JPH06279697A - 光吸収化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 - Google Patents
光吸収化合物及びそれを含有してなる光記録媒体Info
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- JPH06279697A JPH06279697A JP5140757A JP14075793A JPH06279697A JP H06279697 A JPH06279697 A JP H06279697A JP 5140757 A JP5140757 A JP 5140757A JP 14075793 A JP14075793 A JP 14075793A JP H06279697 A JPH06279697 A JP H06279697A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式(I)
Dye−(OR1)(OR2)(OR3)・・・(ORn) (I)
〔式(I)中、Dyeは光吸収化合物残基であり、かつ
該残基内に芳香環を有するものを表す。OR1〜ORnは
Dye中の芳香環上にある置換基を示し、それぞれ独立
に(a)置換または未置換の炭素数1〜20の飽和炭化
水素オキシ基、または(b)置換または未置換の炭素数
2〜20の不飽和炭化水素オキシ基を表わす。但し、O
R1〜ORnのうち少なくとも一つは不飽和炭化水素オキ
シ基である。nは1〜10である〕で表される光吸収化
合物、及びそれを記録層中に含有してなる光記録媒体。 【効果】 本発明の光吸収化合物は、不飽和炭化水素オ
キシ基の導入により、通常記録のみならず高速記録及び
高密度記録における感度及び記録特性に優れた光記録媒
体の記録層形成化合物として著しい効果を示した。ま
た、特定の位置に炭素間二重結合を有する不飽和炭化水
素オキシ基の導入により感度及び記録特性が格段に向上
した。
該残基内に芳香環を有するものを表す。OR1〜ORnは
Dye中の芳香環上にある置換基を示し、それぞれ独立
に(a)置換または未置換の炭素数1〜20の飽和炭化
水素オキシ基、または(b)置換または未置換の炭素数
2〜20の不飽和炭化水素オキシ基を表わす。但し、O
R1〜ORnのうち少なくとも一つは不飽和炭化水素オキ
シ基である。nは1〜10である〕で表される光吸収化
合物、及びそれを記録層中に含有してなる光記録媒体。 【効果】 本発明の光吸収化合物は、不飽和炭化水素オ
キシ基の導入により、通常記録のみならず高速記録及び
高密度記録における感度及び記録特性に優れた光記録媒
体の記録層形成化合物として著しい効果を示した。ま
た、特定の位置に炭素間二重結合を有する不飽和炭化水
素オキシ基の導入により感度及び記録特性が格段に向上
した。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、情報記録、表示センサ
ー、保護眼鏡等のオプトエレクトロニクス関連に重要な
役割を果たす光線吸収剤として有用な化合物、それを記
録層に含有してなる光ディスク及び光カード等の光記録
媒体に関する。
ー、保護眼鏡等のオプトエレクトロニクス関連に重要な
役割を果たす光線吸収剤として有用な化合物、それを記
録層に含有してなる光ディスク及び光カード等の光記録
媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体レーザー光は光ディスク、光カー
ド装置等における書き込み及び読み取りのために利用さ
れている。特にこれらの装置で用いられる光記録媒体の
記録方式は、実用レベルとしては通常、光・熱変換を経
たヒートモード記録(熱記録)が採用されており、その
ために記録層として低融点金属、有機高分子、更には融
解、蒸発、分解、あるいは昇華等の物理変化または化学
変化を起こす有機色素が種々提案されている。中でも、
融解、分解等の温度が低い有機色素系は記録感度上好ま
しいことから、シアニン系色素、フタロシアニン系色
素、ナフタロシアニン系色素、アゾ系色素などを中心に
記録層として開発されてきている。
ド装置等における書き込み及び読み取りのために利用さ
れている。特にこれらの装置で用いられる光記録媒体の
記録方式は、実用レベルとしては通常、光・熱変換を経
たヒートモード記録(熱記録)が採用されており、その
ために記録層として低融点金属、有機高分子、更には融
解、蒸発、分解、あるいは昇華等の物理変化または化学
変化を起こす有機色素が種々提案されている。中でも、
融解、分解等の温度が低い有機色素系は記録感度上好ま
しいことから、シアニン系色素、フタロシアニン系色
素、ナフタロシアニン系色素、アゾ系色素などを中心に
記録層として開発されてきている。
【0003】例えば、特開平2−147286号公報に
おいて、記録層にシアニン系色素を含む光記録媒体が提
案されている。しかしながら、この媒体系は長期保存性
及び耐光性に劣り、さらには記録特性も不十分であっ
た。
おいて、記録層にシアニン系色素を含む光記録媒体が提
案されている。しかしながら、この媒体系は長期保存性
及び耐光性に劣り、さらには記録特性も不十分であっ
た。
【0004】アントラキノン色素(例えば、特開昭58
ー224448号公報)、ナフトキノン色素(例えば、
特開昭58−224793号公報)を記録層に含む光記
録媒体も提案されているが、いずれもシアニン系色素と
同様に長期保存性及び耐光性に劣り、記録特性も不十分
であった。
ー224448号公報)、ナフトキノン色素(例えば、
特開昭58−224793号公報)を記録層に含む光記
録媒体も提案されているが、いずれもシアニン系色素と
同様に長期保存性及び耐光性に劣り、記録特性も不十分
であった。
【0005】特開昭61−25886号公報、特開平2
−43269号公報(USP 4,960,538)、
特開平2−296885号公報等においては、記録層に
ナフタロシアニン色素を含む光記録媒体が提案されてい
る。この媒体系では、耐光性は優れるが、記録層の反射
率が低く、記録特性も不十分であった。
−43269号公報(USP 4,960,538)、
特開平2−296885号公報等においては、記録層に
ナフタロシアニン色素を含む光記録媒体が提案されてい
る。この媒体系では、耐光性は優れるが、記録層の反射
率が低く、記録特性も不十分であった。
【0006】また、光記録媒体の記録層にフタロシアニ
ン色素、特にアルコキシ置換フタロシアニンを利用する
技術は、特開昭61−154888号公報(EP 18
6404)、同61−197280号公報、同61−2
46091号公報、同62−39286号公報(USP
4,769,307)、同63−37991号公報、
同63−39388号公報等により広く知られている。
これらの特許に開示されているフタ口シアニン色素を用
いた光記録媒体においては、感度、記録特性において十
分な性能を有しているとは言い難かった。それを改良し
たのが特開平3−62878号公報(USP 5,124,067)
であるが、その改良化合物においても、レーザー光によ
る記録時の誤差が大きく未だ実用上十分ではなかった。
ン色素、特にアルコキシ置換フタロシアニンを利用する
技術は、特開昭61−154888号公報(EP 18
6404)、同61−197280号公報、同61−2
46091号公報、同62−39286号公報(USP
4,769,307)、同63−37991号公報、
同63−39388号公報等により広く知られている。
これらの特許に開示されているフタ口シアニン色素を用
いた光記録媒体においては、感度、記録特性において十
分な性能を有しているとは言い難かった。それを改良し
たのが特開平3−62878号公報(USP 5,124,067)
であるが、その改良化合物においても、レーザー光によ
る記録時の誤差が大きく未だ実用上十分ではなかった。
【0007】特開平2−43269号公報(USP
4,960,538)及び特開平2−296885号公
報においてアルコキシ置換ナフタロシアニン、特開昭6
3−37991号公報において脂肪族炭化水素オキシ置
換フタロシアニン、特開昭63−39388号公報にお
いてはアルケニルチオ置換フタロシアニンの光記録媒体
への利用を提案しているが、発明の詳細な説明及び実施
例において、二重結合を含む不飽和炭化水素オキシまた
はチオ基の記述はなく、無論、本発明における特に炭素
間三重結合または二重結合を含む不飽和炭化水素オキシ
基が光記録媒体の感度、記録特性に効果があると言うこ
とは記載されていない。
4,960,538)及び特開平2−296885号公
報においてアルコキシ置換ナフタロシアニン、特開昭6
3−37991号公報において脂肪族炭化水素オキシ置
換フタロシアニン、特開昭63−39388号公報にお
いてはアルケニルチオ置換フタロシアニンの光記録媒体
への利用を提案しているが、発明の詳細な説明及び実施
例において、二重結合を含む不飽和炭化水素オキシまた
はチオ基の記述はなく、無論、本発明における特に炭素
間三重結合または二重結合を含む不飽和炭化水素オキシ
基が光記録媒体の感度、記録特性に効果があると言うこ
とは記載されていない。
【0008】尚、その他の公知の色素を用いた光記録媒
体の記録特性においても十分な性能を有しているものは
見出されていない。
体の記録特性においても十分な性能を有しているものは
見出されていない。
【0009】光記録媒体への書き込み及び読み出しは4
00〜900nmのレーザー光を利用するので、記録材
料の使用レーザー発振波長近傍における吸収係数、屈折
率等の制御及び書き込み時における精度の良いピット形
成が重要である。このことは、最近願望されている高速
記録、高密度記録においては特に重要である。そのた
め、構造安定性が高く、レーザー発振波長近傍の光に対
して屈折率が高く、分解特性が良好で、かつ感度の高い
光記録媒体用色素の開発が必要となる。ところが従来開
発された光記録媒体用色素は、記録媒体に用いた時、特
に高速記録、高密度記録時の感度(C/N比、最適記録
パワー)、記録特性(ジッター、デビエイション)につ
いて欠点を有するという問題があった。
00〜900nmのレーザー光を利用するので、記録材
料の使用レーザー発振波長近傍における吸収係数、屈折
率等の制御及び書き込み時における精度の良いピット形
成が重要である。このことは、最近願望されている高速
記録、高密度記録においては特に重要である。そのた
め、構造安定性が高く、レーザー発振波長近傍の光に対
して屈折率が高く、分解特性が良好で、かつ感度の高い
光記録媒体用色素の開発が必要となる。ところが従来開
発された光記録媒体用色素は、記録媒体に用いた時、特
に高速記録、高密度記録時の感度(C/N比、最適記録
パワー)、記録特性(ジッター、デビエイション)につ
いて欠点を有するという問題があった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
欠点を改善し、高速記録、高密度記録時においても感度
が高く、記録特性の良好な光記録媒体を提供し得る色素
を供給することである。
欠点を改善し、高速記録、高密度記録時においても感度
が高く、記録特性の良好な光記録媒体を提供し得る色素
を供給することである。
【0011】本発明の他の目的は、それらの色素を用い
た、感度が高く、記録特性の良好な光記録媒体を提供す
ることである。
た、感度が高く、記録特性の良好な光記録媒体を提供す
ることである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前項の問
題点を解決すべく鋭意検討の結果、上述の目的に合う新
規な光吸収化合物を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
題点を解決すべく鋭意検討の結果、上述の目的に合う新
規な光吸収化合物を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【0013】すなわち、本発明は、下記一般式(I) Dye−(OR1)(OR2)(OR3)・・・(ORn) (I) 〔式(I)中、Dyeはジチオール金属錯体系、フタロ
シアニン系、ナフタロシアニン系、ナフトキノン系、ア
ントラキノン系、シアニン系、メロシアニン系、オキソ
ノール系、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、スクワリリウム系、ピリリウム系、キサンテン系、
オキサジン系、アゾ系、インジゴ系、インドアニリン
系、インドフェノール系、スチリル系、スピロピラン
系、フルオラン系、アズレン系の光吸収化合物残基であ
り、かつ該残基内に芳香環を有するものを表す。OR1
〜ORnはDye中の芳香環上にある置換基を示し、そ
れぞれ独立に(a)置換または未置換の炭素数1〜20
の飽和炭化水素オキシ基、または(b)置換または未置
換の炭素数2〜20の不飽和炭化水素オキシ基を表わ
す。但し、OR1〜ORnのうち少なくとも一つは不飽和
炭化水素オキシ基である。nは1〜10である〕で表さ
れる光吸収化合物、及びそれを記録層中に含有してなる
光記録媒体である。
シアニン系、ナフタロシアニン系、ナフトキノン系、ア
ントラキノン系、シアニン系、メロシアニン系、オキソ
ノール系、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、スクワリリウム系、ピリリウム系、キサンテン系、
オキサジン系、アゾ系、インジゴ系、インドアニリン
系、インドフェノール系、スチリル系、スピロピラン
系、フルオラン系、アズレン系の光吸収化合物残基であ
り、かつ該残基内に芳香環を有するものを表す。OR1
〜ORnはDye中の芳香環上にある置換基を示し、そ
れぞれ独立に(a)置換または未置換の炭素数1〜20
の飽和炭化水素オキシ基、または(b)置換または未置
換の炭素数2〜20の不飽和炭化水素オキシ基を表わ
す。但し、OR1〜ORnのうち少なくとも一つは不飽和
炭化水素オキシ基である。nは1〜10である〕で表さ
れる光吸収化合物、及びそれを記録層中に含有してなる
光記録媒体である。
【0014】特に、一般式(I)において、OR1〜O
Rnが分岐した飽和または不飽和炭化水素オキシ基であ
ること、及びOR1〜ORnが不飽和炭化水素オキシ基で
あり、かつ1個以上の二重結合を有し、該二重結合がD
ye芳香環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて2、
3番目の炭素原子間に存在することが好ましい。
Rnが分岐した飽和または不飽和炭化水素オキシ基であ
ること、及びOR1〜ORnが不飽和炭化水素オキシ基で
あり、かつ1個以上の二重結合を有し、該二重結合がD
ye芳香環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて2、
3番目の炭素原子間に存在することが好ましい。
【0015】なお、特に効果の高い光吸収化合物の一つ
として下記一般式(II)
として下記一般式(II)
【0016】
【化5】 〔式(II)中、L1、L2、L3及びL4は、それぞれ独立
したOR基を0〜2個有するベンゼン環またはナフタレ
ン環骨格を表わし、かつL1、L2、L3及びL4のうち少
なくとも1つはOR置換基を1個以上含有する。OR置
換基は(a)炭素数1〜20の置換または未置換の飽和
炭化水素オキシ基または、(b)炭素数2〜20の置換
または未置換の不飽和炭化水素オキシ基を表わす。但
し、L1、L2、L3及びL4に有する全てのOR置換基の
うち少なくとも1つは不飽和炭化水素オキシ基である。
Metは2個の水素原子、2価金属原子、3価1置換金
属原子、4価2置換金属原子、オキシ金属原子を表
す。〕で表される光吸収化合物が挙げられる。
したOR基を0〜2個有するベンゼン環またはナフタレ
ン環骨格を表わし、かつL1、L2、L3及びL4のうち少
なくとも1つはOR置換基を1個以上含有する。OR置
換基は(a)炭素数1〜20の置換または未置換の飽和
炭化水素オキシ基または、(b)炭素数2〜20の置換
または未置換の不飽和炭化水素オキシ基を表わす。但
し、L1、L2、L3及びL4に有する全てのOR置換基の
うち少なくとも1つは不飽和炭化水素オキシ基である。
Metは2個の水素原子、2価金属原子、3価1置換金
属原子、4価2置換金属原子、オキシ金属原子を表
す。〕で表される光吸収化合物が挙げられる。
【0017】特に、一般式(II)において、L1、L2、
L3及びL4に有するOR置換基が分岐した飽和または不
飽和炭化水素オキシ基であること、及びL1、L2、L3
及びL4に有するOR置換基が不飽和炭化水素オキシ基
であり、かつ1個以上の二重結合を有し、該二重結合が
芳香環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて2、3番
目の炭素原子間に存在することが好ましい。
L3及びL4に有するOR置換基が分岐した飽和または不
飽和炭化水素オキシ基であること、及びL1、L2、L3
及びL4に有するOR置換基が不飽和炭化水素オキシ基
であり、かつ1個以上の二重結合を有し、該二重結合が
芳香環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて2、3番
目の炭素原子間に存在することが好ましい。
【0018】更に上記一般式(II)で表わされる化合物
のより好ましい実施態様として次の一般式(III)〜
(V)で表わされる化合物が挙げられる。
のより好ましい実施態様として次の一般式(III)〜
(V)で表わされる化合物が挙げられる。
【0019】
【化6】 〔式(III)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及
びR8は、それぞれ独立に(a)炭素数1〜20の置換
または未置換の飽和炭化水素基または、(b)炭素数2
〜20の置換または未置換の不飽和炭化水素基を表わ
す。但し、R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも1つ
は不飽和炭化水素基である。k,l,m及びnはORの
数を表わすもので、0または1である。Metは2個の
水素原子、2価金属原子、3価1置換金属原子、4価2
置換金属原子、オキシ金属原子を表す。〕で示されるナ
フタロシアニン化合物、特に、一般式(III)において
R1、R 2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8が分岐した
飽和または不飽和炭化水素基であり、かつOR1、O
R2、OR3及びOR4の置換位置が各々1または6、7
または12、13または18、及び19または24のα
位であること、及びR1、R2、R3及びR4のうち少なく
とも1つは、1個以上の二重結合を有し、該二重結合が
ナフタレン環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて
2、3番目の炭素原子間に存在することが好ましい。
びR8は、それぞれ独立に(a)炭素数1〜20の置換
または未置換の飽和炭化水素基または、(b)炭素数2
〜20の置換または未置換の不飽和炭化水素基を表わ
す。但し、R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも1つ
は不飽和炭化水素基である。k,l,m及びnはORの
数を表わすもので、0または1である。Metは2個の
水素原子、2価金属原子、3価1置換金属原子、4価2
置換金属原子、オキシ金属原子を表す。〕で示されるナ
フタロシアニン化合物、特に、一般式(III)において
R1、R 2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8が分岐した
飽和または不飽和炭化水素基であり、かつOR1、O
R2、OR3及びOR4の置換位置が各々1または6、7
または12、13または18、及び19または24のα
位であること、及びR1、R2、R3及びR4のうち少なく
とも1つは、1個以上の二重結合を有し、該二重結合が
ナフタレン環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて
2、3番目の炭素原子間に存在することが好ましい。
【0020】
【化7】 〔式(IV)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及
びR8は、それぞれ独立に(a)炭素数1〜20の置換
または未置換の飽和炭化水素基または、(b)炭素数2
〜20の置換または未置換の不飽和炭化水素基を表わ
す。但し、R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも1つ
は不飽和炭化水素基である。k,l,m及びnはORの
数を表わすもので、0または1である。Metは2個の
水素原子、2価金属原子、3価1置換金属原子、4価2
置換金属原子、オキシ金属原子を表す。〕で示されるナ
フタロシアニン化合物、特に、一般式(IV)においてR
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8が分岐した飽
和または不飽和炭化水素基であり、かつOR1、OR2、
OR3及びOR4の置換位置が各々6、12、18、及び
24のα位であること、及びR1、R2、R3及びR4のう
ち少なくとも1つは、1個以上の二重結合を有し、該二
重結合がナフタレン環結合酸素原子の隣の炭素原子から
数えて2、3番目の炭素原子間に存在することが好まし
い。
びR8は、それぞれ独立に(a)炭素数1〜20の置換
または未置換の飽和炭化水素基または、(b)炭素数2
〜20の置換または未置換の不飽和炭化水素基を表わ
す。但し、R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも1つ
は不飽和炭化水素基である。k,l,m及びnはORの
数を表わすもので、0または1である。Metは2個の
水素原子、2価金属原子、3価1置換金属原子、4価2
置換金属原子、オキシ金属原子を表す。〕で示されるナ
フタロシアニン化合物、特に、一般式(IV)においてR
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8が分岐した飽
和または不飽和炭化水素基であり、かつOR1、OR2、
OR3及びOR4の置換位置が各々6、12、18、及び
24のα位であること、及びR1、R2、R3及びR4のう
ち少なくとも1つは、1個以上の二重結合を有し、該二
重結合がナフタレン環結合酸素原子の隣の炭素原子から
数えて2、3番目の炭素原子間に存在することが好まし
い。
【0021】
【化8】 〔式(V)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及
びR8は、それぞれ独立に(a)炭素数1〜20の置換
または未置換の飽和炭化水素基または、(b)炭素数2
〜20の置換または未置換の不飽和炭化水素基を表わ
す。但し、R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも1つ
は不飽和炭化水素基である。k,l,m及びnはORの
数を表わすもので、0または1である。Metは2個の
水素原子、2価金属原子、3価1置換金属原子、4価2
置換金属原子、オキシ金属原子を表す。〕で示されるフ
タロシアニン化合物、特に、一般式(V)において
R1、R2、R 3、R4、R5、R6、R7及びR8が分岐した
飽和または不飽和炭化水素基であり、かつOR1、O
R2、OR3、OR4、OR5、OR6、OR7及びOR8の
置換位置が各々1、4、5、8、9、12、13及び1
6のα位であること、及びR1、R2、R3及びR4のうち
少なくとも1つは、1個以上の二重結合を有し、該二重
結合がベンゼン環結合酸素原子の隣の炭素原子から数え
て2、3番目の炭素原子間に存在することが好ましい。
またはR1、R2、R3及びR4が不飽和炭化水素基であ
り、1個以上の二重結合を有し、該二重結合がベンゼン
環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて2、3番目の
炭素原子間に存在し、かつk,l,m及びnが0である
こと、またはR1、R2、R3及びR4が二重結合を含有し
ている不飽和炭化水素基であり、OR1、OR2、OR3
及びOR4の置換位置が1又は4位、5又は8位、9又
は12位、及び13又は16位であり、かつk,l,m
及びnが0である光吸収化合物である。
びR8は、それぞれ独立に(a)炭素数1〜20の置換
または未置換の飽和炭化水素基または、(b)炭素数2
〜20の置換または未置換の不飽和炭化水素基を表わ
す。但し、R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも1つ
は不飽和炭化水素基である。k,l,m及びnはORの
数を表わすもので、0または1である。Metは2個の
水素原子、2価金属原子、3価1置換金属原子、4価2
置換金属原子、オキシ金属原子を表す。〕で示されるフ
タロシアニン化合物、特に、一般式(V)において
R1、R2、R 3、R4、R5、R6、R7及びR8が分岐した
飽和または不飽和炭化水素基であり、かつOR1、O
R2、OR3、OR4、OR5、OR6、OR7及びOR8の
置換位置が各々1、4、5、8、9、12、13及び1
6のα位であること、及びR1、R2、R3及びR4のうち
少なくとも1つは、1個以上の二重結合を有し、該二重
結合がベンゼン環結合酸素原子の隣の炭素原子から数え
て2、3番目の炭素原子間に存在することが好ましい。
またはR1、R2、R3及びR4が不飽和炭化水素基であ
り、1個以上の二重結合を有し、該二重結合がベンゼン
環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて2、3番目の
炭素原子間に存在し、かつk,l,m及びnが0である
こと、またはR1、R2、R3及びR4が二重結合を含有し
ている不飽和炭化水素基であり、OR1、OR2、OR3
及びOR4の置換位置が1又は4位、5又は8位、9又
は12位、及び13又は16位であり、かつk,l,m
及びnが0である光吸収化合物である。
【0022】本発明において、二重結合とは芳香環でな
い炭素間二重結合を意味する。
い炭素間二重結合を意味する。
【0023】一般式(I)〜(V)において、置換の飽
和または不飽和の炭化水素オキシ基の置換基としては、
アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アシル基、ヒド
ロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アリール基が挙げられる。
和または不飽和の炭化水素オキシ基の置換基としては、
アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アシル基、ヒド
ロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アリール基が挙げられる。
【0024】一般式(I)〜(V)において、不飽和炭
化水素オキシ基あるいは不飽和炭化水素基は、不飽和結
合である炭素間三重結合及び/または二重結合を1〜4
個含み、炭素間三重結合と二重結合は混在していても良
い。一般式(I),(II)で示される光吸収化合物と
は、400〜900nmの波長の光を吸収する化合物を
示す。さらに一般式(I)〜(V)中、OR基の炭素数
は、2〜20、好ましくは3〜12で、さらに好ましく
は5〜10であり、また光吸収化合物全体として有する
OR基の半分以上が炭素数3〜12または5〜10であ
っても良い。
化水素オキシ基あるいは不飽和炭化水素基は、不飽和結
合である炭素間三重結合及び/または二重結合を1〜4
個含み、炭素間三重結合と二重結合は混在していても良
い。一般式(I),(II)で示される光吸収化合物と
は、400〜900nmの波長の光を吸収する化合物を
示す。さらに一般式(I)〜(V)中、OR基の炭素数
は、2〜20、好ましくは3〜12で、さらに好ましく
は5〜10であり、また光吸収化合物全体として有する
OR基の半分以上が炭素数3〜12または5〜10であ
っても良い。
【0025】本発明の光吸収化合物は、OR基に炭素間
三重結合または炭素間二重結合が存在することにより、
従来の記録法のみならず、従来に比較して高速である記
録、あるいは高密度の記録法においても光記録媒体の感
度、記録特性の向上に効果を上げた。機構は未だ明らか
でなく現在検討中であるが、炭素間三重結合及び二重結
合の存在により、記録時に色素の分解・溶融が制御され
精度の高いピット形成が行われたこと、分解発熱量の減
少により記録媒体の樹脂基板へのダメージが減少したこ
と、反射層を有する記録媒体の場合は記録層と反射層で
ある金属層との密着性が向上したことなどが挙げられ
る。特にOR基が、二重結合を酸素原子の隣の炭素原子
から数えて2、3番目の炭素原子間に有する不飽和炭化
水素オキシ基である場合、光記録媒体の感度及び記録特
性の向上に著しい効果があった。この効果は、不飽和炭
化水素基のクライゼン転位及び脱離によるものと考えら
れる。即ち、低パワーのレーザー光で生じるクライゼン
転位及び脱離の前後の吸光度・反射率の差を利用して、
記録・再生を行うことにより、感度が良好で、樹脂基板
へのダメージが小さく、精度の高いピット形成が行われ
たと考えられる。
三重結合または炭素間二重結合が存在することにより、
従来の記録法のみならず、従来に比較して高速である記
録、あるいは高密度の記録法においても光記録媒体の感
度、記録特性の向上に効果を上げた。機構は未だ明らか
でなく現在検討中であるが、炭素間三重結合及び二重結
合の存在により、記録時に色素の分解・溶融が制御され
精度の高いピット形成が行われたこと、分解発熱量の減
少により記録媒体の樹脂基板へのダメージが減少したこ
と、反射層を有する記録媒体の場合は記録層と反射層で
ある金属層との密着性が向上したことなどが挙げられ
る。特にOR基が、二重結合を酸素原子の隣の炭素原子
から数えて2、3番目の炭素原子間に有する不飽和炭化
水素オキシ基である場合、光記録媒体の感度及び記録特
性の向上に著しい効果があった。この効果は、不飽和炭
化水素基のクライゼン転位及び脱離によるものと考えら
れる。即ち、低パワーのレーザー光で生じるクライゼン
転位及び脱離の前後の吸光度・反射率の差を利用して、
記録・再生を行うことにより、感度が良好で、樹脂基板
へのダメージが小さく、精度の高いピット形成が行われ
たと考えられる。
【0026】本発明の光吸収化合物のうち、例えばフタ
ロシアニン及びナフタロシアニン系化合物において、O
R基の少なくとも1個が、その芳香環結合酸素原子の隣
の炭素原子から数えて2、3番目の炭素原子間に二重結
合を有する不飽和炭化水素オキシ基である場合、約20
0℃の加熱によりナフタロシアニンまたはフタロシアニ
ン骨格を維持したまま不飽和炭化水素基のクライゼン転
位および僅かな脱離を生じることは、1H−NMRおよ
びマススペクトル測定及び熱分析(熱重量法:TG、示
差熱分析:DTA、示差走査熱量測定:DSC)等によ
り明かになった。例えば、1H−NMRにおける加熱経
時変化では、アリル基領域(δ=3.0〜5.8ppm)で酸素
原子に結合したアリル基に由来したシグナルが減少し、
高磁場領域に新たに芳香族環に結合したアリル基に由来
すると考えられるシグナルが出現した。マススペクトル
においては、加熱して転位反応を生じたと思われるもの
には、加熱前に存在していた不飽和炭化水素基部分の欠
如したフラグメントピークが小さくなるかまたは観測さ
れなくなる。TGにおいては、200℃前後からわずか
に重量減少が観測され、DSCでは200℃前後で発熱
が観測された。TG及びDSCでのこれらの現象は、対
応する飽和炭化水素オキシ基のみを有するフタロシアニ
ンまたはナフタロシアニン系化合物では観測されなかっ
た。さらに、不飽和炭化水素基のクライゼン転位及び脱
離反応を生じたナフタロシアニンまたはフタロシアニン
系化合物の780nm近傍の溶液中での吸光度は、反応
前のものに比較して2〜20倍に増大した。これらの化
合物をガラス基板上に塗布して形成した光記録媒体にお
いて、780nm近傍の反射率は、反応前のものに比較
して2/3〜1/10に減少する。従って、ピット部分
とピット以外の部分とのレーザー光の反射光量に大きな
違いが生じ、再生信号の変調度を大きくとることが可能
である。上記の効果、特にクライゼン転移による効果
は、他の光吸収化合物においても同様の傾向が見られ
た。
ロシアニン及びナフタロシアニン系化合物において、O
R基の少なくとも1個が、その芳香環結合酸素原子の隣
の炭素原子から数えて2、3番目の炭素原子間に二重結
合を有する不飽和炭化水素オキシ基である場合、約20
0℃の加熱によりナフタロシアニンまたはフタロシアニ
ン骨格を維持したまま不飽和炭化水素基のクライゼン転
位および僅かな脱離を生じることは、1H−NMRおよ
びマススペクトル測定及び熱分析(熱重量法:TG、示
差熱分析:DTA、示差走査熱量測定:DSC)等によ
り明かになった。例えば、1H−NMRにおける加熱経
時変化では、アリル基領域(δ=3.0〜5.8ppm)で酸素
原子に結合したアリル基に由来したシグナルが減少し、
高磁場領域に新たに芳香族環に結合したアリル基に由来
すると考えられるシグナルが出現した。マススペクトル
においては、加熱して転位反応を生じたと思われるもの
には、加熱前に存在していた不飽和炭化水素基部分の欠
如したフラグメントピークが小さくなるかまたは観測さ
れなくなる。TGにおいては、200℃前後からわずか
に重量減少が観測され、DSCでは200℃前後で発熱
が観測された。TG及びDSCでのこれらの現象は、対
応する飽和炭化水素オキシ基のみを有するフタロシアニ
ンまたはナフタロシアニン系化合物では観測されなかっ
た。さらに、不飽和炭化水素基のクライゼン転位及び脱
離反応を生じたナフタロシアニンまたはフタロシアニン
系化合物の780nm近傍の溶液中での吸光度は、反応
前のものに比較して2〜20倍に増大した。これらの化
合物をガラス基板上に塗布して形成した光記録媒体にお
いて、780nm近傍の反射率は、反応前のものに比較
して2/3〜1/10に減少する。従って、ピット部分
とピット以外の部分とのレーザー光の反射光量に大きな
違いが生じ、再生信号の変調度を大きくとることが可能
である。上記の効果、特にクライゼン転移による効果
は、他の光吸収化合物においても同様の傾向が見られ
た。
【0027】本発明の光吸収化合物のうち、特にフタロ
シアニン及びナフタロシアニン系化合物は、650〜9
00nmにシャープな吸収を有し、分子吸光係数は150,
000以上と高く、長期安定性及び耐光性にも優れるた
め、半導体レーザーを用いる光記録媒体(光ディスク、
光カード等)の記録材料に好適である。
シアニン及びナフタロシアニン系化合物は、650〜9
00nmにシャープな吸収を有し、分子吸光係数は150,
000以上と高く、長期安定性及び耐光性にも優れるた
め、半導体レーザーを用いる光記録媒体(光ディスク、
光カード等)の記録材料に好適である。
【0028】以下に本発明の好ましい態様を詳述する。
【0029】一般式(I)〜(V)中、OR基で示され
る置換基の具体例としては、置換または未置換の炭素数
1〜20の飽和炭化水素オキシ基または炭素数2〜20
の不飽和炭化水素オキシ基であるが、入手の容易さや溶
解度を考慮して好ましくは炭素数3〜12である置換ま
たは未置換の飽和炭化水素オキシ基または不飽和炭化水
素オキシ基である。
る置換基の具体例としては、置換または未置換の炭素数
1〜20の飽和炭化水素オキシ基または炭素数2〜20
の不飽和炭化水素オキシ基であるが、入手の容易さや溶
解度を考慮して好ましくは炭素数3〜12である置換ま
たは未置換の飽和炭化水素オキシ基または不飽和炭化水
素オキシ基である。
【0030】例えば、未置換の飽和炭化水素オキシ基の
例としては、n-プロピルオキシ基、iso-ブチルオキシ
基、sec-ブチルオキシ基、t-ブチルオキシ基、n-ペンチ
ルオキシ基、iso-ペンチルオキシ基、neo-ペンチルオキ
シ基、2-メチルブチル-3-オキシ基、n-ヘキシルオキシ
基、cyclo-ヘキシルオキシ基、2-メチルペンチル-4-オ
キシ基、2-メチルペンチル-3-オキシ基、3-メチルペン
チル-4-オキシ基、n-ヘプチルオキシ基、2-メチルヘキ
シル-5-オキシ基、2,4-ジメチルペンチル-3-オキシ基、
2-メチルヘキシル-3-オキシ基、ヘプチル-4-オキシ基、
n-オクチルオキシ基、2-エチルヘキシル-1-オキシ基、
2,5-ジメチルヘキシル-3-オキシ基、2,4-ジメチルヘキ
シル-3-オキシ基、2,2,4-トリメチルペンチル-3-オキシ
基、n-ノニルオキシ基、3,5-ジメチルヘプチル-4-オキ
シ基、2,6-ジメチルヘプチル-3-オキシ基、2,4-ジメチ
ルヘプチル-3-オキシ基、n-ドデシルオキシ基、2,2,5,5
-テトラメチルヘキシル-3-オキシ基、1-cyclo-ペンチル
-2,2-ジメチルプロピル-1-オキシ基、1-cyclo-ヘキシル
-2,2-ジメチルプロピル-1-オキシ基等が挙げられる。
例としては、n-プロピルオキシ基、iso-ブチルオキシ
基、sec-ブチルオキシ基、t-ブチルオキシ基、n-ペンチ
ルオキシ基、iso-ペンチルオキシ基、neo-ペンチルオキ
シ基、2-メチルブチル-3-オキシ基、n-ヘキシルオキシ
基、cyclo-ヘキシルオキシ基、2-メチルペンチル-4-オ
キシ基、2-メチルペンチル-3-オキシ基、3-メチルペン
チル-4-オキシ基、n-ヘプチルオキシ基、2-メチルヘキ
シル-5-オキシ基、2,4-ジメチルペンチル-3-オキシ基、
2-メチルヘキシル-3-オキシ基、ヘプチル-4-オキシ基、
n-オクチルオキシ基、2-エチルヘキシル-1-オキシ基、
2,5-ジメチルヘキシル-3-オキシ基、2,4-ジメチルヘキ
シル-3-オキシ基、2,2,4-トリメチルペンチル-3-オキシ
基、n-ノニルオキシ基、3,5-ジメチルヘプチル-4-オキ
シ基、2,6-ジメチルヘプチル-3-オキシ基、2,4-ジメチ
ルヘプチル-3-オキシ基、n-ドデシルオキシ基、2,2,5,5
-テトラメチルヘキシル-3-オキシ基、1-cyclo-ペンチル
-2,2-ジメチルプロピル-1-オキシ基、1-cyclo-ヘキシル
-2,2-ジメチルプロピル-1-オキシ基等が挙げられる。
【0031】置換飽和炭化水素オキシ基の例としては、
メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシ
エトキシ基、ブトキシエトキシ基、γ−メトキシプロピ
ルオキシ基、γ−エトキシプロピルオキシ基等のアルコ
キシアルコキシ基、エトキシエトキシエトキ基、ブチル
オキシエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシア
ルコキシ基、ジメチルアミノエトキシ基、2-アミノ-2-
メチルヘキシル-3-オキシ基等のアミノアルコキシ基、
ベンジルオキシ基、フェニルエチルオキシ基、ナフチル
オキシ基、3-ベンジル-3-メチルブチル-2-オキシ基等の
アラルキルオキシ基、2-ヒドロキシエチル-1-オキシ
基、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル-1-オキシ基等
のヒドロキシアルコキシ基、アセトキシエチルオキシ
基、アセトキシエトキシエチルオキシ基等のアシルオキ
シアルコキシ基、等が挙げられる。
メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシ
エトキシ基、ブトキシエトキシ基、γ−メトキシプロピ
ルオキシ基、γ−エトキシプロピルオキシ基等のアルコ
キシアルコキシ基、エトキシエトキシエトキ基、ブチル
オキシエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシア
ルコキシ基、ジメチルアミノエトキシ基、2-アミノ-2-
メチルヘキシル-3-オキシ基等のアミノアルコキシ基、
ベンジルオキシ基、フェニルエチルオキシ基、ナフチル
オキシ基、3-ベンジル-3-メチルブチル-2-オキシ基等の
アラルキルオキシ基、2-ヒドロキシエチル-1-オキシ
基、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル-1-オキシ基等
のヒドロキシアルコキシ基、アセトキシエチルオキシ
基、アセトキシエトキシエチルオキシ基等のアシルオキ
シアルコキシ基、等が挙げられる。
【0032】置換または未置換の不飽和炭化水素オキシ
基において、オキシ酸素原子の隣の炭素原子から数えて
二、三番目の炭素原子間に二重結合を有する不飽和炭化
水素オキシ基の例として、2-プロペニル-1-オキシ基、1
-ブテニル-3-オキシ基、2-ブテニル-1-オキシ基、3-ブ
テニル-2-オキシ基、1-ヒドロキシ-2-ブテニル-4-オキ
シ基、2-ペンテニル-1-オキシ墓、3-ペンテニル-2-オキ
シ基、1-ペンテニル-3-オキシ基、1,4-ペンタジエニル-
3-オキシ基、1-ヘキセニル-3-オキシ基、2-ヘキセニル-
1-オキシ基、2-ヘキセニル-4-オキシ基、3-ヘキセニル-
2-オキシ基、4-ヘキセニル-3-オキシ基、2,4-ヘキサジ
エニル-1-オキシ基、1,4-ヘキサジエニル-3-オキシ基、
1,5-ヘキサジエニル-3-オキシ基、1-ヒドロキシ-2,4-ヘ
キサジエニル-6-オキシ基、2,5-ヘキサジエニル-1-オキ
シ基、1,3-ヘキサジエニル-5-オキシ基、1-ヘプテニル-
3-オキシ基、2-ヘプテニル-4-オキシ基、3-ヘプテニル-
5-オキシ基、1,4-ヘプタジエニル-3-オキシ基、1,5-ヘ
プタジエニル-4-オキシ基、1,5-ヘプタジエニル-3-オキ
シ基、2,5-ヘプタジエニル-4-オキシ基、1-オクテニル-
3-オキシ基、2-オクテニル-4-オキシ基、1-ノネニル-3-
オキシ基、4-ジメチルアミノ-1-ブテニル-3-オキシ基、
4-メチルチオ-1-ブテニル-3-オキシ基、1-シクロペンチ
ル-2-メチル-2-プロペニル-1-オキシ基、1-シクロヘキ
シル-2-メチル-2-プロペニル-1-オキシ基、2-メチル-2-
ブテニル-1-オキシ基、3-メチル-2-ブテニル-1-オキシ
基、2-メチル-3-ブテニル-2-オキシ基、3-メチル-3-ブ
テニル-2-オキシ基、3-メチル-2-ブテニル-1-オキシ
基、2,3-ジメチル-3-ブテニル-2-オキシ基、2-メチル-1
-ペンテニル-3-オキシ基、3-メチル-1-ペンテニル-3-オ
キシ基、4-メチル-3-ペンテニル-2-オキシ基、4-メチル
-1-ペンテニル-3-オキシ基、3-メチル-4-ペンテニル-3-
オキシ基、2-メチル-4-ペンテニル-3-オキシ基、2,4-ジ
メチル-1-ペンテニル-3-オキシ基、2,3-ジメチル-1-ペ
ンテニル-3-オキシ基、2,4-ジメチル-1,4-ペンタジエニ
ル-3-オキシ基、2,4,4-トリメチル-1-ペンテニル-3-オ
キシ基、4-メチル-4-ヘキセニル-3-オキシ基、2-メチル
-1-ヘキセニル-3-オキシ基、2-メチル-4-ヘキセニル-3-
オキシ基、3-メチル‐3-ヘキセニル-2-オキシ基、2,5-
ジメチル-5-ヘキセ二ル-4-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘ
キサジエニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘキサジエニ
ル-4-オキシ基、5-メチル-1,5-ヘキサジエニル-3-オキ
シ基、2,5-ジメチル-1,5-ヘキサジエニル-3-オキシ基、
2,2-ジメチル-5-ヘキセニル-4-オキシ基、2,3,4-トリメ
チル-4-ヘキセニル-3-オキシ基、2-メチル-1-ヘプテニ
ル-3-オキシ基、5-メチル-1-ヘプテニル-3-オキシ基、4
-メチル-4-ヘプテニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘプ
タジエニル-4-オキシ基、2,5-ジメチル-1-ヘプテニル-3
-オキシ基、2,4-ジメチル-2,6-ヘプタジエニル-1-オキ
シ基、2,6-ジメチル-2,5-ヘプタジエニル-4-オキシ基、
3,5-ジメチル-1,5-ヘプタジエニル-4-オキシ基、2-メチ
ル-4-ジメチルアミノ-1-ブテニル-3-オキシ基、2-メチ
ル-4-メチルチオ-1-ブテニル-3-オキシ基、3-メチル-2-
ペンテニル-4-イン-1-オキシ基等が挙げられる。
基において、オキシ酸素原子の隣の炭素原子から数えて
二、三番目の炭素原子間に二重結合を有する不飽和炭化
水素オキシ基の例として、2-プロペニル-1-オキシ基、1
-ブテニル-3-オキシ基、2-ブテニル-1-オキシ基、3-ブ
テニル-2-オキシ基、1-ヒドロキシ-2-ブテニル-4-オキ
シ基、2-ペンテニル-1-オキシ墓、3-ペンテニル-2-オキ
シ基、1-ペンテニル-3-オキシ基、1,4-ペンタジエニル-
3-オキシ基、1-ヘキセニル-3-オキシ基、2-ヘキセニル-
1-オキシ基、2-ヘキセニル-4-オキシ基、3-ヘキセニル-
2-オキシ基、4-ヘキセニル-3-オキシ基、2,4-ヘキサジ
エニル-1-オキシ基、1,4-ヘキサジエニル-3-オキシ基、
1,5-ヘキサジエニル-3-オキシ基、1-ヒドロキシ-2,4-ヘ
キサジエニル-6-オキシ基、2,5-ヘキサジエニル-1-オキ
シ基、1,3-ヘキサジエニル-5-オキシ基、1-ヘプテニル-
3-オキシ基、2-ヘプテニル-4-オキシ基、3-ヘプテニル-
5-オキシ基、1,4-ヘプタジエニル-3-オキシ基、1,5-ヘ
プタジエニル-4-オキシ基、1,5-ヘプタジエニル-3-オキ
シ基、2,5-ヘプタジエニル-4-オキシ基、1-オクテニル-
3-オキシ基、2-オクテニル-4-オキシ基、1-ノネニル-3-
オキシ基、4-ジメチルアミノ-1-ブテニル-3-オキシ基、
4-メチルチオ-1-ブテニル-3-オキシ基、1-シクロペンチ
ル-2-メチル-2-プロペニル-1-オキシ基、1-シクロヘキ
シル-2-メチル-2-プロペニル-1-オキシ基、2-メチル-2-
ブテニル-1-オキシ基、3-メチル-2-ブテニル-1-オキシ
基、2-メチル-3-ブテニル-2-オキシ基、3-メチル-3-ブ
テニル-2-オキシ基、3-メチル-2-ブテニル-1-オキシ
基、2,3-ジメチル-3-ブテニル-2-オキシ基、2-メチル-1
-ペンテニル-3-オキシ基、3-メチル-1-ペンテニル-3-オ
キシ基、4-メチル-3-ペンテニル-2-オキシ基、4-メチル
-1-ペンテニル-3-オキシ基、3-メチル-4-ペンテニル-3-
オキシ基、2-メチル-4-ペンテニル-3-オキシ基、2,4-ジ
メチル-1-ペンテニル-3-オキシ基、2,3-ジメチル-1-ペ
ンテニル-3-オキシ基、2,4-ジメチル-1,4-ペンタジエニ
ル-3-オキシ基、2,4,4-トリメチル-1-ペンテニル-3-オ
キシ基、4-メチル-4-ヘキセニル-3-オキシ基、2-メチル
-1-ヘキセニル-3-オキシ基、2-メチル-4-ヘキセニル-3-
オキシ基、3-メチル‐3-ヘキセニル-2-オキシ基、2,5-
ジメチル-5-ヘキセ二ル-4-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘ
キサジエニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘキサジエニ
ル-4-オキシ基、5-メチル-1,5-ヘキサジエニル-3-オキ
シ基、2,5-ジメチル-1,5-ヘキサジエニル-3-オキシ基、
2,2-ジメチル-5-ヘキセニル-4-オキシ基、2,3,4-トリメ
チル-4-ヘキセニル-3-オキシ基、2-メチル-1-ヘプテニ
ル-3-オキシ基、5-メチル-1-ヘプテニル-3-オキシ基、4
-メチル-4-ヘプテニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘプ
タジエニル-4-オキシ基、2,5-ジメチル-1-ヘプテニル-3
-オキシ基、2,4-ジメチル-2,6-ヘプタジエニル-1-オキ
シ基、2,6-ジメチル-2,5-ヘプタジエニル-4-オキシ基、
3,5-ジメチル-1,5-ヘプタジエニル-4-オキシ基、2-メチ
ル-4-ジメチルアミノ-1-ブテニル-3-オキシ基、2-メチ
ル-4-メチルチオ-1-ブテニル-3-オキシ基、3-メチル-2-
ペンテニル-4-イン-1-オキシ基等が挙げられる。
【0033】上記以外の置換または未置換の不飽和炭化
水素オキシ基の例としては、エテニルオキシ基、3-ブテ
ニル-1-オキシ基、5-ヘキセニル-2-オキシ基、5-ヘキセ
ニル-1-オキシ基、3-ヘキセニル-1-オキシ基、4-ヘキセ
ニル-1-オキシ基、1-オクテニル-4-オキシ基、2-メチル
-3-ブテニル-1-オキシ基、3-メチル-3-ブテニル-1-オキ
シ基、3-メチル-4-ペンテニル-2-オキシ基、4-メチル-4
-ペンテニル-2-オキシ基、2-メチル-4-ペンテニル-2-オ
キシ基、4-メチル-4-ヘキセニル-2-オキシ基、5-メチル
-5-ヘキセニル-2-オキシ基、5-メチル-5-ヘキセニル-3-
オキシ基、2-メチル-5-ヘキセニル-3-オキシ基、2,5-ジ
メチル-5-ヘキセニル-3-オキシ基、6-メチル-5-ヘプテ
ニル-2-オキシ基、2,2-メチル-5-ヘキセニル-3-オキシ
基、5-メチル-1-ヘプテニル-4-オキシ基、6-メチル-6-
ヘプテニル-3-オキシ基、3,5-ジメチル-1,6-ヘプタジエ
ニル-4-オキシ基、2,6-ジメチル-1-ノネニル-3-イン-5-
オキシ基、1-フェニル-4-メチル-1-ペンテニル-3-オキ
シ基、4-エチル-1-ヘキシニル-3-オキシ基、2,6-ジメチ
ル-6-ヘプテニル-4-イン-3-オキシ基、4-メチル-1-ペン
チニル-3-オキシ基等が挙げられる。
水素オキシ基の例としては、エテニルオキシ基、3-ブテ
ニル-1-オキシ基、5-ヘキセニル-2-オキシ基、5-ヘキセ
ニル-1-オキシ基、3-ヘキセニル-1-オキシ基、4-ヘキセ
ニル-1-オキシ基、1-オクテニル-4-オキシ基、2-メチル
-3-ブテニル-1-オキシ基、3-メチル-3-ブテニル-1-オキ
シ基、3-メチル-4-ペンテニル-2-オキシ基、4-メチル-4
-ペンテニル-2-オキシ基、2-メチル-4-ペンテニル-2-オ
キシ基、4-メチル-4-ヘキセニル-2-オキシ基、5-メチル
-5-ヘキセニル-2-オキシ基、5-メチル-5-ヘキセニル-3-
オキシ基、2-メチル-5-ヘキセニル-3-オキシ基、2,5-ジ
メチル-5-ヘキセニル-3-オキシ基、6-メチル-5-ヘプテ
ニル-2-オキシ基、2,2-メチル-5-ヘキセニル-3-オキシ
基、5-メチル-1-ヘプテニル-4-オキシ基、6-メチル-6-
ヘプテニル-3-オキシ基、3,5-ジメチル-1,6-ヘプタジエ
ニル-4-オキシ基、2,6-ジメチル-1-ノネニル-3-イン-5-
オキシ基、1-フェニル-4-メチル-1-ペンテニル-3-オキ
シ基、4-エチル-1-ヘキシニル-3-オキシ基、2,6-ジメチ
ル-6-ヘプテニル-4-イン-3-オキシ基、4-メチル-1-ペン
チニル-3-オキシ基等が挙げられる。
【0034】特に好ましい例としては、色素の融点を考
慮して炭素数5〜10で、分岐して立体障害が大きく、
芳香環の垂直方向に張り出し易く、かつ単位重量当たり
の吸光係数が大きくできる基、また、光記録媒体とした
時感度向上に有効な基であり、具体的には、2-メチルペ
ンチル-4-オキシ基、2-メチルペンチル-3-オキシ基、3-
メチルペンチル-4-オキシ基、2-メチルヘキシル-5-オキ
シ基、2,4-ジメチルペンチル-3-オキシ基、2-メチルヘ
キシル-3-オキシ基、2,5-ジメチルヘキシル-3-オキシ
基、2,4-ジメチルヘキシル-3-オキシ基、2,2,4-トリメ
チルペンチル-3-オキシ基、3,5-ジメチルヘプチル-4-オ
キシ基、2,6-ジメチルヘプチル-3-オキシ基、2,4-ジメ
チルヘプチル-3-オキシ基、2,2,5,5-テトラメチルヘキ
シル-3-オキシ基、1-cyclo-ペンチル-2,2-ジメチルプロ
ピル-1-オキシ基、3-メチル-3-ブテニル-1-オキシ基、4
-メチル-1-ペンテニル-3-オキシ基、2-メチル-1-ペンテ
ニル-3-オキシ基、2-メチル-4-ペンテニル-3-オキシ
基、2,4-ジメチル-1-ペンテニル-3-オキシ基、2,4,4-ト
リメチル-1-ペンテニル-3-オキシ基、2-メチル-1-ヘキ
セニル-3-オキシ基、2-メチル-4-ヘキセニル-3-オキシ
基、4-メチル-4-ヘキセニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5
-ヘキサジエニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘキサジ
エニル-4-オキシ基、5-メチル-1,5-ヘキサジエニル-3-
オキシ基、2,2-ジメチル-5-ヘキセニル-4-オキシ基、2,
5-ジメチル-5-ヘキセニル-4-オキシ基、2,5-ジメチル-
1,5-ヘキサジエニル-4-オキシ基、2-メチル-1-ヘプテニ
ル-3-オキシ基、4-メチル-4-ヘプテニル-3-オキシ基、5
-メチル-1-ヘプテニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘプ
タジエニル-4-オキシ基、2,5-ジメチル-1-ヘプテニル-3
-オキシ基、3,5-ジメチル-1,6-ヘプタジエニル-4-オキ
シ基、2,5-ジメチル-5-ヘキセニル-3-オキシ基、3,5-ジ
メチル-1,5-ヘプタジエニル-4-オキシ基、4-メチル-4-
ペンテニル-2-オキシ基、4-メチル-1-ペンチニル-3-オ
キシ基、5-メチル-5-ヘキセニル-3-オキシ基等である。
慮して炭素数5〜10で、分岐して立体障害が大きく、
芳香環の垂直方向に張り出し易く、かつ単位重量当たり
の吸光係数が大きくできる基、また、光記録媒体とした
時感度向上に有効な基であり、具体的には、2-メチルペ
ンチル-4-オキシ基、2-メチルペンチル-3-オキシ基、3-
メチルペンチル-4-オキシ基、2-メチルヘキシル-5-オキ
シ基、2,4-ジメチルペンチル-3-オキシ基、2-メチルヘ
