JPH0727073B2 - 放射能に汚染された物体の除染方法及び除染装置、並びに同除染に用いられた材料の除染方法及び除染装置 - Google Patents
放射能に汚染された物体の除染方法及び除染装置、並びに同除染に用いられた材料の除染方法及び除染装置Info
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- JPH0727073B2 JPH0727073B2 JP2071144A JP7114490A JPH0727073B2 JP H0727073 B2 JPH0727073 B2 JP H0727073B2 JP 2071144 A JP2071144 A JP 2071144A JP 7114490 A JP7114490 A JP 7114490A JP H0727073 B2 JPH0727073 B2 JP H0727073B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
- G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
- G21F9/28—Treating solids
- G21F9/30—Processing
-
- G—PHYSICS
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- G21F9/001—Decontamination of contaminated objects, apparatus, clothes, food; Preventing contamination thereof
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は原子力発電所等において生じる、放射能に汚
染された物体の除染方法及び除染装置、並びに同除染に
用いられた材料の除染方法及び除染装置に関するもので
ある。
染された物体の除染方法及び除染装置、並びに同除染に
用いられた材料の除染方法及び除染装置に関するもので
ある。
［従来の技術］ 従来原子力発電所等においては、その操業の経過と共に
放射能に汚染された物体が各種装置又はその部品等とし
て生じる。
放射能に汚染された物体が各種装置又はその部品等とし
て生じる。
これらの装置又は部品等は装置の定時点検又はオーバー
ホール等の際に、交換又は廃棄された装置又は部品等と
して生じる。
ホール等の際に、交換又は廃棄された装置又は部品等と
して生じる。
或いは又部品の交換等はされないが、装置表面の塗装の
塗り替えを要するもの等として生じる。
塗り替えを要するもの等として生じる。
そしてこれらの汚染された物体は、汚染の程度が安全規
定の規定値の範囲外である場合が多く、その場合大型の
ものは切断され、小型のものはそのままの形状でドラム
缶に収納され、通常廃砿内等に収容され、或は又都会か
ら遠隔の、付近に居住者のいない地域に設けられた保管
所に収容されて保管又は廃棄される。
定の規定値の範囲外である場合が多く、その場合大型の
ものは切断され、小型のものはそのままの形状でドラム
缶に収納され、通常廃砿内等に収容され、或は又都会か
ら遠隔の、付近に居住者のいない地域に設けられた保管
所に収容されて保管又は廃棄される。
なおこの発明においては上記保管及び廃棄を説明の便宜
上廃棄に統一する。
上廃棄に統一する。
［発明が解決しようとする課題］ しかし上記のような放射能に汚染された物体は原子力発
電所等の操業により年と共に増加し、次第に大量とな
り、その廃棄場所が不足し、この結果新たな廃棄場所が
必要となる。そして新たな廃棄場所が選定されると、そ
の場所の地域住民の反対運動が起り、社会問題を引き起
す。この発明はこのような問題を解決するためになされ
たもので、その目的は上記のような放射能に汚染された
物体を除染し、それを安全規定の規定値以下に除染で
き、従ってそれは一般の産業廃棄物と同一に取り扱いが
できるため、廃棄場所の面積を大巾に少なくすることの
できる、放射能に汚染された物体の除染方法及び除染装
置、並びに同除染に用いられた材料の除染方法及び除染
装置を提供することである。
電所等の操業により年と共に増加し、次第に大量とな
り、その廃棄場所が不足し、この結果新たな廃棄場所が
必要となる。そして新たな廃棄場所が選定されると、そ
の場所の地域住民の反対運動が起り、社会問題を引き起
す。この発明はこのような問題を解決するためになされ
たもので、その目的は上記のような放射能に汚染された
物体を除染し、それを安全規定の規定値以下に除染で
き、従ってそれは一般の産業廃棄物と同一に取り扱いが
できるため、廃棄場所の面積を大巾に少なくすることの
できる、放射能に汚染された物体の除染方法及び除染装
置、並びに同除染に用いられた材料の除染方法及び除染
装置を提供することである。
［目的を達成するための手段］ 上記の目的を達成するこの発明についてまず、放射能に
汚染された物体の除染方法について述べると、それは放
射能に汚染された物体にショットブラスト又はサンドブ
ラストを施し、物体の表面に付着していた物質を除去
し、次に該物体の表面を液体を用いて清掃し、前記ショ
ットブラスト又はサンドブラストのグリットを有機溶剤
により洗浄し、該洗浄に使用した有機溶剤を濾過し、残
滓を除いた前記有機溶剤を加熱して気化させ、気化した
この溶剤を冷却して液化回収し、更に洗浄した前記グリ
ットをキレート化合物を含有した液体により洗浄するこ
とを特徴とする、放射能に汚染された物体の除染方法で
ある。又同除染装置について述べるとそれは放射能に汚
染された物体に施すショットブラスト又はサンドブラス
