[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPH06333998A - Manufacture of tab tape and manufacture of lead frame - Google Patents

Manufacture of tab tape and manufacture of lead frame

Info

Publication number
JPH06333998A
JPH06333998A JP11842393A JP11842393A JPH06333998A JP H06333998 A JPH06333998 A JP H06333998A JP 11842393 A JP11842393 A JP 11842393A JP 11842393 A JP11842393 A JP 11842393A JP H06333998 A JPH06333998 A JP H06333998A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor pattern
metal
tab tape
layer
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11842393A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumio Kuraishi
文夫 倉石
Norio Wada
則雄 和田
Kazuhito Yumoto
和仁 湯本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Industries Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Electric Industries Co Ltd filed Critical Shinko Electric Industries Co Ltd
Priority to JP11842393A priority Critical patent/JPH06333998A/en
Publication of JPH06333998A publication Critical patent/JPH06333998A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the manufacture of a TAB tape, which can mold conductor patterns having enough strength and at narrow pitches by etching method. CONSTITUTION:When manufacturing a TAB tape, where a conductor pattern with a specified thickness is made on the film 12 consisting of polyimide, a protective resist layer 16 in specified pattern is formed on a copper foil 10 thinner than the conductor pattern made on one side of a film 10, and then a copper foil 10 is etched to form a conductor pattern body 18 in specified shape. Next, a plated metallic layer 20 is made by electrolytic plating on the periphery of the conductor pattern body 18 being exposed by exfoliating the protective layer 16, thus this is made into a conductor pattern with a specified thickness.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はTABテープの製造方法
及びリードフレームの製造方法に関し、更に詳細には可
撓性の樹脂フィルム上に導体パターンが形成されたTA
Bテープの製造方法、及び金属薄板にエッチングを施し
て得られるリードフレームの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a TAB tape and a method for manufacturing a lead frame, and more specifically, a TA having a conductor pattern formed on a flexible resin film.
The present invention relates to a method for manufacturing a B tape and a method for manufacturing a lead frame obtained by etching a thin metal plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体チップの高集積化や小型化等の進
展に伴い、半導体チップを搭載する図7に示すリードフ
レーム200も多ピン化等が要請され、それに伴いイン
ナーリード202、202・・の微細化も必要になって
いる。この様な多ピン化等の要請に応えることのできる
リードフレームは、インナーリードのピッチ間隔が微細
となり、プレス加工での成形が困難となるため、通常、
エッチング加工によって成形される。かかるエッチング
加工の工程を図10に示す。図10において、先ず、銅
等の金属から成り且つ形成予定のインナーリードの厚さ
と略等しい板厚の金属薄板400を使用し、金属薄板4
00の両面に所望パターンの保護レジスト層402、4
02・・を形成する〔図10(a)〕。次いで、保護レ
ジスト層402、402・・・が形成された金属薄板4
00をエッチング液に浸漬し、金属薄板400の両面か
らエッチングを施す。エッチング液に浸漬された金属薄
板400の両面において、保護レジスト層402に覆わ
れることなく露出している部分が選択的にエッチングさ
れる。この様にエッチングされるエッチング部404、
404は、次第に金属薄板400の内側に進行する〔図
10(b)〕。かかるエッチングが進行してエッチング
部404、404が連結されたとき、インナーリード4
06、406・・が形成される。
2. Description of the Related Art With the progress of high integration and miniaturization of semiconductor chips, the lead frame 200 shown in FIG. 7 on which the semiconductor chips are mounted is also required to have a large number of pins, and the inner leads 202, 202 ... The miniaturization of is also required. In a lead frame that can meet the demand for such a large number of pins, the inner lead pitch interval becomes fine, and molding by press working becomes difficult.
It is formed by etching. The steps of such etching process are shown in FIG. In FIG. 10, first, a metal thin plate 400 made of a metal such as copper and having a thickness substantially equal to the thickness of inner leads to be formed is used.
00 on both sides of the protective resist layers 402, 4 having a desired pattern.
02 ... Is formed [FIG. 10 (a)]. Next, the metal thin plate 4 on which the protective resist layers 402, 402 ... Are formed.
00 is immersed in an etching solution, and etching is performed from both sides of the metal thin plate 400. On both surfaces of the metal thin plate 400 dipped in the etching solution, the exposed portions without being covered with the protective resist layer 402 are selectively etched. Etching portion 404 etched in this way,
404 gradually advances to the inside of the thin metal plate 400 [Fig. 10 (b)]. When the etching progresses and the etching portions 404 are connected to each other, the inner lead 4
., 406 ... Are formed.

