JPH07140661A - 感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体装置作成において、工業的に有利なア
ルカリ水溶液を現像液とする工程により、高感度、高解
像度、かつ、高耐熱性のポジ型パタンを現出させるレジ
スト材料となる感光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 （ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）活性化学
線の照射により酸を生じる化合物および（ｃ）側鎖に酸
触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加さ
れる酸分解性基を有するビニル重合体を含むポジ型化学
増幅系感光性樹脂組成物であって、上記成分（ａ）がｍ
−クレゾールおよび／またはｐ−クレゾールと３，５−
キシレノールの混合物とアルデヒド類との重縮合したポ
リスチレン換算重量平均分子量が２，０００〜１２，０
００であり、かつ、上記成分（ａ）の水酸化テトラメチ
ルアンモニウムの２．３８重量％水溶液に対する溶解速
度を１０〜２００ｎｍ／秒とした感光性樹脂組成物およ
びこの組成物を用いたレジスト像の製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置等の微細加
工に用いられる感光性樹脂組成物に関し、特に、紫外
線、遠紫外線、Ｘ線、電子線等の放射線のパタン状照射
によりパタン潜像形成部に酸を発生させ、この酸を触媒
とする反応によって、当該照射部と未照射部のアルカリ
現像液に対する溶解性を変化させ、パタンを現出させる
感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、集積回路については高集積化に伴
う微細化が進み、６４Ｍあるいは２５６ＭＤＲＡＭ等に
おいては、サブハーフミクロン以下のパタン形成が要求
されるようになり、解像力の優れたレジスト材料が要望
されている。従来、集積回路の作成には、縮小投影露光
装置が用いられており、現在では、フォトマスクの工夫
等により、露光波長以下のパタンが解像可能となった。
しかし、６４Ｍあるいは２５６ＭＤＲＡＭに対応できる
ほどの解像力は得られていない。一方、光を用いる露光
よりもさらにパタンの微細加工を期待できるのがＸ線や
電子線による露光である。パタンの最小寸法は、ビーム
径に依存し、高い解像力が得られる。しかしながらどん
な微細加工が可能な露光方式でも、ＬＳＩ量産の面から
はウエハ処理の生産性が問題となる。生産性を向上させ
る方法としては、装置の改良もさることながら、用いる
レジストの高感度化が重要となる。

【０００３】高感度化を達成するためのレジスト材料と
しては、例えば、酸触媒下で反応性の高い媒体と活性化
学線の照射で酸を発生する酸前駆体を含む組成物とし
て、米国特許第３７７９７７８号明細書、特開昭５９−
４５４３９号公報、特開平２−２５８５０号公報に記載
の組成物等が知られている。これらの従来例の記載によ
れば、反応性の高い媒体としてアセタール基を含む化合
物又は重合体、ｔ−ブチル基を含む化合物又は重合体が
知られていた。これらの媒体は、酸分解基を含み、活性
化学線照射により発生した酸を触媒とする反応によっ
て、現像液に対する溶解性を変化させる化合物又は重合
体に変性する。しかし、従来のレジスト材料では、微細
なパタンを形状よく得るために必要となる照射部と未照
射部との現像液に対する溶解速度の差が小さくなること
から生じる、いわゆるγ値の低下（解像度の低下）とい
う問題がある。また、アルカリ可溶性樹脂と酸触媒下で
反応する成分とを混合して用いると、不均質な２層に分
離したり、あるいはミクロ層分離によりレジスト表面に
難溶化層が形成され、パタン形状が悪化するという極め
て重大な問題点がある。また、微細加工におけるレジト
パターン形成後のエッチング工程として、ドライエッチ
ングを使用すると、プラズマ化されたガスから発生する
反応性イオンがレジストパターンをも攻撃し、基板の温
度が上昇し、レジストパターンの損傷が大きくなる。こ
のために、微細加工において基板の加工精度が悪くな
り、歩留まりを悪化させることになる。一般的に、ノボ
ラツク樹脂を含有するレジスト材料は耐熱性が良いとい
われているが、クレゾールノボラック樹脂などの通常の
ノボラック樹脂では十分満足するレベルではなかった。
このように、従来の技術では高感度、高解像度、高耐熱
性を両立させることは難しかった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題点を解決し、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線
等の活性化学線のパタン状照射により酸を発生させ、こ
の酸を触媒とする反応によって、媒体のアルカリ水溶液
に対する溶解性を増加させ、工業的に有利なアルカリ水
溶液を現像液とする工程により高感度、高解像度かつ高
耐熱性のポジ型パタンを現出させるレジスト材料を提供
するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、特定のフェノール類とアルデヒド類とを重縮合し
たアルカリ可溶性樹脂であって、特定範囲の重量平均分
子量であって、かつ、アルカリ現像液に対してある特定
範囲の溶解速度であるアルカリ可溶性樹脂を用いること
によって、上記課題が解決できることを見出し本発明を
完成した。すなわち本発明は、（ａ）アルカリ可溶性樹
脂、（ｂ）活性化学線の照射により酸を生じる化合物お
よび（ｃ）側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対
する溶解性が増加される酸分解性基を有するビニル重合
体を含むポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物であって、
上記成分（ａ）がｍ−クレゾールおよび／またはｐ−ク
レゾールと３，５−キシレノールの混合物とアルデヒド
類との重縮合したポリスチレン換算重量平均分子量が
２，０００〜１２，０００であり、かつ、上記成分
（ａ）の水酸化テトラメチルアンモニウムの２．３８重
量％水溶液に対する溶解速度を１０〜２００nm／秒とし
た感光性樹脂組成物およびこの組成物を用いたレジスト
像の製造法に関する。

