JPH0770064A - 有機材料用の安定剤としての用途のための新規ポリアルキル−４−ピペリジノール誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 新規ピペリジン化合物、有機材料のための光
安定剤、熱安定剤および酸化安定剤としてのそれらの使
用を提供する。 【構成】 式（Ｉ）の化合物よりなる。 【化１】 （Ｒ₁ ：水素原子、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキル基、ＯＨ等、Ｒ
₂ ：水素原子、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキル基等、Ｒ₃ ：Ｃ₁ −
Ｃ₁₈アルキル基、Ｃ₅ −Ｃ_{1 2} シクロアルキル基、Ｃ₇
−Ｃ₉ フェニルアルキル基等）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規ピペリジン化合物、
有機材料、特には合成ポリマーのための光安定剤、熱安
定剤および酸化安定剤としてのそれらの使用、およびそ
れにより安定化された有機材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】種々の特許、特には、西独特許公開公報
第３４１２２２７号、米国特許発明明細書第３６４０９
２８号、同３８４０４９４号、同４０２１４３２号、同
４１９８３３４号、同４８５５４３４号およびソヴィエ
ト社会主義共和国連邦特許発明明細書第１０５１０７５
号はポリアルキル−４−ピペリジノールのエステル誘導
体の合成ポリマーのための安定剤としての使用を請求の
範囲に記載している。

【０００３】

【課題を解決するための手段】本発明は式（Ｉ）

【化３】 （式中、Ｒ₁ は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、Ｏ・、ＯＨ、ＣＨ₂ ＣＮ、炭素原子数１ないし
１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２のシクロ
アルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、
未置換もしくはフェニル基上で炭素原子数１ないし４の
アルキル基によりモノ、ジもしくはトリ置換された炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または炭素原
子数１ないし８の脂肪族アシル基を表し、Ｒ₂ は水素原
子もしくは炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
およびＲ₃ は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未
置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により
モノ、ジもしくはトリ置換された炭素原子数５ないし１
２のシクロアルキル基、未置換もしくはフェニル基上で
炭素原子数１ないし４のアルキル基によりモノ、ジもし
くはトリ置換された炭素原子数７ないし９のフェニルア
ルキル基、または式（ＩＩ）

【化４】 で表される基を表す。）により表される新規化合物に関
する。

【０００４】１８個を越えない炭素原子を有するアルキ
ル基の例はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三
ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル
基およびオクタデシル基である。

【０００５】炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基の
例はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ
基、イソペントキシ基、ヘコキシ基、ヘプトキシ基、オ
クトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、テト
ラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基およびオクタ
デシルオキシ基である。好ましい例は炭素原子数６ない
し１２のアルコキシ基、特にはヘプトキシ基およびオク
トキシ基である。

【０００６】未置換もしくは炭素原子数１ないし４のア
ルキル基によりモノ、ジもしくはトリ置換された炭素原
子数５ないし１２のシクロアルキル基Ｒ₃ の例はシクロ
ペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル
基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキ
シル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル
基、シクロデシル基およびシクロドデシル基である。未
置換もしくは置換シクロヘキシル基がより好ましい。

【０００７】炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキ
シ基Ｒ₁ の例はシクロペントキシ基、シクロヘキソキシ
基、シクロヘプトキシ基、シクロオクトキシ基、シクロ
ドデシルオキシ基およびシクロドデシルオキシ基であ
る。シクロペントキシ基およびシクロヘキソキシ基が好
ましい。

【０００８】炭素原子数３ないし６のアルケニル基の例
はアリル基、２−メチルアリル基、ブテニル基およびヘ
キセニル基である。アリル基が好ましい。

【０００９】未置換もしくは炭素原子数１ないし４のア
ルキル基によりフェニル基上でモノ、ジもしくはトリ置
換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の
例はベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル
基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベンジル基およ
び２−フェニルエチル基である。ベンジル基が好まし
い。

