JPH07114188A

JPH07114188A - ポリシラン系感光性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成方法

Info

Publication number: JPH07114188A
Application number: JP26228793A
Authority: JP
Inventors: Hidemi Ueda; 英美上田; Hiroshi Tsushima; 宏津島; Iwao Sumiyoshi; 岩夫住吉
Original assignee: Nippon Paint Co Ltd
Current assignee: Nippon Paint Co Ltd
Priority date: 1993-10-20
Filing date: 1993-10-20
Publication date: 1995-05-02
Anticipated expiration: 2017-04-15
Also published as: KR100367263B1; TW417039B; KR950012154A; EP0650093B1; DE69408260T2; JP3274918B2; DE69408260D1; EP0650093A1

Abstract

(57)【要約】【構成】式【化１】 [式中、R₁、R₂、R₃およびR₄は置換もしくは無置換の脂
肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香族炭化水
素基からなる群からそれぞれ独立して選択される基であ
り、そしてmおよびnは整数である。]で示される構造の
ポリシラン、光ラジカル発生剤および酸化剤を含有する
感光性樹脂組成物。【効果】ポリシランの光分解に対する感度が向上し、
光分解に要する時間が短い感光性樹脂組成物が提供され
た。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はポリシラン系感光性樹脂
生成物、およびそれを用いるパターン形成方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、極微細なパターンを高精度で形成
するフォトレジストの開発を目的として、ポリシランを
用いた二層レジストに関する研究が活発に行われてい
る。また、津島らは、ポリシラン薄膜に紫外線照射後、
染料ないしは顔料を含む金属酸化物のゾルに浸漬するこ
とにより得られる着色パターンがカラーフィルターに応
用可能であることをこれまでに見い出している(特願平4
-68243号)。

【０００３】しかし、ポリシランの光分解は、反応速度
が遅くかつ低感度であるため、長時間の露光を必要とす
る。したがって、生産性が低下するという問題が生じて
いた。

【０００４】ポリシランの光分解に対する感度を向上さ
せるには、トリアジン等の増感剤または過酸化物をポリ
シランに添加すると効果的であることがこれまでに見い
出されている(特開昭61-189533号公報、G.M.ウォーラッ
フ(Wallraff)ら、Polym.Mat.Sci.Eng.,第66号、第105頁
(1992年))。しかし、これらの先行技術では露光時間が
まだ長く、露光時間短縮のためには多量の増感剤を加え
ねばならない。多量の添加物はポリシランそのものの物
性を低下させるので、できるだけ少量の添加物でポリシ
ランの光分解に対する感度を向上させることが望まれて
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の問
題を解決するものであり、その目的とするところは、短
い露光時間で感光が可能なポリシラン系感光性樹脂組成
物、およびそれを用いるパターン形成方法を提供するこ
とにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、式

【０００７】

【化２】

【０００８】[式中、R₁、R₂、R₃およびR₄はメチル基、n
-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基、フェニルメ
チル基、トリフルオロプロピル基およびノナフルオロヘ
キシル基のような置換もしくは無置換脂肪族炭化水素
基、p-トリル基、ビフェニル基およびフェニル基のよう
な芳香族炭化水素基、およびシクロヘキシル基、メチル
シクロヘキシル基のような置換もしくは無置換脂環式炭
化水素基からなる群からそれぞれ独立して選択される基
であり、mおよびnは整数である。]で示される構造のポ
リシラン、光ラジカル発生剤および酸化剤を含有する感
光性樹脂組成物を提供するものであり、そのことにより
上記目的が達成される。

【０００９】本発明に用い得る上記ポリシランにおいて
は、脂肪族または脂環族炭化水素の場合、炭素数は１〜
10、好ましくは１〜６であり、芳香族炭化水素の場合、
炭素数６〜14、好ましくは６〜10である。R₁〜R₄基の種
類、およびmおよびnの値は特に重要でなく、このポリシ
ラン樹脂が有機溶媒可溶性であり、均一な薄膜(厚さ0.1
〜10μm)でコーティング可能なものであればよい。

【００１０】本発明に用いうる光ラジカル発生剤とは、
光によってハロゲンラジカルを発生する化合物である。
これは、Si-Si結合が、ハロゲンラジカルにより効率よ
く切断されることに着目して、ポリシランの光に対する
感度を増大させるために本発明の感光性樹脂組成物に添
加される。

【００１１】本発明の感光性樹脂組成物に酸化剤を更に
配合することによりSi-Si結合に容易に酸素が挿入さ
れ、光ラジカル発生剤と酸化剤との相互作用により相乗
効果が得られ、ポリシランの光分解に対する感度を向上
することが可能である。本発明に用いうる酸化剤とは酸
素供給源となる化合物である。

【００１２】光ラジカル発生剤としては、光によってハ
ロゲンラジカルを発生する化合物であれば特に限定され
ないが、例えば、式

【００１３】

【化３】

【００１４】[式中、XはClまたはBrである。]で示され
る2,4,6-トリス(トリハロメチル)-1,3,5-トリアジン、
式

【００１５】

【化４】

【００１６】[式中、XはClまたはBrであり、Rは置換も
しくは無置換の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基お
よび芳香族炭化水素基である。]で示される2-置換-4,6-
ビス(トリハロメチル)-1,3,5-トリアジン、および式

【００１７】

【化５】

【００１８】[式中、XはClまたはBrであり、R₁およびR₂
は置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化
水素基および芳香族炭化水素基である。]で示される2,4
-置換-6-トリハロメチル-1,3,5-トリアジンなどが挙げ
られる。

【００１９】酸化剤としては、酸素供給源となる化合物
であれば特に限定されないが、例えば、過酸化物、アミ
ンオキシドおよびホスフィンオキシドなどが挙げられ
る。

【００２０】光ラジカル発生剤、酸化剤とも、ポリシラ
ン100重量部に対してそれぞれ１〜30重量部混合すれ
ば、実用に供し得る。また、光ラジカル発生剤および酸
化剤の他に適当な色素を加えることにより、色素の光励
起によりハロゲンラジカルを発生させることも可能であ
る。

【００２１】本系の最適組成は、ポリシラン100重量部
に対して、光ラジカル発生剤１〜30重量部、酸化剤１〜
30重量部、さらに色素を１〜20重量部を配合したもので
ある。ここで用いる色素は、クマリン系、シアニン系、
メロシアニン系等、多種類の可溶性色素が有効である。

【００２２】本発明の薄膜パターン形成法では、まず、
本発明の感光性樹脂組成物から成る感光層が適当な基材
上に形成される。基材は、その形状、材質を特に限定さ
れない。用途にあわせて、ガラス板、金属板、プラスチ
ック板等が使用し得る。

【００２３】このような基板上に感光層が形成される。
均一な厚さの感光層を形成可能であれば、形成法は特に
限定されない。上記のポリシラン、光ラジカル発生剤、
酸化剤さらに必要に応じて加える色素は、いずれもトル
エン、THFなどのような各成分を溶解可能ないずれかの
溶媒を用いて溶液とし、スピンコーターにより塗布する
ことができる。溶液の濃度は５〜15％が好適である。感
光層は0.1〜10μmの範囲の乾燥膜厚に形成することが好
ましい。

【００２４】薄膜パターンを形成する工程の一例を図１
の(a)〜(d)に示す。まず、図１(a)に示すように、上述
のような基板101と感光層102からなるパターン薄膜形成
用積層体104は、水銀灯のような紫外もしくは可視光源
を用いてパターンに応じて照射される。通常は、紫外も
しくは可視光110の照射は薄膜形成用積層体104上に重ね
られたパターンマスク103を通して行われる。

