JPH05318149A - レーザマーカのｘｙ偏光器 - Google Patents
レーザマーカのｘｙ偏光器Info
- Publication number
- JPH05318149A JPH05318149A JP4146390A JP14639092A JPH05318149A JP H05318149 A JPH05318149 A JP H05318149A JP 4146390 A JP4146390 A JP 4146390A JP 14639092 A JP14639092 A JP 14639092A JP H05318149 A JPH05318149 A JP H05318149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polarizer
- driven
- laser marker
- polariscope
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザマーカのＸＹ偏光器に係わり、殊に、
耐温度変化性、高速微動制御性及び偏光可能範囲性に優
れたレーザマーカのＸＹ偏光器を提供する。 【構成】 予めワーク９上の全刻印領域をＸＹ方向に複
数個の小領域に分割し、同一光路から入射した集光レー
ザ光Ｌを前記各分割刻印領域毎に順次偏光して照射する
ことにより、前記全刻印領域に所定の全体パターンＰを
刻印することを達成してなるレーザマーカのＸＹ偏光器
において、該ＸＹ偏光器は、少なくとも、Ｘ軸１２上に
駆動されるＸテーブル１ｘと該Ｘテーブル１ｘの反力受
け部材１４面上をＹ方向に自在摺動するＹテーブル１ｙ
とからなる第１ＸＹテーブル１０と、Ｙ軸２２上に駆動
されるＹテーブル２ｙと該Ｙテーブル２ｙの反力受け部
材２４面上をＸ方向に自在摺動するＸテーブル２ｘとか
らなる第２ＸＹテーブル２０と、前記Ｙテーブル１ｙと
Ｘテーブル２ｘとに固設されてなる基台３０に格納され
て前記集光レーザ光Ｌを透過させるレンズ４０とからな
る構成とした。
耐温度変化性、高速微動制御性及び偏光可能範囲性に優
れたレーザマーカのＸＹ偏光器を提供する。 【構成】 予めワーク９上の全刻印領域をＸＹ方向に複
数個の小領域に分割し、同一光路から入射した集光レー
ザ光Ｌを前記各分割刻印領域毎に順次偏光して照射する
ことにより、前記全刻印領域に所定の全体パターンＰを
刻印することを達成してなるレーザマーカのＸＹ偏光器
において、該ＸＹ偏光器は、少なくとも、Ｘ軸１２上に
駆動されるＸテーブル１ｘと該Ｘテーブル１ｘの反力受
け部材１４面上をＹ方向に自在摺動するＹテーブル１ｙ
とからなる第１ＸＹテーブル１０と、Ｙ軸２２上に駆動
されるＹテーブル２ｙと該Ｙテーブル２ｙの反力受け部
材２４面上をＸ方向に自在摺動するＸテーブル２ｘとか
らなる第２ＸＹテーブル２０と、前記Ｙテーブル１ｙと
Ｘテーブル２ｘとに固設されてなる基台３０に格納され
て前記集光レーザ光Ｌを透過させるレンズ４０とからな
る構成とした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザマーカのＸＹ偏
光器に係わり、殊に、耐温度変化性、高速微動制御性及
び偏光可能範囲性に優れたレーザマーカのＸＹ偏光器に
関する。
光器に係わり、殊に、耐温度変化性、高速微動制御性及
び偏光可能範囲性に優れたレーザマーカのＸＹ偏光器に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のレーザマーカのＸＹ偏光
器は、ワーク手前に配置され、該ワーク上の広い刻印領
域に対し、該ワークを移動させることなく、広域パター
ンを高精度で刻印させてゆくものである。即ち、ワーク
上の全刻印領域と、これに対応すべき全パターンとを、