キシル-3-オキシ基、2,5-ジメチルヘキシル-3-オキシ
基、2,4-ジメチルヘキシル-3-オキシ基、2,2,4-トリメ
チルペンチル-3-オキシ基、3,5-ジメチルヘプチル-4-オ
キシ基、2,6-ジメチルヘプチル-3-オキシ基、2,4-ジメ
チルヘプチル-3-オキシ基、2,2,5,5-テトラメチルヘキ
シル-3-オキシ基、1-cyclo-ペンチル-2,2-ジメチルプロ
ピル-1-オキシ基、3-メチル-3-ブテニル-1-オキシ基、4
-メチル-1-ペンテニル-3-オキシ基、2-メチル-1-ペンテ
ニル-3-オキシ基、2-メチル-4-ペンテニル-3-オキシ
基、2,4-ジメチル-1-ペンテニル-3-オキシ基、2,4,4-ト
リメチル-1-ペンテニル-3-オキシ基、2-メチル-1-ヘキ
セニル-3-オキシ基、2-メチル-4-ヘキセニル-3-オキシ
基、4-メチル-4-ヘキセニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5
-ヘキサジエニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘキサジ
エニル-4-オキシ基、5-メチル-1,5-ヘキサジエニル-3-
オキシ基、2,2-ジメチル-5-ヘキセニル-4-オキシ基、2,
5-ジメチル-5-ヘキセニル-4-オキシ基、2,5-ジメチル-
1,5-ヘキサジエニル-4-オキシ基、2-メチル-1-ヘプテニ
ル-3-オキシ基、4-メチル-4-ヘプテニル-3-オキシ基、5
-メチル-1-ヘプテニル-3-オキシ基、2-メチル-1,5-ヘプ
タジエニル-4-オキシ基、2,5-ジメチル-1-ヘプテニル-3
-オキシ基、3,5-ジメチル-1,6-ヘプタジエニル-4-オキ
シ基、2,5-ジメチル-5-ヘキセニル-3-オキシ基、3,5-ジ
メチル-1,5-ヘプタジエニル-4-オキシ基、4-メチル-4-
ペンテニル-2-オキシ基、4-メチル-1-ペンチニル-3-オ
キシ基、5-メチル-5-ヘキセニル-3-オキシ基等である。
【0035】また、式(II)〜(V)中、Metで示さ
れる2価金属原子の例としては、Cu,Zn,Fe,C
o,Ni,Ru,Rh,Pd,Pt,Mn,Sn,M
g,Pb,Hg,Cd,Ba,Ti,Be,Ca等が挙
げられ、1置換の3価金属原子の例としては、Al−
F,Al−Cl,Al−Br,Al−I,Ga−F,G
a−Cl,Ga−Br,Ga−I,In−F,In−C
l,In−Br,In−I,Tl−F,Tl−Cl,T
l−Br,Tl−I,Al−C6H5,Al−C6H4(C
H3),In−C6H5,In−C6H4(CH3),Mn
(OH),Mn(OC 6H5),Mn〔OSi(C
H3)3〕,Fe−Cl,Ru−Cl等が挙げられ、2置
換の4価金属原子の例としては、CrCl2,SiF2,
SiCl2,SiBr2,SiI2,SnF2,SnC
l2,SnBr2,ZrCl2,GeF2,GeCl2,G
eBr2,GeI2,TiF2,TiCl2,TiBr2,
Si(OH)2,Sn(OH)2,Ge(OH)2,Zr
(OH)2,Mn(OH)2,TiA2,CrA2,SiA
2,SnA2,GeA2〔Aはアルキル基、フェニル基、
ナフチル基およびその誘導体を表す〕,Si(OA’)
2,Sn(OA’)2,Ge(OA’)2,Ti(O
A’)2,Cr(OA’)2〔A’はアルキル基、フェニ
ル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキル
アルコキシシリル基およびその誘導体を表す〕,Si
(SA”)2,Sn(SA”)2,Ge(SA”)
2〔A”はアルキル基、フェニル基、ナフチル基および
その誘導体を表す〕等が挙げられ、オキシ金属原子の例
としては、VO,MnO,TiO等が挙げられる。特に
好ましい例としては、Cu,Ni,Co,Mg,Zn,
Pd,Pt,SiCl2,Si(OH)2,Si(O
A’)2,VO等である。
れる2価金属原子の例としては、Cu,Zn,Fe,C
o,Ni,Ru,Rh,Pd,Pt,Mn,Sn,M
g,Pb,Hg,Cd,Ba,Ti,Be,Ca等が挙
げられ、1置換の3価金属原子の例としては、Al−
F,Al−Cl,Al−Br,Al−I,Ga−F,G
a−Cl,Ga−Br,Ga−I,In−F,In−C
l,In−Br,In−I,Tl−F,Tl−Cl,T
l−Br,Tl−I,Al−C6H5,Al−C6H4(C
H3),In−C6H5,In−C6H4(CH3),Mn
(OH),Mn(OC 6H5),Mn〔OSi(C
H3)3〕,Fe−Cl,Ru−Cl等が挙げられ、2置
換の4価金属原子の例としては、CrCl2,SiF2,
SiCl2,SiBr2,SiI2,SnF2,SnC
l2,SnBr2,ZrCl2,GeF2,GeCl2,G
eBr2,GeI2,TiF2,TiCl2,TiBr2,
Si(OH)2,Sn(OH)2,Ge(OH)2,Zr
(OH)2,Mn(OH)2,TiA2,CrA2,SiA
2,SnA2,GeA2〔Aはアルキル基、フェニル基、
ナフチル基およびその誘導体を表す〕,Si(OA’)
2,Sn(OA’)2,Ge(OA’)2,Ti(O
A’)2,Cr(OA’)2〔A’はアルキル基、フェニ
ル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキル
アルコキシシリル基およびその誘導体を表す〕,Si
(SA”)2,Sn(SA”)2,Ge(SA”)
2〔A”はアルキル基、フェニル基、ナフチル基および
その誘導体を表す〕等が挙げられ、オキシ金属原子の例
としては、VO,MnO,TiO等が挙げられる。特に
好ましい例としては、Cu,Ni,Co,Mg,Zn,
Pd,Pt,SiCl2,Si(OH)2,Si(O
A’)2,VO等である。
【0036】例えば、一般式(V)で示されるフタロシ
アニン化合物の合成法としては、下式(VI)
アニン化合物の合成法としては、下式(VI)
【0037】
【化9】 〔式(VI)におけるベンゼン環は、一般式(V)で述べ
たような置換基を有していて良い。〕で表される化合物
の1〜4種を混合して、例えば1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)存在下に、
金属誘導体とアルコール中で加熱反応する。あるいは、
金属誘導体とクロルナフタレン、ブロムナフタレン、ト
リクロルベンゼン等の高沸点溶媒中で加熱反応する方法
が挙げられる。また、式(VI)で表される化合物を、ア
ルコール中、ナトリウムメチラートを触媒にアンモニア
と反応して式(VII)で表されるジイミノイソインドリ
ンを中間体として同様に反応する方法等が挙げられる。
たような置換基を有していて良い。〕で表される化合物
の1〜4種を混合して、例えば1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)存在下に、
金属誘導体とアルコール中で加熱反応する。あるいは、
金属誘導体とクロルナフタレン、ブロムナフタレン、ト
リクロルベンゼン等の高沸点溶媒中で加熱反応する方法
が挙げられる。また、式(VI)で表される化合物を、ア
ルコール中、ナトリウムメチラートを触媒にアンモニア
と反応して式(VII)で表されるジイミノイソインドリ
ンを中間体として同様に反応する方法等が挙げられる。
【0038】
【化10】 また、式(VI)で表される化合物の合成は、特開昭61
−186384(USP4769307)号公報、NOUV
EAU JOURNAL DE CHIMIE, VOL.6, NO.12, PP653〜658 (1
982)に記載の方法等にて行った。
−186384(USP4769307)号公報、NOUV
EAU JOURNAL DE CHIMIE, VOL.6, NO.12, PP653〜658 (1
982)に記載の方法等にて行った。
【0039】一般式(III)及び(IV)で示されるナフ
タロシアニン化合物の合成法としては、例えば、J. Am.
Chem. Soc., 106, 740(1984); J. Org. Chem., 28, 33
79(1963); J. Chem. Soc., 1744(1936)に記載の方法等
が挙げられる。
タロシアニン化合物の合成法としては、例えば、J. Am.
Chem. Soc., 106, 740(1984); J. Org. Chem., 28, 33
79(1963); J. Chem. Soc., 1744(1936)に記載の方法等
が挙げられる。
【0040】即ち、一般式(III)で示される化合物
は、下式(VIII)または(IX)
は、下式(VIII)または(IX)
【0041】
【化11】 〔式(VIII)及び(IX)におけるナフタレン環は、一般
式(III)で述べたような置換基を有していて良い。〕
で表される化合物の1〜4種を混合して、上述したフタ
ロシアニン化合物と同様の方法で合成される。
式(III)で述べたような置換基を有していて良い。〕
で表される化合物の1〜4種を混合して、上述したフタ
ロシアニン化合物と同様の方法で合成される。
【0042】同様に一般式(IV)で示される化合物は、
下式(X)または(XI)
下式(X)または(XI)
【0043】
【化12】 〔式(X)及び(XI)におけるナフタレン環は、一般式
(IV)で述べたような置換基を有していて良い。〕から
合成される。
(IV)で述べたような置換基を有していて良い。〕から
合成される。
【0044】また、式(VI)、(VIII)及び(X)また
は(VII)、(IX)及び(XI)を混合して金属誘導体と
加熱反応させることにより、ベンゼン骨格とナフタレン
骨格とが混在する一般式(II)に包含される化合物も合
成することができる。
は(VII)、(IX)及び(XI)を混合して金属誘導体と
加熱反応させることにより、ベンゼン骨格とナフタレン
骨格とが混在する一般式(II)に包含される化合物も合
成することができる。
【0045】本発明の光吸収化合物を用いて光記録媒体
を製造する方法には、透明基板上に本発明の光吸収化合
物を含む1〜3種の化合物を1層または2層に塗布、あ
るいは蒸着する方法があり、塗布法としては、バインダ
ー樹脂20重量%以下、好ましくは0%と、本発明の光
吸収化合物0.05〜20重量%、好ましくは0.5〜
20重量%となるように溶媒に溶解し、スピンコーター
で塗布する方法等がある。また蒸着方法としては10-5
〜10-7torr、100〜300℃にて基板上に堆積
させる方法等がある。
を製造する方法には、透明基板上に本発明の光吸収化合
物を含む1〜3種の化合物を1層または2層に塗布、あ
るいは蒸着する方法があり、塗布法としては、バインダ
ー樹脂20重量%以下、好ましくは0%と、本発明の光
吸収化合物0.05〜20重量%、好ましくは0.5〜
20重量%となるように溶媒に溶解し、スピンコーター
で塗布する方法等がある。また蒸着方法としては10-5
〜10-7torr、100〜300℃にて基板上に堆積
させる方法等がある。
【0046】基板としては、光学的に透明な樹脂であれ
ば良い。例えば、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、塩
化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリオレフィン共重合樹脂、塩化ビニル共重合樹
脂、塩化ビニリデン共重合樹脂、スチレン共重合樹脂等
が挙げられる。また基板は熱硬化性樹脂または紫外線硬
化性樹脂により表面処理がなされていても良い。
ば良い。例えば、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、塩
化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリオレフィン共重合樹脂、塩化ビニル共重合樹
脂、塩化ビニリデン共重合樹脂、スチレン共重合樹脂等
が挙げられる。また基板は熱硬化性樹脂または紫外線硬
化性樹脂により表面処理がなされていても良い。
【0047】光記録媒体(光ディスク、光カード等)を
作製する場合、コストの面、ユーザーの取り扱いの面よ
り、基板はポリアクリレート基板またはポリカーボネー
ト基板を用い、かつスピンコート法により塗布されるの
が好ましい。
作製する場合、コストの面、ユーザーの取り扱いの面よ
り、基板はポリアクリレート基板またはポリカーボネー
ト基板を用い、かつスピンコート法により塗布されるの
が好ましい。
【0048】基板の耐溶剤性より、スピンコートに用い
る溶剤は、ハロゲン化炭化水素(例えば、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエチレ
ン、ジクロロジフルオロエタン等)、エーテル類(例え
ば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン等)、アル
コール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノ
ール等)、セロソルブ類(例えば、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ等)、炭化水素類(例えば、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、シクロオ
クタン、ジメチルシクロヘキサン、オクタン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等)、あるいはそれらの混合溶
媒が好適に用いられる。
る溶剤は、ハロゲン化炭化水素(例えば、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエチレ
ン、ジクロロジフルオロエタン等)、エーテル類(例え
ば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン等)、アル
コール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノ
ール等)、セロソルブ類(例えば、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ等)、炭化水素類(例えば、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、シクロオ
クタン、ジメチルシクロヘキサン、オクタン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等)、あるいはそれらの混合溶
媒が好適に用いられる。
【0049】記録媒体として加工するには、上記の様に
基板で覆う、あるいは2枚の記録層を設けた基板に、エ
アーギャップを設けて対向させて張り合わせる、また
は、記録層上に反射層(アルミニウムまたは金)を設
け、熱硬化性または光硬化性樹脂の保護層を積層する方
法などがある。保護層として、Al2O3,SiO2,S
iO,SnO2等の無機化合物を利用しても良い。
基板で覆う、あるいは2枚の記録層を設けた基板に、エ
アーギャップを設けて対向させて張り合わせる、また
は、記録層上に反射層(アルミニウムまたは金)を設
け、熱硬化性または光硬化性樹脂の保護層を積層する方
法などがある。保護層として、Al2O3,SiO2,S
iO,SnO2等の無機化合物を利用しても良い。
【0050】本発明で得られる光記録媒体は、各種レー
ザー光によって記録・再生が可能である。但し、レーザ
ー波長により記録層に含有させる本発明の光吸収化合物
を選択することで、より感度・記録特性の良い光記録媒
体を得ることができる。例えば、780nm前後の波長のレ
ーザー光の時は一般にフタロシアニン系化合物が好まし
く、830nm前後のレーザー光の時は一般にフタロシアニ
ン系化合物よりも光吸収が長波長側にシフトするナフタ
ロシアニン系化合物が好ましい。
ザー光によって記録・再生が可能である。但し、レーザ
ー波長により記録層に含有させる本発明の光吸収化合物
を選択することで、より感度・記録特性の良い光記録媒
体を得ることができる。例えば、780nm前後の波長のレ
ーザー光の時は一般にフタロシアニン系化合物が好まし
く、830nm前後のレーザー光の時は一般にフタロシアニ
ン系化合物よりも光吸収が長波長側にシフトするナフタ
ロシアニン系化合物が好ましい。
【0051】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明の実施の態様はこれにより限定されるもの
ではない。
るが、本発明の実施の態様はこれにより限定されるもの
ではない。
【0052】実施例1 撹拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器に、
60%水素化ナトリウム9.6g(0.24モル)及び
ジメチルホルムアミド150mlを装入し、窒素通気下
撹拌する。これに2,4−ジメチル−1−ペンテン−3
−オール28.5g(0.25モル)を温度20〜30
℃1時間で滴下する。同温度で3時間撹拌しナトリウム
アルコラート溶液を調製する。
60%水素化ナトリウム9.6g(0.24モル)及び
ジメチルホルムアミド150mlを装入し、窒素通気下
撹拌する。これに2,4−ジメチル−1−ペンテン−3
−オール28.5g(0.25モル)を温度20〜30
℃1時間で滴下する。同温度で3時間撹拌しナトリウム
アルコラート溶液を調製する。
【0053】次に、撹拌器、還流冷却器を備えた容器
に、3−ニトロフタロニトリル34.6g(0.2モ
ル)およびジメチルホルムアミド150mlを装入し溶
解させる。これに、予め調製したナトリウムアルコラー
ト溶液を、0〜10℃で3時間で滴下し、滴下終了後、
温度を20〜30℃に昇温し3時聞撹拌して、反応を終
了する。終了後、3lの水に排出し30分撹拌する。こ
れにトルエン500mlを加え30分撹拌後、静置し、
トルエン層を分離する。トルエンを減圧留去後、n−ヘ
キサン600mlで再結晶して3−(2,4−ジメチル
−1−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル39.