【０００６】本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂
は、ｍ−クレゾールおよび／またはｐ−クレゾールと
３，５−キシレノールの混合物とアルデヒド類との重縮
合したノボラック樹脂である。本発明者らは、フェノー
ル類モノマとして３，５−キシレノールを上記のクレゾ
ールと重縮合させ、上記の条件を満たすことにより高感
度、高解像度、かつ、高耐熱性のポジ型パタンを現出さ
せるレジスト材料が得られることを見出した。

【０００７】アルカリ可溶性樹脂は、ｍ−クレゾール／
ｐ−クレゾール／３，５−キシレノールのモノマ仕込み
組成を２０〜８０／０〜５０／５〜６０（モル比）とし
てアルデヒド類と重縮合されるアルカリ可溶性ノボラッ
ク樹脂とすることが得られるアルカリ可溶性樹脂が高感
度、高解像度、かつ、高耐熱性のポジ型パタンを現出さ
せるレジスト材料として優れるので好ましい。アルデヒ
ド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルム
アルデヒド等を挙げることができる。アルデヒド類の使
用量は、ｍ−クレゾールおよび／またはｐ−クレゾール
１モルに対して０．５〜１．５モルの範囲が好ましい。
重縮合のための触媒としては高分子量化させることので
きる酸触媒が好ましい。その酸触媒としては、塩酸、硝
酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、蓚酸、酢酸等の有機酸を挙
げることができる。酸触媒の使用量は、ｍ−クレゾール
および／またはｐ−クレゾール１モルに対して、１×１
０^-5〜１×１０^-1モルの範囲が好ましい。重縮合の反応
温度と反応時間は、合成原料の反応性に応じて適宜調整
することができるが、通常、反応温度は、７０〜１３０
℃であり、反応時間は、１〜１２時間である。重縮合の
方法としては、ｍ−クレゾールおよび／またはｐ−クレ
ゾール、アルデヒド類および触媒を一括で仕込む方法、
触媒存在下にｍ−クレゾールおよび／またはｐ−クレゾ
ールおよびアルデヒド類を反応の進行と共に加えていく
方法などを挙げることができる。重縮合終了後は、反応
系内に存在する未反応原料、縮合水、触媒等を除去する
ために、減圧下、例えば、２０〜５０mmHgで、反応系内
の温度を１５０〜２００℃に上昇させて、その後、樹脂
を回収する。

