向処理方向を所
定のねじれ角に交差するようにした基板間に液晶を挟持
することによって形成される。この場合、液晶分子のね
じれ構造を挟む2つの配向処理方向の挟角の2等分角の
方向を複屈折部材の光軸として取扱えばよい。また、複
屈折部材40として、透明な高分子フィルムを用いても
良い(この際一軸延伸のものが好ましい)。この場合高
分子フィルムとしてはPET(ポリエチレン テレフタ
レート)、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネイトが
有効である。
折部材40として、液晶分子のねじれのない平行配向液
晶セルを用いたが、むしろ20度から60度程度液晶分
子がねじれた液晶層を用いた方が角度による色変化が少
ない。このねじれた液晶層は、前述の液晶層50同様、
配向処理が施された一対の透明基板の配向処理方向を所
定のねじれ角に交差するようにした基板間に液晶を挟持
することによって形成される。この場合、液晶分子のね
じれ構造を挟む2つの配向処理方向の挟角の2等分角の
方向を複屈折部材の光軸として取扱えばよい。また、複
屈折部材40として、透明な高分子フィルムを用いても
良い(この際一軸延伸のものが好ましい)。この場合高
分子フィルムとしてはPET(ポリエチレン テレフタ
レート)、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネイトが
有効である。
【0039】さらに以上の例においては複屈折部材は単
一であったが、図6において複屈折部材40に加えて、
下電極基板12と下偏光板16との間にもう一枚の複屈
折部材を挿入することもできる。この場合はこれら複屈
折部材のΔn2・d2を再調整すればよい。
一であったが、図6において複屈折部材40に加えて、
下電極基板12と下偏光板16との間にもう一枚の複屈
折部材を挿入することもできる。この場合はこれら複屈
折部材のΔn2・d2を再調整すればよい。
【0040】ただし、図7に示す如く、上電極基板11
上に赤、緑、青のカラーフィルタ33R、33G、33
B、各フィルター同志の間に光遮光膜(ブラックマトリ
クス)2を設けることにより、多色表示が可能になる。
上に赤、緑、青のカラーフィルタ33R、33G、33
B、各フィルター同志の間に光遮光膜(ブラックマトリ
クス)2を設けることにより、多色表示が可能になる。
【0041】なお、図7においては、各フィルタ33
R、33G、33B、光遮光膜2の上に、これらの凹凸
の影響を軽減するため絶縁物からなる平滑膜(保護膜)
23が形成された上に上電極31、配向膜21が形成さ
れている。
R、33G、33B、光遮光膜2の上に、これらの凹凸
の影響を軽減するため絶縁物からなる平滑膜(保護膜)
23が形成された上に上電極31、配向膜21が形成さ
れている。
【0042】ここに示した液晶表示素子62において
も、図示は省略するが、図1の前記実施例1のように、
シール材52(図6)を、黒鉛を顔料として含む有機系
樹脂膜または黒鉛膜から成るブラックマトリクス2(図
7)の端部と上電極基板11面との段差部にまたがるよ
うにこれらに直接接して設けることにより、シール接着
力を保つと共に、ブラックマトリクス2をシール材52
の内部まで設けるため、シール材52とブラックマトリ
クス2との間にすき間が存在しないので、光漏れが生じ
ない。
も、図示は省略するが、図1の前記実施例1のように、
シール材52(図6)を、黒鉛を顔料として含む有機系
樹脂膜または黒鉛膜から成るブラックマトリクス2(図
7)の端部と上電極基板11面との段差部にまたがるよ
うにこれらに直接接して設けることにより、シール接着
力を保つと共に、ブラックマトリクス2をシール材52
の内部まで設けるため、シール材52とブラックマトリ
クス2との間にすき間が存在しないので、光漏れが生じ
ない。
【0043】また、図示は省略するが、図2の前記実施
例2のように、表示領域のブラックマトリクスとして
は、表示画面側の外部光が外側に反射し、画面が鏡のよ
うに見にくくならない黒鉛を含む有機系樹脂膜または黒
鉛膜を用い、一方、シール部には接着強度の大きいCr
等の金属膜を使用することにより、シール接着力を保つ
と共に、シール部からの光漏れも防止できる。
例2のように、表示領域のブラックマトリクスとして
は、表示画面側の外部光が外側に反射し、画面が鏡のよ
うに見にくくならない黒鉛を含む有機系樹脂膜または黒
鉛膜を用い、一方、シール部には接着強度の大きいCr
等の金属膜を使用することにより、シール接着力を保つ
と共に、シール部からの光漏れも防止できる。
【0044】図8は液晶表示素子62と、この液晶表示
素子62を駆動するための駆動回路と、光源をコンパク
トに一体にまとめた液晶表示モジュール63を示す分解
斜視図である。液晶表示素子62を駆動するIC34
は、中央に液晶表示素子62を嵌め込むための窓部を備
えた枠状体のプリント基板35に搭載される。液晶表示
素子62を嵌め込んだプリント基板35はプラスチック
モールドで形成された枠状体42の窓部に嵌め込まれ、
これに金属製フレーム41を重ね、その爪43を枠状体
42に形成されている切込み44内に折り曲げることに
よりフレーム41を枠状体42に固定する。
素子62を駆動するための駆動回路と、光源をコンパク
トに一体にまとめた液晶表示モジュール63を示す分解
斜視図である。液晶表示素子62を駆動するIC34
は、中央に液晶表示素子62を嵌め込むための窓部を備
えた枠状体のプリント基板35に搭載される。液晶表示
素子62を嵌め込んだプリント基板35はプラスチック
モールドで形成された枠状体42の窓部に嵌め込まれ、
これに金属製フレーム41を重ね、その爪43を枠状体
42に形成されている切込み44内に折り曲げることに
よりフレーム41を枠状体42に固定する。
【0045】液晶表示素子62の上下端に配置される冷
陰極蛍光管36、この冷陰極蛍光管36からの光を液晶
表示セル60に均一に照射させるためのアクリル板から
なる導光板37、金属板に白色塗料を塗布して形成され
た反射板38、導光板37からの光を拡散する乳白色の
ポリカーボネート等から成る拡散板39が図8の順序
で、枠状体42の裏側からその窓部に嵌め込まれる。冷
陰極蛍光管36を点灯する為のインバータ電源回路(図
示せず)は枠状体42の右側裏部に設けられた凹部(図
示せず。反射板38の凹所45に対向する位置にあ
る。)に収納される。拡散板39、導光板37、冷陰極
蛍光管36および反射板38は、反射板38に設けられ
ている舌片46を枠状体42に設けられている小口47
内に折り曲げることにより固定される。
陰極蛍光管36、この冷陰極蛍光管36からの光を液晶
表示セル60に均一に照射させるためのアクリル板から
なる導光板37、金属板に白色塗料を塗布して形成され
た反射板38、導光板37からの光を拡散する乳白色の
ポリカーボネート等から成る拡散板39が図8の順序
で、枠状体42の裏側からその窓部に嵌め込まれる。冷
陰極蛍光管36を点灯する為のインバータ電源回路(図
示せず)は枠状体42の右側裏部に設けられた凹部(図
示せず。反射板38の凹所45に対向する位置にあ
る。)に収納される。拡散板39、導光板37、冷陰極
蛍光管36および反射板38は、反射板38に設けられ
ている舌片46を枠状体42に設けられている小口47
内に折り曲げることにより固定される。
【0046】図9は液晶表示モジュール63を表示部に
使用したラップトップパソコンのブロックダイアグラ
ム、図10は液晶表示モジュール63をラップトップパ
