JPH0812902A - 反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材 - Google Patents
反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材Info
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- JPH0812902A JPH0812902A JP6150966A JP15096694A JPH0812902A JP H0812902 A JPH0812902 A JP H0812902A JP 6150966 A JP6150966 A JP 6150966A JP 15096694 A JP15096694 A JP 15096694A JP H0812902 A JPH0812902 A JP H0812902A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 反射防止性能に優れた反射防止膜が簡単な工
程で安価に基材表面に形成できるような反射防止膜形成
用塗布液、およびこのような塗布液から得られた反射防
止膜を有する反射防止膜付基材を提供する。 【構成】 平均粒径Ｄ1 が大きく、屈折率ｎ1 が大きな
微粒子Ｐ1 と、平均粒径Ｄ2 が小さく、屈折率ｎ2 が小
さな微粒子Ｐ2 と、被膜形成成分Ｆとを含有してなり、
Ｄ1 ／Ｄ2 ≧３、かつｎ1 ＞ｎ2 である反射防止膜形成
用塗布液、およびこの塗布液から形成された反射防止膜
を基材上に有する反射防止膜付基材。
程で安価に基材表面に形成できるような反射防止膜形成
用塗布液、およびこのような塗布液から得られた反射防
止膜を有する反射防止膜付基材を提供する。 【構成】 平均粒径Ｄ1 が大きく、屈折率ｎ1 が大きな
微粒子Ｐ1 と、平均粒径Ｄ2 が小さく、屈折率ｎ2 が小
さな微粒子Ｐ2 と、被膜形成成分Ｆとを含有してなり、
Ｄ1 ／Ｄ2 ≧３、かつｎ1 ＞ｎ2 である反射防止膜形成
用塗布液、およびこの塗布液から形成された反射防止膜
を基材上に有する反射防止膜付基材。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、反射防止膜形成用塗布液
および反射防止膜付基材に関し、さらに詳しくはガラ
ス、プラスチックなどからなる基材の表面反射を防止す
る反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材に関
する。
および反射防止膜付基材に関し、さらに詳しくはガラ
ス、プラスチックなどからなる基材の表面反射を防止す
る反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材に関
する。
【０００２】
【発明の技術的背景】従来より、ガラス、プラスチック
などからなる基材表面に、高屈折率を有する透明被膜と
低屈折率を有する透明被膜とを交互に積層することによ
り、基材表面の反射率を効果的に低減した反射防止膜を
得ている。
などからなる基材表面に、高屈折率を有する透明被膜と
低屈折率を有する透明被膜とを交互に積層することによ
り、基材表面の反射率を効果的に低減した反射防止膜を
得ている。
【０００３】従来、このような多層反射防止膜は、各層
毎に真空蒸着法、スパッタリング法などの乾式薄膜形成
法またはコーティング法、ディッピング法などの湿式薄
膜形成法で形成されていた。
毎に真空蒸着法、スパッタリング法などの乾式薄膜形成
法またはコーティング法、ディッピング法などの湿式薄
膜形成法で形成されていた。
【０００４】しかしながら、このような従来の多層反射
防止膜の形成法では、各層毎に薄膜を形成する工程を繰
り返さなければならず、このため、反射防止膜の形成工
程が複雑になり、反射防止膜を形成する際に必要とされ
るコストが高くなるといった問題点があった。
防止膜の形成法では、各層毎に薄膜を形成する工程を繰
り返さなければならず、このため、反射防止膜の形成工
程が複雑になり、反射防止膜を形成する際に必要とされ
るコストが高くなるといった問題点があった。
【０００５】さらに、上記従来の乾式薄膜形成法で多層
反射防止膜を形成した場合には大面積の反射防止膜が得
難く、上記従来の湿式薄膜形成法で多層反射防止膜を形
成した場合には、高屈折率を有する透明被膜と低屈折率
