JPH05254818A - メタロシロキサンゾル溶液およびゲル状重合体の製造法 - Google Patents
メタロシロキサンゾル溶液およびゲル状重合体の製造法Info
- Publication number
- JPH05254818A JPH05254818A JP5055192A JP5055192A JPH05254818A JP H05254818 A JPH05254818 A JP H05254818A JP 5055192 A JP5055192 A JP 5055192A JP 5055192 A JP5055192 A JP 5055192A JP H05254818 A JPH05254818 A JP H05254818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solution
- metallosiloxane
- metallic
- formula
- expressed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 13
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 abstract description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract 2
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 39
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016287 MxOy Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910013504 M-O-M Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N benzyl n-(2-oxopyrrolidin-3-yl)carbamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)NC1CCNC1=O DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000033558 biomineral tissue development Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;vanadium Chemical compound [V].ClOCl ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Colloid Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ケイ酸と金属ハロゲン化物または金属オキシ
ハロゲン化物とを有機溶媒の存在下に反応させることを
特徴とするメタロシロキサンゾル溶液の製造法およびこ
のメタロシロキサンゾルを重合するゲル状重合体の製造
法。 【効果】 均一なメタロシロキサンゾル溶液が得られ、
この溶液から非晶質の酸化物薄膜および酸化物が低温で
容易に調製できる。
ハロゲン化物とを有機溶媒の存在下に反応させることを
特徴とするメタロシロキサンゾル溶液の製造法およびこ
のメタロシロキサンゾルを重合するゲル状重合体の製造
法。 【効果】 均一なメタロシロキサンゾル溶液が得られ、
この溶液から非晶質の酸化物薄膜および酸化物が低温で
容易に調製できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、メタロシロキサンゾル
溶液およびゲル状重合体の製造法に関する。本発明によ
り得られる均一なメタロシロキサンゾル溶液およびゲル
状重合体は、無機コーティング材、無機接着剤、無機結
合剤などに用いられる。
溶液およびゲル状重合体の製造法に関する。本発明によ
り得られる均一なメタロシロキサンゾル溶液およびゲル
状重合体は、無機コーティング材、無機接着剤、無機結
合剤などに用いられる。
【0002】
【従来の技術】メタロシロキサンゾル溶液およびゲル状
重合体はシリコンテトラアルコキシドと金属アルコキシ
ドとの共加水分解によって生成されることがジャーナル
・オブ・ノンクリスタリン・ソリッズ(Journal of Non
-Crystalline Solids)第42巻 第545〜552頁
(1980年)、第42巻 第403〜422頁(19
80年)などに記載されている。また、メタロシロキサ
ンはシリコンテトラアルコキシドの部分加水分解物と金
属アルコキシドとの反応によっても合成されることが例
えば、同誌第121巻 第163〜166頁(1990
年)に記載されている。
重合体はシリコンテトラアルコキシドと金属アルコキシ
ドとの共加水分解によって生成されることがジャーナル
・オブ・ノンクリスタリン・ソリッズ(Journal of Non
-Crystalline Solids)第42巻 第545〜552頁
(1980年)、第42巻 第403〜422頁(19
80年)などに記載されている。また、メタロシロキサ
ンはシリコンテトラアルコキシドの部分加水分解物と金
属アルコキシドとの反応によっても合成されることが例
えば、同誌第121巻 第163〜166頁(1990
年)に記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】これまでに検討されて
いるシリコンテトラアルコキシドと金属アルコキシドと
の共加水分解によるメタロシロキサンゾル溶液の調製で
は、これら金属アルコキシドの加水分解性に著しい差が
あるため、ケイ素(Si)と金属元素(M)が酸素によ