予めＸＹ方向に細分しておき、ＸＹ偏光器は、各分割パ
ターンの情報を含んだ集光レーザ光を同一光路から受光
する毎に、これを各分割パターンが刻印されるべき各分
割刻印領域へ偏光照射させることにより、全刻印領域に
徐々に全パターンを刻印させてゆくものである。
器は、ワーク手前に配置され、該ワーク上の広い刻印領
域に対し、該ワークを移動させることなく、広域パター
ンを高精度で刻印させてゆくものである。即ち、ワーク
上の全刻印領域と、これに対応すべき全パターンとを、
予めＸＹ方向に細分しておき、ＸＹ偏光器は、各分割パ
ターンの情報を含んだ集光レーザ光を同一光路から受光
する毎に、これを各分割パターンが刻印されるべき各分
割刻印領域へ偏光照射させることにより、全刻印領域に
徐々に全パターンを刻印させてゆくものである。
【０００３】即ち、従来、かかるＸＹ偏光器には、次の
ような構成が知られる。 （１）互い直交した２つのガルバノスキャナメータでな
るＸＹ偏光器 （２）ガルバノスキャナメータと、これに直交して駆動
されるテーブル上に設けられたレンズとでなるＸＹ偏光
器
ような構成が知られる。 （１）互い直交した２つのガルバノスキャナメータでな
るＸＹ偏光器 （２）ガルバノスキャナメータと、これに直交して駆動
されるテーブル上に設けられたレンズとでなるＸＹ偏光
器
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、かかるレー
ザマーカにおけるＸＹ偏光器の良否は、その耐温度変化
性、高速微動制御性と偏光可能範囲性とで決定される。
例えば高速微動制御性が悪いと、各分割刻印領域間に重
印が生じたり、線を引いたような刻印洩れが生ずるよう
になる。また例えば偏光可能範囲性が狭いと、大きな領
域に渡り、刻印することができなくなる。
ザマーカにおけるＸＹ偏光器の良否は、その耐温度変化
性、高速微動制御性と偏光可能範囲性とで決定される。
例えば高速微動制御性が悪いと、各分割刻印領域間に重
印が生じたり、線を引いたような刻印洩れが生ずるよう
になる。また例えば偏光可能範囲性が狭いと、大きな領
域に渡り、刻印することができなくなる。
【０００５】かかる観点によれば、上記従来のＸＹ偏光
器は、次に示すとおり、決して満足すべきものとは言え
ない。 （１）互い直交した２つのガルバノスキャナメータでな
るＸＹ偏光器は、該ガルバノスキャナメータ自体が環境
の温度変化に対して敏感に反応して駆動精度を低下げて
しまうという問題がある。また最初に位置するガルバノ
スキャナメータの偏向可能範囲は勿論広くとれるが、こ
の最初に位置するガルバノスキャナメータの偏向可能範
囲を大きくとればとる程、この最初に位置するガルバノ
スキャナメータによって偏向されたレーザ光を受光して
再度偏向反射するための後に位置するガルバノスキャナ
メータが巨大になってしまうという不都合がある。即
ち、個々に見れば、ガルバノスキャナメータの偏光可能
範囲は広いが、全体としては、大きな偏向可能範囲はと
れず、無理をしてこの偏向可能範囲を広くすると、後に
位置するガルバノスキャナメータ及びその駆動系の質量
が増大してしまい、高速微動制御性が不良となってしま
う不都合がある。 （２）ガルバノスキャナメータと、これに直交して駆動
されるテーブル上に設けられたレンズとでなるＸＹ偏光
器は、上述（１）のとおり、ガルバノスキャナメータ自
体及びその駆動系質量の増大を避けるため、該ガルバノ
スキャナメータは最初に位置させる必要があるが、それ
でも、該ガルバノスキャナメータ自体の環境温度変化に
よる駆動精度の低下を回避することはできない。しか
も、最初に位置したガルバノスキャナメータの偏向可能
範囲が如何に広いと言えども、この偏向可能範囲は、後
に位置するレンズの仕様によって制限されてしまう不都
合がある。
器は、次に示すとおり、決して満足すべきものとは言え