【００１０】炭素原子数１ないし８の脂肪族アシル基の
例は炭素原子数１ないし８のアルカノイル基もしくは炭
素原子数３ないし８のアルケノイル基、例えばアセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペ
ンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オク
タノイル基、２−エチルヘキサノイル基、アクリロイル
基およびクロトニル基である。アセチル基が好ましい。

【００１１】好ましいＲ₁ の定義は水素原子、炭素原子
数１ないし４のアルキル基、ＯＨ、炭素原子数６ないし
１２のアルコキシ基、炭素原子数５ないし８のシクロア
ルコキシ基、アリル基、ベンジル基もしくはアセチル
基、特には水素原子もしくはメチル基である。

【００１２】Ｒ₂ は水素原子もしくは炭素原子数１ない
し６のアルキル基を表しおよびＲ₃は炭素原子数１ない
し１６のアルキル基、未置換もしくは炭素原子数１ない
し４のアルキル基によりモノ、ジもしくはトリ置換され
た炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、未置換も
しくはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル
基によりモノ、ジもしくはトリ置換されたベンジル基、
または式（ＩＩ）の基を表すところの式（Ｉ）の化合物
が好ましい。

【００１３】Ｒ₂ は水素原子もしくは炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表しおよびＲ₃は炭素原子数１ない
し１２のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基ま
たは式（ＩＩ）の基を表すところの式（Ｉ）の化合物が
特に好ましい。

【００１４】Ｒ₂ は水素原子もしくはメチル基を表しお
よびＲ₃ は炭素原子数１ないし４のアルキル基または式
（ＩＩ）の基を表すところの式（Ｉ）の化合物が特に興
味があるものである。

【００１５】Ｒ₁ は水素原子、メチル基もしくはシクロ
ヘキシルオキシ基を表し、Ｒ₂ は水素原子を表しおよび
Ｒ₃ は２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
基、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル基もしくは１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル基を表すところの式
（Ｉ）の化合物が特に興味があるものである。

【００１６】本発明の化合物は適当なモル比において式
（ＩＩＩａ）

【化５】 （式中、Ｒ₃ ’は式（ＩＩ）の基を除いてＲ₃ について
定義されたものを表す。）の化合物と式（ＩＩＩｂ）

【化６】 の化合物を、溶媒なしでもしくは不活性有機溶媒例えば
トルエン、キシレンもしくはトリメチルベンゼン中にお
いて、１００℃ないし２００℃、好ましくは１１０℃な
いし１８０℃の温度にて、触媒、例えばアルカリ金属、
アルカリ金属の炭素原子数１ないし４のアルコキシドも
しくはアミドもしくは水素化物、Ｔｉ（ＩＶ）の炭素原
子数１ないし４のアルコキシドもしくはジブチル錫オキ
シドの存在下にて操作して、反応の間生成されたアルコ
ールＲ₃ ＯＨを取り除きながら反応させることにより製
造されうる。

【００１７】式（ＩＩＩａ）および（ＩＩＩｂ）の化合
物は商業的に入手できるかもしくは知られている方法に
より製造されうる。

【００１８】初めに言及したように、本発明の化合物は
有機材料、特には合成ポリマーおよび合成コポリマーの
光安定性、熱安定性および酸化安定性を改良することに
おいて非常に効果的である。

【００１９】安定化され得る有機材料の例は以下のよう
なものである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１
−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレ
ン（ＬＤＰＥ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤ
ＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。