ソコン64に実装した状態を示す図である。このラップ
トップパソコン64においては、マイクロプロセッサ4
9で計算した結果を、コントロール用LSI48を介し
て液晶駆動用半導体IC34で液晶表示モジュール63
を駆動するものである。
使用したラップトップパソコンのブロックダイアグラ
ム、図10は液晶表示モジュール63をラップトップパ
ソコン64に実装した状態を示す図である。このラップ
トップパソコン64においては、マイクロプロセッサ4
9で計算した結果を、コントロール用LSI48を介し
て液晶駆動用半導体IC34で液晶表示モジュール63
を駆動するものである。
【0047】以上説明したように、上記例によれば、優
れた時分割駆動特性を有し、さらに白黒および多色表示
を可能にする電界効果型液晶表示素子を実現することが
できる。
れた時分割駆動特性を有し、さらに白黒および多色表示
を可能にする電界効果型液晶表示素子を実現することが
できる。
【0048】《アクティブ・マトリクス液晶表示装置》
以下、アクティブ・マトリクス方式のカラー液晶表示装
置に本発明を適用した実施例を説明する。なお、以下説
明する図面で、同一機能を有するものは同一符号を付
け、その繰り返しの説明は省略する。
以下、アクティブ・マトリクス方式のカラー液晶表示装
置に本発明を適用した実施例を説明する。なお、以下説
明する図面で、同一機能を有するものは同一符号を付
け、その繰り返しの説明は省略する。
【0049】《マトリクス部の概要》図11はこの発明
が適用されるアクティブ・マトリクス方式カラー液晶表
示装置の一画素とその周辺を示す平面図、図12はマト
リクスの画素部(図11の12b−12b切断線におけ
る断面)を中央に、両側に液晶表示パネル(液晶表示素
子)角付近と映像信号端子部付近を示す断面図である。
が適用されるアクティブ・マトリクス方式カラー液晶表
示装置の一画素とその周辺を示す平面図、図12はマト
リクスの画素部(図11の12b−12b切断線におけ
る断面)を中央に、両側に液晶表示パネル(液晶表示素
子)角付近と映像信号端子部付近を示す断面図である。
【0050】図11に示すように、各画素は隣接する2
本の走査信号線(ゲート信号線または水平信号線)GL
と、隣接する2本の映像信号線(ドレイン信号線または
垂直信号線)DLとの交差領域内(4本の信号線で囲ま
れた領域内)に配置されている。各画素は薄膜トランジ
スタTFT、透明画素電極ITO1および保持容量素子
Caddを含む。走査信号線GLは図では左右方向に延在
し、上下方向に複数本配置されている。映像信号線DL
は上下方向に延在し、左右方向に複数本配置されてい
る。
本の走査信号線(ゲート信号線または水平信号線)GL
と、隣接する2本の映像信号線(ドレイン信号線または
垂直信号線)DLとの交差領域内(4本の信号線で囲ま
れた領域内)に配置されている。各画素は薄膜トランジ
スタTFT、透明画素電極ITO1および保持容量素子
Caddを含む。走査信号線GLは図では左右方向に延在
し、上下方向に複数本配置されている。映像信号線DL
は上下方向に延在し、左右方向に複数本配置されてい
る。
【0051】図12に示すように、液晶層LCを基準に
して下部透明ガラス基板SUB1側には薄膜トランジス
タTFTおよび透明画素電極ITO1が形成され、上部
透明ガラス基板SUB2側にはカラーフィルタFIL、
遮光用ブラックマトリクスパターンBMが形成されてい
る。透明ガラス基板SUB1、SUB2の両面にはディ
ップ処理等によって形成された酸化シリコン膜SIOが
設けられている。
して下部透明ガラス基板SUB1側には薄膜トランジス
タTFTおよび透明画素電極ITO1が形成され、上部
透明ガラス基板SUB2側にはカラーフィルタFIL、
遮光用ブラックマトリクスパターンBMが形成されてい
る。透明ガラス基板SUB1、SUB2の両面にはディ
ップ処理等によって形成された酸化シリコン膜SIOが
設けられている。
【0052】上部透明ガラス基板SUB2の内側(液晶
LC側)の表面には、遮光膜BM、カラーフィルタFI
L、保護膜PSV2、共通透明画素電極ITO2(CO
M)および上部配向膜ORI2が順次積層して設けられ
ている。
LC側)の表面には、遮光膜BM、カラーフィルタFI
L、保護膜PSV2、共通透明画素電極ITO2(CO
M)および上部配向膜ORI2が順次積層して設けられ
ている。
【0053】《マトリクス周辺の概要》図13は上下の
ガラス基板SUB1、SUB2を含む表示パネルPNL
のマトリクス(AR)の周辺部を誇張した要部平面を、
図14は図13のパネル左上角部に対応するシール部S
L付近の拡大平面を示す図である。また、前記図12は
図11の12b−12b切断線における断面を中央にし
て、左側に図14の12a−12a切断線における断面
を、右側に映像信号駆動回路が接続されるべき外部接続
端子DTM付近の断面を示す図である。
ガラス基板SUB1、SUB2を含む表示パネルPNL
のマトリクス(AR)の周辺部を誇張した要部平面を、
図14は図13のパネル左上角部に対応するシール部S
L付近の拡大平面を示す図である。また、前記図12は
図11の12b−12b切断線における断面を中央にし
て、左側に図14の12a−12a切断線における断面
を、右側に映像信号駆動回路が接続されるべき外部接続
端子DTM付近の断面を示す図である。
【0054】このパネルの製造では、小さいサイズであ
ればスループット向上のため1枚のガラス基板で複数個
分のデバイスを同時に加工してから分割し、大きいサイ
ズであれば製造設備の共用のためどの品種でも標準化さ
れた大きさのガラス基板を加工してから各品種に合った
サイズに小さくし、いずれの場合も一通りの工程を経て
からガラスを切断する。図13、14は後者の例を示す
もので、図13は上下基板SUB1、SUB2の切断後
を、図14は切断前を表しており、LNは両基板の切断
前の縁を、CT1とCT2はそれぞれ基板SUB1、S
UB2の切断すべき位置を示す。いずれの場合も、完成
状態では外部接続端子群Tg、Td(添字略)が存在す
る(図で上下辺と左辺の)部分はそれらを露出するよう
に上側基板SUB2の大きさが下側基板SUB1よりも
内側に制限されている。端子群Tg,Tdはそれぞれ後
述する走査回路接続用端子GTM、映像信号回路接続用
端子DTMとそれらの引出配線部を集積回路チップCH
Iが搭載されたテープキャリアパッケージTCP(図1
5参照)の単位に複数本まとめて名付けたものである。
各群のマトリクス部から外部接続端子部に至るまでの引
出配線は、両端に近づくにつれ傾斜している。これは、
パッケージTCPの配列ピッチ及び各パッケージTCP
における接続端子ピッチに表示パネルPNLの端子DT
M、GTMを合わせるためである。
ればスループット向上のため1枚のガラス基板で複数個
分のデバイスを同時に加工してから分割し、大きいサイ
ズであれば製造設備の共用のためどの品種でも標準化さ
れた大きさのガラス基板を加工してから各品種に合った
サイズに小さくし、いずれの場合も一通りの工程を経て
からガラスを切断する。図13、14は後者の例を示す
もので、図13は上下基板SUB1、SUB2の切断後
を、図14は切断前を表しており、LNは両基板の切断
前の縁を、CT1とCT2はそれぞれ基板SUB1、S
UB2の切断すべき位置を示す。いずれの場合も、完成
状態では外部接続端子群Tg、Td(添字略)が存在す
る(図で上下辺と左辺の)部分はそれらを露出するよう
に上側基板SUB2の大きさが下側基板SUB1よりも
内側に制限されている。端子群Tg,Tdはそれぞれ後
