JPH0734228A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPH0734228A JPH0734228A JP17501293A JP17501293A JPH0734228A JP H0734228 A JPH0734228 A JP H0734228A JP 17501293 A JP17501293 A JP 17501293A JP 17501293 A JP17501293 A JP 17501293A JP H0734228 A JPH0734228 A JP H0734228A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boat
- vapor deposition
- vapor
- heating
- deposited
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大型の被蒸着体の真空容器内での保持や搬入
出を容易に行える。 【構成】 真空容器１内で、基板２の上方に、通電によ
り内部の蒸着材料Ｍを加熱溶融して上方に蒸発粒子を放
出する加熱容器７を備えた上部ボート５を配置し、この
上部ボート５の上方に、上部ボート５の上方を広範囲に
覆う反射ボート６を配置し、この反射ボート６に通電し
て反射ボート６の温度を加熱容器７と同程度に加熱する
ように構成した 【効果】 被蒸着体の上面に薄膜を形成することができ
る。
出を容易に行える。 【構成】 真空容器１内で、基板２の上方に、通電によ
り内部の蒸着材料Ｍを加熱溶融して上方に蒸発粒子を放
出する加熱容器７を備えた上部ボート５を配置し、この
上部ボート５の上方に、上部ボート５の上方を広範囲に
覆う反射ボート６を配置し、この反射ボート６に通電し
て反射ボート６の温度を加熱容器７と同程度に加熱する
ように構成した 【効果】 被蒸着体の上面に薄膜を形成することができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、たとえば装飾用金属の
光沢膜、防湿用包装紙の防湿膜や反射鏡の鏡面層などア
ルミニウム等の金属皮膜を形成する蒸着装置に関する。
光沢膜、防湿用包装紙の防湿膜や反射鏡の鏡面層などア
ルミニウム等の金属皮膜を形成する蒸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のたとえば抵抗加熱型蒸着装置は、
図４に示すように、１０-4torr以下の真空容器３１内
で、下部に配置したボート３２に電流を通電して加熱
し、ボート３２に載せた蒸発材料（ターゲット）３３を
蒸発させて、蒸気を上方に放出させ、上部で保持装置３
６に保持されてヒーター３４により加熱された基板（被
蒸着材）３５の下面に薄膜Ｆを形成するものである。
図４に示すように、１０-4torr以下の真空容器３１内
で、下部に配置したボート３２に電流を通電して加熱
し、ボート３２に載せた蒸発材料（ターゲット）３３を
蒸発させて、蒸気を上方に放出させ、上部で保持装置３
６に保持されてヒーター３４により加熱された基板（被
蒸着材）３５の下面に薄膜Ｆを形成するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記蒸着装置
は、装置の構造が簡単であるものの、基板３５の下面に
しか薄膜Ｆを形成することができない。したがって、た
とえば大型反射望遠鏡の反射鏡（被蒸着材）などに反射
膜を形成する場合、蒸着面を下方に向けてしかも蒸着面
全面が蒸発粒子に晒されるようにするため、反射鏡の保
持装置３６および搬入出装置が複雑なものとなる。ま
た、基板３５の両面に蒸着する場合、基板３５を裏返す
必要があるが、真空容器内での基板反転は、特に大形の
基板３５では困難であり、できたとしても装置が複雑で
高価なものとなる。
は、装置の構造が簡単であるものの、基板３５の下面に
しか薄膜Ｆを形成することができない。したがって、た
とえば大型反射望遠鏡の反射鏡（被蒸着材）などに反射
膜を形成する場合、蒸着面を下方に向けてしかも蒸着面
全面が蒸発粒子に晒されるようにするため、反射鏡の保
持装置３６および搬入出装置が複雑なものとなる。ま
た、基板３５の両面に蒸着する場合、基板３５を裏返す
必要があるが、真空容器内での基板反転は、特に大形の
基板３５では困難であり、できたとしても装置が複雑で
高価なものとなる。
【０００４】本発明は、上記問題点を被蒸着体の上面に
薄膜を形成することにより解決して、大型の被蒸着材で
あっても真空容器への搬入出や保持が容易に行え、さら
に日蒸着体の両面に同時に蒸着を行える蒸着装置を提供
することを目的とする。
薄膜を形成することにより解決して、大型の被蒸着材で
あっても真空容器への搬入出や保持が容易に行え、さら
に日蒸着体の両面に同時に蒸着を行える蒸着装置を提供
することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明は、真空容器内で、被蒸着材の上方に、通電