ない。 （１）互い直交した２つのガルバノスキャナメータでな
るＸＹ偏光器は、該ガルバノスキャナメータ自体が環境
の温度変化に対して敏感に反応して駆動精度を低下げて
しまうという問題がある。また最初に位置するガルバノ
スキャナメータの偏向可能範囲は勿論広くとれるが、こ
の最初に位置するガルバノスキャナメータの偏向可能範
囲を大きくとればとる程、この最初に位置するガルバノ
スキャナメータによって偏向されたレーザ光を受光して
再度偏向反射するための後に位置するガルバノスキャナ
メータが巨大になってしまうという不都合がある。即
ち、個々に見れば、ガルバノスキャナメータの偏光可能
範囲は広いが、全体としては、大きな偏向可能範囲はと
れず、無理をしてこの偏向可能範囲を広くすると、後に
位置するガルバノスキャナメータ及びその駆動系の質量
が増大してしまい、高速微動制御性が不良となってしま
う不都合がある。 （２）ガルバノスキャナメータと、これに直交して駆動
されるテーブル上に設けられたレンズとでなるＸＹ偏光
器は、上述（１）のとおり、ガルバノスキャナメータ自
体及びその駆動系質量の増大を避けるため、該ガルバノ
スキャナメータは最初に位置させる必要があるが、それ
でも、該ガルバノスキャナメータ自体の環境温度変化に
よる駆動精度の低下を回避することはできない。しか
も、最初に位置したガルバノスキャナメータの偏向可能
範囲が如何に広いと言えども、この偏向可能範囲は、後
に位置するレンズの仕様によって制限されてしまう不都
合がある。
【０００６】本発明は、上記従来技術の不都合に着目
し、耐温度変化性、高速微動制御性及び偏光可能範囲性
に優れたレーザマーカのＸＹ偏光器を提供することを目
的とする。
し、耐温度変化性、高速微動制御性及び偏光可能範囲性
に優れたレーザマーカのＸＹ偏光器を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係わるレーザマーカのＸＹ偏光器は、図１
及び図２を参照して説明すれば、予めワーク９上の全刻
印領域をＸＹ方向に複数個の小領域に分割し、同一光路
から入射した集光レーザ光Ｌを前記各分割刻印領域毎に
順次偏光して照射することにより、前記全刻印領域に所
定の全体パターンＰを刻印することを達成してなるレー
ザマーカのＸＹ偏光器において、該ＸＹ偏光器は、少な
くとも、Ｘ軸１２上に駆動されるＸテーブル１ｘと該Ｘ
テーブル１ｘの反力受け部材１４面上をＹ方向に自在摺
動するＹテーブル１ｙとからなる第１ＸＹテーブル１０
と、Ｙ軸２２上に駆動されるＹテーブル２ｙと該Ｙテー
ブル２ｙの反力受け部材２４面上をＸ方向に自在摺動す
るＸテーブル２ｘとからなる第２ＸＹテーブル２０と、
前記Ｙテーブル１ｙとＸテーブル２ｘとに固設されてな
る基台３０に格納されて前記集光レーザ光Ｌを透過させ
るレンズ４０とからなる構成とした。
め、本発明に係わるレーザマーカのＸＹ偏光器は、図１
及び図２を参照して説明すれば、予めワーク９上の全刻
印領域をＸＹ方向に複数個の小領域に分割し、同一光路
から入射した集光レーザ光Ｌを前記各分割刻印領域毎に
順次偏光して照射することにより、前記全刻印領域に所
定の全体パターンＰを刻印することを達成してなるレー
ザマーカのＸＹ偏光器において、該ＸＹ偏光器は、少な
くとも、Ｘ軸１２上に駆動されるＸテーブル１ｘと該Ｘ
テーブル１ｘの反力受け部材１４面上をＹ方向に自在摺
動するＹテーブル１ｙとからなる第１ＸＹテーブル１０
と、Ｙ軸２２上に駆動されるＹテーブル２ｙと該Ｙテー
ブル２ｙの反力受け部材２４面上をＸ方向に自在摺動す
るＸテーブル２ｘとからなる第２ＸＹテーブル２０と、
前記Ｙテーブル１ｙとＸテーブル２ｘとに固設されてな
る基台３０に格納されて前記集光レーザ光Ｌを透過させ
るレンズ４０とからなる構成とした。