ト装置；該ショットブラスト又はサンドブラストのグリ
ットを有機溶剤により洗浄する洗浄装置；該洗浄に使用
した洗浄液を濾過する濾過装置；濾過した前記洗浄液を
加熱し、かつ冷却して液化精製する精製装置；キレート
化合物を含有した液体を用いるキレート液洗浄装置から
成る、放射能に汚染された物体の除染装置である。
汚染された物体の除染方法について述べると、それは放
射能に汚染された物体にショットブラスト又はサンドブ
ラストを施し、物体の表面に付着していた物質を除去
し、次に該物体の表面を液体を用いて清掃し、前記ショ
ットブラスト又はサンドブラストのグリットを有機溶剤
により洗浄し、該洗浄に使用した有機溶剤を濾過し、残
滓を除いた前記有機溶剤を加熱して気化させ、気化した
この溶剤を冷却して液化回収し、更に洗浄した前記グリ
ットをキレート化合物を含有した液体により洗浄するこ
とを特徴とする、放射能に汚染された物体の除染方法で
ある。又同除染装置について述べるとそれは放射能に汚
染された物体に施すショットブラスト又はサンドブラス
ト装置；該ショットブラスト又はサンドブラストのグリ
ットを有機溶剤により洗浄する洗浄装置；該洗浄に使用
した洗浄液を濾過する濾過装置；濾過した前記洗浄液を
加熱し、かつ冷却して液化精製する精製装置；キレート
化合物を含有した液体を用いるキレート液洗浄装置から
成る、放射能に汚染された物体の除染装置である。
又この除染に用いられた材料の除染方法としては、放射
能に汚染された物体に施されたショットブラスト又はサ
ンドブラストのグリットを有機溶剤で洗浄し、該洗浄に
用いた有機溶剤を濾過し、濾過した有機溶剤を加熱して
気化させ、気化した該有機溶剤を冷却して液化精製さ
せ、又洗浄した前記グリットをキレート化合物を有する
液体で洗浄することを特徴とする、放射能に汚染された
物体の除染に用いられた材料の除染方法である。
能に汚染された物体に施されたショットブラスト又はサ
ンドブラストのグリットを有機溶剤で洗浄し、該洗浄に
用いた有機溶剤を濾過し、濾過した有機溶剤を加熱して
気化させ、気化した該有機溶剤を冷却して液化精製さ
せ、又洗浄した前記グリットをキレート化合物を有する
液体で洗浄することを特徴とする、放射能に汚染された
物体の除染に用いられた材料の除染方法である。
更に放射能に汚染された物体の除染に用いられた材料の
除染方法について述べると、それは、放射能に汚染され
た物体に施して、放射能に汚染したショットブラスト又
はサンドブラストのグリットを、有機溶剤を用いて洗浄
する洗浄装置；該洗浄装置において洗浄に用いた前記洗
浄液を、濾過して削除粉等を除去する濾過装置；該濾過
装置で濾過して得られた有機溶剤を加熱して気化させ、
のち冷却させて液化させる、有機溶剤の精製装置；前記
洗浄装置において洗浄されたショットブラスト又はサン
ドブラストのグリットを、キレート化合物を含有する液
体を用いて洗浄するキレート液洗浄装置；から成る放射
能に汚染された物体の除染に用いられた材料の除染装置
である。
除染方法について述べると、それは、放射能に汚染され
た物体に施して、放射能に汚染したショットブラスト又
はサンドブラストのグリットを、有機溶剤を用いて洗浄
する洗浄装置；該洗浄装置において洗浄に用いた前記洗
浄液を、濾過して削除粉等を除去する濾過装置；該濾過
装置で濾過して得られた有機溶剤を加熱して気化させ、
のち冷却させて液化させる、有機溶剤の精製装置；前記
洗浄装置において洗浄されたショットブラスト又はサン
ドブラストのグリットを、キレート化合物を含有する液
体を用いて洗浄するキレート液洗浄装置；から成る放射
能に汚染された物体の除染に用いられた材料の除染装置
である。
［実施例］ 第４図に示すものは放射能に汚染された物体に施すショ
ットブラスト装置である。
ットブラスト装置である。
なおこの発明においてはショットブラストはサンドブラ
ストであっても差支えなく、この両方を含むものであ
る。そしてグリットはこの両方のグリットであってもよ
い。なおグリットは一例として鉄製の半球状のものが使
用された。但しこれはカットワイヤ、サンド、ガラス粒
その他のグリットを適宜に用いて差支えない。
ストであっても差支えなく、この両方を含むものであ
る。そしてグリットはこの両方のグリットであってもよ
い。なおグリットは一例として鉄製の半球状のものが使
用された。但しこれはカットワイヤ、サンド、ガラス粒
その他のグリットを適宜に用いて差支えない。
同図において１は空気圧縮装置であり、ここにおいて作
られた圧縮空気はエアタンク２に貯えられ、その弁３を
開くことにより、又、グリットのタンク４の弁５を開く
ことにより、グリットはノズル６から噴出される。７は
削除室、８は連通管である。又９はエゼクター形式の負
圧発生装置であり、エアタンク２に連通させてあり、弁
10を開くことにより作動するようになっている。そして
この負圧発生装置９はフィルタ室11、分離装置12を経て
吸引口13に連通させてある。14は放射能に汚染された削
除粉の収納箱である。又分離装置12は上筒15、中筒16、
ホッパ17から成っており、中筒16中に円錐形の反転部18
が設けられている。19はギャップである。20は振動篩、
21は新しいグリットの投入口である。
られた圧縮空気はエアタンク２に貯えられ、その弁３を
開くことにより、又、グリットのタンク４の弁５を開く
ことにより、グリットはノズル６から噴出される。７は
削除室、８は連通管である。又９はエゼクター形式の負
圧発生装置であり、エアタンク２に連通させてあり、弁
10を開くことにより作動するようになっている。そして
この負圧発生装置９はフィルタ室11、分離装置12を経て