【0003】この様にして得られたリードフレームの微
細なインナーリードと、搭載される半導体チップとの接
続を容易に行うべく、図6に示すTAB(Tape Automate
d Bonding)テープが使用されつつある。図6に示すTA
Bテープ100は、ポリイミド等の樹脂によって形成さ
れた可撓性の樹脂フィルム102上に、銅金属等の金属
から成る導体パターン104、104・・が形成されて
いる。この樹脂フィルム102には、導体パターン10
4が掛け渡されているウインドホール106、及び導体
パターン104の先端部が突出するデバイスホール10
8が設けられている。
In order to easily connect the fine inner leads of the lead frame thus obtained and the mounted semiconductor chip, a TAB (Tape Automate) shown in FIG.
d Bonding) tape is being used. TA shown in FIG.
In the B tape 100, conductor patterns 104, 104, ... Made of metal such as copper metal are formed on a flexible resin film 102 formed of resin such as polyimide. The conductor pattern 10 is formed on the resin film 102.
4 and the device hole 10 in which the tip of the conductor pattern 104 projects.
8 are provided.

【0004】かかるTABテープ100もエッチング加
工によって成形され、その加工工程を図8に示す。先
ず、ポリイミド等の樹脂から成る可撓性の樹脂フィルム
302の片面に、形成予定の導体パターン104、10
4と略等しい厚さの金属箔300を接着剤層304によ
って貼着した後、所望パターンの保護レジスト層30
6、306・・を金属箔300上に形成する。次いで、
保護レジスト層306、306・・が形成された樹脂フ
ィルム302をエッチング液に浸漬し、金属箔300の
片面からエッチングを施す。エッチング液に浸漬された
樹脂フィルム302においては、保護レジスト層306
に覆われることなく露出している金属箔300の部分が
選択的にエッチングされる。この様にエッチングされる
エッチング部308、308・・は、次第に金属箔30
0の内側に進行する〔図8(b)〕。かかるエッチング
が進行してエッチング部308の底部が接着剤層304
に到達し、所定幅の導体パターン310、310・・が
形成されたとき、エッチングは終了する。
The TAB tape 100 is also formed by etching, and the processing steps are shown in FIG. First, the conductor patterns 104, 10 to be formed are formed on one surface of a flexible resin film 302 made of a resin such as polyimide.
4, a metal foil 300 having a thickness substantially equal to that of No. 4 is attached by an adhesive layer 304, and then a protective resist layer 30 having a desired pattern is formed.
.. are formed on the metal foil 300. Then
The resin film 302 having the protective resist layers 306, 306, ... Formed thereon is dipped in an etching solution to perform etching from one side of the metal foil 300. In the resin film 302 dipped in the etching solution, the protective resist layer 306
The portion of the metal foil 300 that is exposed without being covered with the metal is selectively etched. The etching portions 308, 308, ... Etched in this way gradually become the metal foil 30.
It proceeds to the inside of 0 [Fig. 8 (b)]. As the etching progresses, the bottom of the etched portion 308 is moved to the adhesive layer 304.
., And the conductor patterns 310, 310 ... Of a predetermined width are formed, the etching is completed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】図8又は図10に示す
エッチング加工によれば、多ピン化等の要請に応え得る
微細パターンのTABテープ又はリードフレームを成形
することができる。ところで、最近の半導体チップの高
集積化や小型化の一層の進展に伴い、TABテープ及び
リードフレームに更に一層の微細パターン化が要請され
ている。しかし、従来のエッチング加工によって成形し
たTABテープでは、図9に示す如く、形成された導体
パターン310の横断面形状は、上辺が樹脂フィルム3
02に貼着された下辺よりも短い略台形状である。この
ため、半導体チップの端子等とのボンディング面となる
導体パターン310の先端面も狭くなり、ボンディング
性が低下する傾向にある。更に、導体パターン310間
の絶縁を確実にするため、導体パターン310間の最短
距離wを所定距離以上とする必要がある。従って、導体
パターン310間のピッチpは、最短距離wで決定され
る。これらのことから、従来のTABテープの製造方法
では、TABテープの導体パターン310の更に一層の
狭ピッチ化は困難である。一方、金属箔300の厚さを
薄くすることによって、形成される導体パターン310
の横断面形状を矩形に近づけることができるが、導体パ
ターン310の強度が不充分となり変形し易くなるた
め、TABテープの取扱が困難となる。
According to the etching process shown in FIG. 8 or FIG. 10, it is possible to form a TAB tape or a lead frame having a fine pattern which can meet the demands for increasing the number of pins. By the way, with the recent progress in high integration and miniaturization of semiconductor chips, further fine patterning of TAB tapes and lead frames is required. However, in the conventional TAB tape formed by the etching process, as shown in FIG. 9, the cross-sectional shape of the formed conductor pattern 310 is such that the upper side is the resin film 3
It has a substantially trapezoidal shape that is shorter than the lower side attached to 02. For this reason, the tip surface of the conductor pattern 310, which is the bonding surface with the terminals of the semiconductor chip, etc., also becomes narrow, and the bondability tends to deteriorate. Furthermore, in order to ensure the insulation between the conductor patterns 310, it is necessary to set the shortest distance w between the conductor patterns 310 to a predetermined distance or more. Therefore, the pitch p between the conductor patterns 310 is determined by the shortest distance w. For these reasons, it is difficult to further reduce the pitch of the conductor pattern 310 of the TAB tape by the conventional method of manufacturing the TAB tape. On the other hand, the conductor pattern 310 formed by reducing the thickness of the metal foil 300.
Although it is possible to make the cross-sectional shape of the TAB tape close to a rectangle, the strength of the conductor pattern 310 becomes insufficient and the conductor pattern 310 is easily deformed, which makes it difficult to handle the TAB tape.

