JPH064557B2 - ２，３−二置換−４−置換シクロペンタノン類の製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は２，３−ジ置換−４−置換シクロペンタノン
類、その鏡像体又はそれらの混合物の製造法に関する。

＜従来の技術＞ 天然プロスタグランジン（以下ＰＧと略記する）類は生
物学的および薬理学的に高度な活性を持つ局所ホルモン
（オータコイド）として知られている。ＰＧ類のもつこ
れらの生理的な特徴を巧みに利用して新しい医薬品の開
発をめざして、天然ＰＧ類だけではなく各種誘導体に関
する研究も実施されている。

ＰＧＥ，ＰＧＦ類の典型的化合物である天然ＰＧＥ₂，
ＰＧＦ₂αは、子宮平滑筋収縮作用を有し、最も有用な
陣痛促進剤の医薬品として供せられている。一方天然Ｐ
ＧＥ₁は１型プロスタグランジン類の一つであり、血小
板凝集抑制作用，血圧降下作用等の特異な生物活性を有
する化合物であり、近年医療の領域において末梢循環治
療薬として用いられている有用な天然物である。

従来、これらＰＧＥ，ＰＧＦ類の製取にあたつては数多
くの方法が知られている〔ジエー・ビー・ビンドラ
（Ｊ．Ｂ．Bindra）ら，プロスタグランジン・シンセシ
ス（Prostaglandin Synthesis），アカデミツク・プレ
ス（Academic Press）（１９７７）参照〕。この中で代
表的な方法として下記方法が挙げられる。

(i) アラキドン酸またはジホモ−γ−リノレン酸より
生合成によつて得る方法〔ビー・サムエルソン（Ｂ．Sa
muelsson）ら，アンゲバンテ・ケミー・インターナシヨ
ナル・エデイシヨン・イン・イングリツシユ（Angev．C
hem．Int．Ed．Engl.）４，４１０（１９６５）参照〕 (ii) 重要中間体であるコーリー（Corey）ラクトンを
経由する方法〔イー・ジエー・コーリー（Ｅ．Ｊ．Core
y）ら，ジヤーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル
・ソサイエテイー（Ｊ．Amer．Chem．Soc.），９２，３
９７（１９７０）参照〕 (iii) 重要中間体である２−置換−２−シクロペンテ
ノン体を経由する方法〔シー・ジエー・シ（Ｃ．Ｊ．Si
h）ら，ジヤーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル
・ソサイエテイー（Ｊ．Amer．Chem．Soc.），９７，８
６５（１９７５）参照〕 (iv) ５，６−デヒドロPGE₂またはＰＧＦ₂αを選択的
に還元する方法〔イー・エス・フエルデイナンデイ
（Ｅ．Ｓ．Ferdinandi）ら，カナデイアン・ジヤーナル
・オブ・ケミストリー（Can．Ｊ．Chem.），４９，１０
７０（１９７１）参照〕，〔シー・エツチ・リン（Ｃ．
Ｈ．Lin）ら，プロスタグランジン（Prostaglandin），
１１，３７７（１９７６）参照〕 しかるに、これらの方法のうち生合成によつて得る方法
(i)では原料である多価不飽和脂肪酸が入手困難であ
り、しかもこれからの収率が非常に低く、副生成物から
の精製取得が困難である。また、化学合成によつて得る
方法(ii)〜(iv)では出発原料を得るのに多くの工程を有
し、他方容易に出発原料が得られてもかかる出発原料か
らのプロスタグランジンの製造はまだ多くの工程を経由
し、それ故、全収率は非常に低いといつた改善すべき点
を有している。

これらの諸難点を克服すべく、ＰＧ骨格の直接合成法と
して２−シクロペンテノン系への共役付加反応につづく
エレノートの捕捉過程を用いた３成分連結プロセス法が
提案された〔ジー・ストーク（Ｇ．Stock）ら，ジヤー
ナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイ
ー（Ｊ．Amer．Chem．Soc.），９７，６２６２（１９７
５）．ケー・ジー・ウンチ（Ｋ．Ｇ．Untch）ら，ジヤ
ーナル・オブ・ザ・オルガニツク・ケミストリー（Ｊ．
Org．Chem.），４４，３７５５参照〕。

しかし、この方法ではエレノートの捕捉を低分子化合物
であるホルムアルデヒドを用いて行ない、得られた重要
中間体を経由して化学合成によりＰＧ骨格合成を達成す
るという多段階を経なければならず、また全収率も低い
という難点を有している。

一方、３成分連結プロセス法によつて、より効率的にＰ
Ｇ骨格を製造しようとする下記提案もなされている。

(1) 特開昭５０−９６５４２号公報，特開昭５０−１
０１３３７号公報，ジー・エツチ・ポズナー（Ｇ．Ｈ．
Posner）ら，テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron
Letters），２５９１（１９７４），およびジー・エツ
チ・ポズナー（Ｇ．Ｈ． Posner）ら，ジヤーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミ
カル・ソサイエテイー（Ｊ．Amer．Chem．Soc.），９
７，１０７（１９７４）； これらの報告は、いずれも２−シクロペンテノンに有機
銅化合物を共役付加させた後、ハライド類でアルキル化
して２，３−ジ置換シクロペンタノン類を製造する方法
に関するものである。これらの報告には、プラスタグラ
ンジン類を製造する実施例はなく、いずれもモデル系で
の実施例が記載されているだけであり、また４−置換−
２−シクロペンテノン類から４−置換−２，３−ジ置換
シクロペンタノン類を製造する例は全く開示されていな
い。

(2) ジー・ダブリユー・パターソン・ジユニア（J.W.P
atterson，Jr）とジエー・エツチ・フリート（J.H.Frie
d），ジヤーナル・オブ・ザ・オルガニツク・ケミスト
リー（J.Org．Chem.），３９，２５０６（１９７４）； この報告では、上記(1)の方法を２−シクロペンテノン
に適用して、１１−デオキシプロスタグランジンＥ₁の
合成に成功している。しかしながら、４−置換−２−シ
クロペンテノン類から４−置換−２，３−ジ置換−シク
ロペンタノン類を製造する方法に関してはその可能性す
ら開示されていない。

(3) ジー・ストーク（G.Stork）とエム・イソベ（M.Is
ob），ジヤーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・
ソサイエテイー（J.Am．Chem．Soc.），９７，６２６０
（１９７５）； この報告では４−置換−２−シクロペンテノン類に有機
銅化合物を共役付加させて得られるエノレートをモノメ
リツクなホルムアルデヒドで捕捉することに成功してい
る。しかしながら、上記エノレートをアルキル化剤で捕
捉するアルキル化反応については否定的な結論を下して
いる。

(4) ジエー・エー・ノグエツ（Ｊ．Ａ．Noguez）とエ
ル・エー・マルドナンド（Ｌ．Ａ．Maldonado），シン
セテイツク・コミユニケーシヨン（Synthetic Communic
ations），６，３９ （１９７６）； この報告では、プロスタグランジンのω鎖に相当する部
分を保護されたシアンヒドリンのリチウム塩を２−シク
ロペンテノンに共役付加して導入した後、生成したエノ
レートをプロパルギルハライド類で捕捉し、１１−デオ
キシプロスタグランジン誘導体に導いている。しかしな
がら、４−置換−２−シクロペンテノン類から４−置換
−２，３−ジ置換−シクロペンタノン類を製造する方法
に関してはその可能性すら開示されていない。

(5) アール・デイビス（Ｒ．Davis）とケー・ジー・ウ
ンチ（K.G.Untch），ジヤーナル・オブ・ザ・オルガニ
ツク・ケミストリー（J.Org．Chem.），４４，３７５５
（１９７９）； この報告では、４−置換−２−シクロペンテノン類にプ
ロスタグランジンのω鎖に相当する有機基を備えた有機
銅化合物を共役付加せしめ、生成したエノレートをアリ
ルハライド類により直接アルキル化することを目指して
各種の検討を行つたこと、しかしながらそれらはすべて
不成功に終つたことを論じている。

(6) エー・ジエー・デイクソン（Ａ．Ｊ．Dixon）とア
ール・ジエー・ケー・テイラー（Ｒ．Ｊ．Ｋ．Taylo
r），ジヤーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエテイ
ー（Ｊ．Chem．Soc.），パーキン（Parkin）Ｉ，１４０
７（１９８１）； この報告では、今まで進行しにくいとされていた、２−
シクロペンテノンと有機銅化合物とから生成するエノレ
ートのアリル化に挑戦し、１１−デオキシプロスタグラ
ンジン合成の中間体を得るのに成功している。しかしな
がら、４−置換−２−シクロペンテノン類から４−置換
−２，３−ジ置換シクロペンタノン類を製造する方法に
関しては、その具体例はもちろんのことその可能性すら
も何ら開示していない。

(7) 西山ら，テトラヘドロン・レターズ （Tetrahedron Letters），２５，２２３（１９８４）
および２５，２４８７（１９８４）； これらの報告ではトリメチルシリルリチウムまたはメチ
ルリチオトリメチルシリルアセテートを２−シクロペン
テノンに共役付加させた後、トリブチルスズクロライド
を添加し、その後プロパルギルブロマイド誘導体でエノ
レートをアルキル化することに成功している。しかしな
がら、この報告の場合にも、４−置換−２−シクロペン
テノン類から４−置換−２，３−ジ置換シクロペンタノ
ン類を製造する方法に関しては、その例はもちろんのこ
とその可能性すらも何んら開示されていない。

上記従来技術(1)〜(7)およびその他の従来技術について
は、アンゲバンテ・ケミー・インターナシヨナル・エデ
イシヨン・イン・イングリツシユ（Angewandte Chemie
International Edition in English），２３，No.１
１，November 1984 pages ８４７−８７６の Ryoji Noyoriらの，プロスタグランジン・シンセシス・
バイ・スリーコンポーネント・カツプリング（Prostagl
andin Synthesis by Three-Component Coupling）と題
する総説が参考になる。

