JPH06500427A - ウエファーの搬送ならびに処理の為の改良された装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ウェファ−の搬送ならびに処理の為の改良された装置発明Ω背景 １、発明の分野 本発明は装置と方法に関し、ここに於いて以下のことがなされるものである：ａ ）不活性ガス雰囲気下でのバルセイティング・ダブル−フローティング状況下で のオールサイプイツトウェファ−のクリーニングをすること；ｂ）クリーニング チャンバからウェファ−処理モジュールあるいは他の装置への搬送時のクリーニ ングされたウェファ−上への汚染物質の堆積の最ｌＪイヒをすること；そして Ｃ）その様なりリーニングされたウェファ−中へのサブミクロン汚染物質の含有 を最小化すること。

２、先行技術の記述 ミニクリーニングチャンバ内で、このチャンバ内にどのような機械的な移動要素 も無い状態でなされる進歩したオールサイプイソドウエフアークリーニングは、 改良されたウェファ−クリーニング状態を提供する。

そのようなオールサイプイツトウェファ−クリーニングは、必要とされる装置と 共に、本出願人のＰＣＴ特許出願第ＰＣＴ／ＮＬ８９１０００９２号に開示され ている。

それによるこのウェファ−クリーニングは、ウェファ−処理の内のひとつであり 、それはその様な装置内で行い得る。

この装置は以下の欠点がある： ａ）クリーニングチャンバ内でのウェファ−クリーニングの間、円筒状放出通路 およびガスロックコンパートメントを含む前記ウェファ−クリーニングシステム は、少なくともしばらくは外気から封止されている。

このガスロックコンパートメントの外の横からの方向に位置する外部封止セクシ ョンにおいて主にお互いに相反する２つのチャンバブロックのアージングの間に 、これらのブロックに対しテフロンＰＦＡおよびＰＴＦＥ裏張りを適用したとし でも、サブミクロンの汚染物質が生じる。

ウェファ−クリーニング後、より大きな部分のこれらの封止セクションは、これ らのブロックの間に設置されるウェファ−搬送通路の両側の上のこれらのブロッ クのウェファ−搬送壁セクションとして機能する。

これらの壁セクションに沿ってガスロックコンパートメントから動くクリーニン グ後でも、少なくとも局部的に、汚染物質はガス状媒体によって十分には除去さ れ得ない。

はとんど、処理されるウェファ−の前−および／または後−のクリーニングと共 に、少なくとも５００処理ステツプを含んでなる将来のサブミクロンウェファ− 処理は、そのようなウェファ−上の汚染物質の堆積を許容しない。

従って、可能な限り高ウェファ−収率に寄与するよう、ウェファ−上のその様な サブミクロン汚染物質の繰り返される堆積は、できるだけ避けなければならない 。

ｂ）　クリーニング媒体のこのチャンバからの放出に対し、このチャンバとこの 放出通路の間の中およびガスロックコンパートメントとこの放出通路の間の中に ある円筒状放出ギャップの必要とされる創出はなされなければならない。

１７ば１．ば媒体の放出か制限されるので、特に真空下でのウェファ−クリーニ ングで、単に８”ウェファ−に対し約１００ｍｍ”７秒および１放出サイクル当 り３ｃｍ”以下である時に、協同する要素と温度と圧力における局部的な相違に 対する機械的誤差によるその中のできるたけ大きい偏差と共に、その様なギャッ プの平均的な高さは最小であり、例えば３μｍである。

それによって、そのセクション内で媒体放出がないことにより、可能な限り局部 的にこれらの放出ギャップの開口がないことは、ウェファ−クリーニングにおい て負の影響を及ぼす。

従って、これらの装置内には停止壁が使用され、それに対しその様なチャンバブ ロックの中央セクションはウェファ−クリーニング中に、クリーニングチャンバ と放出通路の間の中とこの通路とガスロックコンパートメントの間の中のミクロ な円筒状の放出ギャップの生成によって押される。

これはしかし前記装置をさらに複雑化し、特にもしその中でさらに真空下でのク リーニングがなされなければならないかどうかにもよる。

悴揖訊にり４要 本発明の目的は装置及び方法を提供することで、それはこれらの欠屯を無くし、 またここにおいてこの装置は主に以下の点に特徴を有するものである：ａ）両方 のチャンバブロックに対し協同する停止壁セクションと少なくともほとんど非接 触の壁セクションの少なくとも組合わせの適用；ｂ）お互いに押されている停止 壁セクションと共に、このクリーニングチャンバと円筒状放出通路の間の中とこ の放出通路とガスロックコンパートメントの間の中に位置しているこれらのチャ ンバブロックの壁セクションは、少なくともその様なミクロな距離に渡ってお互 いに離されており、その距離は円筒状ミクロ放出ギャップの間の中に作られるも ので、それは局部的あるいは非局部的に遮られている； Ｃ）　このガスロックコンパートメントの外の横方向に位置する壁セクションは 最大のミクロな距離でお互いに離されている；ｄ）　それによってクリーニング チャンバ内でクリーニングされたウェファ一対するそのウェファ−搬送領域のこ れらの壁セクションは少なくともお互いに最大のミクロな距離で離されており、 その残りに対しては停止および封止壁セクションである。

これらのブロックの高精密機械によって、放射方向のその様なギャップの各々の 高さはほとんど同一である。

ここにはまた、パルセータ−チャンバの適用があり、ここにおいて一つあるいは それ以上のパルセータ−が、その中にクリーニングチャンバ中のクリーニング媒 体の圧力に対し逆ストラドを提供するストラド媒体とともに位置している。

この放出通路に圧を伴うウェファ−クリーニングの間、このギャップの結局の充 分考慮し得る長さと共に、クリーニングチャンバと放出通路の間の中にある放出 ギャップの可能な限りの極めて小さな高さ、例えば５μｍであるようなものによ って、それは大体このチャンバにおけるクリーニング媒体の平均的な圧力と同じ であり、この放出ギャップのバッファとしての機能によって、すくなくともほと んどクリーニング媒体の放出はこのチャンバからは為されない。

それによって、フィニッシュドーオフ媒体としてのその様な媒体は、このチャン バ内に中心的に供給される新鮮なりリーニング媒体によって容易に置き換えられ る。

さらに、クリーニングチャンバ中のクリーニング媒体の平均圧力よりもかなり低 くまたパルセータ−チャンバ内の圧力よりもかなり低いこの放出通路内の圧力と ともに、放出ギャップの一時的な封止は他のチャンバブロックの対応する封止セ クションに対し膜状体セクションの封止セクションを押されることによって行っ ている。

ガスロックコンパートメントとこの放出通路の間の中の円筒状のギャップの範囲 内のかなりの流れ抵抗によって、また可能な限りのこの放出通路内の圧力に関す るこのコンパートメント内のガス媒体の制限された過剰圧のみと共同して、この コンパートメントからこのギャップを通りこの通路に向かうこの媒体の放出は無 視してもよい程度の物である。

さらに、ガスロックコンパートメントの外の横方向の両方のチャンバブロック間 の中の極めて狭いギャップの可能な限り大きな長さによって、またその最大のミ クロ高さとこのギャップの結局の側面の壁と共同して、ガス媒体の消費はほとん どないに等しい。

しかし、もしこの放出通路に於いて、過剰の圧力がクリーニングチャンバからの フィヒソシュドーオフクリーニング媒体の放出の為に減少されたなら、それから このチャンバからのその様なフィニッシュドーオフクリーニング媒体の増加する 放出と、ガスコンパートメントからのガス状リンス媒体の増加する押されること の両方が行われる。

ここで、この放出通路に於いてこの混合物の放出は下向き方向に行われる。

この方法に於いて、第１の活動的なりリーニング媒体がクリーニングチャンバか らより低い活動の媒体、たとえば非イオン化水の様なものの従う流れによって押 され、そしてガス媒体の流れによって間の中にあるあるいはそうではなくなる。

ウェファ−クリーニングの最後に於いて、このチャンバからの最後のクリーニン グ媒体の除去が、中心的に供給されるリンス媒体によって行われ、ここにおいて 負の圧力はこの放出通路内で維持され得る。

このクリーニング行為中、ストラドブロックアレンジメントによって、これらの 停止壁のこれらのチャンバブロックはお互いに対し押されたままである。

もしその様な一時的なストラドが終了したら、その様なストラドブロックアッセ ンブリーからの媒体の放出によって、それからクリーニングされたウェファ−の それに続く搬送の為に、これらのブロックのお互いからの押合いが行われる。

ガスロックコンパートメントの外側のこの極めて狭いギャップによって、このク リーニングチャンバ内で負の圧力下あるいは真空下でさえウェファ−クリーニン グを行ウェファ−ことも可能である。

結果として、特にこのクリーニングモジュールは、すくなくとも大気圧中および 負の圧力下での、ガス状あるいは蒸発された媒体をその組合わせあるいはそうで ない状態下で使用されているようなウェファ−の組合わせクリーニングに対し適 している。

さらに、このモジュールはこのウェファ−からの水分の除去を伴う、少なくとも 一時的な脱水焼成に対し適している。

追い出された媒体に対するかなりの流れ抵抗のために、ギャップセクションでの 局部的な媒体放出はその中の圧力下でかなりの少量となる。それによって、その 様なかなりの流れ抵抗は、このミクロなギャップにおける媒体の大がかりな回転 運動を引起こす上方及び下方へのバルセイティング媒体のミクロな流れによって もまた成し遂げられる。

パルセータ−チャンバ内の媒体はパルセイティング中央チャンバプロッタセクシ ョンおよび膜状体セクションにおける封止ストラドを働かせ、そこを通りその様 な圧力微少の場合、このギャップセクションにおけるストラドバランスの復帰と 媒体の少なくとも減少された放出を伴い、特にこの膜状体セクションでのこのギ ャップセクションのナローイングが速やかに成し遂げられる。

全てのギャップセクションに対するこの連続的な補正行為によってその様な均一 のミニ媒体放出が現在では補償されている。

クリーニングチャンバに向けての媒体供給が無いと、放出ギャップのこの高さは その様な最低レベルに安定化し、その様な拡張に対する封止要素としてのこの膜 状体はこのクリーニングチャンバを封止し、それによって数秒の間、パルセイテ ィング・ダブルフローティング状態下のウェファ−クリーニングは続行され得る 。

それによって、他のブロックの対応するセクションに対し膜状体封止セクション の一時的な押合いがある。

膜状体のフレキシブルな形状と共同して開き放出を封止するようにこの封止セク ションの極めて小さな往復の移動によって、この膜状体セクションを移動するこ とによりその中央チャンバブロックセクションがその様なミクロな移動を成し遂 げることはほとんど不可能である。

さて、以下の好ましい特徴は、膜状体封止セクションに於いて放出ギャップの開 口と封止が、主にこの膜状体セクションの両側で働く媒体の圧力において創出さ れた違いによって行われることである。

さらにこのモジュールでは、超臨界流体、例えばしばしば液相が気相に変化し可 逆的であるようなＣＯ□の様なものによるウェファ−クリーニングの為に必要と される、クリーニングチャンバ内におけるどのような圧力の適用も可能である。

さらに、負の圧力下でのクリーニングへの過剰圧力下でのクリーニングの搬送で さえも伴う、圧力格差における速やかな継承の適用がある。

それによって、はとんど一定の圧力の適用が可能であり、またもし必要であれば 放出通路に於いて可能な限りの負の圧力でさえ適用が可能である。

それによって、以下の好ましい形態に於いて、膜状体封止セクションは膜状体側 のそば、放出通路に最も近くに位置している。

その場合、クリーニングチャンバ側に於ける放出ギャップ内の圧力のレベルは、 この封止セクションの放出通路側にある放出ギャップにおける圧力レベルとはほ とんど独立している。

さらに、前記モジュールはクリーニングチャンバの最大高さを制限するためのパ ルセイティング中央チャンバブロックセクションに対する停止／バッファシステ ムを提供する。

それによって、このパルセータ−チャンバ内に停止壁が位置しており、それに対 して対応する停止セクションと共に中央チャンバブロックセクションが、媒体層 の間に押され、その厚さはそれに適用されるクリーニングチャンバ中のクリーニ ング媒体のストラドに依存する。

その方法に於いて、ウェファ−クリーニングの間、クリーニングチャンバ内の圧 力は少なくとも一時的に、パルセータ−チャンバ内の圧力と、放出通路内の圧力 とは独立している。

結果として、不活性ガスを含むコンパートメントで効果的な用途が作り出さね、 ここにおいてこのコンパ−、トメントからの高度に濾過された不活性ガスが、ガ スロックを形成しリンス媒体を提供するようこの放出通路に向けて供給される。

サブミクロンウェファ−処理に対し、特に高真空下でのウェファ−処理に於いて 、ウェファ−内含有水分は、そのようなウェファ−処理中でのこの水分がサブミ クロンラインコンフィグレイションにおける許容されない変形を伴いウェファ− 処理側を通って抜けるあるいは含まれたまま残ってしまうので、汚染物質を生じ させる。

さらに、空気はサブミクロンの汚染物質を含んでおり、これはフィルター等では 容易には除去できない。

さらに、ウェファ−搬送／処理／検査モジュールのメンテナンスの間に、メンテ ナンスの人間からこれらのモジュールへの汚染物質の搬送を防ぐことはできない 。

その様な不活性ガスの雰囲気は、これらの欠点を完全に廃止することができるで あろう。

それによって、その様なメンテナンスは、汚染物質の無い囲いの内で自身の呼吸 媒体を伴う人間によって行われる。

−入用エレベーターによって囲いは空気を含むコンパートメントの底部からアク セス可能である。

この不活性ガスコンパートメント内では、幾つかのウェファ−クリーニングモジ ュールが一連の処理及び他のモジュールと協同しており、ここに於いてはまた高 い拡張に対するウェファ−搬送及びメンテナンスが汚染物質フリーとなる。

この方法で、効果的なサブミクロンウェファ−処理の可能性によって高ウェファ −収率が結果として得られる。

モジュールはそのステイショナリー側におけるその様なパルセータ−の振動を減 衰させるためのバッファも含んでなり、ここにおいて使用する力はパルセータ− 壁と逆の壁の間の中にある媒体バッファとしてのパルセータ−チャンバ内のスト ラド媒体で作られている。

本発明の上記のまた他の多くの特徴とそれに伴う利点は、以下に続く詳細な記述 と、添付の図面によってより良く理解され得るであろう。

区間の詳細な説明 添付の図面において： 図１は、発明による装置のクリーニングモジュールの長さ方向断面図である。

図２は、図１によるモジュールの２−２線にそう平面図である。

図３は、図１によるモジュールの３−３線にそう断面図である。

図４は、図１によるモジュールのモディフィケーションの長さ方向断面図である 。

図５は、中央上位チャンバブロックのバルセイティング往復が液体媒体をパルセ ータ−チャンバとしての上位コンパートメントへの、および、からの供給と放出 により確立される他のモジュールである。

図６は、中央下位チャンバブロックもまた脈動しているモジュールである。

図６Ａは、図６によるモジュールのため、放出通路への媒体と、ガスロックコン パートメントへの媒体供給を記載する。

図７は、図１によるモジュールのウェファ−クリーニングと媒体放出セクション の拡大部分を示す。

図７Ａは、図７によるセクションの圧力ダイアグラムを示す。

図７Ｂは、膜状体セクションにおける図７によるセクションの拡大した部分を示 す。

図７０は、テフロン裏打ちが定着された媒体放出ギャップの壁の部分における断 面図を示す。

図８Ａは、中央上位チャンバのブロックセクションが上方へ移動する間の膜状体 セクションにおけるクリーニング媒体の放出を示す。

図８Ｂは、下方への圧縮ストロークの間、図８Ａによるセクションについての封 止された放出ギャップを示す。

図８Ｃは、膜状体の中央セクションにおいて、封止のためのミニ下位円筒状セク ションをもつ上位チャンバブロックを示す。

図９Ａから図９Ｃは、モディファイされた媒体放出セクションについて、封止の 壁の間におけるものと、モジュール操作の間、このセクションの数々の位置の二 つの膜状体セクションを示す。

図１０Ａと図１０Ｂとは、開放および封止位置にある膜状体セクションをもつ図 ７による断面図の拡大部分を示す。

図１０Ｃと図１０Ｄは、開放および殆ど封止の位置にあるクリーニングチャンバ 近くの図７による断面の拡大部分を示す。

図１１Ａから図１１Ｄは、中央上位チャンバブロックセクションの拡大した後続 の媒体チャージ位置と後続のウェファ−クリーニング位置とを示す。

拡大した図における図１２Ａと図１２Ｂとは、クリーニングチャンバの一時的封 止の図４によるモジュールの媒体放出セクションを示す。

拡大した図における図１２Ｃと図１２Ｄとは、クリーニングチャンバからの媒体 放出の図１２Ａによるセクションを示す。

図１３Ａは、図１によるモジュールについてヴオリュームリミッタとしての中央 上位チャンバプロッタセクションの往復動停止壁構成により封止されたクリーニ ングチャンバの媒体チャージを示す。

図１３Ｂは、図１３Ａによる拡大した媒体チャージシステムを示す。

図１４Ａは、中央上位チャンバブロックセクションの往復動停止壁をもつクリー ニングチャンバの容量制限の手段により、媒体放出を行うためのクリーニングチ ャンバとパルセータ−チャンバとの間に圧力の差を作ることを示す。

図１４Ｂは、図１４Ａによる拡大した封止システムを示す。

図１５は、図１によるモジュールのパルセイティング中央ブロックセクションの バッファーと停止セクションの拡大を示す。

図１６Ａは、ウェファ−クリーニング位置における図１５によるセクションの拡 大を示す。

図１６Ｂは、拡大した、このウェファ−クリーニング位置においての、図１６０ に示したようなチャンバー上位壁の振幅に関してのパルセータ−の頂部における セクションの小さな振幅を示す。

図１７Ａは、中央上位チャンバブロックセクションに対する停止壁構成の手段に より、高圧の媒体チャージがクリーニングチャンバで行われる、図１３によるシ ステムの拡大を示す。

