JPH0729453A - Transparent touch panel and its manufacture - Google Patents
Transparent touch panel and its manufactureInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えばLCD(Liquid
Crystal Display) 、PDP(Plasma Display Panel)
およびEL(Electro Luminescent)等のディスプレイの
前面に配置して使用される抵抗膜式の透明タッチパネル
とその製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention is applied to, for example, an LCD (Liquid Liquid).
Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel)
The present invention also relates to a resistance film type transparent touch panel used by being arranged on the front surface of a display such as an EL (Electro Luminescent) and a manufacturing method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、LCD、PDPおよびEL等
のディスプレイの前面に配置され、表面を押圧操作する
ことにより入力操作を行う透明タッチパネルでは、この
透明タッチパネルを構成する2枚の透明電極基板の間に
スペーサを形成することにより非入力時での絶縁状態を
保つようになっている。2. Description of the Related Art Conventionally, in a transparent touch panel which is arranged on the front surface of a display such as an LCD, PDP and EL and which performs an input operation by pressing the surface, two transparent electrode substrates constituting this transparent touch panel are used. By forming a spacer between them, the insulation state is maintained when there is no input.
【0003】一般に、上記のスペーサとしてフォトレジ
ストが使用されている。このフォトレジストは、例えば
ロールコータ法により透明電極基板に塗布され、露光・
現像することにより所望のパターンを有するスペーサに
形成される。ところが、上記のロールコータ法では、フ
ォトレジストを透明電極基板上に、0.5〜2.0μm
程度の膜厚にしか塗布することができず、形成されるス
ペーサの厚みも0.5〜2.0μm程度となるので、透
明電極基板間の絶縁状態を良好に保つには不十分なもの
となっている。Generally, a photoresist is used as the spacer. This photoresist is applied to a transparent electrode substrate by, for example, a roll coater method, and exposed / exposed.
By developing, a spacer having a desired pattern is formed. However, in the roll coater method described above, the photoresist is applied on the transparent electrode substrate by 0.5 to 2.0 μm.
Since it can be applied only to a film thickness of about 0.5 to 2.0 μm, the spacer formed is not sufficient to maintain a good insulating state between the transparent electrode substrates. Has become.
【0004】一方、透明電極基板間の絶縁状態を良好に
保つには、例えばスクリーン印刷機等により透明電極基
板上に所望するパターンのスペーサを印刷する方法が考
えられる。この方法によれば、スペーサの厚みを15〜
50μm程度にすることが可能となり、前記のロールコ
ータ法による膜厚よりも厚いスペーサを形成することが
でき、透明電極基板間の絶縁状態を良好に保つことがで
きる。On the other hand, in order to maintain a good insulation state between the transparent electrode substrates, for example, a method of printing a spacer having a desired pattern on the transparent electrode substrates by a screen printer or the like can be considered. According to this method, the thickness of the spacer is 15 to
The thickness can be about 50 μm, a spacer thicker than the film thickness obtained by the roll coater method can be formed, and the insulating state between the transparent electrode substrates can be kept good.
【0005】ところが、印刷時に透明電極基板間にゴミ
等が入り込む虞れがあり、また、印刷機の印刷版の形状
によりスペーサを平滑で均一な厚みにすることが困難と
なる。また、上記のスクリーン印刷機では、スペーサの
厚みの増大にともなって、スペーサの大きさも大きくな
るので、このスペーサによる入力不可部分が大きくなる
という問題が生じる。However, there is a risk that dust or the like will enter between the transparent electrode substrates during printing, and it will be difficult to make the spacers smooth and uniform due to the shape of the printing plate of the printing machine. Further, in the above-mentioned screen printing machine, the size of the spacer also increases as the thickness of the spacer increases, so that there is a problem that an uninputtable portion by the spacer becomes large.