＜発明が解決しようとする問題点＞ 本発明の目的は、２，３−ジ置換−４−置換シクロペン
タノン類、その鏡像体又はそれらの混合物の新規な製造
法に関する。

本発明の他の目的は、ＰＧＥ類の如き２，３−ジ置換−
４−置換シクロペンタノン類、その鏡像体又はそれらの
混合物の効率的な製造法に関する。

本発明のさらに他の目的は、従来リチウムエノレート又
は銅エノレートを経由しては製造することのできなかつ
たような２，３−ジ置換−４−置換シクロペンタノン類
等を錫エノレートを経由して製造しうることを見い出し
た我々の発見に基づき、該２，３−ジ置換−４−置換シ
クロペンタノン類をone step or single potで容易に且
つ高収率で製造する方法を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、４−置換−２−シクロペン
テノン類を有機銅化合物と共役付加反応せしめ、生成す
る銅エノレートを錫エノレートに変換すれば、それにア
ルキルハライドあるいはアルケニルハライドを直接反応
させることができるという我々の発見に基づいて、one
step or single potで２，３−ジ置換−４−置換シクロ
ペンタノン類を製造する新規な方法を提供することにあ
る。

＜問題点を解決するための手段＞ 本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明
らかとなろう。

本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、 (A) 下記式(1) 〔ここで、Ｒ²はトリ（Ｃ₁〜Ｃ₇）炭化水素シリル基で
あるか又はＲ²Oでアセタール結合を表わす基である。〕 で表わされる４−置換−２−シクロエンテノン類、その
鏡像体あるいはそれらの任意の割合の混合物を、 下記式(2) R_B−Ｌｉ ………(2) 〔ここでR_Bは置換もしくは非置換のＣ₂〜Ｃ₁₀アルキル
又はアルケニル基を表わす。〕 で表わされる有機リチウム化合物と 下記式(3) Ｃｕ−Ｑ ………(3) 〔ここで、Ｑはハロゲン原子，シアノ基，フエニルチオ
基または１−ペンチニル基を表わす。〕 で表わされる銅化合物とから生成する有機銅化合物と共
役付加反応せしめ、次いで (B) 生成するエノレート中間体に、下記式(4) Ｒ₃SnY ………(4) 〔ここで、Ｒは互に同一もしくは異なり、Ｃ₁〜Ｃ₄低級
アルキル，Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル，フエニル又はハロ
ゲン原子を表わし、Ｙはハロゲン原子又はトリフラート
基を表わし、但し２ツ〜３ツのＲが同時にハロゲン原子
であることはできない。〕 で表わされる有機スズ化合物の存在下、 下記式(5) Ｘ−ＣＨ₂−Ｚ−R_A ………(5) 〔ここで、Ｚはエチレン基，エチニレン基，トランス−
ビニレン基又はシス−ビニレン基を表わし、R_Aは水素原
子を表わし、そしてＸはハロゲン原子又はトシル基を表
わす。〕 で表わされるハライドと反応させる、 ことを特徴とする、 下記式(6) 〔ここで、R_A，R_B，ＺおよびＲ²の定義は上記に同じで
ある。〕 で表わされる２，３−ジ置換−４−置換シクロペンタノ
ン類、その鏡像体又はそれらの任意の割合の混合物の製
造法によつて達成される。

本発明方法は、上記のとおり、４−置換−２−シクロペ
ンテノン類(1)、その鏡像体あるいはその混合物と、有
機リチウム化合物(2)と銅化合物(3)とから生成する有機
銅化合物との共役付加反応工程(A)、および工程(A)で生
成するエノレート中間体にハライド(5)を有機スズ化合
物(4)の存在下に反応させる工程(B)とから成る。

本発明において原料として用いられる４−置換−２−シ
クロペンテノン類は前記式(1)で表わされる。前記式(1)
中Ｒ²はトリ（Ｃ₁〜Ｃ₇）炭化水素シリル基または水酸
基の酸素原子とともにアセタール結合（ＯＲ²）を形成
する基を表わす。

トリ（Ｃ₁〜Ｃ₇）炭化水素シリル基としては、例えばト
リメチルシリル，トリエチルシリル，トリイソプロピル
シリル，ｔ−ブチルジメチルシリル基の如きトリ（Ｃ₁
〜Ｃ₄）アルキルシリル、ジフエニルメチルシリル，ｔ
−ブチレジフエニルシリル基の如きジフエニル（Ｃ₁〜
Ｃ₄）アルキルシリル、フエニルジメチルの如きフエニ
ルジ（Ｃ₁〜Ｃ₄）アルキルシリルまたはトリベンジルシ
リル基等を好ましいものとして挙げることができる。こ
れらのうち、ｔ−ブチルジメチルシリル基が特に好まし
い。

水酸基の酸素原子とともにアセタール結合を形成する基
としては、例えばメトキシエチル，１−エトキシエチ
ル，２−メトキシ−２−プロピル，２−エトキシ−２−
プロピル，（２−メトキシエトキシ）メチル，ベンジル
オキシメチル，２−テトラヒドロピラニル，２−テトラ
ヒドロフラニル又は６，６−ジメチル−３−オキサ−２
−オキソビシクロ〔３．１．０〕ヘキサ−４−イル基を
挙げることができる。これらのうち、２−テトラヒドロ
ピラニル，２−テトラヒドロフラニル，１−エトキシエ
チル，２−メトキシ−２−プロピル，（２−メトキシエ
トキシ）メチル又は６，６−ジメチル−３−オキサ−２
−オキソビシクロ〔３．１．０〕ヘキサ−４−イル基が
特に好ましい。

上記式(1)で表わされる化合物の具体例は、上記Ｒ²の定
義およびその具体例に基づき、自ずから明らかであろ
う。

上記式(1)で表わされる化合物の鏡像体は、 下記式(1)′ 〔ここで、Ｒ²の定義は上記式(1)に同じである。〕 で表わされる。

工程(A)の出発原料として用いられる４−置換−シクロ
ペンテノン類は、上記式(1)および(1)′で表わされる化
合物およびこれらの化合物の任意の割合の混合物である
ことができる。式(1)および(1)′の化合物の等モル混合
物はテセミ体であり、いずれか一方が他方より多い場合
の混合物はそれらの混合比に応じた旋光度を示す。

式(2)の有機リチウム化合物におけるＲ_Ｂは、置換もし
くは非置換のＣ₂〜Ｃ₁₀アルキル基またはアルケニル基
を表わす。

非置換のＣ₂〜Ｃ₁₀のアルキル基は直鎖状であつても分
岐鎖状であつてもよく、例えば、エチル基，プロピル
基，ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，ｔ−ブ
チル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オクチ
ル基，ノニル基，デシル基などをあげることができる。

非置換のＣ₂〜Ｃ₁₀アルケニル基は直鎖状であつても分
岐鎖状であつてもよく、例えば、ビニル基，１−プロペ
ニル基，１−ブデニル基，１−ペンテニル基，１−ヘキ
セニル基，１−ヘプテニル基，１−オクテニル基，１−
ノニル基，１−デシル基などがあげられる。これらはＥ
型およびＺ型のいずれの異性体型にあつてもよい。

Ｒ_Ｂが置換Ｃ₂〜Ｃ₁₀アルキル基である場合の該置換基
としては、例えばＣ₃〜Ｃ₇シクロアルキル基，ビニル
基，Ｃ₂〜Ｃ₄アルキニル基，フエニル基，フエノキシ基
（これらのフエニル基およびフエノキシ基はフルオロ，
メチル，トリフルオロメチル又はトリフルオロメトキシ
基で置換されていてもよい），Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルコキシ
基又は式OR²（ここでＲ²の定義は上記に同じである）で
表わされる基を挙げることができる。

また、Ｒ_Ｂが置換Ｃ₂〜Ｃ₁₀アルケニル基である場合の
該置換基としては、例えばＣ₁〜Ｃ₄低級アルキル基，Ｃ
₃〜Ｃ₇シクロアルキル基，Ｃ₂〜Ｃ₄アルキニル基，フエ
ニル基，フエノキシ基（これらのフエニル基およびフエ
ノキシ基はフルオロ，メチル，トリフルオロメチル又は
トリフルオロメトキイで置換されていてもよい），Ｃ₁
〜Ｃ₄低級アルコキシ基又はＯＲ²（ここでＲ²の定義は
上記に同じである）で表わされる基を挙げることができ
る。

上記の如き置換基の例としては、例えば、メチル基，エ
チル基，プロピル基，ブチル基などの低級アルキル基；
シクロペンチル基，シクロヘキシル基などのＣ₃〜Ｃ₇シ
クロアルキル基；ビニル基；エチニル基，プロパルギル
基，１−ブチニル，１−プロピニルの如きＣ₂〜Ｃ₄アル
キニル基；フエニル，フルオロフエニル，トリル，トリ
フルオロメチルフエニル，トリフルオロメトキシフエニ
ル，フエノキシ，フルオロフエノキシ，メチルフエノキ
シ，トリフルオロメチルフエノキシ，トリフルオロメト
キシフエノキシ；メトキシ基，エトキシ基，プロポキ
シ，ブトキシの如きＣ₁〜Ｃ₄低級アルコキシをあげるこ
とができる。置換基がＯＲ²である場合の具体例は式(1)
について上記した例より明らかである。かかる置換もし
くは非置換のＣ₂〜Ｃ₁₀アルキル基またはアルケニル基
を持つ有機リチウム化合物(2)の具体例は、上記の如き
Ｒ_Ｂの具体例からそれ自体明らかであろう。そのなかで
特に好ましいものは、下記式(2)−Ａ 〔ここで、Ｒ³はトリ（Ｃ₁〜Ｃ₇）炭化水素シリル基又
はＯＲ³でアセタール結合を表わす基である。〕 で表わされる化合物である。

上記式(2)−Ａで表わされる有機リチウム化合物が特に
好ましい理由は、それが天然のプロスタグランジンの骨
格の一部の合致するからに他ならない。

一方、式(3)の銅化合物におけるＱは、塩素原子，臭素
原子，ヨウ素原子などのハロゲン原子，シアノ基，フエ
ニルチオ基、または１−ペンチニル基を表わす。

これらの銅化合物の例は上記Ｑの定義からそれ自体明ら
かである。

本発明の共役付加反応工程(A)では、上記の如く、有機
リチウム化合物(2)と銅化合物(3)とから生成する有機銅
化合物が用いられる。

式(2)の有機リチウム化合物と式(3)の銅化合物とから有
機銅化合物を得るには、例えば文献ジー・エツチ・ポズ
ナー（G.H.Posner），オルガニツク・リアクシヨン（Or
ganic Reaction），vol.19，１（１９７２）；野依ら，
テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letters），
２１，１２４７（１９８０），２３，４０５７（１９８
２），２３，５５６３（１９８２），２４，１１８７
（１９８３），２４，４１０３（１９８３），２５，１
３８３（１９８４）およびイスラエル・ジヤーナル・オ
ブ・ケミストリ（Isr．Ｊ．Chem．），２４，１１８
（１９８４）に記載された方法に従つて行うことができ
る。

