JPH0738019A - 冷却型固体撮像装置 - Google Patents
冷却型固体撮像装置Info
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Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 16
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 8
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 10
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 abstract description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 2
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 29
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 230000008642 heat stress Effects 0.000 description 3
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N copper tungsten Chemical compound [Cu].[W] SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 229910000830 fernico Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
-
- H01L31/0203—
-
- H01L31/024—
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/52—Elements optimising image sensor operation, e.g. for electromagnetic interference [EMI] protection or temperature control by heat transfer or cooling elements
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/54—Mounting of pick-up tubes, electronic image sensors, deviation or focusing coils
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract
クト化を安価に行う。 【構成】 本発明の冷却型固体撮像装置は、パッケージ
210内に固体撮像素子310とこの固体撮像素子31
0を冷却するためのペルチェ素子220を内蔵した冷却
型固体撮像装置であって、パッケージ210の底部に、
電子冷却素子220からの熱を放熱する良好な熱伝導率
の放熱部材270と、この放熱部材270の温度を検出
するためのセンサー230とを備え、ガラス窓250
は、外枠280とガラス窓250の熱膨脹率が同じ材料
260で融着され、固体撮像素子310は、オンチップ
で形成された1つまたは複数の温度検出素子を有するこ
とを特徴とする。
Description
チップを冷却することによって高いS/Nで光の検出が
行い得る固体撮像装置に関する。
フルフレームトランスファ(FFT)型CCDイメージ
センサチップの構成例を示したものであり、このチップ
110は、フレーム部120、水平転送部130、出力
部140より構成されている。フレーム部120は、そ
れぞれが画素をなす複数列のCCDで構成されており、
光電変換と光電変換された信号電荷を水平転送部130
へ転送する機能を有する。水平転送部130はフレーム
部120で光電変換された信号電荷を、1ライン毎に順
次出力部140へ転送するものである。また出力部14
0はフローティング・ディフュージョン・アンプ(FD
A)で構成されており、信号電荷を電圧に変換して出力
する。
点灯制御された光源と組み合わせて使用され、信号電荷
の読み出し期間においては光がセンサーに照射されない
ように設定して使用している。
のA−A’断面構造図を示したものである。このチップ
110の製造の際、まず、P+ 型基板111にP型のエ
ピタキシャル層112を成長させたウエハを用い、LO
COSによりフィールド酸化膜113(素子分離領域)
を形成した後、リン又は砒素をイオン注入することによ
りN型埋め込みチャンネル114の形成をする。そし
て、ゲート酸化膜115、転送用ポリシリコン電極11
6を形成した後、電極取り出し用のコンタクトホール、
配線用アルミ117を形成して完了する。
光分析等の計測用途に使用されるが、常温では暗電流に
よるショット雑音で検出限界が決まってしまいCCDの
性能を十分に活用することができない。そこで暗電流に
よるショット雑音を低減し、読み出し雑音で検出限界が
決まるように、素子を冷却して使用することが一般に行
なわれている。
で、PN接合ダイオードから成る温度検出素子150を
チップ110内に形成したCCD素子を冷却装置160
上に配置し、温度検出素子の出力に応じて冷却温度の制
御を行うものである。この方法の具体的な例としては、
「特開平2−44872」などに記載されている。
D素子の冷却方法は一般的なものであるが、計測用イメ
ージセンサにおいては、分光分析に適したものであるこ
と、即ち、露光が比較的長時間であり、冷却温度の表示
などの機能を要するため、上述の方法をそのまま用いた
のでは、十分な放熱ができなかった場合、熱暴走のおそ
れが高く、使用の際の冷却による熱ストレスによってパ
ッケージの封止にダメージを与えるなど、装置のコンパ
クト化を安価にするのは困難である。
より適し、かつコンパクト化を安価にできる固体撮像装
置を提供するものである。
に、本発明の冷却型固体撮像装置は、パッケージ内に固
体撮像素子とこの固体撮像素子を冷却するための電子冷
却素子(ペルチェ素子)を内蔵した冷却型固体撮像装置
であって、パッケージの底部に、電子冷却素子からの熱
を放熱する良好な熱伝導率の放熱部材と、この放熱部材
の温度を検出するためのセンサーとを備え、パッケージ
のガラス窓は、パッケージの外枠と前記ガラス窓の熱膨