【0006】そこで、例えば特開平4−162318号
公報には、図4および図5に示すように、透明可動電極
基板13に形成された透明電極12と透明固定電極基板
14に形成された透明基板12との間に、フォトレジス
ト15にプラスチックビーズ16を混入したものをスペ
ーサとして使用した透明タッチパネル11が開示されて
いる。Therefore, for example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-162318, as shown in FIGS. 4 and 5, a transparent electrode 12 formed on a transparent movable electrode substrate 13 and a transparent substrate formed on a transparent fixed electrode substrate 14. 12 and 12, a transparent touch panel 11 using a mixture of photoresist 15 and plastic beads 16 as a spacer is disclosed.
【0007】上記の透明タッチパネル11では、膜厚
0.5〜2.0μm、ドット角100μm、ピッチ50
0μmのパターンに形成されたフォトレジスト15に、
直径2〜15μmのプラスチックビーズ16を混入させ
ているので、入力不可部分を小さくし、透明可動電極基
板13と透明固定電極基板14との絶縁状態を良好にし
ている。The transparent touch panel 11 has a film thickness of 0.5 to 2.0 μm, a dot angle of 100 μm, and a pitch of 50.
On the photoresist 15 formed in the pattern of 0 μm,
Since the plastic beads 16 having a diameter of 2 to 15 μm are mixed, the non-inputtable portion is made small and the insulating state between the transparent movable electrode substrate 13 and the transparent fixed electrode substrate 14 is made good.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の透明
タッチパネル11では、フォトレジスト15に混入され
たプラスチックビーズ16を均一に混入させることが難
しく、透明可動電極基板13と透明固定電極基板14と
の間隔を一定にすることができず、このため、非入力時
での絶縁状態を良好に保つことができなくなる。これに
よって、均一な応力により各透明電極基板を接触させる
ことができなくなり、安定した入力を行うことができな
いという問題が生じる。However, in the above-mentioned transparent touch panel 11, it is difficult to uniformly mix the plastic beads 16 mixed in the photoresist 15, so that the transparent movable electrode substrate 13 and the transparent fixed electrode substrate 14 are combined. It is not possible to make the interval constant, which makes it impossible to maintain a good insulation state when there is no input. As a result, it becomes impossible to bring the respective transparent electrode substrates into contact with each other due to uniform stress, which causes a problem that stable input cannot be performed.
【0009】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
であって、その目的は、非入力時での絶縁状態を良好に
保ち、安定した入力が可能となるような透明タッチパネ
ルとその製造方法を提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a transparent touch panel which can maintain a good insulation state when no input is made and enables stable input, and a manufacturing method thereof. To provide.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】請求項1の透明タッチパ
ネルは、2枚の透明電極基板の間に、フォトレジストか
らなるスペーサを有した透明タッチパネルにおいて、上
記フォトレジストが、電着性を有していることを特徴と
している。According to a first aspect of the present invention, there is provided a transparent touch panel having a spacer made of a photoresist between two transparent electrode substrates, wherein the photoresist has an electrodeposition property. It is characterized by
【0011】また、請求項2の透明タッチパネルの製造
方法は、少なくとも一方の透明電極基板上に電着性を有
するフォトレジストを電着処理して塗布する工程と、フ
ォトレジストの塗布された透明電極基板に、少なくとも
スペーサ部に対応するパターンを露光・現像する工程と
を少なくとも含んでいることを特徴としている。The method of manufacturing a transparent touch panel according to a second aspect of the present invention comprises a step of applying a photoresist having an electrodeposition property to at least one transparent electrode substrate by electrodeposition treatment and applying the photoresist, and a transparent electrode coated with the photoresist. The substrate is characterized by including at least a step of exposing and developing a pattern corresponding to the spacer portion.