【０００８】
【作用】上記構成によれば、第１ＸＹテーブル１０の駆
動にせよ、第２ＸＹテーブル２０の駆動にせよ、また双
方同時駆動にせよ、これら駆動時における外部抵抗は、
他方の反力受け部材１４、２４等の微少抵抗があるだけ
に過ぎず、高速微動制御性に有利になるばかりか、集光
レーザ光Ｌを偏光させるのは、偏光可能範囲が基本的に
広いレンズによるだけであるから、該偏光可能範囲性も
向上するようになる。
動にせよ、第２ＸＹテーブル２０の駆動にせよ、また双
方同時駆動にせよ、これら駆動時における外部抵抗は、
他方の反力受け部材１４、２４等の微少抵抗があるだけ
に過ぎず、高速微動制御性に有利になるばかりか、集光
レーザ光Ｌを偏光させるのは、偏光可能範囲が基本的に
広いレンズによるだけであるから、該偏光可能範囲性も
向上するようになる。
【０００９】
【実施例】本発明の好適な実施例を図１〜図４を参照し
て以下説明する。先ず図１を参照しつつ、本発明を適用
し得るレーザマーカ本体の構成を説明する。同図のレー
ザマーカは、第１ＸＹ偏光器３Ｘ、３Ｙにより、レーザ
光Ｌｏを液晶マスク６上の表示パターンでラスタ走査さ
せ、その透過レーザ光Ｌを第２ＸＹ偏光器により、ワー
ク９へ偏光照射する形式である。
て以下説明する。先ず図１を参照しつつ、本発明を適用
し得るレーザマーカ本体の構成を説明する。同図のレー
ザマーカは、第１ＸＹ偏光器３Ｘ、３Ｙにより、レーザ
光Ｌｏを液晶マスク６上の表示パターンでラスタ走査さ
せ、その透過レーザ光Ｌを第２ＸＹ偏光器により、ワー
ク９へ偏光照射する形式である。
【００１０】即ち、レーザ発振器１からのレーザ光Ｌｏ
はビームスプリッタ２を介し、ガルバノスキャナメータ
３ＹでＹ方向（液晶マスク６で図示上下）に振られ、次
いでリレーレンズ４で縮小され、ポリゴンミラー３Ｘで
Ｘ方向（液晶マスク６で図示左右）に振られる。その
後、レーザ光Ｌｏはさらにレンズ５によって反射鏡７へ
集光されるが、その間に、液晶マスク６に表示された分
割パターン上をラスタ走査する。この分割パターンから
の透過レーザ光Ｌは、反射鏡７と対物レンズ８とを経て
第２ＸＹ偏光器に至り、この第２ＸＹ偏光器により、前
記液晶マスク６上の分割パターンが印字されるべきワー
ク９上の分割刻印領域に偏光照射される。以上により、
該ワーク９の表面に全パターンが順次刻印されてゆく。
尚、上記において、レーザ発振器１の発停、第１ＸＹ偏
光器３Ｘ、３Ｙの駆動、第２ＸＹ偏光器の駆動及び停
止、液晶マスク６上の各分割パターンの表示切替え及び
ワークフィーダの駆動等は、制御器Ｓｏによって同期制
御される。
はビームスプリッタ２を介し、ガルバノスキャナメータ
３ＹでＹ方向（液晶マスク６で図示上下）に振られ、次
いでリレーレンズ４で縮小され、ポリゴンミラー３Ｘで
Ｘ方向（液晶マスク６で図示左右）に振られる。その
後、レーザ光Ｌｏはさらにレンズ５によって反射鏡７へ
集光されるが、その間に、液晶マスク６に表示された分
割パターン上をラスタ走査する。この分割パターンから
の透過レーザ光Ｌは、反射鏡７と対物レンズ８とを経て
第２ＸＹ偏光器に至り、この第２ＸＹ偏光器により、前
記液晶マスク６上の分割パターンが印字されるべきワー
ク９上の分割刻印領域に偏光照射される。以上により、
該ワーク９の表面に全パターンが順次刻印されてゆく。
尚、上記において、レーザ発振器１の発停、第１ＸＹ偏
光器３Ｘ、３Ｙの駆動、第２ＸＹ偏光器の駆動及び停
止、液晶マスク６上の各分割パターンの表示切替え及び
ワークフィーダの駆動等は、制御器Ｓｏによって同期制
御される。
【００１１】尚、本発明が適用されるレーザマーカ本体
の構成は、上記に限られず、例えばレンズ２、４、５、
８や反射鏡７の有無や種類や取り付け位置が異なる形式
は勿論のこと、上記図１のレーザマーカ本体の構成にお