述する走査回路接続用端子GTM、映像信号回路接続用
端子DTMとそれらの引出配線部を集積回路チップCH
Iが搭載されたテープキャリアパッケージTCP(図1
5参照)の単位に複数本まとめて名付けたものである。
各群のマトリクス部から外部接続端子部に至るまでの引
出配線は、両端に近づくにつれ傾斜している。これは、
パッケージTCPの配列ピッチ及び各パッケージTCP
における接続端子ピッチに表示パネルPNLの端子DT
M、GTMを合わせるためである。
【0055】透明ガラス基板SUB1、SUB2の間に
はその縁に沿って、液晶封入口INJを除き、液晶LC
を封止するようにシールパターンSLが形成される。シ
ール材は例えばエポキシ樹脂から成る。上部透明ガラス
基板SUB2側の共通透明画素電極ITO2は、少なく
とも一箇所において、本実施例では少なくともパネルの
4角で銀ペースト材AGPによって下部透明ガラス基板
SUB1側に形成されたその引出配線INTに接続され
ている。この引出配線INTは後述するゲート端子GT
M、ドレイン端子DTMと同一製造工程で形成される。
はその縁に沿って、液晶封入口INJを除き、液晶LC
を封止するようにシールパターンSLが形成される。シ
ール材は例えばエポキシ樹脂から成る。上部透明ガラス
基板SUB2側の共通透明画素電極ITO2は、少なく
とも一箇所において、本実施例では少なくともパネルの
4角で銀ペースト材AGPによって下部透明ガラス基板
SUB1側に形成されたその引出配線INTに接続され
ている。この引出配線INTは後述するゲート端子GT
M、ドレイン端子DTMと同一製造工程で形成される。
【0056】配向膜ORI1、ORI2、透明画素電極
ITO1、共通透明画素電極ITO2、それぞれの層
は、シールパターンSLの内側に形成される。偏光板P
OL1、POL2はそれぞれ下部透明ガラス基板SUB
1、上部透明ガラス基板SUB2の外側の表面に形成さ
れている。液晶LCは液晶分子の向きを設定する下部配
向膜ORI1と上部配向膜ORI2との間でシールパタ
ーンSLで仕切られた領域に封入されている。下部配向
膜ORI1は下部透明ガラス基板SUB1側の保護膜P
SV1の上部に形成される。
ITO1、共通透明画素電極ITO2、それぞれの層
は、シールパターンSLの内側に形成される。偏光板P
OL1、POL2はそれぞれ下部透明ガラス基板SUB
1、上部透明ガラス基板SUB2の外側の表面に形成さ
れている。液晶LCは液晶分子の向きを設定する下部配
向膜ORI1と上部配向膜ORI2との間でシールパタ
ーンSLで仕切られた領域に封入されている。下部配向
膜ORI1は下部透明ガラス基板SUB1側の保護膜P
SV1の上部に形成される。
【0057】この液晶表示装置は、下部透明ガラス基板
SUB1側、上部透明ガラス基板SUB2側で別個に種
々の層を積み重ね、シールパターンSLを基板SUB2
側に形成し、下部透明ガラス基板SUB1と上部透明ガ
ラス基板SUB2とを重ね合わせ、シール材SLの開口
部INJから液晶LCを注入し、注入口INJをエポキ
シ樹脂などで封止し、上下基板を切断することによって
組み立てられる。
SUB1側、上部透明ガラス基板SUB2側で別個に種
々の層を積み重ね、シールパターンSLを基板SUB2
側に形成し、下部透明ガラス基板SUB1と上部透明ガ
ラス基板SUB2とを重ね合わせ、シール材SLの開口
部INJから液晶LCを注入し、注入口INJをエポキ
シ樹脂などで封止し、上下基板を切断することによって
組み立てられる。
【0058】《薄膜トランジスタTFT》次に、図1
1、図12に戻り、TFT基板SUB1側の構成を詳し
く説明する。
1、図12に戻り、TFT基板SUB1側の構成を詳し
く説明する。
【0059】薄膜トランジスタTFTは、ゲート電極G
Tに正のバイアスを印加すると、ソース−ドレイン間の
チャネル抵抗が小さくなり、バイアスを零にすると、チ
ャネル抵抗は大きくなるように動作する。
Tに正のバイアスを印加すると、ソース−ドレイン間の
チャネル抵抗が小さくなり、バイアスを零にすると、チ
ャネル抵抗は大きくなるように動作する。
【0060】各画素には複数(2つ)の薄膜トランジス
タTFT1、TFT2が冗長して設けられる。薄膜トラ
ンジスタTFT1、TFT2のそれぞれは、実質的に同
一サイズ(チャネル長、チャネル幅が同じ)で構成さ
れ、ゲート電極GT、ゲート絶縁膜GI、i型(真性、
intrinsic、導電型決定不純物がドープされていない)
非晶質シリコン(Si)からなるi型半導体層AS、一
対のソース電極SD1、ドレイン電極SD2を有す。な
お、ソース、ドレインは本来その間のバイアス極性によ
って決まるもので、この液晶表示装置の回路ではその極
性は動作中反転するので、ソース、ドレインは動作中入
れ替わると理解されたい。しかし、以下の説明では、便
宜上一方をソース、他方をドレインと固定して表現す
る。
タTFT1、TFT2が冗長して設けられる。薄膜トラ
ンジスタTFT1、TFT2のそれぞれは、実質的に同
一サイズ(チャネル長、チャネル幅が同じ)で構成さ
れ、ゲート電極GT、ゲート絶縁膜GI、i型(真性、
intrinsic、導電型決定不純物がドープされていない)
非晶質シリコン(Si)からなるi型半導体層AS、一
対のソース電極SD1、ドレイン電極SD2を有す。な
お、ソース、ドレインは本来その間のバイアス極性によ
って決まるもので、この液晶表示装置の回路ではその極
性は動作中反転するので、ソース、ドレインは動作中入
れ替わると理解されたい。しかし、以下の説明では、便
宜上一方をソース、他方をドレインと固定して表現す
る。
【0061】《ゲート電極GT》ゲート電極GTは走査
信号線GLから垂直方向に突出する形状で構成されてい
る(T字形状に分岐されている)。ゲート電極GTは薄
膜トランジスタTFT1、TFT2のそれぞれの能動領
域を越えるよう突出している。薄膜トランジスタTFT
1、TFT2のそれぞれのゲート電極GTは、一体に
(共通のゲート電極として)構成されており、走査信号
線GLに連続して形成されている。本例では、ゲート電
極GTは、単層の第2導電膜g2で形成されている。第
2導電膜g2としては例えばスパッタで形成されたアル
ミニウム(Al)膜が用いられ、その上にはAlの陽極
酸化膜AOFが設けられている。
信号線GLから垂直方向に突出する形状で構成されてい
る(T字形状に分岐されている)。ゲート電極GTは薄
膜トランジスタTFT1、TFT2のそれぞれの能動領
域を越えるよう突出している。薄膜トランジスタTFT
1、TFT2のそれぞれのゲート電極GTは、一体に
(共通のゲート電極として)構成されており、走査信号
線GLに連続して形成されている。本例では、ゲート電
極GTは、単層の第2導電膜g2で形成されている。第
2導電膜g2としては例えばスパッタで形成されたアル
ミニウム(Al)膜が用いられ、その上にはAlの陽極
酸化膜AOFが設けられている。
【0062】このゲート電極GTはi型半導体層ASを
完全に覆うよう(下方からみて)それより大き目に形成
され、i型半導体層ASに外光やバックライト光が当た
らないよう工夫されている。
完全に覆うよう(下方からみて)それより大き目に形成
され、i型半導体層ASに外光やバックライト光が当た
らないよう工夫されている。
【0063】《走査信号線GL》走査信号線GLは第2
導電膜g2で構成されている。この走査信号線GLの第
2導電膜g2はゲート電極GTの第2導電膜g2と同一
製造工程で形成され、かつ一体に構成されている。ま