脹率が同じ材料で融着され、固体撮像素子は、オンチッ
プで形成された1つまたは複数の温度検出素子を有する
ことを特徴とする。
ードまたは電界効果トランジスタであり、PN接合ダイ
オードの順方向電流または電界効果トランジスタのドレ
イン電流から温度表示する手段をさらに有することを特
徴としても良い。
は複数の温度検出素子からの検出出力により、固体撮像
素子のチップ温度の表示をするだけでなく、電子冷却素
子の温度制御回路に検出出力をフィードバックすること
で、電子冷却素子による固体撮像素子の冷却が制御さ
れ、設定温度に保つように使用することができるように
なる。ここで、電子冷却素子によって固体撮像素子で発
生した熱が放出されるのであるが、良好な熱伝導率をも
つ放熱部材で電子冷却素子からの熱が放熱されるため、
熱暴走を抑えられる。もし、熱暴走が起こったとしても
これをセンサーで検出することによって、装置の保護を
図りうる。
体に加わったとしても、ガラスと同程度の熱膨脹率を持
つ枠材料で融着していることから、その影響が抑えら
れ、気密性を保つことができ、良好な計測を行うことを
維持できる。このように、冷却温度の表示までを含め装
置全体が簡単に構成され、分光分析に適した比較的長時
間露光が可能な計測用イメージセンサーを安価にコンパ
クト化して提供することができる。
前述の従来例と同一または同等のものについてはその説
明を簡略化し若しくは省略するものとする。図1は、本
発明の固体撮像装置の構成例について、その断面図を示
したものである。
部に銅タングステン(CuW)の放熱材270が設けら
れ、内部で発生した熱を良好に放熱できるようになって
いる。また、入射光の入射側にはコバールガラスの入射
窓250が設けられ、この入射窓250は、コバール
(フェルニコ)の枠材260でパッケージ210の外枠
280に取り付けられている。入射窓250と枠材26
0、枠材260と外枠280は融着部262,264で
固着され、その内部は密封されている。
(ペルチェ素子)220が内蔵され、ペルチェ素子22
0のホット側に温度検出素子(サーミスタ)230が設
けられている。このサーミスタ230は、ペルチェ素子
220が熱暴走を起こした場合、ある設定温度以上にな
った時点で強制的にペルチェ素子への印加電源を停止さ
せるのに用いられ、ペルチェ素子の熱暴走によってペル
チェ素子が破壊されるのを防ぐためのものである。な
お、図面の都合上、ホット側のサーミスタのワイヤボン
ディング、ペルチェ素子の電源端子等の配線は省略して
ある。
像素子(CCDチップ)310がマウントされており、
CCDチップ310が冷却され、パッケージ210を介
して放熱されるようになっている。
を示したもので、チップ310内にPN接合ダイオード
150が形成されている。このダイオード150は、チ
ップ310の温度をモニターするための温度センサーと
して使用され、CCDチップ310内のP型エピタキシ
ャル層112にリン、砒素等のN型不純物をドープする
ことにより形成される。図2(b)は、その断面を示し
たものである。P+エピタキシャル層112とN+層11
4´でダイオードが形成され、酸化膜118に形成した
開口を介して、配線用アルミはN+層114´に接続さ
れている。このダイオード150に定電流の順方向電流
を流すことによって、その両端に生じる順方向電圧から
温度を検出することができ、後述する温度表示回路によ
りCCDチップ310の温度を表示する機能を実現する
ことができる。以下に、CCDチップ内に形成したPN
接合ダイオードの出力を用いてチップ温度を表示する一
例を具体的に述べる。
流源250で一定の順方向電流を流し、ダイオード15
0の順方向電圧を検出するための回路である。この回路
ではPN接合ダイオードのP側端子は基板でグランドレ
ベルであり、N側端子に定電流源を接続し、N側端子の
電位をモニターしている。PN接合ダイオードの基本特
性として、ダイオード電流が一定の場合にはダイオード
150の順方向電圧の温度係数は約−2mV/℃である
ことは一般に知られている。温度が1℃下がるごとにダ
イオードの順方向電圧は約2mV上昇することを利用
し、順方向電圧をモニターする回路によってCCDチッ
プ310の温度測定をなし得る。
ら温度表示を簡単に行う回路の構成例のブロックダイア
グラムを示したものである。この回路では、可変抵抗器
などのオフセット調整回路410からの電圧と、センサ
ー150の出力との差を、OPアンプ構成の電圧増幅回
路420で増幅し、可変抵抗器などのゲイン調整回路4
30で調整されて電圧計450などで電圧表示が行われ
る。
て測定温度と電圧表示値との関係を示したものであり、
ここでは、−40℃から25℃の温度範囲でCCDチッ
プ310の温度をモニターするものとしている。−40
℃から25℃の温度範囲では、ダイオードの順方向電圧
はほぼリニアに変化することから、測定温度t(℃)及
び電圧表示値V(mV)を用いて「t=α×V(但しα
は係数)」で表され、係数αを適当な値に定めることに
よって測定温度が電圧で表示される。
オフセット調整してある程度の電圧増幅をした後、+2
5℃における出力が250mVとなるようにゲイン調整
し、「α=0.1」となるように設定を行うことによ
り、温度のスケールと電圧計のスケールとを一致させ得
る。そして、電圧表示値が100mVであれば温度は1
0℃であることが判り、−250mVであれば−25℃
であることが判り、非常に見やすい表示になる。電圧計
のスケールがことなれば、そのスケールに応じた設定を
行う。
N接合ダイオード150の順方向電圧出力は、上記CC
Dチップ310の温度表示をするだけでなく、ペルチェ
素子の温度制御回路にフィードバックされ、設定温度に
保つように使用されている。
うにして温度表示がなされ、また、一定の温度に保たれ
る。ここで、CCDチップ310で発生した熱を逃がす
ためペルチェ素子220により多く電流を流すように制
御がなされるのであるが、発生した熱が十分に放出され
なかった場合、ペルチェ素子220に流れる電流によっ
てペルチェ素子220自身が発熱し、熱暴走を起こすこ
とになる。しかし、この固体撮像装置では、熱伝導が良
好なCuWの放熱材270で放熱しやすいようにして熱
暴走を抑えるとともに、もし、熱暴走が起こったとして
もこれをサーミスタ230で検出し、装置の保護を図っ
ている。
クルが生じ、これによる熱ストレスが全体に加わること
になる。ここで、入射窓250を樹脂で封止したとする
と、この熱ストレスによって気密性が保てなくなるおそ
れが大きいが、この固体撮像装置では、ガラスと同程度