これらの文献は本明細書の記載として引用される。例え
ば、ペンタン，ヘキサン，ヘプタンの如き炭化水素類
や、ジエチルエーテル，ジメトキシエタンの如きエーテ
ル類等の不活性媒体を用い、この中で有機リチウム化合
物と銅塩とを室温〜−７８℃の反応温度で数時間以内、
例えば−７８℃で０．５時間反応せしめることにより行
なわれる。上記工程(A)の共役付加反応には、好ましく
は三価の有機リン化合物、例えば、トルアリキルホスフ
イン（例えば、トリエチルホスフイン，トリブチルホス
フインなど），トリアルキルホスフアイト（例えば、ト
リメチルホスフアイト，トリエチルホスフアイト，トリ
イソプロピルホスフアイト，トリ−ｎ−ブチルホスフア
イトなど），ヘキサメチルホスホラストリアミド、ある
いはトリフエニルホスフアインなどが用いられる。これ
らの化合物を用いると本共役付加反応が円滑に進行す
る。特にトリブチルホスフイン，ヘキサメチルホスホラ
ストリアミドが好適に用いられる。

本発明方法の工程(A)は前記式(1)で代表される−４−置
換−２−シクロペンテノン類を上述の有機銅化合物と、
三価の有機リン化合物および非プロトン性不活性有機媒
体の存在下に反応せしめることにより有利に実施され
る。

４−置換−２−シクロペンテノン類と該有機銅化合物と
は、化学量論的には等モル反応を行なうが、通常、４−
置換−２−シクロペンテノン類１モルに対して、０．５
〜２．０モル倍、好ましくは０．８〜１．５モル倍、特
に好ましくは１．０〜１．３モル倍の有機銅化合物が用
いられる。

工程(A)の反応温度としては、例えば−１００℃〜２０
℃、特に好ましくは−７８℃〜０℃程度の温度範囲が採
用される。反応時間は反応温度により異なるが、通常−
７８℃〜−２０℃にて約１時間程度反応せしめれば反応
は充分に進行する。

反応は有機媒体の存在下に有利に行なわれる。反応温度
下において液状であつて、反応試剤とは反応しない不活
性の非プロトン性の有機媒体が好適に用いられる。

かかる非プロトン性不活性有機媒体としては、例えば、
ペンタン，ヘキサン，ヘプタン，シクロヘキサンの如き
飽和炭化水素類；ベンゼン，トルエン，キシレンの如き
芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル，テトラヒドロプ
ラン，ジオキサン，ジメトキシエタン，ジエチレングリ
コールジメシルエーテルの如きエーテル系溶媒；その他
ヘキサメチルホスホリツクトリアミド（ＨＭＰ），Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ），Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド（ＤＭＡＣ），ジメチルスルホキシド，
スルホラン，Ｎ−メチルピロリドンの如きいわゆる非プ
ロトン性極性溶媒等があげられる。これらは二種以上の
混合溶媒として用いることも可能である。また、かかる
非プロトン性不活性有機媒体としては、有機銅化合物を
製造するに用いられた不活性媒体を、そのまま用いるこ
ともできる。すなわち、この場合、有機銅化合物を製造
した反応系内に該４−置換−２−シクロペンテノン類を
添加せしめて反応を行なえばよい。有機媒体の使用量は
反応を円滑に進行させる充分な量があれば良い。通常、
４−置換−２−シクロペンテノン類の１〜１００倍重
量、好ましくは２〜２０倍重量が用いられる。

三価の有機リン化合物は有機銅化合物の前記した調製時
に存在せしめておくこともでき、その系内に４−置換−
２−シクロペンテノン類を加えて反応を実施することも
できる。

かくして、本発明方法の上記工程(A)においては、反応
系内に、該４−置換−２−シクロペンテノン類の３位の
位置に該有機銅化合物の有機基部分であるＲ_Ｂが付加し
たいわゆる共役付加エノレートが形成される。

本発明方法では、この共役付加エノレートに対して、前
記式(4)で表わされる有機スズ化合物の存在下に、前記
式(5)で表わされるハライドを反応せしめる。

有機錫化合物を表わす式(4)中、３ツのＲは、同一もし
くは異なりＣ₁〜Ｃ₄低級アルキル，Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアル
キル，フエニル又はハロゲン原子を表わす。但し２ツ又
は３ツのＲが同時にハロゲン原子であることはない。

有機錫化合物としては、上記Ｒの定義に従つて、例え
ば、トリメチルスズクロライド，トリメチルスズプロマ
イド，トリエチルスズプロマイド，トリプロピルスズク
ロライド，トリブチルスズクロライド，トリブチルスズ
プロマイドなどのトリ（Ｃ₁〜Ｃ₄）アルキルスズクロラ
イド；トリ（Ｃ₁〜Ｃ₄）アルキルスズプロマイド；ジメ
チルスズジクロライド，ジエチルスズジクロライド，ジ
ブチルスズジクロライドなどのジアルキルスズジハライ
ド；トリブチルスズトリフラート；トリシクロヘキシル
スズクロライド，トリシクロヘキシルスズプロマイド，
トリシクロペンチルスズプロマイド，トリシクロペンチ
ルスズクロライドなどのトリ（Ｃ₃〜Ｃ₇）シクロアルキ
ルスズハライド；トリフエニルスズクロライド；ジシク
ロヘキシルスズジクロライド，ジシクロペンチルスズジ
クロライドなどのジ（Ｃ₃〜Ｃ₇）シクロアルキルスズジ
ハライド；ジフエニルスズジクロライド，ジフエニルス
ズプロマイドなどのジフエニルスズジハライド；または
トリフエニルスズトリフラート，トリシクロヘキシルス
ズトリフラートなどがあげられる。

これらのうち、式(4)において、３ツのＲが同一もしく
は異なり、ブチル基，シクロヘキシル基又はフエニル基
であるものが好ましく、例えばトリブチルスズクロライ
ド，トリフエニルスズクロライド，トリシクロヘキシル
クロライドが特に好ましい。

工程(B)で用いられるハライドは上記式(5)で表わされ
る。

Ｘ−ＣＨ₂−Ｚ−Ｒ_Ａ ………(5) 式(5)中、Ｘはハロゲン原子又はトシル基であり、Ｚは
エチレン，エチニレン基，トランス−ビニレン基又はシ
ス−ビニレン基，フエニレン基 表わし、Ｒ_Ａは水素原子である。尚、その他の参考例と
して、置換もしくは非置換のＣ₁〜Ｃ₇アルキル基又はア
ルケニル基があげられる。

上記式(5)中のＲ_Ａの定義の中の置換もしくは非置換の
Ｃ₁〜Ｃ₇アルキル基又はアルケニル基において、非置換
のＣ₁〜Ｃ₇アルキル基は直鎖状であつても分岐鎖状であ
つてもよく、例えば、メチル基，エチル基，プロピル
基，イソプロピル基，ブチル基，イソブチル基，sec−
ブチル基，ｔ−ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘ
プチル基をあげることができる。

また、非置換のＣ₁〜Ｃ₇アルケニル基は、直鎖状であつ
ても分岐鎖状であつてもよく、また基Ｚの炭素原子を直
接二重結合を形成して結合している基例えば＝CH₂，あ
るいは基Ｚの炭素原子とはsingle boudで結合している
アルケニル基であつてもよい。

かかる非置換のＣ₁〜Ｃ₇アルケニル基としては、例え
ば、ビニル基，１−プロペニル基，１−ブテニル基，１
−ペンテニル基，１−ヘキセニル基，１−ヘプテニル
基，２−プロペニル基，２−ブテニル基，２−ペンテニ
ル，２−ヘキセニル基，２−ヘプテニル基，３−ブテニ
ル基，３−ペンテニル基，３−ヘキセニル基，３−ヘプ
テニル基などが挙げられる。これらはＥ型およびＥ型の
いずえの異性体型にあつてもよい。

置換Ｃ₁〜Ｃ₇アルキル基における置換基としては、例え
ばＣ₃〜Ｃ₇シクロアルキル基，ビニル基，Ｃ₂〜Ｃ₄アル
キニル基，フエニル基，フエノキシ基（これらのフエニ
ル基およびフエノキシ基はフルオロ，メチル，トリフル
オロメチル又はトリフルオロメトキシ基で置換されてい
てもよい），Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルコキシ基又はＯＲ²（こ
こでＲ²の定義は上記に同じである）で表わされる基，
Ｃ₁〜Ｃ₄低級アシルオキシ基；オキソ基あるいはＣ₁〜
Ｃ₄低級アルコキシカルボニル基をあげることができ
る。

また、置換Ｃ₁〜Ｃ₇アルケニル基における置換基として
は、例えばＣ₁〜Ｃ₄低級アルキル基，Ｃ₃〜Ｃ₇シクロア
ルキル基，Ｃ₂〜Ｃ₄アルキニル基，フエニル基，フエノ
キシ基（これらのフエニル基およびフエノキシ基はフル
オロ，メチル，トリフルオロメチル又はトリフルオロメ
トキシで置換されていてもよい），Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルコ
キシ基は式ＯＲ²（ここでＲ²の定義は上記に同じであ
る）で表わされる基，Ｃ₁〜Ｃ₄低級アシルオキシ基；オ
キソ基あるいはＣ₁〜Ｃ₄低級アルコキシカルボニル基を
あげることができる。

上記の如き置換基の例としては、例えば、メチル基，エ
チル基，プロピル基，ブチル基などの低級アルキル基；
シクロペンチル基，シクロヘキシル基などのＣ₃〜Ｃ₇シ
クロアルキル基；ビニル基；エチニル基，プロパルギル
基，１−ブチニル，１−プロピニルの如きＣ₂〜Ｃ₄アル
キニル基；フエニル，フルオロフエニル，トリル，トリ
フルオロメチルフエニル，トリフルオロメトキシフエニ
ル，フエノキシ，フルオロフエノキシ，メチルフエノキ
シ，トリフルオロメチルフエノキシ，トリフルオロメト
キシフエノキシ；メトキシ基，エトキシ基，プロポキ
シ、ブトキシの如きＣ₁〜Ｃ₄低級アルコキシ；アセトオ
キシ基，プロピオニルオキシ基などの低級アシルオキシ
基；オキソ基；ならびにメトキシカルボニル基，エトキ
シカルボニル基，ｔ−ブトキシカルボニル基など低級ア
ルコキシカルボニル基をあげることができる。置換基が
ＯＲ²である場合の具体例は式(1)について上記した例よ
り明らかである。