吸引口13に連通させてある。14は放射能に汚染された削
除粉の収納箱である。又分離装置12は上筒15、中筒16、
ホッパ17から成っており、中筒16中に円錐形の反転部18
が設けられている。19はギャップである。20は振動篩、
21は新しいグリットの投入口である。
又前記上筒15は排出筒22の周囲に形成され、その入口は
接線方向に形成されており、前記吸引口13で吸入された
グリット23及び削除粉等は旋回しつつ中筒16内を下降
し、その中の削除粉は反転部18に当り、上方に反転し、
排出筒22から出てフイルタ室11に入り、収納箱14に収容
される。一方質量の大きいグリット23は遠心力により中
筒16内壁近くを旋回し、ギャップ19からホッパ17に入
り、次にグリットタンク４に吸引されるようになってい
る。24は副フィルタ室を示す。
接線方向に形成されており、前記吸引口13で吸入された
グリット23及び削除粉等は旋回しつつ中筒16内を下降
し、その中の削除粉は反転部18に当り、上方に反転し、
排出筒22から出てフイルタ室11に入り、収納箱14に収容
される。一方質量の大きいグリット23は遠心力により中
筒16内壁近くを旋回し、ギャップ19からホッパ17に入
り、次にグリットタンク４に吸引されるようになってい
る。24は副フィルタ室を示す。
25は放射能に汚染された物体を示し、図示しない把持装
置により姿勢を変更され、その全面がグリットの噴射に
さらされるようになっている。
置により姿勢を変更され、その全面がグリットの噴射に
さらされるようになっている。
この場合同物体25は一例として防錆塗装を施された鉄製
部品である。そして防錆塗装は通常酸化亜鉛塗料による
下塗層の上にエポキシ樹脂塗料による上塗層が形成され
ている。なお放射能に汚染された物体としてはこの外ボ
イラ、タービン、タービンブレード等に缶石等が付着し
て汚染されたもの、或は又緊急の際の水没用に設けられ
たサージングタンクの塗装された内壁等である。即ち一
般に金属の表面に塗料、缶石、オイルに混合して固化し
た塵埃等のものが付着してある場合に、拭き取り程度で
は除染できず、除染が困難なのである。
部品である。そして防錆塗装は通常酸化亜鉛塗料による
下塗層の上にエポキシ樹脂塗料による上塗層が形成され
ている。なお放射能に汚染された物体としてはこの外ボ
イラ、タービン、タービンブレード等に缶石等が付着し
て汚染されたもの、或は又緊急の際の水没用に設けられ
たサージングタンクの塗装された内壁等である。即ち一
般に金属の表面に塗料、缶石、オイルに混合して固化し
た塵埃等のものが付着してある場合に、拭き取り程度で
は除染できず、除染が困難なのである。
そして前記物体25は一例としてガイガーカウンタにより
800CPM（カウントパーミニッツ）であった。
800CPM（カウントパーミニッツ）であった。
そしてこの物体25は第４図に示すショットブラスト装置
の動作により、ノズル６からのグリットの噴射を浴び、
その表面の塗装層を削除された。その削除後の物体25の
放射能を計測した処120CPMであった。
の動作により、ノズル６からのグリットの噴射を浴び、
その表面の塗装層を削除された。その削除後の物体25の
放射能を計測した処120CPMであった。
次にこの物体を一例としてメチレンクロライドを用いて
洗浄した。（図示省略）なおこの洗浄は活性炭による吸
着装置に連通した気密な洗浄室で行われた。そしてこの
洗浄後、同物体の放射能を計測した処30CPMであった。
洗浄した。（図示省略）なおこの洗浄は活性炭による吸
着装置に連通した気密な洗浄室で行われた。そしてこの
洗浄後、同物体の放射能を計測した処30CPMであった。
又次にこの物体25は後述の第２図に示すような超音波振
動装置を有するキレート液洗浄装置において、後述のキ
レート化合物及び界面活性剤を含有する水により洗浄さ
れた。そしてこの洗浄後の物体25を計測した処0CPMであ
った。通常放射能汚染の安全規定によれば、0CPMであれ
ば装置又はその部品等の物体は原子力発電所等の外部に
出すことができ、溶解、再生等一般の産業廃棄物と同一
に扱って差支えない。このため上記物体は同発電所外に
出され、溶解炉により溶解され、金属材料として再生さ
れた。
動装置を有するキレート液洗浄装置において、後述のキ
レート化合物及び界面活性剤を含有する水により洗浄さ
れた。そしてこの洗浄後の物体25を計測した処0CPMであ
った。通常放射能汚染の安全規定によれば、0CPMであれ
ば装置又はその部品等の物体は原子力発電所等の外部に
出すことができ、溶解、再生等一般の産業廃棄物と同一
に扱って差支えない。このため上記物体は同発電所外に
出され、溶解炉により溶解され、金属材料として再生さ
れた。
なお上記洗浄の場合、メチレンクロライドの外、フロン
R113、アルコール等が適宜に用いられる。又その場合洗
浄に替えて、それ等の液体を用い、ウエス等により清拭
してもよい。そして上記の洗浄を行った後、使用した洗
浄液は後述のような、第１図に示す精製装置を用いての
処理により、加熱による気化と冷却による液化を行うこ
とにより精製、分離される。このように精製された溶剤
は放射能が殆ど無く、ほぼ0CPMなのである。又ウエス等
を用いた場合、それは焼却され、その灰はコンクリート
詰め等により密閉がなされるが、この場合、同ウエス等
は灰化されるため、その容積は大巾に少なくなる。なお
前記洗浄に用いた洗浄液において、削除粉が多い場合は
濾過を行うのである。
R113、アルコール等が適宜に用いられる。又その場合洗
浄に替えて、それ等の液体を用い、ウエス等により清拭
してもよい。そして上記の洗浄を行った後、使用した洗
浄液は後述のような、第１図に示す精製装置を用いての