図１７Ｂは、クリーニングチャンバにおいて、停止壁の構成により、かなりの減 圧が行われる図１３によるシステムの拡大を示す。

図１７Ｃは、過剰圧力から負圧へ圧力低下する図１７Ｂによるシステムを示す。

図１８Ａは、図１によるモジュールについて、クリーニングされるべきウェファ −の後続搬送位置を示す。

図１９Ａから図１９Ｃは、図１によるモジコールについて、クリーニングされる べきウェファ−のモディファイされた搬送位置を示す。

図２０は、振動上位チャンバ壁の凹部内に前記壁の鋏きりの手段によりウェファ −をセンタリングさせることを示す。

図２］は、この鋏きりにおりる、図２０によるモジュールセクションの拡大部分 を示す。

図２２は、図２１によるセクションの２２−２２線にそう断面を示す。

図２３Ａから図２３Ｄは、上位チャンバ壁に吸引された位置がらロボットアーム によって、クリーニングされたウェファ−を取るシステムを示す。

図２４から図２６は、図１によるモジュールについて、過剰圧力下のウェファ− クリーニングの拡大を示す。

図２７と図２８は、図１によるモジュールについて減圧下にあるウェファ−クリ ーニングの拡大を示す。

図２９は、不活性ガスが充填された隔離されたコンパートメントにおいて、複数 のウェファ−クリーニングモジュールが高い減圧状態でウェファ−処理を行う処 理ステーションと共に構成されている、発明による装置の長さ方向断面を示す。

図３０は、図２９による装置の拡大詳細を示す。

図３１は、リトグラフィオリエンテッドのウェファ−処理が行われる装置の他の 構成の詳細を示す。

図３２は、高減圧下でのウェファ−処理とリトグラフィオリエンテッドのウェフ ァ−処理との組み合わせが行われる他の構成の横断面を示す。

図３３は、横断面における図３２による装置のモディファイされた構成を示す。

好１い実施態様の記述 図１と図２９において、ウェファ−搬送および処理装置１０が示されている。

それにより、そのウェファ−クリーニングモジュール１２は、主として、下位チ ャンバブロック２０、上位チャンバブロック２２、ウェファ−２６をクリーニン グするために間に位置するクリーニングチャンバ２４、クリーニング媒体３０を 放出するためにチャンバ２４の横に位置する円筒状な放出通路２８、この通路２ ８の横のガスロックコンパートメント４８、チャンバ２４の上位壁としての中央 上位チャンバブロックステーション３４と膜状体セクション９６との往復動のた めのパルセータ−３２からなる。

上位装着プレート８６が図２にも示すように、二つのセクション８８の手段によ り装着プレート８２に接続されている。ベロウズ構成９０の手段によって、上位 パルセータ−ブロック９２は、この装着プレート８６の下位側に固定されている 。

図示されていないバルブを介しての、これらのベロウズへの、および、ベロウズ からの好ましくは液体媒体１０４の供給と放出によって、このパルセータ−ブロ ック９２の高さと傾斜位置が調節されることができる。図１８から図２３参照。

上位ブロックチャンバ２２のアウターセクション９４は、このパルセータ−ブロ ック９２の下位側面に装着されている。このブロックには、クリーニングチャン バ２４の一部としての四部１０２が設けられている。

ネジ結合によって、パルセータ−３２が中央上位チャンバブロックセクション３ ４に固定されている。必要に応じ、この結合は、接着することができる。

これらのピエゾトランスデユーサ−がパルセータ−チャンバ９８内に位置する。

この装置には、クリーニングすべきウェファ−をモジュール１２へ供給し、クリ ーニングされたウェファ−を取り出すウェファ−搬送ロボット１８が用いられる 。図２９から図３３参照。

図１８から図２３参照のウェファ−搬送は、以下のとおりである：クリーニング すべきウェファ−を受けるには、ベロウズ９０からの媒体の放出によって、上位 チャンバブロックを僅かに上昇させる。１８Ａ図参照。

搬送ロボット１８により、ウェファ−２６を上位チャンバブロック２２の下の搬 送位１ｆ１１０へ移動する。

続いて、媒体をバックエンドベロウズ９０へ供給して、この上位チャンバブロッ ク２２の傾斜位置を確立し、これによってチャンバ凹部１０２の往復動側壁１１ ２をウェファ−にそって下降させる。図１８Ｂ参照。このウェファ−の第１のセ ンタリングは、この側壁の鋏きり動きにより行われる。図２０から図２２参照。

フロントエンドベロウズ９ｏへの媒体の供給により、この上位チャンバブロック ２２のフロントセクションは、下降される。図１８Ｃ参照。そして、壁１１２の 鋏きり運動によって、ウェファ−の最終センタリングが行われる。

引き続いて、このセンター位置において、ウェファ−は、上位チャンバ壁３４に 吸引される。これは、中央通路７２を介しての減圧で行われる。

これに基づき、ロボットアーム４４がこのチャンバブロック２２の下から移動し 、図１９Ｄ１そして、その後、このブロック２２は、すべてのベロウズへの媒体 供給によって下位チャンバプロッタ２０へと下降し、これによって、ウェファ− の下位側がチャンバ凹部１５０へ入る。

他のウェファ−搬送システムにおいては、フロントエンドベロウズへの媒体の供 給でまずチャンバブロック２２が傾斜され、これにより、到着するウェファ−は 、このブロックのチャンバ凹部１０２の側壁１１２に停止し、図１９Ａ参照、ウ ェファ−のセンタリングが達成される。図２０から図２２参照。

続いて、バックエンドベロウズへの媒体の供給で、往復動の壁１０２のバックセ クションがウェッジ１２０にそって下降する。この接触領域１１８では、偏心位 置したウェファ−は、凹部１０２内の中心位置へ促される。

これに基づき、また、ウェファ−は、上位チャンバ壁３４に吸引される。図１９ Ｂ参照。ロボットアーム４４を除いた後、上位チャンバブロック２２が下位チャ ンバブロックへ下降し、ウェファ−は、クリーニングチャンバ２４内に位置して いる。図１９Ｃ参照。

ウェファ−クリーニングの後、ベロウズ９０から媒体を放出して、上位壁３４に 吸引されているウェファ−２６と共に上位チャンバブロックが下降する。図２３ Ａ参照。これに基づき、ロボットアーム４４が支持セクション１２２と共にウェ ファ−の取り上げ位置２０４へ移動する。図２３Ｂ参照。

減圧吸引終了後、ウェファ−は、このアームへ移さね、上位チャンバブロック２ ２の上昇後、アーム４４とウェファ−２６とは、運び出される。図２３Ｃ参照。

これにより、図２３Ｄに示すように、支持壁１２２へのウェファ−の吸引が可能 となる。

図７において、図１１によるモジュール１２がクリーニングチャンバ２４と媒体 放出ギャップにおいて示されている。このチャンバにおけるウェファ−クリーニ ングは、停止壁セクション１１４，１１６各々、および、これらのブロックの壁 セクション１３０と１３２，１３４と１３６，１３８と１４０の組み合わせの少 なくとも殆ど封止の位置へのクリーニング媒体３０によって行われる。

図７０に示すように、定着したテフロンＰＦＡまたはＰＴＦＥまたは他の裏打ち １４２，１４４が使われるならば、下位チャンバブロックセクション１１６への 上位チャンバブロックセクション１１４のソフトランディングが可能となる。

発明の範囲内で、これらのブロックは、上位チャンバブロックには、チタンのよ うに、適当な素材で製造することができる。

下位チャンバブロック２０内では、クリーニング媒体３０の中央供給チャンネル ７０が位置し、これに対し、上位チャンバブロック２２には、クリーニング媒体 ３０および／またはガス媒体５０のチャンネル７２が位置する。

更に、壁セクション１３０は、クリーニングチャンバ２４と膜状体セクション９ ６との間におけるセクション１４６と、この膜状体セクションと放出通路２８と の間におけるセクション１４８とからなる。

このチャンバの高さは、ウェファ−の厚さよりも若干大きな程度であって、例え ば、約１００μｍである。図１１Ａ参照。

下位チャンバブロック２０と上位チャンバブロック２２両者の対応する壁は、高 精度研磨され、フラットである。図２にも示すように、モジュール壁１１４゜１ １６の停止位置と共に、他の壁セクションも互いにミクロな距離しか離れておら ず、例えば、セクション１３０／１３２．１３４／１３６．１３８／１４０では 、２−５μｍである。

８つに分岐したチャンネルを介しての放出通路２８の放出キャパシティは、相当 のものであって、設定圧力でのウェファ−クリーニングの間、媒体放出による圧 力の差は、最高０．０１バールに制限される。

媒体がチャンバ２４へ供給されず、クリーニングチャンバ２４とパルセータ−チ ャンバ９８との間の圧力の差の結果としての媒体の３０の排出により、放出ギャ ップ１５６の高さは、減少し、流れ抵抗の付随的増加により、このギャップは、 封止部材として共同機能する。

結果として、数秒の間、媒体供給を停止できる。

媒体３０の最低供給が再開すると、チャンバ２４と放出ギャップ１５６の両者に は、ギャップ１５６が原の高さに達するまで媒体がチャージされ、チャンネル７ ０．７２を介してフレッシュなりリーニング媒体が供給され、チャンバー２４か らの仕上げ媒体の放出かりカバーされる。

パルセータ−チャンバの容量が相当なものであるから、ウェファ−クリーニング に対する圧力の過剰圧力から負圧への引き続く変化と共に、このチャンバにおけ る圧力は、調節され、センサー２１２により、放出通路２８における対応圧力が 定まる。

しかしながら、発明の範囲内で、このようなセンサーを放出通路と接続し、パル セータ−チャンバ９８の供給と放出システムへインパルスを与える。

好ましくは、チタンで作られている中央上位チャンバブロックセクション３４の パルセータ−３２をも含む全重量は、著しく軽く、８インチのウェファ−に対し 約４Ｋｇであり、このブロックセクションへの結果としての下向きスラストは、 約０．０１バールである。したがって、クリーニングチャンバ２４と放出ギャッ プ１５６の組み合わせ内の対抗圧力は、０．０１バールをこえたものが付加され る。

媒体のチャンバ２４への供給で、インナー膜状体セクション２０８下の放出ギャ ップセクションにおける媒体の平均上方スラストは、このセクションへのパルセ ータ−チャンバ９８における媒体５０の下方スラストとほぼ同じである。これに よって、この膜状体セクションは、このような媒体供給の間、中間位置にある。

上位チャンバブロック３４の下方圧縮ストロークの間、放出ギャップ１５６から 放出ギャップ１５８へ媒体３０が少量排出される。

はんの僅かな量のクリーニング媒体、８インチのウェファ−には、毎秒１００ｍ ”以下で済むから、約６５０ｍｍの幅のギャップを介しての媒体の放出は、極め て少量である。

さらに、この媒体の放出は、局部的でよい。

ウェファ−２６と並んで横方向のクリーニングチャンバ２４内のバッファーコン パートメント２０６は、８インチのウェファ−に対し約４００ｍｍ３の容量を持 ち、そのような局部的放出の媒体放出チャンネルとして機能する。これによって 、処理サイドとしてのウェファ−の特に上面を十分均一にクリーニングすること が保証される。

中央上位チャンバブロックセクションの上方膨張ストロークの間、壁セクション １３０は、放出ギャップ１５６内の圧力のかなりの低下に伴い、上昇する。

これによってインナー膜状体セクション２０８は、再び下降する。

パルセータ−チャンバ内の圧力に対する放出通路における圧力の減少は、膜状体 セクション下の放出ギャップ２１２における媒体の上方スラストの減少を結果す る。

一時的にせよ、圧力の大幅な低下で膜状体端部２１４が下方へ僅かに曲がる１、 これにより、最終的には、中央膜状体セクション１５２が下位チャンバブロック ２０へと当接される。図７Ｂと図９Ａ参照。

これによって、７０バールを越えるような圧力での高圧ウェファ−クリーニング からイーブンヴアキュウムウエファークリーニングまでのウェファ−クリーニン グでのクリーニングチャンバにおける圧力のかなりの差を作る理想的な可能性が 与えられる。

さらに、ある時間の間、ウェファ−クリーニングをバーマチックに封止されたク リーニングチャンバ内で行うことが可能となる。

クリーニングチャンバへの媒体の供給またはパルセータ−チャンバ内の圧力の低 下により、中央ンブロックセクション３４は、上昇して、膜状体端部２１０まわ りで膜状体セクションがさらに曲がることにより、ならびに、下位チャンバブロ ックのセクション１５４から膜状体セクション１５２を動かすことにより、この 曲がりをなくして、このクリーニングチャンバから再び媒体を排出する。

膜状体セクション９６か硬いため、チャンバ２４内の圧力は、パルセータ−チャ ンバ９８よりも遥かに高い圧力が必要である。図９Ｂ参照。

クリーニング媒体の放出のコントロールシステムの作用は、以下のとおりである 。

図１１Ａにおいて、チャンバ２４にウェファ２６が到着した後、クリーニング媒 体３０により前記チャンバか加圧され、上位チャンバ壁３４の往復動が好ましく は一時的に無効とされる。

これを介して、上位チャンバブロック２２の壁セクション１４６は、下位チャン バブロック２０の壁セクション１３２に当たる。

発明の範囲内で、往復動上位チャンバ壁を加圧することも可能である。

これによって、パルセータ−チャンバ９８と放出通路２８との間に相当の圧力差 を生じさせることか可能である。

これによって、バルセイティング壁セクション１４６は、また、図１０Ｄに示す ように、セクション１３２の直上で往復動する。

極端に狭い通路１５６内で結果的に生ずる媒体の激しい渦巻きにより、高い流れ 抵抗を発生し、膜状体セクション１５２によるチャンバ２４の少なくとも一時的 な閉鎖と組み合わされてクリーニングチャンバの十分な閉鎖が保証される。

チャンバ２４の媒体のチャージの間、中央ブロックセクション３４の達成された 移動により、チャンバ２４のクリーニングギャップ１９０，１９２両者のトータ ルの容量は、増加する。

これによって、ブロックセクション３４の結果の往復動で、パルセータ−の操作 が開始できる。図１１Ｂ参照。

引き続いて、チャンバ２４の容量の減少を伴うパルセータ−チャンバ９８内の圧 力の継続的上昇により、高圧でのウェファ−のクリーニングが達成される。

膜状体セクション９６においての封止コンビネーション５１２／１５４による少 なくともテンポラリ−の放出通路２８内のかなりの低圧で、放出ギャップ１５６ の封止は、少なくともほぼ全体的に維持される。図９Ｂ参照。

しかしながら、媒体がチャンバ２４への供給の結果としてのチャンバ２４内のさ らなる圧力の増加、および／または放出通路における媒体の増加（７た圧力によ って、最終的には、膜状体セクション９６に作用するスラストによって、微小な 距離にわたるこの封止セクションは、放出ギャップ１５６，１５８両者を介して のチャンバ２４からのクリーニング媒体の放出で、図７．　９Ａ、ＩＯＡ、１１ Ｄに示すように、完成された放出ギャップセクション１６０と共にセクション１ ５４から移動する。

図７Ａにおいて、この媒体の供給と放出の間のこのモジュール１２に対する圧力 ダイアグラムが示されている。

クリーニングチャンバにおいて、中央供給路７０．７２からの媒体３０の圧力は 、無視できる程度に低下し、放出ギャップセクション１５６に於いては、増加し た圧力は、低下し、ギャップセクション１６０においては、圧力は、かなり低下 し、ギャップセクション１５８においては、再び増加した圧力は、低下し、これ によって、放出通路２８では、過剰圧力が維持される。

このチャンバ２４とギャップセクションにおける圧力の組み合わせの上向きスラ ストは、パルセータ−チャンバ９８の媒体のスラスト１６２とパルセータ−が加 わった中央ブロックセクション３４の重量とに等しい。

媒体の供給の増加により、チャンバ２４内の圧力は、増加し、結果として、媒体 放出ギャップにおける圧力も増加し、結果として、これらの放出ギャップが拡大 し、媒体の放出が増加する。

これは、また、パルセータ−チャンバ９８における圧力の減少を伴う。放出が一 時的に減少することで、これらの放出ギャップの高さが徐々に減少し、バランス のとれた状態になる。

ガス媒体５０の放出が放出ギャップ１６８を介してこのモジュールの外部１７０ ヘガス口ツタコンパートメント４８から行われる。

仕上げクリーニング媒体３０の放出の間、このリンス媒体がこの放出通路２８か ら、この媒体３０を除去する。

さらに、放出ギャップ１６８を介してこのガス媒体５０がガスロックコンパート メント４８から外部１７０へ放出される。

しかしながら、通路１６８が極端に狭く、高さもミクロであることにより、この 放出は、はとんどない。

図４を参照して、モジュール１２′　においては、ガスロックコンパートメント ４８′　を越えて横方向の下位チャンバブロック２ｏには、膜状体セクション７ ６が設けられ、中央下位チャンバブロックセクション１７２とアウター装着セク ション８０とが作られる。

この装着セクションは、エアータイトに支持プレート８２に固定され、スラスト チャンバ３６が作られる。

この中央ブロックセクション１７２の停止壁セクション１７４と装着プレート８ ２の停止壁８４との間において、円筒状なミクロのギャップ１７６が位置し、こ のスラストチャンバ３６におけるスラスト媒体１０４により、ウェファ−搬送ゾ ーンの横の停止壁セクション１７８におけるこの中央ブロックセクション１７２ が上位チャンバブロック２２゛の対応セクションに当接する。図１２Ａ参照。

これによって、少なくとも一時的にチャンバ２４°から放出通路２８′　へ、そ して、ガスロックコンバートメン１−４８’　からこの通路２８′への媒体放出 が少なくともほとんどすべて閉鎖され、包囲領域１７０か得られる。

ブロックセクション１３０’　／１３２’　、１３４°／１３６°、１３８’／ １４０′がほとんど接触することにより、チャンバ２４゛　とコンパートメント ４８′両者から媒体は、はとんど放出されず、図１２Ａに拡大して示す通りであ る。

しかしながら、一方における、クリーニングチャンバ２４°　とパルセータチャ ンバ９８の組み合わせと、他方における、スラストチャンバとの圧力の差による 下方向への負のスラストにより、この中央ブロックセクション１７２は、下方へ 押さねへこれによって放出ギャップ１５６°、１５８’　、１６０’　、１６６ ’　。

１６８′の高さが増える。

このスラストチャンバ３６におけるスラスト媒体は、液体であるので、レギュレ ータ構成１８０により少量の媒体が放出され、このブロックセクションは、下降 し、これによって、その停止壁１７６は、支持プレート８２の停止壁８４へ押さ れる。

結果として、これらの放出ギャップ１５６’　、１５８’　、１６０′、１６６ ’、１６８’　は、開放される。図１２Ｃと図１２Ｄの拡大を参照。

このレギュレーター構成でコントロールされるチャンバ３６からの僅か約２００ ｍｍ”の液体の放出によりこの中央ブロックセクション１７２は、下方へ５μｍ 動き、定期的に仕上げクリーニング媒体が放出れる。

バッファーブロック１８２によって、モジュールは、支持プレート１８４に装着 される。図１．２参照。そして、この支持プレートへのモジュールの振動の伝達 をある程度軽減する。

更に、少なくとも下位チャンバブロック２０において、供給オリフィス１８６が チャンバ２４に対し傾斜して位置し、媒体５０の供給により、浮遊ウェファ−２ ６のスラストは、放射方向に維持され、このウェファ−を回転させる。このよう にして、均一なりリーニングが確立される。

発明の範囲内では、これらのオリフィスは、省略しても良い。

供給路７０．７２の両者のオリフィス１２４は、好ましくはＯ，ｌａｍｌａ下の 細い通路のサファイヤオリフィス１８８を含む。図７参照。

ウェファ−のクリーニングは、出願人のＰＣＴ／ＮＬ１０００９２号のＰＣＴ出 願と上記のオランダ特許出願に記載してあり、これによれば、パルセイティング 浮遊状態であるか、否かのちとにおけるクリーニングの間、媒体が邪魔されずに 、ウェファ−の両側に位置するチャンバ２４の上位クリーニングギャップ１９０ と下位クリーニングギャップ１９２の両者へ供給される。図２４から図２８参照 。

図２４．２５．２６においては、クリーニングギャップ１９０，１９２両者にお けるウェファ−クリーニングのシステムヵ吠きく拡大されて示されている。

図２４においては、液相の少なくとも僅かの媒体３ｏにより上位クリーニンギヤ ツプ１９０でウェファ−の処理面としてのウェファ−の上面のクリーニングが行 われ、下位ギャップ１９２において、ウェファ−の下面が過剰圧力のもとにガス 媒体によりクリーニングされる。

ウェファ−のぐっつき効果により、極微小の霧状の液体粒子の重い作用が境界Ｉ ｗＪ１９６とサブミクロンバレー】−９８の壁で行われる。図２４Ｇ、２４Ｈ参 照。

図２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｃのチャンバ上位壁３４の圧縮ストロークの間、サブミ クロンのヴアキュウムバブルの破裂が行われ、膨張ストロークの間、これらのバ ルブは、膨張する。図２４Ｄ、２４Ｅ、２４Ｆ参照。

この圧縮ストロークの間、ＣＯ□クリーニングにより、先行する膨張ストローク の間に生成されたガスが破裂し、この膨張ストロークの間、発生した液体粒子か 爆発する。

図２５においては、上位ギャップにおいて、液体とガス媒体３ｏの組み合わせに よりウェファ−が、ここでもまた、壁３４の圧縮、膨張ストロークの間クリーニ ングされ、ぐづつくウェファ−と共に媒体のミクロの流れが微細な霧状になって ウェファ−に作用する。図２５Ｇ、２５Ｈ参照。

壁３４の圧縮と膨張ストロークとウェファ−のぐづつき作用との間におけるＣ０ ２とガス媒体の組み合わせによるＣ　Ｏ２クリーニングで、液体ｃｏ２が微細霧 化された媒体のミクロの流れがウェファ−に作用する。

図２６においては、ウェファ−クリーニングの終了またはその間に、リンス媒体 ５０が中央供給オリフィスの両者から供給され、両ギャップを介して横方向に動 いて、残りのクリーニング媒体が排除された後に、これらのギャップでリンスが 行われる。

これらのギャップの高さは、一時的に広げられて排除が速やかに行われる。

しかしながら、これらの高さは、同じに保たれることができる。

特に、圧縮ストロークの間、媒体がギャップ１９０，１９２から排除され、膨張 ストロークの間、新しいリンス媒体が両供給オリフィスから特に供給される。

発明の範囲内で、異なるクリーニング媒体を毎度続いて行うことが可能であり、 アグレッシブな媒体の後に、よりアブテラシブでない媒体を、そして、最後に全 くアグレッシブでない媒体をガス、ヴエーパーまたは液相媒体単独または組み合 わせて供給し、これにより、過剰圧力でのクリーニングをネガティブプレッシャ ーまたは反対の状態でのクリーニングに変えることができる。

減圧下のクリーニングの間、移動するウェファ−２６が益々ぐづつくことにより 、図２７Ａ、２７Ｂ、２７Ｃに示すように、壁３４の圧縮ストロークの間、そし て、図２７Ｄ、２７Ｅ、２７Ｆに示すように、この壁の膨張ストロークの間、分 布するウェファ−への液体の流れか増加する。

図２８においては、図２７による減圧クリーニングのあとに最終仕上げクリーニ ング媒体３０かガス相の、またはガス相でない新鮮なりリーニング媒体により排 出される。

スラストチャンバ３６における減圧が進むと、下位チャンバブロックセクション １７２が図４に示すように、停止壁１７４方向へ下降し、放出通路への円筒状放 出ギャップが作られる。

図１によるモジュールにより、クリーニングギャップ１９０，１９２の高さがパ ルセータ−チャンバ内の減圧の進みで高くなり、これによって、ブロックステー ション３４の停止壁２０２が停止壁２００へ押される。

結果として、供給されたガス状のリンス媒体５０により最終仕上げクリーニング 媒体が理想的に排出される。

ピエゾパルセータ−がモジュレータ１９６に接続され、これにより、少なくとも 振動のアンプリチュードが調節される。

パルセータ−３２の頂部のバッファー構成２１８によりパルセータ−の上昇が規 制される。

前記モジュールには、上位パルセータ−ブロック９２の下方延長部２２４の下位 壁としての円筒状停止壁２００が設けられている。さらに、中央上位チャンバブ ロックセクション３４に停止壁２０２が設けられている。

ブロックセクション３４の上位停止位置において、クリーニングチャンバ２４の 高さが最高、例えば、ブロックセクション３４のバルセイティング作用下のウェ ファ−クリーニングの間の平均高さよりも５０μｍ高い。さらに、放出ギャップ １５６の高さは、最高である。図１５参照。

さらに、上位装着プレート８６の底部サイドによりバッファー壁セクション２１ ８が得られ、これによってパルセータ−の頂部セクションがコントラバッファー 壁２２０を与える。

壁セクション２００，２０２のこの停止位置においては、両バッファー壁セクシ ョン２１８，２２０の間にミクロギャップ２２２が位置する。図１５参照。

この停止／バッファー構成の作用は、以下のとおりである。

図１３Ａと拡大した図１３Ｂにおいては、放出通路２８の圧力に対するパルセー タ−チャンバ９８の過剰圧力により、放出ギャップの閉止が膜状体セクション１ ５２により行われ、これによって、媒体供給により、クリーニングチャンバ２４ 内の圧力が媒体放出無しにパルセータ−チャンバ内の過剰圧力を越えて増加する 。

チャンバ２４の容積増加は、ギヤツブ２２６におけるミクロ往復動媒体層により 制限される。

図１４Ａと拡大した図１４Ｂにおいては、放出通路２８における圧力に対しての パルセータ−チャンバ９８内の過剰圧力により、媒体バッファーがこのギャップ ２２６に維持され、パルセータ−チャンバ内の圧力より高いクリーニングチャン バ内の圧力によって、チャンバ２４の容積は、かなり増加する。

この圧力は、クリーニングチャンバ２４のあるレベルを越えることができ、下方 圧縮ストロークの間、膜状体セクション９６への放出ギャップセクションの強烈 に増加した上方スラストを繰り返し、中央膜状体セクション１５２を下位チャン バブロックの封止セクション１５４から持ち上げ、ミクロ放出ギャップ１６０が 繰り返し作られる。

図１７Ａ、１７Ｂ、１７Ｃにおいて、圧力に大きな差がある停止壁コンビネーシ ョン２００／２０２を備えたウェファ−クリーニングのシステムが示されている 。

図１７Ａにおいては、パルセータ−チャンバ９８と放出通路２８内の高圧により 、低いクリーニング圧力は、パルセータ−チャンバ内の圧力を越えた圧力へ増加 する。クリーニング媒体は、チャンバ２４へ中央路から供給される。

さらに、図１７Ｂにおいては、かなり低い圧力によるウェファ−クリーニングの パルセータ−チャンバにおける圧力の大幅な低下は、チャンバ２４の容積を増大 しない。

一時的にワイドな放出ギャップ１５６を介してチャンバ２４からかなりの媒体が 放出される。

さらに、図１７Ｃにおいては、高圧クリーニングから負圧のクリーニングへの搬 送が行われる。

これにより、一時的にもこのクリーニングチャンバ２４からかなりの媒体か放出 される。

停止壁２００，２０２両者の間におけるミクロギャップ２２６のバッファー作用 により、中央ブロックステーション３４の振幅が一時的にかなり減少する。

図１７の一時的な停止位置において、パルセータ−３２の頂部セクション２２０ は、バルセイティングする。

図１６Ａにおいては、僅かに振動するバッファーギャップ２２２のスラスト媒体 によって、高圧クリーニングギャップ２００，２０２の間の比較的狭いギャップ ２２６と共にチャンバ上位壁の往復動は、減少する。

特に、５０バールを越えるような高圧のクリーニングでは、振動する中央ブロッ クセクションを抑制する抵抗は、大きく、これらの振動は、ゼロへ減少され、こ れらのパルセータ−により、好ましくはないが、頂部セクション２２０へ振動を 伝える。

この方法においては、このバッファーギャップ２２２内の媒体のバッファー機能 により、パルセータ−頂部セクション２２０の振幅よりもかなり高く上位チャン バ壁３４の振幅が維持される。

発明の範囲内で、そのようなモジュールにおいては、ウェファ−クリーニングの タイプに応じて、そのような壁の組み合わせ２００／２０２またはバッファーの 組み合わせ２１８／２２０の使用が可能である。

図５にモジュール１２”が示されている。ここでは、パルセイティング状態での 中央上位チャンバ３４”が複数のプランジャシリンダー構成２３０の手段または 否かによりパルセータ−チャンバ９８″へ供給され、そこがら放出される液体媒 体１０４によって往復移動する。このような供給は、このチャンバの頂部にある シングルの供給／放出チャンネル２３２を介する。

供給路２３０を介して、１５０ｍｍ’の供給と放出が、８インチのウェファ−に 対し８供給構成２３０で達成され、ブロックセクション３４が４０μｍのアンプ リチュードで往復移動する。

したがって、これらの振動周波数は、かなりのものになり、４０μｍのアンプリ チュードには５０ヘルツ、２０μｍのアンプリチュードには１００ヘルツである 。

このモジュールは、Ｎ２のような不活性ガスおよびスーパークリチヵル液体、Ｃ Ｏ２の組み合わせ、または、ＣＯ２単独による高圧クリーニングに最も適してい る。

超高圧によるクリーニングの後、圧力を大幅に低下させてこの媒体の液相をガス 相に変える。低沸点を持つ液体媒体の場合と同様である。このようなりリーニン グシステムは、前記した出願に記載されている。

そのような目的のために、上位ブロック９２″の停止壁２００″は、最下位置に おけるブロックセクション３４の停止壁２０２”から比較的離れている、例えば １００μｍである。

パルセイティング二重浮遊状態と供給オリフィス７ｏ”、７２”を介しての媒体 供給によるウェファ−クリーニングについては、ブロックセクション３４”の上 方膨張ストロークの間、図５Ａに示すようにパルスによりクリーニング媒体３０ がクリーニングチャンバ２４“から放出ギャップ１５６”を介し放出通路２８” へ放出される。

圧縮ストロークの間、チャンバ２４”は、封止される。

パルセータ−チャンバ９８“、クリーニングチャンバ２４”および放出通路２８ ”における他の圧力確立システムにおいては、ブロックセクション３４”の下方 圧縮ストロークおよび／または圧縮と膨張ストロークのトランスファーフェーズ の間、そのような放出が一時的に行われる。

モジュール１２”のクリーニングギャップ１９０“、１９２”は、例えば、６０ μｍの平均高さを有し、その結果、ブロックセクション３４“が５０μｍ移動す ることで、これらのギャップに大変大きな圧力の差が生じ、上方への膨張ストロ ークの間、超微細の噴霧化された液体の少なくとも一部がガス相に変わる。

そして、圧縮ストロークの間、ガス相の媒体は、超微細噴霧化の液体へ変わる。

増加する膨張ストロークによって、両壁２００”、２０２”は、少なくともほと んど互いに接触し、放出ギャップ１５６”の高さもかなり拡大し、チャンバ２４ ”からのクリーニング媒体の放出が一時的に増加し、このチャンバからの最終仕 上げクリーニング媒体がガス媒体で排出される。

また一時的ではあるが、ガスロックコンパートメント４８”内の圧力が増大し、 ガスリンス媒体の放出通路２８”への放出が一時的に増加する。

放出通路２８″の低い放出圧力とクリーニングチャンバ２４”の圧力に関するパ ルセータ−チャンバ９８”のかなりの過剰圧力をもつチャンバ２４″の封止は、 膜状体セクション９６”の中央セクション１５２”により行われて、下位チャン バブロック２０”の封止壁セクション１５４”へ押される。図５Ｂ参照。

ここでもまた、中央ブロックセクション３４”への上昇スラストによるクリーニ ングチャンバ２４”内のかなりの圧力増加により、上昇移動し、放出ギャップ１ ５６”が広がり、最後に、このギャップにおける一時的なかなりの過剰圧力によ り、セクション１５４”から膜状体セクション１５２”が除去され、クリーニン グ媒体が放出される。

パルス当たりのクリーニング媒体は、制限さね、ギャップセクション１５８“は 、この媒体を集めるバッファーチャンバとして機能し、媒体は、放出通路２８” へ均一に流れてガス媒体５０で通路２８”を十分に流し、ガスロックコンパート メント４８″から放出通路１６６”を介しての放出が保証される。

停止壁組み合わせ２００”／２０２”によるパルセータ−チャンバ９８”内の圧 力は、かなり低下し、狭いギャップ２２６”におけるバッファー媒体と共にクリ ーニングチャンバ２４”の容積は、増加が制限さね、図５Ｂに示す通りであ発明 の範囲内でこのモジュールについては、図２４から２８に示すように、ウェファ −クリーニングは、フォーム力凭り用できる。このようなりリーニング作用には 、例えば、酸化または脱水ベークのような他のウェファ−処理が続くことができ る。

図２９においては、図１をも参照すると、水搬送、処理、貯蔵、汚染コントロー ル条件下における検査の装置が示しである。

この装置は、主にチップ製造プラントに位置する近接ウェファ−搬送／脱ガス／ 貯蔵／検査コンパートメント３１８．３２０をもつウェファ−搬送／処理コンパ ートメント３１４，３１６からなる。

包囲されたコンパートメント３２２内の操作室３３４の床３７８のレベルに床３ ４０が位置し、上位コンパートメント３３０と下位コンパートメント３５２との 間における水平隔離壁として機能する。図３２参照。

ウェファ−搬送と全面ウェファ−クリーニングのモジュール３２６．３２８は、 図１，４または５に示されていて、垂直な隔離壁セクション３３６，３３８に対 し装着されている。

装置３１０の長さ方向へ伸びている隔離壁３２４のセクションは、互いに角度を もって配置され、これらのモジュールにおいてもそのようである。

さらに、少なくとも一つの垂直な壁３６０と、処理装置３３２の側壁と組み合わ せたもの、または組み合わせないものとによって、ウェファ−の搬送／処理コン パートメント３１４，３１６は、互いに分離されている。

この垂直な分離壁３２４と他の垂直な壁セクションは、床３４０から少なくとも ウェファ−搬送ゾーン３６２を越えて上方へ伸び、コンパートメント３１４゜３ １６．３１８，３２０を廊下３６４と共に搬送ゾーンで水平方向に分離する。

これらのコンパートメント３１４，３１６，３１８，３２０は、オペレータール ーム３３４へ向かい上方へ伸び、このルーム３３４の天井３５４に接続のカバー セクション３４６によって上方への封止が達成される。図３２参照。

ウェファ−搬送／処理コンパートメント３１８．３２０においては、ウェファ− 搬送／処理コンパートメントにウェファ−搬送ロボットが位置してウェファ−を クリーニングモジュール３２６，３２８、検査ステーション３４２及び一連のウ ェファ−貯蔵／脱ガスモジュールへおよび、から供給ならびに取り出しを行う。

床３７８の上には、ある程度離れてモジュール３２６，３２８のクリーニングチ ャンバが位置し、ウェファ−２６の供給と放出とが搬送レベル３６２で行われる 。ウェファ−処理においては、搬送ロボット３５６によりこれらのモジュールへ の側面からの供給と取り出しが行われる。

上位コンパートメント３３０の共通上位セクション４９８においては、空気より も軽いＮ２のような不活性ガスのフィルターハウス３５８が固定され、上位媒体 としての不活性ガスの共通供給ダクト３６６に接続している。

さらに、供給ダクト３７４により下位媒体３７２としての空気がフィルターハウ ス３７０へ供給され、空気を廊下３６４へ供給する。

これらのフィルターハウス３５８，３７０においては、交換可能のフィルターカ ートリッジが位置している。

廊下３６４は、装置の長さ方向へ伸びている中央廊下セクション３７６と、後続 のウェファ−搬送／処理コンパートメントの間に位置する分岐した廊下セクショ ン３７８とからなる。

これら廊下のセクションにおけるレベルレギュレーター３８０により、媒体３６ ８．３７２の間の分離レベル３８２がレベルを保って、ウェファ−搬送ゾーン３ ６２の下に位置している。

このレベルの下に下位媒体３７２のオリフィス３７０が位置する。

床３４０においては、マンホール３８４が位置し、これらのホールの上には、人 を包囲するもの３６８が構成されている。

コンパートメント３５２には、入用エレベータ３８８が配置され、床３４０への 昇降に用いられる。

このエレベータの最下位置に於いては、移動可能の壁により、このマンホールが 閉鎖される。

この人の包囲体の下位セクション５５０は、少なくともテフロンのような変形の 少ない合成素材により作られ、十分に変形しない上位セクション５５２のキャリ ヤとして機能し、透明なヘッドエンクロージャー５５４が設けられている。

さらに、この下位セクション５５０は、底部サイドで開放され、セクション５４ ８において部分的に重くなっている。

フレキシブルなセクション５５６により、下位と上位セクションは、互いに固定 され、上位セクション５５２を例えば６００曲げることが可能になっている。

さらに、この上位セクション５５２は、フレキジルなアームセクション５５８を 固定するカップリングセクションを含む。

さらに、下位セクション５５０には、エンクロージャーが床３４０の上を移動す るためのロールが設けである。

更に、このキャリヤセクション５４８には、テストおよびクリーニング器具５３ ０へ前記セクションを漏れ無；−に固定する封止手段が設けである。

そのようなエンクロージャー３８６への媒体供給および放出チューブ３９０゜３ ９２が床３４０に位置するニップル３９４と結合し、吸入空気の供給と放出と接 続しでいる。

この吸入媒体は、床３４０の上の廊下３６４に位置するカラム超濾過された下位 媒体を汚染しない。

分離レベル３８２と床３４０とは、比較的離れていて、約０．３ｍであり、人の 移動を伴う上位コンパートメント３３０の装置のメンテナンスの間、軽い上位媒 体３６８は、エンクロージャー内に入ることが出来ず、人の呼吸を乱さない。

エレベータ３８８により、人は、開放された底部サイド５４８からエンクロージ ャー３８６へ入り、退出できる。

さらに、ラック３９８内のコンパートメント３３０には、超クリーニングされた 装置の部品がカラムウルトラクリーンの上位媒体３６８内に貯蔵されている。

この装置においては、テレビカメラがオペレータールーム内でウェファ−の後続 搬送、装置の適正な機能、メンテナンスにおける保守作業をモニターする。

さらに、ウェファ−搬送／処理コンパートメント３１４，３１６の床４０２にお いては、放出ダクト４０４か配置されていて、処理媒体と組み合わされた、また は、組み合わされていない上位媒体３６８を中央放出ダクト４０６へ向かい下方 へ放出する。

必要に応じて、オーブンウェファ−処理ステーションにおけるように、放出ダク トは、それ自身の放出路に接続でき、処理媒体の分離を単純化する。

さらに、ウェファ−搬送コンパートメント３１８．３２０においては、カセット 搬送トンネル４１０の床４０８に放出ダクト４１２が位置して、汚染物と組み合 わされた、または、組み合わされていない媒体３６８を中央放出ダクト４１４へ 放出する。

さらに、廊下３６４の床３４０には、放出ダクト４１６が位置する。これらのダ クトは、放出ダクト４１８に接続している。

発明の範囲内で、これらのダクトは、放出ダクトとしての下位コンパートメント ３５２に接続している。

上位と下位の媒体容積は、限定されていて、部分的に必要になるクリンルーム条 件に依存する。

下位コンパートメント３５２に於いては、ウェファ−搬送、処理、検査装置の二 次的セクションならびにタンク、ポンプおよび配管のような付属品が配置されて いる。

必要に応じ、この下位コンパートメント内には、処理リアクターが配置され、ま たはその下でカセットによるウェファ−の供給と取り出しが行われる。

図２９においては、装置３１０は、ウェファ−処理ステジョンの二列３１４゜３ １６からなる。そこでは、高減圧ウェファ−処理モジュールのグループ４２０゜ ４２２．４２４，４２６において、後続ウェファ−処理が減圧下で行われる。

発明の範囲内で、バッチ方式または個々に、あらゆるウェファ−処理が行われる 。

さらに、処理モジュールは、ウェファ−処理のタイプに応じて、ステーションご とにシングルモジュールから変更される。

さらに、これらのウェファ−処理モジュールの間において、ウェファ−検査およ び／またはウェファ−オリエンテーションステーションが構成できる。

図３０には、高減圧ウェファ−処理ステーションのグループ４２０゛における変 更された装置３１ｏ°が示されている。

高減圧ウェファ−処理ステーションにおいては、前記ステーションから、そのフ ロントのウェファ−搬送ステーション４２８へ処理ガスを極端に放出することに より、このセクションは、少なくとも部分的には、ウェファ−搬送コンパートメ ント３１８，３２０からの垂直な側壁と分離させなくてもよい。したがって、そ の位置においては、クリーニングモジュール３２６，３２８は、ウェファ−搬送 ロボット３５６と共にこれらのウェファ−搬送コンパートメント３１８’、３２ ０’　内に位置できる。

高減圧下のウェファ−処理の後、金属付着のような主として処理の汚染物は、ウ ェファ−から完全に除去しなければならない。

この目的のために、必要に応じ、出口モジュール４３０において、ウェファ−の 有効な処理、例えば、金属粒子や他の付着物の除去をエツチング処理で行う。

続いて、モジュール３２８゛において、キャリヤ媒体としてのガス媒体内にある 超微細噴霧化の液体によりウェファ−をクリーニングするなどの継続されたウェ ファ−処理が行われる。

モジュールと組み合わされているか、組み合わされていないウェファ−の完全な 後処理には、後処理の間にウェファ−の内部に侵入した湿気を完全に除去する工 程が続く。これは、湿気が後続の高減圧のウェファ−処理の間に汚染物として作 用するからである。

ウェファ−クリーニングをＮ、とＣＯｌのようなスーパークリティカルな液体と の組み合わせで行うと、湿気の除去は、必要がない。

ウェファ−の脱気は、高減圧と高温度で行っても２０分以上要する。

この目的のために、ウェファ−搬送コンパートメント３１８，３２０には、脱ガ スステーション４４４か配置され、これらは、好ましくは、一連の脱ガスモジュ ール４４６，４４８，４５０からなる。

装置には、異なるウェファ−処理ステーションが設けられており、例えば、高減 圧ウェファ−処理およびリトグラフィオリエンテッドウェファ−処理のステーシ ョンであり、これらの装置は、互いに並べられて、好ましくは、装置３１０の出 口セクション４３２と他の装置３１０′の入りロセクション４３４を連結するト ンネル４１０を介してウェファ−カセットが自動的に搬送される。

レシーバ−ステーション４３４においては、カセット４４０を受ける二つの構成 ４３６，４３８が配置されへこれらは、カセット供給および放出装置４４２と連 結している。

第１のカセット４４０からウェファ−搬送ロボット３５４によりウェファ−が取 り出され、その間、他の空のカセット４４０が装置４２により他の装置の放出ス テーション４３２へ戻さね、ついでロードされたカセットに置き代えられる。

図３１に装置３１０′のセクションが示されており、リトグラフィオリエンテッ ドウェファ処理がウェファ−処理ステーションのグループ４５２で行われる。

ここでもまた必要に応じ、コーティングデポジションステーション４５２の前の モジュール４４６°、４４８’の脱ガスステーション４４４“により、第１のモ ジュールにおいてＨＭＤＳヴエーバープライマーが高減圧の下、ウェファ−２６ にデポジットされる。

ここでもまた入り口４３４゛に二つのウェファ−供給カセット４４０の貯蔵構成 ４３６’　、４３８’が設けられている。

さらに、下位壁４０２′の放出ダクト４０４°を介して不活性ガス３６８を放出 する同じシステムがあり、この分離壁４０２°の直下に位置する捕集コンパート メント４５４内で不活性ガスが捕集される。

さらに、ウェファ−搬送コンパートメント３１８゛から下位の分離壁に位置する ダクト４１４°を介して不活性ガス３６８が放出される。

この装置においては、ステッパーステーション４５６に、このステーションとウ ェファ−搬送コンパートメント３１８゛　との間における分離壁を設けなぐても よく、これは、このステーションでは、汚染物が発生せず、放出すべきしよりガ スもないからである。

さらに、コーティングデポジションステーション４５８のために、出口モジュー ル３２８°の背後に水処理のための付加モジュール４３０゛が配置されている。

発明の範囲内で、これらのモジュールは、交換でき、または、この第２のモジュ ールは、省略できる。

その装置のために、ウェファ−搬送／処理ステーションならびにウェファ−搬送 ／脱ガス／検査コンパートメントが図３０．３１に示すように使用でき、サイズ 、数量も自由である。

さらに、高減圧ステーションのグループと他のウェファ−搬送／処理ステーショ ンとの組み合わせをウェファ−搬送／処理装置をも含めて使用でき、エレメント を多層とするＤＲＡＭウェファ−処理技術のために部分的な繰り返しを含むトー タルなウェファ−処理サイクルが行われる。

汚染物コントロールを含め、カラム不活性ガス３６８ど空気３７２のメンテナン スは、以下の通りである。

中央回廊セクション３７６と分岐した回廊セクション３７８において、カラムの 高度に濾過された空気３７２が頂部にカラム超濾過不活性ガスと共に保持される 。

この空気を供給オリフィス３７０を介して供給し、ダクト５１６を介して放出す ることにより、空気を汚染されていない十分な状態に保持でき、部分的な保持も できる。

さらに、人の包囲体３８６の汚染されない外部の変形しない下位セクションによ る重いカラム空気と、このような保守が回廊床３４０の直上で維持される間、空 気は、渦巻き流れにならない。

したがって、空気は、上昇してカラム不活性ガスを垂直側壁３２４，３３６゜３ ３８．３６０，３６２を越させない。

さらに、比較的重い汚染物は、カラム空気からカラム不活性ガスの方へほとんど 移動しない。

さらに、比較的重い汚染物がカラム不活性ガスに存在していても、これは、カラ ム不活性ガスへ向は上昇する。

このように、回廊セクション３７６．３７８におけるカラム不活性ガスは、バッ ファーとして機能し、ごく僅かなガスが分離レベル３８２における放出オリフィ ス４６０から必要に応じて放出される。図３２参乱したがって、上位コンパート メント３３０の上位コンパートメントセクション３５８は、不活性ガスの共通ダ クトとして理想的な機能を果たし、不活性ガスは、この上位セクションへ中央に 位置する濾過機構３５８または図示の濾過機構を介して供給される。

ウェファ−搬送／処理コンパートメント３１４，３１６においては、放出ダクト ４０４が床４０２に位置し、ウェファ−搬送／脱ガス／貯蔵／検査コンパートメ ント３１８，３２０においては、放出ダクト５１２が床に位置し、供給された不 活性ガスは、動かないカラム不活性ガスの上を移動する。カラム不活性ガスは、 廊下セクション３７６．３７８にあって汚染されていないガス状のガイドとして 機能し、前記供給された不活性ガスは、さらに垂直の分離壁３２４，３２６゜３ ６０．３６２を越え、放出ダクト４０４，４１４へ吸引される。

濾過機構３５８は、個々に配置され、上位セクション３５８により不活性ガスは 、拡散される。

さらに、コンパートメント３１４，３１６，３１８，３２０における放出オリフ ィスの位置とサイズは、不活性ガスの節減を計るために個々のウェファ−搬送、 処理に合わせて調節される。

このためには、多くの放出ダクト４０４，４１２が必要に応じて設けられる。

さらに、ウェファ−搬送／処理コンパートメントの下に捕集コンパートメント４ ５６を用いることで、必要に応じ、ウェファ−搬送／処理コンパートメントのど の場所においても不活性ガスをレベルにそって下向きに流すことができる。

したがって、不活性ガスの供給と放出は、極めて単純に、しかも効率良く行える 。

フロートスイッチ３８０によって分離レベル３８２の高さを維持する代わりに、 空気および／または不活性ガスの多数の放出オリフィス４６０を分離レベルに配 置して、前記レベルを保つこともできる。図３２参照。

このレベルは、オリフィスよりも上であり、空気の放出のみを行うが、このレベ ルがオリフィスの下にあれば、不活性ガスのみ放出される。

他の構成においては、フロートスイッチ３８０は、放出オリフィスと協同し、放 出ダクトは、安全に維持される。

オリフィスは、フロートスイッチのスイッチングレベルの上に位置する。

これによって、放出ガスは、クローズドの状態から開放状態へ調節でき、メンテ ナンスの間、全ての放出オリフィスを介して不活性ガスの放出を増やすことが出 来る。

図３３に装置３１０”が示されている。廊下３６４”の床としてのみ機能する分 離壁３４０”は、上位コンパートメント３３０”と下位コンパートメント３５２ ”との間に配置されている。

さらに、カラムガス３６８とカラムウルトラフィルイタ−された空気３７２との 間にある分離レベル３８２”は、下げられ、これにより、垂直分離壁３２４”は 、床から上へ伸びて前記レベルを越す。

ここでもまた、ウェファ−搬送／処理／貯蔵／検査コンパートメントは、それぞ れ３１６”と３２０”とに組み合わさね、これらのコンパートメントと下位コン パートメント３５２”の間に分離壁は、設けられない。

さらに、高さが廊下３６４”の分離レベル３８２”に対応する分離レベル４６４ の直上のコンパートメントに、放出オリフィス４６６が位置し、これは、放出ダ クト３５８と連結している。

フィルター３５８”を介して供給されるガス媒体３６８は、これらのコンパート メント３１４”／３１８”および３１６“／３２０”を通り放出オリフィス４６ ６へ動く。

ウェファ−搬送ゾーン３６２”と多数の放出オリフィス４６６との間の距離が比 較的離れているため、ガス媒体の下降速度は、極めて低く、良好な状態で広がり 、場所によっては、毎秒１ｍ以下である。そして、必要に応じ、コンパートメン トには、新鮮な不活性ガスが十分に供給される。

特に、ウェファ−搬送ゾーンにおいて。

また、この放出は、バルブ４６８で調節できる。

さらに、前記のコンパートメントに於いては、高度に濾過された加熱空気３７２ が良好な拡散状態で分離レベル４６６の直下がら供給される。

供給オリフィス３７０“を介して廊下３６４”へ供給される空気は、高度に濾過 された空気と同じもので、下位コンパートメントを介して床の放出開口４７２へ 吸引される。

発明の範囲内で、垂直分離壁３２４“は、全部なくてもよいし、一部のみあって もよい。

分離壁３２４”の特別な機能は、汚染された空気を廊下３６４”のエアーカラム ３７２”へ侵入しないようにして、コンパートメント３１４”／３１８”および ３１６”／３２０”を介して放出することである。

発明の範囲内では、垂直壁３２４”を床３４０”からウェファ−搬送ゾーン３６ ２＃を越えて上方へ伸ばすこともできる。

廊下３６４”から空気を床３４０”の開口４１６”から放出することもできる。

コンパートメント３１４”／３１８″および３１６”／３２０”の下の開口通路 ４７０は、配管として自由に設置でき、壁を通すこともない。

さらに、この装置は、下位のコンパートメント３５２”からアクセスできる。

さらに、この装置の一部または装置全体を交換のとき前記通路を介して上位コン パートメント３３０”へ、または、コンパートメントから移動することができる 。

さらに、装置３１０“においては、必要に応じて、不活性ガス３６８の供給フィ ルター３５８″を図１に示すようにコンパートメントの頂部に設置できる。

不活性ガスが充填された隔離されたコンパートメントの内部に一連のウェファ− クリーニングモジュールを使用することで、装置３１０，３１０’　、３１０” は、以下の特徴を有する： １、上位コンパートメント３３０１下位コンパートメント３５２およびオペレー タールーム３３４を組み合わせて、ウェファ−搬送および処理装置、コントロー ル、貯蔵、検査を行う理想的な使用が、下記の結果を生ずる：ａ）上位コンパー トメント３３０において、装置セクション３３２と他のセクションとのインター フェースが改善され、両者の間のスペースを大幅に減少させる； ｂ）これら装置セクション３３２の間の距離を均一にする；Ｃ）上位コンパート メント３３０においての装置セクション３３２の保守を大幅に減らし、汚染物の 発生を大幅に減らす；ｄ）連続してオーブン状態にあるウェファ−搬送／処理ゾ ーン３６２の上に装置セクションがなく、汚染物の発生がない。

したがって、上位コンパートメントに位置する装置セクション３３２および他の 装置による汚染物の発生を無＜シ、コントロールする。

２、上位コンパートメント３３０において、湿気ならびに有機物または有機物で ない汚染物を含む空気の代わりにサブミクロンの濾過された不活性ガス３６８、 Ｎ２を有効に使用する。

３、一連のウェファ−クリーニングモジュール３２６，３２８，４３０における ウェファ−全面クリーニングによって、ウェファ−から、発生した汚染物の付着 したものを効果的に除去する。

４、垂直分離壁３２４とカラム高度濾過空気３７２の上のバッファーカラム高度 濾過不活性ガスとを使用することで、汚染物は、廊下セクション３７６、　３７ ８からコンパートメント３１４，３１６，３１８．３２０またはそれらの組み合 わせへ移らない。

５、上位セクション３３０ては、下記の手段により、メンテナンスの間、汚染物 が装置セクション３３２へ移らない：ａ）水蒸気および他の汚染物を含まない雰 囲気媒体としての不活性ガス；ｂ）内部の人の呼吸空気を自ら放出する、汚染さ れない人を包むエンクロージャー３８６； Ｃ）分離壁３２４とスタティックなカラム不活性ガス３６８による渦巻き流れな し。

６、汚染物の発生のないウェファ−搬送ロボット３５４，３５６の最高で効果的 な使用。

７、コンパートメント３１４，３１６，３１８，３２０または、これらの組み合 わせにおけるシングルでスタンダードなレベルの間にウェファ−を搬送すること で、すべての装置の付加的最高のインターフェース条件。

８、発生したヴエーバーとガスを自ら放出するシールされた脱ガスモジュール４ ４６，４４８，４５０におけるウェファ−の効果的脱ガス。

９、処理モジュールからコンパートメントへ放出された重い処理媒体がカラム不 活性ガス内で放出オリフィス４０４，４１２および／または４６６へ下降し、存 在する装置によりクリーンルーム内で軽い処理ガスとヴエーパーとが上昇する。

１０、コンパートメント３１４，３１６，３１８，３２０または、それらの組み 合わせにおいて、存在する装置内にあるウェファ−搬送ゾーンの上の渦巻きフラ クション。

１１、装置３１４，３１６，３１８，３２０または、これらの組み合わせ内にお いてはテンポラリ−で極端に好ましくない状態は、存在せず、存在する器具につ いては、人が一時的に接近し、汚染が発生することにより、搬送／処理／コント ロールコンパートメントのすべてにおいては、超清浄なりリーンルーム空気のか なりを層状にして下降流れとすることが行われる。

したがって、装置３１０，３１０’　および３１０”については、不活性ガスが スタティックな雰囲気媒体として要求され、これは、コンパートメント３１４゜ ３１６．３１８，３２０または、これらの組み合わせを介して、殆ど下降放出さ れず、発生した汚染物および処理媒体は、これらのコンパートメントを介して、 極めて僅かのものが極めて制限された状態で下降放出されるしかない。

また、上位コンパートメントのサイズが限定されているので、不活性ガスの全消 費量は、装置が存在するクリーンルーム空気の全消費量のフラクションに過ぎず 、しばしば１％以下である。

したがって、不活性ガス３６８を上位コンパートメント３３０の頂部セクション に位置するミニフィルターを介して部分に理想的に供給することができる。

さらに、この装置に対しては、出願人のオランダ特許出願第９０００５７９゜９ ０００９０２．９０００９０３，９００１１７７．９００１４００，９００１８ ６２．９０００３７４，９０００３７５．９０００３７６．９０００９０２゜９ ０００９０３．９０００１１７７．９００１４０００，９００１８６２，９００ ０３７４．９０００３７５．９０００３７６．９１００２３７＋：記載サレテイ るようなすべての他の構成と方法が、適用される形態か、形態でないかは別とし て、応用できる。

さらに、この装置の構造と方法とは、適用される形態か、形態でないかは別とし て、上記した装置に利用できる。

図８におけるモジュールは、パルセータ−チャンバ９８と放出通路２８との間の 著しい圧力の差に適している。例えば、Ｎ２と超臨界の液体、ＣＯ２とを組み合 わせての高圧ウェファ−クリーニングにおけるような場合である。

さらに、ガスロックコンパートメントを不活性ガスの供給体としての外部環境１ ７０と入れ替え、ギャップ１６６内にガスロックを維持し、図７参照、このガス を放出通路２８へ送り、それをリンスする。

その場合、装置３１０，３１０’　、３１０’の不活性ガスコンパートメントは 、そのような環境として機能する。図２９から図３３参照。

上位チャンバブロック２２の下位壁セクション２３０は、好ましくは、膜状体セ クション９６の中央セクションにおいて、隣接壁セクション２３２，２３４より も、例えば５μｍの僅かに低いレベルを有している。図８０参照。反対に、下位 チャンバブロックの協力セクションには、中央膜状体セクション１５２において 、上方へ延びる壁セクションが設けられている。

チャン／＜２４．９８には、圧力が蓄積されず、ブロックセクション３４は、停 止壁１１４，１１６において互いに当たるチャンバブロック２０．２２と共に振 動しないから、スプリング付勢の円筒状セクション１５２は、対応するブロック ２０のセクション１５４に当たる。

この膜状体セクションは、比較的スティッフであるから、ブロックセクション３ ４の上方への膨張ストロークの間、円筒状な曲げラインまわりを共同して上へ引 き上げられ、これは、スプリング付勢に抗する。

最後に、パルセータ−チャンバ９８と放出通路２８内の圧力に対する放出ギャッ プセクション１５６内のクリーニング媒体の圧力に応じて、このセクション１５ ２は、共にミクロの距離を上昇し、一時的にミクロの通路１６０が作られる。

ブロックセクション３４の後続の下降圧縮ストロークにより、このスティッフな 膜状体セクション９６は、このブロックセクションにより共に下方へ引かれ、放 出ギャップセクション１５６内のさらに圧縮されたクリーニング媒体の上方ヘス ラストに抗する。そして、セクション１５２は、セクション１５４に当り、チャ ンバ２４が閉鎖される。

セクション１５４からセクション１５２を引き上げる範囲と程度は、膜状体９６ の硬さ、チャンバ２４と９８と放出通路２８の両者の間の圧力の差ならびにブロ ックセクション３４の振幅に依存する。

膜状体セクション９６の硬さは、クリーニングモジュールに対する圧力の差に依 存し、例えば、８０バールで圧力変動が４０バールの最高平均圧力におけるウェ ファ−クリーニングには、最高の高度をもつ。

膜状体セクション９６への下方へのかなりのスラストを伴うブラセーターチャン バ９８における最大設定圧力でチャンバ２４からクリーニング媒体３０が増加放 出さね、このチャンバへの、および、チャンバからの媒体の供給と放出が安定す る。

まず最初はチャンバ２４へ媒体は供給されず、前記媒体の継続する膨張によりパ ルセータ−チャンバ９８とチャンバ２４との間における正の圧力の差が増加しセ クション１５２をますますセクション１５４へ押し、最終的には、最高の封止状 態が得られる。

図６は、モジュール１２°°゛を示し、下位チャンバブロック２０”’には、ま た中央セクション２４０が設けられ、そこでは、下位パルセータ−チャンバ２４ ４への、および、からの液体媒体１０４の供給と放出が低い頻度で繰り返される 。

チャンバ２４”’におけるウェファ−２６のクリーニングは、図１によるモジュ ールについて記載したものと同じである。

これらブロックセクション３４”’と２４０についての円筒状な停止組み合わせ ２００”’　／２０２”’により、ブロックの移動が規制され、膜状体セクショ ン９６”’と２４２の認められない変形が阻止される。

ブロックの振動周波数は、異なることが好ましく、シたがって、合成アンプリチ ュードの振動は、高まる。

周期的なかなりのアンプリチュードが確立され、互いに離れてゆく膜状体セクシ ョン１６２”’と２６０の間にチャンバ２４°゛から放出通路２８”パへ媒体が 放出される。

発明の範囲内で、他のモジュール構造においては、中央下位チャンバブロックセ クション２４０のみが振動することも可能である。

さらに、これらのパルセータ−の一つは、パルセータ−の他のタイプであり、例 えば、ピエゾトランスデユーサ−である。

図９には、クリーニングモジュールのための媒体放出システムの変形が示されて いる。

チャンバブロック２２の部分としての二つの膜状体セクション９６′　と２６２ が円筒状な封止セクション２６６の間において用いられている。

図９Ａにおいては、クリーニングチャンバ２４′の媒体チャージが行われ、チャ ンバ２４′　における媒体３０の圧力に対するパルセータ−チャンバ９８′　と 膜状体セクション２６２の上のセクション２６４における媒体の過剰圧力でセク ション２６６の下位壁２７８を下方へ促して下位チャンバブロック２０°の対応 する壁セクション２８０へ押ス。

中央ブロックセクション３４′の往復動の間、膜状体セクション９６′　は、こ れらのパルセイティングを吸収する。

図９Ｂにおいては、チャンバ２４′への媒体のチャージが行われ、このチャンバ の圧力は、パルセータ−チャンバ９８′の圧力よりも僅かに高くなる。

これにより、チャンバ２４゛　の容積は、増大し、膜状体セクション９６′　と 封止セクション２６６を含めて、ブロックセクション３４′　は、上昇し、封止 セクション２６６は、その上位壁２７６と共にパルセータ−チャンバ９８゛　内 に位置する停止壁２００′へ押される。

このブロックセクション３４゛の停止壁２０２°は、未だ停止壁セクション２０ ０′に押されていない。

したがって、放出ギャップ１５６′とその延長部２６８とが組み合わされ、その 内部端部２８２における膜状体セクション２６２が共に上昇される。

放出ギャップの組み合わせは、バッファリングにおけるバッファーコンパートメ ントとして機能し、上位チャンバ壁３４°のパルセイティング作用の間、クリー ニング媒体３ｏがチャンバ２４°から後退する。

膜状体セクション２６２の下方に向かい内側へ部分的に延びている放出通路２８ ′　とギャップセクション１５８′における負圧によりパルセータ−チャンバ９ ８の媒体５０の圧力に下方向のスラストを与え、これで膜状体セクション２６２ の中央の部分２７０を下位チャンバブロック２０′の壁セクション２７２へ押す 。

図９０においては、クリーニング媒体３０をチャンバ２４′へ継続的に供給して 、このチャンバの圧力を更に高め、最終的に膜状体セクション２６２への合成ス ラストにより、セクション２７０を少なくとも一時的にミクロの距離だけ壁２７ ２から持ち上げ、最終仕上げクリーニング媒体３０を放出ギャップ２７４とギャ ップセクション１５８゛を介して放出通路２８′へ放出する。

発明の範囲内で、この媒体封止／パススルーシステムへの圧力のビルドアップが 可能であり、停止システムの利用と高圧または負圧でのウェファ−クリーニング を含む。

移動可能な封止セクション２６６の間において、膜状体セクション９６′　と２ ６２との組み合わせは、かくだいした膜状体セクションとみなすことができ、そ の膜状体部分２６２は、この封止セクション２６６とアウターブロック部分９４ ゛　との間におけるヘフレキシブルエレメントとして機能する。

図９０には、さらにフェーズＩＩが示され、高圧クリーニングが徐々にクリーニ ング媒体の全排出へ変わることが示されている。

そのためには、パルセータ−チャンバ９８′の圧力が徐々に減少し、チャンバ２ ４′　の過剰圧力により、封止セクション２６６の上位壁２７６が停止壁２００ °に当接したままであり、膜状体セクション２６２への上昇スラストの増加で少 なくとも一時的に、膜状体壁２７０と下位チャンバブロック２０°のコントラ壁 ２７２との間に放出ギャップ２７４が継続維持される。

ブロックセクション３４゛の停止壁２０２゛は、停止壁２００に当たらない。

しかしながら、圧力の突然の低下で、この停止組み合わせは、安全に機能する。

結果として、高圧クリーニングの理想的なシステムが達成され、これは、放出通 路２８における圧力を負圧とする可能性を有し、これによってガスロックコンパ ートメント４８゛が省略でき、この通路への供給に必要なガス媒体を、図２９か ら３３による装置の不活性ガスコンパートメント３３０としてのアウターモジュ ール環境から引くことができる。

図９Ａを参照すると、壁２７８，２８０の少なくとも殆ど接合した位置において 、チャンバ２４′　の近くのブロック壁セクション２８４，２８６との間におけ るギャップ２８８の高さは、依然として少なくとも１０μｍであり、これは、パ ルセイティングアンプリチュードによる。

したがって、ウェファ−クリーニングの間、図９Ｂ参照、このギャップセクショ ン２８８の高さは、超高圧ウェファ−クリーニングに必要な少なくとも殆どジャ ムフリーの状態で行われる上位チャンバ壁３４′のパルセイティング往復動をも つに十分なものである。

図１８から２２によるウェファ−供給システムにより上位チャンバブロック２２ の凹部１０２内に到着したウェファ−をセンターイングした後に、ロボットアー ムの支持ブレードをウェファ−の下から引き抜き、下位チャンバブロック２０の チャンバ凹部ヘウエフア−を入れ、図１８Ｄに示す仮想位置２９２において傾斜 させることが可能である。

これは、両チャンバブロックの間におけるウェファ−搬送ギャップの極めて小さ い高さによって、ウェファ−の無視される程度の傾ぎが可能で、容認されない力 は、作用しない。

傾いたウェファ−を凹部１２２へ進入しやすくするために、この凹部は、側壁が 傾斜していると共にやや広めの径の入り口を有している。

安　；　８　！？諮　ｇ ＦＩＧ、　３１ フロントページの続き （３１）優先権主張番号　９０００５７９（３２）優先臼　１９９０年３月１４ 日（３３）優先権主張国　オランダ（ＮＬ）（３１）優先権主張番号　９０００ ９０３（３２）優先臼　１９９０年４月１７日（３３）優先権主張国　オランダ （ＮＬ）（３１）優先権主張番号　９００１１７７（３２）優先臼　１９９０年 ５月２１日（３３）優先権主張国　オランダ（ＮＬ）（３１）優先権主張番号　 ９００１４００（３２）優先臼　１９９０年６月２０日（３３）優先権主張国　 オランダ（ＮＬ）（３１）優先権主張番号　９００１８６２（３２）優先臼　１ ９９０年８月２３日（３３）優先権主張国　オランダ（ＮＬ）（３１）優先権主 張番号　９１００２３７（３２）優先臼　１９９１年２月１１日（３３）優先権 主張国　オランダ（ＮＬ）（８１）指定国　ＥＰ（ＡＴ、ＢＥ、ＣＨ，ＤＥ。

ＤＫ、ＥＳ、ＦＲ，ＧＢ、ＧＲ，ＩＴ、ＬＵ、ＮＬ、ＳＥ）、ＪＰ、ＫＲ，ＳＵ 、ＵＳ （７２）発明者　ポック、ニドワード オランダ国エヌエルー１１７１ディアール・バドホーベドルプ、ブルゲメースタ ー・アメルスフールドトラーン８２ （７２）発明者　バーラグ、ロナルド、ヨハネス、ウイルフェルムス オランダ国エヌエルー１３１４ケーダブリュ・アルメレスタツド、トゥインケル スストラート１３

Claims (186)

【特許請求の範囲】
1. １．少なくとも一つのウエファークリーニングモジュールと，以下を加えたもの からなるウエファー搬送と処理装置： ａ）下位チャンバブロックと上位チャンバブロックとの組み合わせ；ｂ）ウエフ ァーをクリーニングするための、少なくとも一つの中央凹部における、これらの ブロックの間に位置するクリーニングチャンバ；ｃ）このブロック構成において 、このチャンバの横に横方向にあるクリーニング媒体の為の放出通路； ｄ）前記クリーニングチャンバへ向け、及びチャンバからウエファーを搬送する ために、前記チャンバを互いに離し、ウエファーをクリーニングするために、互 いの方向へ移動させる手段； ｅ）前記クリーニングチャンバ内での少なくともウエファークリーニングの間、 振動作用でチャンバ壁を往復動させて、少なくとも一時的に、前記クリーニング チャンバの高さを変えるバルセーター；そして、ウエファークリーニングの間、 前記チャンバブロックの間に前記クリーニングチャンバから前記放出通路に向け て、少なくとも一時的に、媒体放出ギャップを形成し、少なくともガス媒体によ りシーリングオフシステムを確立させる。
2. ２．少なくとも前記壁に接合状態にあり、前記クリーニングチャンバと前記放出 通路との間において、前記ミニの媒体放出ギャップが少なくとも一時的に共同し て完成されるような協力停止壁を備える請求の範囲１に定義された装置。
3. ３．前記媒体放出ギャップがウエファークリーニング作用の一部の間で、邪魔さ れることなく、放射方向に延びるような手段を備えている、請求の範囲２に定義 された装置。
4. ４．停止壁セクションとしての前記停止壁の少なくとも一つが、前記放出通路を 越えて横方向へ延びる前記チャンバブロックの一つの延長部の部分と少なくとも 共同している請求の範囲２に定義された装置。
5. ５．前記チャンバブロックが放射方向において邪魔されていない壁セクションと 共同し、前記セクションは、前記放出通路へ向け横方向へ延び、ウエファークリ ーニングの間、前記壁セクションの組み合わせにより、横方向の前記放出通路を 外部雰囲気から遮断する手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
6. ６．前記チャンバブロックがクリーニング位置にあるとき、ガス媒体により、横 方向にある前記放出通路をシールするシステムを確立する手段を備えた請求の範 囲５に定義された装置。
7. ７．前記ブロックの間の前記壁セクションに、ガスロックコンパートメントが位 置し、横方向に延び、前記コンパートメントに供給されたガス媒体により、前記 放出通路にあるクリーニング媒体が前記壁セクションの間において、横外方へ前 記通路から逃げるのを阻止する手段を備える請求の範囲５に定義された装置。
8. ８．ガスロックを維持するために前記ガスロックコンバートメントヘの媒体供給 を横外方の延長部を介して行う手段を備える請求の範囲７に定義された装置。
9. ９．前記ガスロックコンパートメントの前記延長部が前記ブロック構成の外側環 境から前記コンパートメントへ向け媒体を供給するために、前記チャンバブロッ ク構成の外部へ向け横外方へ延びている手段を備えている請求の範囲７に定義さ れた装置。
10. １０．前記ガスロックコンパートメントが垂直方向に拡大されたセクションを備 え、このセクションは、濾過されたガス媒体の個々の供給と接続し、前記チャン バブロックの前記停止壁セクションが接合している間、前記コンパートメントか ら前記放出通路へのガス媒体の放出が規制される手段を備えた請求の範囲７に定 義された装置。
11. １１．前記チャンバブロックは、さらに放射方向へ邪魔されない壁セクションと 共同し、前記セクションは、前記ガスロックコンパートメントの外方へ横方向へ 延び、ウエファークリーニングの間、壁セクションの前記組み合わせは、前記ガ スロックコンパートメントを外方へシールオフし、前記コンパートメントから横 方向へ媒体が逃げることを規制する請求の範囲１０におけるような装置。
12. １２．クリーニング媒体の放出の間、前記コンパートメントにおける媒体の圧力 が前記放出通路における媒体の圧力よりも高い手段を備えた請求の範囲１１に定 義された装置。
13. １３．前記ガスロックコンパートメントの横外方に位置する前記壁セクションが 前記停止壁セクションの一部として共同している手段を備えた請求の範囲１１に 定義された装置。
14. １４．前記チャンバブロックは、以下の対応する壁セクションを備えた前記請求 の範囲の一つに定義された装置： ａ）停止壁セクション； ｂ）前記放出通路から横へ外方向へ延びている、放射方向に邪魔されない壁セク ション；および ｃ）前記クリーニングチャンバと前記放出通路との間における、放射方向に邪魔 されない壁セクション、 そして、前記停止壁セクションの接合位置において、下記の媒体放出ギャップが 確立されている： ａ）前記放出通路の外側での前記放出通路へガス媒体を供給する放出ギャップ； および ｂ）少なくとも一時的の、前記クリーニングチャンバと前記放出通路との間にお ける前記クリーニングチャンバからクリーニング媒体を放出する放射方向に邪魔 されていない放出ギャップ。
15. １５．前記チャンバがさらに下記の対応する壁セクションを備えた請求の範囲１ ４に定義された装置： ｃ）前記ガスロックコンパートメントから横方向外方へ延びている放射方向に邪 魔されていない壁セクションで、前記壁セクションと接合した位置において、下 記の媒体放出ギャップが確立されているもの：ｃ）部分的に接合可能で、前記壁 セクションの間における、前記ガスロックコンパートメントの外側のミクロのギ ャップ。
16. １６．前記ギャップにおける媒体への流れ抵抗が、かなりのもで、前記ガスロッ クコンパートメントにおけるウエファークリーニングの間、前記ガスロックコン パートメント外側横方向の媒体圧力に対し、過剰圧力が維持される手段を備えた 請求の範囲１５に定義された装置。
17. １７．前記クリーニングチャンバから横外方へ延びる前記チャンバブロック壁の 大部分がさらに搬送ゾーンを備え、これにそってウエファーが前記クリーニング チャンバヘ、および、から搬送され、前記停止壁セクションが前記クリーニング チャンバでクリーニングされたウエファーの搬送ゾーンの少なくとも外側に位置 している請求の範囲１４に定義された装置。
18. １８．前記ガスロックコンパートメントのすぐ外側に横方向に位置し、クリーニ ングされたウエファーの搬送ゾーンの少なくとも横にある前記壁セクションが停 止壁セクションである請求の範囲１７に定義された装置。
19. １９．以下の前記請求の範囲の一つに定義された装置：ａ）チャンバブロックに おいて、円筒状膜状体セクションにより、前記クリーニングチャンバを越えて横 方向に延びている中央チャンバブロックセクションが前記ブロックのアウターセ クションに接続し；ｂ）前記放出通路が前記膜状体セクションからある距離離れ て横外方に位置する； ｃ）カバーがバルセーターチャンバを作る前記アウターブロックセクションに圧 力タイトに接合されている；そしてｄ）前記バルセーターチャンバにおいて、バ ルセーター構成が前記中央チャンバブロックセクションをバルセイティング往復 動させるように配置されている、そして、前記バルセーターチャンバにおいて、 媒体が位置し、この媒体により共同して、前記クリーニングチャンバの閉鎖シス テムが完成される手段を備える。
20. ２０．前記膜状体セクションが円筒状なシール壁セクションを備え、このセクシ ョンは、他のチャンバブロックのコントラシール壁セクションに対応し、前記放 出ギャップが前記放出通路から少なくともシール壁セクションへ内側へ延びてお り、そして、さらに、前記バルセーターチャンバと前記放出ギャップにおけるス ラスト媒体と少なくとも共同する結果としてのスラストにより、前記膜状体シー ル壁セクションが一時的に前記コントラシール壁に当り、前記クリーニングチャ ンバからのクリーニング媒体の放出をほぼ全部抑制する請求の範囲１９に定義さ れた装置。
21. ２１．前記バルセーターチャンバにおけるウエファークリーニングの間、前記放 出通路の圧力に対してスラスト媒体の過剰圧力が維持される手段を備える前記請 求の範囲の一つに定義された装置。
22. ２２．前記膜状体セクションの前記シール壁セクションが前記放出通路の横で前 記膜状体セクションを越えて位置する請求の範囲２１に定義された装置。
23. ２３．ウエファークリーニングの間、前記媒体が前記クリーニングチャンバから 放出されるか否かは別として、少なくとも一時的に、前記バルセーターチャンバ と前記放出通路との圧力にかなりのポジティブな差が維持される手段を備えた請 求の範囲２２に定義された装置。
24. ２４．前記チャンバブロックのロードされていない位置において、前記シール壁 セクションが隣接セクションからミクロの距離で下方へ延びている手段を備えた 請求の範囲２１に定義された装置。
25. ２５．前記チャンバブロックの接合停止位置における、前記クリーニングチャン バの高さが前記ウエファーの厚さよりも大きいぜんき請求の範囲の一つに定義さ れた装置。
26. ２６．前記バルセーターチャンバにおける前記クリーニングチャンバへ媒体を供 給して前記バルセーターチャンバに圧力を蓄積し、前記膜状体の前記シール壁セ クションが一時的に、そして、少なくとも部分的に他のチャンバブロックの前記 コノトラアール壁セクシヨンから持ち上げられ、前記クリーニングチャンバ空別 記放出通路へ少なくとも部分的に邪魔されないミニ放出ギャップが一時的に作ら れる手段を備えた請求の範囲２５に定義された装置。
27. ２７．前記バルセーターチャンバにおいて、停止壁が位置し、前記中央チャンバ ブロックセクションが対応する壁セクションを有し、前記停止壁構成により、前 記中央ブロックセクションの垂直方向の動きが規制される請求の範囲２６に定義 された装置。
28. ２８．ウエファークリーニングの間、前記停止壁構成により前記クリーニングチ ャンバの最大容積を制限して、前記中央ブロックセクションのバルセイティング 往復動が無効になるのを防ぐ手段を備えた請求の範囲２７に定義きれた装置。
29. ２９．その目的のために、停止壁セクションの前記組み合わせが広い組み合わさ れた面を持ち、間に位置するスラスト媒体がダンパーとして機能する請求の範囲 ２８に定義された装置。
30. ３０．前記放出通路における少なくとも殆どコンスタントな圧力でクリーニング 媒体を放出し、前記クリーニングチャンバ内の圧力を一時的に減少させ、これは 、前記バルセーターチャンバの圧力を徐々に減らしながら、そして、前記バルセ ーターチャンバ内の前記停止壁構成を使用しながら行う手段を備えた請求の範囲 ２７に定義された装置。
31. ３１．前記膜状体セクションがシールセクション、前記シールセクションと前記 バルセイティング中央チャンバブロックセクションの間の第１のフレキシブルな 膜状体セクションおよび前記シーリングオフセクションと前記アウターチャンバ ブロックセクションとの間における第２のフレキシブルな膜状体セクションを備 える前記請求の範囲の一つに定義された装置。
32. ３２．前記オアルセーターチャンバにおいて、停止壁が位置し、前記シーリング オフセルションがシールされた位置からの前記シールするセクションの移動を規 制するコントラ停止壁を備えた請求の範囲３１に定義された装置。
33. ３３．少なくとも部分的にある距離を越える前記円筒状なシールするセクション がフラットである請求の範囲３２に定義された装置。
34. ３４．前記シーリングオフセクションの前記停止壁が前記隣接のフレキシルブル な膜状体セクションからある距離を超えて上に延び、少なくとも部分的にフラッ トである請求の範囲３２に定義された装置。
35. ３５．前記バルセーターチャンバにおける前記対応の停止壁に対する前記シーリ ングオフセクションの前記停止壁の停止位置においての、前記クリーニングチャ ンバから前記第１の膜状体セクション下方へ延びる放出ギャップセクションの高 さが高く、前記中央ブロックセクションのバルセイティング往復動が前記放出ギ ャップセクション内の媒体により、ある程度減少されている請求の範囲３２に定 義された装置。
36. ３６．前記第２のフレキシブルな膜状体セクションが垂直方向へ移動可能な第２ のシーリングオフ壁セクションを備え、この壁セクションは、他のチャンバブロ ックのシーリングオフ壁セクションに対応し、放出ギャップが前記放出通路から 少なくとも第２のシーリングオフ壁セクションへ内方へ延びている請求の範囲３ ２に定義された装置。
37. ３７．前記第２のシーリングオフ壁セクションが前記放出通路の横の前記第２の 膜状体セクションの端部近くに位置する請求の範囲３６に定義された装置。
38. ３８．前記第１のシーリングオフセクションの前記停止壁の停止位置において、 前記第１のシーリングオフセクションと他のチャンバブロックの前記対応する壁 セクションとの間に、ミクロの放出ギャップが作られる請求の範囲３５に定義さ れた装置。
39. ３９．前記第１のシーリングオフセクションの前記オープンスルー位置における 前記クリーニングチャンバに蓄積されたある圧力にまで、前記第２のシーリング オフセクションが他のチャンバブロックの前記対応するセクションへ押され、前 記バルセーターチャンバと前記放出通路における媒体の圧力で前記第２のシーリ ングオフセクションが前記対応するシーリングオフセクションから持ち上げられ 、媒体が放出される手段を備えた請求の範囲３８に定義された装置。
40. ４０．前記バルセーターチャンバにおいて、前記中央チャンバブロックセクショ ンの第１の停止壁セクションが前記バルセーターチャンバの対応する停止壁と共 に前記ブロックセクションの上昇を制限し、前記バルセーターチャンバ内の前記 対応第２の停止壁に対しての、前記膜状体セクションの前記第１のシーリングオ フセクションの一部としての第２の停止壁セクションの停止位置において、前記 第１の停止壁セクションが前記バルセーターチャンバにおける前記対応壁からあ る距離離されている手段を備えた請求の範囲３６に定義された装置。
41. ４１．前記バルセイティング中央上位チャンバブロックセクションに、少なくと も一つのバルセーターが固定され、前記バルセーターの上位セクションは、ダン パー壁であり、前記バルセータチャンバ内では、対応するダンパー壁が位置し、 それらの間の距離は、制限され、かなりの領域の組み合わせで、前記上位バルセ ーターセクションの振動が緩衝される前記請求の範囲の一つに定義された装置。
42. ４２．前記ダンパー壁の間におけるギャップの高さは、前記クリーニングチャン バの最大可能容積で前記バルセーターの前記上位部分の上昇がある程度緩衝され 、前記ダンパー作用は、圧縮可能な停止として機能する手段を含む請求の範囲４ １に定義された装置。
43. ４３．前記クリーニングチャンバの最大容積を制限する第１の停止壁セクション の停止位置において、前記バルセーターの前記ダンパー壁は、前記バルセーター チャンバ内の前記ダンパー壁と機械的接触をしない手段を含む請求の範囲４１に 定義された装置。
44. ４４．前記膜状体シーリングオフセクションにおける前記放出ギャップにおける 媒体通過の開放と閉鎖とが前記膜状体セクションの両側に作用する媒体の圧力の 差により行われる手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
45. ４５．前記膜状体セクションの前記閉鎖セクションに向けての前記クリーニング チャンバから外方へ延びている狭い放出ギャップセクション内で、その開放状態 において、排出される媒体により、高い流れ抵抗が生じ、前記バルセーターチャ ンバにおける圧力と組み合わされての前記膜状体セクションにおける前記放出ギ ャップの圧力の減少が前記閉鎖セクションにおけるバススルーギャップを狭くす る手段を含む請求の範囲４４に定義された装置。
46. ４６．前記クリーニングチャンバヘの媒体の供給に基づいて、前記閉鎖セクショ ンにおけるバススルーギャップが少なくとも一時的に大きく、または、小さく開 放される手段を含む請求の範囲４４に定義された装置。
47. ４７．前記第２の膜状体セクションの硬度、他のチャンバブロックの前記対応す るシールセクションに対する当接の間の変形の度合い、および、前記膜状体の残 部に対する前記第２の閉鎖セクションの位置の組み合わせが、前記バルセーター チャンバとクリーニングチャンバにおける圧力が前記放出通路の圧力よりもかな り高くなることができるようなものである手段を含む請求の範囲３９に定義され た装置。
48. ４８．ウエファークリーニングの間、前記放出ギャップにおける圧力が前記クリ ーニングチャンバにおける平均圧力とほぼ同じであり、これは、前記バルセータ ー構成による前記チャンバにおけるクリーニング媒体の焼く圧縮と膨張の間にお けるものである手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
49. ４９．前記クリーニングチャンバと前記放出通路との間における前記放出ギャッ プの長さがミクロの高さをもって長く、通過するクリーニング媒体への達成され た高い流れ抵抗と共同して、前記ギャップは、バッファーコンパートメントとし て機能する請求の範囲４８に定義された装置。
50. ５０．ウエファークリーニングのために前記バルセーターチャンバにおける媒体 の圧力を規制することにより、前記放出通路の圧力が適当になる手段を含む請求 の範囲４８に定義された装置。
51. ５１．前記中央チャンバブロックセクションのバルセイティング往復動には、適 当な構成で、どのようなバルセーターも適用できる手段を含む前記請求の範囲の 一つに定義された装置。
52. ５２．前記バルセターが超高振動アンブリチュードをもつピエゾトランスデュー サーである請求の範囲５１に定義された装置。
53. ５３．前記バルセーターが低い周波数で前記バルセーターへ、そして、から液体 媒体を供給および放出するハイドロリックバルセーターである請求の範囲５１に 定義された装置。
54. ５４．前記バルセーターチャンバヘ、及び、から媒体の規制可能な量が供給及び 放出される手段を含む請求の範囲５３に定義された装置。
55. ５５．両チャンバブロックがバルセイティング往復動中央ブロックセクションを 含み、前記チャンバブロックのアウターセクションそれぞれにカバーが気密に固 着され、二つのバルセーターチャンバが作られ、前記チャンバ内には、バルセー ター構成が位置して、前記中央ブロックセクションを往復移動させる請求の範囲 ５１に定義された装置。
56. ５６．前記第１の停止壁コンビネーションの前記協力壁の間の距離がかなりのも のであって、前記停止壁構成の方向における前記中央ブロックセクションのバル セイティング移動が僅かな程度に緩衝される請求の範囲４７に定義された装置。
57. ５７．過剰圧力における前記クリーニングチャンバのクリーニングの間、前記放 出通路に負圧が維持される手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
58. ５８．前記放出通路の外方横方向にガスロックを維持し、前記通路をリンスする に必要なガス媒体の供給体として、前記モジュールのアウター環境が機能する手 段を含む請求の範囲５７に定義された装置。
59. ５９．一連のウエファークリーニングモジュールとウエファー処理モジュールが コンパートメント内に配置され、その内部に少なくとも共同して不活性ガス媒体 が存在し、一連のウエファー搬送ロボットが少なくともウエファーの水平搬送に 用いられる前記請求の範囲の一つに定義された装置。
60. ６０．前記コンパトメントが隣接するオペレータールームとカバーにより分離さ れ、前記カバーは、ロボットのウエファー水平搬送ゾーンを越えて少なくとも下 方へ延び、前記上位コンパートメントの下には、下位コンパートメントが延長し 、さらに、前記コンパートメントは、メンテナンスのために前記下位コンパート メントからアクセスできる請求の範囲５９に定義された装置。
61. ６１．前記上位チャンバブロックにおいて、外方への円筒状な膜状体セクション により前記クリーニングチャンバの往復動する上位壁としての前記中央ブロック セクションが、装着セクションと連結し、前記下位チャンバブロックにおいて、 第２の中央ブロックセクションが位置し、これは、前記放出通路を越えて横外方 へある距離延びていて、横外方の円筒状な膜状体セクションが放射方向の邪魔さ れていない装着セクションに接続し、さらに、前記装置が、前記チャンバブロッ クの接合位置において、前記停止壁構成に対し、前記下位中央ブロックセクショ ンを下方へ０．１ｍｍ以下に移動し、反対に、前記クリーニングチャンバから媒 体を放出させる手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
62. ６２．移動装置により、前記移動可能なチャンバブロックがオープンのウエファ ー搬送位置から移動でき、前記クリーニングチャンバへウエファーを供給し、前 記チャンバからウエファーをシールされたウエファークリーニング位置へ放出し 、そして、その逆を行う手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
63. ６３．互いに固着された支持ブロックとカバーブロックを組み合わせ、前記チャ ンバブロックの一つが前記前記ブロックの一つの部分であり、他方のチャンバブ ロックが移動装置により前記組み合わせに移動可能に固定され、ウエファー搬送 のために前記チャンバブロックの間に通路を形成し、前記チャンバブロックの前 記停止壁セクションをウエファークリーニングのために互いに押し当てる請求の 範囲６２に定義された装置。
64. ６４．前記下位チャンバブロックが前記支持ブロックの一部であり、前記上位チ ャンバブロックが垂直方向に移動可能である手段を含む請求の範囲６３に定義さ れた装置。
65. ６５．前記下位チャンバブロックの前記中央セクションを垂直に移動させるため 、スラストチャンバが配置されて、オープンウエファークリーニング位置を定め 、前記上位チャンバブロックが垂直方向に移動してウエファー搬送およびシーリ ングされたウエファークリーニング位置を定める請求の範囲６４に定義された装 置。
66. ６６．前記移動装置は、ウエファー搬送の方向から分かるように構築され、前記 上位チャンバのフロントおよび／または後部がウエファー搬送のために垂直方向 にある程度の距離移動可能である請求の範囲６４に定義された装置。
67. ６７．クリーニングすべきウエファーの前記クリーニングチャンバヘの搬送が前 記搬送ロボットのアームを開放されたチャンバブロック構造内の位置へ動かし、 前記上位チャンバブロック内の前記チャンバ凹部の中央に位置させ、前記上位ブ ロックの傾斜と、その後の水平位置への下降でウエファーを前記凹部に位置させ 、ついで前記ロボットアームをウエファの下から後退させ、前記上位チャンバブ ロックをシールされたウエファークリーニング位置へさらに下降させて行う手段 を含む請求の範囲６６に定義された装置。
68. ６８．ウエファーのエッジに対し垂直な前記チャンバ凹部の側壁の下位リムの鋏 きり作用によって、偏心して供給されたウエファーを前記凹部の中心位置へ促す 手段を含む請求の範囲６７に定義された装置。
69. ６９．ウエファークリーニング後、前記ウエファーを前記上位チャンバ壁へ押し 、前記ブロックの開放された搬送位置と前記放出ロボットのウエファー支持ブレ ードのテイクオーバー位置において、前記ウエファーへのスラストを終了させ、 前記ウエファーを自重により前記支持ブレードに着座させて、前記クリーニング モジュールからウエファを放出する手段を含む請求の範囲６７に定義された装置 。
70. ７０．ウエファクリーニングの少なくとも一部に、ガス媒体が用いられる手段を 含む前記請求の範囲の一つに定義されている装置。
71. ７１．ウエファクリーニングの少なくとも一部に、ガス状と液相の媒体の混合物 が用いられる手段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
72. ７２．前記クリーニングの少なくとも一部にガス媒体と気相またはヴェーパー相 である他の媒体の組み合わせが用いられる手段を含む請求の範囲７０に定義され た装置。
73. ７３．クリーニングの少なくとも一部において、ヴェーパー相または液相のクリ ーニング媒体が使用される手段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
74. ７４．ウエファークリーニングのために、ＣＯ２のような超臨界液体をテンポラ リーに液相および／または気相の状態で併用する手段を含む請求の範囲７０に定 義された装置。
75. ７５．前記上位クリーニングギャップにおいて、前記ウエファーの処理サイドを 少なくともクリーニング媒体でクリーニングし、前記下位ギャップにおいては、 少なくともガス媒体により前記ウエファーに対するガスクッションを維持する手 段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
76. ７６．ウエファークリーニングの間、上位クリーニングギャップの平均高さが低 く、そのアウターセクションは、媒体に対するかなりの流れ抵抗を有していて、 前記ギャップにおいて、ほとんどの個々のクリーニングが行われる手段を含む請 求の範囲７０に定義された装置。
77. ７７．少なくとも一時的に上位と下位ギャップ両者への媒体の供給を調節し、前 記上位ギャップの平均の高さが前記下位ギャップのそれよりも低くする手段を含 む請求の範囲７６に定義された装置。
78. ７８．ウエファークリーニングにとり、前記往復動するウエファーのぐづつき効 果で最適の使用がなされる手段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
79. ７９．膨張ストロークの間、前記ウエファーは、その比較的大きなマスにより、 ぐづつき連動し、液体媒体内にバブルが発生し、前記ウエファーの直上の境界層 から媒体を除去するミニ破裂連動が発生し、圧縮ストロークの間、液体媒体が前 記バブルの破裂作用により噴霧化され、前記境界層とウエファー輪郭に重く作用 する手段を含む請求の範囲７８に定義された装置。
80. ８０．少なくとも一時的に、前記クリーニングギャップにおけるウエファークリ ーニングの間、仕上げ媒体を新鮮で、中央から供給される媒体に徐々に交換する 手段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
81. ８１．前記媒体の交換が少なくともテンポラリーに継続して、そして、少なくと も邪魔されずに行われる手段を含む請求の範囲８０に定義された装置。
82. ８２．少なくとも上位クリーニングギャップにおける前記ウエファーのクリーニ ングにおいて、少なくともテンポラリーに、仕上げクリーニング媒体が下記のタ イプの新鮮で、中央から供給される媒体に徐々に交換される手段を含む請求の範 囲８０に定義された装置。
83. ８３．前記ウエファーの下記のクリーニングの一つが組み合わせられて、または 、組み合わされずに行われる手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置 ：超高圧、過剰圧力、負圧または減圧下でのクリーニングで、クリーニングに対 する過剰圧力でのクリーニングを負圧および／または反対に徐々に移すことを含 め、または、含めないもの。
84. ８４．以下を含む請求の範囲５９に定義された装置：ａ）ウエファーのクリーニ ング、搬送および処理のための少なくとも一つのコンパートメントであって、上 位コンパートメントの内部に位置するウエファー貯蔵および検査と組み合わされ ているもの、または、組み合わされていないものｂ）前記コンパートメントの横 で水平方向に配置されていて、メンテナンスの人のためのアクセスをもつメンテ ナンス廊下；ｃ）前記上位コンパートメントを下位コンパートメントから離す、 前記メンテナンス廊下の下の床； ｄ）前記上位コンパートメントの部分としての、前記コンパートメントと前記廊 下の上の共通頂部セクション；そしてｅ）前記コンパートメント、前記廊下およ び前記頂部セクション内に少なくともカラム高度濾過の不活性ガスを維持する手 段、そして、この不活性ガスのための供給オリフィスが前記床の上に位置してい る。
85. ８５．この不活性ガスのための放出オリフィスが前記上位コンパートメント内に 位置する、装置セクションの水平ウエファー搬送ゾーンの下に位置する請求の範 囲８３に定義された装置。
86. ８６．前記供給オリフィスが前記ウエファー搬送ゾーンの上に位置する請求の範 囲８４に定義された装置。
87. ８７．前記廊下床の上の前記上位コンパートメント内にカラム高度濾過された空 気が前記カラム不活性ガスの下に維持されている手段を含む前記請求の範囲の一 つに定義された装置。
88. ８８．前記カラム空気が前記水平ウエファー搬送ゾーンに向け延長している手段 を含む請求の範囲８７に定義された装置。
89. ８９．垂直な分離壁が前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパートメント と前記廊下セクションとの間に位置し、前記廊下床から少なくとも部分的に延び て、前記カラム空気と不活性ガスの分離レベルを越えている請求の範囲８７に定 義された装置。
90. ９０．前記廊下に、高度に濾過された空気の供給オリフィスが前記床上と前記分 離レベルの下に位置し、前記空気の放出オリフィスが前記床に位置している請求 の範囲８９に定義された装置。
91. ９１．前記廊下内において、前記不活性ガスの放出オリフィスが前記分離のレベ ルの上に位置している請求の範囲９０に定義された装置。
92. ９２．前記カラム不活性ガスと空気との間の前記分離レベルが前記分離壁のトッ プの遥か下に位置し、前記廊下における媒体の渦巻きの間、前記ウエファー搬送 ／処理／貯蔵／検査コンパートメントに空気が一切入ることができない手段を含 む請求の範囲８９に定義された装置。
93. ９３．少なくとも合わせて、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパート メントのメンテナンスが入用のエンクロージャー内に一時的に位置する人間の保 守、点検作業により行われる手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置 。
94. ９４．前記入用のエンクロージャーは、少なくとも酸素を含む媒体を供給および 放出する手段を含み、少なくとも一時的に前記上位コンパートメントに位置し、 その上位セクションが前記カラム不活性ガスと前記カラム空気との間における分 離レベルから上方へある距離を越えて除去される手段を含む請求の範囲９３に定 義された装置。
95. ９５．前記エンクロージャーは、その下方側がアクセスのために開放されていて 、自立できる請求の範囲９４に定義された装置。
96. ９６．前記エンクロージャーは、硬い下位と上位セクションを備え、フレキシブ ルな接合によって、互いにリークフリーに接続され、前記エンクロージャーの内 部に位置する人が自由に曲げられる請求の範囲９５に定義された装置。
97. ９７．前記エンクロージャーは、交換可能なアームエンクロージャーを取り付け る二つのカップルセクションを有する前記請求の範囲の一つに定義された装置。
98. ９８．前記エンクロージャーの下位セクションは、支持部材により重く作られて いる請求の範囲９７に定義された装置。
99. ９９．前記支持部材において、前記エンクロージャーの移動のためのロール機構 が位置している請求の範囲９８に定義された装置。
100. １００．前記上位コンパートメントは、前記エンクロージャーのためのクリーニ ング機構を備えている請求の範囲９８に定義された装置。
101. １０１．前記エンクロージャーは、呼吸空気の供給と放出のための配管によって 、前記廊下の内側のカップリングと連結している請求の範囲９４に定義された装 置。
102. １０２．前記水平分離壁には、前記下位コンパートメントからの人の出入通路と してのマンホールが位置し、そして、廊下にある前記請求の範囲の一つに定義さ れた装置。
103. １０３．前記下位コンパートメントにおける前記マンホールに、入用エレベータ が位置している請求の範囲１０２に定義された装置。
104. １０４．前記エレベータの床は、上昇位置において、廊下の床セクションとして 機能する請求の範囲１０３に定義された装置。
105. １０５．前記マンホールの上において、前記入用エンクロージャーは、人が前記 エンクロージャーの中に入って前記エレベーターで昇り降りするように配置され ている請求の範囲１０３に定義された装置。
106. １０６．前記上位コンパートメント内には、前記メンテナンスを行う人が持ち運 んだ装置のための超クリーニングされた部品を貯蔵する少なくとも一つのラック がぜんきカラム不活性ガスの中に設けられている前記請求の範囲の一つに定義さ れた装置。
107. １０７．前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパートメントにおいて、不 活性ガス放出オリフィスが前記ウエファー搬送ゾーンの下に位置し、前記オリフ ィスは、放出ダクトを介して共通放出ダクトに連結している請求の範囲８９に定 義された装置。
108. １０８．前記放出オリフィスが前記カラム不活性ガスと空気との間の前記分離レ ベルの直上に位置している請求の範囲８９に定義された装置。
109. １０９．少なくとも一つのウエファー搬送／処理コンパートメントの下に、少な くとも一つの水平分離壁が位置し、前記不活性ガスの前記放出オリフィスが前記 分離壁に位置している前記請求の範囲の一つに定義された装置。
110. １１０．前記廊下に設定分離レベルを維持するために、フロートスイッチが配置 されて、前記空気の供給と放出とを規制し、前記廊下には、前記不活性ガスの放 出オリフィスが前記分離レベルの上に位置している前記請求の範囲の一つに定義 された装置。
111. １１１．前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパートメント内のウエファ ー処理ステーションの入り口に、クリーニングモジュールが位置し、前記モジュ ールの背後には、第２のクリーニングモジュールが少なくとも後続ウエファー処 理ステーションの手前に位置する前記請求の範囲の一つに定義された装置。
112. １１２．前記ウエファーが気相および液相で供給された媒体によりクリーニング されるモジュールの背後に、高減圧ステーションが位置し、少なくとも一時的に 増加した圧力で前記ウエファーの脱水べークが行われる請求の範囲１１１に定義 された装置。
113. １１３．処理を減圧で行うステーションの前に、ウエファークリーニングモジュ ールが位置し、ガス媒体と超臨界液体との組み合わせでウエファーをクリーニン グする前記請求の範囲の一つに定義した装置。
114. １１４．後続のウエファー搬送／処理コンパートメントの垂直な側壁の間に、分 岐した廊下セクションが位置し、共通廊下へ延びている前記請求の範囲の一つに 定義した装置。
115. １１５．前記主上位コンパートメントにおける中央廊下としての前記共通廊下の 両側に後続の前記ウエファー搬送／処理ステーションが位置している請求の範囲 １１４に定義した装置。
116. １１６．前記上位コンパートメントにおいて、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵 ／検査ステーションが位置し、前記ウエファー搬送／処理ステーションの垂直な 側壁の外側と間において、前記中央廊下の分岐したセクションが前記外側ステー ションの横の前記垂直な分離壁に向け延びている請求の範囲１１５に定義した装 置。
117. １１７．少なくとも二つのカバーされたメイン上位コンパートメントが互いに並 んで前記オペレータールームのオペレーター廊下の間に位置し、前記装置は、前 記上位コンパートメントの間でウエファーをカセットに入れ、または、入れずに 、共通下位コンパートメントをかいして搬送する請求の範囲１１６に定義された 装置。
118. １１８．ウエファー供給と放出セクションがウエファー処理ステーションに位置 し、前記水平ウエファー搬送ゾーンから下方へ延びている請求の範囲１１５に定 義された装置。
119. １１９．前記メイン上位コンパートメントの前記カバーの側壁に、ウエファー検 査ステーションがそのコンソールセクション内に位置している請求の範囲１１６ に定義した装置。
120. １２０．前記メイン上位コンパートメント内に、そこに配置された装置およびウ エファー搬送のコントロールと検査のためのＴＶカメラが位置している請求の範 囲１１６に定義された装置。
121. １２１．少なくとも一つのウエファークリーニングモジュールを含んでなる、ウ エファー搬送および処理用の装置の為の方法であって、少なくともａ）下位チャ ンバブロック及び上位チャンバブロックの組合わせ；ｂ）少なくとも一つのウエ ファークリーニングの為の中央凹所（ｒｅｃｅｓｓ）にある前記ブロックの間の 中に位置するクリーニングチャンバ；ｃ）前記チャンバの横方向にある前記ブロ ックアレンジメントの中のクリーニング媒体の為の放出通路； ｄ）前記クリーニングチャンバに向ける及びそこからのウエファー搬送の為、前 記チャンバブロックをお互いから引き離し、ウエファークリーニングの為にお互 いに向けて移動するための部材；およびｅ）前記クリーニングチャンバの高さの 少なくとも一時の変量を提供する、パルセイティング動作下での、チャンバ壁の 往復運動による、前記クリーニングチヤンバ内での少なくとも前記ウエファーク リーニングの間の為のバルセーター、を含んでなり、ここにおいて前記ウエファ ークリーニングの間、前記クリーニングチャンバから前記放出通路に向かう前記 チャンバブロックの間の中の少なくとも一時的に確立される媒体放出ギャップを 伴い、封止システムが少なくともガス状媒体によって確立される。
122. １２２．前記放出ギャップが前記チャンバブロックの協同停止壁によって成し遂 げられる、請求の範囲１２１に定義された方法。
123. １２３．前記媒体放出ギャップがそれによって前記ウエファークリーニングの部 分の間に放射方向に通院的に拡張している、請求の範囲１２２に定義された方法 。
124. １２４．前記ウエファークリーニングの間、前記チャンバブロックがそれによっ て、前記放出通路から外側の横方向に拡がる放射方向に於ける協同する連続壁セ クションをさらに含んでなる時、壁セクションの前記組合わせが少なくともほと んど完全に外環境から横方向に於いて前記放出通路を封止する、先の請求の範囲 のいずれかに定義された方法。
125. １２５．前記チャンバブロックのクリーニング位置におけるガス状媒体による封 止システムが、横方向の外側の方向における前記放出通路の為に成し遂げられる 、請求の範囲１２４に定義された方法。
126. １２６．前記ブロックの間の中の前記壁セクションにおいてガスロックコンパー トメントが放射方向に拡大し位置している時、前記コンパートメントに供給され るガス状媒体が、前記放出通路に押されているクリーニング媒体がそこから前記 壁セクションの間の中の横方向の外側の方向に於いて逃げるのを防いでいる、請 求の範囲１２４に定義された方法。
127. １２７．前記ガスロックコンパートメントの前記拡大が前記チャンバブロックア レンジメントの外表に向かって横方向の外側の方向に於いて拡張する時、前記ガ スロックを維持するための前記ガスロックコンバートメントヘの媒体供給が前記 チャンバブロックアレンジメントの外側の環境から行われる、請求の範囲１２６ に定義された方法。
128. １２８．前記ガスロックコンパートメントが濾過されたガス状媒体の個別の供給 と関係した縦方向に於ける拡大されたセクションを含む時、前記チャンバブロッ クの前記停止壁セクションの連動の間、前記コンパートメントから前記放出通路 への前記ガス状媒体の放出が制限される、請求の範囲１２６に定義された方法。
129. １２９．前記クリーニング媒体の放出の間、前記コンパートメントに於ける圧力 が前記放出通路の媒体の圧力よりも高い、請求の範囲１２８に定義された方法。
130. １３０．前記チャンバブロックの前記停止壁セクションの連結された位置に於い て、以下の媒体放出ギャップが成し遂げられる、先の請求の範囲のいずれかに定 義された方法： ａ）前記放出通路の外側の、前記放出通路に向かうガス状媒体の供給の為の放出 ギヤツプ； ｂ）前記クリーニングチャンバと前記放出通路の間の中の少なくとも一時的なも の、前記クリーニングチャンバからクリーニング媒体を放出するための放射方向 にある連続的な放出ギャップ；そしてｃ）前記ガスロックコンパートメントの外 側の、前記セクションの間の可能な限り局部的な接触をもつ前記壁セクションの 間の中のミクロギャップ。
131. １３１．ａ）チャンバブロックを伴う前記クリーニングチャンバの後方の横方向 に拡がる中央チャンバブロックセクションが円筒状膜状体セクションによって前 記ブロックのアウターマウンティングセクションに連結されている；ｂ）前記放 出通路が前記膜状体セクションからいくらかの距離をおいて、横方向の外側の方 向に位置している； ｃ）カバーがバルセーターチャンバの創出を伴い前記アウターブロックセクショ ンに対して押圧され固着されている；そしてｄ）前記バルセーターチャンバの中 で、バルセーターアレンジメントが、前記中央チャンバブロックセクションのバ ルセイティングの往復運動の為に、前記バルセーターチャンバ内に位置している スラスト媒体によって連結的に位置している時に、前記クリーニングチャンバの 為の封止システムが成し遂げられる、先の請求の範囲のいずれかに定義された方 法。
132. １３２．前記膜状体セクションが他のチャンバブロックの逆封止壁セクションに 対応する円筒状の封止壁セクションを含み、そして前記バルセーターチャンバと 前記放出ギャップ内にある少なくとも前記スラスト媒体の結果のスラストによっ て、前記放出ギャップが前記放出通路から少なくとも前記封止壁セクションに向 かって内側に拡張する時、前記膜状体封止壁セクションが一時的に押されている 、請求の範囲１３１に定義された方法。
