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JPH0719565Y2 - 釉薬用スプレー装置 - Google Patents

釉薬用スプレー装置

Info

Publication number
JPH0719565Y2
JPH0719565Y2 JP1989043077U JP4307789U JPH0719565Y2 JP H0719565 Y2 JPH0719565 Y2 JP H0719565Y2 JP 1989043077 U JP1989043077 U JP 1989043077U JP 4307789 U JP4307789 U JP 4307789U JP H0719565 Y2 JPH0719565 Y2 JP H0719565Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glaze
spray
air
liquid tank
conduit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1989043077U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02133454U (ja
Inventor
隆保 木下
Original Assignee
隆保 木下
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 隆保 木下 filed Critical 隆保 木下
Priority to JP1989043077U priority Critical patent/JPH0719565Y2/ja
Publication of JPH02133454U publication Critical patent/JPH02133454U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0719565Y2 publication Critical patent/JPH0719565Y2/ja
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は,陶磁器素地の表面に泥漿状の釉薬を吹き掛け
る施釉作業に用いる釉薬用スプレー装置に関する。
〔従来の技術〕
スプレー装置には、水などの噴霧液を口から強く吹き出
す息によって霧化させる簡易な霧吹器から、塗料などの
噴霧液をコンプレッサから供給される高圧の圧縮空気に
よって霧化させるエアースプレー機器まで、大小異なる
種々の装置がある。
ところで、陶磁器素地の表面に釉薬を掛ける釉がけ作業
に使用するスプレー装置も、口で吹く簡易な霧吹器か
ら、コンプレッサを用いた大掛かりなものまで色々ある
が、これらは何れも、第2図に示すような基本構造にお
いては一致している。
すなわち、空気噴射管1の先端に設けたノズル2から圧
縮空気を噴射させることにより、噴霧液タンク3内に差
し込まれた導管4の液吐出口5付近を負圧状態にして、
当該導管4から釉薬Wを吸い上げると同時に、液吐出口
5まで吸い上げられた釉薬Wを霧化させて、これを陶磁
器素地の表面に吹き掛けるようになっている。
なお、口で吹く簡易な霧吹器は、第2図に示すように液
吐出口5の横に配されたノズル2から液吐出口5の上方
に沿って圧縮空気を噴射するようになっているが、コン
プレッサを用いるエアースプレー機器には、第3図に示
すように導管4の液吐出口5を空気噴射管1のノズル2
と同心的に配して、当該液吐出口5の周囲から高圧の圧
縮空気を噴射させる型式のものも多い。
〔考案が解決しようとする課題〕
しかし、何れのスプレー装置によるも、噴霧液タンク3
内に入れた釉の成分が沈澱しやすいという問題があっ
た。
すなわち、釉のスリップは、原料となる粘土類や坏土そ
の他の微粒固形分に適量の水を加えて流動性を与えた泥
漿であり、この泥漿は、施釉対象物である陶磁器素地の
吸水率や、施釉方法(この場合は、吹き掛け法)に合わ
せて水分量を調節し、その粘稠度(流動性)を適正に維
持しなければならないが、釉の固形分は噴霧液タンク3
の底に沈澱しやすく、そして、固形分の沈澱が生ずる
と、導管4から吸い上げてスプレーする釉スリップの粘
稠度が高まって流動性が損なわれ、陶磁器素地の施釉状
態が悪くなるという問題があった。
また、スプレー装置を使用する吹き掛け法は、凹凸の多
い施釉素地をロクロのような回転台に据えて回しなが
ら、その表面に釉がけする場合などに適しているが、噴
霧液タンク3内に入れられた施釉Wのスリップは高濃度
であり、いわゆる出が悪いから、これを空気噴射管1内
に口から吹き込む息で連続的にスプレーするのはかなり
の重労働であった。
殊に、釉の固形分がタンク3の底に沈澱し始めると、空
気噴射管1内に吹き込む息が非常に強くなければ、釉薬
Wを導管4から吸い上げることができないので、高齢者
にとっては労力の負担が大きかった。
そこで本考案は、口で吹く霧吹器にあっては、空気噴射
管1内に吹き込む息が多少弱くても、タンク3内に入れ
た高濃度の釉薬Wが導管4から容易に且つ確実に吸い上
げられるようにし、また、コンプレッサを使用するエア
ースプレーガンにあっては、そのコンプレッサの容量を
小さくしてスプレー装置全体のコスト低減を図れるよう
にすると共に、噴霧液タンク3内に入れられた釉薬Wの
スリップを絶えず攪拌して、その釉スリップに含まれた
