JPH0764588B2 - 被覆用ガラス組成物 - Google Patents
被覆用ガラス組成物Info
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- JPH0764588B2 JPH0764588B2 JP1110618A JP11061889A JPH0764588B2 JP H0764588 B2 JPH0764588 B2 JP H0764588B2 JP 1110618 A JP1110618 A JP 1110618A JP 11061889 A JP11061889 A JP 11061889A JP H0764588 B2 JPH0764588 B2 JP H0764588B2
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子部品に用いられる回路を保護するための
被覆用ガラス組成物に関するものである。
被覆用ガラス組成物に関するものである。
[従来の技術とその問題点] セラミック基板上に形成される抵抗体及び導体からなる
回路は、外部から電気的、化学的、機械的に保護される
必要があり、この保護材料としてガラスが用いられる。
回路は、外部から電気的、化学的、機械的に保護される
必要があり、この保護材料としてガラスが用いられる。
また導体の材料としては従来より銀−パラジウムが主に
使用されているが、近年電子部品における技術的進歩に
伴って回路の高密度化が要求されるようになってきてお
り、銀−パラジウムよりも電気的特性、信頼性に優れる
銅を使用することが提案されている。ただし銅は酸化さ
れやすく、そのため導体の焼成は窒素雰囲気下で行う必
要がある。
使用されているが、近年電子部品における技術的進歩に
伴って回路の高密度化が要求されるようになってきてお
り、銀−パラジウムよりも電気的特性、信頼性に優れる
銅を使用することが提案されている。ただし銅は酸化さ
れやすく、そのため導体の焼成は窒素雰囲気下で行う必
要がある。
ところで従来よりこの用途に使用されるガラスとしては
PbO−B2O3−SiO2系、ZnO−B2O3−SiO2系及びCdO−B2O3
−SiO2系のガラスが存在する。しかしながらPbO−B2O3
−SiO2系ガラスは、窒素雰囲気中で焼成すると還元され
て鉛が析出し易くなるため特性が著しく劣化する。また
ZnO−B2O3−SiO2系ガラスを用いるとガラスを被覆する
前後の抵抗体の抵抗値が変化する、いわゆる抵抗値変化
率が大きくなるため抵抗値の設定を行いにくいという問
題があり、さらにCdO−B2O3−SiO2系の場合は、CdOを用
いるため人体に悪影響を及ぼす恐れがあると共に公害の
要因となるため好ましくない。
PbO−B2O3−SiO2系、ZnO−B2O3−SiO2系及びCdO−B2O3
−SiO2系のガラスが存在する。しかしながらPbO−B2O3
−SiO2系ガラスは、窒素雰囲気中で焼成すると還元され
て鉛が析出し易くなるため特性が著しく劣化する。また
ZnO−B2O3−SiO2系ガラスを用いるとガラスを被覆する
前後の抵抗体の抵抗値が変化する、いわゆる抵抗値変化
率が大きくなるため抵抗値の設定を行いにくいという問
題があり、さらにCdO−B2O3−SiO2系の場合は、CdOを用
いるため人体に悪影響を及ぼす恐れがあると共に公害の
要因となるため好ましくない。
[発明の目的] 本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、窒素雰囲気
中で焼成しても還元されにくいため導体として銅を使用
することが可能であり、抵抗値変化率が小さく、且つ人
体に対する影響及び公害の点でも問題のない被覆用ガラ
スを提供することを目的とするものである。
中で焼成しても還元されにくいため導体として銅を使用
することが可能であり、抵抗値変化率が小さく、且つ人
体に対する影響及び公害の点でも問題のない被覆用ガラ
スを提供することを目的とするものである。
本発明の他の目的は、軟化点が600℃以下、熱膨張係数
が55〜75×10-7/℃であり、耐水性に優れた被覆用ガラ
スを提供することを目的とするものである。すなわち回
路にガラスを被覆した後、高い温度で焼成すると回路が
劣化するためガラスはできるだけ低温で軟化するのが好
ましく、具体的には600℃以下の軟化点を有するのが好
ましい。また回路はアルミナ基板上に形成され、ガラス
の熱膨張係数をアルミナのそれに適合させる必要がある
ため、55〜75×10-7/℃であるのが好ましい。さらにガ
ラスの耐水性が悪いと回路を高湿度下で作動させる際信
頼性に乏しくなるため耐水性に優れていることが要求さ
れる。
が55〜75×10-7/℃であり、耐水性に優れた被覆用ガラ
スを提供することを目的とするものである。すなわち回
路にガラスを被覆した後、高い温度で焼成すると回路が
劣化するためガラスはできるだけ低温で軟化するのが好
ましく、具体的には600℃以下の軟化点を有するのが好
ましい。また回路はアルミナ基板上に形成され、ガラス
の熱膨張係数をアルミナのそれに適合させる必要がある
ため、55〜75×10-7/℃であるのが好ましい。さらにガ
ラスの耐水性が悪いと回路を高湿度下で作動させる際信
頼性に乏しくなるため耐水性に優れていることが要求さ
れる。
[発明の構成] 本発明の被覆用ガラス組成物は、重量百分率で、V2O55
〜35%、ZnO33〜60%、B2O33〜25%、SiO21〜15%、A
