JPH0736901B2 - 塗布方法及び装置 - Google Patents
塗布方法及び装置Info
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- JPH0736901B2 JPH0736901B2 JP61039466A JP3946686A JPH0736901B2 JP H0736901 B2 JPH0736901 B2 JP H0736901B2 JP 61039466 A JP61039466 A JP 61039466A JP 3946686 A JP3946686 A JP 3946686A JP H0736901 B2 JPH0736901 B2 JP H0736901B2
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- JP
- Japan
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- coating
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- carbon dioxide
- applying
- gas
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/0007—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding involving treatment or provisions in order to avoid deformation or air inclusion, e.g. to improve surface quality
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
-
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- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2309/00—Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
- B32B2309/60—In a particular environment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2309/00—Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
- B32B2309/60—In a particular environment
- B32B2309/66—Fluid other than air
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、写真用フイルム、写真用印画紙、磁気記録テ
ープ、接着テープ、感圧記録紙、オフセツト版等の製造
において連続走行している帯状支持体（以下「ウエブ」
と称する。）に各種液状組成物を塗布する方法及び装置
に関するものである。
ープ、接着テープ、感圧記録紙、オフセツト版等の製造
において連続走行している帯状支持体（以下「ウエブ」
と称する。）に各種液状組成物を塗布する方法及び装置
に関するものである。
液状組成物をダイのスリツトから流出させて連続的に塗
布する方法として、米国特許第2,761,791号（特公昭33
−8977号公報）に開示されたスライド塗布、米国特許第
3,508,947号（特公昭49−24133号公報）に開示されたカ
ーテン塗布、特公昭45−12390号公報（米国特許第3,52
6,528号）に開示されたエクストルージヨン塗布がおも
に使われる。
布する方法として、米国特許第2,761,791号（特公昭33
−8977号公報）に開示されたスライド塗布、米国特許第
3,508,947号（特公昭49−24133号公報）に開示されたカ
ーテン塗布、特公昭45−12390号公報（米国特許第3,52
6,528号）に開示されたエクストルージヨン塗布がおも
に使われる。
本方法は、これらの方法のみならず、これらの組み合わ
せである、スライド面を有するエクストルージヨン塗布
や、エクストルージヨン塗布用ダイを用いたカーテン塗
布などにも適用可能である。
せである、スライド面を有するエクストルージヨン塗布
や、エクストルージヨン塗布用ダイを用いたカーテン塗
布などにも適用可能である。
一方、特公昭46−27423号公報には、塗布ロールを高電
位に保ち塗布ダイと塗布ロール間に静電界を生じせしめ
る装置が開示されている。
位に保ち塗布ダイと塗布ロール間に静電界を生じせしめ
る装置が開示されている。
従来より、塗布速度を向上させて、同品質の塗工製品を
得ることは、高い塗布品質が要求される感光材料製造工
程や磁気記録媒体製造工程では、極めて重要な技術であ
る。
得ることは、高い塗布品質が要求される感光材料製造工
程や磁気記録媒体製造工程では、極めて重要な技術であ
る。
このような、高品質塗布工程での塗布速度の増加を図る
上での一つの問題は、空気同伴と呼ばれる現象である。