【0012】[0012]
【作用】請求項1の構成によれば、フォトレジストが電
着性を有することで、電着処理によりフォトレジストを
透明電極基板に塗布することができる。これによって、
塗布されるフォトレジストの膜厚を厚くすることができ
るので、透明電極基板間の絶縁状態を良好なものとする
のに十分な間隙を設けることができる。また、スペーサ
がフォトレジストにより形成されるので、その断面が急
峻なものとすることができ、スペーサの大きさ(ドット
角)を小さくすることができる。これによって、透明タ
ッチパネルでのスペーサによる入力不可部分を小さくす
ることができるので、入力分解能の向上を図ることがで
きる。したがって、透明タッチパネルの面内において均
一な応力で入力することができるので、安定した入力を
可能にしている。According to the structure of the first aspect, since the photoresist has the electrodeposition property, the photoresist can be applied to the transparent electrode substrate by the electrodeposition treatment. by this,
Since the thickness of the applied photoresist can be increased, a sufficient gap can be provided to make the insulating state between the transparent electrode substrates good. Further, since the spacer is made of photoresist, its cross section can be made steep and the size (dot angle) of the spacer can be reduced. As a result, it is possible to reduce the non-inputtable portion of the transparent touch panel due to the spacer, so that it is possible to improve the input resolution. Therefore, it is possible to input with a uniform stress on the surface of the transparent touch panel, which enables stable input.
【0013】また、請求項2の構成によれば、少なくと
も一方の透明電極基板上に電着性を有するフォトレジス
トを電着処理して塗布する工程と、フォトレジストが塗
布された透明電極基板に、少なくともスペーサ部に対応
するパターンを露光・現像する工程とにより、従来、透
明電極基板間の間隙を大きくするために行われていた工
程、例えばフォトレジストを塗布した後、プラスチック
ビーズを混入する工程を必要とせず、フォトレジストの
塗布およびその露光・現像だけで、膜厚が厚く微細なス
ペーサを形成することができるので、製造工程の短縮化
を図ることができる。これによって、非入力時での絶縁
状態が良好で、入力安定性の高い透明タッチパネルを容
易に製造することができる。According to a second aspect of the present invention, a step of electrodeposition-treating a photoresist having an electrodeposition property on at least one transparent electrode substrate and applying the photoresist, and the step of applying the photoresist to the transparent electrode substrate. , A step that has been conventionally performed to increase the gap between the transparent electrode substrates by exposing and developing a pattern corresponding to at least the spacer portion, for example, a step of coating plastic beads and then mixing plastic beads It is possible to form a fine spacer having a large film thickness only by applying a photoresist and exposing / developing the photoresist without the need for a manufacturing process. This makes it possible to easily manufacture a transparent touch panel that has a good insulation state when not input and has high input stability.
【0014】[0014]
【実施例】本発明の一実施例について図1ないし図3に
基づいて説明すれば、以下の通りである。尚、本実施例
では、アナログ式の透明タッチパネルについての説明を
行う。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The following will describe one embodiment of the present invention with reference to FIGS. In this embodiment, an analog transparent touch panel will be described.
【0015】図2に示すように、本実施例に係る透明タ
ッチパネル1は、透明電極基板としての上側の透明可動
電極基板(以下、上側可動電極基板と称する)3と下側
の透明固定電極基板(以下、下側固定電極基板と称す
る)4とを有し、これら上側可動電極基板3と下側固定
電極基板4との間には、電着性を有するフォトレジスト
(以下、電着フォトレジストと称する)からなるスペー
サ5が、図1に示すように、所定のパターンで形成され
ている。As shown in FIG. 2, the transparent touch panel 1 according to the present embodiment includes an upper transparent movable electrode substrate (hereinafter referred to as an upper movable electrode substrate) 3 as a transparent electrode substrate and a lower transparent fixed electrode substrate. (Hereinafter, referred to as a lower fixed electrode substrate) 4, and a photoresist having an electrodeposition property (hereinafter, electrodeposited photoresist) between the upper movable electrode substrate 3 and the lower fixed electrode substrate 4. 5) is formed in a predetermined pattern, as shown in FIG.
【0016】上記の上側可動電極基板3は、所定の電極
パターンを有するITO(Indium Tin Oxide) 膜(以
下、透明電極と称する)2が形成された厚さ125μm
のノングレアハードコート付きのPET(Polyethylene
Terephthalate)フィルムで構成されている。The upper movable electrode substrate 3 has a thickness of 125 μm on which an ITO (Indium Tin Oxide) film (hereinafter referred to as a transparent electrode) 2 having a predetermined electrode pattern is formed.
PET (Polyethylene with non-glare hard coat
Terephthalate) film.