いて、第１ＸＹ偏光器３Ｘ、３Ｙに代わり（即ち、ラス
タ走査を廃止して）、レーザ発振器１から液晶マスク６
の分割パターン上に拡大レンズを介して太いレーザ光Ｌ
ｏを一括照射する形式、また液晶マスク６に代わり、機
械的に各分割パターンを変更表示するマスクを用いる形
式等、多種多様存在する。いずれにせよ、第２ＸＹ偏光
器へ入射するレーザ光Ｌは、同一光路から照射された集
光レーザ光である。
の構成は、上記に限られず、例えばレンズ２、４、５、
８や反射鏡７の有無や種類や取り付け位置が異なる形式
は勿論のこと、上記図１のレーザマーカ本体の構成にお
いて、第１ＸＹ偏光器３Ｘ、３Ｙに代わり（即ち、ラス
タ走査を廃止して）、レーザ発振器１から液晶マスク６
の分割パターン上に拡大レンズを介して太いレーザ光Ｌ
ｏを一括照射する形式、また液晶マスク６に代わり、機
械的に各分割パターンを変更表示するマスクを用いる形
式等、多種多様存在する。いずれにせよ、第２ＸＹ偏光
器へ入射するレーザ光Ｌは、同一光路から照射された集
光レーザ光である。
【００１２】上記レーザマーカ本体の構成において、本
発明に係わるＸＹ偏光器は、上記第２ＸＹ偏光器に相当
し、その第１実施例を、図１の第２ＸＹ偏光器の拡大図
である図２を参照し、以下説明する。
発明に係わるＸＹ偏光器は、上記第２ＸＹ偏光器に相当
し、その第１実施例を、図１の第２ＸＹ偏光器の拡大図
である図２を参照し、以下説明する。
【００１３】図２のＸＹ偏光器は、第１ＸＹテーブル１
０と、第２ＸＹテーブル２０と、基台３０と、レンズ４
０とから構成されている。
０と、第２ＸＹテーブル２０と、基台３０と、レンズ４
０とから構成されている。
【００１４】詳しくは、第１ＸＹテーブル１０は、駆動
モータ１１に接続されてＸ軸１２上をＸ方向に駆動され
るＸテーブル１ｘと、該Ｘテーブル１ｘの反力受け部材
１４面上をＹ方向に自在摺動するＹテーブル１ｙとから
なり、他方第２ＸＹテーブル２０は、駆動モータ２１に
接続されてＹ軸２２上をＹ方向に駆動されるＹテーブル
２ｙと、該Ｙテーブル２ｙの反力受け部材２４面上をＸ
方向に自在に摺動するＸテーブル２ｘとからなる。そし
て前記Ｙテーブル１ｙとＸテーブル２ｘとには基台３０
が固設されており、この基台３０の中央に、集光レーザ
光Ｌを透過させるレンズ４０が格納されている。
モータ１１に接続されてＸ軸１２上をＸ方向に駆動され
るＸテーブル１ｘと、該Ｘテーブル１ｘの反力受け部材
１４面上をＹ方向に自在摺動するＹテーブル１ｙとから
なり、他方第２ＸＹテーブル２０は、駆動モータ２１に
接続されてＹ軸２２上をＹ方向に駆動されるＹテーブル
２ｙと、該Ｙテーブル２ｙの反力受け部材２４面上をＸ
方向に自在に摺動するＸテーブル２ｘとからなる。そし
て前記Ｙテーブル１ｙとＸテーブル２ｘとには基台３０
が固設されており、この基台３０の中央に、集光レーザ
光Ｌを透過させるレンズ４０が格納されている。
【００１５】尚、上記第１実施例では、基台３０とレン
ズ４０（このレンズ４０は１枚の場合もあるが、普通５
〜６枚使用され、かなりの重量となる）との重量によっ
て該基台３０が撓み、これにより、微細刻印精度が低下
するのを避けるため、該基台３０の他辺は、別途備えた
基台５０上の自在摺動部材５１に固設し、基台３０を両
持ちとしてある。
ズ４０（このレンズ４０は１枚の場合もあるが、普通５
〜６枚使用され、かなりの重量となる）との重量によっ
て該基台３０が撓み、これにより、微細刻印精度が低下
するのを避けるため、該基台３０の他辺は、別途備えた
基台５０上の自在摺動部材５１に固設し、基台３０を両
持ちとしてある。
【００１６】図３の第２実施例は、上記第１実施例にお
ける、基台５０及び自在摺動部材５１を除外した構成で
ある。これは、レンズ４０を少なくして構成した場合
等、基台３０とレンズ４０との重量が小さい場合に好適