l2O30〜5%、MgO、CaO、SrO、BaOから選択された1者
又は2者以上2〜20%を含有し、好ましくは、重量百分
率で、V2O56〜30%、ZnO35〜57%、B2O35〜19%、SiO
23〜12%、Al2O30〜4%、MgO、CaO、SrO、BaOから選
択された1者又は2者以上3〜19%を含有することを特
徴とする。
〜35%、ZnO33〜60%、B2O33〜25%、SiO21〜15%、A
l2O30〜5%、MgO、CaO、SrO、BaOから選択された1者
又は2者以上2〜20%を含有し、好ましくは、重量百分
率で、V2O56〜30%、ZnO35〜57%、B2O35〜19%、SiO
23〜12%、Al2O30〜4%、MgO、CaO、SrO、BaOから選
択された1者又は2者以上3〜19%を含有することを特
徴とする。
以下本発明の被覆用ガラス組成物の各成分の限定理由を
示す。
示す。
V2O5は網目形成酸化物であり、その含有量は5〜35%、
好ましくは6〜30%である。5%より少ないと抵抗値変
化率が大きくなり、35%より多いとガラス化せず失透物
となる。
好ましくは6〜30%である。5%より少ないと抵抗値変
化率が大きくなり、35%より多いとガラス化せず失透物
となる。
ZnOは中間酸化物であり、その含有量は33〜60%、好ま
しくは35〜57%である。33%より少ないとガラスの軟化
点が上がり、流動性が悪くなるため良好な被覆が行え
ず、60%より多いとガラスが失透しやすくなる。
しくは35〜57%である。33%より少ないとガラスの軟化
点が上がり、流動性が悪くなるため良好な被覆が行え
ず、60%より多いとガラスが失透しやすくなる。
B2O3は網目形成酸化物であり、且つフラックス剤として
用いられ、その含有量は3〜25%、好ましくは5〜19%
である。3%より少ないとフラックス剤としての効果が
乏しくガラス化せず、25%より多いとガラスの耐水性が
著しく低下して回路保護の目的を達成することができに
くい。
用いられ、その含有量は3〜25%、好ましくは5〜19%
である。3%より少ないとフラックス剤としての効果が
乏しくガラス化せず、25%より多いとガラスの耐水性が
著しく低下して回路保護の目的を達成することができに
くい。
SiO2も網目形成酸化物であり、耐水性を良好にすると共
に抵抗値変化率を小さくする効果を有し、その含有量は
1〜15%、好ましくは3〜12%である。1%より少ない
とその効果に乏しく、15%より多いとガラスの軟化点が
上がり、流動性が悪くなるため良好な被覆が行えなくな
る。
に抵抗値変化率を小さくする効果を有し、その含有量は
1〜15%、好ましくは3〜12%である。1%より少ない
とその効果に乏しく、15%より多いとガラスの軟化点が
上がり、流動性が悪くなるため良好な被覆が行えなくな
る。
Al2O3は中間酸化物であり、SiO2と同様耐水性を良好に
するため含有することができるが、5%より多いとガラ
スの軟化点が上がり、流動性が悪くなるため良好な被覆
が行えなくなるため、その含有量は0〜5%、好ましく
は0〜4%である。
するため含有することができるが、5%より多いとガラ
スの軟化点が上がり、流動性が悪くなるため良好な被覆
が行えなくなるため、その含有量は0〜5%、好ましく
は0〜4%である。
MgO、CaO、SrO、BaOは、網目修飾酸化物であり、ガラス
の熱膨張係数を高める効果を有し、その含有量は合量で
2〜20%、好ましくは3〜19%である。2%より少ない
と熱膨張係数が低くなりすぎてセラミック基板に適合し
なくなり、20%より多いとガラスが失透しやすくなる。
の熱膨張係数を高める効果を有し、その含有量は合量で
2〜20%、好ましくは3〜19%である。2%より少ない
と熱膨張係数が低くなりすぎてセラミック基板に適合し
なくなり、20%より多いとガラスが失透しやすくなる。
尚、本発明のガラスはV2O5の作用によって茶色系に発色
するため、消色剤としてCeO2やTeO2を25%まで含有させ
ることが可能であり、これ以外にもAs2O3、Sb2O3等を清
澄剤として5%まで添加することが可能である。
するため、消色剤としてCeO2やTeO2を25%まで含有させ
ることが可能であり、これ以外にもAs2O3、Sb2O3等を清
澄剤として5%まで添加することが可能である。
[実施例] 以下本発明の被覆用ガラス組成物を実施例に基づいて説
明する。
明する。
次表は本発明のガラス(試料No.1〜8)及び比較例のガ
ラス(試料No.9〜11)を示すものである。
ラス(試料No.9〜11)を示すものである。
表に示した各ガラス試料は以下のように調製した。
まず、表に示す酸化物組成物になるように原料を調合し
混合した後、白金るつぼにて約1300℃で溶融し、次いで
水冷ローラーでフィルム状に成型したガラスをアルミナ
ボールミルで微粉砕してガラス粉末を得た。このガラス
粉末を用いて軟化点、熱膨張係数を測定してその結果を
表に示した。また先記したガラス粉末とアクリル系の熱
分解性バインダをテルピネオールの溶剤に溶解させたビ
ークルとをスリーロールで混練してガラスペーストを作
成し、次いでスクリーン印刷で第1図及び第2図に示す
テスト用回路を形成したアルミナ基板上に塗布し、約59
0℃で焼成した。第1図及び第2図は、表面にテスト用
回路を形成し、ガラスを被覆したアルミナ基板の平面図
及び断面図であり、1はアルミナ基板、2は導体、3は