することにより内部の蒸着材料を加熱溶融して蒸発させ
上方に蒸発粒子を放出する加熱容器を備えた上部ボート
を配置し、この上部ボートの上方に、加熱容器の上方を
広範囲に覆う反射ボートを配置し、この反射ボートに通
電して反射ボートの温度を加熱容器と同程度に加熱する
ように構成したものである。
めに本発明は、真空容器内で、被蒸着材の上方に、通電
することにより内部の蒸着材料を加熱溶融して蒸発させ
上方に蒸発粒子を放出する加熱容器を備えた上部ボート
を配置し、この上部ボートの上方に、加熱容器の上方を
広範囲に覆う反射ボートを配置し、この反射ボートに通
電して反射ボートの温度を加熱容器と同程度に加熱する
ように構成したものである。
【０００６】また、上記構成に加えて、被蒸着材の下方
に、通電することにより内部の蒸着材料を加熱溶融して
蒸発させ上方に蒸発粒子を放出する加熱容器を備えた下
部ボートを配置したものである。
に、通電することにより内部の蒸着材料を加熱溶融して
蒸発させ上方に蒸発粒子を放出する加熱容器を備えた下
部ボートを配置したものである。
【０００７】
【作用】上記構成において、加熱容器から蒸発された蒸
発粒子を、同程度に加熱された反射ボートにより反射、
または付着再蒸発させて下方に放出させ、降下させた蒸
発粒子を被蒸着材の上面に被着させて上面に薄膜を形成
する。したがって、被蒸着材は上面が開放された状態で
保持するだけでよく、大型の被蒸着材であっても被蒸着
材の保持部材および真空容器への搬入出装置を簡略化す
ることができる。
発粒子を、同程度に加熱された反射ボートにより反射、
または付着再蒸発させて下方に放出させ、降下させた蒸
発粒子を被蒸着材の上面に被着させて上面に薄膜を形成
する。したがって、被蒸着材は上面が開放された状態で
保持するだけでよく、大型の被蒸着材であっても被蒸着
材の保持部材および真空容器への搬入出装置を簡略化す
ることができる。
【０００８】さらに加熱容器を被溶着材の下方に配置し
た下部ボートにより、被溶着材の下面を溶着することが
でき、同時に上下面の溶着が可能になる。
た下部ボートにより、被溶着材の下面を溶着することが
でき、同時に上下面の溶着が可能になる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明に係る蒸着装置の一実施例を図
面に基づいて説明する。図１に示すように、吸引口１ａ
が設けられた真空容器１内には、保持部材４により基板
（被蒸着材）２が保持されるとともに、必要に応じて保
持部材４に設けたヒーター（図示せず）により基板２が
加熱される被溶着材保持部Ｔが設けられている。そし
て、この被溶着材保持部Ｔの上方には、通電されて蒸発
材料（たとえばアルミニウム粒子）Ｍを加熱蒸発させる
加熱容器７を有する上部ボート５と、加熱容器７の上方
を広範囲に覆う反射ボート６とが配置された上部蒸発源
Ｒが設けられている。
面に基づいて説明する。図１に示すように、吸引口１ａ
が設けられた真空容器１内には、保持部材４により基板
（被蒸着材）２が保持されるとともに、必要に応じて保
持部材４に設けたヒーター（図示せず）により基板２が
加熱される被溶着材保持部Ｔが設けられている。そし
て、この被溶着材保持部Ｔの上方には、通電されて蒸発
材料（たとえばアルミニウム粒子）Ｍを加熱蒸発させる
加熱容器７を有する上部ボート５と、加熱容器７の上方
を広範囲に覆う反射ボート６とが配置された上部蒸発源
Ｒが設けられている。
【００１０】前記上部ボート５は、図２に示すように、
上面が開口された直方体状の加熱容器７と、加熱容器７
の上端両側からそれぞれ左右に伸びる支持板８とで構成
され、支持板８には加熱容器７に通電するリード線９が
接続されて、加熱容器７と蒸発材料Ｍのもつ抵抗によ
り、加熱容器７内の蒸発材料Ｍを加熱溶融させて蒸発さ
せ、上面開口部から上方に蒸発粒子Ｓを放出するように
構成されている。
上面が開口された直方体状の加熱容器７と、加熱容器７
の上端両側からそれぞれ左右に伸びる支持板８とで構成
され、支持板８には加熱容器７に通電するリード線９が
接続されて、加熱容器７と蒸発材料Ｍのもつ抵抗によ
り、加熱容器７内の蒸発材料Ｍを加熱溶融させて蒸発さ
せ、上面開口部から上方に蒸発粒子Ｓを放出するように
構成されている。
【００１１】また反射ボート６は、前記支持板８の上方
に所定間隔をあけて水平に支持されて矩形状で加熱容器
７の上部空間を広範囲に覆う反射板１１で構成され、リ
ード線１０を介して通電されて加熱容器７とほぼ同じ温
度に加熱されている。そして、加熱容器７から放出され
た蒸発粒子Ｓを反射させて移動方向を下方に変向させる
とともに、付着させて再度加熱蒸発させ、蒸発粒子Ｓを
下方に放出させるように構成されている。
に所定間隔をあけて水平に支持されて矩形状で加熱容器
７の上部空間を広範囲に覆う反射板１１で構成され、リ
ード線１０を介して通電されて加熱容器７とほぼ同じ温