の熱膨脹率を持つコバールで融着していることから、熱
ストレスの影響が抑えられ、気密性を保つことができ、
良好な計測を行うことを維持できる。このように、冷却
温度の表示までを含め装置全体が簡単に構成され、分光
分析に適した比較的長時間露光が可能な計測用イメージ
センサーを安価にコンパクト化して提供することができ
る。
にPN接合ダイオード、FETといった温度検出素子が
1つの場合を示したが、図6に示すように、CCDチッ
プ310に複数の温度センサー150を形成するように
しても良い。このようにすることで、CCDチップの温
度測定を高い精度で行い得る。例えば、図6の場合は、
チップ内に設けた4個の温度センサー出力を平均するこ
とにより高い精度で温度表示することが可能となる。
が可能である。
イオードを用いたが、PN接合ダイオード以外でもよ
く、替わりに電界効果トランジスタ(FET)をCCD
チップ310に形成し、これを温度検出に用いても良
い。例えば、Nチャンネルのディプリーション型FET
を形成した場合、ソース電流IS の温度特性を利用して
CCDチップの温度をモニターし得る。この場合には、
図7に示すような回路でソース電流IS を検出し、図4
の電圧増幅420の部分をI−V変換・電圧増幅とした
回路でスケールが一致した表示を行い得る。なお、図7
では、ゲートはグランド電位としているが、電源電圧等
の所定の電位に固定してもよい。
ルのCCDを用いた例を示したが、PチャンネルのCC
Dでも同様に用いることができ、CCDウエハ111に
ついてもP/P+ 型以外でも可能で種類は問わない。こ
れらに伴い、温度センサーとして用いるPN接合ダイオ
ードやFETの極性、バイアスの仕方等は使用する温度
センサー素子、使用ウエハに適したように設定する必要
があることは言うまでもない。
FFT型である必要はなく、インタライントランスファ
(IT)型、フレームトランスファ(FT)型、フレー
ムインタライントランスファ型(FIT)でも同様の効
果を得ることができる。
子によって固体撮像素子のチップ温度を表示し、放熱部
材によって熱暴走を抑えて装置の保護を図るとともに、
パッケージのガラス窓をパッケージの外枠とガラス窓の
熱膨脹率が同じ材料で融着することによって温度サイク
ルによる熱ストレスの影響を抑えて気密性を保つことが
できるため、良好な計測を行うことを維持できる装置全
体が簡単に構成され、分光分析に適した比較的長時間露
光が可能な計測用イメージセンサーを安価にコンパクト
化して提供することができる。
図。
ップの外形図。
20…ペルチェ素子、230…サーミスタ、250…入
射窓、260…枠材、270…放熱材、280…外枠、
310…CCDチップ。
Claims (2)
- 【請求項1】 パッケージ内に固体撮像素子とこの固体
撮像素子を冷却するための電子冷却素子を内蔵した冷却
型固体撮像装置であって、 前記パッケージの底部に、前記電子冷却素子からの熱を
放熱する良好な熱伝導率の放熱部材と、この放熱部材の
温度を検出するためのセンサーとを備え、 前記パッケージのガラス窓は、前記パッケージの外枠と
前記ガラス窓の熱膨脹率が同じ材料で融着され、 前記固体撮像素子は、オンチップで形成された1つまた
は複数の温度検出素子を有することを特徴とする冷却型
固体撮像装置。 - 【請求項2】 前記温度検出素子は、PN接合ダイオー
ドまたは電界効果トランジスタであり、 前記PN接合ダイオードの順方向電流または前記電界効
果トランジスタのドレイン電流から温度表示する手段を
さらに有することを特徴とする請求項1記載の冷却型固
体撮像装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18276493A JP3310404B2 (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | 冷却型固体撮像装置 |
US08/278,234 US5508740A (en) | 1993-07-23 | 1994-07-21 | Solid-state imaging device having temperature sensor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18276493A JP3310404B2 (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | 冷却型固体撮像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0738019A true JPH0738019A (ja) | 1995-02-07 |
JP3310404B2 JP3310404B2 (ja) | 2002-08-05 |
Family
ID=16124021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18276493A Expired - Fee Related JP3310404B2 (ja) | 1993-07-23 | 1993-07-23 | 冷却型固体撮像装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5508740A (ja) |
JP (1) | JP3310404B2 (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080524 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090524 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100524 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110524 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110524 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120524 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130524 Year of fee payment: 11 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |