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JPH07109493A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

洗浄剤組成物

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Publication number
JPH07109493A
JPH07109493A JP28174293A JP28174293A JPH07109493A JP H07109493 A JPH07109493 A JP H07109493A JP 28174293 A JP28174293 A JP 28174293A JP 28174293 A JP28174293 A JP 28174293A JP H07109493 A JPH07109493 A JP H07109493A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ether
water
alkylene glycol
methoxy
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28174293A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshige Oikawa
川 宏 習 及
Yoshiaki Nakamura
村 嘉 顕 中
Tomio Kawashima
島 富 男 川
Tsugukatsu Osakabe
部 次 功 刑
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toagosei Co Ltd filed Critical Toagosei Co Ltd
Priority to JP28174293A priority Critical patent/JPH07109493A/ja
Publication of JPH07109493A publication Critical patent/JPH07109493A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 水系洗浄剤、とくにフラックスの除去に有用
な水系洗浄剤を提供する。 【構成】 下記成分(a)〜(c)からなる洗浄剤組成
物。 (a)3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール 0.1〜80重量% (b)ノニオン界面活性剤または/およびアルキレングリコールジアルキルエ ーテル 0.1〜80重量% (c)水 残部 【効果】 本発明によれば、各種汚れ、特にフラックス
に対する洗浄力に優れ、引火性がなく、すすぎ性に優
れ、かつ被洗浄物の仕上がり、例えば電気抵抗等に影響
を及ぼさず、また、各種被洗浄物に悪影響を及ぼさない
水系洗浄剤を提供することが出来る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水系洗浄剤組成物に関
するものであり、特にフラックスの除去に適した洗浄剤
組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】優秀な洗浄剤である1,1,1−トリク
ロロエタンや特定フロンは、オゾン層破壊問題により1
995年末に全廃が決定した。このため、現在これらに
代わる洗浄剤として、アルコール系、テルペン系、炭化
水素系などの有機系洗浄剤や、水系の洗浄剤が種々提案
されている。
【0003】しかしながら、アルコール系、テルペン
系、炭化水素系などの有機系洗浄剤を使用する場合は、
洗浄性においては良好であるが、引火性に問題があり、
これに対処するために防爆設備等に多大な費用が必要で
あった。
【0004】これに対して、水系の洗浄剤は不燃性とい
う利点を有しているが、ケイ酸塩や炭酸塩あるいは金属
塩類などを含んだものでは、洗浄後にその塩類が残留
し、絶縁不良、しみ、あるいはピンホ−ル等の発生原因
となり、例えば研磨カス、粉、機械油、切削油、レジス
トインキ、フラックス、ワックス、グリ−ス、樹脂成形
時の離型剤、液晶、水性および油性のインク等の汚れの
除去に際し、被洗浄物の仕上がりに影響を及ぼすことが
懸念されていた。
【0005】また、グリコールエーテル類からなる水系
の洗浄剤では、樹脂、例えばプリント基板の素材等とし
て使用されているエポキシガラス等に対し、膨潤させる
等の問題があり、被洗浄物を選択する必要があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、各種汚
れに対する洗浄力に優れ、引火性がなく、またすすぎ性
に優れ、かつ被洗浄物の仕上がり、例えば電気抵抗等に
影響を及ぼさず、また、各種被洗浄物に悪影響を及ぼさ
ない水系洗浄剤につき鋭意研究した結果、本発明を完成
した。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記成分
(a)〜(c)からなることを特徴とする洗浄剤組成物
である。 (a)3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール 0.1〜80重量% (b)ノニオン界面活性剤または/およびアルキレングリコールジアルキルエ ーテル 0.1〜80重量% (c)水 残部
【0008】本発明組成物において、(a)成分である
3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノールの本発明組
成物中における配合割合〔(a),(b)および(c)
の合計量を基準とする(以下同じ)〕は0.1〜80重
量%であり、好ましい下限値は20重量%である。0.
1重量%未満では洗浄力が弱くなり、80重量%を越え
ると引火性の問題が生じる。
【0009】本発明組成物の(b)成分におけるノニオ
ン界面活性剤としては、好ましくはポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニ
ルエーテル、ソルビタンアルキレートなどが挙げられ、
具体的にはポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリ
オキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンオクチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェ
ニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエー
テル等、ソルビタンラウレート等が挙げられ、更に好適
にはポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテルが挙げられる。また、
ノニオン界面活性剤のHLB値は8〜15が好ましく、
更に好ましくは12〜14である。ノニオン界面活性剤
は1種または2種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0010】また、もう一方の(b)成分であるアルキ
レングリコールジアルキルエーテルとしては、アルキレ