4g(収率82.0%)を得た。液体クロマトグラフィ
ーでの純度分析では純度は99.2%であった。元素分
析の結果は以下の通りであった。
に、3−ニトロフタロニトリル34.6g(0.2モ
ル)およびジメチルホルムアミド150mlを装入し溶
解させる。これに、予め調製したナトリウムアルコラー
ト溶液を、0〜10℃で3時間で滴下し、滴下終了後、
温度を20〜30℃に昇温し3時聞撹拌して、反応を終
了する。終了後、3lの水に排出し30分撹拌する。こ
れにトルエン500mlを加え30分撹拌後、静置し、
トルエン層を分離する。トルエンを減圧留去後、n−ヘ
キサン600mlで再結晶して3−(2,4−ジメチル
−1−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル39.
4g(収率82.0%)を得た。液体クロマトグラフィ
ーでの純度分析では純度は99.2%であった。元素分
析の結果は以下の通りであった。
【0054】
【0055】次に、撹拌器、還流冷却器および窒素導入
管を備えた容器に、3−(2,4−ジメチル−1−ペン
テニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g(0.
1モル)、DBU15.2g(0.1モル)、及びn−
アミルアルコール125gを装入し、窒素雰囲気下で、
100℃まで昇温させた。次に、同温度で塩化パラジウ
ム5.3g(0.03モル)を添加し、95〜100℃
で20時間反応させた。反応終了後、冷却し、不溶物を
濾別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した後、カラ
ム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン)して、目
的とするα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロ
シアニンパラジウム化合物の濃緑色結晶を得た。収量は
16.8g(収率63%)であった。高速液体クロトグ
ラフィーによる純度測定の結果は99.0%であった。
可視吸光スペクトル及び元素分析の結果は以下の通りで
ある。
管を備えた容器に、3−(2,4−ジメチル−1−ペン
テニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g(0.
1モル)、DBU15.2g(0.1モル)、及びn−
アミルアルコール125gを装入し、窒素雰囲気下で、
100℃まで昇温させた。次に、同温度で塩化パラジウ
ム5.3g(0.03モル)を添加し、95〜100℃
で20時間反応させた。反応終了後、冷却し、不溶物を
濾別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した後、カラ
ム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン)して、目
的とするα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロ
シアニンパラジウム化合物の濃緑色結晶を得た。収量は
16.8g(収率63%)であった。高速液体クロトグ
ラフィーによる純度測定の結果は99.0%であった。
可視吸光スペクトル及び元素分析の結果は以下の通りで
ある。
【0056】可視吸収:λmax=692nm εg=2.6×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0057】上記フタロシアニン化合物のn−オクタン
溶液(10g/l)をスパイラルグルーブ(ピッチ1.
6μm、溝幅0.6μm、溝深0.18μm)付きの外
形120mm、厚さ1.2mmのCD−R用ポリカーボ
ネート基板上に500〜1000rpmでスピンコート
成膜した。その上に30nmの金をスパッタ蒸着して反
射層を形成し、続いて光硬化型ポリアクリル樹脂により
オーバーコートした後、光硬化させ保護層を形成してC
D−R型媒体を作製した。この媒体に、波長780nm
のレーザーを用いて、線速1.4m/sでEFM信号を
6.0mWのパワーで書き込んだときのエラーレート
は、0.2%未満であり、カーボンアーク灯63℃、2
00時間の耐久試験においても変化はなかった。
溶液(10g/l)をスパイラルグルーブ(ピッチ1.
6μm、溝幅0.6μm、溝深0.18μm)付きの外
形120mm、厚さ1.2mmのCD−R用ポリカーボ
ネート基板上に500〜1000rpmでスピンコート
成膜した。その上に30nmの金をスパッタ蒸着して反
射層を形成し、続いて光硬化型ポリアクリル樹脂により
オーバーコートした後、光硬化させ保護層を形成してC
D−R型媒体を作製した。この媒体に、波長780nm
のレーザーを用いて、線速1.4m/sでEFM信号を
6.0mWのパワーで書き込んだときのエラーレート
は、0.2%未満であり、カーボンアーク灯63℃、2
00時間の耐久試験においても変化はなかった。
【0058】実施例2 実施例1と同様の容器に、3−(2,4−ジメチル−1
−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g
(0.1モル)、DBU15.2g(0.1モル)およ
びn−アミルアルコール120gを装入し、窒素雰囲気
下で100℃まで昇温させた。次に、同温度で塩化第一
銅3.0g(0.03モル)を添加し、95〜100℃
で10時間反応させた。反応終了後、冷却し、不溶物を
濾別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した後、カラ
ム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン)して、目
的とするα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロ
シアニン銅化合物の濃緑色結晶を得た。収量は19.8
g(収率77.1%)であった。高速液体クロマトグラ
フィーによる純度分析の結果は99.6%であった。可
視吸光スペクトル及び元素分析の結果は以下の通りであ
る。
−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g
(0.1モル)、DBU15.2g(0.1モル)およ
びn−アミルアルコール120gを装入し、窒素雰囲気
下で100℃まで昇温させた。次に、同温度で塩化第一
銅3.0g(0.03モル)を添加し、95〜100℃
で10時間反応させた。反応終了後、冷却し、不溶物を
濾別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した後、カラ
ム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン)して、目
的とするα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロ
シアニン銅化合物の濃緑色結晶を得た。収量は19.8
g(収率77.1%)であった。高速液体クロマトグラ
フィーによる純度分析の結果は99.6%であった。可
視吸光スペクトル及び元素分析の結果は以下の通りであ
る。
【0059】可視吸収λmax=708nm εg=2.4×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0060】上記フタロシアニン化合物のジブチルエー
テル溶液(10g/l)を実施例1と同様にスピンコー
ターによりCD−R用ポリカーボネート基板上に塗布
し、その上に金をスパッタ蒸着し、続いてUV硬化樹脂
を用いて保護層を形成し、CD−R型媒体を作製した。
この媒体に780nmの半導体レーザーを用いて、線速
1.4m/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き
込んだときのエラーレートは、0.2%未満であり、
0.5mWの再生光で百万回再生を行っても変化がなか
った。また80℃/85%の条件で1000時間経過後
も記録再生に支障はなかった。
テル溶液(10g/l)を実施例1と同様にスピンコー
ターによりCD−R用ポリカーボネート基板上に塗布
し、その上に金をスパッタ蒸着し、続いてUV硬化樹脂
を用いて保護層を形成し、CD−R型媒体を作製した。
この媒体に780nmの半導体レーザーを用いて、線速
1.4m/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き
込んだときのエラーレートは、0.2%未満であり、
0.5mWの再生光で百万回再生を行っても変化がなか
った。また80℃/85%の条件で1000時間経過後
も記録再生に支障はなかった。
【0061】実施例3 実施例1と同様の容器に、3−(2,4−ジメチル−1
−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g
(0.1モル)、DBU15.2g(0.1モル)およ
びn−アミルアルコール120gを装人し、窒素雰囲気
下で100℃まで昇温させた。次に、同温度で三塩化バ
ナジウム4.7g(0.03モル)を添加し、95〜1
00℃で10時間反応させた。反応終了後、冷却し、不
溶物を濾別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した
後、カラム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン)
して、目的とするα位に不飽和炭化水素オキシ基を有す
るフタロシアニンオキシバナジウム化合物の濃緑色結晶
を得た。収量は11.6g(収率45.3%)であっ
た。液体クロマトグラフィーによる純度分析の結果は9
9.0%であった。可視吸光スペクトルおよび元素分析
の結果は以下の通りである。
−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g
(0.1モル)、DBU15.2g(0.1モル)およ
びn−アミルアルコール120gを装人し、窒素雰囲気
下で100℃まで昇温させた。次に、同温度で三塩化バ
ナジウム4.7g(0.03モル)を添加し、95〜1
00℃で10時間反応させた。反応終了後、冷却し、不
溶物を濾別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した
後、カラム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン)
して、目的とするα位に不飽和炭化水素オキシ基を有す
るフタロシアニンオキシバナジウム化合物の濃緑色結晶
を得た。収量は11.6g(収率45.3%)であっ
た。液体クロマトグラフィーによる純度分析の結果は9
9.0%であった。可視吸光スペクトルおよび元素分析
の結果は以下の通りである。
【0062】可視吸収:λmax=733nm εg=2.6×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0063】上記フタロシアニン化合物10gをジブチ
ルエーテルとジイソプロピルエーテル3:1(体積比)
混合溶媒500mlに溶解し、スピンコーターによりポ
リカーボネート製光カード基板上に厚み100nmで塗
布し、続いて塗布面にUV硬化樹脂を用いて保護層を設
けて光カ一ドを作製した。このカードは、800nm、
線速2m/s,4mWのレーザー光により記録した時、
CN比は61dBであった。また、線速2m/s,0.
8mWのレーザー光により再生可能で、再生光安定性を
調ベたところ、105回の 再生が可能であった。さらに
この光カードは保存安定性も良好なものであった。
ルエーテルとジイソプロピルエーテル3:1(体積比)
混合溶媒500mlに溶解し、スピンコーターによりポ
リカーボネート製光カード基板上に厚み100nmで塗
布し、続いて塗布面にUV硬化樹脂を用いて保護層を設
けて光カ一ドを作製した。このカードは、800nm、
線速2m/s,4mWのレーザー光により記録した時、
CN比は61dBであった。また、線速2m/s,0.
8mWのレーザー光により再生可能で、再生光安定性を
調ベたところ、105回の 再生が可能であった。さらに
この光カードは保存安定性も良好なものであった。
【0064】実施例4 実施例1と同様の容器に、3−(2,4−ジメチルー1
−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g
(0.1モル)、DBU15.2g(0.1モル)およ
びn−アミルアルコール120gを装入し、窒素雰囲気
下で100℃まで昇温させた。次に、同温度で塩化マグ
ネシウム2.8g(0.03モル)を添加し、95〜1
00℃で15時間反応させた。反応終了後、冷却し、不
溶物を濾別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した
後、カラム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン:
酢酸エチル=8:2体積比)して、目的とするα位に不
飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニンマグネシ
ウム化合物の濃緑色結晶を得た。収量は13.8g(収
率56.2%)であった。液体クロマトグラフィーによ
る純度分析の結果は98.9%であった。可視吸光スペ
クトルおよび元素分析の結果は以下の通りである。
−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g
(0.1モル)、DBU15.2g(0.1モル)およ
びn−アミルアルコール120gを装入し、窒素雰囲気
下で100℃まで昇温させた。次に、同温度で塩化マグ
ネシウム2.8g(0.03モル)を添加し、95〜1
00℃で15時間反応させた。反応終了後、冷却し、不
溶物を濾別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した
後、カラム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン:
酢酸エチル=8:2体積比)して、目的とするα位に不
飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニンマグネシ
ウム化合物の濃緑色結晶を得た。収量は13.8g(収
率56.2%)であった。液体クロマトグラフィーによ
る純度分析の結果は98.9%であった。可視吸光スペ
クトルおよび元素分析の結果は以下の通りである。
【0065】可視吸収λmax=704nm εg=2.6×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0066】上記フタロシアニン化合物のエチルシクロ
ヘキサン溶液(20g/l)を実施例1と同様にスピン
コーターによりCD−R用ポリカーボネート基板上に塗
布し、その上に金をスパッタ蒸着し、続いてUV硬化樹
脂を用いて保護層を形成し、CD−R型媒体を作製し
た。この媒体に780nmの半導体レーザーを用いて、
線速2.8m/sでEFM信号を6.0mWのパワーで
書き込んだときのエラーレートは、0.2%未満であ
り、0.5mWの再生光で百万回再生を行っても変化が
なかった。また80℃/85%の条件で1000時間経
過後も記録再生に支障はなかった。
ヘキサン溶液(20g/l)を実施例1と同様にスピン
コーターによりCD−R用ポリカーボネート基板上に塗
布し、その上に金をスパッタ蒸着し、続いてUV硬化樹
脂を用いて保護層を形成し、CD−R型媒体を作製し
た。この媒体に780nmの半導体レーザーを用いて、
線速2.8m/sでEFM信号を6.0mWのパワーで
書き込んだときのエラーレートは、0.2%未満であ
り、0.5mWの再生光で百万回再生を行っても変化が
なかった。また80℃/85%の条件で1000時間経
過後も記録再生に支障はなかった。
【0067】実施例5 実施例1と同様の容器に、3−(2,4−ジメチル−1
−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g
(0.1モル)、DBU15.2g(0.1モル)およ
びn−アミルアルコール120gを装入し、窒素雰囲気
下で100℃まで昇温させた。次に、同温度で塩化亜鉛
4.1g(0.03モル)を添加し、95〜100℃で
25時間反応させた。反応終了後、冷却し、不溶物を濾
別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した後、カラム
精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン:酢酸エチル
=8:2体積比)して、目的とするα位に不飽和炭化水
素オキシ基を有するフタロシアニン亜鉛化合物の濃緑色
結晶を得た。収量は16.9g(収率65.8%)であ
った。液体クロマトグラフィーによる純度分析の結果は
99.1%であった。可視吸光スペクトルおよび元素分
析の結果は以下の通りである。
−ペンテニル−3−オキシ)フタロニトリル24.0g
(0.1モル)、DBU15.2g(0.1モル)およ
びn−アミルアルコール120gを装入し、窒素雰囲気
下で100℃まで昇温させた。次に、同温度で塩化亜鉛
4.1g(0.03モル)を添加し、95〜100℃で
25時間反応させた。反応終了後、冷却し、不溶物を濾
別した。濾液を減圧濃縮して溶媒を回収した後、カラム
精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン:酢酸エチル
=8:2体積比)して、目的とするα位に不飽和炭化水
素オキシ基を有するフタロシアニン亜鉛化合物の濃緑色
結晶を得た。収量は16.9g(収率65.8%)であ
った。液体クロマトグラフィーによる純度分析の結果は
99.1%であった。可視吸光スペクトルおよび元素分
析の結果は以下の通りである。
【0068】可視吸収λmax=706nm εg=2.5×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0069】上記フタロシアニン化合物を用いて実施例
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
【0070】実施例6 3−ニトロフタロニトリルの代わりに4−ニトロフタロ
ニトリルを用いる以外は実施例1と同様の操作を行い4
−(2,4−ジメチル−1−ペンテニル−3−オキシ)
フタロニトリルを合成し、β位に不飽和炭化水素オキシ
基を有するフタロシアニンパラジウム化合物を得た。
ニトリルを用いる以外は実施例1と同様の操作を行い4
−(2,4−ジメチル−1−ペンテニル−3−オキシ)
フタロニトリルを合成し、β位に不飽和炭化水素オキシ
基を有するフタロシアニンパラジウム化合物を得た。
【0071】4−(2,4−ジメチル−1−ペンテニル
−3−オキシ)フタロニトリルの収量は41.0g(収
率85.3%)であり、高速液体クロマトグラフィーに
よる純度分析の結果は98.9%であった。元素分析の
結果は以下の通りである。
−3−オキシ)フタロニトリルの収量は41.0g(収
率85.3%)であり、高速液体クロマトグラフィーに
よる純度分析の結果は98.9%であった。元素分析の
結果は以下の通りである。
【0072】
【0073】フタロシアニンパラジウム化合物の収量は
18.7g(収率70.2%)であり、液体クロマトグ
ラフィーによる純度分析の結果は99.0%であった。
可視吸光スペクトルおよび元素分析の結果は以下の通り
である。
18.7g(収率70.2%)であり、液体クロマトグ
ラフィーによる純度分析の結果は99.0%であった。
可視吸光スペクトルおよび元素分析の結果は以下の通り
である。
【0074】可視吸収λmax=688nm εg=1.5×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0075】上記フタロシアニン化合物を用いて実施例
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレ一トは、0.2%未満であった。
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレ一トは、0.2%未満であった。
【0076】実施例7〜9 2,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オール28.5
gの代わりに4−メチル−4−ヘプテン−3−オール3
2.1gを用いる以外は実施例1〜3と同様な操作を行
い、3−(4−メチル−4−ヘプテニル−3−オキシ)
フタロニトリルを合成し、さらにα位に不飽和炭化水素
オキシ基を有するフタロシアニンパラジウム,銅及びオ