た、走査信号線GL上にもAlの陽極酸化膜AOFが設
けられている。
導電膜g2で構成されている。この走査信号線GLの第
2導電膜g2はゲート電極GTの第2導電膜g2と同一
製造工程で形成され、かつ一体に構成されている。ま
た、走査信号線GL上にもAlの陽極酸化膜AOFが設
けられている。
【0064】《絶縁膜GI》絶縁膜GIは、薄膜トラン
ジスタTFT1、TFT2において、ゲート電極GTと
共に半導体層ASに電界を与えるためのゲート絶縁膜と
して使用される。絶縁膜GIはゲート電極GTおよび走
査信号線GLの上層に形成されている。絶縁膜GIとし
ては例えばプラズマCVDで形成された窒化シリコン膜
が選ばれ、1200〜2700Åの厚さに(本実施例で
は、2000Å程度)形成される。ゲート絶縁膜GIは
図9に示すように、マトリクス部ARの全体を囲むよう
に形成され、周辺部は外部接続端子DTM、GTMを露
出するよう除去されている。絶縁膜GIは走査信号線G
Lと映像信号線DLの電気的絶縁にも寄与している。
ジスタTFT1、TFT2において、ゲート電極GTと
共に半導体層ASに電界を与えるためのゲート絶縁膜と
して使用される。絶縁膜GIはゲート電極GTおよび走
査信号線GLの上層に形成されている。絶縁膜GIとし
ては例えばプラズマCVDで形成された窒化シリコン膜
が選ばれ、1200〜2700Åの厚さに(本実施例で
は、2000Å程度)形成される。ゲート絶縁膜GIは
図9に示すように、マトリクス部ARの全体を囲むよう
に形成され、周辺部は外部接続端子DTM、GTMを露
出するよう除去されている。絶縁膜GIは走査信号線G
Lと映像信号線DLの電気的絶縁にも寄与している。
【0065】《i型半導体層AS》i型半導体層AS
は、本例では薄膜トランジスタTFT1、TFT2のそ
れぞれに独立した島となるよう形成され、非晶質シリコ
ンで、200〜2200Åの厚さに(本実施例では、2
000Å程度の膜厚)で形成される。層d0はオーミッ
クコンタクト用のリン(P)をドープしたN+型非晶質
シリコン半導体層であり、下側にi型半導体層ASが存
在し、上側に導電層d2(d3)が存在するところのみ
に残されている。
は、本例では薄膜トランジスタTFT1、TFT2のそ
れぞれに独立した島となるよう形成され、非晶質シリコ
ンで、200〜2200Åの厚さに(本実施例では、2
000Å程度の膜厚)で形成される。層d0はオーミッ
クコンタクト用のリン(P)をドープしたN+型非晶質
シリコン半導体層であり、下側にi型半導体層ASが存
在し、上側に導電層d2(d3)が存在するところのみ
に残されている。
【0066】i型半導体層ASは走査信号線GLと映像
信号線DLとの交差部(クロスオーバ部)の両者間にも
設けられている。この交差部のi型半導体層ASは交差
部における走査信号線GLと映像信号線DLとの短絡を
低減する。
信号線DLとの交差部(クロスオーバ部)の両者間にも
設けられている。この交差部のi型半導体層ASは交差
部における走査信号線GLと映像信号線DLとの短絡を
低減する。
【0067】《透明画素電極ITO1》透明画素電極I
TO1は液晶表示部の画素電極の一方を構成する。
TO1は液晶表示部の画素電極の一方を構成する。
【0068】透明画素電極ITO1は薄膜トランジスタ
TFT1のソース電極SD1および薄膜トランジスタT
FT2のソース電極SD1の両方に接続されている。こ
のため、薄膜トランジスタTFT1、TFT2のうちの
1つに欠陥が発生しても、その欠陥が副作用をもたらす
場合はレーザ光等によって適切な箇所を切断し、そうで
ない場合は他方の薄膜トランジスタが正常に動作してい
るので放置すれば良い。透明画素電極ITO1は第1導
電膜d1によって構成されており、この第1導電膜d1
はスパッタリングで形成された透明導電膜(Indium-Tin
-Oxide ITO:ネサ膜)からなり、1000〜200
0Åの厚さに(本実施例では、1400Å程度の膜厚)
形成される。
TFT1のソース電極SD1および薄膜トランジスタT
FT2のソース電極SD1の両方に接続されている。こ
のため、薄膜トランジスタTFT1、TFT2のうちの
1つに欠陥が発生しても、その欠陥が副作用をもたらす
場合はレーザ光等によって適切な箇所を切断し、そうで
ない場合は他方の薄膜トランジスタが正常に動作してい
るので放置すれば良い。透明画素電極ITO1は第1導
電膜d1によって構成されており、この第1導電膜d1
はスパッタリングで形成された透明導電膜(Indium-Tin
-Oxide ITO:ネサ膜)からなり、1000〜200
0Åの厚さに(本実施例では、1400Å程度の膜厚)
形成される。
【0069】《ソース電極SD1、ドレイン電極SD
2》ソース電極SD1、ドレイン電極SD2のそれぞれ
は、N+型半導体層d0に接触する第2導電膜d2とそ
の上に形成された第3導電膜d3とから構成されてい
る。
2》ソース電極SD1、ドレイン電極SD2のそれぞれ
は、N+型半導体層d0に接触する第2導電膜d2とそ
の上に形成された第3導電膜d3とから構成されてい
る。
【0070】第2導電膜d2はスパッタで形成したクロ
ム(Cr)膜を用い、500〜1000Åの厚さに(本
実施例では、600Å程度)で形成される。Cr膜は膜
厚を厚く形成するとストレスが大きくなるので、200
0Å程度の膜厚を越えない範囲で形成する。Cr膜はN
+型半導体層d0との接着性を良好にし、第3導電膜d
3のAlがN+型半導体層d0に拡散することを防止す
る(いわゆるバリア層の)目的で使用される。第2導電
膜d2として、Cr膜の他に高融点金属(Mo、Ti、
Ta、W)膜、高融点金属シリサイド(MoSi2、T
iSi2、TaSi2、WSi2)膜を用いてもよい。
ム(Cr)膜を用い、500〜1000Åの厚さに(本
実施例では、600Å程度)で形成される。Cr膜は膜
厚を厚く形成するとストレスが大きくなるので、200
0Å程度の膜厚を越えない範囲で形成する。Cr膜はN
+型半導体層d0との接着性を良好にし、第3導電膜d
3のAlがN+型半導体層d0に拡散することを防止す
る(いわゆるバリア層の)目的で使用される。第2導電
膜d2として、Cr膜の他に高融点金属(Mo、Ti、
Ta、W)膜、高融点金属シリサイド(MoSi2、T
iSi2、TaSi2、WSi2)膜を用いてもよい。
【0071】第3導電膜d3はAlのスパッタリングで
3000〜5000Åの厚さに(本実施例では、400
0Å程度)形成される。Al膜はCr膜に比べてストレ
スが小さく、厚い膜厚に形成することが可能で、ソース
電極SD1、ドレイン電極SD2および映像信号線DL
の抵抗値を低減したり、ゲート電極GTやi型半導体層
ASに起因する段差乗り越えを確実にする(ステップカ
バーレッジを良くする)働きがある。
3000〜5000Åの厚さに(本実施例では、400
0Å程度)形成される。Al膜はCr膜に比べてストレ
スが小さく、厚い膜厚に形成することが可能で、ソース
電極SD1、ドレイン電極SD2および映像信号線DL
の抵抗値を低減したり、ゲート電極GTやi型半導体層
ASに起因する段差乗り越えを確実にする(ステップカ
バーレッジを良くする)働きがある。
【0072】第2導電膜d2、第3導電膜d3を同じマ
スクパターンでパターニングした後、同じマスクを用い
て、あるいは第2導電膜d2、第3導電膜d3をマスク
として、N+型半導体層d0が除去される。つまり、i
型半導体層AS上に残っていたN+型半導体層d0は第
2導電膜d2、第3導電膜d3以外の部分がセルフアラ