処理により、加熱による気化と冷却による液化を行うこ
とにより精製、分離される。このように精製された溶剤
は放射能が殆ど無く、ほぼ0CPMなのである。又ウエス等
を用いた場合、それは焼却され、その灰はコンクリート
詰め等により密閉がなされるが、この場合、同ウエス等
は灰化されるため、その容積は大巾に少なくなる。なお
前記洗浄に用いた洗浄液において、削除粉が多い場合は
濾過を行うのである。
次に、第１図及び第２図に示すものは、前記除染に用い
たグリットを除染するための装置であり、第１図におい
て28は洗浄装置であり、一例としてステンレス製のスク
リーンドラム29が回動自在に設けられ、駆動装置30に連
結されている。31は除染に用いられたグリットの供給装
置、32は洗浄液の噴射装置を示す。なおこれらは第３図
に示すように形成された。即ち洗浄装置28は予備洗浄装
置33、本洗浄装置34が段差を設けて形成された。なお前
記供給装置31は第３図に示すようにエレベータが設けら
れ、グリットの収容された容器35が所定位置迄上昇させ
られると傾斜させられ、グリットはホッパ36内に投入さ
れる。37はスクリューを示す。又前記洗浄装置28は活性
炭を用いた吸着装置38に連通されている。又同図におい
て39は密閉装置を示す。次に第１図において40は濾過装
置であり、詳細な図示は省略するが、一例として二枚の
濾布の間に洗浄液に混合した削除粉が挟まれ、外側から
加圧され、圧搾されるようになっている。なお41はグリ
ット排出口、42は削除粉の排出通路を示す。第３図にお
いて43は乾燥機を示す。又44は洗浄液としての有機溶剤
であり、一例としてメチレンクロライドが用いられた。
なお同洗浄液はこの外、フロン系溶剤、塩素系有機溶
剤、アルコール等を適宜に用いて差支えはない。次に45
はタンク、46はポンプであり、47は精製装置を示す。
たグリットを除染するための装置であり、第１図におい
て28は洗浄装置であり、一例としてステンレス製のスク
リーンドラム29が回動自在に設けられ、駆動装置30に連
結されている。31は除染に用いられたグリットの供給装
置、32は洗浄液の噴射装置を示す。なおこれらは第３図
に示すように形成された。即ち洗浄装置28は予備洗浄装
置33、本洗浄装置34が段差を設けて形成された。なお前
記供給装置31は第３図に示すようにエレベータが設けら
れ、グリットの収容された容器35が所定位置迄上昇させ
られると傾斜させられ、グリットはホッパ36内に投入さ
れる。37はスクリューを示す。又前記洗浄装置28は活性
炭を用いた吸着装置38に連通されている。又同図におい
て39は密閉装置を示す。次に第１図において40は濾過装
置であり、詳細な図示は省略するが、一例として二枚の
濾布の間に洗浄液に混合した削除粉が挟まれ、外側から
加圧され、圧搾されるようになっている。なお41はグリ
ット排出口、42は削除粉の排出通路を示す。第３図にお
いて43は乾燥機を示す。又44は洗浄液としての有機溶剤
であり、一例としてメチレンクロライドが用いられた。
なお同洗浄液はこの外、フロン系溶剤、塩素系有機溶
剤、アルコール等を適宜に用いて差支えはない。次に45
はタンク、46はポンプであり、47は精製装置を示す。
同装置47はヒータ48、冷却装置49、回収通路50を有し、
メチレンクロライドを加熱し、気化させ、冷却装置49に
接しさせて液化させ、回収通路50上に滴下させてタンク
51に回収する。52は冷凍機、53はポンプを示す。
メチレンクロライドを加熱し、気化させ、冷却装置49に
接しさせて液化させ、回収通路50上に滴下させてタンク
51に回収する。52は冷凍機、53はポンプを示す。
次に、前記吸着装置38について述べると、同装置38は活
性炭を用いた装置であり、通常の、公知の活性炭吸着装
置を適宜に用いて差支えないが、一例としてこの発明の
出願人がさきに発明、出願した発明（平成１年特許願第
76089号）記載の、活性炭を用いたガス吸着装置が用い
られた。この吸着装置の概略を述べると、詳細な図示は
省略するが、活性炭槽内の活性炭は、ガス吸着の際はク
ーラ54により冷却されており、その状態でメチレンクロ
ライドガスの吸着が行われる。そして同ガス脱着の際は
前記活性炭は図示しないヒータにより加熱され、その状
態において加熱されたキャリヤエヤを供給され、同キャ
リヤエヤにより脱着される。そして前記ガスを含んだキ
ャリヤエヤは、図示しない液化装置で前記ガスの沸点以
下の温度に冷却されて液化し、回収される。又次の段階
として液化を免れた一部のガスは同ガスの凝固点以下に
冷却され、凝固する。凝固した同ガスは加熱されて液化
し、回収される。こうして前記ガスはほぼ完全に回収さ
れる。そして第１図において、上記のようにして回収さ
れたメチレンクロライドはポンプ55によって精製装置47
に還流される。なお56、57は送風機、58は清浄空気の排
出通路である。
性炭を用いた装置であり、通常の、公知の活性炭吸着装
置を適宜に用いて差支えないが、一例としてこの発明の
出願人がさきに発明、出願した発明（平成１年特許願第
76089号）記載の、活性炭を用いたガス吸着装置が用い
られた。この吸着装置の概略を述べると、詳細な図示は
省略するが、活性炭槽内の活性炭は、ガス吸着の際はク
ーラ54により冷却されており、その状態でメチレンクロ
ライドガスの吸着が行われる。そして同ガス脱着の際は
前記活性炭は図示しないヒータにより加熱され、その状
態において加熱されたキャリヤエヤを供給され、同キャ
リヤエヤにより脱着される。そして前記ガスを含んだキ
ャリヤエヤは、図示しない液化装置で前記ガスの沸点以
下の温度に冷却されて液化し、回収される。又次の段階