【0017】また、上記の上側固定電極基板4は、IT
O膜、即ち透明電極2が全面に形成された厚さ1.1m
mのガラス板からなる。尚、この上側固定電極基板4の
底面側が、例えばLCD、PDPおよびEL等のディス
プレイの前面に対向するように配置される。The upper fixed electrode substrate 4 is made of IT.
O film, that is, transparent electrode 2 is formed on the entire surface and has a thickness of 1.1 m.
It consists of m glass plate. The bottom surface side of the upper fixed electrode substrate 4 is arranged so as to face the front surface of a display such as an LCD, PDP or EL.
【0018】また、上記のスペーサ5は、ネガ型の電着
フォトレジストが、電着処理により所定の膜厚、例えば
5μmで下側固定電極基板4上に塗布され、例えば50
μm角ドット、500μmピッチのパターンで露光・現
像され、形成される。このスペーサ5…は、上記の下側
可動電極基板4と上側可動電極基板3との間隙を十分に
設けて、絶縁状態を良好に保つようにしている。The spacer 5 is formed by applying a negative-type electrodeposited photoresist on the lower fixed electrode substrate 4 with a predetermined film thickness, for example, 5 μm, by electrodeposition, for example, 50.
It is formed by exposing and developing with a pattern of μm square dots and a pitch of 500 μm. The spacers 5 ... Provide a sufficient gap between the lower movable electrode substrate 4 and the upper movable electrode substrate 3 to maintain a good insulating state.
【0019】ここで、上記の透明タッチパネル1の製造
について図3を参照しながら、以下に説明する。The manufacture of the transparent touch panel 1 will be described below with reference to FIG.
【0020】先ず、上側可動電極基板3を以下の工程に
より製作する。始めに、透明基板として厚みが125μ
mのノングレアハードコート付きPETフィルムを製造
装置内に受け入れる(工程A)。First, the upper movable electrode substrate 3 is manufactured by the following steps. First, the thickness of the transparent substrate is 125μ
The PET film with m non-glare hard coat is received in the manufacturing apparatus (step A).
【0021】次に、上記の製造装置内で受け入れたPE
Tフィルムの一面側に、真空蒸着法等により透明電極2
としてのITO膜を形成する(工程B)。Next, the PE received in the above manufacturing apparatus
A transparent electrode 2 is formed on one side of the T film by a vacuum deposition method or the like.
Forming an ITO film (step B).
【0022】その後、上記のITO膜上にAg印刷を行
い、その表面にAg膜を形成する(工程C)。次いで、
このAg膜の上に、カーボン印刷を行い、その表面にカ
ーボン膜を形成する(工程D)。Thereafter, Ag printing is performed on the ITO film to form an Ag film on the surface thereof (step C). Then
Carbon printing is performed on the Ag film to form a carbon film on the surface (step D).
【0023】次に、所定の電極パターンを有する絶縁パ
ターンを上記のカーボン膜上に印刷する(工程E)。そ
して、この上側可動電極基板3と下側固定電極基板4と
を貼り付けるために、上記の上側可動電極基板3の縁部
側に両面テープを貼り付ける(工程F)。Next, an insulating pattern having a predetermined electrode pattern is printed on the carbon film (step E). Then, in order to attach the upper movable electrode substrate 3 and the lower fixed electrode substrate 4, a double-sided tape is attached to the edge side of the upper movable electrode substrate 3 (step F).
【0024】その後、上記の絶縁パターンに沿ってAg
のスポッティングを行い所望する電極パターンを形成す
る(工程G)。After that, Ag is deposited along the above insulating pattern.
To form a desired electrode pattern (step G).
【0025】次に、下側固定電極基板4を以下の工程に
より製作する。始めに、透明基板としての厚みが1.1
mmのガラス板を製造装置内に受け入れる(工程H)。Next, the lower fixed electrode substrate 4 is manufactured by the following steps. First, the thickness of the transparent substrate is 1.1.
A mm glass plate is received in the manufacturing apparatus (step H).