上記式(5)のハライドのうち、下記式(5)−１ 〔ここで、Ｘの定義は上記式(5)に同じであり、Ｒ¹はＣ
₁〜Ｃ₁₀アルキル基，置換もしくは非置換のフエニル
基，置換もしくは非置換のＣ₃〜Ｃ₇シクロアルキル基又
は置換もしくは非置換のフエニル（Ｃ₁〜Ｃ₂）アルキル
基であり、ｎは１〜９の整数である。〕 で表わされる化合物、又は下記式(5)−２ Ｘ−CH₂−Z′−R′_A ………(5)−２ 〔ここで、Ｘの定義は上記式に同じであり、Z′はエチ
ニレン基，トランス−ビニレン基又はシス−ビニレン
基，フエニレン基又はフエニレンオキサ基を表わし、
R′_Aは基Z′から一番遠い位置が置換基−ＣＯＯＲ¹（Ｒ
¹の定義は上記に同じである）によつて置換されたＣ₁〜
Ｃ₇アルケニル基を表わす。〕 で表わされる化合物が好ましい参考例としてあげられ
る。

式(5)−１および(5)−２において、Ｘはハロゲン原子で
あり、Ｒ¹はＣ₁〜Ｃ₁₀アルキル基，置換もしくは非置換
のフエニル基，置換もしくは非置換のＣ₃〜Ｃ₇シクロア
ルキル基又は置換もしくは非置換のフエニル（Ｃ₁〜
Ｃ₂）アルキル基である。

Ｃ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基は、直鎖状であつても分岐鎖状
であつてもよく例えば、メチル基，エチル基，プロピル
基，イソプロピル基，ブチル基，イソブチル基，sec−
ブチル基，ｔ−ブチル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘ
プチル基，オクチル基，ノニル基，デシル基などをあげ
ることができる。

置換もしくは非置換のフエニル基の置換基としては、例
えば、ハロゲン原子，保護されたヒドロキシ基，Ｃ₂〜
Ｃ₇アシロキシ基，ハロゲン原子で置換されていてもよ
いＣ₁〜Ｃ₄アルキル基，ハロゲン原子で置換されていて
もよいＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基，ニトリル基、または（Ｃ
₁〜Ｃ₆）アルコキシカルボニル基などが好ましい。ハロ
ゲン原子としては、弗素，塩素または臭素など、特に弗
素または塩素が好ましい。Ｃ₂〜Ｃ₇アシロキシ基として
は、例えば、アセトキシ基，プロピオニルオキシ基，ブ
チリルオキシ基，イソブチリルオキシ基，バレリルオキ
シ基，イソバレリルオキシ基，カプロイルオキシ基，エ
ナンチルオキシ基、またはベンソイルオキシ基をあげる
ことができる。

ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ₁〜Ｃ₄アルキル
基としては、例えばメシル基，エチル基，プロピル基，
イソプロピル基，ブチル基，クロロメチル基，ジクロロ
メチル基，トリフルオロメチル基などを好ましいものと
してあげることができる。ハロゲン原子で置換されてい
てもよいＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基としては、例えば、メト
キシ基，エトキシ基，プロポキシ基，ブトキシ基，クロ
ロメトキシ基，ジクロロメトキシ基，トリフルオロメト
キシ基などを好ましいものとしてあげることができる。
（Ｃ₁〜Ｃ₆）アルコキシカルボニル基としては、例え
ば、メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル基，ｔ
−ブトキシカルボニル基，ヘキシルオキシカルボニル基
などをあげることができる。

置換フエニル基は、上記のごとき置換基を１〜３個、好
ましくは１個持つことができる。

置換もしくは非置換のＣ₃〜Ｃ₇シクロアルキル基として
は、上記したと同じ置換基で置換されているかまたは非
置換の、飽和または不飽和のＣ₃〜Ｃ₇、好ましくはＣ₅
〜Ｃ₆、特に好ましくはＣ₆の基、例えばシクロプロピル
基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基，シクロヘキ
セニル基，シクロヘプチル基などをあげることができ
る。

置換もしくは非置換のフエニル（Ｃ₁〜Ｃ₂）アルキル基
としては、該フエニル基が上記したと同じ置換基で置換
されているかまたは非置換のベンジル基，α−フエネチ
ル基，β−フエネチル基があげられる。

上記式(5)−１において、ｎは１〜９の整数である。

上記式(5)−２において、Z′はエチニレン基 である。

又、上記式(5)−２において、R′_Aは基Z′から一番近い
位置が置換基（−ＣＯＯＲ¹，ここでＲ¹の定義は上記に
同じである）によつて置換されたＣ₁〜Ｃ₇アルケニル基
である。

Ｃ₁〜Ｃ₇アルケニル基が例えば１−プロペニル（−Ｃ＝
Ｃ−ＣＨ₃）であり、Z′がエチニレン基であるとき、−
Z′−R′_Aは −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−ＣＯＯＲ¹ となる。

本発明方法の工程(B)において、工程(A)で生成し、そし
て系内に存在している共役付加エノレートと上記ハライ
ド（式(5)，(5)−１および(5)−２を含む）との反応が
実施される。反応は、有機銅化合物を４−置換−２−シ
クロペンテノン類に共役付加した反応系内にまず有機ス
ズ化合物を添加し、その後前記の非プロトン性有機媒体
によつて希釈されていてもよい前記式(5)のハライドを
添加せしめることにより実施される。

該有機スズ化合物は共役付加により生成したエノレート
と化学量論的には等モルで反応を行ないスズエノレート
を新たに生成するものと信じられているが、通常、最初
に用いた４−置換−２−シクロペンテノン類１モルに対
して０．８〜１．５モル倍、特に好ましくは１．０〜
１．２モル倍を用いられる。

反応温度は−１００℃〜０℃、好ましくは−７８℃〜−
２０℃程度の温度範囲が採用される。反応時間は通常１
時間以内で充分である。

式(5)のハライドは、共役付加により生成したエノレー
トと化学量論的には等モルで反応を行なうが、通常、最
初に用いた４−置換−２−シクロペンテノン類に対して
０．８〜５．０モル倍、特に好ましくは１．０〜２．０
モル倍量用いられる。

反応温度は−１００℃〜０℃、好ましくは−７８℃〜−
２０℃程度の温度範囲が採用される。反応時間は用いる
ハライドの種類や反応温度によつて異なる。通常、−７
８℃〜−３０℃にて約１時間〜５０時間反応せしめて反
応を終結させるが、反応の終点は薄層クロマトグラフイ
ーなどで追跡し決定するのが効率的である。

本発明方法におけるハライド(5)によるアルキル化反応
（工程(B)）は、前述の非プロトン性極性溶媒、なかで
もヘキサメチルホスホリツクトリアミドの共存下に実施
するのが好ましく、しばしば良い結果を与える。反応
後、通常の手段（後処理，抽出，洗浄，クロマトグラフ
イー，蒸留，あるいはこれらの組み合わせ）により分
離，精製される。

かくして本発明によれば、下記式(6) 〔ここで、Ｒ_Ａ，Ｒ_Ｂ，Ｒ²およびＺの定義は上記に同
じである。〕 で表わされる２，３−ジ置換−４−置換シクロペンタノ
ン類、下記式(6)′ 〔ここで、Ｒ_Ａ，Ｒ_Ｂ，Ｒ²およびＺの定義は上記に同
じである。〕 で表わされるその鏡像体あるいはそれらの任意の割合の
混合物を製造することができる。

上記式(6)で表わされる化合物のうち、下記式(6)−１ 〔ここで、Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³およびＺの定義は上記に同じ
である。〕 で表わされる化合物は好ましい化合物である。

上記式(6)−１において、Ｚがシス−ビニレン基である
化合物はＰＧＥ₂骨格を有し、Ｚがエチニレン基である
化合物は５，６−デヒドロＰＧＥ₂骨格を有し、またＺ
がエチレンである化合物はＰＧＥ₁骨格を有している。
本発明はかかる有用な化合物を与えうる製造法としても
十分に評価されるべきである。

本発明方法により製造される化合物の有用性を示すた
め、５，６−デヒドロＰＧＥ₂誘導体を出発原料として
ＰＧＥ₂，Ｅ₁，Ｆ₂α，Ｆ₁α，Ｄ₂，Ｄ₁およびＩ₂の各
々に誘導する過程を示せば下記flow chartに示したとお
りである。

上記フロー・チヤートにおいて、Redは還元、Cyは環
化、deproは脱保護、proは保護およびＯＸは酸化を意味
している。

下記の参考例１９〜２３には上記の誘導反応の一部を具
体的に示した。他の変換反応も既に本発明者の一部によ
つて報告されている。

さらに本発明方法の一つの特徴は用いたすべでの反応が
立体特異的に進行することであり、このために前記式
(1)で表わされる立体配置を持つ出発原料からは前記式
(5)（(6)−１を含む）で表わされる立体配置を持つ化合
物が得られ、前記式(1)′の鏡像体からは前記式(6)′の
鏡像体が得られる。従つてこれらの任意の割合の混合物
からはその割合を反映した目的物の混合物が得られるこ
とになる。さらに式(2)−(A)の有機リチウム化合物は不
斉炭素を含んでいるため、２種の光学異性体を包含す
る。いずれの光学活性体でもあるいはそれらの任意の割
合の混合物であつても使用できる。これらの内、前記式
(6)−１で表わされる立体配置を持つ化合物は天然のプ
ロスタグランジン類と同一の立体配置を有しているため
に特に有用な立体異性体である。

＜実施例＞ 以下本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。

参考例１ （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−ブチル−４−ｔ−ブチル−
ジメチルシリルオキシ−２−（２−オクチニル）シクロ
ペンタノン (i) アルゴン置換した３０mlの反応管にヨウ化第１銅
（９９．１mg，０．５２mmol）を秤取し、管内を減圧下
で乾燥させた後、再びアルゴンで置換した。その中に乾
燥テトラヒドロフラン（２ml）とトリブチルホスフイン
（０．３３７ml，１．３５mmol）を加えて２０℃で撹拌
して均一溶液とした。この溶液を−７８℃に冷却した
後、ｎ−ブチルリチウム（１．６０Ｍ，０．３２５ml，
０．５２mmol）を加え、−７８℃で１０分間撹拌した。
次いで(R)−４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−２−シ
クロペンデノン（１００mg，０．４７１mmol）のテトラ
ヒドロフラン（２ml）溶液を−７８℃で１０分間かけて
滴下した。さらに０．５mlのテトラヒドロフランで容器
を洗浄し、この洗液も同様に滴下した後、−７８℃で１
０分間撹拌した。その後、ヘキサメチルホスホリツクト
リアミド（１ml）を加えて−７８℃で４０分間撹拌を継
続した。次いでトリブチルスズクロライド（０．１４m
l，０．５２０mmol）を加えた後、−４０℃に昇温し、
１−ヨード−２−オクチン（１８４mg，０．７８mmol）
のテトラヒドロフラン（１ml）溶液を加えて２時間撹拌
した。反応液にエーテル（５ml）を加えた後、飽和塩化
アンモニウム水溶液（５ml），飽和チオシアン酸カリウ
ム水溶液（５ml），飽和食塩水（５ml）で順次洗浄し、
分離した有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
過，減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフイー（メルク７７７３４，６％含水，２
０ｇ；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１）に供して分離
し、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−ブチル−４−ｔ−ブチ
ルジメチルシロキシ−２−（２−オクチニル）シクロペ
ンタノン（８８．１mg，０．２３３mmol，４９％）を得
た。

ＴＣＬ；Rf＝０．３９ （ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１） ＩＲ（液膜）； １７５０，１４６０，１２４７，１０９８，８３
４， ７７１cm^-1。

ＮＭＲ（CDCl₃）δ； ０．０５及び０．０９（それぞれｓ，６，SiCH₃×
２）， ０．８９（ｓ，１５，SiC(CH₃)₃，CH₃×２）， １．１〜１．７（ｍ，１２，CH₂×６）， １．８〜２．４（ｍ，５，CH₂C≡Ｃ×２，CH×
１）， ２．４〜２．８（ｍ，３，CH₂CO×２，CHCO）， ４．０５（dd，１，Ｊ＝１３．０と６．４Hz，CHOS
i）。

¹³C ＮＭＲ（CDCl₃）δ； −４．９，−４．５，１３．９（２個分），１８．
６， １９．１，２２．１，２２．９，２５．７（４個
分） ２８．７，２９．０，３１．０，３１．７，４７．
７，４８．６， ５２．５，７３．３，７７．０，８１．９，２１
５．４。

ＭＳ（７５eV；ｍ／ｅ）； ３７８（Ｍ⁺），３２１（Ｍ⁺−C₄H₉）。

(ii) アルゴン置換した１５０mlの反応管にヨウ化第一
銅（１９８mg，１．０４mmol）を秤取し、管内を減圧下
で乾燥させた後、再びアルゴンで置換した。その中に乾
燥テトラヒドロフラン（１０ml）とトリブチルホスフイ
ン （０．６７３ml，２．７０mmol）を加えて１９℃で撹拌
して均一溶液とした。この溶液を−７８℃に冷却した
後、ｎ−ブチルリチウム（１．６０Ｍ，０．６４７ml，
１．０４mmol）を加え、−７８℃で１０分間撹拌した。
次いで(R)−４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−２−シ
クロペンテノン（２００mg，０．９４２mmol）のテトラ
ヒドロフラン（１５ml）溶液を−７８℃でシリンジドラ
イブを用いて０．８時間かけて滴下した。さらに２mlの
テトラヒドロフランで容器を洗浄し、この洗液も同様に
滴下した後、−７８℃で１０分間撹拌した。その後、ヘ
キサメチルホスホリツクトリアミド（２ml）を加えて−
７８℃で４０分間撹拌を継続した。次いでトリブチルス
ズクロライド（０．２８ml，１．０４mmol）を加えた後
−３０℃に昇温し、１−ブロモ−２−オクチン（１９７
mg，１．０４mmol）のテトラヒドロフラン（２ml）溶液
を加えて１７．５時間撹拌した。反応液にエーテル（１
０ml）を加えた後、飽和塩化アンモニウム水溶液（１０
ml），飽和チオシアン酸カリウム水溶液（１０ml），飽
和食塩水（１０ml）で順次洗浄し、分離した有機層を無
水硫酸ナトリウム上で乾燥した。過，減圧濃縮して得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
（メルク ７７３４，６％含水，４０ｇ；ヘキサン：酢
酸エチル＝３０：１）に供して分離し、(i)で得られた
生成物と一致する（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−ブチル−
４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−２−（２−オクチニ
ル）シクロペンタノン（５８．８mg，０．１５５mmol，
１６％）を得た。

参考例２ １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−５，
６−デヒドロプロスタグランジンＥ₂メチルエステル (i) アルゴン置換した１５０mlの反応管に（Ｅ，３
Ｓ）−３−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−１−ヨード−
１−オクテン（３５４mg，０．９６１mmol）の乾燥エー
テル（５ml）溶液を入れ、−９５℃に冷却した後、ｔ−
ブチルリチウム（１．７７Ｍ，１．０９ml，１．９２mm
ol）を滴下して−９５〜−７８℃で３時間撹拌した。別
の３０mlのナス型フラスコにヨウ化第一銅（１８３mg，
０．９６１mmol）を秤取し、管内を減圧下で乾燥させた
後、再びアルゴンで置換した。その中にテトラヒドロフ
ロン（４ml）とトリブチルホスフイン（０．６２ml，
２．５０mmol）を加えて２１℃で撹拌して均一溶液とし
た。この均一溶液を先に調製したアルケニルリチウム溶
液へステンレスチユーブを用いてアルゴン加圧下、一気
に加え、さらにテトラヒドロフラン（４ml）で容器を洗
浄し、この溶液も同様に滴下した後、−７８℃で５分間
撹拌した。次いで(R)−４−ｔ−ブチルジメチルシロキ
シ−２−シクロペンテノン（２００mg，０．９４２mmo
l）のテトラヒドロフラン（１５ml）溶液を−７８℃で
シリンジドライブを用いて１時間かけて滴下した。さら
に２mlのテトラヒドロフランで容器を洗浄し、この洗液
も同様に滴下した後、−７８℃で１時間撹拌した。その
後、ヘキサメチルホスホリツクトリアミド（２ml）を加
えて−７８℃で４０分間撹拌を継続した。次いでトリブ
チルスズクロライド（０．２６ml，０．９６１mmol）を
加えた後−４５℃に昇温し、１−ヨード−６−メトキシ
カルボニル−２−ヘキシン（２７６mg，１．０４mmol）
のテトラヒドロフラン（２ml）溶液を加えて１時間撹拌
した。反応液にエーテル（２０ml）を加えた後、飽和塩
化アンモニウム水溶液（３０ml），飽和チオシアン酸カ
リウム水溶液（３０ml），飽和食塩水（３０ml）で順次
洗浄し、分離した有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥
した。過，減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー（メルク ７７３４，６％
含水，４０ｇ；ヘキサン：酢酸エチル＝４０：１）に供
して分離し、１１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシ
リル）−５，６−デヒドロプロスタグランジンＥ₂メチ
ルエステル（１０５．６mg，０．１７８mmol，１９％）
を得た。

ＴＣＬ：Rf＝０．５０（酢酸エチル−ヘキサン＝１：
５） ＩＲ（液膜）； １７４６，１２４６，８２７，７６１cm^{-1 1}H ＮＭＲ（CDCl₃−CCl₄＝１：１）δ； ０．０４及び０．０６（それぞれｓ，１２，SiCH₃
×２）， ０．８９（ｓ，１８，SiC(CH₃)₃×２）， ０．９２（ｔ，１，Ｊ＝６．５Hz，CH₃）， １．１−１．５（ｍ，８，CH₂×４）， １．７−２．９（ｍ，１２，CH₂CO×２，CH₂C≡×
２，CH×２，及びCH₂）， ３．６５（ｓ，３，OCH₃）， ４．０５（ｍ，２，CHOSi×２）， ５．４−５．７（ｍ，２，ビニル） ¹³Ｃ ＮＭＲ（CDCl₃）δ； −４．７，−４．５（２個分），−４．２，１３．
６， １４．０，１６．９，１８．０，１８．２，２２．
６， ２４．２，２５．０，２５．８（３個分）， ２５．９（３個分），３１．９，３２．７，３８．
６， ４７．７，５１．４，５１．９，５２．９，７２．
７， ７３．１，７７．３，８０．８，１２８．２，１３
６．８， １７３．４，２１３．４ 〔α〕▲²¹ _D▼；−１３．９°（Ｃ１．５９，CH₃OH） (ii) アルゴン置換した１５０mlの反応管に（Ｅ，３
Ｓ）−３−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−１−ヨード−
１−オクテン（３５４mg，０．９６１mmol）の乾燥エー
テル（５ml）溶液を入れ、−９５℃に冷却した後、ｔ−
ブチルリチウム（１．７７Ｍ，１．０９ml，１．９２mm
ol）を滴下して−９５〜−７８℃で３時間撹拌した。別
に３０mlのナス型フラスコにヨウ化第一銅（１８３mg，
０．９６１mmol）を秤取し、管内を減圧下で乾燥させた
後、再びアルゴンで置換した。その中にテトラヒドロフ
ラン（４ml）とトリブチルホスフイン（０．６２ml，
２．５０mmol）を加えて２４℃で撹拌して均一溶液とし
た。この均一溶液を先に調製したアルケニルリチウム溶
液へステンレスチユーブを用いてアルゴン加圧下、一気
に加え、さらにテトラヒドロフラン（２ml）で容器を洗
浄し、この溶液も同様に滴下した後、−７８℃で５分間
撹拌した。次いで(R)−４−ｔ−ブチルジメチルシロキ
シ−２−シクロペンテノン（２００mg，０．９４２mmo
l）のテトラヒドロフラン（１０ml）溶液を−７８℃で
シリンジドライブを用いて３０分間かけて滴下した。さ
らに２mlのテトラヒドロフランで容器を洗浄し、この洗
液も同様に滴下した後、−７８℃で１０分間撹拌した。
その後、トリブチルスズクロライド（０．２６ml，０．
９６１mmol）を加えて−７８℃で１時間撹拌した。次い
で１−ヨード−６−メトキシカルボニル−２−ヘキシン
（２７６mg，１．０４mmol）のテトラヒドロフラン（２
ml）溶液を加えて２０分撹拌後、ヘキサメチルホスホリ
ツクトリアミド（０．９ml）を加えて−７８℃で１５分
間撹拌を継続した。次いで−４５℃に昇温し、３０分撹
拌後、さらにヘキサメチルホスホリツクトリアミド
（０．９ml）を加えて１時間３０分撹拌した。反応液に
飽和塩化アンモニウム水溶液（３０ml）を加えて激しく
振盪した後、有機層，水層を分離し、有機層を飽和チオ
シアン酸カリウム水溶液（３０ml），飽和食塩水（３０
ml）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
過，減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー（メルク ７７３４，６％含水，
４０ｇ，１：４０酢酸エチル−ヘキサン）に供して分離
し、１１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−
５，６−デヒドロプロスタグランジンＥ₂メチルエステ
ル（１７３．９mg，０．２９３mmol，３１％）を得た。
このものの各種スペクトルは(i)に同じであつた。