粘土類や坏土などの固定分の沈澱を防止できるようにす
ることを技術的課題としている。
〔課題を解決するための手段〕
この課題を解決するために、本考案は、空気噴射管の先
端に設けたノズルから圧縮空気を噴射させて、密閉した
噴霧液タンク内に差し込まれた導管から泥漿状の釉スリ
ップを吸い上げると同時に、当該導管の液吐出口まで吸
い上げられた釉スリップを霧化させる釉薬用スプレー装
置において、前記空気噴射管が、前記噴射液タンクの上
部に着脱自在に固定されると共に、当該空気噴射管に
は、その管内に供給される圧縮空気の一部を前記ノズル
の手前側から抜き出して前記噴霧液タンク内に送り込む
枝管と、前記圧縮空気の圧力を調整するために指先で開
閉される空気抜き穴が設けられ、前記枝管が、前記空気
噴射管を前記噴霧液タンクの上部に固定したときにその
噴霧液タンク内の釉スリップ中に差し込まれる長さに形
成され、前記導管の内径が、上端の液吐出口から下端の
液吸込口にかけて漸次大きくなっていることを特徴とす
る。
〔作用〕
本考案によれば、空気噴射管の管内に供給される圧縮空
気が、空気噴射管の先端に設けられたノズルから噴射し
て、噴霧液タンク内に差し込まれた導管から釉スリップ
を吸い上げると同時に、その圧縮空気の一部が、空気噴
射管から分岐して設けられた枝管を通じて噴霧液タンク
内に送り込まれて、当該タンクの内圧を高めさせる。
これにより、噴霧液タンク内の釉スリップを導管の液吐
出口側から吸い上げる作用に加え、導管内の釉スリップ
を液吐出口に向かって圧し上げる作用が働き、また、導
管の内径が上端の液吐出口から下端の液吸込口にかけて
漸次大きくなっているため、釉スリップを液吐出口に向
かって圧し上げる力は非常に強く働く。
しかも、枝管から噴霧液タンク内に送り込まれる圧縮空
気によってそのタンク内の釉スリップが絶えず攪拌さ
れ、釉配合物である粘土類や坏土などの固形分の沈澱が
防止されて釉スリップの流動性が適正に維持されるの
で、空気噴射管に供給される圧縮空気の圧力が小さくて
も、噴霧液タンク内の高濃度が泥漿状の釉薬を容易に且
つ確実にスプレーすることができる。
更に、空気噴射管に設けられた空気抜き穴を指先で開閉
する簡単な操作によって、釉薬の噴霧量を自由自在に調
節することができるので、陶磁器の表面に微妙な風合い
を出させるように釉薬を吹き掛ける施釉作業が極めて容
易になる。
〔実施例〕
以下、本考案の実施例を図面に基づいて具体的に説明す
る。
第1図は本考案によるスプレー装置の一例を示す断面図
である。
本例においては、口から吹き出す息によって釉薬をスプ
レーする簡易な霧吹器を示し、空気噴射管1の後端に開
口する吹込口6から吹き込んだ息が、当該空気噴射管1
の先端に設けられたノズル2から噴射されると共に、そ
の息の一部が、空気噴射管1から分岐して設けられた枝
管7に通じて噴霧液タンク3内に送り込まれるようにな
っている。
噴霧液タンク3内には、粘土やコロイド質原料配合の泥
漿で成る釉薬Wが充填され、その釉薬Wの液中に導管4
と枝管7の双方が差し込まれている。
導管4は、その上端に開口する液吐出口5をノズル2の
真下まで垂直に延ばすと共に、液吐出口5から下端に開
口する液吸込口8に向かって、漸次その内径が大きくな
っている。
また、空気噴射管1には、その管内に吹き込まれた圧縮
空気の圧力を調整して、釉薬Wの噴霧量を調節するため
の空気抜き穴9が設けられている。
しかして、陶磁器素地の表面に釉がけを行う場合には、
空気噴射管1の空気抜き穴9を指で閉じて、吹込口6か
ら口で息を吹き込む。
これにより、空気噴射管1内に吹き込まれた息が、圧縮
空気となってノズル2から勢いよく噴射されると共に、
その息の一部がノズル2から噴射されずに枝管7を通じ
て噴霧液タンク3内に送り込まれる。
この時、ノズル2から噴射される圧縮空気で、導管4の
液吐出口5付近が負圧状態となって、噴霧液タンク3内
の釉薬Wを導管4の液吐出口5側から吸い上げる作用が
生ずると同時に、枝管7を通じて噴霧液タンク3内に送
り込まれる圧縮空気で、当該タンク3の内圧が高められ
て導管4内の釉薬Wをその液吸込口8側から液吐出口5
に向かって圧し上げる作用が加わり、導管4による釉薬
Wの吸い上げ作用が助長される。
したがって、空気噴射管1内に吹き込まれる圧縮空気の
圧力が小さくても、釉薬Wの出が非常に良く、高濃度の
釉薬Wであっても確実にスプレーすることができるか
ら、口で吹く霧吹器ならば息つきが非常に楽になり、釉
がけ作業の労力が大幅に軽減される。
殊に、導管4の内径が、上端の液吐出口5から下端の液
吸込口8にかけて漸次大きくなっていれば、導管4内の
釉薬Wを圧し上げる力が強く働くので、空気噴射管1内
に吹き込む息が比較的弱くても、噴霧液タンク3内の釉
薬Wを導管4から十分吸い上げることができる。
また、空気噴射管1の空気抜き穴9を押さえる指の操作
により、空気噴射管1内に吹き込まれる圧縮空気の圧力
を簡単に調整して、釉薬Wの噴霧量を自在に調節するこ
とができるので、空気噴射管1の吹込口6から圧縮空気
を吹き込む時の息づかいに、噴霧量の変化に応じて強弱
を与える必要もなくなり、口で吹く簡易な霧吹器を使用
して微妙な風合いを出す施釉作業が極めて容易になる。
更に、空気噴射管1内に吹き込まれた圧縮空気の一部
が、枝管7を通じて噴霧液タンク3内に送り込まれ、当
該タンク3内の釉薬Wを攪拌するから、釉配合物の沈澱
が防止されて、釉スリップの流動性が適正に維持され
る。