【0006】また、エッチング加工によって成形したリ
ードフレームでは、図11に示す如く、インナーリード
406の側面に突起部408、408・・が形成され
る。このため、インナーリード406間の絶縁を確実と
すべく、インナーリード406間の最短距離Wを所定距
離以上に保つことを要するため、インナーリード406
間のピッチPは最短距離Wによって決定される。更に、
突起部408は、エッチングを施す金属薄板400の板
厚Tが厚くなるに従い大となるため、充分な強度を有す
るインナーリードを形成せんとすると狭ピッチのインナ
ーリードを形成することが困難となる。一方、金属薄板
400を薄くすることによって、形成されるインナーリ
ード406の横断面形状を矩形に近づけることができる
が、インナーリード406の強度が不充分となり変形し
易くなるため、リードフレームの取扱が困難となる。こ
の様に、従来のエッチング加工によるTABテープ及び
リードフレームの製造方法では、充分な強度を有し且つ
狭ピッチの導体パターン又はインナーリードを具備する
TABテープ又はリードフレームを得ることはできなか
った。そこで、本発明の目的は、充分な強度を有し且つ
狭ピッチの導体パターン又はインナーリードをエッチン
グ方法によって成形し得るTABテープの製造方法及び
リードフレームの製造方法を提供することにある。
Further, in the lead frame formed by etching, projections 408, 408, ... Are formed on the side surfaces of the inner lead 406, as shown in FIG. Therefore, in order to ensure the insulation between the inner leads 406, it is necessary to keep the shortest distance W between the inner leads 406 to a predetermined distance or more.
The pitch P between is determined by the shortest distance W. Furthermore,
Since the protruding portion 408 becomes larger as the plate thickness T of the metal thin plate 400 to be etched becomes thicker, it becomes difficult to form the inner lead having a narrow pitch if the inner lead having sufficient strength is not formed. On the other hand, by thinning the metal thin plate 400, the cross-sectional shape of the inner lead 406 to be formed can be approximated to a rectangle, but the strength of the inner lead 406 is insufficient and the inner lead 406 is easily deformed. It will be difficult. As described above, in the conventional method of manufacturing a TAB tape and a lead frame by etching, it was not possible to obtain a TAB tape or a lead frame having a sufficient strength and having a narrow pitch conductor pattern or inner leads. Therefore, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a TAB tape and a method of manufacturing a lead frame, which has a sufficient strength and can form a conductor pattern or inner leads having a narrow pitch by an etching method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記目的
を達成すべく検討を重ねた結果、板厚の薄い金属箔又は
金属薄板にエッチングで微細な導体パターン本体又はイ
ンナーリード本体を形成した後、電解めっきによって導
体パターン本体又はインナーリード本体にめっき金属層
を形成し、所定の厚さの導体パターン又はインナーリー
ドとすることによって、充分な強度を付与しつつ狭ピッ
チの導体パターンやインナーリードを形成できることを
見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明は、可撓
性の樹脂フィルム上に導体パターンが形成されたTAB
テープを製造する際に、該樹脂フィルムの片面に、形成
予定の導体パターンの厚さよりも薄い金属層を形成した
後、前記金属層上に所望パターンの保護レジスト層を形
成してからエッチングを施して所望形状の導体パターン
本体を得、次いで、所定厚さの導体パターンを形成すべ
く、前記保護レジスト層を剥離して露出した導体パター
ン本体の周面に、めっきによってめっき金属層を形成す
ることを特徴とするTABテープの製造方法にある。か
かる構成の本発明において、エッチングを施す金属層
を、可撓性の樹脂フィルムに接着剤層を介して貼着した
金属箔とすること、或いはエッチングを施す金属層が形
成された樹脂フィルムを、金属箔にキャスティングによ
って直接接合された可撓性の樹脂フィルムとすることに
よって、安価にTABテープを製造できる。
The inventors of the present invention have conducted extensive studies to achieve the above-mentioned object, and as a result, formed a fine conductor pattern body or inner lead body on a thin metal foil or thin metal plate by etching. After that, a plated metal layer is formed on the conductor pattern body or the inner lead body by electrolytic plating to form a conductor pattern or an inner lead having a predetermined thickness, so that a conductor pattern or an inner conductor with a narrow pitch can be provided with sufficient strength. The inventors have found that leads can be formed and have reached the present invention. That is, the present invention provides a TAB in which a conductor pattern is formed on a flexible resin film.
When manufacturing a tape, on one surface of the resin film, after forming a metal layer thinner than the thickness of the conductor pattern to be formed, forming a protective resist layer of a desired pattern on the metal layer, and then etching. To obtain a conductor pattern body having a desired shape, and then to form a plated metal layer on the peripheral surface of the conductor pattern body exposed by peeling off the protective resist layer in order to form a conductor pattern having a predetermined thickness. And a method for manufacturing a TAB tape. In the present invention having such a configuration, the metal layer to be etched is a metal foil attached to a flexible resin film via an adhesive layer, or a resin film having a metal layer to be etched is formed, The TAB tape can be manufactured at low cost by using a flexible resin film directly bonded to the metal foil by casting.