これは、走行している支持体の表面にある空気が支持体
と同じ速度で塗布の動的接触点に流れて来るために、そ
の空気の一部が塗布液と支持体の間に入つて、気泡を残
す現象である。感光材料や磁気記録媒体においては、気
泡のような欠陥は致命的であるので、この現象の発生を
抑制することは、塗布の高速化を行なう上で重要な課題
である。
上での一つの問題は、空気同伴と呼ばれる現象である。
これは、走行している支持体の表面にある空気が支持体
と同じ速度で塗布の動的接触点に流れて来るために、そ
の空気の一部が塗布液と支持体の間に入つて、気泡を残
す現象である。感光材料や磁気記録媒体においては、気
泡のような欠陥は致命的であるので、この現象の発生を
抑制することは、塗布の高速化を行なう上で重要な課題
である。
しかしながら、静電界の印加により空気同伴を防止する
方法であつても塗布速度が増大するにつれ同伴しようと
する空気の量も増大するため空気同伴が発生しばじめる
塗布速度が増大するものの依然、塗布限界速度は存在す
る。ここて塗布限界速度とは同伴空気の巻き込みによる
泡発生が障害とならない上限の塗布速度を意味する。ま
た静電界の強度を上げるためには高い電圧を印加する必
要が有るが、実用的な塗布装置においては絶縁強度を上
げるにも限度が有るので、静電界強度増強によらずに塗
布限界速度を増大させる方法が必要で有つた。
方法であつても塗布速度が増大するにつれ同伴しようと
する空気の量も増大するため空気同伴が発生しばじめる
塗布速度が増大するものの依然、塗布限界速度は存在す
る。ここて塗布限界速度とは同伴空気の巻き込みによる
泡発生が障害とならない上限の塗布速度を意味する。ま
た静電界の強度を上げるためには高い電圧を印加する必
要が有るが、実用的な塗布装置においては絶縁強度を上
げるにも限度が有るので、静電界強度増強によらずに塗
布限界速度を増大させる方法が必要で有つた。
他の工業的方法で、米国特許第3735729号に開示され
た、スライド塗布装置に減圧室を設ける方法では、減圧
度をある程度以上に上げても、空気同伴を抑制する効果
はほとんど増えず、逆に強い差圧によりビードの破壊を
招くか、不安定性によるスジを発生させるので、塗布速
度を上げて高い品質を保つためには、充分ではない。
た、スライド塗布装置に減圧室を設ける方法では、減圧
度をある程度以上に上げても、空気同伴を抑制する効果
はほとんど増えず、逆に強い差圧によりビードの破壊を
招くか、不安定性によるスジを発生させるので、塗布速
度を上げて高い品質を保つためには、充分ではない。
また特開昭48−32923号公報に開示された、ウエブに水
等の液体の蒸気を付着させて、固体表面の濡れ性を改良
する方法は、濡れ性の変化を起こすためには比較的長い
時間が必要なためスライド塗布装置の減圧室のように、
極めて通過時間が短かいゾーン中では、蒸気の付着が充
分おこらないばかりか装置への結露が支持体に付着した
場合は、致命的な点状のムラを生じるので、好ましくな
い。
等の液体の蒸気を付着させて、固体表面の濡れ性を改良
する方法は、濡れ性の変化を起こすためには比較的長い
時間が必要なためスライド塗布装置の減圧室のように、
極めて通過時間が短かいゾーン中では、蒸気の付着が充
分おこらないばかりか装置への結露が支持体に付着した
場合は、致命的な点状のムラを生じるので、好ましくな
い。
上記の如く、従来の方法によるときは、空気同伴をある
程度抑制できるものの充分な抑制効果が得られなかつ
た。本発明は、これらいくつかの従来の方法の欠点を伴
わず極めて高い塗布速度においても気泡の発生のない塗
布方法及び装置を提供することを目的とする。
程度抑制できるものの充分な抑制効果が得られなかつ
た。本発明は、これらいくつかの従来の方法の欠点を伴
わず極めて高い塗布速度においても気泡の発生のない塗
布方法及び装置を提供することを目的とする。
本発明の上記の目的は、連続走行しているウエブに対
し、単層もしくは複数層の塗布液をダイのスリツトから
流出せしめて塗布する方法において、塗布直前において
該ウエブに同伴する空気を、該塗布液への溶解度が高い
気体として二酸化炭素と置換し、二酸化炭素が直ちに塗
布液に溶解吸収されるようにすると共に塗布点に電界を
印加することを特徴とする塗布方法及び装置によつて達
成される。
し、単層もしくは複数層の塗布液をダイのスリツトから
流出せしめて塗布する方法において、塗布直前において
該ウエブに同伴する空気を、該塗布液への溶解度が高い
気体として二酸化炭素と置換し、二酸化炭素が直ちに塗
布液に溶解吸収されるようにすると共に塗布点に電界を
印加することを特徴とする塗布方法及び装置によつて達
成される。
以下、図面に基づいて本発明の内容を更に詳細に説明す
る。
る。
第１図は、本発明をスライド塗布に適用する場合の装置
の一例である。エツジ１を含む先端ブロツク２と後のブ
ロツク３、４によりスリツト５、６を形成している。こ
こで層数が三層以上の場合は、同様のブロツクを増やす
ことで層数を増すことが実現できる。空洞７、８を満た
す塗布液は送液装置９、10により各々送られスリツト
５、６を通つて液膜11、12を作りエツジ１から、バツク
アツプローラー13に支えられて連続走行するウエブ14と