抵抗体、4はガラスを各々示すもので、これを使用して
耐水性、抵抗値変化率を測定すると共に色調を観察し、
その結果を表に示した。
混合した後、白金るつぼにて約1300℃で溶融し、次いで
水冷ローラーでフィルム状に成型したガラスをアルミナ
ボールミルで微粉砕してガラス粉末を得た。このガラス
粉末を用いて軟化点、熱膨張係数を測定してその結果を
表に示した。また先記したガラス粉末とアクリル系の熱
分解性バインダをテルピネオールの溶剤に溶解させたビ
ークルとをスリーロールで混練してガラスペーストを作
成し、次いでスクリーン印刷で第1図及び第2図に示す
テスト用回路を形成したアルミナ基板上に塗布し、約59
0℃で焼成した。第1図及び第2図は、表面にテスト用
回路を形成し、ガラスを被覆したアルミナ基板の平面図
及び断面図であり、1はアルミナ基板、2は導体、3は
抵抗体、4はガラスを各々示すもので、これを使用して
耐水性、抵抗値変化率を測定すると共に色調を観察し、
その結果を表に示した。
表から明らかなように本発明品(試料No.1〜8)は、軟
化点が600℃以下、熱膨張係数が55〜73×10-7/℃、耐
水性が良好であり、且つ抵抗値変化率が+0.5〜+3.2と
小さく、各特性とも良好な値を示していた。一方、比較
例である試料No.9及び10は、軟化点、熱膨張係数及び耐
水性については良好な値を示したが、抵抗値変化率がそ
れぞれ+85、+55と大きいため好ましくなかった。また
同じく試料No.11は、主成分であるPbOが焼成過程で還元
されてPbとなるため十分にガラス化せず、ペースト焼成
後の耐水性、抵抗値変化率の測定や色調の観察は不能で
あった。
化点が600℃以下、熱膨張係数が55〜73×10-7/℃、耐
水性が良好であり、且つ抵抗値変化率が+0.5〜+3.2と
小さく、各特性とも良好な値を示していた。一方、比較
例である試料No.9及び10は、軟化点、熱膨張係数及び耐
水性については良好な値を示したが、抵抗値変化率がそ
れぞれ+85、+55と大きいため好ましくなかった。また
同じく試料No.11は、主成分であるPbOが焼成過程で還元
されてPbとなるため十分にガラス化せず、ペースト焼成
後の耐水性、抵抗値変化率の測定や色調の観察は不能で
あった。
尚、軟化点はガラス粉末を示差熱分析計で、熱膨張係数
はガラス粉末を焼結したものをディラトメーターで測定
したものであり、耐水性はペーストを焼成したアルミナ
基板をプレッシャークッカーテストで装置内で121℃−
2気圧−100%RHの条件下で20時間処理した後、ガラス
表面の光沢度合を観察して判定した。さらに抵抗値変化
率は回路の抵抗を4端子法によって測定して、焼成前後
の抵抗値の差を焼成前の抵抗値で割った値に100を乗じ
た値(%)で示したものであり、0%に近い程良好な特
性である。
はガラス粉末を焼結したものをディラトメーターで測定
したものであり、耐水性はペーストを焼成したアルミナ
基板をプレッシャークッカーテストで装置内で121℃−
2気圧−100%RHの条件下で20時間処理した後、ガラス
表面の光沢度合を観察して判定した。さらに抵抗値変化
率は回路の抵抗を4端子法によって測定して、焼成前後
の抵抗値の差を焼成前の抵抗値で割った値に100を乗じ
た値(%)で示したものであり、0%に近い程良好な特
性である。
[発明の効果] 以上のように本発明の被覆用ガラスは、窒素雰囲気中で
焼成しても還元されにくいため導体として銅を使用する
ことが可能であり、抵抗値変化率が小さく、且つCdOを
含有しないため人体に対する悪影響及び公害の点でも問
題は生じない。さらに軟化点が600℃以下、熱膨張係数
が55〜75×10-7℃であり、耐水性にも優れているため、
特に高密度の回路の被覆用ガラスとして好適である。
焼成しても還元されにくいため導体として銅を使用する
ことが可能であり、抵抗値変化率が小さく、且つCdOを
含有しないため人体に対する悪影響及び公害の点でも問
題は生じない。さらに軟化点が600℃以下、熱膨張係数
が55〜75×10-7℃であり、耐水性にも優れているため、
特に高密度の回路の被覆用ガラスとして好適である。
第1図は表面にテスト用回路を形成し、ガラスを被覆し
たアルミナ基板の平面図、第2図は第1図のA−A′線
断面図である。 1…アルミナ基板、2…導体 3…抵抗体、4…ガラス
たアルミナ基板の平面図、第2図は第1図のA−A′線
断面図である。 1…アルミナ基板、2…導体 3…抵抗体、4…ガラス
Claims (2)
- 【請求項1】重量百分率で、V2O5 5〜35%、ZnO 33〜60
%、B2O3 3〜25%、SiO2 1〜15%、Al2O3 0〜5%、Mg
O、CaO、SrO、BaOから選択された1者又は2者以上2〜
20%を含有する被覆用ガラス組成物。 - 【請求項2】重量百分率で、V2O5 6〜30%、ZnO 35〜57
%、B2O3 5〜19%、SiO2 3〜12%、Al2O3 0〜4%、Mg
O、CaO、SrO、BaOから選択された1者又は2者以上3〜
19%を含有する特許請求の範囲第1項記載の被覆用ガラ
ス組成物。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1110618A JPH0764588B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 被覆用ガラス組成物 |