として液化を免れた一部のガスは同ガスの凝固点以下に
冷却され、凝固する。凝固した同ガスは加熱されて液化
し、回収される。こうして前記ガスはほぼ完全に回収さ
れる。そして第１図において、上記のようにして回収さ
れたメチレンクロライドはポンプ55によって精製装置47
に還流される。なお56、57は送風機、58は清浄空気の排
出通路である。
次に、第１図及び第３図に示す装置の作用について述べ
ると、放射能に汚染された削除粉の付着したグリットは
供給装置31により洗浄装置28の、予備洗浄装置33に供給
され、噴射装置32からメチレンクロライドの噴射を浴
び、かつスクリーンドラム29の回転に伴い洗浄され、前
記削除粉を失いつつ、第３図において矢印A33方向に進
行し、やがて次段の本洗浄装置34内に落下する。この場
合メチレンクロライドはエポキシ樹脂塗料、酸化亜鉛塗
料等を良好に溶解するのである。そして同本洗浄装置34
内において同様にメチレンクロライドにより洗浄され削
除粉を失う、なお前記予備洗浄装置33から排出された洗
浄液は濾過装置40に至り濾過され、削除粉と分離されて
タンク45内に入り、次いで精製装置47に送入され、精製
される。この場合精製は気化を利用して行われる結果、
若干含有していた削除粉はここで完全に除去される。従
って精製されたメチレンクロライドは0CPMであった。そ
して精製されたメチレンクロライドは前記本洗浄装置34
に送出される。
ると、放射能に汚染された削除粉の付着したグリットは
供給装置31により洗浄装置28の、予備洗浄装置33に供給
され、噴射装置32からメチレンクロライドの噴射を浴
び、かつスクリーンドラム29の回転に伴い洗浄され、前
記削除粉を失いつつ、第３図において矢印A33方向に進
行し、やがて次段の本洗浄装置34内に落下する。この場
合メチレンクロライドはエポキシ樹脂塗料、酸化亜鉛塗
料等を良好に溶解するのである。そして同本洗浄装置34
内において同様にメチレンクロライドにより洗浄され削
除粉を失う、なお前記予備洗浄装置33から排出された洗
浄液は濾過装置40に至り濾過され、削除粉と分離されて
タンク45内に入り、次いで精製装置47に送入され、精製
される。この場合精製は気化を利用して行われる結果、
若干含有していた削除粉はここで完全に除去される。従
って精製されたメチレンクロライドは0CPMであった。そ
して精製されたメチレンクロライドは前記本洗浄装置34
に送出される。
なおこの場合有機溶剤は気化熱が低いので精製が容易で
あり効果的なのである。
あり効果的なのである。
本洗浄装置34において使用された、従って削除粉を含む
洗浄液は、そのまま図示しないポンプにより予備洗浄装
置33に、洗浄液として供給される。
洗浄液は、そのまま図示しないポンプにより予備洗浄装
置33に、洗浄液として供給される。
一方本洗浄装置34を通過したグリットは乾燥装置43に入
り、回転するスクリーンドラム59中を矢印A33方向に進
み、その間熱風装置60からの熱風を受け、乾燥され、そ
の排出口61から出てコンベヤ62により、タンク63に収容
される。
り、回転するスクリーンドラム59中を矢印A33方向に進
み、その間熱風装置60からの熱風を受け、乾燥され、そ
の排出口61から出てコンベヤ62により、タンク63に収容
される。
なおその間、予備洗浄装置33、本洗浄装置34、乾燥装置
43はこれらに連通して設けられた活性炭によるガスの吸
着装置38によりガスを含む空気の吸引が行われ、かつ吸
着されたガスは液化され、精製装置47に還流される。な
おタンク63に収容されたグリットは一例として30CPMで
あった。
43はこれらに連通して設けられた活性炭によるガスの吸
着装置38によりガスを含む空気の吸引が行われ、かつ吸
着されたガスは液化され、精製装置47に還流される。な
おタンク63に収容されたグリットは一例として30CPMで
あった。
次に第２図に示す65はキレート液洗浄装置であり、一例
として容器66に超音波振動装置67が設けられている。68
はキレート化合物及び界面活性剤を含有する水であり、
入口69から送入され、出口70から排出されるようになっ
ている。キレート化合物は一例としてキレスト化学株式
会社製のキレストール7Qが用いられ、界面活性剤として
は、住友スリーエム株式会社製のノニオン界面活性剤Ｒ
−430が用いられた。又71は前記のように、メチレンク
ロライドによる洗浄の終了したグリットを示す。
として容器66に超音波振動装置67が設けられている。68
はキレート化合物及び界面活性剤を含有する水であり、
入口69から送入され、出口70から排出されるようになっ
ている。キレート化合物は一例としてキレスト化学株式
会社製のキレストール7Qが用いられ、界面活性剤として
は、住友スリーエム株式会社製のノニオン界面活性剤Ｒ
−430が用いられた。又71は前記のように、メチレンク
ロライドによる洗浄の終了したグリットを示す。
第２図に示す装置の作用について述べると、前記洗浄装
置28において洗浄されたグリットはキレート液洗浄装置
65中に収容され、ノニオン系界面活性剤を含むキレート
剤洗浄液68により超音波振動装置67を用いて洗浄され
る。この場合キレート剤により封鎖されるものはマンガ
ンイオン、亜鉛イオン及び鉄イオンである。
置28において洗浄されたグリットはキレート液洗浄装置
65中に収容され、ノニオン系界面活性剤を含むキレート
剤洗浄液68により超音波振動装置67を用いて洗浄され
る。この場合キレート剤により封鎖されるものはマンガ
ンイオン、亜鉛イオン及び鉄イオンである。
そして、超音波振動により、キレート化合物による放射
能を帯びた物質の封鎖が効果的に行われる。