【００２０】ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以
下の方法により製造できる： ａ）（通常、高圧かつ高められた温度においての）ラジ
カル重合 ｂ）１個または１個より多くの通常周期表のIVｂ、Ｖ
ｂ、VIｂまたはVIII族の金属を含む触媒を使用する触媒
重合。これらの金属は通常、１個または１個より多い配
位子、典型的にはπ−配位またはσ−配位することがで
きる、酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステ
ル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／
またはアリールを有する。これら金属錯体は遊離形態に
あるか支持体上に典型的には、活性化塩化マグネシウ
ム、塩化チタン（III)、アルミナまたは酸化珪素上に固
定されていてよい。これらの触媒は重合媒体中に可溶ま
たは不溶であってよい。触媒はそれ自体だけで重合にお
いて使用でき、または、別の活性剤、典型的には金属ア
ルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金属ア
ルキルオキシドまたは金属アルキルオキサンを使用する
ことができ、前記金属は周期表のIa、IIa および／また
はIIIa族の元素である。活性剤は都合良くは、他のエス
テル、エーテル、アミンもしくはシリルエーテル基によ
り変性され得る。これら触媒系は通常フィリップス(Phi
llips)、スタンダードオイルインディアナ(Standard Oi
l Indiana)、チーグラー（−ナッタ）〔Ziegler-(Natt
a) 〕、ＴＮＺ〔デュポン社(Dupont)〕、メタロセンま
たはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と称されるものであ
る。

【００２１】２． １．に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。

【００２２】３．モノオレフィンおよびジオレフィン相
互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエ
チレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレ
ン（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリ
マー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン
／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポ
リマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレ
ン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（ア
イオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー；なら
びに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン
−プロピレン−コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニ
ルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレ
ンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶ
Ａ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン／一酸化炭素−コポリマー；ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。

【００２３】４. それらの水素化変性物（例えば粘着付
与剤）およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。

【００２４】５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルス
チレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。

【００２５】６．スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブ
タジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエ
ン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン
酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレ
ン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブ
タジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はス
チレン／エチレン／プロピレン／スチレン。

【００２６】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタア
クリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと６．に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよびＡＥＳポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。

【００２７】８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化
ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニル
コポリマー。

【００２８】９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート；ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。

【００２９】10．上記９に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。

【００３０】11．不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；
ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。

【００３１】12．環状エーテルのホモポリマーおよびコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。

【００３２】13. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはＭＢＳで変性させたポリアセタール。

【００３３】14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。

【００３４】15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。

【００３５】16. ジアミンおよびジカルボン酸および／
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド
６／１０、ポリアミド６／９、ポリアミド６／１２、ポ
リアミド４／６およびポリアミド１２／１２、ポリアミ
ド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン、およ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
／またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタル
アミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；
さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのコポリマー；またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー；ならびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで
変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工の間に
縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。

【００３６】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミドおよびポリベンズイミダゾール。

【００３７】18. ジカルボン酸およびジオールから、お
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル；およびまたポリカー
ボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエステル。

【００３８】19. ポリカーボネートおよびポリエステル
−カーボネート。

【００３９】20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。

【００４０】21．一方でアルデヒドから、および他方で
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアル
デヒド樹脂。

【００４１】22．乾性もしくは非乾性アルキド樹脂。

【００４２】23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。

【００４３】24．置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。

【００４４】25．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。

【００４５】26．ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。

【００４６】27．天然ポリマー、例えば、セルロース、
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。

【００４７】28．前述のポリマーの混合物（ポリブレン
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。

【００４８】29．純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート）をベースとするオイル、脂肪
およびワックス、ならびにいかなる重量比での合成エス
テルと鉱油との混合物典型的には紡糸製剤油として用い
られているもの、ならびにそれら材料の水性エマルジョ
ン。

【００４９】30．天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン／ブタジエンコポリマーのラテックス。

【００５０】式（Ｉ）の化合物は、ポリオレフィン、特
に、ポリエチレンまたはポリプロピレンの光安定性、熱
安定性、酸化安定性を改良するのに特に適している。

【００５１】式（Ｉ）の化合物は、安定化されるべき材
料の性質に依り、最終用途に依りおよび他の安定剤の存
在にも依るが、種々の割合における有機材料との混合物
において使用できる。

【００５２】一般に、例えば安定化される有機材料の重
量に関して、０．０１ないし５重量％、好ましくは０．
０５ないし１重量％の式（Ｉ）の化合物を使用するのが
適当である。