インで除去される。このとき、N+型半導体層d0はそ
の厚さ分は全て除去されるようエッチングされるので、
i型半導体層ASも若干その表面部分がエッチングされ
るが、その程度はエッチング時間で制御すればよい。
スクパターンでパターニングした後、同じマスクを用い
て、あるいは第2導電膜d2、第3導電膜d3をマスク
として、N+型半導体層d0が除去される。つまり、i
型半導体層AS上に残っていたN+型半導体層d0は第
2導電膜d2、第3導電膜d3以外の部分がセルフアラ
インで除去される。このとき、N+型半導体層d0はそ
の厚さ分は全て除去されるようエッチングされるので、
i型半導体層ASも若干その表面部分がエッチングされ
るが、その程度はエッチング時間で制御すればよい。
【0073】《映像信号線DL》映像信号線DLはソー
ス電極SD1、ドレイン電極SD2と同層の第2導電膜
d2、第3導電膜d3で構成されている。
ス電極SD1、ドレイン電極SD2と同層の第2導電膜
d2、第3導電膜d3で構成されている。
【0074】《保護膜PSV1》薄膜トランジスタTF
Tおよび透明画素電極ITO1上には保護膜PSV1が
設けられている。保護膜PSV1は主に薄膜トランジス
タTFTを湿気等から保護するために形成されており、
透明性が高くしかも耐湿性の良いものを使用する。保護
膜PSV1はたとえばプラズマCVD装置で形成した酸
化シリコン膜や窒化シリコン膜で形成されており、1μ
m程度の膜厚で形成する。
Tおよび透明画素電極ITO1上には保護膜PSV1が
設けられている。保護膜PSV1は主に薄膜トランジス
タTFTを湿気等から保護するために形成されており、
透明性が高くしかも耐湿性の良いものを使用する。保護
膜PSV1はたとえばプラズマCVD装置で形成した酸
化シリコン膜や窒化シリコン膜で形成されており、1μ
m程度の膜厚で形成する。
【0075】保護膜PSV1は図14に示すように、マ
トリクス部ARの全体を囲むように形成され、周辺部は
外部接続端子DTM、GTMを露出するよう除去され、
また上基板側SUB2の共通電極COMを下側基板SU
B1の外部接続端子接続用引出配線INTに銀ペースト
AGPで接続する部分も除去されている。保護膜PSV
1とゲート絶縁膜GIの厚さ関係に関しては、前者は保
護効果を考え厚くされ、後者はトランジスタの相互コン
ダクタンスgmを薄くされる。従って図14に示すよう
に、保護効果の高い保護膜PSV1は周辺部もできるだ
け広い範囲に亘って保護するようゲート絶縁膜GIより
も大きく形成されている。
トリクス部ARの全体を囲むように形成され、周辺部は
外部接続端子DTM、GTMを露出するよう除去され、
また上基板側SUB2の共通電極COMを下側基板SU
B1の外部接続端子接続用引出配線INTに銀ペースト
AGPで接続する部分も除去されている。保護膜PSV
1とゲート絶縁膜GIの厚さ関係に関しては、前者は保
護効果を考え厚くされ、後者はトランジスタの相互コン
ダクタンスgmを薄くされる。従って図14に示すよう
に、保護効果の高い保護膜PSV1は周辺部もできるだ
け広い範囲に亘って保護するようゲート絶縁膜GIより
も大きく形成されている。
【0076】《遮光膜BM》上部透明ガラス基板SUB
2側には、外部光又はバックライト光がi型半導体層A
Sに入射しないよう遮光膜BMが設けられている。図1
1に示す遮光膜BMの閉じた多角形の輪郭線は、その内
側が遮光膜BMが形成されない開口を示している。遮光
膜BMは光に対する遮蔽性が高い黒鉛を顔料として含む
有機系樹脂膜または黒鉛膜で形成されており、本実施例
では、1.3μm程度の厚さに形成される。
2側には、外部光又はバックライト光がi型半導体層A
Sに入射しないよう遮光膜BMが設けられている。図1
1に示す遮光膜BMの閉じた多角形の輪郭線は、その内
側が遮光膜BMが形成されない開口を示している。遮光
膜BMは光に対する遮蔽性が高い黒鉛を顔料として含む
有機系樹脂膜または黒鉛膜で形成されており、本実施例
では、1.3μm程度の厚さに形成される。
【0077】従って、薄膜トランジスタTFT1、TF
T2のi型半導体層ASは上下にある遮光膜BMおよび
大き目のゲート電極GTによってサンドイッチにされ、
外部の自然光やバックライト光が当たらなくなる。遮光
膜BMは各画素の周囲に格子状に形成され(いわゆるブ
ラックマトリクス)、この格子で1画素の有効表示領域
が仕切られている。従って、各画素の輪郭が遮光膜BM
によってはっきりとし、コントラストが向上する。つま
り、遮光膜BMはi型半導体層ASに対する遮光とブラ
ックマトリクスとの2つの機能をもつ。
T2のi型半導体層ASは上下にある遮光膜BMおよび
大き目のゲート電極GTによってサンドイッチにされ、
外部の自然光やバックライト光が当たらなくなる。遮光
膜BMは各画素の周囲に格子状に形成され(いわゆるブ
ラックマトリクス)、この格子で1画素の有効表示領域
が仕切られている。従って、各画素の輪郭が遮光膜BM
によってはっきりとし、コントラストが向上する。つま
り、遮光膜BMはi型半導体層ASに対する遮光とブラ
ックマトリクスとの2つの機能をもつ。
【0078】透明画素電極ITO1のラビング方向の根
本側のエッジ部分(図11右下部分)も遮光膜BMによ
って遮光されているので、上記部分にドメインが発生し
たとしても、ドメインが見えないので、表示特性が劣化
することはない。
本側のエッジ部分(図11右下部分)も遮光膜BMによ
って遮光されているので、上記部分にドメインが発生し
たとしても、ドメインが見えないので、表示特性が劣化
することはない。
【0079】遮光膜BMは図13に示すように周辺部に
も額縁状に形成され、そのパターンはドット状に複数の
開口を設けた図11に示すマトリクス部のパターンと連
続して形成されている。周辺部の遮光膜BMは図12、
図13に示すように、シール部SLの中間に延長され、
パソコン等の実装機に起因する反射光等の漏れ光がマト
リクス部に入り込むのを防いでいる。他方、この遮光膜
BMは基板SUB2の縁よりも約0.3〜1.0mm程
内側に留められ、基板SUB2の切断領域を避けて形成
されている。
も額縁状に形成され、そのパターンはドット状に複数の
開口を設けた図11に示すマトリクス部のパターンと連
続して形成されている。周辺部の遮光膜BMは図12、
図13に示すように、シール部SLの中間に延長され、
パソコン等の実装機に起因する反射光等の漏れ光がマト
リクス部に入り込むのを防いでいる。他方、この遮光膜
BMは基板SUB2の縁よりも約0.3〜1.0mm程
内側に留められ、基板SUB2の切断領域を避けて形成
されている。
【0080】ここに示した液晶表示パネルPNLにおい
ても、図12、13、14に示したごとく、図1の前記
実施例1のように、シール材SLをブラックマトリクス
(遮光膜)BMの端部と上部透明ガラス基板SUB2面
との段差部にまたがるようにこれらに直接接して設ける
ことにより、シール接着力を保つと共に、ブラックマト
リクスBMをシール材SLの内部まで設けるため、シー
ル材SLとブラックマトリクスBMとの間にすき間が存
在しないので、光漏れが生じない。
ても、図12、13、14に示したごとく、図1の前記
実施例1のように、シール材SLをブラックマトリクス
(遮光膜)BMの端部と上部透明ガラス基板SUB2面
との段差部にまたがるようにこれらに直接接して設ける
ことにより、シール接着力を保つと共に、ブラックマト
リクスBMをシール材SLの内部まで設けるため、シー
ル材SLとブラックマトリクスBMとの間にすき間が存
在しないので、光漏れが生じない。