を有する透明被膜との界面での密着性が不充分であるな
どの問題点があった。
反射防止膜を形成した場合には大面積の反射防止膜が得
難く、上記従来の湿式薄膜形成法で多層反射防止膜を形
成した場合には、高屈折率を有する透明被膜と低屈折率
を有する透明被膜との界面での密着性が不充分であるな
どの問題点があった。
【０００６】
【発明の目的】本発明は、上記事情に鑑みてなされたも
ので、反射防止性能に優れた反射防止膜が簡単な工程で
安価に基材表面に形成できるような反射防止膜形成用塗
布液、およびこのような塗布液から得られた反射防止膜
を有する反射防止膜付基材を提供することを目的として
いる。
ので、反射防止性能に優れた反射防止膜が簡単な工程で
安価に基材表面に形成できるような反射防止膜形成用塗
布液、およびこのような塗布液から得られた反射防止膜
を有する反射防止膜付基材を提供することを目的として
いる。
【０００７】
【発明の概要】本発明に係る反射防止膜形成用塗布液
は、平均粒径Ｄ1 が大きく、屈折率ｎ1が大きな微粒子
Ｐ1 と、平均粒径Ｄ2 が小さく、屈折率ｎ2 が小さな微
粒子Ｐ2と、被膜形成成分Ｆとを含有してなり、 Ｄ1 ／Ｄ2 ≧３ ｎ1 ＞ｎ2 であることを特徴としている。
は、平均粒径Ｄ1 が大きく、屈折率ｎ1が大きな微粒子
Ｐ1 と、平均粒径Ｄ2 が小さく、屈折率ｎ2 が小さな微
粒子Ｐ2と、被膜形成成分Ｆとを含有してなり、 Ｄ1 ／Ｄ2 ≧３ ｎ1 ＞ｎ2 であることを特徴としている。
【０００８】上記微粒子Ｐ1 は、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、
ＣｅＯ2 またはＳｎＯ2 からなることが好ましく、上記
微粒子Ｐ2 は、ＭｇＦ2 またはＳｉＯ2 からなることが
好ましい。
ＣｅＯ2 またはＳｎＯ2 からなることが好ましく、上記
微粒子Ｐ2 は、ＭｇＦ2 またはＳｉＯ2 からなることが
好ましい。
【０００９】本発明に係る反射防止膜付基材は、上記塗
布液から得られた反射防止膜を基材上に有することを特
徴としている。
布液から得られた反射防止膜を基材上に有することを特
徴としている。
【００１０】
【発明の具体的説明】反射防止膜形成用塗布液 まず、本発明に係る反射防止膜形成用塗布液について具
体的に説明する。
体的に説明する。
【００１１】本発明に係る反射防止膜形成用塗布液は、
平均粒径Ｄ1 が大きく、屈折率ｎ1が大きな微粒子Ｐ1
と、平均粒径Ｄ2 が小さく、屈折率ｎ2 が小さな微粒子
Ｐ2とを含有している。
平均粒径Ｄ1 が大きく、屈折率ｎ1が大きな微粒子Ｐ1
と、平均粒径Ｄ2 が小さく、屈折率ｎ2 が小さな微粒子
Ｐ2とを含有している。
【００１２】上記平均粒径Ｄ1 は０．０８〜１．０μ
ｍ、好ましくは０．１〜０．５μｍであることが望まし
く、上記平均粒径Ｄ2 は０．００１〜０．１μｍ、好ま
しくは０．０１〜０．０５であることが望ましい。
ｍ、好ましくは０．１〜０．５μｍであることが望まし
く、上記平均粒径Ｄ2 は０．００１〜０．１μｍ、好ま
しくは０．０１〜０．０５であることが望ましい。
【００１３】本発明では、上記平均粒径Ｄ1 と上記平均
粒径Ｄ2 とが、下記式： Ｄ1 ／Ｄ2 ≧３ を満足することが必要である。
粒径Ｄ2 とが、下記式： Ｄ1 ／Ｄ2 ≧３ を満足することが必要である。
【００１４】Ｄ1 ／Ｄ2 ＜３の場合には、平均粒径がＤ
1 であり、屈折率がｎ1 である微粒子Ｐ1 と、平均粒径
がＤ2 であり、屈折率がｎ2 である微粒子Ｐ2 とを含む
塗布液から基材上に形成された反射防止膜により、充分
な反射防止性能を基材に付与できないことがある。
1 であり、屈折率がｎ1 である微粒子Ｐ1 と、平均粒径
がＤ2 であり、屈折率がｎ2 である微粒子Ｐ2 とを含む
塗布液から基材上に形成された反射防止膜により、充分
な反射防止性能を基材に付与できないことがある。
【００１５】屈折率ｎ1 が大きな材料としては、屈折率
が１．６０以上のものであれば良く、具体的にはＴｉＯ
2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 、ＣｅＯ2 、Ｉｎ2 Ｏ3 あるい
はチタン酸バリウム、ダイアモンド、硫化亜鉛などが挙
げられ、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2 またはＳｎＯ2
が好ましい。
が１．６０以上のものであれば良く、具体的にはＴｉＯ