【００２５】本発明で用いられる光源は、光ラジカル発
生剤または色素が感光する波長を有する。この照射は、
好ましくは、感光層の厚さ１μm当り0.2〜５J/cm²の光
量で行われる。

【００２６】感光層に存在するSi-Si結合は光照射によ
り切断されてSi-OH(シラノール基)が生成する。したが
って、照射された薄膜形成用積層体にはパターンに応じ
てシラノール基を有する潜像が形成される。

【００２７】次いで、シラノール基を有する潜像が形成
された薄膜形成用積層体を金属酸化物ゾル溶液に浸漬す
ることにより薄膜形成用積層体のパターン部分にゾルが
吸着される。感光層を膨潤させて吸着速度を速めるため
に、必要に応じてアセトニトリル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランのような水溶性有機溶剤を金属酸化物ゾル
に添加してもよい。このような水溶性有機溶剤は、好ま
しくはゾル溶液中に１〜30重量％の量で含有される。溶
剤の含有量が30％を上まわると感光層の部分的な再溶解
が生じ、得られる薄膜の表面に乱れが生じうる。本発明
では、一般に、ゾルの吸着は20〜40℃に保温されたゾル
溶液に薄膜形成材料を１〜40分間浸漬することにより好
適に行われる。

【００２８】金属酸化物ゾルの材料としては、一般的に
ゾル-ゲル法で使う材料が使用できる。例えば、目的の
機能により金属の種類が異なるが、Si、Zr、Pb、Ti、B
a、Sr、Nb、K、Li、Ta、In、Sn、Zn、Y、Cu、Ca、Mn、F
e、Co、La、Al、Mg、V等アルコキシド、アセチルアセト
ナート、酢酸塩、アミン等の金属有機物、硝酸塩等の可
溶性無機塩、あるいは酸化物微粒子の分散体が用いられ
る。これらをアルコール等の溶媒で溶液化し、酸または
塩基等の触媒を使って縮重合反応させゾル化する。ま
た、金属の置換基すべてを縮重合性の官能基にせず、一
部有機の官能基を残すようにしてもよい。さらに、ゾル
溶液に溶解または分散できる材料を加えてもよい。

【００２９】Siのアルコキシドを使った場合をあげる
と、テトラエトキシシランをエタノール-水の混合溶液
に溶解させ、塩酸を加えて室温で２時間攪拌すること
で、テトラエトキシシランは加水分解、脱水縮合して均
質なシリカゾルが得られる。

【００３０】シリカゾルの場合、組成としては、テトラ
エトキシシラン100重量部に対してエタノール50〜200重
量部、水１〜200重量部、塩酸0.1〜３重量部が好まし
い。また、場合によっては、さらに水溶性の有機溶剤、
例えばアセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンを加えてもよい。

【００３１】金属酸化物ゾルは感光層の紫外線照射部に
吸着して感光層内部に取り込まれているものと、考えら
れる。吸着は、感光層の紫外線照射部に存在する微細な
孔を通して、内部に進行すると考えられる。ゾル粒子の
直径は数nm〜数十nmであり、拡散しながら固着可能であ
り、ゾル粒子と共存する適当な大きな粒子状材料もゾル
粒子と共に、ゾル粒子単独の場合と同様に内部への拡散
が可能であることが確認されている。

【００３２】従って、ゾル粒子の吸着に供って機能を発
現させる場合、次の４通りが考えられる。ゾル粒子その
ものが機能性原子または機能性基を含む場合；ゾル粒子
と共に感光層に吸着し得る粒子状材料が共存する場合；
ゾルに溶解し得る化合物または高分子材料が共存する場
合；およびゾル粒子自体を感光層の紫外線照射部分に吸
着させた後に非吸着部分を除去し、凹凸表面形状を形成
し、機能を発現する場合。もちろん、これら２種以上を
組合せて機能を発現させてもよい。

【００３３】機能性原子としてはフッ素等が例示され、
これらを多く含むゾルを形成し、これを感光層に吸着さ
せれば、フッ素による撥水性を感光層上にパターン化す
ることができる。このような方法に用いる機能性基とし
ては、更に疎水性基であるアルキル基等が、イオン交換
性基であるカルボキシル基、スルホ基、酸性水酸基、ア
ミノ基等が挙げられる。

【００３４】粒子状材料としては例えば銅や銀粒子が挙
げられ、これらを共存させたゾルを得、これをゾル粒子
と共に感光層に吸着させることにより、銅や銀を感光層
にパターン化して含ませることができる。

【００３５】シリカゾルを用いる場合、粒子状材料はシ
リカゾルを用いて分散するか、一度非イオン性の界面活
性剤を用いて分散しておき、シリカゾル調製時に混合し
てもよい。この場合、粒子状材料の粒子径は500nm以
下、好ましくは200nm以下にする必要がある。粒子径が5
00nmを超えるとゾル液に浸漬しても粒子が感光層の照射
部に拡散できず固着できない。粒子径は通常の遠心沈降
法で測定できる。シリカゾル粒子が粒子状材料表面に吸
着しているものと考えられる。粒子表面へのシリカゾル
の吸着はゼータ電位を測定すれば、簡単に確認できる。
例えば、非イオン性の界面活性剤を使って分散させた材
料のゼータ電位はシリカゾル吸着により表面にシラノー
ル基が存在し、-5〜-25mVで安定化する。

【００３６】ゾル溶液に溶解できる材料としては、水ま
たはアルコールに溶解する材料で、シリカゾルのシラノ
ール基と相互作用する材料であれば、ゾル粒子と共に感
光層の照射部に拡散し固着できる。例えば、高分子材料
の場合、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコー
ル、セルロース等のアルコール性の水酸基をもつポリマ
ー、ポリ(2-メチル-2-オキサゾリン)、ポリ(N-ビニルピ
ロリドン)、ポリ(N,N-ジメチルアクリルアミド)等のア
ミド基含有のポリマーが適している。これらの材料を感
光層に含有させ、材料が分解しない低温でゲル化させる
ことで柔軟性を、材料が分解する温度以上でゲル化させ
ることで、材料が分解した後に残る孔を利用して多孔性
等の機能を付与することができる。また、着色を目的と
した場合、ゾル中に染料または顔料を溶解もしくは分散
させることで着色パターンの形成が可能である。

【００３７】パターン部分にゾルが吸着した薄膜形成用
積層体はゾル液を除去した後に乾燥させる。ゾル液を除
去する方法としては、水洗する方法およびエアブローで
吹き飛ばす方法等を用い得る。

【００３８】乾燥は、感光層の露光部分に吸着したゾル
粒子のゲル化をさらに進行させるために例えば、100℃
以上で30分から２時間乾燥させる。乾燥温度は用いる基
板、ゾル液中に含有させた機能材料の許容範囲でできる
だけ高くすることで、より硬い耐性の優れた膜となる。
ガラス基板を用い、ゾルとしてシリカゾルを使った場
合、400℃以上の加熱で有機の置換基が脱離して金属酸
化物薄膜となる。

【００３９】このような薄膜パターン形成工程により、
図１(b)に示すように、所望にパターニングされた薄膜
形成用積層体104'が得られる。

【００４０】光ディスク基板のプレグループのようにガ
ラス表面に凹凸が必要な場合は、次いで、図１(c)に示
すように全面露光し、残った感光層を分解させて除去す
れば図１(d)のように凹凸のあるパターン薄膜が得られ
る。不必要な感光層を除去する方法としては、加熱によ
り揮散させる方法や、溶剤を使って除去する方法があ
る。加熱により除去する場合は200℃以上で10〜60分の
加熱で十分である。この場合、ゾル粒子は機能性を有し
てなくても良い。