【０００８】本発明においては、上記のようにして得ら
れたアルカリ可溶性樹脂を溶解する溶剤、例えば、エチ
レングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエー
テル類、メチルセロソルブアセテート等のエチレングリ
コールアルキルエーテルアセトール類、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル等のジエチレングリコール
類、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等
のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート
類、トルエン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサノン
等のケトン類、２−ヒドロキシプロピオン酸等のエステ
ル類に溶解させ、基板に塗布し、これを水酸化テトラメ
チルアンモニウムの２．３８重量％アルカリ水溶液に入
れて塗膜が完全に溶解する時間を測定し、１秒当りに溶
解される膜厚（nm／秒）を求めて、これを溶解速度とす
る。このようにして測定したアルカリ可溶性樹脂の水酸
化テトラメチルアンモニウムの２．３８重量％水溶液に
対する溶解速度は１０〜２００nm／秒の範囲とされる。
溶解速度が１０nm／秒より小さいと十分な感度が得られ
ず、２００nm／秒より大きいとアルカリ可溶性樹脂の分
子量が小さいために十分な耐熱性が得られない。

【０００９】本発明においては、ポリスチレン換算重量
平均分子量が２，０００〜１２，０００の範囲のアルカ
リ可溶性樹脂が用いられる。重量平均分子量が２，００
０より小さいと十分な耐熱性が得られず、重量平均分子
量が１２，０００より大きいとアルカリ現像液に対する
溶解速度が小さくなるために十分な感度が得られない。
なお、本発明でのアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量
は単分散ポリスチレンを標準とするゲルパミェーション
グラフ法（ＧＰＣ）で求めた値である。ＧＰＣの測定
は、（株）日立製作所製液体クロマトグラフ６３５Ａ型
ＨＬＣにカラムとして日立化成工業（株）製ゲルパック
Ｒ４２０、Ｒ４３０およびＲ４４０のそれぞれ１本を直
列に連結し、キャリア溶媒としてテトラヒドロフランを
１．７５ml／分の流速で流して行い、重量平均分子量
は、単分散ポリスチレンを用いて得られる検量線から求
められる。

【００１０】本発明に用いられる活性化学線の照射によ
り酸を生じる化合物としては、例えば、各種ジアゾニウ
ム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホ
ニウム塩等のオニウム塩、各種ハロゲン化合物、フェノ
ール性水酸基を複数含む化合物とアルキルスルホン酸と
のエステル等が挙げられる。本発明における塩の対アニ
オンは、例えば、テトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオ
ロアンチモン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリ
フルオロ酢酸、トルエンスルホン酸塩等のようなもので
ある。

【００１１】また、活性化学線の照射により酸を生じる
化合物の添加量は、側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水
溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有するビ
ニル重合体１００重量部に対して５〜３０重量部である
ことが好ましい。添加量が５〜３０重量部であると、活
性化学線に対して十分な感度を与える。活性化学線の照
射により酸を生じる化合物の添加量が、３０重量部より
大きいと、レジスト材料として使用する際の溶剤に対す
る溶解性が低下し、また、５重量部未満では十分な感度
が得られない。

【００１２】本発明に用いられる側鎖に酸触媒反応によ
りアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性
基を有するビニル重合体として望ましいものは、酸によ
って効率的に側鎖の酸分解性基が解離され、その最終生
成物のアルカリ水溶液に対する溶解性が解離前の重合体
のそれと著しく異なる重合体である。このような酸分解
性基としては例えば、ポリビニルフェノール等のアルカ
リ可溶性樹脂の水酸基を保護する反応によって形成され
るテトラヒドロピラニル基やｔ−ブトキシカルボニル基
がある。酸分解性基を有するビニル重合体は、その水酸
基の全てを酸分解性基で保護されている必要はない。酸
分解性基を有するビニル重合体の分子量については、Ｇ
ＰＣ（ゲルパーミェーションクロマトグラフ）により求
めたポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が１，５
００〜３，０００の範囲であることが好ましい。この分
子量の範囲の重合体は、アルカリ可溶性樹脂との相溶性
が良いので、レジスト表面のアルカリ水溶液に対する難
溶化層の形成がなく、高解像度のレジスト材料となる。