【００５３】一般には、式（Ｉ）の化合物は高分子材料
に該材料の重合または架橋の前、最中もしくは後に添加
できる。

【００５４】式（Ｉ）の化合物は純粋な形態またはワッ
クス、油もしくはポリマー封入の形態でポリマー材料中
に混入できる。

【００５５】式（Ｉ）の化合物はさまざまな方法によっ
て、例えば粉末の形態での乾式混合によって、あるいは
溶液もしくは懸濁液の形態での湿式混合によってまたは
マスターバッチの形態によっても、ポリマー材料に混入
でき；そしてかかる操作において、ポリマーは粉末、顆
粒、溶液、懸濁液の形態でまたはラテックスの形態で使
用できる。

【００５６】式（Ｉ）の生成物で安定化された材料は、
例えば、成形品、フィルム、テープ、モノフィラメン
ト、繊維、表面コーティングおよび同様のものの製造に
ついて使用できる。

【００５７】所望ならば、合成ポリマー用の他の慣用の
添加剤、例えば抗酸化剤、紫外線吸収剤、ニッケル安定
剤、顔料、充填剤、可塑剤、静電防止剤、防炎加工剤、
潤滑剤、腐蝕抑制剤および金属不活性化剤を式（Ｉ）の
化合物と有機材料との混合物に加えることができる。

【００５８】式（Ｉ）の化合物との混合に使用できる添
加剤の特別な例は以下に示すものである：

【００５９】１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４
−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−ウンデシ−１′−イル）−フェノール、２，４
−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデシ−１′−
イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−
メチル−トリデシ−１′−イル）−フェノールおよびそ
れらの混合物。

【００６０】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。

【００６１】１．３ ヒドロキノンとアルキル化ハイド
ロキノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキ
シフェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノ
ン、２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６
−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビ
ス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）アジペート。

【００６２】１．４ トコフェロール、例えばα−トコ
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）。

【００６３】１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。

【００６４】１．６ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。

【００６５】１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−アミン、ビス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィド、イ
ソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。

【００６６】１．８．ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）
−フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。

【００６７】１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチ
ルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメ
チルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。

【００６８】１．１０．トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。

【００６９】１．１１． べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。

【００７０】１．１２． アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
４−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸Ｎ−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチルエ
ステル。

【００７１】１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３
−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト
リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００７２】１．１４． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００７３】１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

【００７４】１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。

【００７５】１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００７６】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯ（ＣＨ₂ ）₃ −］
₂ −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。

【００７７】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。

【００７８】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。

【００７９】２．４． アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ
シンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −２−メチルインドリン。

【００８０】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。

【００８１】２．６． 立体障害性アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
サクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−
（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三
オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−
トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス
（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン），４−
ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マロネー
ト、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，
４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−
オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジ
アミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−
ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−
ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成
物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，
３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−
ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８
−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ド
デシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオン。

【００８２】２．７． オキサミド、例えば４，４′−
ジオクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジオクチル
オキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２，２′
−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリ
ド、２−エトキシ−２′−エトキサニリド、Ｎ，Ｎ′−
ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−
エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニリド
および該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，
４′−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物，ｏ−および
ｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−
およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。

【００８３】２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン。２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，
３，５−トリアジン。

【００８４】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。

【００８５】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。

【００８６】５． ヒドロキシルアミン、例えばジベン
ジルヒドロキシルアミン、ジオクチルヒドロキシルアミ
ン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテトラデシルヒ
ドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロキシルアミ
ン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキ
シ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベ
ンゾエートまたはビス（１−ヒドロキシ−２、２、６、
６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート。

【００８７】６． 過酸化物捕捉剤、例えばβ−チオジ
プロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリ
ル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプト
ベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミ
ダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、
ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテ
トラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。

【００８８】７． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。

【００８９】８． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。

【００９０】９． 核剤、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。

【００９１】１０．充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

【００９２】１１．その他の添加剤、例えば可塑剤、潤
滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤およ
び発泡剤。