である。
ける、基台５０及び自在摺動部材５１を除外した構成で
ある。これは、レンズ４０を少なくして構成した場合
等、基台３０とレンズ４０との重量が小さい場合に好適
である。
【００１７】図４は第３実施例であり、上記第１実施例
及び第２実施例との違いは、第１実施例及び第２実施例
ではＹテーブル１ｙとＸテーブル２ｘと基台３０との固
設がボルトによる脱着自在取り付けの構成であるに対
し、本第３実施例のおけるそれは一体化構成である点で
ある。尚、反力受け部材１４、２４と、Ｙテーブル１ｙ
とＸテーブル２ｘとにおける上記第１実施例及び第２実
施例との違い違いは、上記第１実施例及び第２実施例は
反力受け部材１４、２４がテーブル１ｙ、２ｘを挟接し
ている対し、本第３実施例はテーブル１ｙ、２ｘが反力
受け棒材１４、２４を孔内に内嵌するだけの差であって
基本的な作用に差はない。
及び第２実施例との違いは、第１実施例及び第２実施例
ではＹテーブル１ｙとＸテーブル２ｘと基台３０との固
設がボルトによる脱着自在取り付けの構成であるに対
し、本第３実施例のおけるそれは一体化構成である点で
ある。尚、反力受け部材１４、２４と、Ｙテーブル１ｙ
とＸテーブル２ｘとにおける上記第１実施例及び第２実
施例との違い違いは、上記第１実施例及び第２実施例は
反力受け部材１４、２４がテーブル１ｙ、２ｘを挟接し
ている対し、本第３実施例はテーブル１ｙ、２ｘが反力
受け棒材１４、２４を孔内に内嵌するだけの差であって
基本的な作用に差はない。
【００１８】即ち上記実施例によれば、第１ＸＹテーブ
ル１０の駆動にせよ、第２ＸＹテーブル２０の駆動にせ
よ、また双方同時駆動にせよ、これら駆動時における外
部抵抗は、他方の反力受け部材１４、２４等の微少抵抗
があるだけに過ぎず、高速微動制御性に有利になる。ま
た集光レーザ光Ｌを偏光させるのは、偏光可能範囲が基
本的に広いレンズによるだけであるから、該偏光可能範
囲性も向上するようになる。耐温度変化性は、ガルバノ
スキャナメータと比較して大幅に低減できる。
ル１０の駆動にせよ、第２ＸＹテーブル２０の駆動にせ
よ、また双方同時駆動にせよ、これら駆動時における外
部抵抗は、他方の反力受け部材１４、２４等の微少抵抗
があるだけに過ぎず、高速微動制御性に有利になる。ま
た集光レーザ光Ｌを偏光させるのは、偏光可能範囲が基
本的に広いレンズによるだけであるから、該偏光可能範
囲性も向上するようになる。耐温度変化性は、ガルバノ
スキャナメータと比較して大幅に低減できる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明のレーザマ
ーカのＸＹ偏光器によれば、第１ＸＹテーブル１０の駆
動にせよ、第２ＸＹテーブル２０の駆動にせよ、また双
方同時駆動にせよ、これら駆動時における外部抵抗は、
他方の反力受け部材１４、２４等の微少抵抗があるだけ
に過ぎず、高速微動制御性に有利になるばかりか、集光
レーザ光Ｌを偏光させるのは、偏光可能範囲が基本的に
広いレンズによるだけであるから、該偏光可能範囲性も
向上するようになる。また耐温度変化性も向上する。
ーカのＸＹ偏光器によれば、第１ＸＹテーブル１０の駆
動にせよ、第２ＸＹテーブル２０の駆動にせよ、また双
方同時駆動にせよ、これら駆動時における外部抵抗は、
他方の反力受け部材１４、２４等の微少抵抗があるだけ
に過ぎず、高速微動制御性に有利になるばかりか、集光
レーザ光Ｌを偏光させるのは、偏光可能範囲が基本的に
広いレンズによるだけであるから、該偏光可能範囲性も
向上するようになる。また耐温度変化性も向上する。
【図１】本発明に係わるレーザマーカのＸＹ偏光器の第
１実施例を説明する図である。
１実施例を説明する図である。
【図２】第１実施例におけるＸＹ偏光器を説明する図で
ある。
ある。