り結合されたヘテロ結合(M−O−Si)により形成さ
れるメタロシロキサン重合体だけでなく同じ金属元素
(M)が酸素により結合されたホモ結合(M−O−M)
からなるメタロシロキサン重合体のゾルが生成しやすか
った。一方、シリコンテトラアルコキシドの部分加水分
解物を用いて生成するメタロキサン重合体は、その側鎖
置換基として有機基を有し、低温あるいは場合により高
温でも酸化物前駆体からこれを完全に除去し、酸化物中
に炭素成分を残さないようにすることは困難である。本
発明は、このような問題点を解決するものである。
いるシリコンテトラアルコキシドと金属アルコキシドと
の共加水分解によるメタロシロキサンゾル溶液の調製で
は、これら金属アルコキシドの加水分解性に著しい差が
あるため、ケイ素(Si)と金属元素(M)が酸素によ
り結合されたヘテロ結合(M−O−Si)により形成さ
れるメタロシロキサン重合体だけでなく同じ金属元素
(M)が酸素により結合されたホモ結合(M−O−M)
からなるメタロシロキサン重合体のゾルが生成しやすか
った。一方、シリコンテトラアルコキシドの部分加水分
解物を用いて生成するメタロキサン重合体は、その側鎖
置換基として有機基を有し、低温あるいは場合により高
温でも酸化物前駆体からこれを完全に除去し、酸化物中
に炭素成分を残さないようにすることは困難である。本
発明は、このような問題点を解決するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、ケイ酸と金属
ハロゲン化物または金属オキシハロゲン化物とを有機溶
媒の存在下に反応させるメタロシロキサンゾル溶液の製
造法およびこのメタロシロキサンゾルを重合するゲル状
重合体の製造法に関する。本発明は、ケイ酸と金属ハロ
ゲン化物または金属オキシハロゲン化物との反応におけ
る、シラノール基とハロゲンとの異種官能基による縮合
反応に着目し、ケイ素、酸素および金属元素からなるメ
タロシロキサン結合(M−O−Si)が形成されること
を見出してなされたもので、この製法によればこの結合
からなるメタロキサン重合体で、しかも有機基を含まな
い、より均質なゾルからゲル状重合体が生成し、均質性
と無機化が容易に行なわれる。
ハロゲン化物または金属オキシハロゲン化物とを有機溶
媒の存在下に反応させるメタロシロキサンゾル溶液の製
造法およびこのメタロシロキサンゾルを重合するゲル状
重合体の製造法に関する。本発明は、ケイ酸と金属ハロ
ゲン化物または金属オキシハロゲン化物との反応におけ
る、シラノール基とハロゲンとの異種官能基による縮合
反応に着目し、ケイ素、酸素および金属元素からなるメ
タロシロキサン結合(M−O−Si)が形成されること
を見出してなされたもので、この製法によればこの結合
からなるメタロキサン重合体で、しかも有機基を含まな
い、より均質なゾルからゲル状重合体が生成し、均質性
と無機化が容易に行なわれる。
【0005】ケイ酸の有機溶媒溶液は日本化学会誌、1
981,1152−1158頁に報告されている方法に
よって容易に得られる。例えば、水ガラス、メタケイ酸
ソーダ、ケイ酸アンモニウム等の可溶性ケイ酸塩の水溶
液を酸によって中和処理することにより、あるいは陽イ
オン交換樹脂で処理することにより、ケイ酸塩類からケ
イ酸水溶液が得られる。この溶液をテトラヒドロフラ
ン、アルコール、ケトン等で抽出することにより、これ
らのケイ酸の有機溶媒溶液を調製できる。通常は、最も
抽出率の高いテトラヒドロフランが用いられる。このケ
イ酸のテトラヒドロフラン溶液にヘキサンを加えること
により、約6mol/lの高濃度ケイ酸溶液が生成する
ので、この溶液に各種有機溶媒を加えれば、任意の濃度
のケイ酸の有機溶媒溶液が調製できる。
981,1152−1158頁に報告されている方法に
よって容易に得られる。例えば、水ガラス、メタケイ酸
ソーダ、ケイ酸アンモニウム等の可溶性ケイ酸塩の水溶
液を酸によって中和処理することにより、あるいは陽イ
オン交換樹脂で処理することにより、ケイ酸塩類からケ
イ酸水溶液が得られる。この溶液をテトラヒドロフラ
ン、アルコール、ケトン等で抽出することにより、これ
らのケイ酸の有機溶媒溶液を調製できる。通常は、最も
抽出率の高いテトラヒドロフランが用いられる。このケ
イ酸のテトラヒドロフラン溶液にヘキサンを加えること
により、約6mol/lの高濃度ケイ酸溶液が生成する
ので、この溶液に各種有機溶媒を加えれば、任意の濃度
のケイ酸の有機溶媒溶液が調製できる。
【0006】本発明で用いる有機溶媒は、炭素数1〜4
の一価または二価のアルコール、炭素数4〜8の鎖状ま
たは環状のエーテル、エチレングリコール、ジエチレン
グリコール等のアルキルエーテル、炭素数2〜6の鎖状
または環状ケトン、塩化メチレン、アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイドなどが用
いられる。
の一価または二価のアルコール、炭素数4〜8の鎖状ま
たは環状のエーテル、エチレングリコール、ジエチレン
グリコール等のアルキルエーテル、炭素数2〜6の鎖状
または環状ケトン、塩化メチレン、アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイドなどが用
いられる。
【0007】原料の金属ハロゲン化物MXzとしては、
金属MがB、Al、Ga、In、Ge、Sn、P、S
b、Bi、Zn、Cdなどの典型金属元素、Y、Ti、
Zr、V、Cr、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、
Agなどの遷移金属元素等であり、一方のハロゲンXと
しては、Clが最も適当であるが、Br、Iなどでもよ
く、また、MOXZ-2型のオキシハロゲン化物が用いら