2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 、ＣｅＯ2 、Ｉｎ2 Ｏ3 あるい
はチタン酸バリウム、ダイアモンド、硫化亜鉛などが挙
げられ、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2 またはＳｎＯ2
が好ましい。
【００１６】屈折率ｎ2 が小さな材料としては、屈折率
が１．４５以下のものであれば良く、具体的にはＳｉＯ
2 、ＭｇＦ2 、ＣａＦ2 、ＬｉＦ、フッ素樹脂などが挙
げられ、ＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 （多孔性シリカを含む）が
好ましい。
が１．４５以下のものであれば良く、具体的にはＳｉＯ
2 、ＭｇＦ2 、ＣａＦ2 、ＬｉＦ、フッ素樹脂などが挙
げられ、ＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 （多孔性シリカを含む）が
好ましい。
【００１７】上記屈折率ｎ1 と上記屈折率ｎ2 とは、下
記式： ｎ1 ＞ｎ2 で表される。この屈折率差（ｎ1 −ｎ2 ）は、０．１以
上、特に０．２以上であることが好ましい。
記式： ｎ1 ＞ｎ2 で表される。この屈折率差（ｎ1 −ｎ2 ）は、０．１以
上、特に０．２以上であることが好ましい。
【００１８】屈折率差（ｎ1 −ｎ2 ）が０．１未満の場
合には、平均粒径がＤ1 であり、屈折率がｎ1 である微
粒子Ｐ1 と、平均粒径がＤ2 であり、屈折率がｎ2 であ
る微粒子Ｐ2 とを含む塗布液から基材上に形成された反
射防止膜により、充分な反射防止性能を基材に付与でき
ないことがある。
合には、平均粒径がＤ1 であり、屈折率がｎ1 である微
粒子Ｐ1 と、平均粒径がＤ2 であり、屈折率がｎ2 であ
る微粒子Ｐ2 とを含む塗布液から基材上に形成された反
射防止膜により、充分な反射防止性能を基材に付与でき
ないことがある。
【００１９】本発明に係る塗布液は、上記のような平均
粒径がＤ1 であり、屈折率がｎ1 である微粒子Ｐ1 と、
平均粒径がＤ2 であり、屈折率がｎ2 である微粒子Ｐ2
とを含んでいればよく、さらに前記微粒子Ｐ1 と平均粒
径および屈折率がほぼ等しい他の材料からなる微粒子、
前記微粒子Ｐ2 と平均粒径および屈折率がほぼ等しい他
の材料からなる微粒子、平均粒径および屈折率が前記微
粒子Ｐ1 とＰ2 との中間の値を示す他の材料からなる微
粒子を含んでいてもよい。
粒径がＤ1 であり、屈折率がｎ1 である微粒子Ｐ1 と、
平均粒径がＤ2 であり、屈折率がｎ2 である微粒子Ｐ2
とを含んでいればよく、さらに前記微粒子Ｐ1 と平均粒
径および屈折率がほぼ等しい他の材料からなる微粒子、
前記微粒子Ｐ2 と平均粒径および屈折率がほぼ等しい他
の材料からなる微粒子、平均粒径および屈折率が前記微
粒子Ｐ1 とＰ2 との中間の値を示す他の材料からなる微
粒子を含んでいてもよい。
【００２０】前記微粒子Ｐ1 と前記微粒子Ｐ2 との混合
比（Ｐ1 ／Ｐ2 ）は、平均粒径Ｄ1およびＤ2 、屈折率
がｎ1 およびｎ2 の値に応じて適宜調整され、８０／２
０〜２０／８０重量比、好ましくは７０／３０〜２０／
８０重量比に調整することが望ましい。
比（Ｐ1 ／Ｐ2 ）は、平均粒径Ｄ1およびＤ2 、屈折率
がｎ1 およびｎ2 の値に応じて適宜調整され、８０／２
０〜２０／８０重量比、好ましくは７０／３０〜２０／
８０重量比に調整することが望ましい。
【００２１】Ｐ1 ／Ｐ2 が８０／２０重量比を越える
と、これらの微粒子Ｐ1 およびＰ2 を含む塗布液から基
材上に形成された被膜は、高屈折率を有する単層被膜と
区別できなくなり、基材上に被膜が形成されていない場
合に比較して基材の反射率を高めることがある。逆にＰ
1 ／Ｐ2 が２０／８０重量比未満の場合には、これらの
微粒子Ｐ1 およびＰ2 を含む塗布液から基材上に形成さ
れた被膜は、低屈折率を有する単層被膜と区別できなく
なり、充分な反射防止性能を発揮しえないことがある。
と、これらの微粒子Ｐ1 およびＰ2 を含む塗布液から基
材上に形成された被膜は、高屈折率を有する単層被膜と
区別できなくなり、基材上に被膜が形成されていない場
合に比較して基材の反射率を高めることがある。逆にＰ
1 ／Ｐ2 が２０／８０重量比未満の場合には、これらの