【００１３】また、酸触媒反応により現像液に対する溶
解性が増加される酸分解性基を有するビニル重合体の添
加量は、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して５〜
３０重量部であることが望ましい。添加量が５〜３０重
量部であると、十分なレジスト残膜率を有し、高いγ
値、すなわち高解像度を与える。酸触媒反応により現像
液に対す溶解性が増加される酸分解性基を有するビニル
重合体の添加量が、３０重量部より大きいと照射部の現
像液に対する溶解速度が低下し、また、５重量部未満で
は未照射部の膜減りが大きくなる傾向がある。

【００１４】本発明の感光性樹組成物には、塗布性、例
えばストリエーション（膜厚のムラ）を防いだり、現像
性を良くしたりするための界面活性剤を配合することが
できる。さらに、本発明の感光性樹脂組成物には、必要
に応じて、保存安定性、溶解抑止剤等も配合することが
できる。

【００１５】本発明の感光性樹脂組成物は、溶液状とし
これによって半導体製造用基板上に塗膜を形成し、活性
化学線照射、現像することにより、レジスト像が製造さ
れる。活性化学線照射、現像の条件には制限がない。

【００１６】この際に用いられる溶剤としては、例え
ば、エチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコ
ールエーテル類、メチルセロソルブアセテート等のエチ
レングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル等のジエチレングリ
コール類、プロピレングリコールメチルエーテルアセテ
ート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテ
ート類、トルエン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサ
ノン等のケトン類、２−ヒドロキシプロピオン酸等のエ
ステル類を用いることができる。

【００１７】本発明の感光性樹脂組成物の現像液として
は、例えば、水酸化ナトリウム等の無機アルカリ類、エ
チルアミン等の第１級アミン類、ジエチルアミン等の第
２級アミン類、トリエチルアミン等の第３級アミン類、
ジメチルエタノールアミン等のアルコールアミン類、水
酸化テトラメチルアンモニウム、コリン等の第４級アン
モニウム塩、またはピペリジン等の環状アミン類を溶解
させたアルカリ水溶液が使用される。

【００１８】

【作用】酸分解性基を有するビニル重合体は、活性化学
線の照射によって生じた酸により酸分解性基が分解し、
水酸基を生成する。したがつて、酸分解性基を有するビ
ニル重合体をアルカリ可溶性樹脂と混合し、これをレジ
スト材料として用いると、活性化学線の照射部では発生
した酸を触媒とする反応によって上記ビニル重合体の酸
分解性基が分解し、水酸基が生成し、アルカリ水溶液に
対する溶解性が増加する。一方、非照射部では、上記ビ
ニル重合体がアルカリ水溶液に対する溶解性を阻害する
ために、本発明になる感光性樹脂組成物により、ポジ型
のパタンを得ることができる。

【００１９】本発明においては、上記のアルカリ可溶性
樹脂を用いることにより、高感度、高解像度、かつ、高
耐熱性のポジ型パタンを現出させるレジスト材料となる
感光性樹脂組成物を提供することができる。

【００２０】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。実施
例中、アルカリ可溶性樹脂の特性として、ポリスチレン
換算重量平均分子量（Ｍｗ）および水酸化テトラメチル
アンモニウムの２．３８重量％水溶液に対する溶解速度
を挙げたが、その特性の評価は、以下の方法により行っ
た。ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）：日立化
成工業（株）製ＧＰＣ低分子カラム、ゲルパック（Ｒ４
２０＋Ｒ４３０＋Ｒ４４０）を用いて、流量１．７５ml
／分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度室温の
分析条件で単分散ポリスチレンを標準として、（株）日
立製作所製液体クロマトグラフ６３５Ａ型ＨＬＣで測定
した。アルカリ可溶性樹脂の水酸化テトラメチルアンモ
ニウムの２．３８重量％水溶液に対する溶解速度：アル
カリ可溶性樹脂５ｇをメチルセロソルブアセテート１５
ｇに溶解後、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ
過した溶液を膜厚１μｍとなるようにシリコンウエハに
塗布し、８０℃で１０分間熱処理後に、水酸化テトラメ
チルアモンニウムの２．３８重量％水溶液に入れ、その
塗膜が完全に溶解する時間を測定し、１秒当りに溶解さ
れる膜厚（nm／秒）を求めてこれを溶解速度とした。

【００２１】合成例１ 撹拌後、冷却管および温度計を装着したセパラブルフラ
スコに表１の材料を仕込み、セパラブルフラスコを油浴
に浸し、内温を９７℃に保ち撹拌しながら３時間重縮合
を行った。その後、内温を１８０℃まで上げ、同時に反
応容器内の圧力を１０〜２０mmHgまで減圧し、未反応の
フェノール類、ホルムアルデヒド、水および蓚酸を除去
した。次いで、溶融した樹脂を金属バットにあけ樹脂を
回収した（以下、この樹脂を「樹脂Ｉ」とする）。

【表１】 樹脂ＩのＭｗは、５，９００であり、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムの２．３８重量％水溶液に対する溶解速
度は５５nm／秒であった。

【００２２】合成例２ 合成例１と同様なセパラブルフラスコに、表２の材料を
仕込み、合成例１と同様の条件で樹脂を得た（以下、こ
の樹脂を「樹脂II」とする）。

【表２】 樹脂IIのＭｗは、３，５００であり、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムの２．３８重量％水溶液に対する溶解速
度は５０nm／秒であった。

【００２３】合成例３ 合成例１と同様なセバラブルフラスコに、表３の材料を
仕込み、合成例１と同様の条件で樹脂を得た（以下、こ
の樹脂を「樹脂III」とする）。

【表３】 樹脂IIIのＭｗは、６，０００であり、水酸化テトラメ
チルアンモニウムの２．３８重量％水溶液に対する溶解
速度は３６nm／秒であった。

【００２４】合成例４ 合成例１と同様なセパラブルフラスコに、表４の材料を
仕込み、合成例１と同様の条件で樹脂を得た（以下、こ
の樹脂を「樹脂IV」とする）。

【表４】 樹脂IVのＭｗは、４，８００であり、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムの２．３８重量％水溶液に対する溶解速
度は１３nm／秒であった。

【００２５】合成例５ 合成例１と同様なセパラブルフラスコに、表５の材料を
仕込み、合成例１と同様の条件で樹脂を得た（以下、こ
の樹脂を「樹脂Ｖ」とする）。

【表５】 樹脂ＶのＭｗは、１，５００であり、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムの２．３８重量％水溶液に対する溶解速
度は２５０nm／秒であった。

【００２６】合成例６ 水酸基をテトラヒドロピラニル基で保護したポリ（ｐ−
ビニルフェノール）の合成方法を以下に示す。撹拌機を
装着したセパラブルフラスコにポリ（ｐ−ビニルフェノ
ール）（商品名リンカーＭ、丸善石油社製）２０ｇ、酢
酸エチル３００mlを仕込み、室温（２５℃）下で撹拌し
溶解させた。ついでフラスコ中に３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ピラン１０５ｇ、１２Ｎ塩酸０．５mlを添加し、室
温下で１時間撹拌した後、室温下で３日間放置した。つ
いで、反応溶液に水酸化テトラメチルアンモニウムの
２．３８重量％水溶液を１６０ml加えてよく撹拌した
後、有機層を取り出した。ここで得られた有機層の溶液
を蒸留水３００mlで３回洗浄した後、有機層を乾燥させ
エバポレータにより濃縮した。濃縮溶液５０mlに対して
石油エーテル５００mlを用いて再沈殿を行った。再沈殿
操作を２回繰り返した後、生成物を減圧乾燥器（３mmH
g、４０℃）で８時間乾燥し、水酸基をテトラヒドロピ
ラニル基で保護したポリ（ｐ−ビニルフェノール）２２
ｇを得た。