(iii) アルゴン置換した１５０mlの反応管に(E)−１−
ヨード−３−ｔ−ブチルシロキシ−１−オクテン（５９
３．１mg，１．６１×10^-3mol）と６mlの乾燥エーテル
をとり、−９５℃に冷却して撹拌した。そこへｔ−ブチ
ルリチウム（１．７２ml，３．２２×１０^-3molをシリ
ンジを用いて加え、−９５〜−７８℃で３時間撹拌し
た。別に３０mlのナス型フラスコを用意し、ヨウ化第一
銅（306.6mg，１．６１×10^-3mol）をとり管内を減圧下
加熱乾燥したのち、アルゴン置換した。これに乾燥ＴＨ
Ｆ６mlとトリブチルホスフイン（1.04ml，４．１９×１
０^-3mol）を加え、室温（２３℃）で撹拌して均一溶液
とした。これを−７８℃に冷却し、さきに調整したビニ
ルリチウムの溶液へステンレスチユーブでアルゴン加圧
下、一気に加え、さらに６mlの乾燥ＴＨＦで容器を洗い
流して加えた。−７８℃で１０分間撹拌後、４−ｔ−ブ
チルジメチルシロキシ−２−シクロペンテノン（３２
５．６mg，１．５３×１０^-3mol）のＴＨＦ溶液（１２m
l）を１時間で滴下した。さらに１mlのＴＨＦで容器を
洗い流したのち１０分間撹拌した。ＨＭＰＡ（１．５m
l）を加え、３０分間撹拌したのち、Ph₃SnCl（６２７．
６mg，１．６１×１０^-3mol）のＴＨＦ溶液（２ml）を
加えた。−３０℃に昇温後、１−ヨード−６−カルボメ
トキシ−２−ヘキシン（８１４．２mg，３．０６×10^-3
mol）のＨＭＰＡ溶液を加え、−３０℃で４時間３０分
撹拌した。つづいて−２７℃で１３時間放置したのち、
飽和塩化アンモニアム水溶液（２０ml）を加え、激しく
振とうした。有機層−水層を分離したのち、水層をエー
テルで抽出した（２０ml×２）。エーテル層を合わせた
のち、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。過後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマト
グラフイーに供し（Merck ７７３４ ５０ｇ，１：６
０＝酢エチ：ヘキサン，６００ml→１：２０酢エチ：ヘ
キサン，２００ml）、dl−１１，１５−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリル）−５，６−デヒドロプロスタグラン
ジンＥ₂メチルエステル（５４２．１mg，収率５９．７
％）を得た。

ＩＲ（液膜）； １７４６，１２４６，８２７，７６７cm^-1 参考例３ １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロス
タグランジンＥ₂メチルエステル (i) アルゴン置換した１５０mlの反応管に（Ｅ，３
Ｓ）−３−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−１−ヨード−
１−オクテン（３５４mg，０．９６１mmol）の乾燥エー
テル（５ml）溶液を入れ、−９５℃に冷却した後、ｔ−
ブチルリチウム（１．７７Ｍ，１．０９ml，１．９２mm
ol）を滴下して−９５〜−７８℃で３時間撹拌した。別
に３０mlのナス型フラスコにヨウ化第一銅（１８３mg，
０．９６１mmol）を秤取し、管内を減圧下で乾燥させた
後、再びアルゴンで置換した。その中にテトラヒドロフ
ラン（４ml）とトリブチルホスフイン（０．６２ml，
２．５０mmol）を加えて２９℃で撹拌して均一溶液とし
た。この均一溶液を先に調製したアルケニルリチウム水
溶液へステンレスチユーブを用いてアルゴン加圧下、一
気に加え、さらにテトラヒドロフラン（２ml）で容器を
洗浄し、この溶液も同様に滴下した後、−７８℃で５分
間撹拌した。次いで(R)−４−ｔ−ブチルジメチルシロ
キシ−２−シクロペンテノン（２００mg，０．９４２mm
ol）のテトラヒドロフラン（１０ml）溶液を−７８℃で
シリンジドライブを用いて３０分間かけて滴下した。さ
らに２mlのテトラヒドロフランで容器を洗浄し、この洗
液も同様に滴下した後、−７８℃で１０分間撹拌した。
その後トリブチルスズクロライド（０．２６ml，０．９
６１mmol）を加えて−７８℃で３０分間撹拌した。次い
でヘキサメチルホスホリツクトリアミド（1.8ml）を加
えた後、(Z)−１−ヨード−６−メトキシカルボニル−
２−ヘキセン（２７９mg，１．０４mmol）のテトラヒド
ロフラン（２ml）溶液を加えて−４５℃に昇温し、２時
間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（４
０ml）を加えて激しく振盪した後、有機層，水層を分離
し、有機層を飽和チオシアン酸カリウム水溶液（４０m
l），飽和食塩水（４０ml）で順次洗浄し、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。過、減圧濃縮して得られた粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（メルク
７７３４，４０ｇ，１：２０酢酸エチル−ヘキサン）
に供して分離し、１１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチ
ルシリル）プロスタグランジンＥ₂メチルエステル（１
４２．５mg，０．２３９mmol，２５％）を得た。

ＴＬＣ；Rf＝０．５８（酢酸エチル−ヘキサン＝１：
５） ＩＲ（液膜）； １７３４，１２４３，１０００，９６４，９２７， ８２８，７６８cm^{-1 1}Ｈ ＮＭＲ（CDCl₃）δ； ０．０３及び０．０６（それぞれｓ，１２，SiCH₃
×４）， ０．８−１．０（ｍ，２１，Ｃ−CH₃×７）， １．２−１．５（ｍ，８，CH₂×４）， １．６−２．９（ｍ，１２，CH₂CO×2，CH₂C＝×
２，CH×２，and CH₂）， ３．６７（ｓ，３，OCH₃）， ４．０６（ｍ，２，CHOSi×２）， ５．３７（ｍ，２，vinyl）， ５．５４（ｍ，２，vinyl） 〔α〕▲²¹ _D▼；５２．７°（Ｃ１．２８，CH₃OH） (ii) アルゴン置換した１５０mlの反応管に(E)−１−
ヨード−３−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−１−オクテ
ン（５９３．１mg，１．６１×10^-3mol）と６mlの乾燥
エーテルをとり、−９５℃に冷却して撹拌しておく。そ
こへｔ−ブチルリチウム（１．７２ml，３．２２×10^-3
mol）をシリンジを用いて、−９５〜−７８℃で３時間
撹拌した。別に３０mlのナス型フラスコを用意し、ヨウ
化第一銅 （３０６．６mg，１．６１×１０^-3mol）をとり管内を
減圧下加熱乾燥したのち、アルゴン置換した。これに乾
燥ＴＨＦ６mlとトリブチルホスフイン（１．０４ml，
４．１９×１０^-3mol）を加え、室温（２５℃）で撹拌
して均一溶液とした。これを−７８℃に冷却し、さきに
調整したビニルリチウムを溶液へステンレスチユーブで
アルゴン加圧下一気に加え、さらに６mlの乾燥ＴＨＦで
容器を洗い流して加えた。−７８℃で１０分間撹拌後、
４−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−２−シクロペンテノ
ン（３２５．６mg，１．５３×10^-3mol）のＴＨＦ溶液
（１２ml）を１時間で滴下した。さらに１mlのＴＨＦで
容器を洗い流して加えたのち１０分間撹拌した。ＨＭＰ
Ａ（１．５ml）を加え、３０分間撹拌したのち、Ph₃SnC
l（６２７．６mg，１．６１×１０^-3mol）のＴＨＦ（２
ml）を加えた。−３０℃に昇温後、(Z)−１−ヨード−
６−カルボメトキシ−２−ヘキセン （１．２３１ｇ，４．５９×10^-3mol）の ＨＭＰＡ溶液を加え、−３０℃で３時間撹拌した。つづ
いて−２７℃で９７．９時間放置したのち飽和塩化アン
モニウム水溶液（２０ml）を加え、激しく振とうした。
有機層−水層を分離したのち、有機用を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。過後減圧濃
縮し、シヨートクロマト（Merck ７７３４５ｇ，１：
５＝酢エチ：ヘキサン）に供し、高極性物質（Bu₃P，Ph
₃SnCl）を除去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フイー （Merck ７７３４ ５０ｇ，１：６０＝酢エチ：ヘキ
サン，７８０ml→１：２０＝酢エチ：ヘキサン，６００
ml）に供し、dl−１１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチ
ルシリル）プロスタグランジンＥ₂メチルエステル（６
４７mg，収率７１％）を得た。

ＩＲ（液膜）； １７４３，１２４３，１０００，９６４，９２７， ８２８，７６８cm^-1 参考例４ １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロス
タグランジンＥ₁メチルエステル アルゴン置換した１５０mlの反応管に（Ｅ，３Ｓ）−３
−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−１−ヨード−１−オク
テン（６０７．８mg，１．６５×１０^-3mol）と６mlの
乾燥エーテルを秤取し、−９５℃に冷却して撹拌した。
その中へｔ−ブチルリチウム（１．９２Ｍ，１．７２m
l，３．３０×１０^-3mol）をシリンジを用いて加え、−
９５〜−７８℃で３時間撹拌した。別に３０mlのナス型
フラスコを用意し、ヨウ化第１銅（３１４．２mg，１．
６５×１０^-3mol）を秤取し反応系内を減圧下に加熱乾
燥した後、アルゴン置換した。この中に乾燥ＴＨＦ（６
ml）とトリブチルホスフイン（１．０７ml，４．２９×
１０^-3mol）を加えて室温で撹拌して均一溶液とした。
この溶液を−７８℃に冷却して、先に調製したビニルリ
チウムの溶液中へステンレスチユーブでアルゴン加圧下
一気に加え、さらに６mlの乾燥ＴＨＦで容器を洗い、こ
の洗液も加えた。−７８℃で１０分間撹拌後、(R)−４
−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−２−シクロペンテノン
（３１８．５mg，１．５０×１０^-3mol）のＴＨＦ溶液
（１２ml）を１時間かけて滴下した。さらに１mlのＴＨ
Ｆで容器を洗い流して加えた後反応混合物を１０分間撹
拌した。この反応混合物に１．５mlのヘキサメチルホス
ホリツクトリアミド（ＨＭＰＡ）を加え、３０分間撹拌
した後トリフエニルスズクロライド（６４３．２mg，
１．６５×１０^-3mol）のＴＨＦ溶液（２ml）を加え
た。この反応液を−２０℃に昇温後、６−ヨードヘキサ
ン酸メチル（２．０８８２mg，７．７３×１０^-3mol）
のＨＭＰＡ溶液（２．８７ml）を加え、−２０℃で１６
時間撹拌した。反応終了後飽和塩化アンモニウム水溶液
（２０ml）を加えてよく振とうしたのち有機層と水層に
分け、水層をエーテル（２×２０ml）で抽出した。有機
層を合わせ飽和食塩水（２０ml）で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。乾燥剤を過し、減圧濃縮した
のちシリカゲルカラムクロマトグラフイーに供した（Me
rck 7734 ５ｇ，１：５酢酸エチル−ヘキサン）。得ら
れた濃縮粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー（Merck 7734 ５０ｇ；酢酸エチル：ヘキサン＝１：
６０，９００ml→酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０，６
００ml）に供して、１７８．７mg（２０％）の１１，１
５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）プラスタグラン
ジンＥ₁メチルエステルを得た。