能を帯びた物質の封鎖が効果的に行われる。
なおこの超音波振動装置を用いた除染装置は、この外前
記メチレンクロライド等のような有機溶剤を用いて使用
しても放射能を帯びた物体から、放射能を効果的に除去
することができるのである。
記メチレンクロライド等のような有機溶剤を用いて使用
しても放射能を帯びた物体から、放射能を効果的に除去
することができるのである。
なお前記浄液68は入口69から入り、出口70から出され、
図示しない装置によりキレート剤及び界面活性剤の分離
が行われる。こうして同キレート液洗浄装置を出たグリ
ットは図示しない乾燥装置で乾燥される。そして、この
グリットの放射能を計測したところ0CPMであった。
図示しない装置によりキレート剤及び界面活性剤の分離
が行われる。こうして同キレート液洗浄装置を出たグリ
ットは図示しない乾燥装置で乾燥される。そして、この
グリットの放射能を計測したところ0CPMであった。
［発明の効果］ この発明は前記のように構成され、放射能に汚染された
物体にショットブラスト又はサンドブラストを施し、物
体の表面に付着していた物質を除去し、次に該物体の表
面を液体を用いて清掃し、前記ショットブラスト又はサ
ンドブラストのグリットを有機溶剤により洗浄し、洗浄
に用いた該有機溶剤を濾過し、残滓を除いた該有機溶剤
を加熱して気化させ、気化したこの溶剤を冷却して液化
回収することにより効果的に放射能に汚染された物体を
大巾に除染することができる。又前記グリットを更にキ
レート液洗浄装置で洗浄することにより、放射能を殆ど
無くすことができ、放射能に汚染された物体の容積を極
めて小さくすることができ、その廃棄場所の面積を大巾
に少なくすることができる。又放射能に汚染された物体
の除染装置は、上記効果を奏する装置を提供することが
できる。又放射能に汚染された物体に施されたショット
ブラスト又はサンドブラストのグリットを有機溶剤で洗
浄し、該洗浄に用いた有機溶剤を濾過し、残滓を除いた
該有機溶剤を加熱して気化させ、気化した該有機溶剤を
冷却して液化精製することにより、効果的に放射能に汚
染された物体の除染に用いられた材料を充分に除染する
ことができる。又前記グリットを更にキレート液洗浄装
置で洗浄することにより放射能をガイガーカウンタによ
る計測において0CPMにすることができ、この材料を廃棄
することなく、再生させ、再使用することができる。
物体にショットブラスト又はサンドブラストを施し、物
体の表面に付着していた物質を除去し、次に該物体の表
面を液体を用いて清掃し、前記ショットブラスト又はサ
ンドブラストのグリットを有機溶剤により洗浄し、洗浄
に用いた該有機溶剤を濾過し、残滓を除いた該有機溶剤
を加熱して気化させ、気化したこの溶剤を冷却して液化
回収することにより効果的に放射能に汚染された物体を
大巾に除染することができる。又前記グリットを更にキ
レート液洗浄装置で洗浄することにより、放射能を殆ど
無くすことができ、放射能に汚染された物体の容積を極
めて小さくすることができ、その廃棄場所の面積を大巾
に少なくすることができる。又放射能に汚染された物体
の除染装置は、上記効果を奏する装置を提供することが
できる。又放射能に汚染された物体に施されたショット
ブラスト又はサンドブラストのグリットを有機溶剤で洗
浄し、該洗浄に用いた有機溶剤を濾過し、残滓を除いた
該有機溶剤を加熱して気化させ、気化した該有機溶剤を
冷却して液化精製することにより、効果的に放射能に汚
染された物体の除染に用いられた材料を充分に除染する
ことができる。又前記グリットを更にキレート液洗浄装
置で洗浄することにより放射能をガイガーカウンタによ
る計測において0CPMにすることができ、この材料を廃棄
することなく、再生させ、再使用することができる。
第１図〜第４図はこの発明の実施例を示し、第１図は放
射能に汚染された物体の除染装置の部分の概略図、第２
図は同除染装置の、他の部分の概略を示す断面図、第３
図は同除染装置の部分の一部断面側面図、第４図は同汚
染装置の更に他の部分の概略を示す図である。 23…グリット 25…放射能に汚染された物体 28…洗浄装置 44…有機溶剤 47…精製装置 66…キレート液洗浄装置
射能に汚染された物体の除染装置の部分の概略図、第２
図は同除染装置の、他の部分の概略を示す断面図、第３
図は同除染装置の部分の一部断面側面図、第４図は同汚
染装置の更に他の部分の概略を示す図である。 23…グリット 25…放射能に汚染された物体 28…洗浄装置 44…有機溶剤 47…精製装置 66…キレート液洗浄装置
Claims (8)
- 【請求項１】放射能に汚染された物体にショットブラス
ト又はサンドブラストを施し、物体の表面に付着してい
た物質を除去し、次に該物体の表面を液体を用いて清掃
し、前記ショットブラスト又はサンドブラストのグリッ
トを有機溶剤により洗浄し、該洗浄に使用した有機溶剤
を濾過し、残滓を除いた前記有機溶剤を加熱して気化さ
せ、気化したこの溶剤を冷却して液化回収することを特
徴とする放射能に汚染された物体の除染方法。 - 【請求項２】放射能に汚染された物体にショットブラス
ト又はサンドブラストを施し、物体の表面に付着してい
た物質を除去し、次に該物体の表面を液体を用いて清掃
し、前記ショットブラスト又はサンドブラストのグリッ
トを有機溶剤により洗浄し、該洗浄に用いた有機溶剤を
濾過し、残滓を除いた前記有機溶剤を加熱して気化さ
せ、気化したこの溶剤を冷却して液化回収し、更に洗浄
した前記グリットをキレート化合物を含有した液体によ
り洗浄することを特徴とする、放射能に汚染された物体
の除染方法。 - 【請求項３】放射能に汚染された物体に施すショットブ