れる。ここでzは金属の価数を示す。
金属MがB、Al、Ga、In、Ge、Sn、P、S
b、Bi、Zn、Cdなどの典型金属元素、Y、Ti、
Zr、V、Cr、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、
Agなどの遷移金属元素等であり、一方のハロゲンXと
しては、Clが最も適当であるが、Br、Iなどでもよ
く、また、MOXZ-2型のオキシハロゲン化物が用いら
れる。ここでzは金属の価数を示す。
【0008】次にメタロシロキサンの生成について塩化
物を用いた場合を例にして説明する。本発明で用いられ
るケイ酸は、例えば一般式(1)で示されるn=3〜6
程度の低分子量ケイ酸である。このシラノール基は反応
性が高く上述の化合物と反応する。一般式(1)で示す
ように、ここでは塩素との間で縮合反応が起こり、側鎖
がシラノール基と塩素で主鎖がSi−O−M結合からな
るメタロシロキサンが生成する。このメタロシロキサン
は有機溶媒に溶解しゾル溶液となる。反応温度には特に
制限はなく、室温下でも行なうことができる。ケイ酸と
金属ハロゲン化物または金属オキシハロゲン化物との割
合は、金属原子1モルに対してシリコン原子が0.5〜
200モルの範囲とすることが好ましい。
物を用いた場合を例にして説明する。本発明で用いられ
るケイ酸は、例えば一般式(1)で示されるn=3〜6
程度の低分子量ケイ酸である。このシラノール基は反応
性が高く上述の化合物と反応する。一般式(1)で示す
ように、ここでは塩素との間で縮合反応が起こり、側鎖
がシラノール基と塩素で主鎖がSi−O−M結合からな
るメタロシロキサンが生成する。このメタロシロキサン
は有機溶媒に溶解しゾル溶液となる。反応温度には特に
制限はなく、室温下でも行なうことができる。ケイ酸と
金属ハロゲン化物または金属オキシハロゲン化物との割
合は、金属原子1モルに対してシリコン原子が0.5〜
200モルの範囲とすることが好ましい。
【0009】この溶液にガラス、シリコンウエハー基
板、アルミナ、ジルコニアなどのセラミック基板等をデ
イップコーティングするか、あるいはこの溶液をスピン
コーティングでこれらの基板上にコートした後、150
〜500℃で加熱することにより、ゲル状重合体を経由
して容易にSiO2−MxOy(x,yは正の整数)で
示される酸化物薄膜が調製できる。また、一般式(1)
のメタロシロキサンのゾル溶液を例えば60℃で加熱し
ながら溶媒を蒸発させて重合すれば、一般式(2)にし
たがって重合がさらに進み、均質なゲル状重合体が調製
できる。
板、アルミナ、ジルコニアなどのセラミック基板等をデ
イップコーティングするか、あるいはこの溶液をスピン
コーティングでこれらの基板上にコートした後、150
〜500℃で加熱することにより、ゲル状重合体を経由
して容易にSiO2−MxOy(x,yは正の整数)で
示される酸化物薄膜が調製できる。また、一般式(1)
のメタロシロキサンのゾル溶液を例えば60℃で加熱し
ながら溶媒を蒸発させて重合すれば、一般式(2)にし
たがって重合がさらに進み、均質なゲル状重合体が調製
できる。
【0010】本発明の特長は、一般式(1)に示す異種
官能基の縮合によりメタシロキサンが生成し、これがケ
イ素と金属元素が酸素を介するヘテロ結合により構成さ
れており、金属アルコキシドを用いる場合のように有機
基が結合していないこと、さらにはこのような構造でゾ
ル溶液として安定性があることである。ゾル溶液を溶媒
により安定化している状態から、好ましくは溶媒を除去
しながらさらに加熱することにより、一般式(2)のゲ
ル状重合体になる。このゲル状重合体は、メタロシロキ
サンゾルの化学結合を保持しているので、単なる酸化物
SiO2とMxOyの混合物ではなく、全く新しい組成
の酸化物で、均質性とアモルファス性が高く有機質を含
まない酸化物の前駆体である。このようなメタロシロキ
サンは本発明により初めて得られたものである。
官能基の縮合によりメタシロキサンが生成し、これがケ
イ素と金属元素が酸素を介するヘテロ結合により構成さ
れており、金属アルコキシドを用いる場合のように有機
基が結合していないこと、さらにはこのような構造でゾ
ル溶液として安定性があることである。ゾル溶液を溶媒
により安定化している状態から、好ましくは溶媒を除去
しながらさらに加熱することにより、一般式(2)のゲ
ル状重合体になる。このゲル状重合体は、メタロシロキ
サンゾルの化学結合を保持しているので、単なる酸化物
SiO2とMxOyの混合物ではなく、全く新しい組成
の酸化物で、均質性とアモルファス性が高く有機質を含
まない酸化物の前駆体である。このようなメタロシロキ
サンは本発明により初めて得られたものである。
【0011】
【化1】 (n、x、yおよびzは整数である)
【0012】本発明の実施例を説明する。
実施例1 SiO2として0.85mol/lのケイ酸のテトラヒ
ドロフラン溶液(A)(以下溶液(A)とする)15m
lにSi/Tiのモル比が2となるように四塩化チタン
の5重量%メタノール溶液を加え、溶媒の還流下で1時
間反応させることにより均一なメタロシロキサンゾル溶
液を得た。この溶液にスライドガラスを浸し、これを1
20mm/min速度で引き上げた後、熱風循環式乾燥
器で150または500℃で0.5時間加熱することに
より酸化物薄膜を調製した。一方、ゾル溶液を60℃で
加熱することによりゲル状重合体を得た。
ドロフラン溶液(A)(以下溶液(A)とする)15m
lにSi/Tiのモル比が2となるように四塩化チタン
の5重量%メタノール溶液を加え、溶媒の還流下で1時
間反応させることにより均一なメタロシロキサンゾル溶
液を得た。この溶液にスライドガラスを浸し、これを1
20mm/min速度で引き上げた後、熱風循環式乾燥