の間にビード15を形成し、塗膜16となる。
の一例である。エツジ１を含む先端ブロツク２と後のブ
ロツク３、４によりスリツト５、６を形成している。こ
こで層数が三層以上の場合は、同様のブロツクを増やす
ことで層数を増すことが実現できる。空洞７、８を満た
す塗布液は送液装置９、10により各々送られスリツト
５、６を通つて液膜11、12を作りエツジ１から、バツク
アツプローラー13に支えられて連続走行するウエブ14と
の間にビード15を形成し、塗膜16となる。
ここで、通常用いられる減圧室17の内部は減圧系18によ
つて外気より負圧となつている。
つて外気より負圧となつている。
本発明では、この減圧室と仕切19をへだてて支持体上流
側に置換室20を設け、気体供給源21より気体供給口22を
経て塗布液に対して溶解度の高い気体を送気してこの室
内を該気体で満たすとともに、減圧室内部も該気体で満
たし、ウエブ14に同伴してビード部に達する空気を該気
体とおきかえる。置換室20からウエブ進行方向と逆に吹
き出す該気体の量は、すきま間隔調整板23により間隔を
変えるか供給域からの流量によつて調整される。バツク
アツプローラー13は非接地型の構造とし、電圧印加手段
24により高電位を与えることにより、塗布部15に電界が
印加される。
側に置換室20を設け、気体供給源21より気体供給口22を
経て塗布液に対して溶解度の高い気体を送気してこの室
内を該気体で満たすとともに、減圧室内部も該気体で満
たし、ウエブ14に同伴してビード部に達する空気を該気
体とおきかえる。置換室20からウエブ進行方向と逆に吹
き出す該気体の量は、すきま間隔調整板23により間隔を
変えるか供給域からの流量によつて調整される。バツク
アツプローラー13は非接地型の構造とし、電圧印加手段
24により高電位を与えることにより、塗布部15に電界が
印加される。
第２図においては、先端ブロツク１の一部に同伴空気置
換具として吹出しスリツト25を有する気体分配管26を設
けた本発明装置の実施態様例を示した。塗布液に対して
溶解度の高い気体は、供給源21から分配管26に入りここ
で幅方向に均一に吹出スリツト25より吹出す。このスリ
ツトの吹出し方向は、ウエブ14の進行方斜めにウエブ14
に該気体を衝突させられるようにする。吹出した該気体
は、減圧系18により排出される。すきま調整板23は、こ
の場合には、減圧度を適度に保つためにつかわれる。塗
布部15への電界印加は第１図と同様に行われる。
換具として吹出しスリツト25を有する気体分配管26を設
けた本発明装置の実施態様例を示した。塗布液に対して
溶解度の高い気体は、供給源21から分配管26に入りここ
で幅方向に均一に吹出スリツト25より吹出す。このスリ
ツトの吹出し方向は、ウエブ14の進行方斜めにウエブ14
に該気体を衝突させられるようにする。吹出した該気体
は、減圧系18により排出される。すきま調整板23は、こ
の場合には、減圧度を適度に保つためにつかわれる。塗
布部15への電界印加は第１図と同様に行われる。
本発明に用いられる気体は、基本的に適用される塗布液
の組成に応じて決められるが、水溶液に対しては、塩
素、二酸化イオウ、硫化水素、ハロゲン化水素、アンモ
ニア、アセチレン、二酸化炭素などその塗布液に対する
溶解度が窒素もしくは空気より充分に高い気体であるこ
とが必要である。これらのうち実際には、その液の目的
とする性能を損なわないことを第一の条件に選択され
る。この点から、写真感光材料のように不要な酸化還元
反応によつて本来の性能が著じるしく損なわれる塗布液
に対しては、二酸化炭素のように反応性の弱い気体を使
用するのが好ましい。また、液と気体の組み合わせにお
いては、気体が単なる物理吸収ではなく水酸化ナトリウ
ム水溶液と二酸化炭素の組み合わせのように化学吸収に
よつて気体の液中への吸収速度か上昇する場合も含んで
いる。
の組成に応じて決められるが、水溶液に対しては、塩
素、二酸化イオウ、硫化水素、ハロゲン化水素、アンモ
ニア、アセチレン、二酸化炭素などその塗布液に対する
溶解度が窒素もしくは空気より充分に高い気体であるこ
とが必要である。これらのうち実際には、その液の目的
とする性能を損なわないことを第一の条件に選択され
る。この点から、写真感光材料のように不要な酸化還元
反応によつて本来の性能が著じるしく損なわれる塗布液
に対しては、二酸化炭素のように反応性の弱い気体を使
用するのが好ましい。また、液と気体の組み合わせにお
いては、気体が単なる物理吸収ではなく水酸化ナトリウ
ム水溶液と二酸化炭素の組み合わせのように化学吸収に
よつて気体の液中への吸収速度か上昇する場合も含んで
いる。
有機溶媒を主溶媒とする塗布液においても、使用する気
体はその塗布液に対する溶解度が窒素や空気より高いこ
とが必要である。例えばアセトンやエタノールや四塩化
炭素やベンゼンやメタノールを主溶媒とする溶液に対す
る二酸化炭素の使用などはその一例である。
体はその塗布液に対する溶解度が窒素や空気より高いこ
とが必要である。例えばアセトンやエタノールや四塩化
炭素やベンゼンやメタノールを主溶媒とする溶液に対す
る二酸化炭素の使用などはその一例である。
従来の静電界印加法を用いて、塗布限界速度を上昇させ