微粒子Ｐ1 およびＰ2 を含む塗布液から基材上に形成さ
れた被膜は、低屈折率を有する単層被膜と区別できなく
なり、充分な反射防止性能を発揮しえないことがある。
【００２２】本発明に係る反射防止膜形成用塗布液は、
上記微粒子Ｐ1 およびＰ2 に加え、さらに被膜形成成分
Ｆを含有している。この被膜形成成分Ｆは、この成分か
ら基材上に形成された被膜に必要とされる基材との密着
性、硬度、機械的強度、透明性などに応じて適宜選択さ
れる。
上記微粒子Ｐ1 およびＰ2 に加え、さらに被膜形成成分
Ｆを含有している。この被膜形成成分Ｆは、この成分か
ら基材上に形成された被膜に必要とされる基材との密着
性、硬度、機械的強度、透明性などに応じて適宜選択さ
れる。
【００２３】この被膜形成成分Ｆを具体的に例示する
と、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、
エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素
樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹
脂などの重合体またはこれらの重合体を形成する際に用
いられるモノマーおよび／またはオリゴマー、あるいは
アルコキシシランなどのような加水分解重縮合性化合
物、さらにはポリシラザン、ポリシラン等の無機ポリマ
ーなどが挙げられる。
と、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、
エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素
樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹
脂などの重合体またはこれらの重合体を形成する際に用
いられるモノマーおよび／またはオリゴマー、あるいは
アルコキシシランなどのような加水分解重縮合性化合
物、さらにはポリシラザン、ポリシラン等の無機ポリマ
ーなどが挙げられる。
【００２４】これらの被膜形成成分は、単独で、あるい
は２種以上を混合して用いられる。本発明に係る反射防
止膜形成用塗布液では、微粒子Ｐ1 およびＰ2 と被膜形
成成分Ｆとの混合比〔（Ｐ1 ＋Ｐ2 ）／Ｆ〕が２０／８
０〜９０／１０重量比、好ましくは３０／７０〜８０／
２０重量比に調整されていることが望ましい。
は２種以上を混合して用いられる。本発明に係る反射防
止膜形成用塗布液では、微粒子Ｐ1 およびＰ2 と被膜形
成成分Ｆとの混合比〔（Ｐ1 ＋Ｐ2 ）／Ｆ〕が２０／８
０〜９０／１０重量比、好ましくは３０／７０〜８０／
２０重量比に調整されていることが望ましい。
【００２５】本発明に係る反射防止膜形成用塗布液は、
希釈剤としてさらに必要に応じて有機溶媒を含んでい
る。この有機溶媒としては、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール類、ア
セトン、ＭＥＫ、ＭＩＢＫなどのケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのエステル類、トルエン、キシレン
などの芳香族類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ
などのエーテル類などが挙げられる。
希釈剤としてさらに必要に応じて有機溶媒を含んでい
る。この有機溶媒としては、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール類、ア
セトン、ＭＥＫ、ＭＩＢＫなどのケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのエステル類、トルエン、キシレン
などの芳香族類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ
などのエーテル類などが挙げられる。
【００２６】これらの有機溶媒は、単独で、あるいは２
種以上を混合して用いられる。本発明に係る反射防止膜
形成用塗布液は、本発明の目的を損なわない範囲で、た
とえば、染料、顔料などの着色剤を加えても良い。
種以上を混合して用いられる。本発明に係る反射防止膜
形成用塗布液は、本発明の目的を損なわない範囲で、た
とえば、染料、顔料などの着色剤を加えても良い。
【００２７】また、得られる被膜の耐擦傷性を付与する