【0008】また、本発明は、金属薄板にエッチングを
施すことによって、所定形状のインナーリードが形成さ
れたリードフレームを製造する際に、該金属薄板とし
て、形成予定のインナーリードの厚さよりも薄い金属薄
板を使用すると共に、前記金属薄板上に所望パターンの
保護レジスト層を形成した後、前記金属薄板にエッチン
グを施して所望形状のインナーリード本体を得、次い
で、所定厚さのインナーリードを形成すべく、前記保護
レジスト層を剥離して露出したインナーリード本体の周
面に、めっきによってめっき金属層を形成することを特
徴とするリードフレームの製造方法でもある。かかる構
成の本発明において、金属薄板の両面に保護レジスト層
を形成した後、前記金属薄板の両面からエッチングを施
すことによって、形成されるインナーリードの側面に突
出する突起部を小さくでき、インナーリードの横断面形
状を可及的に矩形とすることができる。
Further, according to the present invention, when a lead frame in which inner leads of a predetermined shape are formed by etching a thin metal plate is used, the thin metal plate is thinner than the inner lead to be formed. While using a metal thin plate, after forming a protective resist layer of a desired pattern on the metal thin plate, etching the metal thin plate to obtain an inner lead body of a desired shape, and then forming an inner lead of a predetermined thickness Therefore, in the lead frame manufacturing method, a plated metal layer is formed by plating on the peripheral surface of the inner lead body exposed by peeling off the protective resist layer. In the present invention having such a configuration, by forming protective resist layers on both sides of the metal thin plate and then performing etching from both sides of the metal thin plate, it is possible to reduce the protrusion protruding to the side surface of the inner lead to be formed. The cross-sectional shape of can be as rectangular as possible.

【0009】[0009]

【作用】従来、エッチング加工によってTABテープ又
はリードフレーム(以下、TABテープ等と称すること
がある)を製造する際に、狭ピッチの導体パターン又は
インナーリード(以下、導体パターン等と称することが
ある)のTABテープ等を得ようとすると、エッチング
を施す金属層等の厚さを薄くすることを要するが、形成
された導体パターン等の強度が低下し導体パターン等が
変形し易くなるため、得られたTABテープ等の取り扱
いが困難となる。一方、金属層等の厚さを厚くすると、
形成された導体パターン等の強度の低下を防止できるも
のの、導体パターン等の横断面形状が略台形となるた
め、狭ピッチの導体パターン等を具備するTABテープ
等の製造が困難となる。
Conventionally, when a TAB tape or a lead frame (hereinafter sometimes referred to as a TAB tape or the like) is manufactured by etching, a narrow-pitch conductor pattern or inner lead (hereinafter sometimes referred to as a conductor pattern or the like). In order to obtain the TAB tape or the like in), it is necessary to reduce the thickness of the metal layer or the like to be etched, but the strength of the formed conductor pattern or the like decreases and the conductor pattern or the like is easily deformed. It becomes difficult to handle the obtained TAB tape or the like. On the other hand, if you increase the thickness of the metal layer,
Although it is possible to prevent the strength of the formed conductor pattern or the like from being reduced, it is difficult to manufacture a TAB tape or the like having a conductor pattern of a narrow pitch because the cross-sectional shape of the conductor pattern or the like is substantially trapezoidal.

【0010】この点、本発明においては、形成予定の導
体パターン等の厚さよりも薄い金属層等にエッチングを
施して所望パターンの導体パターン本体等を成形するた
め、成形された導体パターン本体等の横断面形状を略矩
形とすることができる。このため、最終的に狭ピッチの
導体パターン等を容易に形成できる。しかも、成形され
た狭ピッチの導体パターン本体等の周面にめっきによっ
てめっき金属層を形成し、所定の厚さの導体パターン等
とする。このため、本発明によれば、狭ピッチで且つ所
定強度に維持された導体パターン等を容易に形成できる
と共に、半導体チップ等とのボンディング面となる導体
パターン等の先端面も広くできるため、ボンディング性
の向上を図ることもできる。この様に、本発明によれ
ば、充分な強度を有しつつ狭ピッチの導体パターン等を
形成できるという、従来のエッチング加工によるTAB
テープの製造方法では奏し得なかった、二律背反的な効
果を同時に奏することができるのである。
In this respect, according to the present invention, a metal layer or the like which is thinner than the thickness of the conductor pattern to be formed is etched to form the conductor pattern body or the like having a desired pattern. The cross-sectional shape can be substantially rectangular. Therefore, finally, a conductor pattern or the like having a narrow pitch can be easily formed. In addition, a plated metal layer is formed by plating on the peripheral surface of the formed narrow-pitch conductor pattern body or the like to form a conductor pattern or the like having a predetermined thickness. Therefore, according to the present invention, it is possible to easily form a conductor pattern or the like that has a narrow pitch and is maintained at a predetermined strength, and it is also possible to widen the tip surface of the conductor pattern or the like that is a bonding surface with a semiconductor chip or the like. It is also possible to improve the sex. As described above, according to the present invention, a TAB formed by a conventional etching process that can form a conductor pattern or the like with a narrow pitch while having sufficient strength.
It is possible to simultaneously achieve an antinomy effect that cannot be achieved by the tape manufacturing method.