US07/515,414 US5051381A (en) | 1989-04-28 | 1990-04-27 | Powdery coating glass material, coating glass paste using the same and coating glass composition prepared thereby |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1110618A JPH0764588B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 被覆用ガラス組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02289445A JPH02289445A (ja) | 1990-11-29 |
JPH0764588B2 true JPH0764588B2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=14540373
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1110618A Expired - Lifetime JPH0764588B2 (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | 被覆用ガラス組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5051381A (ja) |
JP (1) | JPH0764588B2 (ja) |
Families Citing this family (30)
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---|---|---|---|---|
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US6417123B1 (en) * | 2000-08-14 | 2002-07-09 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Dielectric composition useful for light transparent layer in PDP |
DE60318517T2 (de) * | 2002-04-24 | 2009-07-23 | Central Glass Co., Ltd., Ube | Bleifreies niedrigschmelzendes Glas |
JP4299021B2 (ja) * | 2003-02-19 | 2009-07-22 | ヤマト電子株式会社 | 封着加工材及び封着加工用ペースト |
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US7339780B2 (en) * | 2004-06-09 | 2008-03-04 | Ferro Corporation | Copper termination inks containing lead free and cadmium free glasses for capacitors |
US7176152B2 (en) * | 2004-06-09 | 2007-02-13 | Ferro Corporation | Lead-free and cadmium-free conductive copper thick film pastes |
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US8093491B2 (en) * | 2005-06-03 | 2012-01-10 | Ferro Corporation | Lead free solar cell contacts |
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DE102006028763B4 (de) * | 2006-06-23 | 2013-02-07 | Schott Ag | Alkali- blei- und cadmiumfreie Glasfritte, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung, Verfahren zur Herstellung einer keramischen Farbe und daraus erhältliche keramische Farbe |
KR100787463B1 (ko) * | 2007-01-05 | 2007-12-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 글래스 프릿, 실링재 형성용 조성물, 발광 장치 및 발광 장치의 제조방법 |
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JP5150295B2 (ja) * | 2008-02-12 | 2013-02-20 | ローム株式会社 | フレキシブル基板及びその製造方法 |
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