目的で平均粒径Ｄ1 よりも大きい粒径の粒子を、被膜の
反射防止性能を損なわない程度に混合しても良い。
目的で平均粒径Ｄ1 よりも大きい粒径の粒子を、被膜の
反射防止性能を損なわない程度に混合しても良い。
【００２８】反射防止膜付基材 次いで本発明に係る反射防止膜付基材について説明す
る。本発明に係る反射防止膜付基材は、上記塗布液から
得られた反射防止膜をアクリル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ＰＥＴなどのプラスチックまたはガラスなどから
なる基材上に有している。
る。本発明に係る反射防止膜付基材は、上記塗布液から
得られた反射防止膜をアクリル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ＰＥＴなどのプラスチックまたはガラスなどから
なる基材上に有している。
【００２９】反射防止を必要とする基材としては、カメ
ラ、メガネなどのレンズ、ＣＲＴ、液晶表示装置などの
ような表示装置、複写機において原稿を載置するコンタ
クトガラスなどが挙げられ、これらは、通常、透明であ
る。
ラ、メガネなどのレンズ、ＣＲＴ、液晶表示装置などの
ような表示装置、複写機において原稿を載置するコンタ
クトガラスなどが挙げられ、これらは、通常、透明であ
る。
【００３０】本発明では、これらの反射防止を必要とす
る基材上に、通常、０．１〜０．４μｍ、好ましくは
０．１〜０．２μｍの反射防止膜が形成されている。こ
の反射防止膜は、上記塗布液をバーコート法、スピンコ
ート法、ロールコート法、スプレー法などの方法で基材
上に塗布した後、基材、塗布液中に含まれる被膜形成成
分Ｆの性質などに応じて乾燥・被膜形成成分Ｆの硬化が
行われる。
る基材上に、通常、０．１〜０．４μｍ、好ましくは
０．１〜０．２μｍの反射防止膜が形成されている。こ
の反射防止膜は、上記塗布液をバーコート法、スピンコ
ート法、ロールコート法、スプレー法などの方法で基材
上に塗布した後、基材、塗布液中に含まれる被膜形成成
分Ｆの性質などに応じて乾燥・被膜形成成分Ｆの硬化が
行われる。
【００３１】たとえば被膜形成成分Ｆが紫外線硬化樹脂
である場合、塗布液を塗布・乾燥した後の基材に紫外線
を照射して被膜形成成分Ｆを硬化させることにより反射
防止膜付基材が得られる。被膜形成成分Ｆが熱硬化性樹
脂である場合、あるいは塗布液が有機溶媒を含む場合に
は、塗布液を塗布・乾燥した後の基材に熱処理を施すこ
とにより反射防止膜付基材が得られる。
である場合、塗布液を塗布・乾燥した後の基材に紫外線
を照射して被膜形成成分Ｆを硬化させることにより反射
防止膜付基材が得られる。被膜形成成分Ｆが熱硬化性樹
脂である場合、あるいは塗布液が有機溶媒を含む場合に
は、塗布液を塗布・乾燥した後の基材に熱処理を施すこ
とにより反射防止膜付基材が得られる。
【００３２】このようにして得られる本発明に係る反射
防止膜付基材が反射防止性能に優れる理由は、上記乾燥
・被膜形成成分Ｆの硬化の過程、例えば有機溶媒が蒸発
する過程で、高屈折率の大粒径粒子が主として基材と反
射防止膜との界面近くに集まり、高屈折率の大粒径粒子
上に低屈折率の小粒径粒子が形成された反射防止膜が得
られる。この結果、高屈折率の大粒径粒子を含む層と低
屈折率の小粒径粒子を含む層とがこの順序で基材上に形
成された従来の反射防止膜より広い領域で反射防止性能
が発揮されるものと推定される。
防止膜付基材が反射防止性能に優れる理由は、上記乾燥
・被膜形成成分Ｆの硬化の過程、例えば有機溶媒が蒸発
する過程で、高屈折率の大粒径粒子が主として基材と反
射防止膜との界面近くに集まり、高屈折率の大粒径粒子
上に低屈折率の小粒径粒子が形成された反射防止膜が得
られる。この結果、高屈折率の大粒径粒子を含む層と低
屈折率の小粒径粒子を含む層とがこの順序で基材上に形
成された従来の反射防止膜より広い領域で反射防止性能
が発揮されるものと推定される。
【００３３】
【発明の効果】本発明によれば、単層でありながら可視
光の全領域で１％以下の反射率を有する反射防止性能に
優れた反射防止膜が基材上に形成された反射防止膜付基
材が得られる。
光の全領域で１％以下の反射率を有する反射防止性能に
優れた反射防止膜が基材上に形成された反射防止膜付基
材が得られる。
【００３４】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００３５】