【００４１】また、図１(a)〜(b)の工程を、露光部分を
変えて異なる配合のゾル液を使って繰り返せば、機能の
異なる薄膜を同一基材上に簡単にパターニングできる。

【００４２】このような簡便な操作により、ゾル-ゲル
法による薄膜形成技術で大きな問題であったパターン化
が解決できる。また、本発明の感光性樹脂組成物によ
り、より短時間で露光が可能となり、生産性が向上す
る。

【００４３】上述のように、本発明の薄膜パターン形成
法では、パターニングのために必要なレジストを使った
フォトリソグラフィー工程が不要である。またこの方法
により形成されるパターン薄膜は、未露光部の感光層を
除去しなければ、凹凸の無い平坦な層になり、除去すれ
ば、凹凸のあるパターン薄膜が形成できることから求め
る機能により選択が可能である。

【００４４】また、パターニングは感光層の光分解の解
像度が高いためにサブミクロンオーダーの解像度をもつ
微細なパターン薄膜が形成できる特徴をもつため、スタ
ンパー法よりも高密度な凹凸表面の加工にも適する。

【００４５】この技術は応用範囲が広く、用いる基材、
ゾルの材料により種々の機能をもつ薄膜パターニングが
可能である。

【００４６】

【実施例】以下の実施例により本発明をさらに説明する
が、本発明はこれらに限定されない。本実施例で用いら
れる「％」はすべて重量基準である。

【００４７】

【調製例１】撹拌機を備えた1000mlフラスコに、トルエ
ン400mlおよびナトリウム13.3gを充填した。高速撹拌す
ることによりナトリウムをトルエン中に微細に分散した
後、ここにフェニルメチルクロロシラン61.6gを添加し
た。次いで、このフラスコの内容物を紫外線を遮断した
イエロールーム中で111℃に昇温し、５時間撹拌するこ
とにより重合を行った。その後、得られる反応混合物に
エタノールを添加することにより過剰のナトリウムを失
活させ、水洗することにより有機層を分離した。この有
機層をエタノール中に投入することによりポリシランを
沈澱させた。得られた粗製のポリメチルフェニルシラン
をトルエン-エタノールから３回再沈澱させることによ
り、重量平均分子量20万のポリメチルフェニルシランを
得た。

【００４８】

【実施例１】調製例１で得られたポリメチルフェニルシ
ラン100重量部と、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(p-
メトキシフェニルビニル)-1,3,5-トリアジン(TAZ-110)
(みどり化学製)10重量部、および、3,3',4,4'-テトラ-
(t-ブチルパ-オキシカルボニル)ベンゾフェノン(BTTB)
(日本油脂製)15重量部をトルエンに溶解して、10％のト
ルエン溶液を得た。これを石英基板上にスピンコート
し、膜厚0.2μmの薄膜を得た。この薄膜について、ポリ
シランの光分解に対する感度を求めた。

【００４９】大塚電子製MCPD-1000を用いて紫外線吸収
スペクトルを測定し、ポリシランのλmaxの吸収が1/2に
なるまでの紫外線照射時間を感度とした。但し、紫外線
照射はGS製超高圧水銀灯(CL-50-200A、500W)により行っ
た。結果は表１に示す通りである。

【００５０】

【実施例２】実施例１と同じポリシラン100重量部と、T
AZ-110の10重量部、および、トリフェニルホスフィンオ
キサイド(TPPO)(東京化成製)10重量部について実施例１
と同様に感度測定を行った。結果は表１に示す。

【００５１】

【比較例１】実施例１と同じポリシラン100重量部のみ
について実施例１と同様に感度測定を行った。結果は表
１に示す。

【００５２】

【比較例２および３】実施例１と同じポリシラン100重
量部と、TAZ-110の10重量部または20重量部について実
施例１と同様に感度測定を行った。結果は表１に示す。

【００５３】

【比較例４〜７】実施例１と同じポリシラン100重量部
と、BTTBの15重量部または30重量部あるいはTPPOの10重
量部または20重量部について実施例１と同様に感度測定
を行った。結果は表１に示す。