【0011】[0011]

【実施例】本発明を図面をによって更に詳細に説明す
る。図1は、本発明に係る一実施例の概略を説明するた
めの説明図であり、TABテープの製造工程を示す。先
ず、ポリイミドフィルム12の片面に銅箔10を接着剤
層14を介して貼着する〔図1(a)〕。この銅箔10
は、形成予定の導体パターンの厚さよりも薄いものであ
る。次いで、銅箔10上に所望パターンの保護レジスト
層16を形成した後〔図1(a)〕、ポリイミドフィル
ム12をエッチング液中に浸漬して銅箔10の露出部分
をエッチングして導体パターン本体18を成形し〔図1
(b)〕、更に保護レジスト層16を剥離する〔図1
(c)〕。この際に、銅箔10は、形成予定の導体パタ
ーンの厚さよりも薄いため、導体パターン本体18の横
断面形状を略矩形とすることができる。
The present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory view for explaining the outline of one embodiment according to the present invention, showing a manufacturing process of a TAB tape. First, the copper foil 10 is attached to one surface of the polyimide film 12 via the adhesive layer 14 (FIG. 1A). This copper foil 10
Is thinner than the thickness of the conductor pattern to be formed. Then, after forming the protective resist layer 16 having a desired pattern on the copper foil 10 [FIG. 1 (a)], the polyimide film 12 is immersed in an etching solution to etch the exposed portion of the copper foil 10 to form a conductor pattern body. 18 is molded [Fig. 1
(B)] Further, the protective resist layer 16 is peeled off [FIG.
(C)]. At this time, since the copper foil 10 is thinner than the thickness of the conductor pattern to be formed, the cross-sectional shape of the conductor pattern main body 18 can be made substantially rectangular.

【0012】本実施例においては、銅箔10をエッチン
グして成形した導体パターン本体18に銅の電解めっき
を施す。かかる電解めっきによって、図1(d)に示す
様に、導体パターン本体18の周面にめっき金属層20
を形成でき、所定の厚さ及び幅の導体パターンが得ら
れ、導体パターンに所定の強度を付与できる。このめっ
き金属層20の厚さは、7〜8μm程度とすることが好
ましい。この様にして得られた導体パターンは、図2に
示す様に、導体パターン間の間隙Sを導体パターンの厚
さHよりも狭くでき、且つ所定の強度も有することがで
きる。更に、導体パターンの横断面形状が略矩形である
ため、横断面形状が略台形の従来の導体パターンに比較
して、ボンディング面となる先端面を広くとることがで
き、ボンディング性も向上できる。
In this embodiment, the conductor pattern body 18 formed by etching the copper foil 10 is electrolytically plated with copper. By such electroplating, as shown in FIG. 1D, the plated metal layer 20 is formed on the peripheral surface of the conductor pattern body 18.
Can be formed, a conductor pattern having a predetermined thickness and width can be obtained, and a predetermined strength can be imparted to the conductor pattern. The thickness of the plated metal layer 20 is preferably about 7-8 μm. In the conductor pattern thus obtained, as shown in FIG. 2, the gap S between the conductor patterns can be made narrower than the thickness H of the conductor pattern and can also have a predetermined strength. Furthermore, since the cross-sectional shape of the conductor pattern is substantially rectangular, the tip end surface serving as a bonding surface can be made wider and the bondability can be improved as compared with the conventional conductor pattern having a substantially trapezoidal cross-sectional shape.

【0013】図1に示すTABテープの製造工程におい
て、プレス加工を施してデバイスホールやウインドホー
ル等のホールを形成したポリイミドフィルム12に銅箔
10を貼着し、次いで銅箔10にエッチングを施す場合
がある。この場合、図3(a)に示す様に、ホール24
に裏止めレジスト24を充填し、銅箔10の片面にエッ
チングを施して導体パターン本体18を形成する〔図3
(b)〕。次いで、保護レジスト層16及び裏止めレジ
スト24を除去し、ホール22に臨む導体パターン本体
18の全周を露出する〔図3(c)〕。その後、露出し
た導体パターン本体18の全周に亘り電解めっきによっ
てめっき金属層20を形成して導体パターンとする〔図
3(d)〕。この様にホール22に臨む導体パターン本
体18の全周に亘りめっき金属層20が形成された導体
パターンは、所定の強度が付与され変形し難くなるた
め、TABテープの取扱を容易とすることができる。
In the process of manufacturing the TAB tape shown in FIG. 1, the copper foil 10 is attached to the polyimide film 12 which has been pressed to form holes such as device holes and window holes, and then the copper foil 10 is etched. There are cases. In this case, as shown in FIG.
Then, the backing resist 24 is filled in and the one side of the copper foil 10 is etched to form the conductor pattern main body 18 [FIG.
(B)]. Next, the protective resist layer 16 and the backing resist 24 are removed to expose the entire circumference of the conductor pattern body 18 facing the hole 22 [FIG. 3 (c)]. After that, the plated metal layer 20 is formed by electrolytic plating over the entire circumference of the exposed conductor pattern main body 18 to form a conductor pattern [FIG. 3 (d)]. In this way, the conductor pattern in which the plated metal layer 20 is formed over the entire circumference of the conductor pattern main body 18 facing the hole 22 is given a predetermined strength and becomes difficult to be deformed, so that the TAB tape can be easily handled. it can.