【００９３】１２．ベンゾフラノン類とインドリノン
類、例えば米国特許発明明細書（ＵＳ−Ａ−）第４３２
５８６３号、同第４３３８２４４号、同第５１７５３１
２号、同第５２１６０５２号、同第５２５２６４３号、
西独特許公開公報第４３１６６１１号、同第４３１６６
２２号、同第４３１６８７６号、欧州特許公開公報（Ｅ
Ｐ−Ａ−）第０５８９８３９号又は同第０５９１１０２
号に開示されているそれら、又は３−［４−（２−アセ
トキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三−ブチ
ル−ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−第三−ブチ
ル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フ
ェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３′−ビス
［５，７−ジ−第三−ブチル−３−（４−［２−ヒドロ
キシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、
５，７−ジ−第三−ブチル−３−（４−エトキシフェニ
ル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−
３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三−ブチ
ル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル
−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三
−ブチルベンゾフラン−２−オン。

【００９４】式（Ｉ）の化合物はまた、例えばリサーチ
ディスクロージャー（Research Disclosure) １９９
０，３１４２９（４７４頁ないし４８０頁）に記載され
ているような、写真複製の技術および他の複製技術にお
いて知られた材料のうち大部分のものの安定剤として、
特に、光安定剤としてもまた使用できる。

【００９５】

【実施例】式（Ｉ）の化合物の製造方法およびの使用の
種々の例が本発明のより詳細な説明のために報告する
が、これらの例は説明の目的のためだけに与えられるも
のでありなにも制限を与えれるものではない。

【００９６】実施例１：次式

【化７】 により表される化合物の製造 １ａ） キシレン２００ｍｌ中のジエチル（エトキシメ
チレン）マロネート４３．２ｇ（０．２モル）、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール１０
３．８ｇ（０．６６モル）およびジブチル錫オキサイド
０．３ｇを放出されたエタノールを除去しながら２０時
間還流加熱した。８０℃に冷却した後に、８０℃に温度
を維持しながら反応混合物を水１００ｍｌで３回洗浄
し、Ｎａ₂ ＳＯ₄ 上で脱水しそして真空中で蒸発させ
た。残渣をアセトニトリルより結晶化させた。得られた
生成物は１５６ないし１５８℃にて融解した。 Ｃ₃₁Ｈ₅₅Ｎ₃ Ｏ₅ の分析： 計算値：Ｃ＝６７．７２％；Ｈ＝１０．０８％；Ｎ＝
７．６４％ 実測値：Ｃ＝６７．３８％；Ｈ＝１０．００％；Ｎ＝
７．５０％ １ｂ）リチウムアミド２．０ｇをキシレン３５０ｍｌ中
にジエチル（エトキシメチレン）マロネート９０．５ｇ
（０．４２モル）および２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジノール１４５．０ｇ（０．９２モル）を
含有する溶液に添加した。混合物を放出されたエタノー
ルを除去しながら還流加熱（〜１３７℃）した。エタノ
ールの蒸留の最後に、反応混合物をトルエン３００ｍｌ
で希釈し、水で洗浄し、ＭｇＳＯ₄ 上で脱水しそして蒸
発させた。ヘプタンからの粗生成物の分別結晶により１
５３ないし１５７℃の融点を有する化合物３９．０ｇを
与えた。 Ｃ₃₁Ｈ₅₅Ｎ₃ Ｏ₅ の分析： 計算値：Ｃ＝６７．７２％；Ｈ＝１０．０８％；Ｎ＝
７．６４％ 実測値：Ｃ＝６７．９０％；Ｈ＝９．９０％；Ｎ＝７．
８０％

【００９７】実施例２：次式

【化８】 により表される化合物を２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジノールに換えて１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジノールを使用して実施例１に
おいて記載されたように製造した。得られた生成物はｎ
−ヘキサンより結晶化した後に１４１ないし１４３℃に
て融解した。 Ｃ₃₄Ｈ₆₁Ｎ₃ Ｏ₅ の分析： 計算値：Ｃ＝６９．００％；Ｈ＝１０．３９％；Ｎ＝
７．１０％ 実測値：Ｃ＝６８．５１％；Ｈ＝１０．３０％；Ｎ＝
７．０８％