器で150または500℃で0.5時間加熱することに
より酸化物薄膜を調製した。一方、ゾル溶液を60℃で
加熱することによりゲル状重合体を得た。
【0013】実施例2 溶液(A)と四塩化スズの5重量%メタノール溶液をS
i/Snのモル比が4となるように混合し、溶媒の還流
下で1時間反応させることにより均一な溶液を得た。こ
の溶液を用いて実施例1と同様な方法で酸化物薄膜とゲ
ル状重合体を製造したところ、均一な酸化物薄膜と均質
なゲル状重合体が得られた。
i/Snのモル比が4となるように混合し、溶媒の還流
下で1時間反応させることにより均一な溶液を得た。こ
の溶液を用いて実施例1と同様な方法で酸化物薄膜とゲ
ル状重合体を製造したところ、均一な酸化物薄膜と均質
なゲル状重合体が得られた。
【0014】実施例3 溶液(A)と三塩化アンチモンの5重量%テトラヒドロ
フラン溶液からSi/Sbのモル比が4となるように、
実施例1の方法で、溶媒の還流下で1時間反応させるこ
とにより均一な溶液が得られた。この溶液を用いて実施
例1と同様な方法で均一な酸化物薄膜と均質なゲル状重
合体が得られた。
フラン溶液からSi/Sbのモル比が4となるように、
実施例1の方法で、溶媒の還流下で1時間反応させるこ
とにより均一な溶液が得られた。この溶液を用いて実施
例1と同様な方法で均一な酸化物薄膜と均質なゲル状重
合体が得られた。
【0015】実施例4 溶液(A)とオキシ塩化バナジウムの5重量%テトラヒ
ドロフラン溶液をSi/Vのモル比が10となるように
混合し、還流下で1時間反応させることにより均一な溶
液を得た。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で均
一な酸化物薄膜と均質なゲル状重合体が得られた。
ドロフラン溶液をSi/Vのモル比が10となるように
混合し、還流下で1時間反応させることにより均一な溶
液を得た。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で均
一な酸化物薄膜と均質なゲル状重合体が得られた。
【0016】以上のメタロシロキサンゾル溶液から得ら
れた酸化物薄膜の組成と物性測定の結果を表1に示し
た。表面抵抗は東京電子社製TR−3型抵抗計を用いて
測定した。透過率は、(株)日立製作所製U−2000
型UV分光光度計により150℃で熱処理してスライド
ガラスの両面に形成されたゲルについて測定した。
れた酸化物薄膜の組成と物性測定の結果を表1に示し
た。表面抵抗は東京電子社製TR−3型抵抗計を用いて
測定した。透過率は、(株)日立製作所製U−2000
型UV分光光度計により150℃で熱処理してスライド
ガラスの両面に形成されたゲルについて測定した。
【0017】
【表1】
【0018】
【発明の効果】本発明によれば、均一なメタロシロキサ
ンゾル溶液が得られ、この溶液から非晶質の酸化物薄膜
および酸化物が低温で容易に調製できる。
ンゾル溶液が得られ、この溶液から非晶質の酸化物薄膜
および酸化物が低温で容易に調製できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大森 英二 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内
Claims (2)
- 【請求項1】 ケイ酸と金属ハロゲン化物または金属オ
キシハロゲン化物とを、有機溶媒の存在下に反応させる
ことを特徴とするメタロシロキサンゾル溶液の製造法。 - 【請求項2】 請求項1記載のメタロシロキサンゾルを
重合するゲル状重合体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5055192A JPH05254818A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | メタロシロキサンゾル溶液およびゲル状重合体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5055192A JPH05254818A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | メタロシロキサンゾル溶液およびゲル状重合体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05254818A true JPH05254818A (ja) | 1993-10-05 |
Family
ID=12862156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5055192A Pending JPH05254818A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | メタロシロキサンゾル溶液およびゲル状重合体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05254818A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008523230A (ja) * | 2004-12-14 | 2008-07-03 | ヒェメタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 無水の金属酸化物コロイドおよび金属酸化物ポリマー、それらの製造法および使用 |