【００５４】

【実施例３】実施例１と同じポリシラン100重量部と、
2,4,6-トリス(トリクロロメチル)1,3,5-トリアジン(TCM
T)(みどり化学製)10重量部、BTTBの15重量部、および、
クマリン系色素3,3'-カルボニルビス(7-ジエチルアミノ
クマリン)(コダック製)５重量部をTHFに溶解して、10％
のTHF溶液を得た。これを用いて実施例１と同様にサン
プル作製した。

【００５５】感度はポリシランのλmaxの吸収が1/2にな
るまでの可視光照射時間とした。ただし、可視光照射に
はGS製超高圧水銀灯(CL-50-200A、500W)を用い、フィル
ターにより440nm以下の光をカットした。結果は表２に
示す。

【００５６】

【比較例８および９】実施例１と同じポリシラン100重
量部と、TCMTの10重量部、およびBTTBの15重量部または
実施例３と同じクマリン系色素５重量部について実施例
３と同様に感度測定を行った。結果は表２に示す。

【００５７】

【表１】添加剤(ポリシラン100 重量部に対する重量部）実施例Ｎｏ．ＴＡＺ−１１０ＢＴＴＢＴＰＰＯ
露光時間(秒) １ 10 15 0 12 ２ 10 0 10 19 比較例１ 0 0 0 62 比較例２ 10 0 0 50 比較例３ 20 0 0 25 比較例４ 0 15 0 43 比較例５ 0 30 0 42 比較例６ 0 0 10 58比較例７ 0 0 20 56

【００５８】

【表２】添加剤(ポリシラン100 重量部に対する重量部) 実施例No. TCMT BTTB クマリン露光時間(秒) ３ 10 15 5 120 比較例８ 10 15 0 440比較例９ 10 0 5 630

【００５９】

【調製例２】テトラエトキシシラン13g、エタノール20
g、水13gをビーカーに入れ、撹拌させながら濃塩酸0.1g
を加えて30℃で２時間撹拌して加水分解・脱水縮合させ
ゾルを調整した。これにさらに水43g、アセトニトリル1
0gを加えて浸漬用のシリカゾルとした。

【００６０】

【実施例４】実施例１と同じ配合のトルエン溶液を、縦
５cm×横５cm×厚さ0.11cmのガラス基板にスピンコータ
ー(ダイナパート社製「PRS-14」)を用いて乾燥膜厚が２μ
mになるように塗布した。得られた薄膜パターン形成用
積層体上に石英製フォトマスクを重ね、これに超高圧水
銀灯平行露光装置(日本電池社製CL-50-200A)を用いて0.
5J/cm²の光量の紫外線に露光した。フォトマスクを除去
した後に、潜像が形成された積層体を調製例２のゾルに
５分間浸漬した。浸漬後、水洗を行い200℃で30分乾燥
させることによりシリカゲルのパターン薄膜を得た。

【００６１】さらに、この薄膜パターン形成積層体に上
記の装置を使って、紫外線を0.5J/cm²の光量で全面照射
し、200℃で30分間乾燥させるとシリカゲルのパターン
以外の感光層は揮発分解し、ガラス基板上にシリカゲル
の薄膜の凹凸パターンが形成された。さらにこれを600
℃で30分焼成することで完全な酸化ケイ素のガラスに変
化し、その凹凸プロファイルを日本真空製表面形状測定
装置デクタック(Dektak)3STで測定すると高さ0.5μmの
プレグルーブが形成できていた。このようにスタンパー
法やエッチング法を使わずにガラス表面の微細凹凸加工
が可能であった。

【００６２】

【比較例１０】調製例１のポリシラン10％トルエン溶液
を用いて、実施例４と同様のことを行うと、明確な潜像
が形成されないためゾルが定着せず、十分な凹凸パター
ンが得られなかった。