キシバナジウム化合物を得た。
gの代わりに4−メチル−4−ヘプテン−3−オール3
2.1gを用いる以外は実施例1〜3と同様な操作を行
い、3−(4−メチル−4−ヘプテニル−3−オキシ)
フタロニトリルを合成し、さらにα位に不飽和炭化水素
オキシ基を有するフタロシアニンパラジウム,銅及びオ
キシバナジウム化合物を得た。
【0077】3−(4−メチル−4−ヘプテニル−3−
オキシ)フタロニトリルの収量は41.2g(収率8
1.0%)であり、高速液体クロマトグラフィーによる
純度分析の結果は99.0%であった。元素分析の結果
は以下の通りであった。
オキシ)フタロニトリルの収量は41.2g(収率8
1.0%)であり、高速液体クロマトグラフィーによる
純度分析の結果は99.0%であった。元素分析の結果
は以下の通りであった。
【0078】
【0079】フタロシアニンパラジウム、銅及びオキシ
バナジウム化合物の収量、高速液体クロマトグラフィー
による純度、可視吸光スペクトル及び元素分析の結果を
以下に示す。
バナジウム化合物の収量、高速液体クロマトグラフィー
による純度、可視吸光スペクトル及び元素分析の結果を
以下に示す。
【0080】 フタロシアニンパラジウム化合物(実施例7) 収量17.4g(収率62.0%)、純度99.1% 可視吸収:λmax=691nm εg=2.6×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0081】フタロシアニン銅化合物(実施例8) 収量20.6g(収率76.2%)、純度99.0% 可視吸収:λmax=707nm εg=2.5×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0082】 フタロシアニンオキシバナジウム化合物(実施例9) 収量12.0g(収率44.1%)、純度98.8% 可視吸収:λmax=730nm εg=2.6×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0083】上記各フタロシアニン化合物において、ジ
メチルシクロヘキサン溶液(10g/l)をスピンコー
ターによりPMMA製光カード基板上に厚み100nm
で塗布し、続いて塗布面にUV硬化樹脂を用いて保護層
を形成し、光カードを作製した。これらの光カードは、
780nm(フタロシアニンオキシバナジウム化合物を
用いた媒体の時のみ800nm)、線速2m/s,4m
Wの半導体レーザー光により記録することが可能で、そ
の際のCN比は58〜61dBであった。また、線速2
m/s,0.8mWのレーザー光により再生可能で、再
生光安定性を調べたところ105回の再生が可能であっ
た。さらに、上記各フタロシアニン化合物を用いて実施
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。これらの
媒体に、波長780nm(フタロシアニンオキシバナジ
ウム化合物を用いた媒体の時のみ800nm)のレーザ
ーを用いて、線速1.4m/sでEFM信号を6.0m
Wのパワーで書き込んだときのエラーレートは、0.2
%未満であった。
メチルシクロヘキサン溶液(10g/l)をスピンコー
ターによりPMMA製光カード基板上に厚み100nm
で塗布し、続いて塗布面にUV硬化樹脂を用いて保護層
を形成し、光カードを作製した。これらの光カードは、
780nm(フタロシアニンオキシバナジウム化合物を
用いた媒体の時のみ800nm)、線速2m/s,4m
Wの半導体レーザー光により記録することが可能で、そ
の際のCN比は58〜61dBであった。また、線速2
m/s,0.8mWのレーザー光により再生可能で、再
生光安定性を調べたところ105回の再生が可能であっ
た。さらに、上記各フタロシアニン化合物を用いて実施
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。これらの
媒体に、波長780nm(フタロシアニンオキシバナジ
ウム化合物を用いた媒体の時のみ800nm)のレーザ
ーを用いて、線速1.4m/sでEFM信号を6.0m
Wのパワーで書き込んだときのエラーレートは、0.2
%未満であった。
【0084】実施例10 2,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オール28.5
gの代わりに2−メチル−4−ヘキセン−3−オール2
8.5gを用いる、及び塩化パラジウム5.3gの代わ
りに塩化ニッケル3.9gを用いる以外は実施例1と同
様な操作を行い、3−(2−メチル−4−ヘキセニル−
3−オキシ)フタロニトリルを合成し、さらにα位に不
飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニンニッケル
化合物を得た。
gの代わりに2−メチル−4−ヘキセン−3−オール2
8.5gを用いる、及び塩化パラジウム5.3gの代わ
りに塩化ニッケル3.9gを用いる以外は実施例1と同
様な操作を行い、3−(2−メチル−4−ヘキセニル−
3−オキシ)フタロニトリルを合成し、さらにα位に不
飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニンニッケル
化合物を得た。
【0085】3−(2−メチル−4−ヘキセニル−3−
オキシ)フタロニトリルの収量は40.0g(収率8
3.2%)であり、高速液体クロマトグラフィーによる
純度分析の結果は99.1%であった。元素分析の結果
は以下の通りであった。
オキシ)フタロニトリルの収量は40.0g(収率8
3.2%)であり、高速液体クロマトグラフィーによる
純度分析の結果は99.1%であった。元素分析の結果
は以下の通りであった。
【0086】
【0087】フタロシアニンニッケル化合物の収量は1
7.1g(収率64.1%)であり、高速液体クロマト
グラフィーによる純度測定の結果は98.8%であっ
た。可視吸光スペクトル及び元素分析の結果は以下の通
りである。
7.1g(収率64.1%)であり、高速液体クロマト
グラフィーによる純度測定の結果は98.8%であっ
た。可視吸光スペクトル及び元素分析の結果は以下の通
りである。
【0088】可視吸収:λmax=700nm εg=2.0×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0089】上記フタロシアニン化合物を用いて実施例
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
【0090】実施例11 2,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オール28.5
gの代わりに2−メチル−1,5−ヘプタジエン−4−
オール31.6gを用いること、及び塩化パラジウム
5.3gの代わりに塩化コバルト3.9gを用いる以外
は実施例1と同様な操作を行い、3−(2−メチル−
1,5−ヘプタジエニル−4−オキシ)フタロニトリル
を合成し、さらにα位に不飽和炭化水素オキシ基を有す
るフタロシアニンコバルト化合物を得た。
gの代わりに2−メチル−1,5−ヘプタジエン−4−
オール31.6gを用いること、及び塩化パラジウム
5.3gの代わりに塩化コバルト3.9gを用いる以外
は実施例1と同様な操作を行い、3−(2−メチル−
1,5−ヘプタジエニル−4−オキシ)フタロニトリル
を合成し、さらにα位に不飽和炭化水素オキシ基を有す
るフタロシアニンコバルト化合物を得た。
【0091】3−(2−メチル−1,5−ヘプタジエニ
ル−4−オキシ)フタロニトリルの収量は42.1g
(収率83.0%)であり、高速液体クロマトグラフィ
ーによる純度分析の結果は98.8%であった。元素分
析の結果は以下の通りであった。
ル−4−オキシ)フタロニトリルの収量は42.1g
(収率83.0%)であり、高速液体クロマトグラフィ
ーによる純度分析の結果は98.8%であった。元素分
析の結果は以下の通りであった。
【0092】
【0093】フタロシアニンコバルト化合物の収量は1
3.5g(収率50.3%)であり、高速液体クロマト
グラフィーによる純度測定の結果は98.8%であっ
た。可視吸光スペクトル及び元素分析の結果は以下の通
りである。
3.5g(収率50.3%)であり、高速液体クロマト
グラフィーによる純度測定の結果は98.8%であっ
た。可視吸光スペクトル及び元素分析の結果は以下の通
りである。
【0094】可視吸収:λmax=695nm εg=2.1×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0095】上記フタロシアニン化合物を用いて実施例
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
【0096】実施例12〜14 2,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オール28.5
gの代わりに3,5−ジメチル−1,6−ヘプタジエン
−4−オール35gを用いる以外は実施例1と同様な操
作を行い、3−(3,5−ジメチル−1,6−ヘプタジ
エン−4−オキシ)フタロニトリルを合成し、さらにα
位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニンパ
ラジウム,銅及びオキシバナジウム化合物を得た。
gの代わりに3,5−ジメチル−1,6−ヘプタジエン
−4−オール35gを用いる以外は実施例1と同様な操
作を行い、3−(3,5−ジメチル−1,6−ヘプタジ
エン−4−オキシ)フタロニトリルを合成し、さらにα
位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニンパ
ラジウム,銅及びオキシバナジウム化合物を得た。
【0097】3−(3,5−ジメチル−1,6−ヘプタ
ジエン−4−オキシ)フタロニトリルの収量は44.7
g(収率84.0%)であり、高速液体クロマトグラフ
ィーによる純度分析の結果は99.1%であった。元素
分析の結果は以下の通りであった。
ジエン−4−オキシ)フタロニトリルの収量は44.7
g(収率84.0%)であり、高速液体クロマトグラフ
ィーによる純度分析の結果は99.1%であった。元素
分析の結果は以下の通りであった。
【0098】
【0099】フタロシアニンパラジウム、銅及びオキシ
バナジウム化合物の収量、高速液体クロマトグラフィー
による純度、可視吸光スペクトル及び元素分析の結果を
以下に示す。
バナジウム化合物の収量、高速液体クロマトグラフィー
による純度、可視吸光スペクトル及び元素分析の結果を
以下に示す。
【0100】 フタロシアニンパラジウム化合物(実施例12) 収量19.0g(収率65.0%)、純度99.0% 可視吸収:λmax=690nm εg=1.9×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0101】 フタロシアニン銅化合物(実施例13) 収量21.4g(収率76%)、純度99.6% 可視吸収:λmax=706nm εg=1.6×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0102】 フタロシアニンオキシバナジウム化合物(実施例14) 収量15.5g(収率54.8%)、純度99.0% 可視吸収:λmax=733.5nm εg=1.9×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0103】上記各フタロシアニン化合物において、ジ
メチルシクロヘキサン溶液(10g/l)を実施例3と
同様にポリカーボネート製光カード基板上に塗布し、塗
布面に保護層を形成し、光カードを作製した。これらの
光カードは、780nm(フタロシアニンオキシバナジ
ウム化合物を用いた媒体の時のみ800nm)、線速2
m/s,4mWの半導体レーザー光により記録すること
が可能で、その際のCN比は58〜61dBであった。
また、線速2m/s,0.8mWのレーザー光により再
生可能で、再生光安定性を調べたところ105回の再生
が可能であった。さらに、上記各フタロシアニン化合物
を用いて実施例1と同様にしてCD−R型媒体を作製し
た。これらの媒体に、波長780nm(フタロシアニン
オキシバナジウム化合物を用いた媒体の時のみ800n
m)のレーザーを用いて、線速1.4m/sでEFM信
号を6.0mWのパワーで書き込んだときのエラーレー
トは、0.2%未満であった。
メチルシクロヘキサン溶液(10g/l)を実施例3と
同様にポリカーボネート製光カード基板上に塗布し、塗
布面に保護層を形成し、光カードを作製した。これらの
光カードは、780nm(フタロシアニンオキシバナジ
ウム化合物を用いた媒体の時のみ800nm)、線速2
m/s,4mWの半導体レーザー光により記録すること
が可能で、その際のCN比は58〜61dBであった。
また、線速2m/s,0.8mWのレーザー光により再
生可能で、再生光安定性を調べたところ105回の再生
が可能であった。さらに、上記各フタロシアニン化合物
を用いて実施例1と同様にしてCD−R型媒体を作製し
た。これらの媒体に、波長780nm(フタロシアニン
オキシバナジウム化合物を用いた媒体の時のみ800n
m)のレーザーを用いて、線速1.4m/sでEFM信
号を6.0mWのパワーで書き込んだときのエラーレー
トは、0.2%未満であった。
【0104】実施例15、16 2,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オール28.5
gの代わりに2,5−ジメチル−5−ヘキセン−3−オ
ール32gを用いる以外は実施例1と同様な操作を行
い、3−(2,5−ジメチル−5−ヘキセン−3−オキ
シ)フタロニトリルを合成し、さらにα位に不飽和炭化
水素オキシ基を有するフタロシアニンパラジウム及び銅
化合物を得た。
gの代わりに2,5−ジメチル−5−ヘキセン−3−オ
ール32gを用いる以外は実施例1と同様な操作を行
い、3−(2,5−ジメチル−5−ヘキセン−3−オキ
シ)フタロニトリルを合成し、さらにα位に不飽和炭化
水素オキシ基を有するフタロシアニンパラジウム及び銅
化合物を得た。
【0105】3−(2,5−ジメチル−5−ヘキセン−
3−オキシ)フタロニトリルの収量は43.7g(収率
86.0%)であり、高速液体クロマトグラフィーによ
る純度分析の結果は99.0%であった。元素分析の結
果は以下の通りであった。
3−オキシ)フタロニトリルの収量は43.7g(収率
86.0%)であり、高速液体クロマトグラフィーによ
る純度分析の結果は99.0%であった。元素分析の結
果は以下の通りであった。
【0106】
【0107】フタロシアニンパラジウム及び銅化合物の
収量、高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸
光スペクトル及び元素分析の結果を以下に示す。
収量、高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸
光スペクトル及び元素分析の結果を以下に示す。
【0108】 フタロシアニンパラジウム化合物(実施例15) 収量17.4g(収率62.1%)、純度99.9% 可視吸収:λmax=688.5nm εg=1.9×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0109】 フタロシアニン銅化合物(実施例16) 収量22.0g(収率81.5%)、純度99.2% 可視吸収:λmax=705nm εg=2.1×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0110】上記各フタロシアニン化合物を用いて実施
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。これらの
媒体に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.
4m/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込ん
だときのエラーレートは、0.2%未満であった。ま
た、これらの媒体にキセノンランプ50℃による耐光性
試験を行ったところ、200時間経過しても変化がなか
った。
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。これらの
媒体に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.
4m/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込ん
だときのエラーレートは、0.2%未満であった。ま
た、これらの媒体にキセノンランプ50℃による耐光性
試験を行ったところ、200時間経過しても変化がなか
った。
【0111】実施例17 2,4−ジメチル−1−ペンテン−3−オール28.5
gの代わりに2,4−ジメチル−3ペンタノール29.
1gを用いる以外は実施例1と同様な操作を行い、3−
(2,4−ジメチルペンチル−3−オキシ)フタロニト
リルを合成した。収量は38.7g(収率80%)であ
り、高速液体クロマトグラフィーによる純度分析の結果
は99.1%であった。元素分析の結果は以下の通りで
あった。
gの代わりに2,4−ジメチル−3ペンタノール29.
1gを用いる以外は実施例1と同様な操作を行い、3−
(2,4−ジメチルペンチル−3−オキシ)フタロニト
リルを合成した。収量は38.7g(収率80%)であ
り、高速液体クロマトグラフィーによる純度分析の結果
は99.1%であった。元素分析の結果は以下の通りで
あった。
【0112】
【0113】得られた3−(2,4−ジメチルペンチル
−3−オキシ)フタロニトリルと実施例7〜9で合成し
た3−(4−メチル−4−ヘプテニル−3−オキシ)フ
タロニトリルとを1:1モル比で混合し、実施例1と同
様にα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシア
ニンパラジウム化合物を得た。
−3−オキシ)フタロニトリルと実施例7〜9で合成し
た3−(4−メチル−4−ヘプテニル−3−オキシ)フ
タロニトリルとを1:1モル比で混合し、実施例1と同
様にα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシア
ニンパラジウム化合物を得た。
【0114】フタロシアニンパラジウム化合物の収量、
高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペ
クトル及び元素分析の結果を以下に示す。
高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペ
クトル及び元素分析の結果を以下に示す。
【0115】 収量17.4g(収率62.1%)、純度99.9% 可視吸収:λmax=691.0nm εg=2.5×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0116】上記フタロシアニン化合物を用いて実施例
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。これらの媒
体に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4
m/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだ
ときのエラーレートは、0.2%未満であった。
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。これらの媒
体に、波長780nmのレーザーを用いて、線速1.4
m/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだ
ときのエラーレートは、0.2%未満であった。
【0117】実施例18 下記構造式(A)
【0118】
【化13】 で示されるフタロニトリル誘導体29.6g(0.1モ
ル)、DBU15.2g(0.1モル)及びn−アミル
アルコール125gの混合溶液中に塩化パラジウム5.
3g(0.03モル)を添加し、95〜100℃で20
時間反応させた。反応混合物をメタノール1400g中
に排出し、結晶を析出させ、得られた結晶をカラム精製
(シリカゲル500g、溶媒トルエン)することによ
り、8つのα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタ
ロシアニンパラジウム化合物を得た。
ル)、DBU15.2g(0.1モル)及びn−アミル
アルコール125gの混合溶液中に塩化パラジウム5.