ラスト又はサンドブラスト装置：該ショットブラスト又
はサンドブラストのグリットを有機溶剤により洗浄する
洗浄装置；該洗浄に使用した洗浄液を濾過する濾過装
置；濾過した前記洗浄液を加熱し、かつ冷却し、液化精
製する精製装置から成る放射能に汚染された物体の除染
装置。 - 【請求項４】放射能に汚染された物体に施すショットブ
ラスト又はサンドブラスト装置；該ショットブラスト又
はサンドブラストのグリットを有機溶剤により洗浄する
洗浄装置；該洗浄に使用した洗浄液を濾過する濾過装
置；濾過した前記洗浄液を加熱し、かつ冷却し、液化精
製する精製装置；前記洗浄装置において有機溶剤で洗浄
したショットブラスト又はサンドブラストのグリットを
キレート化合物を含有した液体を用いて洗浄するキレー
ト液洗浄装置；から成る放射能に汚染された物体の除染
装置。 - 【請求項５】放射能に汚染された物体に施されたショッ
トブラスト又はサンドブラストのグリットを有機溶剤で
洗浄し、該洗浄に用いた有機溶剤を濾過し、濾過した有
機溶剤を加熱して気化させ、気化した有機溶剤を冷却し
て液化精製することを特徴とする放射能に汚染された物
体の除染に用いられた材料の除染方法。 - 【請求項６】放射能に汚染された物体に施されたショッ
トブラスト又はサンドブラストのグリットを有機溶剤で
洗浄し、該洗浄に用いた有機溶剤を濾過し、濾過した有
機溶剤を加熱して気化させ、気化した有機溶剤を冷却し
て液化精製させ、又洗浄した前記グリットをキレート化
合物を含有する液体で洗浄することを特徴とする放射能
に汚染された物体の除染に用いられた材料の除染方法。 - 【請求項７】放射能に汚染された物体に施して、放射能
に汚染したショットブラスト又はサンドブラストのグリ
ットを、有機溶剤を用いて洗浄する洗浄装置；該洗浄装
置において洗浄に用いた前記洗浄液を、濾過して削除粉
等を除去する濾過装置；該濾過装置で濾過して得られた
有機溶剤を加熱して気化させ、のち冷却させて液化させ
る有機溶剤の精製装置；から成る放射能に汚染された物
体の除染に用いられた材料の除染装置。 - 【請求項８】放射能に汚染された物体に施して、放射能
に汚染したショットブラスト又はサンドブラストのグリ
ットを、有機溶剤を用いて洗浄する洗浄装置；該洗浄装
置において洗浄に用いた前記洗浄液を、濾過して削除粉
等を除去する濾過装置；該濾過装置で濾過して得られた
有機溶剤を加熱して気化させ、のち冷却させて液化させ
る有機溶剤の精製装置；前記洗浄装置において洗浄され
たショットブラスト又はサンドブラストのグリットを、
キレート化合物を含有する液体を用いて洗浄するキレー
ト液洗浄装置；から成る放射能に汚染された物体の除染
に用いられた材料の除染装置。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2071144A JPH0727073B2 (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 放射能に汚染された物体の除染方法及び除染装置、並びに同除染に用いられた材料の除染方法及び除染装置 |
| GB9105659A GB2242777B (en) | 1990-03-20 | 1991-03-18 | Radioactive decontamination method using methylene chloride |
| GB9105660A GB2242778B (en) | 1990-03-20 | 1991-03-18 | Decontamination of radioactive substances |
| DE4108812A DE4108812A1 (de) | 1990-03-20 | 1991-03-18 | Verfahren zur radioaktiven entseuchung |
| DE4108813A DE4108813C2 (de) | 1990-03-20 | 1991-03-18 | Verfahren zum Entseuchen von radioaktiv verseuchtem Kornmaterial für das Stahlkiesstrahlen und/oder Sandstrahlen |
| US07/671,941 US5126077A (en) | 1990-03-20 | 1991-03-19 | Radioactive decontamination method using methylene chloride |
| US07/671,940 US5302324A (en) | 1990-03-20 | 1991-03-19 | Method for decontaminating substances contaminated with radioactivity, and method for decontaminating the materials used for said decontamination |
| FR9103679A FR2660104A1 (fr) | 1990-03-20 | 1991-03-20 | Procede et dispositif pour decontaminer des substances radioactives et procede et dispositif pour decontaminer les materiaux utilises pour ladite decontamination. |
| FR919103678A FR2660103B1 (fr) | 1990-03-20 | 1991-03-20 | Procede de decontamination radioactive utilisant le chlorure de methylene. |