度に加熱されている。そして、加熱容器７から放出され
た蒸発粒子Ｓを反射させて移動方向を下方に変向させる
とともに、付着させて再度加熱蒸発させ、蒸発粒子Ｓを
下方に放出させるように構成されている。
【００１２】上記構成によれば、真空容器１内の真空雰
囲気中で、上部蒸発源Ｒでは、加熱容器内の蒸着材料Ｍ
が、リード線９を介して通電され加熱容器７および蒸着
材料Ｍの持つ抵抗により加熱されて溶融される。溶融さ
れた蒸着材料Ｍは、一旦上方に放出されるが、広範囲に
覆われた反射ボート６により反射されて下方に導かれる
とともに、加熱された反射ボート６に付着した蒸発材料
が再度蒸発されて下方に放出される。これにより、蒸発
粒子Ｓが被溶着材保持部Ｔで保持材４に保持された基板
２の上面に付着されて薄膜Ｆが形成される。
囲気中で、上部蒸発源Ｒでは、加熱容器内の蒸着材料Ｍ
が、リード線９を介して通電され加熱容器７および蒸着
材料Ｍの持つ抵抗により加熱されて溶融される。溶融さ
れた蒸着材料Ｍは、一旦上方に放出されるが、広範囲に
覆われた反射ボート６により反射されて下方に導かれる
とともに、加熱された反射ボート６に付着した蒸発材料
が再度蒸発されて下方に放出される。これにより、蒸発
粒子Ｓが被溶着材保持部Ｔで保持材４に保持された基板
２の上面に付着されて薄膜Ｆが形成される。
【００１３】したがって、基板２の上面に蒸着薄膜Ｆを
形成することができるので、被蒸着材の下面に蒸着薄膜
を形成する従来構成に比べて、基板２の保持部材４を、
基板２を載置して移動を防止するだけの簡単な構造にで
き、その搬入出機構も容易に構成することができる。
形成することができるので、被蒸着材の下面に蒸着薄膜
を形成する従来構成に比べて、基板２の保持部材４を、
基板２を載置して移動を防止するだけの簡単な構造にで
き、その搬入出機構も容易に構成することができる。
【００１４】図３は基板２の上面と下面とを同時に溶着
する溶着装置を示し、上記実施例と同一部材には同一符
号を付し、説明は省略する。Ｄは被溶着材保持部Ｔの下
方に設けた下部蒸発源で、上部ボート５と同一構造の下
部ボート２１が設けられている。すなわちこの下部ボー
ト２１は、上面が開口された直方体状の加熱容器２２
と、加熱容器２２の上端両側からそれぞれ左右に伸びる
支持板２３とで構成され、支持板２３には加熱容器２２
に通電するリード線２４が接続されて、加熱容器２２と
蒸発材料のもつ抵抗により、加熱容器２２内の蒸発材料
Ｍを加熱溶融させて蒸発させ、上面開口部から上方に蒸
発粒子Ｓを放出するように構成されている。
する溶着装置を示し、上記実施例と同一部材には同一符
号を付し、説明は省略する。Ｄは被溶着材保持部Ｔの下
方に設けた下部蒸発源で、上部ボート５と同一構造の下
部ボート２１が設けられている。すなわちこの下部ボー
ト２１は、上面が開口された直方体状の加熱容器２２
と、加熱容器２２の上端両側からそれぞれ左右に伸びる
支持板２３とで構成され、支持板２３には加熱容器２２
に通電するリード線２４が接続されて、加熱容器２２と
蒸発材料のもつ抵抗により、加熱容器２２内の蒸発材料
Ｍを加熱溶融させて蒸発させ、上面開口部から上方に蒸
発粒子Ｓを放出するように構成されている。
【００１５】したがって、基板２の下面も開放させる保
持部材４′に保持された基板２を、下方から蒸着させる
ことができ、上部蒸発源Ｒと下部蒸発源Ｄとで基板２の
上面と下面とを同時に蒸着して薄膜Ｆを形成することが
できる。
持部材４′に保持された基板２を、下方から蒸着させる
ことができ、上部蒸発源Ｒと下部蒸発源Ｄとで基板２の
上面と下面とを同時に蒸着して薄膜Ｆを形成することが
できる。
【００１６】なお、上記実施例では、被溶着材保持部Ｔ
に保持された基板２（被蒸着材）は固定状態で説明した
が、基板２を所定速度で移動させて連続して蒸着を行え
るように構成することもできる。
に保持された基板２（被蒸着材）は固定状態で説明した
が、基板２を所定速度で移動させて連続して蒸着を行え
るように構成することもできる。
【００１７】
【発明の効果】以上に述べたごとく本発明によれば、加
熱容器から蒸発された蒸発粒子を、同程度に加熱された
反射ボートにより反射、または付着再蒸発させて下方に
放出させ、降下させた蒸発粒子を被蒸着材の上面に被着
させて上面に薄膜を形成する。したがって、被蒸着材は
上面が開放された状態で保持部材に保持させるだけでよ
く、大型の被蒸着材であっても被蒸着材の保持部材およ
び真空容器への搬入出装置を簡素化することができる。
熱容器から蒸発された蒸発粒子を、同程度に加熱された
反射ボートにより反射、または付着再蒸発させて下方に
放出させ、降下させた蒸発粒子を被蒸着材の上面に被着
させて上面に薄膜を形成する。したがって、被蒸着材は
上面が開放された状態で保持部材に保持させるだけでよ
く、大型の被蒸着材であっても被蒸着材の保持部材およ
び真空容器への搬入出装置を簡素化することができる。
【００１８】さらに、被溶着材の下方に下部ボートを設
けることにより、被溶着材の下面を溶着することがで