3g(0.03モル)を添加し、95〜100℃で20
時間反応させた。反応混合物をメタノール1400g中
に排出し、結晶を析出させ、得られた結晶をカラム精製
(シリカゲル500g、溶媒トルエン)することによ
り、8つのα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタ
ロシアニンパラジウム化合物を得た。
【0119】フタロシアニンパラジウム化合物の収量、
高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペ
クトル及び元素分析の結果を以下に示す。
高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペ
クトル及び元素分析の結果を以下に示す。
【0120】 収量14.6g(収率45.3%)、純度99.3% 可視吸収:λmax=724.0nm εg=1.7×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0121】上記フタロシアニン化合物のジブチルエー
テル溶液(10g/l)をポリカーボネート製光カード
基板上に厚み100nmで塗布し、続いて塗布面にUV
硬化樹脂を用いて保護層を設けて光カ一ドを作製した。
このカードは、780nm、線速2m/s,4mWのレ
ーザー光により記録した時、CN比は60dBであっ
た。また、線速2m/s,0.8mWのレーザー光によ
り再生可能で、再生光安定性を調ベたところ、105回
の 再生が可能であった。さらにこの光カードは保存安
定性も良好なものであった。
テル溶液(10g/l)をポリカーボネート製光カード
基板上に厚み100nmで塗布し、続いて塗布面にUV
硬化樹脂を用いて保護層を設けて光カ一ドを作製した。
このカードは、780nm、線速2m/s,4mWのレ
ーザー光により記録した時、CN比は60dBであっ
た。また、線速2m/s,0.8mWのレーザー光によ
り再生可能で、再生光安定性を調ベたところ、105回
の 再生が可能であった。さらにこの光カードは保存安
定性も良好なものであった。
【0122】実施例19 塩化パラジウム5.3gの代わりに塩化第一銅3.0g
を添加する以外は実施例18と同様の操作を行い、8つ
のα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニ
ン銅化合物を得た。
を添加する以外は実施例18と同様の操作を行い、8つ
のα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニ
ン銅化合物を得た。
【0123】フタロシアニン銅化合物の収量、高速液体
クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル及
び元素分析の結果を以下に示す。
クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル及
び元素分析の結果を以下に示す。
【0124】 収量17.9g(収率57.2%)、純度99.4% 可視吸収:λmax=740.0nm εg=1.9×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0125】上記フタロシアニン化合物を用いて実施例
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長800nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長800nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
【0126】実施例20 塩化パラジウム5.3gの代わりに塩化第一鉄3.8g
を添加する以外は実施例18と同様の操作を行い、8つ
のα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニ
ン鉄化合物を得た。
を添加する以外は実施例18と同様の操作を行い、8つ
のα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニ
ン鉄化合物を得た。
【0127】フタロシアニン鉄化合物の収量、高速液体
クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル及
び元素分析の結果を以下に示す。
クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル及
び元素分析の結果を以下に示す。
【0128】 収量13.4g(収率43.2%)、純度99.0% 可視吸収:λmax=730.0nm εg=1.9×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0129】上記フタロシアニン化合物を用いて実施例
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長800nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。また80
℃/85%の条件で1000時間経過後も記録再生に支
障はなかった。
1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長800nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。また80
℃/85%の条件で1000時間経過後も記録再生に支
障はなかった。
【0130】実施例21 下記構造式(B)
【0131】
【化14】 で示されるフタロニトリル誘導体29.8g(0.1モ
ル)、DBU15.2g(0.1モル)及びn−アミル
アルコール125gの混合溶液中に塩化第一銅3.0g
(0.03モル)を添加し、95〜100℃で10時間
反応させた。反応混合物をメタノール1400g中に排
出し、結晶を析出させ、得られた結晶をカラム精製(シ
リカゲル500g、溶媒トルエン)することにより、8
つのα位に飽和または不飽和の炭化水素オキシ基を有す
るフタロシアニン銅化合物を得た。
ル)、DBU15.2g(0.1モル)及びn−アミル
アルコール125gの混合溶液中に塩化第一銅3.0g
(0.03モル)を添加し、95〜100℃で10時間
反応させた。反応混合物をメタノール1400g中に排
出し、結晶を析出させ、得られた結晶をカラム精製(シ
リカゲル500g、溶媒トルエン)することにより、8
つのα位に飽和または不飽和の炭化水素オキシ基を有す
るフタロシアニン銅化合物を得た。
【0132】フタロシアニン銅化合物の収量、高速液体
クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル及
び元素分析の結果を以下に示す。
クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル及
び元素分析の結果を以下に示す。
【0133】 収量17.3g(収率55.1%)、純度99.0% 可視吸収:λmax=739.5nm εg=1.9×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0134】上記フタロシアニン化合物のジメチルシク
ロヘキサン溶液(10g/l)をスピンコーターにより
ポリカーボネート製光カード基板上に厚み100nmで
塗布し、続いて塗布面にUV硬化樹脂を用いて保護層を
設けて光カ一ドを作製した。このカードは、800n
m、線速2m/s,4mWのレーザー光により記録した
時、CN比は59dBであった。また、実施例1と同様
にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体に、波長8
00nmのレーザーを用いて、線速1.4m/sでEF
M信号を6.0mWのパワーで書き込んだときのエラー
レートは、0.2%未満であった。80℃/85%の条
件で1000時間経過後も記録再生に支障はなかった。
ロヘキサン溶液(10g/l)をスピンコーターにより
ポリカーボネート製光カード基板上に厚み100nmで
塗布し、続いて塗布面にUV硬化樹脂を用いて保護層を
設けて光カ一ドを作製した。このカードは、800n
m、線速2m/s,4mWのレーザー光により記録した
時、CN比は59dBであった。また、実施例1と同様
にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体に、波長8
00nmのレーザーを用いて、線速1.4m/sでEF
M信号を6.0mWのパワーで書き込んだときのエラー
レートは、0.2%未満であった。80℃/85%の条
件で1000時間経過後も記録再生に支障はなかった。
【0135】実施例22 下記構造式(C)
【0136】
【化15】 で示されるフタロニトリル誘導体32.4g(0.1モ
ル)、DBU15.2g(0.1モル)及びn−アミル
アルコール125gの混合溶液中に塩化第一銅3.0g
(0.03モル)を添加し、95〜100℃で10時間
反応させた。反応混合物をメタノール1400g中に排
出し、結晶を析出させ、得られた結晶をカラム精製(シ
リカゲル500g、溶媒トルエン)することにより、8
つのα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシア
ニン銅化合物を得た。
ル)、DBU15.2g(0.1モル)及びn−アミル
アルコール125gの混合溶液中に塩化第一銅3.0g
(0.03モル)を添加し、95〜100℃で10時間
反応させた。反応混合物をメタノール1400g中に排
出し、結晶を析出させ、得られた結晶をカラム精製(シ
リカゲル500g、溶媒トルエン)することにより、8
つのα位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシア
ニン銅化合物を得た。
【0137】フタロシアニン銅化合物の収量、高速液体
クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル及
び元素分析の結果を以下に示す。
クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル及
び元素分析の結果を以下に示す。
【0138】 収量24.5g(収率72.4%)、純度99.2% 可視吸収:λmax=736.5nm εg=1.6×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0139】上記フタロシアニン化合物を用いて実施例
21と同様にして光カ一ド型媒体を作製した。この媒体
に800nm、線速2m/s,4mWのレーザー光によ
り記録した時、CN比は57dBであった。また、線速
2m/s,0.8mWのレーザー光により再生可能で、
再生光安定性を調ベたところ、105回の 再生が可能で
あった。さらに保存安定性も良好なものであった。
21と同様にして光カ一ド型媒体を作製した。この媒体
に800nm、線速2m/s,4mWのレーザー光によ
り記録した時、CN比は57dBであった。また、線速
2m/s,0.8mWのレーザー光により再生可能で、
再生光安定性を調ベたところ、105回の 再生が可能で
あった。さらに保存安定性も良好なものであった。
【0140】実施例23 下記構造式(D)
【0141】
【化16】 で示されるジイミノイソインドリン誘導体31.3g
(0.1モル)及びキノリン200gの混合溶液中に四
塩化珪素34.0g(0.2モル)を添加し、185〜
195℃で5時間反応させた。反応混合物をメタノール
2000g中に排出し、結晶を析出させ、得られた結晶
をカラム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン:酢
酸エチル=8:2(体積比))することにより、8つの
α位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニン
珪素化合物(中心金属はSiCl2)を得た。
(0.1モル)及びキノリン200gの混合溶液中に四
塩化珪素34.0g(0.2モル)を添加し、185〜
195℃で5時間反応させた。反応混合物をメタノール
2000g中に排出し、結晶を析出させ、得られた結晶
をカラム精製(シリカゲル500g、溶媒トルエン:酢
酸エチル=8:2(体積比))することにより、8つの
α位に不飽和炭化水素オキシ基を有するフタロシアニン
珪素化合物(中心金属はSiCl2)を得た。
【0142】フタロシアニン珪素化合物の収量、高速液
体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル
及び元素分析の結果を以下に示す。
体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル
及び元素分析の結果を以下に示す。
【0143】 収量12.5g(収率39.0%)、純度99.0% 可視吸収:λmax=743.0nm εg=2.2×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0144】上記フタロシアニン化合物のジブチルエー
テル溶液(10g/l)をポリカーボネート製光カード
基板上に厚み100nmで塗布し、続いて塗布面にUV
硬化樹脂を用いて保護層を設けて光カ一ドを作製した。
このカードは、800nm、線速2m/s,4mWのレ
ーザー光により記録した時、CN比は59dBであっ
た。また、線速2m/s,0.8mWのレーザー光によ
り再生可能で、再生光安定性を調ベたところ、105回
の 再生が可能であった。
テル溶液(10g/l)をポリカーボネート製光カード
基板上に厚み100nmで塗布し、続いて塗布面にUV
硬化樹脂を用いて保護層を設けて光カ一ドを作製した。
このカードは、800nm、線速2m/s,4mWのレ
ーザー光により記録した時、CN比は59dBであっ
た。また、線速2m/s,0.8mWのレーザー光によ
り再生可能で、再生光安定性を調ベたところ、105回
の 再生が可能であった。
【0145】実施例24 下記構造式(E)
【0146】
【化17】 で示されるナフタロニトリル誘導体29.0g(0.1
モル)、モリブデン酸アンモニウム0.03g、尿素1
500g、塩化第一銅3.0g(0.03モル)からな
る混合物を加熱し、200〜260℃で1時間反応させ
た。次に反応溶液にクロロホルムを加え、不溶物を濾過
後、濾液を濃縮し、カラム精製(シリカゲル500g、
溶媒トルエン)することにより、α位に不飽和炭化水素
オキシ基を有するナフタロシアニン銅化合物を得た。
モル)、モリブデン酸アンモニウム0.03g、尿素1
500g、塩化第一銅3.0g(0.03モル)からな
る混合物を加熱し、200〜260℃で1時間反応させ
た。次に反応溶液にクロロホルムを加え、不溶物を濾過
後、濾液を濃縮し、カラム精製(シリカゲル500g、
溶媒トルエン)することにより、α位に不飽和炭化水素
オキシ基を有するナフタロシアニン銅化合物を得た。
【0147】ナフタロシアニン銅化合物の収量、高速液
体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル
及び元素分析の結果を以下に示す。
体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル
及び元素分析の結果を以下に示す。
【0148】 収量3.1g(収率10.0%)、純度99.0% 可視吸収:λmax=825.0nm εg=2.2×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0149】上記ナフタロシアニン化合物を用いて実施
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長830nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長830nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
【0150】実施例25 下記構造式(F)
【0151】
【化18】 で示されるナフタロニトリル誘導体34.6g(0.1
モル)、モリブデン酸アンモニウム0.03g、尿素1
500g、塩化第一銅3.0g(0.03モル)からな
る混合物を加熱し、200〜260℃で2時間反応させ
た。次に反応溶液にクロロホルムを加え、不溶物を濾過
後、濾液を濃縮し、カラム精製(シリカゲル500g、
溶媒トルエン)することにより、8つのα位に不飽和炭
化水素オキシ基を有するナフタロシアニン銅化合物を得
た。
モル)、モリブデン酸アンモニウム0.03g、尿素1
500g、塩化第一銅3.0g(0.03モル)からな
る混合物を加熱し、200〜260℃で2時間反応させ
た。次に反応溶液にクロロホルムを加え、不溶物を濾過
後、濾液を濃縮し、カラム精製(シリカゲル500g、
溶媒トルエン)することにより、8つのα位に不飽和炭
化水素オキシ基を有するナフタロシアニン銅化合物を得
た。
【0152】ナフタロシアニン銅化合物の収量、高速液
体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル
及び元素分析の結果を以下に示す。
体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペクトル
及び元素分析の結果を以下に示す。
【0153】 収量2.9g(収率8.1%)、純度99.1% 可視吸収:λmax=853.0nm εg=2.1×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0154】上記ナフタロシアニン化合物を用いて実施
例23と同様にして光カ一ドを作製した。このカード
は、830nm、線速2m/s,4mWのレーザー光に
より記録した時、CN比は58dBであった。また、線
速2m/s,0.8mWのレーザー光により再生可能
で、再生光安定性を調ベたところ、105回の 再生が可
能であった。さらに保存安定性も良好なものであった。
例23と同様にして光カ一ドを作製した。このカード
は、830nm、線速2m/s,4mWのレーザー光に
より記録した時、CN比は58dBであった。また、線
速2m/s,0.8mWのレーザー光により再生可能
で、再生光安定性を調ベたところ、105回の 再生が可
能であった。さらに保存安定性も良好なものであった。
【0155】実施例26 前記構造式(E)及び構造式(F)で示されるナフタロ
ニトリル誘導体を1:1のモル比で混合したものを、実
施例24において、塩化第一銅の代わりに塩化ニッケル
と加熱反応させることによりナフタロシアニンニッケル
化合物を得た。
ニトリル誘導体を1:1のモル比で混合したものを、実
施例24において、塩化第一銅の代わりに塩化ニッケル
と加熱反応させることによりナフタロシアニンニッケル
化合物を得た。
【0156】ナフタロシアニンニッケル化合物の収量、
高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペ
クトル及び元素分析の結果を以下に示す。
高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光スペ
クトル及び元素分析の結果を以下に示す。
【0157】 収量3.3g(収率9.8%)、純度99.9% 可視吸収:λmax=815.0nm εg=2.2×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0158】上記ナフタロシアニン化合物を用いて実施
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長830nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であり、カーボンア
ーク灯63℃、200時間の耐久試験においても変化は
なかった。
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長830nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であり、カーボンア
ーク灯63℃、200時間の耐久試験においても変化は
なかった。
【0159】実施例27 下記構造式(G)
【0160】
【化19】 で示されるナフタロニトリル誘導体27.4g(0.1
モル)、1−クロロナフタレン150g及び三塩化バナ
ジウム4.7g(0.03モル)からなる混合物を加熱
し、230℃で4時間反応させた。反応溶液を75%メ
タノール水に排出し、析出した固体を瀘別し、カラム精
製(シリカゲル500g、溶媒トルエン)することによ
り、α位に不飽和炭化水素オキシ基を有する1,2−ナ
フタロシアニンオキシバナジウム化合物を得た。
モル)、1−クロロナフタレン150g及び三塩化バナ
ジウム4.7g(0.03モル)からなる混合物を加熱
し、230℃で4時間反応させた。反応溶液を75%メ
タノール水に排出し、析出した固体を瀘別し、カラム精
製(シリカゲル500g、溶媒トルエン)することによ
り、α位に不飽和炭化水素オキシ基を有する1,2−ナ
フタロシアニンオキシバナジウム化合物を得た。
【0161】1,2−ナフタロシアニンオキシバナジウ
ム化合物の収量、高速液体クロマトグラフィーによる純
度、可視吸光スペクトル及び元素分析の結果を以下に示
す。
ム化合物の収量、高速液体クロマトグラフィーによる純
度、可視吸光スペクトル及び元素分析の結果を以下に示
す。
【0162】 収量5.9g(収率20.2%)、純度99.0% 可視吸収:λmax=750.0nm εg=2.0×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0163】上記ナフタロシアニン化合物を用いて実施
例23と同様にして光カ一ドを作製した。この媒体に波