た場合でもさらに塗布速度を上昇させると、やはり空気
同伴現象が発生する。しかしながら、静電界を用いない
場合においては高塗布速度では、液膜が同伴空気によつ
て乱されるため、空気同伴現象の発生時には、気泡が塗
膜に残存するだけでなく塗布膜にも乱されやすい。静電
界を用いた塗布では、静電気力により液膜が支持体と接
触しはじめる動的接触点の位置が変動しにくくなるの
で、塗布膜の乱れよりも気泡の残存が問題となる。
た場合でもさらに塗布速度を上昇させると、やはり空気
同伴現象が発生する。しかしながら、静電界を用いない
場合においては高塗布速度では、液膜が同伴空気によつ
て乱されるため、空気同伴現象の発生時には、気泡が塗
膜に残存するだけでなく塗布膜にも乱されやすい。静電
界を用いた塗布では、静電気力により液膜が支持体と接
触しはじめる動的接触点の位置が変動しにくくなるの
で、塗布膜の乱れよりも気泡の残存が問題となる。
静電界の強化は、この残存気泡が小さくし少なくする効
果が有すが、絶縁強度を高める必要が有るなど、好まし
くない。
果が有すが、絶縁強度を高める必要が有るなど、好まし
くない。
静電界印加法と溶解度の高い気体として二酸化炭素で空
気を置換する方法を併用する本発明は、静電界の印加に
よつても防ぐことが実用上難しかつた気泡の残存に対し
て極めて有効である。
気を置換する方法を併用する本発明は、静電界の印加に
よつても防ぐことが実用上難しかつた気泡の残存に対し
て極めて有効である。
空気よりもはるかに塗布液への溶解度の高い気体として
二酸化炭素を用いることにより、気泡の溶解に必要な時
間を百分の一以下にすることが可能である。これによ
り、支持体と同伴してきた気体が空気ではなく二酸化炭
素に置換された場合には、二酸化炭素の気泡は瞬時に溶
解消滅するので、塗布膜には泡の残存も乱れもなくな
る。
二酸化炭素を用いることにより、気泡の溶解に必要な時
間を百分の一以下にすることが可能である。これによ
り、支持体と同伴してきた気体が空気ではなく二酸化炭
素に置換された場合には、二酸化炭素の気泡は瞬時に溶
解消滅するので、塗布膜には泡の残存も乱れもなくな
る。
本発明に使用される支持体としては、紙、プラスチツク
フイルム、レジンコーテイツド紙、合成紙等が包含され
る。プラスチツクフイルムの材質は、たとえば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合
体、6,6−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミド、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフ
タレート等のポリエステル、ポリカーボネート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセ
ルロースアセテート等が使用される。またレジンコーテ
イツド紙に用いる樹脂としては、ポリエチレンをはじめ
とするポリオレフインが代表的であるが、必ずしもこれ
に限定されない。
フイルム、レジンコーテイツド紙、合成紙等が包含され
る。プラスチツクフイルムの材質は、たとえば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合
体、6,6−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミド、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフ
タレート等のポリエステル、ポリカーボネート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセ
ルロースアセテート等が使用される。またレジンコーテ
イツド紙に用いる樹脂としては、ポリエチレンをはじめ
とするポリオレフインが代表的であるが、必ずしもこれ
に限定されない。
また、レジンコーテツド紙の表面は平滑面のみならず、
絹目、微粒面など粗面加工された面であつてよい。
絹目、微粒面など粗面加工された面であつてよい。
又、「塗布液」とは、その用途に応じて種々の液組成の
ものが含まれ、例えば、写真感光材料におけるような、
感光乳剤層、下塗層、保護層、バツク層、等の塗布液；
磁気記録媒体におけるような磁性層、下塗層、潤滑層、
保護層、バツク層、等の塗布液；その他接着剤層、着色
層、防錆層、等の塗布液が挙げられ、それら塗布液は水
溶性バインダー又は有機バインダーを含有して成つてい
る。
ものが含まれ、例えば、写真感光材料におけるような、
感光乳剤層、下塗層、保護層、バツク層、等の塗布液；
磁気記録媒体におけるような磁性層、下塗層、潤滑層、
保護層、バツク層、等の塗布液；その他接着剤層、着色
層、防錆層、等の塗布液が挙げられ、それら塗布液は水
溶性バインダー又は有機バインダーを含有して成つてい
る。
本発明は図面により説明した実施態様に限らず、広汎な
応用が可能である。
応用が可能である。
第１図及び第２図はいずれも本発明の実施態様を模式的
に示した側断面図である。 １……塗布ダイのエツジ 13……バツクアツプローラ 14……ウエブ 15……塗布部 20……同伴空気置換具としての置換室 21……気体供給源 24……電圧印加手段 26……同伴空気置換具としての気体分配管