【図３】第２実施例におけるＸＹ偏光器を説明する図で
ある。
ある。
【図４】第３実施例におけるＸＹ偏光器を説明する図で
ある。
ある。
９ ワーク １０ 第１ＸＹテーブル １２ Ｘ軸 １４ 反力受け部材 １ｘ Ｘテーブル １ｙ Ｙテーブル ２０ 第２ＸＹテーブル ２２ Ｙ軸 ２４ 反力受け部材 ２ｘ Ｘテーブル ２ｙ Ｙテーブル ３０ 基台 ４０ レンズ Ｌ 集光レーザ光 Ｐ 全体パターン
Claims (1)
- 【請求項１】 予めワーク９上の全刻印領域をＸＹ方向
に複数個の小領域に分割し、同一光路から入射した集光
レーザ光Ｌを前記各分割刻印領域毎に順次偏光して照射
することにより、前記全刻印領域に所定の全体パターン
Ｐを刻印することを達成してなるレーザマーカのＸＹ偏
光器において、該ＸＹ偏光器は、少なくとも、Ｘ軸１２
上に駆動されるＸテーブル１ｘと該Ｘテーブル１ｘの反
力受け部材１４面上をＹ方向に自在摺動するＹテーブル
１ｙとからなる第１ＸＹテーブル１０と、Ｙ軸２２上に
駆動されるＹテーブル２ｙと該Ｙテーブル２ｙの反力受
け部材２４面上をＸ方向に自在摺動するＸテーブル２ｘ
とからなる第２ＸＹテーブル２０と、前記Ｙテーブル１
ｙとＸテーブル２ｘとに固設されてなる基台３０に格納
されて前記集光レーザ光Ｌを透過させるレンズ４０とか
らなる構成を特徴とするレーザマーカのＸＹ偏光器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4146390A JPH05318149A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | レーザマーカのｘｙ偏光器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4146390A JPH05318149A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | レーザマーカのｘｙ偏光器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05318149A true JPH05318149A (ja) | 1993-12-03 |
Family
ID=15406620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4146390A Pending JPH05318149A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | レーザマーカのｘｙ偏光器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05318149A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998010885A1 (fr) * | 1996-09-13 | 1998-03-19 | Komatsu Ltd. | Marqueur a laser pour balayage de masque et procede de balayage correspondant |
| KR20020095717A (ko) * | 2001-06-15 | 2002-12-28 | 주식회사 이오테크닉스 | 레이저를 이용한 인증 카드 마킹 장치 |
| CN106696479A (zh) * | 2015-08-05 | 2017-05-24 | 上海三克激光科技有限公司 | 一种两轴移动平台激光打标机 |
-
1992