【0026】次に、上記のガラス板の一面側に、真空蒸
着法等により透明電極としてのITO膜を形成する(工
程I)。Next, an ITO film as a transparent electrode is formed on one surface of the above glass plate by a vacuum deposition method or the like (step I).
【0027】その後、上記のガラス電極基板を陽極と
し、ステンレス板を陰極としてネガ型の電着フォトレジ
スト液の満たされた電着槽に浸されて電着処理が行わ
れ、ガラス電極基板のITO膜上に、所定の膜厚のフォ
トレジストが塗布される(工程J)。尚、上記のフォト
レジストは、5μm程度の膜厚で塗布される。After that, the above glass electrode substrate is used as an anode, and a stainless steel plate is used as a cathode. The glass plate is immersed in an electrodeposition tank filled with a negative type electrodeposition photoresist solution to carry out electrodeposition treatment, and the ITO of the glass electrode substrate is subjected. A photoresist having a predetermined film thickness is applied on the film (step J). The photoresist is applied with a film thickness of about 5 μm.
【0028】そして、上記のガラス電極基板に塗布され
たフォトレジストが乾燥した後、スペーサ5のパターン
として50μm角ドット・500μmピッチのパターン
を有するフォトマスクにより露光し、未露光部分を現像
除去し、露光された部分のフォトレジストを170℃で
60分間キュアし、50μm角ドット、5μm厚のスペ
ーサ5を形成する(工程K)。After the photoresist applied to the glass electrode substrate is dried, it is exposed by a photomask having a pattern of 50 μm square dots and a pitch of 500 μm as a pattern of the spacer 5, and the unexposed portion is developed and removed, The exposed portion of the photoresist is cured at 170 ° C. for 60 minutes to form 50 μm square dots and 5 μm thick spacers 5 (step K).
【0029】次に、上記のスペーサ5が形成されたガラ
ス電極基板上にAg印刷を行う(工程L)。Next, Ag printing is performed on the glass electrode substrate on which the spacer 5 is formed (step L).
【0030】次いで、上記の各工程により形成された上
側可動電極基板3と下側固定電極基板4とをそれぞれの
透明電極2が対向するように、上側可動電極基板3に貼
付された両面テープにより貼り付ける。Then, the upper movable electrode substrate 3 and the lower fixed electrode substrate 4 formed by the above-mentioned steps are attached to the upper movable electrode substrate 3 by a double-sided tape so that the transparent electrodes 2 face each other. paste.
【0031】尚、上記の上側可動電極基板3の製造工程
である工程A〜Gと下側固定電極基板4の製造工程であ
る工程H〜Lは、何方の製造工程を先に行っても良く、
また、並列に行っても良い。Any of the manufacturing steps of the upper movable electrode substrate 3, steps A to G, and the lower fixed electrode substrate 4, steps H to L, may be performed first. ,
Moreover, you may go in parallel.
【0032】以上の製造工程により製造された透明タッ
チパネル1は、フォトレジストが電着性を有すること
で、電着処理によりフォトレジストを透明電極基板に塗
布することができる。これによって、塗布されるフォト
レジストの膜厚を厚くすることができるので、スペーサ
の厚みを厚くすることができ、非入力時での透明電極基
板間の絶縁状態を良好なものとするのに十分な間隙を設
けることができる。In the transparent touch panel 1 manufactured by the above manufacturing process, since the photoresist has the electrodeposition property, the photoresist can be applied to the transparent electrode substrate by the electrodeposition treatment. As a result, the thickness of the photoresist to be applied can be increased, so that the thickness of the spacer can be increased, and it is sufficient to improve the insulation state between the transparent electrode substrates when no input is applied. A wide gap can be provided.
【0033】また、スペーサ5がフォトレジストにより
形成されるので、その断面が急峻なものとすることがで
き、スペーサ5のドット角を小さくすることができる。
これによって、透明タッチパネルでのスペーサによる入
力不可部分を小さくすることができる。Further, since the spacer 5 is made of photoresist, its cross section can be made steep and the dot angle of the spacer 5 can be made small.
As a result, it is possible to reduce the non-inputtable portion due to the spacer on the transparent touch panel.