【0014】ところで、TABテープには、図1〜図3
に示す様に、ポリイミドフィルム12と銅箔10とを接
着剤層14によって接合した三層構造の複合フィルム体
にエッチング加工して得られる、いわゆる三層TABテ
ープと、銅箔10にポリイミドフィルム12をキャステ
ィングによって接着剤を使用することなく直接接合した
二層構造の複合フィルム体にエッチング加工して得られ
る、いわゆる二層TABテープとがある。図1〜図3に
示す本実施例のエッチンク加工は、前記三層TABテー
プ及び二層TABテープのいずれの製造にも適用でき
る。
By the way, the TAB tape is shown in FIGS.
As shown in, a so-called three-layer TAB tape obtained by etching a composite film body having a three-layer structure in which the polyimide film 12 and the copper foil 10 are joined by the adhesive layer 14, and the polyimide film 12 on the copper foil 10. There is a so-called two-layer TAB tape obtained by etching a composite film body having a two-layer structure directly bonded by casting without using an adhesive. The etching process of the present embodiment shown in FIGS. 1 to 3 can be applied to the production of both the three-layer TAB tape and the two-layer TAB tape.

【0015】また、多ピン化要請に応え得る微細化され
たインナーリードを具備するリードフレームは、図4に
示すエッチング加工によって製造できる。図4におい
て、先ず、形成予定のインナーリードよりも板厚の薄い
金属薄板50の両面に、所望パターンの保護レジスト層
52、52・・を形成する〔図4(a)〕。その後、金
属薄板50の両面にエッチングを施して所望形状のイン
ナーリード本体54、54・・を形成する〔図4
(b)〕。本実施例において使用する金属薄板50は、
形成予定のインナーリードの厚さよりも薄いものである
ため、形成された各インナーリード本体54の側面の突
起部55は小さく、インナーリード本体54の横断面形
状を実質的に矩形とすることができる。更に、保護レジ
スト層52、52を剥離した後〔図4(c)〕、露出し
たインナーリード本体54、54・・・に銅の電解めっ
きを施し、各インナーリード本体54の全周に亘り所定
厚さのめっき金属層56を形成する〔図4(d)〕。こ
のめっき金属層56は、10〜15μm程度の厚さとす
ることが好ましい。
Further, the lead frame having the miniaturized inner leads that can meet the demand for the increased number of pins can be manufactured by the etching process shown in FIG. 4, first, protective resist layers 52, 52, ... With a desired pattern are formed on both surfaces of a metal thin plate 50 having a thickness smaller than that of the inner lead to be formed [FIG. 4 (a)]. After that, both surfaces of the metal thin plate 50 are etched to form the inner lead bodies 54, 54 ... Having a desired shape [Fig.
(B)]. The metal thin plate 50 used in this embodiment is
Since the inner leads to be formed are thinner than the thickness of the inner leads to be formed, the protrusions 55 on the side surfaces of the formed inner lead bodies 54 are small, and the inner cross section of the inner lead bodies 54 can be substantially rectangular. . Further, after the protective resist layers 52, 52 are peeled off [FIG. 4 (c)], the exposed inner lead bodies 54, 54 ... Are electrolytically plated with copper so that the inner lead bodies 54 have a predetermined circumference. A plated metal layer 56 having a thickness is formed [FIG. 4 (d)]. The plated metal layer 56 preferably has a thickness of about 10 to 15 μm.

【0016】この様にして得られたリードフレームのイ
ンナーリードは、図5に示す様に、その厚さTを金属薄
板50よりも厚くすることができ、インナーリードに所
定の強度を付与できる。しかも、形成予定のインナーリ
ードの厚さよりも薄い金属薄板50を使用するため、イ
ンナーリード本体54を狭ピッチで形成でき、最終的に
形成されるインナーリード間の間隙距離Dも狭くするこ
とができる。このため、本実施例によれば、インナーリ
ードを所定の厚さに保持できることと相俟って、充分な
強度を保持し且つ狭ピッチのインナーリードを具備する
リードフレームを得ることができる。上述した本実施例
においては、めっき金属層を形成するために銅の電解め
っきを採用したが、銅の無電解めっきによっても所定厚
さのめっき金属層を形成できる。かかる無電解めっき
は、例えばCuSO4 ・6H2O、NCOHO 、EDTA・2NA 等が配合
され、pH値が12.0〜12.6の公知の厚付け可能
な無電解めっき液を用い、温度70〜90℃の条件下で
行うことができる。
The inner lead of the lead frame thus obtained, as shown in FIG. 5, can be made thicker than the metal thin plate 50, and can give a predetermined strength to the inner lead. Moreover, since the metal thin plate 50 thinner than the thickness of the inner leads to be formed is used, the inner lead bodies 54 can be formed with a narrow pitch, and the gap distance D between the finally formed inner leads can be narrowed. . Therefore, according to the present embodiment, in combination with the fact that the inner leads can be held at a predetermined thickness, it is possible to obtain a lead frame that has sufficient strength and is provided with inner leads with a narrow pitch. In the above-described embodiment, copper electroplating is used to form the plated metal layer, but electroless plating of copper can also be used to form the plated metal layer with a predetermined thickness. For such electroless plating, for example, CuSO 4 .6H 2 O, NCOHO, EDTA.2NA, etc. are blended, and a known thickable electroless plating solution having a pH value of 12.0 to 12.6 is used and the temperature is 70 It can be performed under the condition of ~ 90 ° C.