【0081】また、図示は省略するが、図2の前記実施
例2のように、表示領域のブラックマトリクスとして
は、表示画面側の外部光が外側に反射し、画面が鏡のよ
うに見にくくならない黒鉛を含む有機系樹脂膜または黒
鉛膜を用い、一方、シール部には接着強度の大きいCr
等の金属膜を使用することにより、シール接着力を保つ
と共に、シール部からの光漏れも防止できる。
例2のように、表示領域のブラックマトリクスとして
は、表示画面側の外部光が外側に反射し、画面が鏡のよ
うに見にくくならない黒鉛を含む有機系樹脂膜または黒
鉛膜を用い、一方、シール部には接着強度の大きいCr
等の金属膜を使用することにより、シール接着力を保つ
と共に、シール部からの光漏れも防止できる。
【0082】なお、薄膜トランジスタTFTをスイッチ
ング素子として設けたアクティブ・マトリクス方式の液
晶表示装置では、カラーフィルタFILを設けた透明ガ
ラス基板SUB2側を表示側にすると、表示コントラス
トが向上するため、本発明による構成を採用することは
特に有効である。
ング素子として設けたアクティブ・マトリクス方式の液
晶表示装置では、カラーフィルタFILを設けた透明ガ
ラス基板SUB2側を表示側にすると、表示コントラス
トが向上するため、本発明による構成を採用することは
特に有効である。
【0083】《カラーフィルタFIL》カラーフィルタ
FILは画素に対向する位置に赤、緑、青の繰り返しで
ストライプ状に形成される。カラーフィルタFILは透
明画素電極ITO1の全てを覆うように大き目に形成さ
れ、遮光膜BMはカラーフィルタFILおよび透明画素
電極ITO1のエッジ部分と重なるよう透明画素電極I
TO1の周縁部より内側に形成されている。
FILは画素に対向する位置に赤、緑、青の繰り返しで
ストライプ状に形成される。カラーフィルタFILは透
明画素電極ITO1の全てを覆うように大き目に形成さ
れ、遮光膜BMはカラーフィルタFILおよび透明画素
電極ITO1のエッジ部分と重なるよう透明画素電極I
TO1の周縁部より内側に形成されている。
【0084】カラーフィルタFILは次のように形成す
ることができる。まず、上部透明ガラス基板SUB2の
表面にアクリル系樹脂等の染色基材を形成し、フォトリ
ソグラフィ技術で赤色フィルタ形成領域以外の染色基材
を除去する。この後、染色基材を赤色染料で染め、固着
処理を施し、赤色フィルタRを形成する。つぎに、同様
な工程を施すことによって、緑色フィルタG、青色フィ
ルタBを順次形成する。
ることができる。まず、上部透明ガラス基板SUB2の
表面にアクリル系樹脂等の染色基材を形成し、フォトリ
ソグラフィ技術で赤色フィルタ形成領域以外の染色基材
を除去する。この後、染色基材を赤色染料で染め、固着
処理を施し、赤色フィルタRを形成する。つぎに、同様
な工程を施すことによって、緑色フィルタG、青色フィ
ルタBを順次形成する。
【0085】《保護膜PSV2》保護膜PSV2はカラ
ーフィルタFILの染料が液晶LCに漏れることを防止
するために設けられている。保護膜PSV2はたとえば
アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂材料で形成さ
れている。
ーフィルタFILの染料が液晶LCに漏れることを防止
するために設けられている。保護膜PSV2はたとえば
アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂材料で形成さ
れている。
【0086】《共通透明画素電極ITO2》共通透明画
素電極ITO2は、下部透明ガラス基板SUB1側に画
素ごとに設けられた透明画素電極ITO1に対向し、液
晶LCの光学的な状態は各画素電極ITO1と共通透明
画素電極ITO2との間の電位差(電界)に応答して変
化する。この共通透明画素電極ITO2にはコモン電圧
Vcomが印加されるように構成されている。本実施例で
は、コモン電圧Vcomは映像信号線DLに印加される最
小レベルの駆動電圧Vdminと最大レベルの駆動電圧V
dmaxとの中間直流電位に設定されるが、映像信号駆動
回路で使用される集積回路の電源電圧を約半分に低減し
たい場合は、交流電圧を印加すれば良い。なお、共通透
明画素電極ITO2の平面形状は図13、図14を参照
されたい。
素電極ITO2は、下部透明ガラス基板SUB1側に画
素ごとに設けられた透明画素電極ITO1に対向し、液
晶LCの光学的な状態は各画素電極ITO1と共通透明
画素電極ITO2との間の電位差(電界)に応答して変
化する。この共通透明画素電極ITO2にはコモン電圧
Vcomが印加されるように構成されている。本実施例で
は、コモン電圧Vcomは映像信号線DLに印加される最
小レベルの駆動電圧Vdminと最大レベルの駆動電圧V
dmaxとの中間直流電位に設定されるが、映像信号駆動
回路で使用される集積回路の電源電圧を約半分に低減し
たい場合は、交流電圧を印加すれば良い。なお、共通透
明画素電極ITO2の平面形状は図13、図14を参照
されたい。
【0087】図15は、液晶表示モジュールMDLの各
構成部品を示す分解斜視図である。
構成部品を示す分解斜視図である。
【0088】SHDは金属板から成るシールドケース
(メタルフレームとも称す)、WDは表示窓、INS1
〜3は絶縁シート、PCB1〜3は回路基板(PCB1
はドレイン側回路基板、PCB2はゲート側回路基板、
PCB3はインターフェイス回路基板)、JNは回路基
板PCB1〜3どうしを電気的に接続するジョイナ、T
CP1、TCP2はテープキャリアパッケージ、PNL
は液晶表示パネル、GCはゴムクッション、ILSは遮
光スペーサ、PRSはプリズムシート、SPSは拡散シ
ート、GLBは導光板、RFSは反射シート、MCAは
一体成型により形成された下側ケース(モールドケー
ス)、LPは蛍光管、LPCはランプケーブル、GBは
蛍光管LPを支持するゴムブッシュであり、図に示すよ
うな上下の配置関係で各部材が積み重ねられて液晶表示
モジュールMDLが組み立てられる。
(メタルフレームとも称す)、WDは表示窓、INS1
〜3は絶縁シート、PCB1〜3は回路基板(PCB1
はドレイン側回路基板、PCB2はゲート側回路基板、
PCB3はインターフェイス回路基板)、JNは回路基
板PCB1〜3どうしを電気的に接続するジョイナ、T
CP1、TCP2はテープキャリアパッケージ、PNL
は液晶表示パネル、GCはゴムクッション、ILSは遮
光スペーサ、PRSはプリズムシート、SPSは拡散シ
ート、GLBは導光板、RFSは反射シート、MCAは
一体成型により形成された下側ケース(モールドケー
ス)、LPは蛍光管、LPCはランプケーブル、GBは
蛍光管LPを支持するゴムブッシュであり、図に示すよ
うな上下の配置関係で各部材が積み重ねられて液晶表示
モジュールMDLが組み立てられる。
【0089】モジュールMDLは、下側ケースMCA、
シールドケースSHDの2種の収納・保持部材を有す
る。絶縁シートINS1〜3、回路基板PCB1〜3、
液晶表示パネルPNLを収納、固定した金属製シールド
ケースSHDと、蛍光管LP、導光板GLB、プリズム
シートPRS等から成るバックライトBLを収納した下
側ケースMCAとを合体させることにより、モジュール
MDLが組み立てられる。
シールドケースSHDの2種の収納・保持部材を有す
る。絶縁シートINS1〜3、回路基板PCB1〜3、
液晶表示パネルPNLを収納、固定した金属製シールド
ケースSHDと、蛍光管LP、導光板GLB、プリズム