なお、実施例では、空気噴射管1の後端に設けた吹込口
6から息を吹き込む場合について説明したが、本考案は
これに限らず、空気噴射管1の後端をエアホースを介し
てコンプレッサに接続し、当該コンプレッサから高圧の
圧縮空気を供給するようにしてもよく、この場合には、
コンプレッサの容量を従来より小さくすることができる
から、スプレー装置のコスト低減が図られる。
また、導管4の液吐出口5は、これを空気噴射管1内に
入れ込んで、第3図の如くノズル2と同心的に配する場
合であってもよい。
〔考案の効果〕
以上述べたように、本考案によれば、空気噴射管に供給
される圧縮空気の圧力が小さくても、噴霧液タンク内に
入れられた高濃度の釉薬を導管から容易に且つ確実に吸
い上げてスプレーすることができ、いわゆる釉薬の出が
良くなるから、その圧縮空気を口で吹き込む簡易な霧吹
器にあっては労力が著しく軽減され、圧縮空気をコンプ
レッサで吹き込むスプレー機器にあっては当該コンプレ
ッサの容量を小さくして低コスト化が図れるという大変
優れた効果がある。
また、噴霧液タンク内に入れた釉薬を自動的に攪拌する
ことも可能であるから、当該釉薬に含まれた固形分が沈
澱することも防止でき、また、噴霧量も指の操作で簡単
且つ自在に調節できるので、微妙な釉薬作業が可能にな
るという優れた効果もある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案によるスプレー装置の一例を示す断面
図、第2図は従来装置の基本構造を示す断面図、第3図
は従来装置の変形例を示す部分断面図である。 符号の説明 1……空気噴射管、2……ノズル、3……噴霧液タン
ク、4……導管、5……液吐出口、7……枝管。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】空気噴射管(1)の先端に設けたノズル
    (2)から圧縮空気を噴射させて、密閉した噴霧液タン
    ク(3)内に差し込まれた導管(4)から泥漿状の釉ス
    リップを吸い上げると同時に、当該導管(4)の液吐出
    口(5)まで吸い上げられた釉スリップを霧化させる釉
    薬用スプレー装置において、前記空気噴射管(1)が、
    前記噴射液タンク(3)の上部に着脱自在に固定される
    と共に、当該空気噴射管(1)には、その管内に供給さ
    れる圧縮空気の一部を前記ノズル(2)の手前側から抜
    き出して前記噴霧液タンク(3)内に送り込む枝管
    (7)と、前記圧縮空気の圧力を調整するために指先で
    開閉される空気抜き穴(9)が設けられ、前記枝管
    (7)が、前記空気噴射管(1)を前記噴霧液タンク
    (3)の上部に固定したときにその噴霧液タンク(3)
    内の釉スリップ中に差し込まれる長さに形成され、前記
    導管(4)の内径が、上端の液吐出口(5)から下端の
    液吸込口(8)にかけて漸次大きくなっていることを特
    徴とする釉薬用スプレー装置。
JP1989043077U 1989-04-14 1989-04-14 釉薬用スプレー装置 Expired - Lifetime JPH0719565Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989043077U JPH0719565Y2 (ja) 1989-04-14 1989-04-14 釉薬用スプレー装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989043077U JPH0719565Y2 (ja) 1989-04-14 1989-04-14 釉薬用スプレー装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02133454U JPH02133454U (ja) 1990-11-06
JPH0719565Y2 true JPH0719565Y2 (ja) 1995-05-10

Family

ID=31555183

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1989043077U Expired - Lifetime JPH0719565Y2 (ja) 1989-04-14 1989-04-14 釉薬用スプレー装置

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Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2337039C3 (de) * 1973-07-20 1979-03-15 Josef 7990 Friedrichshafen Wagner Spritzpistole
JPS5434106A (en) * 1977-08-22 1979-03-13 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Liquid feeding device
JPS61171558U (ja) * 1985-04-12 1986-10-24

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02133454U (ja) 1990-11-06

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