長830nm、線速2m/s,4mWのレーザー光によ
り記録した時、CN比は58dBであった。また、線速
2m/s,0.8mWのレーザー光により再生可能で、
再生光安定性を調ベたところ、105回の 再生が可能で
あった。さらに保存安定性も良好なものであった。
例23と同様にして光カ一ドを作製した。この媒体に波
長830nm、線速2m/s,4mWのレーザー光によ
り記録した時、CN比は58dBであった。また、線速
2m/s,0.8mWのレーザー光により再生可能で、
再生光安定性を調ベたところ、105回の 再生が可能で
あった。さらに保存安定性も良好なものであった。
【0164】実施例28 下記構造式(H)
【0165】
【化20】 で示されるナフタロニトリル誘導体40.3g(0.1
モル)、N,N−ジメチルアミノエタノール320g、
DBU15.2g(0.1モル)及び塩化第一銅3.0
g(0.03モル)からなる混合物を加熱し、還流下6
時間反応させた。反応溶液を5%塩酸水に排出した。析
出した結晶を濾別し、カラム精製(シリカゲル500
g、溶媒トルエン)することにより、不飽和炭化水素オ
キシ基を有する1,2−ナフタロシアニン銅化合物を得
た。
モル)、N,N−ジメチルアミノエタノール320g、
DBU15.2g(0.1モル)及び塩化第一銅3.0
g(0.03モル)からなる混合物を加熱し、還流下6
時間反応させた。反応溶液を5%塩酸水に排出した。析
出した結晶を濾別し、カラム精製(シリカゲル500
g、溶媒トルエン)することにより、不飽和炭化水素オ
キシ基を有する1,2−ナフタロシアニン銅化合物を得
た。
【0166】1,2−ナフタロシアニン銅化合物の収
量、高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光
スペクトル及び元素分析の結果を以下に示す。
量、高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光
スペクトル及び元素分析の結果を以下に示す。
【0167】 収量7.9g(収率18.9%)、純度99.9% 可視吸収:λmax=727.0nm εg=1.8×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0168】上記ナフタロシアニン化合物を用いて実施
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長800nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長800nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
【0169】実施例29 前記構造式(H)の代わりに下記構造式(J)
【0170】
【化21】 で示されるナフタロニトリル誘導体40.3g(0.1
モル)を用いた以外は実施例28と同様にして不飽和炭
化水素オキシ基を有する1,2−ナフタロシアニン銅化
合物を得た。
モル)を用いた以外は実施例28と同様にして不飽和炭
化水素オキシ基を有する1,2−ナフタロシアニン銅化
合物を得た。
【0171】1,2−ナフタロシアニン銅化合物の収
量、高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光
スペクトル及び元素分析の結果を以下に示す。
量、高速液体クロマトグラフィーによる純度、可視吸光
スペクトル及び元素分析の結果を以下に示す。
【0172】 収量12.1g(収率28.9%)、純度99.5% 可視吸収:λmax=715.0nm εg=1.6×105 cm2 g-1(溶媒:トルエン)
【0173】上記ナフタロシアニン化合物を用いて実施
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長800nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
例1と同様にしてCD−R型媒体を作製した。この媒体
に、波長800nmのレーザーを用いて、線速1.4m
/sでEFM信号を6.0mWのパワーで書き込んだと
きのエラーレートは、0.2%未満であった。
【0174】比較試験 以上得られた光吸収化合物を用いた光記録媒体と、公知
の光吸収化合物を用いた光記録媒体についてその性能を
比較した。本発明の媒体として、実施例1、2、10、
11、13、17、18、24及び27の化合物を用い
て実施例1と同様にして作製した媒体を使用し、比較例
として下記3種の公知アルコキシフタロシアニンまたは
アルコキシナフタロシアニンを用いて実施例1と同様に
して作製した媒体を使用した。
の光吸収化合物を用いた光記録媒体についてその性能を
比較した。本発明の媒体として、実施例1、2、10、
11、13、17、18、24及び27の化合物を用い
て実施例1と同様にして作製した媒体を使用し、比較例
として下記3種の公知アルコキシフタロシアニンまたは
アルコキシナフタロシアニンを用いて実施例1と同様に
して作製した媒体を使用した。
【0175】比較例1:下記構造式で示される特開平3
−62878号公報(USP 5,124,067)の例示化合物
−62878号公報(USP 5,124,067)の例示化合物
【0176】
【化22】
【0177】比較例2:下記構造式で示される特開平2
−296885号公報の例示化合物
−296885号公報の例示化合物
【0178】
【化23】
【0179】比較例3:下記構造式で示される特開平2
−43269号公報(USP 4,960,538)の例示化合物
−43269号公報(USP 4,960,538)の例示化合物
【0180】
【化24】
【0181】光吸収化合物の吸収波長に合わせて適切な
レーザー波長での記録・再生を行った。具体的には、フ
タロシアニン系化合物を用いた媒体は780nmのレー
ザー、フタロシアニン系化合物より吸収波長が高波長側
にずれるナフタロシアニン系化合物を用いた媒体は波長
830nmのレーザーを使用し、下記3種の方法で記録
した。 通常記録:線速度1.4m/s(1倍速)で63分の情
報を記録する。 高速記録:線速度5.6m/s(4倍速)で63分の情
報を記録する。 高密度記録:線速度1.2m/sで74分の情報を記録
する。
レーザー波長での記録・再生を行った。具体的には、フ
タロシアニン系化合物を用いた媒体は780nmのレー
ザー、フタロシアニン系化合物より吸収波長が高波長側
にずれるナフタロシアニン系化合物を用いた媒体は波長
830nmのレーザーを使用し、下記3種の方法で記録
した。 通常記録:線速度1.4m/s(1倍速)で63分の情
報を記録する。 高速記録:線速度5.6m/s(4倍速)で63分の情
報を記録する。 高密度記録:線速度1.2m/sで74分の情報を記録
する。
【0182】尚、通常記録の時のみ6.0と3.6mW
の2つのレーザーパワーで記録し、他の記録方法による
時は6.0mWで記録した。
の2つのレーザーパワーで記録し、他の記録方法による
時は6.0mWで記録した。
【0183】さらに記録感度(C/N比)、ジッター及
びデビエイションをそれぞれCDデコーダー(DR35
52、ケンウッド社製)、LJM−1851ジッターメ
ーター(リーダー電子製)、TIA−175タイムイン
ターバルアナライザー(ADC社製)を用いてそれぞれ
計測した。これらの評価結果を表1に示す。
びデビエイションをそれぞれCDデコーダー(DR35
52、ケンウッド社製)、LJM−1851ジッターメ
ーター(リーダー電子製)、TIA−175タイムイン
ターバルアナライザー(ADC社製)を用いてそれぞれ
計測した。これらの評価結果を表1に示す。
【0184】
【表1】
【0185】評価基準 感度(C/N比) A:≧55dB B:<55dB ジッター A:3Tピットジッター及び3Tランドジッターが <
35ns B:3Tピットジッター及び3Tランドジッターが ≧
35ns デビエイション A: −50ns< 3T及び11Tデビエイション
<50ns B: 3T及び11Tデビエイション ≧50ns 又は3T及び11Tデビエイション ≦−50ns
35ns B:3Tピットジッター及び3Tランドジッターが ≧
35ns デビエイション A: −50ns< 3T及び11Tデビエイション
<50ns B: 3T及び11Tデビエイション ≧50ns 又は3T及び11Tデビエイション ≦−50ns
【0186】表1から分かるように、本発明の光吸収化
合物、特に芳香環に結合している置換基ORが、その芳
香環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて2、3番目
の炭素原子間に二重結合を有する不飽和炭化水素オキシ
基である化合物、を用いた光記録媒体は、通常記録の
6.0mWレーザーパワー及び3.6mW低レーザーパ
ワー、高速記録及び高密度記録において良好な感度、記
録特性を示した。それに対して比較例1〜3の公知化合
物を用いた光記録媒体では、通常記録で6.0mW以上
のレーザーパワーの場合は良好な感度、記録特性を示す
が、低レーザーパワー、高速記録及び高密度記録の場合
の感度、記録特性は不十分であった。
合物、特に芳香環に結合している置換基ORが、その芳
香環結合酸素原子の隣の炭素原子から数えて2、3番目
の炭素原子間に二重結合を有する不飽和炭化水素オキシ
基である化合物、を用いた光記録媒体は、通常記録の
6.0mWレーザーパワー及び3.6mW低レーザーパ
ワー、高速記録及び高密度記録において良好な感度、記
録特性を示した。それに対して比較例1〜3の公知化合
物を用いた光記録媒体では、通常記録で6.0mW以上
のレーザーパワーの場合は良好な感度、記録特性を示す
が、低レーザーパワー、高速記録及び高密度記録の場合
の感度、記録特性は不十分であった。
【0187】
【発明の効果】本発明の光吸収化合物は、分子内にある
芳香環に炭素間三重結合または炭素間二重結合を含有す
る不飽和炭化水素オキシ基の導入したものであり、この
化合物を用いた光記録媒体においては、反射層である金
属層との密着性が増し、書き込み時の分解を制御できた
ことから通常記録時のみならず高速記録、高密度記録時
における感度及び記録特性が向上した。さらに、特定の
位置に炭素間二重結合を有する不飽和炭化水素オキシ基
のクライゼン転位を利用して、低レーザーパワーでの、
感度、記録特性の良好な光記録媒体への書き込みを可能
にした。
芳香環に炭素間三重結合または炭素間二重結合を含有す
る不飽和炭化水素オキシ基の導入したものであり、この
化合物を用いた光記録媒体においては、反射層である金
属層との密着性が増し、書き込み時の分解を制御できた
ことから通常記録時のみならず高速記録、高密度記録時
における感度及び記録特性が向上した。さらに、特定の
位置に炭素間二重結合を有する不飽和炭化水素オキシ基
のクライゼン転位を利用して、低レーザーパワーでの、
感度、記録特性の良好な光記録媒体への書き込みを可能
にした。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小口 貴久 千葉県茂原市東郷1144番地 三井東圧化学 株式会社内 (72)発明者 大井 龍 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 相原 伸 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 伊藤 尚登 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内
Claims (19)
- 【請求項1】 下記一般式(I) Dye−(OR1)(OR2)(OR3)・・・(ORn) (I) 〔式(I)中、Dyeはジチオール金属錯体系、フタロ
シアニン系、ナフタロシアニン系、ナフトキノン系、ア
ントラキノン系、シアニン系、メロシアニン系、オキソ
ノール系、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、スクワリリウム系、ピリリウム系、キサンテン系、
オキサジン系、アゾ系、インジゴ系、インドアニリン
系、インドフェノール系、スチリル系、スピロピラン
系、フルオラン系、アズレン系の光吸収化合物残基であ
り、かつ該残基内に芳香環を有するものを表す。OR1
〜ORnはDye中の芳香環上にある置換基を示し、そ
れぞれ独立に(a)置換または未置換の炭素数1〜20
の飽和炭化水素オキシ基、または(b)置換または未置
換の炭素数2〜20の不飽和炭化水素オキシ基を表わ
す。但し、OR1〜ORnのうち少なくとも一つは不飽和
炭化水素オキシ基である。nは1〜10である〕で表さ
れる光吸収化合物。 - 【請求項2】 請求項1において、OR1〜ORnが分岐
した飽和又は不飽和炭化水素オキシ基である光吸収化合
物。 - 【請求項3】 請求項1において、OR1〜ORnが不飽
和炭化水素オキシ基であり、かつDye芳香環結合酸素
原子の隣の炭素原子から数えて2、3番目の炭素原子間
に二重結合を有する光吸収化合物。 - 【請求項4】 下記一般式(II) 【化1】 〔式(II)中、L1、L2、L3及びL4は、それぞれ独立
したOR基を0〜2個有するベンゼン環またはナフタレ
ン環骨格を表わし、かつL1、L2、L3及びL4のうち少
なくとも1つはOR置換基を1個以上含有する。OR置
換基は(a)炭素数1〜20の置換または未置換の飽和
炭化水素オキシ基または、(b)炭素数2〜20の置換
または未置換の不飽和炭化水素オキシ基を表わす。但
し、L1、L2、L3及びL4に有する全てのOR置換基の
うち少なくとも1つは不飽和炭化水素オキシ基である。
Metは2個の水素原子、2価金属原子、3価1置換金
属原子、4価2置換金属原子、オキシ金属原子を表
す。〕で表される請求項1の光吸収化合物。 - 【請求項5】 一般式(II)において、L1、L2、L3
及びL4に有するOR置換基が分岐した飽和または不飽
和炭化水素オキシ基である請求項4の光吸収化合物 - 【請求項6】 一般式(II)において、L1、L2、L3
及びL4に有するOR置換基の少なくとも1個が不飽和
炭化水素オキシ基であり、かつ1個以上の二重結合を有
し、該二重結合が芳香環結合酸素原子の隣の炭素原子か
ら数えて2、3番目の炭素原子間に存在する請求項4の
光吸収化合物。 - 【請求項7】 下記一般式(III) 【化2】 〔式(III)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及
びR8は、それぞれ独立に(a)炭素数1〜20の置換
または未置換の飽和炭化水素基または、(b)炭素数2
〜20の置換または未置換の不飽和炭化水素基を表わ
す。但し、R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも1つ
は不飽和炭化水素基である。k,l,m及びnはORの
数を表わすもので、0または1である。Metは2個の
水素原子、2価金属原子、3価1置換金属原子、4価2
置換金属原子、オキシ金属原子を表す。〕で示されるナ
フタロシアニン化合物である請求項4の光吸収化合物。 - 【請求項8】 一般式(III)において、R1、R2、
R3、R4、R5、R6、R7及びR8が分岐した飽和または
不飽和炭化水素基であり、かつOR1、OR2、OR3及
びOR4の置換位置が各々1または6、7または12、
13または18、及び19または24のα位である請求
項7の光吸収化合物。 - 【請求項9】 一般式(III)において、R1、R2、R3
及びR4のうち少なくとも1つは、1個以上の二重結合
を有し、該二重結合がナフタレン環結合酸素原子の隣の
炭素原子から数えて2、3番目の炭素原子間に存在する
請求項7の光吸収化合物。 - 【請求項10】 下記一般式(IV) 【化3】 〔式(IV)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及
びR8は、それぞれ独立に(a)炭素数1〜20の置換
または未置換の飽和炭化水素基または、(b)炭素数2
〜20の置換または未置換の不飽和炭化水素基を表わ
す。但し、R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも1つ
は不飽和炭化水素基である。k,l,m及びnはORの
数を表わすもので、0または1である。Metは2個の
水素原子、2価金属原子、3価1置換金属原子、4価2
置換金属原子、オキシ金属原子を表す。〕で示されるナ
フタロシアニン化合物である請求項4の光吸収化合物。 - 【請求項11】 一般式(IV)において、R1、R2、R
3、R4、R5、R6、R7及びR8が分岐した飽和または不
飽和炭化水素基であり、かつOR1、OR2、OR3及び
OR4の置換位置が各々6、12、18、及び24のα
位である請求項10の光吸収化合物。 - 【請求項12】 一般式(IV)において、R1、R2、R
3及びR4のうち少なくとも1つは、1個以上の二重結合
を有し、該二重結合がナフタレン環結合酸素原子の隣の
炭素原子から数えて2、3番目の炭素原子間に存在する
請求項10の光吸収化合物。 - 【請求項13】 下記一般式(V) 【化4】 〔式(V)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及
びR8は、それぞれ独立に(a)炭素数1〜20の置換
または未置換の飽和炭化水素基または、(b)炭素数2
〜20の置換または未置換の不飽和炭化水素基を表わ
す。但し、R1、R2、R3及びR4のうち少なくとも1つ
は不飽和炭化水素基である。k,l,m及びnはORの
数を表わすもので、0または1である。Metは2個の
水素原子、2価金属原子、3価1置換金属原子、4価2
置換金属原子、オキシ金属原子を表す。〕で示されるフ
タロシアニン化合物である請求項4の光吸収化合物。 - 【請求項14】 一般式(V)において、R1、R2、R
3、R4、R5、R6、R7及びR8が分岐した飽和または不
飽和炭化水素基である請求項13の光吸収化合物。 - 【請求項15】 一般式(V)において、R1、R2、R
3及びR4のうち少なくとも1つは、1個以上の二重結合
を有し、該二重結合がベンゼン環結合酸素原子の隣の炭
素原子から数えて2、3番目の炭素原子間に存在する請
求項13の光吸収化合物。 - 【請求項16】 一般式(V)において、OR1、O
R2、OR3、OR4、OR5、OR6、OR7及びOR8の
置換位置が各々1、4、5、8、9、12、13及び1
6のα位である請求項13の光吸収化合物。 - 【請求項17】 一般式(V)において、R1、R2、R
3及びR4が不飽和炭化水素基であり、1個以上の二重結
合を有し、該二重結合がベンゼン環結合酸素原子の隣の
炭素原子から数えて2、3番目の炭素原子間に存在し、
かつk,l,m及びnが0である請求項13の光吸収化
合物。 - 【請求項18】 一般式(V)において、R1、R2、R
3及びR4が二重結合を含有している不飽和炭化水素基で
あり、OR1、OR2、OR3及びOR4の置換位置が1又
は4位、5又は8位、9又は12位、及び13又は16
位であり、かつk,l,m及びnが0である請求項13
の光吸収化合物。 - 【請求項19】 請求項1〜18に記載の光吸収化合物
を記録層に含有して形成される光記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14075793A JP3732528B2 (ja) | 1992-06-12 | 1993-06-11 | 光吸収化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15371892 | 1992-06-12 | ||
JP4-153718 | 1993-01-29 | ||
JP5-13507 | 1993-01-29 | ||
JP1350793 | 1993-01-29 | ||
JP14075793A JP3732528B2 (ja) | 1992-06-12 | 1993-06-11 | 光吸収化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH06279697A true JPH06279697A (ja) | 1994-10-04 |
JP3732528B2 JP3732528B2 (ja) | 2006-01-05 |
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ID=27280280
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JP14075793A Expired - Fee Related JP3732528B2 (ja) | 1992-06-12 | 1993-06-11 | 光吸収化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 |
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JP (1) | JP3732528B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015225290A (ja) * | 2014-05-29 | 2015-12-14 | 山本化成株式会社 | ナフタロシアニン化合物を含有して成るフィルタ |
JP2016053617A (ja) * | 2014-09-03 | 2016-04-14 | 山本化成株式会社 | ナフタロシアニン化合物を含有して成るフィルタ |
-
1993
- 1993-06-11 JP JP14075793A patent/JP3732528B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP3732528B2 (ja) | 2006-01-05 |
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