【0017】[0017]

【発明の効果】本発明によれば、狭ピッチで且つ所定強
度の導体パターン又はインナーリードを具備するTAB
テープ又はリードフレームを容易に得ることができるた
め、工業的に多ピン化要請に応えることができる。
According to the present invention, a TAB having a conductor pattern or inner leads having a narrow pitch and a predetermined strength.
Since the tape or the lead frame can be easily obtained, it is possible to industrially meet the demand for increasing the number of pins.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のTABテープの製造方法に係る一実施
例を示す工程図である。
FIG. 1 is a process drawing showing an example of a method for producing a TAB tape of the present invention.

【図2】図1に示す製造方法によって得られたTABテ
ープを構成する導体パターンの横断面形状を示す断面図
である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a cross-sectional shape of a conductor pattern forming the TAB tape obtained by the manufacturing method shown in FIG.

【図3】本発明のTABテープの製造方法に係る他の実
施例を示す工程図である。
FIG. 3 is a process drawing showing another embodiment of the TAB tape manufacturing method of the present invention.

【図4】本発明のリードフレームの製造方法に係る一実
施例を示す工程図である。
FIG. 4 is a process drawing showing an embodiment of the method for manufacturing a lead frame of the present invention.

【図5】図4に示す製造方法によって得られたリードフ
レームを構成するインナーリードの横断面形状を示す断
面図である。
5 is a cross-sectional view showing a cross-sectional shape of an inner lead that constitutes the lead frame obtained by the manufacturing method shown in FIG.

【図6】TABテープの一例を示す正面図である。FIG. 6 is a front view showing an example of a TAB tape.

【図7】リードフレームの一例を示す正面図である。FIG. 7 is a front view showing an example of a lead frame.

【図8】従来のTABテープの製造方法を説明するため
の工程図である。
FIG. 8 is a process drawing for explaining a conventional TAB tape manufacturing method.

【図9】図8に示す製造方法によって得られたTABテ
ープを構成する導体パターンの横断面形状を示す断面図
である。
9 is a cross-sectional view showing a cross-sectional shape of a conductor pattern forming the TAB tape obtained by the manufacturing method shown in FIG.

【図10】従来のリードフレームの製造方法を説明する
ための工程図である。
FIG. 10 is a process chart for explaining a conventional lead frame manufacturing method.