【００９８】実施例３：次式

【化９】 により表される化合物を２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジノールに換えて１−シクロヘキシルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノー
ルを使用して実施例１において記載されたように製造し
た。得られた生成物は濃厚な油であった。 Ｃ₄₉Ｈ₈₅Ｎ₃ Ｏ₈ の分析： 計算値：Ｃ＝６９．７１％；Ｈ＝１０．１５％；Ｎ＝
４．９８％ 実測値：Ｃ＝６９．６９％；Ｈ＝１０．１７％；Ｎ＝
４．９５％

【００９９】実施例４：（ポリプロピレンプラックにお
ける光安定化作用） 表１に示される各化合物１ｇ、トリス（２，４−ジ−第
三−ブチルフェニル）ホスフィット１ｇ、ペンタエリト
リトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．５
ｇ、ステアリン酸カルシウム１ｇおよびフィロフィンブ
ルーＧ（Ｆｉｌｏｆｉｎ Ｂｌｕｅ Ｇ）１ｇを、低速
ミキサー中でメルトインデックス＝４ｇ／１０分（２３
０℃および２．１６ｋｇで測定）のポリプロピレン粉末
１０００ｇとともに混合した。 得られた混合物を２０
０ないし２３０℃の温度にて押出すと、ポリマー顆粒を
与え、続いてこれらを２００℃ないし２２０℃にて射出
成形により２ｍｍ厚のプラックに転換した。得られたプ
ラックを、６３℃のブラックパネル温度にある、６５Ｗ
Ｒ型ウエザロメーター中において、表面の脆化（白亜
化）が生じるまで暴露した（ＡＳＴＭＤ２５６５−８
５）。上記と同様の条件下、しかし本発明の安定剤を添
加せずに製造したポリプロピレンプラックを、比較のた
めに暴露した。かかる脆化を生じさせるのに必要な暴露
時間（時間単位）を表１に示す。表１ ：安定剤 白亜化時間（時間） 安定剤なし ５１０ 実施例１の生成物 ４９００ 実施例２の生成物 ４３１０

【０１００】実施例５：（ポリプロピレンテープにおけ
る光安定化作用） 表２に示される各化合物を１ｇ、トリス（２，４−ジ−
第三−ブチルフェニル）ホスフィット１ｇ，ペンタエリ
トリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．５
ｇおよび、ステアリン酸カルシウム１ｇを、ターボミキ
サー中でメルトインデックス＝２ｇ／１０分（２３０℃
および２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉
末１０００ｇとともに混合した。混合物を２００ないし
２２０℃の温度にて押出すと、ポリマー顆粒を与え、続
いてこれらを半工業型装置（レオナルド−シュミラゴ
（Ｌｅｏｎａｒｄ−Ｓｕｍｉｒａｇｏ）（ＶＡ）社、イ
タリア）を使用し、以下の条件の下で作動させて、５０
μｍ厚および２．５ｍｍ幅に延伸テープに転換させた。 押出し機温度 ： ２１０−２３０℃ ヘッド温度 ： ２４０−２６０℃ 延伸比 ： １：６ このように製造されたテープを、白色カード上に取り付
けそして６３℃のブラックパネル温度にある、ウエザロ
メーター６５ＷＲ型（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）中
において暴露した。残留靭性を定速度張力計を用いて、
種々の光暴露時間後に取り出した試料について測定し
た。これら、初期靭性が半減するのに必要な暴露時間
（時間）（Ｔ_{5 0} ）を算出した。比較のため、本発明の
安定剤を添加せずに上記と同様の条件下で製造されたテ
ープを暴露した。得られた結果を表２に示す。表２ 安定剤 Ｔ_{5 0} （時間） 安定剤なし ５３０ 実施例１の生成物 ２９４０ 実施例２の生成物 ３０８０