【実施例１】平均粒径０．１４μｍの酸化スズ微粒子
（ｎ1 ＝２．１０）がエタノールに分散したゾル（酸化
スズ濃度：１５ｗｔ％）と、平均粒径０．０２μｍのシ
リカ微粒子（ｎ2 ＝１．４５）がエタノールに分散した
ゾル（シリカ濃度：２０ｗｔ％）とを酸化スズ／シリカ
＝３５／６５重量比となるように混合した。
（ｎ1 ＝２．１０）がエタノールに分散したゾル（酸化
スズ濃度：１５ｗｔ％）と、平均粒径０．０２μｍのシ
リカ微粒子（ｎ2 ＝１．４５）がエタノールに分散した
ゾル（シリカ濃度：２０ｗｔ％）とを酸化スズ／シリカ
＝３５／６５重量比となるように混合した。
【００３６】被膜形成成分として紫外線硬化樹脂（大日
本インキ社製ユニデック １７−８２４）を２％含むイ
ソプロパノール／ブタノール混合溶液（イソプロパノー
ル／ブタノール混合比＝１／１（ｗｔ／ｗｔ））に上記
混合ゾルを加え、固形分濃度４重量％の反射防止膜形成
用塗布液を調製した。
本インキ社製ユニデック １７−８２４）を２％含むイ
ソプロパノール／ブタノール混合溶液（イソプロパノー
ル／ブタノール混合比＝１／１（ｗｔ／ｗｔ））に上記
混合ゾルを加え、固形分濃度４重量％の反射防止膜形成
用塗布液を調製した。
【００３７】この塗布液をＮｏ．５のバーコーターで偏
光フィルム（日東電工社製ＮＰＦ１０５ＤＵ）に塗布
し、乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの紫外線（高圧水銀ランプ）
を照射して反射防止膜付基材を得た。
光フィルム（日東電工社製ＮＰＦ１０５ＤＵ）に塗布
し、乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの紫外線（高圧水銀ランプ）
を照射して反射防止膜付基材を得た。
【００３８】得られた反射防止膜付基材の波長５５０ｎ
ｍにおける反射率を分光光度計（日本分光社製）で測定
したところ、反射率は０．６％であった。
ｍにおける反射率を分光光度計（日本分光社製）で測定
したところ、反射率は０．６％であった。
【００３９】
【実施例２】平均粒径０．１２μｍの酸化チタン微粒子
（ｎ1 ＝２．５０）がエタノールに分散したゾル（酸化
チタン濃度：１０ｗｔ％）と、平均粒径０．０３μｍの
多孔質シリカ微粒子（ｎ2 ＝１．４３）がエタノールに
分散したゾル（シリカ濃度：２０ｗｔ％）とを酸化チタ
ン／シリカ＝４０／６０重量比となるように混合した。
（ｎ1 ＝２．５０）がエタノールに分散したゾル（酸化
チタン濃度：１０ｗｔ％）と、平均粒径０．０３μｍの
多孔質シリカ微粒子（ｎ2 ＝１．４３）がエタノールに
分散したゾル（シリカ濃度：２０ｗｔ％）とを酸化チタ
ン／シリカ＝４０／６０重量比となるように混合した。
【００４０】被膜形成成分としてアクリル樹脂（大日本
インキ社製アクリディック Ａ−１９０）を３％含むメ
チルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケ
トン／トルエン混合比＝１／１（ｗｔ／ｗｔ））に上記
混合ゾルを加え、固形分濃度５重量％の反射防止膜形成
用塗布液を調製した。
インキ社製アクリディック Ａ−１９０）を３％含むメ
チルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケ
トン／トルエン混合比＝１／１（ｗｔ／ｗｔ））に上記
混合ゾルを加え、固形分濃度５重量％の反射防止膜形成
用塗布液を調製した。
【００４１】この塗布液をＮｏ．４のバーコーターで実
施例１と同様の偏光フィルムに塗布し、乾燥後、７０℃
で加熱して反射防止膜付基材を得た。得られた反射防止
膜付基材の反射率を実施例１と同様にして測定したとこ
ろ、反射率は０．８％であった。
施例１と同様の偏光フィルムに塗布し、乾燥後、７０℃
で加熱して反射防止膜付基材を得た。得られた反射防止
膜付基材の反射率を実施例１と同様にして測定したとこ
ろ、反射率は０．８％であった。
【００４２】
【実施例３】平均粒径０．３μｍの酸化スズ微粒子（ｎ
1 ＝２．１０）がエタノールに分散したゾル（酸化スズ
濃度：２０ｗｔ％）と、平均粒径０．０３μｍのフッ化
マグネシウム微粒子（ｎ2 ＝１．３８）がエタノールに
分散したゾル（フッ化マグネシウム濃度：１０ｗｔ％）
とを酸化スズ／フッ化マグネシウム＝５０／５０重量比
となるように混合した。
1 ＝２．１０）がエタノールに分散したゾル（酸化スズ