【００２７】実施例１ 樹脂Ｉを９０ｇ、合成例６で得た水酸基をテトラヒドロ
ピラニル基で保護したポリ（ｐ−ビニルフェノール）１
０ｇ、ピロガロールとメタンスルホン酸の三置換エステ
ル体（みどり化学社製商品名ピロガロールトリメシレー
ト）２ｇをメチルセロソルブアセテート２００ｇに溶解
させた後、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過
し、ポジ型レジストを調製した。得られたレジスト溶液
をシリコンウエハ上に塗布し、１００℃で１０分間熱処
理して１．５μｍの膜厚のレジスト膜を得た。この基板
に３０ｋＶの加速電圧の電子線描画装置を用いて、４μ
Ｃ／cm³の照射量でライン＆スペースパタンをレジスト
に描画後、１００℃で１０分間熱処理してレジストの潜
像部分のアルカリ水溶液に対する溶解性を増加させる反
応を促進した。この熱処理の後、水酸化テトラメチルア
ンモニウムの２．３８重量％水溶液を用いて潜像を形成
したレジスト膜を１２０秒間現像し、１０μｍの線幅・
パタンを形成した。パタンの断面形状を電子顕微鏡で観
察した。この試験結果について表６に示す（パタン形状
は、現像残り、サイドエッチのないものを○とし、残膜
率は８０％以上を○、８０％未満を×とした。以下の例
においても同じ）。また、上記と同様にして作成したレ
ジスト膜に同様の描画装置を用いて４μＣ／cm³の照射
量でライン＆スペースパタンをレジストに描画し、その
後上記と同様の熱処理、現像を行い、１０μｍの線幅パ
タンを形成した後、ホットプレート上に５分間のせて、
線幅パタンが変形し始める温度を測定した。表６に示す
ように、パタン形状、残膜率は良好であり、かつ、耐熱
性に優れている。

【００２８】実施例２ 実施例１において、樹脂Ｉの代わりに樹脂IIを用いた以
外は実施例１と同様にして、ポジ型レジストを調製し、
レジスト特性の試験を行った。表６に示すように、パタ
ン形状、残膜率は良好であり、かつ、耐熱性に優れてい
る。

【００２９】比較例１ 実施例１において、樹脂Ｉの代わりに樹脂IIIを用いた
以外は実施例１と同様にして、ポジ型レジストを調製
し、レジスト特性の試験を行った。表６に示すように、
パタン形状、残膜率は良好であるが、耐熱性が劣ってい
る。

【００３０】比較例２ 実施例１において、樹脂Ｉの代わりに樹脂IVを用いた以
外は実施例１と同様にして、ポジ型レジストを調製し、
レジスト特性の試験を行った。表６に示すように、パタ
ン形状、残膜率は良好であるが、耐熱性が劣っている。

【００３１】比較例３ 実施例１において、樹脂Ｉの代わりに樹脂Ｖを用いた以
外は実施例１と同様にして、ポジ型レジストを調製し、
レジスト特性の試験を行った。表６に示すように、パタ
ン形状は良好であるが、残膜率と耐熱性が劣っている。

【００３２】

【表６】

【００３３】

【発明の効果】本発明になる感光性樹脂組成物は、紫外
線、遠紫外線、電子線、Ｘ線、その他の活性化学線に対
して、高感度、高解像度、かつ、高耐熱性のアルカリ水
溶液で現像可能なポジ型レジストとなる感光性樹脂組成
物である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/02 Ｚ (72)発明者 橋本 政弘 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 ▲鯉▼渕 滋 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 橋本 通晰 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 逆水 登志夫 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 白石 洋 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）活性
   化学線の照射により酸を生じる化合物および（ｃ）側鎖
   に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増
   加される酸分解性基を有するビニル重合体を含むポジ型
   化学増幅系感光性樹脂組成物であって、上記成分（ａ）
   がｍ−クレゾールおよび／またはｐ−クレゾールと３，
   ５−キシレノールの混合物とアルデヒド類との重縮合し
   たポリスチレン換算重量平均分子量が２，０００〜１
   ２，０００であり、かつ、上記成分（ａ）の水酸化テト
   ラメチルアンモニウムの２．３８重量％水溶液に対する
   溶解速度を１０〜２００nm／秒とした感光性樹脂組成
   物。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の感光性樹脂組成物の塗
   膜を、活性化学線で照射し、ついで現像するレジスト像
   の製造法。