き、同時に上下面の溶着が可能となる。したがって、真
空容器内で被蒸着材の反転が不要になり、設備コストお
よび製造コストとも大幅に低減することかできる。
けることにより、被溶着材の下面を溶着することがで
き、同時に上下面の溶着が可能となる。したがって、真
空容器内で被蒸着材の反転が不要になり、設備コストお
よび製造コストとも大幅に低減することかできる。
【図１】本発明に係る蒸着装置の一実施例を示す構成図
である。
である。
【図２】同蒸着装置の下部ボートと反射ボートを示す一
部切欠き斜視図である。
部切欠き斜視図である。
【図３】本発明に係る蒸着装置の他の実施例を示す構成
図である。
図である。
【図４】従来の蒸着装置を示す構成図である。
１ 真空容器 １ａ 吸引口 ２ 基板 ４，４′ 保持部材 ５ 下部ボート ６ 反射ボート ７ 加熱容器 11 反射板 21 下部ボート 22 加熱容器 Ｍ 蒸着材料 Ｓ 蒸発粒子 Ｆ 蒸着薄膜 Ｔ 被溶着材保持部 Ｒ 上部蒸発源 Ｄ 下部蒸発源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前畑 英彦 大阪府大阪市此花区西九条５丁目３番28号 日立造船株式会社内 (72)発明者 鈴木 基光 大阪府大阪市此花区西九条５丁目３番28号 日立造船株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 真空容器内で、保持部材に支持された被
蒸着材の上方に、通電することにより内部の蒸着材料を
加熱溶融して蒸発させ上方に蒸発粒子を放出する加熱容
器を備えた上部ボートを配置し、この上部ボートの上方
に、加熱容器の上方を広範囲に覆う反射ボートを配置
し、この反射ボートに通電して反射ボートの温度を加熱
容器と同程度に加熱するように構成したことを特徴とす
る蒸着装置。 - 【請求項２】 被蒸着材の下方に、通電することにより
内部の蒸着材料を加熱溶融して蒸発させ上方に蒸発粒子
を放出する加熱容器を備えた下部ボートを配置したこと
を特徴とする請求項１記載の蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17501293A JPH0734228A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17501293A JPH0734228A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0734228A true JPH0734228A (ja) | 1995-02-03 |
Family
ID=15988678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17501293A Pending JPH0734228A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0734228A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002343563A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-29 | Sony Corp | 真空成膜方法および真空成膜装置 |
| WO2013028977A2 (en) * | 2011-08-24 | 2013-02-28 | Mustang Vacuum Systems, Inc. | Apparatus and method for the evaporation and deposition of materials |
-
1993
- 1993-07-15 JP JP17501293A patent/JPH0734228A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002343563A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-29 | Sony Corp | 真空成膜方法および真空成膜装置 |
| WO2013028977A2 (en) * | 2011-08-24 | 2013-02-28 | Mustang Vacuum Systems, Inc. | Apparatus and method for the evaporation and deposition of materials |
| WO2013028977A3 (en) * | 2011-08-24 | 2013-05-10 | Mustang Vacuum Systems, Inc. | Apparatus and method for the evaporation and deposition of materials |
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