ＴＬＣ：Rf＝０．５２（酢酸エチル−ヘキサン＝１：
５） ¹Ｈ ＮＭＲ（CDCl₃）δ： ５．６−５．４（ｍ，２Ｈ），４．２−３．８
（ｍ，２Ｈ）， ３．６６（ｓ，３Ｈ）， ２．６４（dd，１Ｈ，Ｊ＝７２，１８．４Hz）， ２．４−１．８（ｍ，４Ｈ），１．７−１．０
（ｍ）， １．０−０．８（ｍ，２１Ｈ），０．１〜０．０
（ｍ） ＩＲ（neat）：１７５０cm^-1 実施例１ （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−アリル−４−ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−３−〔（Ｅ，３Ｓ）−３−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−１−オクテニル〕シクロペ
ンテノン 参考例３と同様の製法において、(Z)−１−ヨード−６
−メトキシカルボニル−２−ヘキセンの代わりにアリル
アイオダイドを用いて実施して（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−
２−アリル−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３
−〔（Ｅ，３Ｓ）−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−１−オクテニル〕シクロペンタノンを得た。

収率７１％。

¹H NMR（CDCl₃）δ： ０．０７（１２Ｈ，ｓ），０．８５（２１Ｈ，
ｓ）， １．１〜１．５（８Ｈ，ｍ），１．６〜２．８（６
Ｈ，ｍ）， ３．８〜４．３（２Ｈ，ｍ），４．７５〜５．６０
（５Ｈ ＩＲ（液膜）： ３１００，１７４５，１２５５，１１１０，９６
５， ９１０，８７５，８３５，８１０，７７０cm^-1。

ＭＳ（ｍ／ｅ）： ４９４，４７９，４３７，３７９． 実施例２ （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ−３−〔（Ｅ，３Ｓ）−３−ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ−１−オクテニル〕−２−（２−プロピニ
ル）シクロペンタノン 参考例２と同様の製法において１−ヨード−６−メトキ
シカルボニル−２−ヘキシンの代わりにプロパルギルア
イオダイドを用いて実施して（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−〔（Ｅ，３
Ｓ）−３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−１−オク
テニル〕−２−（２−プロピニル）シクロペンタノンを
得た。収率６５％。

¹H NMR（CDCl₃）δ： ０．０６（１２Ｈ，ｓ），０．８７（２１Ｈ）， １．０〜１．７（８Ｈ，ｍ），１．８〜３．０（７
Ｈ，ｍ）， ３．７〜４．２（２Ｈ，ｍ），５．３〜５．６（２
Ｈ，ｍ）。

ＩＲ（液膜）： ３３３０，１７５５，１２５５，１１５５，１１２
０， １０９０，１００５，９６５，８８０，８３５， ７７５cm^-1。

参考例５〜１４ １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
プロスタグランジンＥ₂メチルエステル類 参考例３と同様の製法により次の化合物を合成した（収
率１９〜６７％）。

参考例５： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１７
(R)，２０−ジメチルプロスタグランジンＥ₂メチルエス
テル 参考例６： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１７
(S)，２０−ジメチルプロスタグランジンＥ₂メチルエス
テル 参考例７： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１
６，１７，１８，１９，２０−ペンタノル−１５−シク
ロペンチルプロスタグランジンＥ₂メチルエステル 参考例８： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１
６，１７，１８，１９，２０−ペンタノル−１５−シク
ロヘキシルプロスタグランジンＥ₂メチルエステル 参考例９： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１５
−メチルプロスタグランジンＥ₂メチルエステル 参考例１０： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１
６，１６−ジメチルプロスタグランジンＥ₂メチルエス
テル 参考例１１： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−２０
−イソプロピリデン−１７−メチルプロスタグランジン
Ｅ₂メチルエステル 参考例１２： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１
８，１８，１９，１９−テトラデヒドロ−１６−メチル
プロスタグランジンＥ₂メチルエステル 参考例１３： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１
８，１９，２０−トリノル−１７−フエニルプロスタグ
ランジンＥ₂メチルエステル 参考例１４： １１−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１５−デオキシ
−１６−トリメチルシリルオキシ−１６−ビニルプロス
タグランジンＥ₂メチルエステル これらの化合物の特徴的なスペクトルデーターは表１に
列挙されている。

参考例１５、１６ １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
プロスタグランジンＥ₂誘導体 参考例１および参考例５〜１４と同様にして次の化合物
を合成した（収率３５〜４９％）。

参考例１５： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−２，
３−デヒドロ−１７，１８，１９，２０−テトラノル−
１６−〔３−（α，α，α−トリフルオロメチル）フエ
ノキシ〕プロスタグランジンＥ₂メチルエステル 参考例１６： １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−４，
５−６−トリノル−３，７−インター−ｍ−フエニレン
−３−オキサプロスタグランジンＥ₂メチルエステル これらの化合物の特徴的なスペクトルデーターは表１に
列挙されている。

参考例１７、１８ プラスタグランジンＥ₁メチルエステル誘導体 参考例４と同様の製法により次の化合物を合成した（収
率１７〜３２％）。

参考例１７： １１−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１５−デオキシ
−１６−メチル−１６−トリメチルシリルオキシプロス
タグランジンＥ₁メチルエステル 参考例１８： （４Ｚ）−△⁴−１１−（ｔ−ブチルジメチルシリル）
−１５−デオキシ−１６−メチル−１６−トリメチルシ
リルオキシプラスタグランジンＥ₁メチルエステル これらの化合物の特徴的なスペクトルデーターは表１に
列挙されている。

参考例１９ １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロス
タグランジンＥ₂メチルエステル １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−５，
６−デヒドロプロスタグランジンＥ₂メチルエステル
（４８．２mg，０．０８１mmol）および合成キノリン
（２５mg）をベンゼン（２．５ml）に溶解し、シクロヘ
キサン（２．５ml）、つづいて５％Pd−BaSO₄（２５m
g）を加えたのち水素雰囲気下２５℃にて３時間撹拌
後、合成キノリン（５０mg）および５％Pd−BaSO₄（５
０mg）を追加し、４０℃にて４．５時間撹拌した。触媒
を過したのち酢酸エチルで洗い、合わせて減圧濃縮し
た。

シリカゲルカラムクロマトグラフイー（８ｇ，エーテル
−ヘキサン＝１：１０）に供し、集めた画分を減圧濃縮
したのち、さらに残査を真空ポンプ減圧下（＜４mmHg）
に７時間放置することにより、１１，１５−ビス（ｔ−
ブチルジメチルシリル）プロスタグランジンＥ₂メチル
エステル（４１．８mg，８７％）が得られた。

ＴＣＬ：Rf＝０．５８（酢酸エチル−ヘキサン＝１：
５） ＩＲ（液膜）； １７４３，１２４３，１０００，９６４，９２７， ８２８，７６８cm^{-1 1}H NMR（CDCl₃）δ； ０．０３及び０．０６（それぞれｓ，１２，SiCH₃
×４）， ０．８−１．０（ｍ，２１，Ｃ−CH₃×７）， １．２−１．５（ｍ，８，CH₂×４）， １．６−２．９（ｍ，１２，CH₂CO×２，CH₂C＝×
２， CH×２，及びCH₂）， ３．６７（ｓ，３，OCH₃），４．０６（ｍ，２，CH
OSi×２）， ５．３７（ｍ，２，ビニル），５．５４（ｍ，２，
ビニル） 〔α〕▲²¹ _D▼；５２．７°（Ｃ１．２８，CH₃OH） 本化合物は(-)−PGE₂より誘導した１１，１５の保護さ
れたジシリル体と完全に一致した。

参考例 ２０ プロスタグランジンＥ₂メチルエステル １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロス
タグランジンＥ₂メチルエステル（４０mg，０．０６７m
mol）を無水アセトニトリル（８ml）にとかして０℃に
てＨＦ−ピリジン（０．１ml）を加え２４℃にて３０分
撹拌後、さらにＨＦ−ピリジン（０．４ml）を追加し３
時間撹拌した。飽和NaHCO₃水溶液（２０ml）へそそいだ
のち、酢酸エチルで３回（３０ml×３）抽出した。合わ
せてNa₂SO₄上で乾燥後、減圧濃縮した。残査中のピリジ
ンを除くためトルエンを加えさらに減圧濃縮した。真空
ポンプ減圧下（＜４mmHg）にしばらく放置したのちシリ
カゲルカラヘクロマトグラフイー（２ｇ，酢酸エチル−
ヘキサン（１：１）→（１：０）グラデイエント）に供
し(-)−PGE₂メチルエステル（２４．１mg，９８％）を
得た。