- 1992-05-13 JP JP4146390A patent/JPH05318149A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998010885A1 (fr) * | 1996-09-13 | 1998-03-19 | Komatsu Ltd. | Marqueur a laser pour balayage de masque et procede de balayage correspondant |
| KR20020095717A (ko) * | 2001-06-15 | 2002-12-28 | 주식회사 이오테크닉스 | 레이저를 이용한 인증 카드 마킹 장치 |
| CN106696479A (zh) * | 2015-08-05 | 2017-05-24 | 上海三克激光科技有限公司 | 一种两轴移动平台激光打标机 |
| CN106696479B (zh) * | 2015-08-05 | 2019-04-23 | 上海三克激光科技有限公司 | 一种两轴移动平台激光打标机 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100391679C (zh) | 激光加工方法及加工装置 | |
| US7035004B2 (en) | Laser microdissection device | |
| USRE35446E (en) | Laser marker system | |
| US5229574A (en) | Print quality laser marker apparatus | |
| US4725709A (en) | Apparatus having a sweep arrangement for non-contacting modification of an article | |
| JP2526717B2 (ja) | レ―ザ加工装置 | |
| JP2588281Y2 (ja) | レーザマーキング装置 | |
| JPS62138819A (ja) | 走査型レ−ザ顕微鏡 | |
| KR950704082A (ko) | 레이저마아킹장치 및 방법(laser marking apparatus and method) | |
| US20040112879A1 (en) | Identification-code laser marking method and apparatus | |
| KR100299653B1 (ko) | 액정마스크와,액정식레이저마커및이것을이용한각인방법 | |
| JPH05318149A (ja) | レーザマーカのｘｙ偏光器 | |
| US5896233A (en) | Marking position correcting device for laser marker | |
| JPS62259437A (ja) | レ−ザ−アニ−ル装置 | |
| JPS60106686A (ja) | レ−ザ・マ−キング装置 | |
| EP0246801A2 (en) | Character imaging system | |
| JPH06210468A (ja) | レーザマーキング装置および方法 | |
| JPH0318491A (ja) | レーザ印字装置 | |
| JPH11267873A (ja) | レーザ光の走査光学系及びレーザ加工装置 | |
| CN1066818A (zh) | 激光转镜式光学扫描系统 | |
| JPH11197869A (ja) | レーザマーキング装置 | |
| JP2000021696A (ja) | レーザマーキング装置及びそれを用いたレーザマーキング方法 | |
| JP2005007427A (ja) | レーザマーキング方法 | |
| JPS62110892A (ja) | レ−ザマ−キング装置 | |
| CN209110383U (zh) | 激光焊接装置 |