濃度：２０ｗｔ％）と、平均粒径０．０３μｍのフッ化
マグネシウム微粒子（ｎ2 ＝１．３８）がエタノールに
分散したゾル（フッ化マグネシウム濃度：１０ｗｔ％）
とを酸化スズ／フッ化マグネシウム＝５０／５０重量比
となるように混合した。
【００４３】被膜形成成分としてフッ素樹脂（旭硝子社
製ルミフロン）を１％含むメチルエチルケトン／トルエ
ン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン混合比＝１
／１（ｗｔ／ｗｔ））に上記混合ゾルを加え、固形分濃
度２重量％の反射防止膜形成用塗布液を調製した。
製ルミフロン）を１％含むメチルエチルケトン／トルエ
ン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン混合比＝１
／１（ｗｔ／ｗｔ））に上記混合ゾルを加え、固形分濃
度２重量％の反射防止膜形成用塗布液を調製した。
【００４４】この塗布液をＮｏ．５のバーコーターでア
クリル板に塗布し、乾燥後、８０℃で加熱して反射防止
膜付基材を得た。得られた反射防止膜付基材の反射率を
実施例１と同様にして測定したところ、反射率は１．１
％であった。
クリル板に塗布し、乾燥後、８０℃で加熱して反射防止
膜付基材を得た。得られた反射防止膜付基材の反射率を
実施例１と同様にして測定したところ、反射率は１．１
％であった。
【００４５】
【実施例４】平均粒径０．１μｍの酸化セリウム微粒子
（ｎ1 ＝２．５０）がエタノールに分散したゾル（酸化
セリウム濃度：１０ｗｔ％）と、平均粒径０．００２μ
ｍのシリカ微粒子（ｎ2 ＝１．４５）がエタノールに分
散したゾル（シリカ濃度：２０ｗｔ％）とを酸化セリウ
ム／シリカ＝３０／７０重量比となるように混合した。
（ｎ1 ＝２．５０）がエタノールに分散したゾル（酸化
セリウム濃度：１０ｗｔ％）と、平均粒径０．００２μ
ｍのシリカ微粒子（ｎ2 ＝１．４５）がエタノールに分
散したゾル（シリカ濃度：２０ｗｔ％）とを酸化セリウ
ム／シリカ＝３０／７０重量比となるように混合した。
【００４６】被膜形成成分として紫外線硬化樹脂（大日
本インキ社製ユニデック Ｖ−５５００）を５％含むエ
タノール／イソプロパノール混合溶液（エタノール／イ
ソプロパノール混合比＝２／１（ｗｔ／ｗｔ））に上記
混合ゾルを加え、固形分濃度３重量％の反射防止膜形成
用塗布液を調製した。
本インキ社製ユニデック Ｖ−５５００）を５％含むエ
タノール／イソプロパノール混合溶液（エタノール／イ
ソプロパノール混合比＝２／１（ｗｔ／ｗｔ））に上記
混合ゾルを加え、固形分濃度３重量％の反射防止膜形成
用塗布液を調製した。
【００４７】この塗布液をガラス板にディッピング法
（引上げ速度 １００ｍｍ／分）で塗布し、乾燥後、８
０Ｗ／ｃｍの紫外線を照射して反射防止膜付基材を得
た。得られた反射防止膜付基材の反射率を実施例１と同
様にして測定したところ、反射率は０．６％であった。
（引上げ速度 １００ｍｍ／分）で塗布し、乾燥後、８
０Ｗ／ｃｍの紫外線を照射して反射防止膜付基材を得
た。得られた反射防止膜付基材の反射率を実施例１と同
様にして測定したところ、反射率は０．６％であった。
Claims (3)
- 【請求項１】 平均粒径Ｄ1 が大きく、屈折率ｎ1 が大
きな微粒子Ｐ1 と、平均粒径Ｄ2 が小さく、屈折率ｎ2
が小さな微粒子Ｐ2 と、被膜形成成分Ｆとを含有してな
り、 Ｄ1 ／Ｄ2 ≧３ ｎ1 ＞ｎ2 であることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。 - 【請求項２】 前記微粒子Ｐ1 がＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、
ＣｅＯ2 またはＳｎＯ2 からなり、前記微粒子Ｐ2 がＭ
ｇＦ2 またはＳｉＯ2 からなることを特徴とする請求項
１に記載の反射防止膜付基材。 - 【請求項３】 請求項１に記載の塗布液から形成された
反射防止膜を基材上に有することを特徴とする反射防止
膜付基材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15096694A JP3186437B2 (ja) | 1994-07-01 | 1994-07-01 | 反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15096694A JP3186437B2 (ja) | 1994-07-01 | 1994-07-01 | 反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0812902A true JPH0812902A (ja) | 1996-01-16 |