133. １３３．前記膜状体セクションの前記封止壁セクションが前記放出通路の側に於 いて前記膜状体セクションの中央部の後方に位置する時、少なくともウエファー クリーニングの間一時的に、前記クリーニングチャンバからの媒体放出があるあ るいは無い時、かなりポジティブな変位が前記バルセーターチャンバと前記放出 通路の間に維持されている、請求の範囲１３２に定義された方法。
134. １３４．その中の前記クリーニングギャップ内への媒体の供給による前記バルセ ーターチャンバ内の確かな圧を伴い、そのような圧力ビルドアップが行われ、前 記膜状体セクションの前記封止壁セクションが一時的でまた少なくとも局部的に 他のチャンバブロックの前記逆封止壁セクションから持上げられ、前記クリーニ ングチャンバから前記放出通路へと少なくとも局部的な連続ミニ放出ギャップの 一時的な創出を伴っている、請求の範囲１３２に定義された方法。
135. １３５．前記バルセーターチャンバ内に停止壁が位置し、そして前記中央チャン バブロックセクションが対応する停止壁セクションを含む時、ウエファークリー ニングの間で、前記停止壁による前記クリーニングチャンバの最大容量の制限の 間、前記中央ブロックセクションの往復バルセイションが無効にされまたその目 的の為に前記停止壁の間の中にあるスラスト媒体がダンパーとして機能すること を防ぐ、請求の範囲１３４に定義された方法。
136. １３６．前記放出通路において少なくともほとんど一定の圧でのクリーニング媒 体の放出の為に、前記クリーニングチャンバ内の圧力が減少された時、それによ って位置するダンピング媒体の間の中で別記チャノバブロックセクシヨンの前記 停止壁セクションが一時的に過剰圧力下、前記逆壁に対し押されている、請求の 範囲１３５に定義された方法。
137. １３７．前記膜状体セクションが封止セクション、前記封止セクションと前記バ ルセイティング中央チャンバブロックセクションの間の中の第一のフレキシブル 膜状体セクションと前記封止セクションと前記アウターチャンバブロックセクシ ョンの間の中の第二のフレキシブル膜状体セクションを含む時、前記バルセータ ーチャンバ内に停止壁が位置し、前記封止セクションが逆停止壁を含み、それと 共にその封止位置からの前記封止セクションの移動が制限されている、先の請求 の範囲のうちのいずれかに定義された方法。
138. １３８．前記円筒状封止セクションが少なくとも局部的にある距離を越えてフラ ットな時、それと共に前記封止セクションの開口位置に置いて大きな流れ抵抗を 伴い放出ギャップが完成される、請求の範囲１３７に定義された方法。
139. １３９．前記バルセーターチャンバ内の前記対応する停止壁に対し前記封止セク ションの前記停止壁の停止位置において、前記クリーニングチャンバから前記第 一の膜状体に向かって拡がる放出ギャップセクションの高さが大きく、小さな拡 張に対し最大の前記中央ブロックセクションのバルセイティング往復運動が前記 放出ギャップセクション内の媒体によって減少される、請求の範囲１３７に定義 された方法。
140. １４０．前記第二のフレキシブル膜状体セクションが第二の封止壁セクションを 含み、縦方向に移動可能であり、そして他のチャンバブロックの封止壁セクショ ンに対応している時、前記第一の封止セクションの前記バスースルー位置におけ る前記クリーニングチャンバ内の確かな圧力ビルドアップに至るまで、前記第二 の封止セクションがまだ他のチャンバブロックの前記対応するセクションに対し 押されており、そして前記バルセーターチャンバと前記放出通路における媒体の 圧力に関する前記クリーニングチャンバ内のその確かな圧力ビルドアップ以上に 前記第二の封止セクションが媒体放出の完了と共に前記対応する封止セクション から持上げられる、請求の範囲１３７に定義された方法。
141. １４１．前記中央上位チャンバブロックセクション上に少なくとも一つのバルセ ーターが固着されている時、前記バルセーターの上位セクションはダンパー壁で あり、前記バルセーターチャンバ内には対応するダンパー壁が位置しており、間 の距離が制限されており、そのかなりな領域と組あわさって前記上位バルセータ ーセクションの振動が減衰され、それによって前記ダンパー壁の間の中のギャッ プの高さが、前記クリーニングチャンバの最大到達容量を伴う前記バルセーター の前記上位セクションの上方向の移動が、前記ダンパーが圧縮できる停止として 機能するよう拡張するために減衰されるようになっている、先の請求の範囲のい ずれかに定義された方法。
142. １４２．前記膜状体封止セクションに於ける前記放出ギャップ内の媒体バスース ルーの開口および封止が、前記クリーニングチャンバから前記膜状体セクション の前記封止セクションに向けて外側に拡がる狭い放出ギャップセクション内での 、前記膜状体セクションの両側で作動する媒体の圧力においてなし遂げられる相 違によって行われる時、その開口状態において、追い出された媒体によってその 様な大きな流れ抵抗が生み出され、それによって前記バルセーターチャンバ内の 圧力と組み合わさる前記膜状体セクションにおける前記放出ギャップ内の圧力に 於ける減少が、少なくとも前記封止セクションにおけるバスースルーギャップの ナロウイングを成し遂げ、そして前記クリーニングチャンバ内への媒体の供給に 依存して、前記封止セクションにおける前記ミクロバスースルーギャップが、そ れ以上あるいはそれ以下に拡張するよう、少なくとも一時的に開かれる、先の請 求の範囲のいずれかに定義された方法。
143. １４３．ウエファークリーニングの間、前記放出ギャップ内の圧力が前記クリー ニングチャンバ内の平均圧力とほぼ同等で、前記ウエファークリーニングあるい は媒体放出に対する前記バルセーターチャンバ内の媒体の圧力の調整の間、前記 放出通路内の圧力が従って適用される、請求の範囲１４２に定義された方法。
144. １４４．ピエゾトランスデューサアレンジメントによって、前記中央チャンバブ ロックセクションが高周波数で往復運動される、先のいずれかの請求の範囲に定 義された方法。
145. １４５．水圧バルセーターによって、前記中央チャンバブロックセクションが低 周波数で往復運動される、先のいずれかの請求の範囲に定義された方法。
146. １４６．媒体の調整可能な量が前記バルセーターチャンバ内へ供給され、そこか ら放出される、請求の範囲１４５に定義された方法。
147. １４７．一連のウエファークリーニングモジュールおよびウエファー処理モジュ ールがコンパートメント内に配置されており、その中に、少なくとも連係的に不 活性ガス状媒体が位置し、そしてインターフェイシングウエファー搬送がウエフ ァー搬送ロボットによって行われる、先のいずれかの請求の範囲に定義された方 法。
148. １４８．カバーによって前記コンパートメントが調整オペレータ室から分けられ ており、前記カバーは少なくとも前記ロボットの水平ウエファー搬送ゾーンの向 うに向かって下方向に拡張し、前記上位コンパートメントの下部に下位コンパー トメントが広がっており、空気を含み、少なくともその部分の為のメンテナンス 人員が装置のメンテナンスの為に前記上位コンパートメントに入りまたそこから 戻る、請求の範囲１４７に定義された方法。
149. １４９．前記上位チャンバブロックにおいて、外方向にある円筒状膜状体セクシ ョンによって前記クリーニングチャンバの往復運動可能な上位壁としての前記中 央ブロックセクションが、マウンティングセクションと連係され、また前記下位 チャンバブロックにおいて第二の中央ブロックセクションが前記放出通路の向こ うの横の外方向に於いていくらかの距離に渡り広がって位置し、そして横の外方 向に於ける円筒状膜状体セクションによって放射方向の連続マウンティングセク ションに連係されている時、前記クリーニングチャンバからの媒体放出を成し遂 げるために、前記中央下位ブロックセクションが前記上位チャンバブロックから 停止アレンジメントに向かって０．１ｍｍ以下に下方向に移動される、先のいず れかの請求の範囲に定義された方法。
150. １５０．前記モジュールがさらにサポートブロックとカバーブロックの組合わせ を含んでなり、それはお互いに固着されており、そして前記チャンバブロックの 一つが前記組合わせの一部である時、その間に位置する移動の適用によって他の チャンバブロックが、少なくともウエファー搬送の為の前記チャンバブロックの 間の中の通路を完成し、またウエファークリーニングの為に前記チャンバブロッ クの前記停止壁セクションをお互いに対し押さえるために、前記組合わせに関し て移動可能である、先のいずれかの請求の範囲に定義された方法。
151. １５１．前記下位チャンバブロックが前記サポートブロックの一部である時、前 記上位チャンバブロックが縦方向に移動可能であり、そして往復運動可能な中央 セクションを含んでなるバルセーターブロックとして機能する、請求の範囲１５ ０に定義された方法。
152. １５２．スラストチャンバカ前記サポートブロックの下位セクションに作られた 時、前記スラストチャンバからの媒体の放出によって前記下位チャンバブロック の中央セクションがそれ以上あるいはそれ以下の開口媒体放出ギャップを提供す るよう下側に移動される、請求の範囲１５１に定義された方法。
153. １５３．前記移動の適用がスラストブロックのアレンジメンとであり、ウエファ ー搬送の方向に見られるように、前記上位チャンバブロックの表と裏の両方の端 部がウエファー搬送の為にある距離に渡って移動されウエファークリーニングの 為に後退する時、前記クリーニングチャンバヘのクリーニングされるべきウエフ ァーの搬送がロボット腕によって行われ、前記ウエファーは前記上位チャンバブ ロック内の前記チャンバ凹所に関しその中央位置に向かって運ばれ、そして前記 上位チャンバブロックの成し遂げられた傾けられた位置によってその水平位置に 向かって前記ブロックの続いて起る下方向の移動と共に、前記ウエファーが前記 凹所に押し付けられ、そしてその後前記ウエファーの向こう側から前記ロボット 腕の後退の動きの後、前記ブロックがそのウエファークリーニング位置に向かっ て下方向に動かされる、請求の範囲１５１に定義された方法。
154. １５４．前記ウエファーエッジに反して前記チャンバ凹所の縦方向の側壁の下位 リムの切り抜き動作によって偏心的に供給されたウエファーが前記凹所の範囲内 でその中央位置に向かって押し付けられる、請求の範囲１５３に定義された方法 。
155. １５５．前記ウエファーのクリーニングの後に、それがまだ前記上位チャンバ壁 に反して押し付けられており、そして前記放出ロボットのウエファーサポートブ レードの取りだし位置と連係されている前記上位ブロックの開かれた搬送位置に 於いて、前記ウエファー上のスラストが終結しそして前記ウエファーがそれ自身 の重量によって前記クリーニングモジュールからその放出の為に前記サポートブ レード上に残されるように来る、請求の範囲１５４に定義された方法。
156. １５６．前記ウエファーのクリーニングの少なくとも一部の為に、少なくともガ ス状媒体が使用されている、先のいずれかの請求の範囲に定義された方法。
157. １５７．前記ウエファーのクリーニングの少なくとも一部の為に、ガス状媒体の 混合物と液相の流体が使用されている、請求の範囲１５６に定義された方法。
158. １５８．前記ウエファーのクリーニングの少なくとも一部の為に、ガス状媒体の 混合物と蒸気相の流体が使用されている、請求の範囲１５６に定義された方法。
159. １５９．前記ウエファークリーニングの少なくとも一部の為に、気相と液相のク リーニング流体が使用されている、請求の範囲１５８に定義された方法。
160. １６０．ＣＯ２のような超臨界流体が一時的な液相および／あるいは気相におい て使用されている、請求の範囲１５７に定義された方法。
161. １６１．前記上位クリーニングギャップ内に於いて、前記ウエファーの処理され ている側のクリーニングが、少なくともクリーニング流体によって行われており 、そして前記下位ギャップに於いては、少なくともガス状媒体によって少なくと も前記ウエファーの為のガス状クッションが維持されている、請求の範囲１５６ に定義された方法。
162. １６２．少なくとも一時的に上位及び下位ギャップの両方に向かっての媒体の供 給を調整することによって、前記上位ギャップの平均高さが前記下位ギャップの それよりも小さい、請求の範囲１５６に定義された方法。
163. １６３．拡張ストロークの間、前記ウエファーがその相対的に大きな質量によっ て、前記液状媒体の中で泡の生成と、そして前記ウエファー上での境界層からの 媒体の除去の為のミニ爆発アクションと共に、のろのろ動いており、そして圧縮 ストロークの間、前記泡の内破アクションによって協同的に霧状の状態にある液 状化された媒体が、ウエファートポグラフィ内での前記境界領域とその谷間に大 きく影響する、請求の範囲１５６に定義された方法。
164. １６４．前記クリーニングギャップ内での前記ウエファークリーニングの間、少 なくとも一時的に徐々の移動が、新鮮な中央に供給された媒体により、フィニッ シュドーオフクリーニング媒体と代る、請求の範囲１５６に定義された方法。
165. １６５．少なくとも上位クリーニングギャップ内での前記ウエファークリーニン グの間、少なくとも一時的にフィニシュドーオフクリーニング媒体の段階的な移 動が、続くタイプの新鮮な中央に供給される媒体により行われる、請求の範囲１ ６４に定義された方法。
166. １６６．前記ウエファーの以下のクリーニングの一つが単独あるいは組合わせで 行われる、先の請求の範囲のいずれかに定義された方法；超高圧下、過剰圧力下 、負圧下、あるいは真空下で、過剰圧力下でのクリーニングから負圧下でのクリ ーニングヘの徐々の搬送及び／あるいはその反対を伴うあるいは伴わない、クリ ーニング。
167. １６７．前記装置がさらに以下の： ａ）上位コンパートメント内に位置するウエファー貯蔵および検査と組み合わさ れるあるいはそうではない、ウエファークリーニング、搬送、及び処理の為の少 なくとも一つのコンパートメント；ｂ）メンテナンス人員の為の出入りを伴う前 記コンパートメントのわきの水平方向に配置されているメンテナンス廊下；ｃ） 前記上位コンパートメントを下位コンパートメントから分ける前記メンテナンス ろうかの下の床； ｄ）前記コンパートメントと前記廊下の上位の前記上位コンパートメントの一部 としての通常のトップセクション；およびｅ）前記コンパートメント、前記廊下 及び前記トップセクションにおける少なくともカラムでの高濾過された不活性ガ スを維持しておく部材，を含む時、前記不活性ガスの供給が前記床の上方でなさ れ、そしてその放出が前記上位コンパートメント内に位置する装置セクションの 水平ウエファー搬送ゾーンの下でなされる、請求の範囲１６６に定義された方法 。
168. １６８．前記不活性ガスの供給が前記ウエファー搬送ゾーンの上方で行われる、 請求の範囲１６７に定義された方法。
169. １６９．前記廊下の床の上方の前記上位コンパートメントの範囲内で、カラムで の高濾過された空気が前記カラム不活性ガスの下側で維持されている、先の請求 の範囲に定義された方法。
170. １７０．前記カラム空気が最大の前記水平ウエファー搬送ゾーンに向け上側に広 がっている、請求の範囲１６９に定義された方法。
171. １７１．縦方向の分割壁が、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパート メントと前記廊下の間の中に位置し、少なくとも前記廊下の床から前記カラム空 気と不活性ガスの間の中の分割レベルの向うに向かって上方に広がっている時、 前記廊下への高濾過空気の供給が前記分割レベルの下側で行われ、そして少なく とも連帯的に前記空気の放出が前記床内にあるアパーチャーから行われ、そして 前記不活性ガスの放出が前記分割レベルの上方で行われる、請求の範囲１６９に 定義された方法。
172. １７２．少なくとも連帯的に、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパー トメント内に於ける前記装置セクションのメンテナンスが、一時的な人間用エン クロージャー内にいるメンテナンス人員によって行われる、先の請求の範囲に定 義された方法。
173. １７３．前記エンクロージャーが少なくとも一時的に前記上位コンパートメント 内に位置し、その上位セクションが空気と不活性ガスの間の前記分割レベルから 離れていくらかの距離を経て上方に広がっており、その低端部はアクセスの為に 開いており、そして前記エンクロージャー中にいる人によるメンテナンスの間、 少なくとも酸素を含む媒体が前記エンクロージャー中に供給され、前記分割レベ ルの下側でその放出を伴っている、請求の範囲１７２に定義された方法。
174. １７４．ロールアレンジメントによって前記エンクロージャー中に入る人間が前 記廊下の床を越えて前記エンクロージャーを移動する、請求の範囲１７３に定義 された方法。
175. １７５．前記呼吸媒体の供給と放出が前記廊下内のカプリングに連結されたチュ ービングを通って行われる、請求の範囲１７３に定義された方法。
176. １７６．前記水平分割フロア内にマンホールが前記下位コンパートメントから前 記廊下に向かって及びそこからの人間の移動のために位置されており、そして前 記下位コンパートメント内の前記マンホールに人間のエレベータが位置している 時、前記エレベータによって人間が前記エンクロージャー内でそのトップポジシ ョンに向かって上方に、廊下の床として機能するその上位位置に於いて前記エレ ベータの床と共に動かされ、そして戻る、先の請求の範囲に定義された方法。
177. １７７．前記カラム不活性ガス中の前記上位コンパートメント内で、少なくとも 前記人間によってその中に運ばれる前記装置セクションの為の超清浄コンポーネ ントの貯蔵の為の一つのラックが位置する時、前記メンテナンスが少なくとも連 帯的に前記コンポーネントによって行われる、先の請求の範囲に定義された方法 。
178. １７８．少なくとも一つのウエファー搬送／処理コンパートメントの下側に、少 なくとも局部的に水平方向の分割壁が位置する時、それによってその場所で、前 記不信性ガスの放出が前記分割壁上の放出通路を経て行われる、請求の範囲１７ １に定義された方法。
179. １７９．この廊下の中の前記分割レベルの設定された高さを維持するための少な くとも前記空気の供給と放出の調整が、前記カラム空気上に浮んでいるそのフロ ートを伴い、フロートスイッチによって行われる、請求の範囲１７１に定義され た方法。
180. １８０．モジュール内での前記ウエファーのタリーニングが脱イオン水の様な供 給された液体状媒体によって行われる時、前記ウエファーの脱気が少なくとも一 時的に上昇された温度の元で高真空ステーションに於いて行われる、先の請求の 範囲に定義された方法。
181. １８１．ステーションの前に、そこに於いて真空下で処理が行われ、ウエファー クリーニングモジュール内で、前記ウエファーのクリーニングがＣＯ２のような ガス状および／あるいは超臨界液体によって行われる、先の請求の範囲に定義さ れた方法。
182. １８２．前記上位コンパートメントにおいて、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵 ／検査ステーションが位置し、前記ウエファー搬送／処理ステーションの垂直な 側壁の外側と間において、前記中央廊下の分岐したセクションが前記外側ステー ションの横の前記垂直な分離壁に向け延びている時、前記ステーションのメンテ ナンスが少なくとも連帯的に該分岐した廊下のセクションから行われる、先の請 求の範囲に定義された方法。
183. １８３．少なくとも二つのカバーされた上位コンパートメントが互いに並んで前 記オペレータールームの廊下の間に位置する時、前記上位コンパートメントの間 でのウエファー搬送が、共通下位コンパートメントをかいしてカセット内である いはそれ無しで行われる、請求の範囲１８２に定義された方法。
184. １８４．ウエファー処理ステーションが前記水平ウエファー搬送ゾーンから下方 に広がっている時、垂直ウエファー搬送およびそのカセット内あるいは無しでの ものが、該ウエファー搬送ゾーンのウエファー供給及び放出セクションからある いはそれに向かって行われる、請求の範囲１８２に定義された方法。
185. １８５．前記上位コンパートメントの前記カバーの側壁に、ウエファー検査ステ ーションがそのコンソールセクション内に位置している時、ウエファー検査が前 記操作室から行われる、請求の範囲１８２に定義された方法。
186. １８６．前記上位コンパートメント内に、そこに配置された装置およびウエファ ー搬送のコントロールと検査のためのＴＶカメラが位置している時、前記操作室 内に位置するスクリーンによる絵が、操作する人間によって連続してあるいは不 連続で観測される、請求の範囲１８２に定義された方法。