に示した側断面図である。 １……塗布ダイのエツジ 13……バツクアツプローラ 14……ウエブ 15……塗布部 20……同伴空気置換具としての置換室 21……気体供給源 24……電圧印加手段 26……同伴空気置換具としての気体分配管
Claims (3)
- 【請求項１】連続走行しているウエブに対し、単層もし
くは複数層の塗布液をダイのスリットから流出せしめて
塗布する方法において、塗布直前において該ウエブに同
伴する空気を、該塗布液への溶解度の高い気体として二
酸化炭素と置換し、二酸化炭素が直ちに塗布液に溶解吸
収されるようにすると共に、塗布点に電界を印加するこ
とを特徴とする塗布方法。 - 【請求項２】連続走行しているウエブに対し、塗布液を
塗布する装置において、該塗布液の流出スリットを有す
る塗布ダイ及び該ウエブに近接して、同伴空気より該塗
布液への溶解度が高い気体として二酸化炭素を満たした
置換室と、塗布部において該ウエブを反塗布面から支持
する非接地型のバックアップローラとを配置し、該置換
室に二酸化炭素を供給する手段と、該バックアップロー
ラに電圧を印加する手段とを設けたことを特徴とする塗
布装置。 - 【請求項３】連続走行しているウエブに対し、塗布液を
塗布する装置において、該塗布液の流出スリットを有す
る塗布ダイ及び該ウエブに近接して、該ウエブの幅方向
全長に延びた吹出スリットを有し該塗布液への溶解度の
高い気体として二酸化炭素を満たした分配管と、塗布部
において該ウエブを反塗布面から支持する非接地型のバ
ックアップローラとを配置し、該置換室に二酸化炭素を
供給する手段と、該バックアップローラに電圧を印加す
る手段とを設けたことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61039466A JPH0736901B2 (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 塗布方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61039466A JPH0736901B2 (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 塗布方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62197176A JPS62197176A (ja) | 1987-08-31 |
| JPH0736901B2 true JPH0736901B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=12553832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61039466A Expired - Lifetime JPH0736901B2 (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 塗布方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0736901B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2849836B2 (ja) * | 1989-10-31 | 1999-01-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JP2849835B2 (ja) * | 1989-10-31 | 1999-01-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JPH0533868U (ja) * | 1991-10-14 | 1993-05-07 | 三菱重工業株式会社 | 同伴流遮断装置 |
| JP3516632B2 (ja) * | 2000-04-27 | 2004-04-05 | オリジン電気株式会社 | 光ディスク基板の貼り合わせ方法及び装置 |
| JP2011253784A (ja) * | 2010-06-04 | 2011-12-15 | Konica Minolta Holdings Inc | 塗布装置及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4457256A (en) * | 1981-01-05 | 1984-07-03 | Polaroid Corporation | Precharged web coating apparatus |
-
1986
- 1986-02-25 JP JP61039466A patent/JPH0736901B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62197176A (ja) | 1987-08-31 |
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