ＴＬＣ；Rf＝０．２９（酢酸エチル−シクロヘキサン
− ＴＨＦ＝６：３：１） ＩＲ（液膜）； ３６８０−３０８０，１７４４，９７０cm^{-1 1}Ｈ ＮＭＲ（CDCl₃）δ： ０．９０（ｔ，１，Ｊ＝６．５Hz，CH₃）， １．１−２．９（ｍ，２０，CH₂CO×２，CH₂×５， CH₂C＝×２，CH×２）， ３．０８（br，１，OH），３．６６（ｓ，３，OC
H₃）， ４．０６（ｍ，３，CHO×２及びOH）， ５．３４（ｍ，１，ビニル），５．７０（ｍ，１，
ビニル） ¹³C NMR（CDCl₃）δ： １４．０，２２．６，２４．７，２５．１，２６．
６，３１．７， ３３．５，３７．３，４６．１，５１．５，５３．
７，５４．５， ７２．０，７３．０，１２６．６，１３０．８，１
３１．５， １３６．８，１７４．０，２１４．１ 〔α〕▲²¹ _D▼；−７１．７°（Ｃ１．０４３，CH₃O
H） 参考例２１ １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−５，
６−プロスタグランジンF₂αメチルエステル ジイソブチルアルミニウムハイドライド（１当量）／
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフエノール（２当
量）のトルエン溶液（０．１９２Msoln，２．２４ml，
０．４３mmol）に−７８℃にて１１，１５−ビス（ｔ−
ブチルジメチルシリル）−５，６−デヒドロプロスタグ
ランジンＥ₂メチルエステル（２５．５mg，０．０４３m
mol）のトルエン溶液（１ml）を加えた。

−７８℃にて２時間撹拌後、昇温し−２５〜−２０℃に
て３時間撹拌した。飽和酒石酸水素ナトリウム水溶液
（１０ml）を加え、激しく振とうした。

室温にて酢酸エチルで３回（２０＋１０＋１０ml）抽出
し、合わせてNa₂SO₄上で乾燥後、減圧濃縮した。

シリカゲルカラムクロマトグラフイー（５ｇ，酢酸エチ
ル−ヘキサン＝５：１）に供し、１１，１５−ビス（ｔ
−ブチルジメチルシリル）−５，６−デヒドロプロスタ
グランジンF₂αメチルエステル（２３．５mg，９２％，
低極性成分）を得た。

ＴＣＬ；Rf＝０．２９（酢酸エチル−ヘキサン＝１：
５） ＩＲ（液膜）； ３６４０−３０８０，１７４５，１２４７，１０２
０， ９７０，９３０，８３０，７７０cm^{-1 1}Ｈ ＮＭＲ（CDCl₃）δ； ０．０２及び０．０５（それぞれｓ，１２，SiCH₃
×４）， ０．７−１．０（ｍ，２１，Ｃ−CH₃×７）， ２．１−３．５（ｍ，２０，CH₂CO，CH₂×６， CH₂C≡×２，CH×２）， ３．６９（ｄ，１，Ｊ＝８．３Hz，OH）， ３．６７（ｓ，３，OCH₃）， ４．００および４．２４（br，３，CHO×３）， ５．４０（ｍ，２，ビニル） 〔α〕▲²¹ _D▼；＋０．３７°（Ｃ０．７１５，CH₃O
H） 参考例 ２２ １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロス
タグランジンF₂αメチルエステル １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）−５，
６−デヒドロプロスタグランジンF₂αメチルエステル
（２８．７mg，０．０４８mmol）をベンゼン（１ml）に
溶解しシクロヘキサン（１ml）におよびリンドラー触媒
（２８．７mg）を加えたのち、水素雰囲気下２２〜２
３．５℃にて１２時間撹拌した。触媒を過し、酢酸エ
チルで洗浄し、合わせて減圧濃縮した。

シリカゲルカラムクロマトグラフイー（６ｇ，酢酸エチ
ル−ヘキサン−ベンゼン＝１：１５：２）に供し、１
１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロスタ
グランジンF₂αメチルエステル（２３．２mg，８１％）
を得た。

ＴＣＬ；Rf＝０．３２（酢酸エチル−ヘキサン＝１：
５） ＩＲ（液膜）； ３６１０−３２８０，１７４５，１２５０，１００
０， ９７０，９３８，８３０，７７０cm^{-1 1}H NMR（CDCl₃）δ： ０．０３及び０．０５（それぞれｓ，１２，SiCH₃
×４）， ０．８−１．０（ｍ，２１，Ｃ−CH₃×７）， １．２−２．４（ｍ，２０，CH₂CO，CH₂×6, CH₂C＝×２，CH×２）， ２．６９（ｄ，１，Ｊ＝９．５Hz，OH）， ３．６７（ｓ，３，OCH₃）， ４．０５（br，３，CHO×３）， ５．４０（ｍ，２，ビニル） 〔α〕▲²¹ _D▼；＋１２．３°（Ｃ１．０３７，CH₃O
H） 参考例２３ プロスタグランジンF₂αメチルエステル １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）プロス
タグランジンF₂αメチルエステル（２１mg，０．０３５
mmol）を酢酸（１ml）に溶解し、H₂O（０．３３ml），
ＴＨＦ（０．１ml）を加え、５５℃にて１．５時間撹拌
した。大きな容器に移し、トルエンを加え数回減圧濃縮
をくり返し酢酸およびH₂Oを飛ばした。残査をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー（３ｇ，酢酸エチル−ヘキ
サン（１：１）→（１：０）グラデイエント）に供し、
(+)−PGF₂αメチルエステル（１１mg，８５％）を得
た。

ＴＣＬ；Rf＝０．２（酢酸エチル−シクロヘキサン−
ＴＨＦ ＝６：３：１） ＩＲ（液膜）； ３６４０−３０４０，１７３８，１４３５，１１６
０， １１１６，１０４２，１０２０，９６８，８５８cm
^{-1 1}Ｈ ＮＭＲ（CDCl₃）δ； ０．８９（ｔ，３，Ｊ＝６．５Hz，CH₃）， １．２−２．４（ｍ，２０，CH₂CO，CH₂×６， CH₂C＝×２，CH×２）， ２．５７（br，１，OH），３．２９（br，１，O
H）， ３．６９（ｓ，３，OCH₃），４．０３（brm，３，C
HO×３）， ５．３−５．６（ｍ，２，ビニル） ¹³C NMR（CDCl₃）δ； １４．０，２２．６，２４．８，２５．２，２５．
６，２６．６， ３１．８，３３．５，３７．３，４３．０，５０．
５，５１．６， ５５．８，７２．９，７３．０，７８．０，１２
９．１， １２９．６，１３２．６，１３５．３，１７４．３ 〔α〕▲²¹ _D▼；＋３１．４°（Ｃ０．４２３，CH₃O
H） なお合成物のスペクトル（ＩＲ，¹ＨＮＭＲ，¹³ＣＮＭ
Ｒ，ＴＬＣ）は(+)−PGF₂αより導いた(+)−PGF₂αmeth
yl esterと完全に一致した。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】(A) 下記式(1) ［ここで、Ｒ²はトリ（Ｃ₁〜Ｃ₇）は炭化水素シリル基
   であるか又はＲ²Ｏでアセタール結合を表わす基であ
   る。］ で表わされる４−置換−２−シクロペンテノン類、その
   鏡像体あるいはそれらの任意の割合の混合物を、 下記式(2) ＲＢ−Ｌｉ …(2) ［ここでＲＢは置換もしくは非置換のＣ₂〜Ｃ₁₀アルキ
   ル又はアルケニル基を表わす。］ で表わされる有機リチウム化合物と 下記式(3) Ｃｕ−Ｑ …(3) ［ここで、Ｑはハロゲン原子、シアノ基、フェニルチオ
   基または１−ペンチニル基を表わす。］ で表わされる銅化合物とから生成する有機銅化合物と共
   役付加反応せしめ、次いで (B) 生成するエノレート中間体に、 下記式(4) Ｒ₃ＳｎＹ …(4) ［ここで、Ｒは互いに同一もしくは異なり、Ｃ₁〜Ｃ₄低
   級アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル、フェニル又はハ
   ロゲン原子を表わし、Ｙはハロゲン原子又はトリフラー
   ト基を表わす。但し２ツ〜３ツのＲが同時にハロゲン原
   子であることはできない。］ で表わされる有機スズ化合物の存在下、 下記式(5) Ｘ−ＣＨ₂−Ｚ−ＲＡ …(5) ［ここで、Ｚはエチレン基、エチニレン基、トランス−
   ビニレン基又はシス−ビニレン基、フェニレン基、フェ
   ニレンオキサ基を表わし、ＲＡは水素原子を表わし、そ
   してＸはハロゲン原子又はトシル基を表わす。］ で表わされるハライドを反応させる、 ことを特徴とする。 下記式(6) ［ここで、ＲＡ，ＲＢ，ＺおよびＲ²の定義は上記に同
   じである。］ で表わされる２，３−二置換−４−置換シクロペンタノ
   ン類、その鏡像体又はそれらの任意の割合の混合物の製
   造法。
2. 【請求項２】上記式(2)の有機リチウム化合物が上記式
   (2)においてＲＢが置換もしくは非置換のＣ₂〜Ｃ₁₀アル
   ケニル基であり、そしてその置換基がＣ₁〜Ｃ₄低級アル
   キル基、Ｃ₃〜Ｃ₇シクロアルキル基、Ｃ₂〜Ｃ₄アルキニ
   ル基、フェニル基、フェノキシ基（これらのフェニル基
   およびフェノキシ基はフルオロメチル、トリフルオロメ
   チル又はトリフルオロメトキシ基で置換されていてもよ
   い）、Ｃ₁〜Ｃ₄低級アルコキシ基又は式ＯＲ²（ここで
   Ｒ²の定義は上記に同じである）で表わされる基である
   特許請求の範囲第１項記載の方法。
3. 【請求項３】上記式(2)の有機リチウム化合物が上記式
   (2)においてＲＢが置換もしくは非置換のＣ₂〜Ｃ₁₀アル
   キル基であり、そしてその置換基がＣ₃〜Ｃ₇シクロアル
   キル基、ビニル基、Ｃ₂〜Ｃ₄アルキニル基、フェニル
   基、フェノキシ基（これらのフェニル基およびフェノキ
   シ基はフルオロメチル、トリフルオロメチル又はトリフ
   ルオロメトキシ基で置換されていれもよい）、Ｃ₁〜Ｃ₄
   低級アルコキシ基又は式ＯＲ²（ここでＲ²の定義は上記
   に同じである）で表わされる基である特許請求の範囲第
   １項記載の方法。
4. 【請求項４】上記式(2)の有機リチウム化合物が下記式
   (2)−Ａ ［ここで、Ｒ³はトリ（Ｃ₁〜Ｃ₇）炭化水素シリル基又
   はＯＲ³でアセタール結合を表わす基である。］ で表わされる特許請求の範囲第１項〜第３項のいずれか
   １項記載の方法。
5. 【請求項５】上記式(4)で表わされる有機スズ化合物
   が、上記式(4)において、Ｒが同一もしくは異なり、ブ
   チル基、シクロヘキシル基又はフエニル基であるもので
   ある特許請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１項記載
   の方法。