【0034】したがって、透明タッチパネルの面内にお
いて均一な応力で入力することができるので、常に安定
した入力を行うことができ、また、スペーサ5自身によ
る入力不可部分を小さく形成することができるので、入
力分解能を向上させることができる。Therefore, since it is possible to input with a uniform stress on the surface of the transparent touch panel, stable input can be performed at all times, and the non-inputtable portion by the spacer 5 itself can be formed small. The input resolution can be improved.
【0035】また、上記の製造方法によれば、スペーサ
5の厚みを大きくするための工程を必要とせず、フォト
レジストの塗布およびその露光・現像だけで、膜厚が厚
く微細なスペーサ5を形成することができるので、別に
スペーサの厚みを向上させるための工程を必要とせず、
製造工程の短縮化を図ることができる。これによって、
非入力時での絶縁状態を良好に保ち、入力安定性の高い
透明タッチパネルを容易に製造することができる。Further, according to the above-mentioned manufacturing method, the step of increasing the thickness of the spacer 5 is not required, and the fine spacer 5 having a large film thickness is formed only by coating the photoresist and exposing / developing the photoresist. Therefore, it is not necessary to separately increase the thickness of the spacer,
The manufacturing process can be shortened. by this,
It is possible to easily manufacture a transparent touch panel having high input stability while maintaining a good insulation state when no input is made.
【0036】尚、本実施例において、上側可動電極基板
3の表面、即ち押圧操作面には、ノングレアハードコー
ト処理を施しているが、これに限定されることなく、例
えばハードコート処理のみでも良く、また、反射防止処
理等を施しても良い。In this embodiment, the surface of the upper movable electrode substrate 3, that is, the pressing operation surface is subjected to the non-glare hard coat treatment, but the present invention is not limited to this, and for example, only the hard coat treatment may be applied. Also, antireflection treatment or the like may be performed.
【0037】また、透明タッチパネル1をLCD等のデ
ィスプレイ上に配置して使用するようになっているが、
これに限定されることなく、例えば液晶ディスプレイと
一体的に形成され、この液晶ディスプレイの上側偏光板
が、上記の上側可動電極基板3の代わりに配置されても
良い。Further, the transparent touch panel 1 is arranged and used on a display such as an LCD.
For example, the upper polarizing plate of the liquid crystal display may be formed instead of the upper movable electrode substrate 3 without being limited to this.
【0038】また、本実施例では、上側可動電極基板3
を構成する基体としてPETフィルムを使用している
が、これに限定されることなく、靭性を有し表面にノン
グレア処理等を施すことが可能な例えば薄板ガラスを用
いても良い。また、下側固定電極基板4を構成する基体
としてガラス板を用いているが、これに限定されること
なく、例えば電着処理に耐え得る、例えばポリカーボネ
イト、アクリル等を用いても良い。また、電着フォトレ
ジストの型として、ポジ型・ネガ型いずれを用いても良
く、透明電極としてITO膜の代わりにSiO2 膜、あ
るいはこれら金属の複合体からなる膜等を用いても良
い。Further, in this embodiment, the upper movable electrode substrate 3
Although the PET film is used as the substrate constituting the above, the present invention is not limited to this, and for example, thin glass which has toughness and whose surface can be subjected to non-glare treatment or the like may be used. Further, although the glass plate is used as the substrate forming the lower fixed electrode substrate 4, the substrate is not limited to this and may be, for example, polycarbonate, acrylic or the like that can withstand the electrodeposition process. Further, either positive type or negative type may be used as the type of the electrodeposition photoresist, and a SiO 2 film or a film composed of a composite of these metals may be used as the transparent electrode instead of the ITO film.
【0039】また、上側可動電極基板3の製造方法は、
上記の工程A〜工程Gまでに限定することなく、他の工
程により製造しても良い。The method of manufacturing the upper movable electrode substrate 3 is as follows.
It may be manufactured by other processes without being limited to the above processes A to G.
【0040】また、本発明は、上記のアナログ式透明タ
ッチパネルに適用されるだけでなく、例えば、マトリッ
クス式透明タッチパネルにおいても使用することが考え
られる。Further, the present invention can be applied not only to the above analog type transparent touch panel but also to a matrix type transparent touch panel, for example.