【図11】図10に示す製造方法によって得られたリー
ドフレームを構成するインナーリードの横断面形状を示
す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a cross-sectional shape of an inner lead forming the lead frame obtained by the manufacturing method shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 銅箔(金属層) 12 ポリイミドフィルム(樹脂フィルム) 16 保護レジスト層 18 導体パターン本体 20 めっき金属層 50 金属薄板 52 保護レジスト層 54 インナーリード本体 56 めっき金属層 10 copper foil (metal layer) 12 polyimide film (resin film) 16 protective resist layer 18 conductor pattern body 20 plated metal layer 50 metal thin plate 52 protective resist layer 54 inner lead body 56 plated metal layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 可撓性の樹脂フィルム上に導体パターン
が形成されたTABテープを製造する際に、 該樹脂フィルムの片面に、形成予定の導体パターンの厚
さよりも薄い金属層を形成した後、前記金属層上に所望
パターンの保護レジスト層を形成してからエッチングを
施して所望形状の導体パターン本体を得、 次いで、所定厚さの導体パターンを形成すべく、前記保
護レジスト層を剥離して露出した導体パターン本体の周
面に、めっきによってめっき金属層を形成することを特
徴とするTABテープの製造方法。
1. When manufacturing a TAB tape in which a conductor pattern is formed on a flexible resin film, a metal layer thinner than the thickness of the conductor pattern to be formed is formed on one surface of the resin film. , Forming a protective resist layer having a desired pattern on the metal layer, and then performing etching to obtain a conductor pattern main body having a desired shape, and then peeling off the protective resist layer to form a conductor pattern having a predetermined thickness. A method for producing a TAB tape, which comprises forming a plated metal layer on the peripheral surface of the exposed conductor pattern body by plating.
【請求項2】 エッチングを施す金属層が、可撓性の樹
脂フィルムに接着剤層を介して貼着した金属箔である請
求項1記載のTABテープの製造方法。
2. The method for producing a TAB tape according to claim 1, wherein the metal layer to be etched is a metal foil attached to a flexible resin film via an adhesive layer.
【請求項3】 エッチングを施す金属層が形成された樹
脂フィルムが、金属箔にキャスティングによって直接接
合された可撓性の樹脂フィルムである請求項1記載のT
ABテープの製造方法。
3. The T according to claim 1, wherein the resin film on which the metal layer to be etched is formed is a flexible resin film directly bonded to the metal foil by casting.
AB tape manufacturing method.
【請求項4】 金属薄板にエッチングを施すことによっ
て、所定形状のインナーリードが形成されたリードフレ
ームを製造する際に、 該金属薄板として、形成予定のインナーリードの厚さよ
りも薄い金属薄板を使用すると共に、 前記金属薄板上に所望パターンの保護レジスト層を形成
した後、前記金属薄板にエッチングを施して所望形状の
インナーリード本体を得、 次いで、所定厚さのインナーリードを形成すべく、前記
保護レジスト層を剥離して露出したインナーリード本体
の周面に、めっきによってめっき金属層を形成すること
を特徴とするリードフレームの製造方法。
4. When manufacturing a lead frame in which inner leads of a predetermined shape are formed by etching a thin metal plate, a thin metal plate thinner than the thickness of the inner lead to be formed is used as the thin metal plate. In addition, after forming a protective resist layer of a desired pattern on the metal thin plate, the metal thin plate is subjected to etching to obtain an inner lead body of a desired shape, and then, to form an inner lead of a predetermined thickness, A method for manufacturing a lead frame, comprising forming a plated metal layer by plating on the peripheral surface of the inner lead body exposed by peeling off the protective resist layer.
【請求項5】 金属薄板の両面に保護レジスト層を形成
した後、前記金属薄板の両面からエッチングを施す請求
項4記載のリードフレームの製造方法。
5. The method of manufacturing a lead frame according to claim 4, wherein after forming protective resist layers on both sides of the metal thin plate, etching is performed from both sides of the metal thin plate.
JP11842393A 1993-05-20 1993-05-20 Manufacture of tab tape and manufacture of lead frame Pending JPH06333998A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11842393A JPH06333998A (en) 1993-05-20 1993-05-20 Manufacture of tab tape and manufacture of lead frame

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11842393A JPH06333998A (en) 1993-05-20 1993-05-20 Manufacture of tab tape and manufacture of lead frame

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06333998A true JPH06333998A (en) 1994-12-02

Family

ID=14736279

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11842393A Pending JPH06333998A (en) 1993-05-20 1993-05-20 Manufacture of tab tape and manufacture of lead frame

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06333998A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001284749A (en) * 2000-03-29 2001-10-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Printed wiring board
JPWO2005015966A1 (en) * 2003-08-12 2006-10-12 株式会社フジクラ Printed wiring board and manufacturing method thereof
JP2016125072A (en) * 2014-12-26 2016-07-11 Towa株式会社 Method for producing metal product

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001284749A (en) * 2000-03-29 2001-10-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Printed wiring board
JPWO2005015966A1 (en) * 2003-08-12 2006-10-12 株式会社フジクラ Printed wiring board and manufacturing method thereof
US7776199B2 (en) 2003-08-12 2010-08-17 Fujikura Ltd. Printed wiring board and production method thereof
JP2016125072A (en) * 2014-12-26 2016-07-11 Towa株式会社 Method for producing metal product

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI500131B (en) Method of forming substrate for semiconductor element and semiconductor device
JP2002009196A (en) Manufacturing method of semiconductor device
TWI462253B (en) Lead frame board, method of forming the same
JP2010080889A (en) Lead frame and method of manufacturing the same
JPH07211836A (en) Lead frame and its manufacture
US4564423A (en) Permanent mandrel for making bumped tapes and methods of forming
KR101082778B1 (en) Method of fabricating a fine-pitch printed circuit board
JP2861841B2 (en) Lead frame manufacturing method
JPH06333998A (en) Manufacture of tab tape and manufacture of lead frame
JPS61288489A (en) Manufacture of molded circuit board
JP3661343B2 (en) Semiconductor device substrate and method of manufacturing the same
JP4620584B2 (en) Circuit member manufacturing method
JP2853516B2 (en) Lead frame and manufacturing method thereof
JP2002164390A (en) Tape carrier and its manufacturing method
JP2003078076A (en) Semiconductor device and manufacturing method therefor
JP3136194B2 (en) Lead frame manufacturing method
JPH05183083A (en) Lead frame and its manufacturing method
JPS61102093A (en) Manufacture of printed circuit board
JPH01147848A (en) Manufacture of lead frame for ic
KR100828490B1 (en) Method of manufactuning leadframe
JPH05160319A (en) Lead frame and manufacture thereof
JPH06177304A (en) Lead frame
JP2003023236A (en) Wiring board and its manufacturing method
JP2005229008A (en) Printed wiring board and its manufacturing method
JPH02121387A (en) Manufacture of electronic circuit device