【００６３】

【調製例３】テトラエトキシシラン25g、エタノール25
g、水17gから成る溶液に各色用の顔料10gを加え、さら
にガラスビーズ100gを加えて20℃で２時間分散させた後
に、塩酸0.3gを加えて20℃で２時間分散して調整した。
また、着色材を添加していない同じ配合のゾル溶液を調
整し、このゾル溶液30gと着色ゾル10gを混合し、さらに
水を30g追加して着色用のゾル溶液とした。

【００６４】レッド用顔料としてチバガイギー社製「マ
イクロリス(Microlith)レッド２BWA」を、ブルー用顔料
としてチバガイギー社製「マイクロリスブルー４GWA」
を、そしてグリーン用顔料としてチバガイギー社製「イ
ルガライト(Irgalite)グリーンGLNニュー」を用いた。

【００６５】

【実施例５】実施例１と同じ配合のトルエン溶液を、縦
５cm×横５cm×厚さ0.11cmのガラス基板上にスピンコー
ターを用いて塗布した。ついで、この塗膜を乾燥させる
ことにより厚さ２μmの感光層を形成した。

【００６６】得られたフィルタ材料上にカラーフィルタ
のレッド用透過パターンが形成された銀塩ネガティブフ
ィルムを重ね、この積層体を超高圧水銀灯を用いて0.5J
/cm²の光量の紫外線に露光した。銀塩ネガティブフィル
ムを除去した後に、潜像が形成されたフィルタ材料を、
調製例３のレッド用着色ゾル溶液に浸漬した。

【００６７】ついで、カラーフィルタのレッド用透過パ
ターンが形成された銀塩ネガティブフィルムの代わりに
カラーフィルタのブルー用透過パターンが形成された銀
塩ネガティブフィルムを重ねて露光し潜像を形成した
後、ブルー用着色ゾルを用いて２色目の着色を行った。

【００６８】同様に、カラーフィルタのグリーン用透過
パターンが形成された銀塩ネガティブフィルムおよびグ
リーン用着色ゾルを用いて３色目の着色を行い、カラー
フィルタを得た。

【００６９】得られたカラーフィルタは高透明で混色が
なく、また、カラーフィルタの分光透過率を大塚電子MC
PD-1000を用いて測定した結果、最大吸収波長部分でR：
３％、G：６％、B：４％であった。

【００７０】

【比較例１１】調製例１のポリシラン10％トルエン溶液
を用いて実施例５と同様のことを行うと、露光により潜
像が明確に形成されず、ゾルに浸漬しても十分な着色が
得られなかった。

【００７１】

【発明の効果】ポリシランの光分解に対する感度が向上
し、光分解に要する時間が短い感光性樹脂組成物、およ
びそれを用いるパターン形成方法が提供された。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のパターン形成方法による薄膜パター
ンを形成する工程の一例を示す図である。

【符号の説明】

101…基板、 102…感光層、 103…パターンマスク、 110…紫外もしくは可視光。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０３Ｆ 7/38 ５１２ 7124−2ＨＨ０１Ｌ 21/027

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式【化１】 [式中、R₁、R₂、R₃およびR₄は置換もしくは無置換の脂
肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香族炭化水
素基からなる群からそれぞれ独立して選択される基であ
り、そしてmおよびnは整数である。]で示される構造の
ポリシラン、光ラジカル発生剤および酸化剤を含有する
感光性樹脂組成物。
【請求項２】色素をさらに含有する請求項１記載の感
光性樹脂組成物。
【請求項３】基材上に請求項１記載の感光性樹脂組成
物から成る感光層を形成する工程；該感光層をパターン
に応じて選択的に露光することによりパターン状の潜像
を形成する工程；潜像が形成された感光層を金属酸化物
のゾルに浸漬する工程；を包含する金属酸化物の薄膜パ
ターンの形成方法。
【請求項４】前記金属酸化物のゾルが染料または顔料
を含む請求項３記載の方法。