【0041】この場合、一方の透明電極基板にマトリッ
クパターンを形成するために、ポジ型の電着フォトレジ
ストを使用し、上記マトリックスパターンに対応するフ
ォトマスクを使用し、露光・現像・電極エッチングを行
う。そして、この透明電極基板上に残留した電着フォト
レジストに対して、スペーサのパターンに対応するフォ
トマスクを使用し、露光・現像し、電着フォトレジスト
からなるスペーサが形成される。これによって、このス
ペーサは、他方の透明電極基板に形成される電極パター
ンに対向する位置に形成される。In this case, in order to form a matrix pattern on one transparent electrode substrate, a positive electrodeposition photoresist is used, and a photomask corresponding to the above matrix pattern is used to perform exposure, development and electrode etching. To do. Then, the electrodeposited photoresist remaining on the transparent electrode substrate is exposed and developed using a photomask corresponding to the spacer pattern to form spacers made of the electrodeposited photoresist. As a result, the spacer is formed at a position facing the electrode pattern formed on the other transparent electrode substrate.
【0042】従来、このようなマトリックス式透明タッ
チパネルでは、透明電極基板に電極パターンを形成する
ために、通常の電着性のないフォトレジストを使用して
いた。この場合、透明電極基板上に塗布されるフォトレ
ジストの膜厚が0.5〜2.0μm程度であり、このフ
ォトレジストをそのままパターン化してスペーサとして
使用することができず、別にスペーサをスクリーン印刷
等により形成する必要があった。Conventionally, in such a matrix type transparent touch panel, in order to form an electrode pattern on a transparent electrode substrate, a usual photoresist having no electrodeposition property has been used. In this case, the film thickness of the photoresist applied on the transparent electrode substrate is about 0.5 to 2.0 μm, and this photoresist cannot be patterned as it is to be used as a spacer. It was necessary to form them.
【0043】ところが、上記の製造方法では、電極パタ
ーンの形成とスペーサの形成に使用されるフォトレジス
トの塗布工程が一回で済むので、透明タッチパネルの製
造工程を短縮することができる。また、この形成された
スペーサは、その断面の急峻性により、従来のスクリー
ン印刷により形成されたアクリル・エポキシ系樹脂のス
ペーサに比べて、その存在が目立たない。However, in the above-mentioned manufacturing method, since the coating process of the photoresist used for forming the electrode pattern and the spacer is completed only once, the manufacturing process of the transparent touch panel can be shortened. Further, the presence of the formed spacer is less conspicuous than the spacer of acrylic / epoxy resin formed by the conventional screen printing due to the steepness of the cross section.
【0044】これにより、透明タッチパネルの視認性を
向上させることができ、操作性をも向上させることがで
きる。As a result, the visibility of the transparent touch panel can be improved and the operability can be improved.
【0045】[0045]
【発明の効果】請求項1の透明タッチパネルは、以上の
ように、2枚の透明電極基板の間にフォトレジストによ
ってスペーサを形成してなる透明タッチパネルにおい
て、上記フォトレジストが、電着性を有する構成であ
る。As described above, the transparent touch panel of claim 1 is a transparent touch panel in which a spacer is formed between two transparent electrode substrates by a photoresist, and the photoresist has an electrodeposition property. It is a composition.
【0046】これにより、塗布されるフォトレジストの
膜厚を厚くすることができるとともに、スペーサの大き
さ(ドット角)を小さくすることができるので、非入力
時での透明電極基板間の絶縁状態を良好に保ち、スペー
サによる入力不可部分を小さくすることができる。As a result, the thickness of the applied photoresist can be increased and the size (dot angle) of the spacer can be reduced, so that the insulating state between the transparent electrode substrates when no input is made can be achieved. Can be kept good and the non-inputtable portion by the spacer can be made small.
【0047】したがって、透明タッチパネルの入力分解
能を向上させるとともに、入力安定性を向上させること
ができるという効果を奏する。Therefore, it is possible to improve the input resolution of the transparent touch panel and the input stability.