シートPRS等から成るバックライトBLを収納した下
側ケースMCAとを合体させることにより、モジュール
MDLが組み立てられる。
【0090】以上本発明を実施例に基づいて具体的に説
明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能で
あることは勿論である。例えば、本発明は、単純マトリ
クス方式の液晶表示装置にも、薄膜トランジスタ(TF
T)等をスイッチング素子として使用したアクティブ・
マトリクス方式の液晶表示装置にも適用可能である。
明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能で
あることは勿論である。例えば、本発明は、単純マトリ
クス方式の液晶表示装置にも、薄膜トランジスタ(TF
T)等をスイッチング素子として使用したアクティブ・
マトリクス方式の液晶表示装置にも適用可能である。
【0091】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
表示画面の表示コントラスト特性と遮光特性とシール材
による接着力を向上することができ、表示品質を向上す
ることができると共に、液晶表示モジュールの外形寸法
も小さくできる。また、従来の顔料を含むレジスト膜よ
りも反射率の低い黒鉛を含む有機系樹脂膜または黒鉛膜
でブラックマトリクスを形成することにより、表示画面
側の外部光が外側に反射し、画面が鏡のように見にくく
ならない。したがって、表示品質と信頼性が高く、小型
のカラー液晶表示モジュールを提供することができる。
表示画面の表示コントラスト特性と遮光特性とシール材
による接着力を向上することができ、表示品質を向上す
ることができると共に、液晶表示モジュールの外形寸法
も小さくできる。また、従来の顔料を含むレジスト膜よ
りも反射率の低い黒鉛を含む有機系樹脂膜または黒鉛膜
でブラックマトリクスを形成することにより、表示画面
側の外部光が外側に反射し、画面が鏡のように見にくく
ならない。したがって、表示品質と信頼性が高く、小型
のカラー液晶表示モジュールを提供することができる。
【図1】本発明の実施例1の単純マトリクス方式カラー
液晶表示装置の液晶表示素子の要部概略断面図である。
液晶表示装置の液晶表示素子の要部概略断面図である。
【図2】本発明の実施例2の単純マトリクス方式カラー
液晶表示装置の液晶表示素子の要部概略断面図である。
液晶表示装置の液晶表示素子の要部概略断面図である。
【図3】前記実施例1の液晶表示素子の製造フローを示
す図である。
す図である。
【図4】(A)〜(M)は図3の工程A〜Mに対応する
工程断面図である。
工程断面図である。
【図5】(a)〜(h)は図3、4の後半の工程(工程
K〜M)の一部を詳細に示す図である。
K〜M)の一部を詳細に示す図である。
【図6】本発明が適用可能な単純マトリクス方式の液晶
表示素子の一例の要部分解斜視図である。
表示素子の一例の要部分解斜視図である。
【図7】カラー液晶表示素子の上電極基板部の一例の一
部切欠斜視図である。
部切欠斜視図である。
【図8】液晶表示モジュールの一例の分解斜視図であ
る。
る。
【図9】ラップトップパソコンの一例のブロックダイア
グラムである。
グラムである。
【図10】ラップトップパソコンの一例の斜視図であ
る。
る。
【図11】本発明が適用されるアクティブ・マトリクス
方式のカラー液晶表示装置の液晶表示部の一画素とその
周辺を示す要部平面図である。
方式のカラー液晶表示装置の液晶表示部の一画素とその
周辺を示す要部平面図である。
【図12】マトリクスの画素部(図11の12b−12
b切断線における1画素とその周辺を示す断面)を中央
に、両側にパネル角付近と映像信号端子部付近を示す断
面図である。
b切断線における1画素とその周辺を示す断面)を中央
に、両側にパネル角付近と映像信号端子部付近を示す断
面図である。
【図13】液晶表示パネルのマトリクス周辺部をやや誇
張し、該周辺部の構成を具体的に説明するためのパネル
平面図である。
張し、該周辺部の構成を具体的に説明するためのパネル
平面図である。
【図14】上下基板の電気的接続部を含む液晶表示パネ
ルの角部の拡大平面図である。
ルの角部の拡大平面図である。
【図15】本発明が適用可能なアクテイブ・マトリクス
方式の液晶表示モジュールの分解斜視図である。
方式の液晶表示モジュールの分解斜視図である。
【図16】(a)、(b)はそれぞれ従来の単純マトリ
クス方式カラー液晶表示素子の要部概略断面図である。
クス方式カラー液晶表示素子の要部概略断面図である。
1…シール材、2…黒鉛を含むレジスト膜(有機系樹脂
膜)または黒鉛膜から成るブラックマトリクス、3…C
r等の金属膜から成るブラックマトリクス、11、12
…透明ガラス基板(電極基板)、21、22…配向膜、
23…カラーフィルタの保護膜(平滑層)、31、32
…透明画素電極、33…カラーフィルタ、50…液晶
層、62…液晶表示素子、65…スペーサ(ギャップ保
持材)、w1…シール材の塗布幅、w2…製造工程中にお
ける加工歪みを吸収できるシール幅。
膜)または黒鉛膜から成るブラックマトリクス、3…C
r等の金属膜から成るブラックマトリクス、11、12
…透明ガラス基板(電極基板)、21、22…配向膜、
23…カラーフィルタの保護膜(平滑層)、31、32
…透明画素電極、33…カラーフィルタ、50…液晶
層、62…液晶表示素子、65…スペーサ(ギャップ保
持材)、w1…シール材の塗布幅、w2…製造工程中にお
ける加工歪みを吸収できるシール幅。
フロントページの続き (72)発明者 志賀 俊夫 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内
Claims (3)
- 【請求項1】それぞれ透明画素電極と配向膜とを設けた
面が対向するように2枚の透明絶縁基板を所定の間隙を
隔てて重ね合わせ、前記両基板間の縁周囲に枠状に設け
たシール材により前記両基板を貼り合わせると共に、前
記シール材の内側の前記両基板間に液晶を封止して成
り、かつ、前記両基板の少なくとも一方の前記対向面に
ブラックマトリクスを設けた液晶表示素子を有する液晶
表示装置において、前記ブラックマトリクスの端部と前
記透明絶縁基板面との段差部にまたがるように前記シー
ル材を設けたことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項2】それぞれ透明画素電極と配向膜とを設けた
面が対向するように2枚の透明絶縁基板を所定の間隙を
隔てて重ね合わせ、前記両基板間の縁周囲に枠状に設け
たシール材により前記両基板を貼り合わせると共に、前
記シール材の内側の前記両基板間に液晶を封止して成
り、かつ、前記両基板の少なくとも一方の前記対向面
に、黒鉛を含む有機系樹脂膜または黒鉛膜から成るブラ
ックマトリクスを設けた液晶表示素子を有する液晶表示
装置において、前記ブラックマトリクスの端部と前記透
明絶縁基板面にまたがるように前記シール材をこれらに
直接接して設けたことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項3】それぞれ透明画素電極と配向膜とを設けた
面が対向するように2枚の透明絶縁基板を所定の間隙を
隔てて重ね合わせ、前記両基板間の縁周囲に枠状に設け
たシール材により前記両基板を貼り合わせると共に、前
記シール材の内側の前記両基板間に液晶を封止して成
り、かつ、前記両基板の少なくとも一方の前記透明画素
電極の下の前記対向面に、黒鉛を含む有機系樹脂膜また