RU2649392C2 (ru) * | 2014-04-11 | 2018-04-03 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт синтетических полимерных материалов им. Н.С. Ениколопова Российской академии наук (ИСПМ РАН) | Функциональные металлосилоксаны, продукты их частичного гидролиза и их применение |
-
1992
- 1992-03-09 JP JP5055192A patent/JPH05254818A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008523230A (ja) * | 2004-12-14 | 2008-07-03 | ヒェメタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 無水の金属酸化物コロイドおよび金属酸化物ポリマー、それらの製造法および使用 |
RU2649392C2 (ru) * | 2014-04-11 | 2018-04-03 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт синтетических полимерных материалов им. Н.С. Ениколопова Российской академии наук (ИСПМ РАН) | Функциональные металлосилоксаны, продукты их частичного гидролиза и их применение |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4999397A (en) | Metastable silane hydrolyzates and process for their preparation | |
EP0263428B2 (en) | Organosiloxane/metal oxide coatings | |
US5085893A (en) | Process for forming a coating on a substrate using a silsesquioxane resin | |
US4753827A (en) | Abrasion-resistant organosiloxane/metal oxide coating | |
DE69329698T2 (de) | Einkomponenten anorganische-organische netzwerk-materialien sowie deren vorläufer | |
JP4681094B2 (ja) | フルオル有機官能性シラン及び/又はシロキサンを有する組成物、その製法、その使用及び表面変性された支持体 | |
US4754012A (en) | Multi-component sol-gel protective coating composition | |
DE3751856T2 (de) | Organisch-anorganisches Hybridpolymer | |
US5045592A (en) | Metastable silane hydrolyzates | |
US4694040A (en) | Liquid composition for forming a coating film of organopolysiloxane and method for the preparation thereof | |
KR101007807B1 (ko) | 다반응성 선형 실록산 화합물, 상기 화합물로부터 제조된실록산 중합체 및 상기 중합체를 이용한 절연막 제조방법 | |
KR20040030870A (ko) | 고 굴절률 폴리실록산 및 이의 제조방법 | |
JPH021778A (ja) | 半導体の表面保護又は層間絶縁用酸化物被膜形成用塗布液および酸化物被膜の製造法 | |
JPH0786142B2 (ja) | ペルヒドロシロキサンコポリマー及びそのコーティング材料としての使用方法 | |
WO2002088267A1 (fr) | Procede pour produire un film epais a base de silice | |
US4361691A (en) | Process for production of heat-resistant compounds | |
KR100479984B1 (ko) | 경화성폴리메틸실세스키옥산,그경화방법및그경화물 | |
JP3696311B2 (ja) | ポリシラザン組成物、ポリシラザン溶液の調製方法、該組成物を用いたコーティング用組成物及び該コーティング用組成物を用いて得られるセラミックス被膜付プラスチック | |
JPS6017214B2 (ja) | 可溶性メチルポリシロキサンおよびその製造法 | |
JP3278876B2 (ja) | 金属酸化物被膜形成用塗布液 | |
JPH05254818A (ja) | メタロシロキサンゾル溶液およびゲル状重合体の製造法 | |
US5563228A (en) | Method for the preparation of polyheterosiloxanes | |
WO1993004094A1 (en) | Reacted composites, organic-inorganic composites, and methods for producing composites | |
JPH03190931A (ja) | チタノシロキサン重合体の製造方法 | |
US5516867A (en) | Modified hydrogen silsesquioxane resin |