【0048】また、請求項2の透明タッチパネルの製造
方法は、以上のように、少なくとも一方の透明電極基板
上に電着フォトレジストを電着処理して塗布する工程
と、フォトレジストが塗布された透明電極基板に、少な
くともスペーサ部に対応するパターンを露光・現像する
工程とが含まれている構成である。Further, in the method for manufacturing the transparent touch panel according to the second aspect, as described above, the step of applying the electrodeposition photoresist by the electrodeposition treatment on at least one of the transparent electrode substrates and applying the photoresist. The transparent electrode substrate includes at least a step of exposing and developing a pattern corresponding to the spacer portion.
【0049】これにより、透明電極基板間の間隙を大き
くするための工程を必要とせず、フォトレジストの塗布
およびその露光・現像だけで、膜厚が厚く微細なスペー
サを形成することができるので、製造工程の短縮化を図
ることができる。As a result, a fine spacer having a large film thickness can be formed only by applying a photoresist and exposing / developing it without requiring a step for increasing the gap between the transparent electrode substrates. The manufacturing process can be shortened.
【0050】したがって、非入力時での絶縁状態が良好
で、入力安定性の高い透明タッチパネルを容易に製造す
ることができるという効果を奏する。Therefore, it is possible to easily manufacture a transparent touch panel which has a good insulation state when no input is made and has high input stability.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本発明の一実施例の透明タッチパネルの平面図
である。FIG. 1 is a plan view of a transparent touch panel according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1に示す透明タッチパネルの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the transparent touch panel shown in FIG.
【図3】図1に示す透明タッチパネルの製造工程図であ
る。FIG. 3 is a manufacturing process diagram of the transparent touch panel shown in FIG. 1.
【図4】従来の透明タッチパネルの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a conventional transparent touch panel.
【図5】図4に示す透明タッチパネルの断面図である。5 is a cross-sectional view of the transparent touch panel shown in FIG.
1 透明タッチパネル 2 透明電極 3 上側可動電極基板(透明電極基板) 4 下側固定電極基板(透明電極基板) 5 電着フォトレジスト 1 transparent touch panel 2 transparent electrode 3 upper movable electrode substrate (transparent electrode substrate) 4 lower fixed electrode substrate (transparent electrode substrate) 5 electrodeposited photoresist
Claims (2)
トからなるスペーサを有した透明タッチパネルにおい
て、 上記フォトレジストが、電着性を有していることを特徴
とする透明タッチパネル。1. A transparent touch panel having a spacer made of photoresist between two transparent electrode substrates, wherein the photoresist has electrodeposition.
を有するフォトレジストを電着処理して塗布する工程
と、 フォトレジストが塗布された透明電極基板に、少なくと
もスペーサ部に対応するパターンを露光・現像する工程
とを少なくとも含んでいることを特徴とする透明タッチ
パネルの製造方法。2. A step of electrodepositing a photoresist having an electrodeposition property on at least one transparent electrode substrate and applying the photoresist, and forming a pattern corresponding to at least the spacer portion on the transparent electrode substrate on which the photoresist is applied. A method for manufacturing a transparent touch panel, which comprises at least a step of exposing and developing.
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Publication Number | Publication Date |
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JPH0729453A true JPH0729453A (en) | 1995-01-31 |
JP2968416B2 JP2968416B2 (en) | 1999-10-25 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5680160A (en) * | 1995-02-09 | 1997-10-21 | Leading Edge Industries, Inc. | Touch activated electroluminescent lamp and display switch |
JP2000356715A (en) * | 1999-04-13 | 2000-12-26 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Polalizer integrated with transparent conductive film, touch panel integrated with the polarizer and flat panel display integrated with the touch panel |
KR100300432B1 (en) * | 1999-06-23 | 2001-11-01 | 김순택 | fabrication method of the touch panel |
JP2010015487A (en) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Citizen Electronics Co Ltd | Transparent electrode, method for forming the electrode, and display device using the method |
-
1993
- 1993-07-08 JP JP16904893A patent/JP2968416B2/en not_active Expired - Fee Related
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