| JP3186437B2 JP3186437B2 (ja) | 2001-07-11 |
Family
ID=15508335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15096694A Expired - Lifetime JP3186437B2 (ja) | 1994-07-01 | 1994-07-01 | 反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3186437B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003049092A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 充填剤、樹脂組成物およびその利用 |
| WO2003080718A1 (de) * | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Kunststofffolie mit mehrschicht-interferenzbeschichtung |
| JP2006161021A (ja) * | 2004-11-15 | 2006-06-22 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物、硬化膜及び積層体 |
| JP2008007680A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 |
| CN103052651A (zh) * | 2010-08-05 | 2013-04-17 | 日本曹达株式会社 | 有机无机复合体及其形成用组合物 |
-
1994
- 1994-07-01 JP JP15096694A patent/JP3186437B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003049092A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 充填剤、樹脂組成物およびその利用 |
| WO2003080718A1 (de) * | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Kunststofffolie mit mehrschicht-interferenzbeschichtung |
| JP2006161021A (ja) * | 2004-11-15 | 2006-06-22 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物、硬化膜及び積層体 |
| JP2008007680A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 |
| CN103052651A (zh) * | 2010-08-05 | 2013-04-17 | 日本曹达株式会社 | 有机无机复合体及其形成用组合物 |
| US20130131245A1 (en) * | 2010-08-05 | 2013-05-23 | Nippon Soda Co., Ltd. | Organic-inorganic complex and composition for forming same |
| US9234117B2 (en) * | 2010-08-05 | 2016-01-12 | Nippon Soda Co., Ltd. | Organic-inorganic complex and composition for forming same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3186437B2 (ja) | 2001-07-11 |
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