は黒鉛膜から成るブラックマトリクスを設けた液晶表示
素子を有する液晶表示装置において、前記シール材と前
記ブラックマトリクスを設けた前記透明絶縁基板との間
に金属膜から成るブラックマトリクスを介在させたこと
を特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7083662A JPH08278507A (ja) | 1995-04-10 | 1995-04-10 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7083662A JPH08278507A (ja) | 1995-04-10 | 1995-04-10 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08278507A true JPH08278507A (ja) | 1996-10-22 |
Family
ID=13808675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7083662A Pending JPH08278507A (ja) | 1995-04-10 | 1995-04-10 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08278507A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6552764B2 (en) | 1998-07-28 | 2003-04-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Reflective LCD whose color filter pattern extends outside display region and whose seal overlaps color filter |
KR100569268B1 (ko) * | 1999-12-29 | 2006-04-10 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 표시 장치 |
JP2006317983A (ja) * | 2006-08-30 | 2006-11-24 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
KR100692677B1 (ko) * | 2000-06-30 | 2007-03-14 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 모듈의 베젤 |
US7414695B2 (en) | 2003-04-07 | 2008-08-19 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display panel |
US7426007B2 (en) | 2003-04-15 | 2008-09-16 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display panel having seal pattern support member |
US7453545B2 (en) | 2003-04-07 | 2008-11-18 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display panel |
CN104007584A (zh) * | 2014-06-25 | 2014-08-27 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种液晶显示器的液晶盒结构 |
CN105116650A (zh) * | 2015-09-01 | 2015-12-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板 |
US9366913B2 (en) | 2013-02-21 | 2016-06-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and electronic device |
CN108196389A (zh) * | 2018-01-02 | 2018-06-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩膜基板、制备方法、显示面板及显示装置 |
-
1995
- 1995-04-10 JP JP7083662A patent/JPH08278507A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6552764B2 (en) | 1998-07-28 | 2003-04-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Reflective LCD whose color filter pattern extends outside display region and whose seal overlaps color filter |
KR100569268B1 (ko) * | 1999-12-29 | 2006-04-10 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 표시 장치 |
KR100692677B1 (ko) * | 2000-06-30 | 2007-03-14 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 모듈의 베젤 |
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JP2006317983A (ja) * | 2006-08-30 | 2006-11-24 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
US9366913B2 (en) | 2013-02-21 | 2016-06-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and electronic device |
US10365514B2 (en) | 2013-02-21 | 2019-07-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and electronic device |
CN104007584A (zh) * | 2014-06-25 | 2014-08-27 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种液晶显示器的液晶盒结构 |
CN105116650A (zh) * | 2015-09-01 | 2015-12-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板 |
CN108196389A (zh) * | 2018-01-02 | 2018-06-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩膜基板、制备方法、显示面板及显示装置 |
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