| FR9111358A FR2666167A1 (fr) | 1990-03-20 | 1991-09-12 | Procede et dispositif pour decontaminer des substances radioactives et procede et dispositif pour decontaminer les materiaux utilises pour ladite decontamination. |
| US08/225,398 US5503591A (en) | 1990-03-20 | 1994-04-08 | Apparatus for decontaminating substances contaminated with radioactivity |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2071144A JPH0727073B2 (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 放射能に汚染された物体の除染方法及び除染装置、並びに同除染に用いられた材料の除染方法及び除染装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03269400A JPH03269400A (ja) | 1991-11-29 |
| JPH0727073B2 true JPH0727073B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=13452105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2071144A Expired - Lifetime JPH0727073B2 (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 放射能に汚染された物体の除染方法及び除染装置、並びに同除染に用いられた材料の除染方法及び除染装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5302324A (ja) |
| JP (1) | JPH0727073B2 (ja) |
| DE (2) | DE4108813C2 (ja) |
| FR (3) | FR2660103B1 (ja) |
| GB (2) | GB2242777B (ja) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5441441A (en) * | 1992-08-28 | 1995-08-15 | Cook; Jack R. | Method for removal of surface contaminants from concrete substrates |
| US5527203A (en) * | 1992-08-28 | 1996-06-18 | Cook; Jack R. | Method for removal of surface contaminants from metal substrates |
| US5415193A (en) * | 1992-11-13 | 1995-05-16 | Taricco; Todd | Pressure controlled cleaning system |
| US5434332A (en) * | 1993-12-06 | 1995-07-18 | Cash; Alan B. | Process for removing hazardous, toxic, and radioactive wastes from soils, sediments, and debris |
| US5457261A (en) * | 1994-07-08 | 1995-10-10 | O'brien & Gere Technical Svcs., Inc. | System and method for removing contaminants from solid surfaces and decontaminating waste |
| JPH0882697A (ja) * | 1994-09-13 | 1996-03-26 | Morikawa Sangyo Kk | 放射性汚染物の除染方法及び除染装置 |
| JPH09101397A (ja) * | 1995-10-02 | 1997-04-15 | Morikawa Sangyo Kk | 放射性の金属イオンを有する有機処理液の分解方法及び装置並びにそれを用いた放射性金属の採取方法及び装置。 |
| BE1011754A3 (fr) * | 1998-02-20 | 1999-12-07 | En Nucleaire Etabilissement D | Procede et installation de decontamination de surfaces metalliques. |
| RU2165111C2 (ru) * | 1999-05-25 | 2001-04-10 | Сибирский химический комбинат | Способ дезактивации загрязненных радионуклидами деталей и аппаратов |
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