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 グラッツィアーノ ザグノーニ イタリア国，40038 ベルガート（ビーオ ー）， ヴィア ホルナッチ 77 (72)発明者 ミハエル エッチ．アカーマン アメリカ合衆国，10956 ニューヨーク, ニューシティー，プライムローズレーン 12 (72)発明者 ジェームス ピー．ガルボ アメリカ合衆国，12594 ニューヨーク, ウイングデール，ホワイトファームロー ド 28 (72)発明者 ローランド エー．イー．ウインター アメリカ合衆国，10504 ニューヨーク, アルモンク，バンクスビル ロード 23

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ₁ は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
   キル基、Ｏ・、ＯＨ、ＣＨ₂ ＣＮ、炭素原子数１ないし
   １８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし１２のシクロ
   アルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、
   未置換もしくはフェニル基上で炭素原子数１ないし４の
   アルキル基によりモノ、ジもしくはトリ置換された炭素
   原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または炭素原
   子数１ないし８の脂肪族アシル基を表し、Ｒ₂ は水素原
   子もしくは炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
   およびＲ₃ は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未
   置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基により
   モノ、ジもしくはトリ置換された炭素原子数５ないし１
   ２のシクロアルキル基、未置換もしくはフェニル基上で
   炭素原子数１ないし４のアルキル基によりモノ、ジもし
   くはトリ置換された炭素原子数７ないし９のフェニルア
   ルキル基、または式（ＩＩ） 【化２】 で表される基を表す。）により表される化合物。
2. 【請求項２】 Ｒ₁ は水素原子、炭素原子数１ないし４
   のアルキル基、ＯＨ、炭素原子数６ないし１２のアルコ
   キシ基、炭素原子数５ないし８のシクロアルコキシ基、
   アリル基、ベンジル基もしくはアセチル基を表すところ
   の請求項１記載の式（Ｉ）の化合物。
3. 【請求項３】 Ｒ₂ は水素原子もしくは炭素原子数１な
   いし６のアルキル基を表し、およびＲ₃ は炭素原子数１
   ないし１６のアルキル基、未置換もしくは炭素原子数１
   ないし４のアルキル基によりモノ、ジもしくはトリ置換
   された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、未置
   換もしくはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアル
   キル基によりモノ、ジもしくはトリ置換されたベンジル
   基、または式（ＩＩ）の基を表すところの請求項１記載
   の式（Ｉ）の化合物。
4. 【請求項４】 Ｒ₂ は水素原子もしくは炭素原子数１な
   いし４のアルキル基を表し、およびＲ₃ は炭素原子数１
   ないし１２のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル
   基または式（ＩＩ）の基を表すところの請求項１記載の
   式（Ｉ）の化合物。
5. 【請求項５】 Ｒ₂ は水素原子もしくはメチル基を表
   し、およびＲ₃ は炭素原子数１ないし４のアルキル基ま
   たは式（ＩＩ）の基を表すところの請求項１記載の式
   （Ｉ）の化合物。
6. 【請求項６】 Ｒ₁ は水素原子、メチル基もしくはシク
   ロヘキシルオキシ基を表し、Ｒ₂ は水素原子を表し、お
   よびＲ₃ は２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
   ジル基、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
   リジル基もしくは１−シクロヘキシルオキシ−２，２，
   ６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を表すところ
   の請求項１記載の式（Ｉ）の化合物。
7. 【請求項７】 光、熱および酸化により誘発される分解
   を受けやすい材料および少なくとも１種の請求項１記載
   の式（Ｉ）の化合物を含有する組成物。
8. 【請求項８】 有機材料が合成ポリマーであるところの
   請求項７記載の組成物。
9. 【請求項９】 式（Ｉ）の化合物に加えて合成ポリマー
   のための他の慣用の添加剤を含有するところの請求項８
   記載の組成物。
10. 【請求項１０】 有機材料がポリオレフィンであるとこ
    ろの請求項７記載の組成物。
11. 【請求項１１】 有機材料がポリエチレンもしくはポリ
    プロピレンであるところの請求項７記載の組成物。
12. 【請求項１２】 光、熱もしくは酸化により誘発される
    分解に対して有機材料を安定化するために請求項１記載
    の式（Ｉ）の化合物を使用する方法。