ングリコール類の2個の水酸基がアルキルエーテル化さ
れたものであり、代表例として下記一般式(1)で示さ
れる化合物が挙げられる。
【0011】R1 O−(Cn 2nO)m −R2 (1) 上記式において、R1 またはR2 は好ましくは炭素数1
〜10、更に好ましくは1〜5のアルキル基であり、ま
たnは好ましくは2〜4であり、mは好ましくは1〜1
0である。
【0012】アルキレングリコールジアルキルエーテル
の好適な具体例としては、エチレングリコールジメチル
エーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル
等が挙げられ、更に好ましくはトリエチレングリコール
ジメチルエーテル、またはジエチレングリコールジエチ
ルエーテル等が挙げられる。また、これらは1種または
2種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0013】本発明組成物におけるノニオン界面活性剤
または/およびアルキレングリコールジアルキルエーテ
ルの本発明組成物中における配合割合は0.1〜80重
量%であり、好ましくは5〜45重量%である。0.1
重量%未満では良好な洗浄性が得らず、また80重量%
を超えると、ノニオン界面活性剤の影響による洗浄力の
低下、あるいは洗浄液のすすぎ性の悪化、また、アルキ
レングリコールジアルキルエーテルの影響による樹脂類
等の被洗浄物に対する膨潤等に代表される被洗浄物へ悪
影響がでる。
【0014】ノニオン界面活性剤またはジアルキルグリ
コールエーテルは、各目的に応じて単独で、あるいは併
用して適宜使用すればよいが、ノニオン界面活性剤は樹
脂類を膨潤する等の悪影響を及ばさないので、被洗浄物
が樹脂類である場合に特に有用であり、また、樹脂類の
洗浄を目的とする場合は、アルキレングリコールジアル
キルエーテルを用いるのが好ましい。
【0015】また、本発明組成物において、(a)成分
と(b)成分の好適な重量割合は、(a):(b)=2
0:1〜1:2が好ましい。(b)成分が(a)成分よ
りあまり過剰であると洗浄液のすすぎ性が悪くなる恐れ
があり、あまり少ないと洗浄力の低下につながる恐れが
ある。
【0016】本発明組成物における水は純水、工水、水
道水等、特に限定されるものではないが、純水が好まし
い。水の本発明組成物中における配合割合は、洗浄力の
問題を考慮すると、好ましくは10〜40重量%であ
る。
【0017】本発明組成物は上記(a)〜(c)成分を
単に混合することにより製造出来る。
【0018】本発明組成物に、更にアミンを添加するこ
とにより、より洗浄力および金属の防錆作用の向上を図
ることが出来る。アミンとしては、特に限定されるもの
でないが、例えば、アンモニア、トリエチルアミン、シ
クロヘキシルアミン、エタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミン、ジエチルエタノールア
ミン、メチルジエタノールアミン、モルホリン、アニリ
ン、グリシン等が挙げられ、更に好ましくはエタノール
アミン類である。
【0019】アミンの好ましい配合割合は、本発明組成
物、すなわち(a),(b)および(c)の合計量10
0重量部を基準として30重量部以下であり、好ましく
は0.1〜5重量部である。30重量部を超えると、被
洗浄物が銅、アルミ、亜鉛、錫、鉛、あるいはこれらの
合金等の場合、腐食要因となる恐れがある。
【0020】本発明組成物の効果を損なわない限り、必
要に応じて本発明組成物に防錆剤、消泡剤、防腐剤、酸
化抑制剤等を配合しても良い。また、本発明組成物は被
洗浄物の汚れの種類によって有機溶剤等を併用すること
が出来る。
【0021】本発明組成物は、例えば、研磨カス、粉、
機械油、切削油、レジストインキ、フラックス、ワック
ス、グリ−ス、樹脂成形時の離型剤、液晶、水性および
油性のインク等の汚れの除去において有用であり、特に
フラックス、更にはプリント基板製造時におけるハンダ
付け工程等において使用されるロジン系フラックスの除
去に最適である。
【0022】また、被洗浄物としては特に限定されるも
のではなく、各種素材からなる被洗浄物に適用される
が、例えば、銅、アルミ、亜鉛、錫、鉛、あるいはこれ
らの合金等、樹脂、ガラス等が挙げられる。
【0023】また、本発明組成物を用いて洗浄する場合
の洗浄手段は、特に限定されるものではなく、一般的に
用いられている洗浄方法、例えば、浸漬、浸漬揺動、ス
プレー、超音波洗浄法などを用いれば良い。
【0024】
【実施例】以下、実施例および比較例に基づいて、本発
明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではない。また、各種試験は以下の
通りである。
【0025】(実施例1〜6および比較例1〜4)表1
に記載した成分を実施例1〜6および比較例1〜4の通
り配合し、均一に攪拌し、実施例1〜6および比較例1
〜4の洗浄剤組成物を得た。
【0026】各洗浄剤組成物について、下記フラックス
溶解性試験、エポキシガラスへの影響試験および銅への
影響性試験を行い、その結果を表1に示す。
【0027】
【表1】
【0028】(フラックス溶解性試験)SUS板(2×
8cm)にロジン系フラックス〔アルファソルボンドR
5003、日本アルファメタルズ(株)製〕を50mg
程度塗布し、焼き付けを行った。このようにして得られ
たテストピースを、恒温槽により60℃に加温された表
1記載の各試験溶液の新液、および予め前記と同様のフ
ラックス5%を溶解させた各試験溶液に5分間浸漬し、
溶解性を目視により観察した。
【0029】(エポキシガラスへの影響性試験)プリン
ト基板の一般的な素材であるエポキシガラスを、恒温槽
により60℃に加温された各試験溶液に1日間浸漬し、
重量および体積変化を測定した。
【0030】(銅への影響性試験)銅板を、恒温槽によ
り60℃に加温された各試験溶液に1日間浸漬し、表面
変化を目視により観察した。
【0031】
【発明が解決しようとする課題】本発明の洗浄剤組成物
は各種汚れ、特にフラックスに対する洗浄力に優れ、引
火性がなく、またすすぎ性に優れ、かつ被洗浄物の仕上
がり、例えば電気抵抗等に影響を及ぼさず、また、各種
被洗浄物に悪影響を与えない優れた洗浄剤組成物であ
る。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 1:72 7:26) (72)発明者 刑 部 次 功 徳島県徳島市川内町中島575−1 東亞合 成化学工業株式会社徳島工場内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記成分(a)〜(c)からなることを
    特徴とする洗浄剤組成物。 (a)3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール 0.1〜80重量% (b)ノニオン界面活性剤または/およびアルキレングリコールジアルキルエ ーテル 0.1〜80重量% (c)水 残部
JP28174293A 1993-10-15 1993-10-15 洗浄剤組成物 Pending JPH07109493A (ja)

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