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JPH0524873A - 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 - Google Patents

光フアイバ用ガラス母材の製造方法

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Publication number
JPH0524873A
JPH0524873A JP18458791A JP18458791A JPH0524873A JP H0524873 A JPH0524873 A JP H0524873A JP 18458791 A JP18458791 A JP 18458791A JP 18458791 A JP18458791 A JP 18458791A JP H0524873 A JPH0524873 A JP H0524873A
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glass
optical fiber
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halogen
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JP18458791A
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Yuichi Oga
裕一 大賀
Shinji Ishikawa
真二 石川
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/20Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine

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  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 石英系光ファイバの製造方法に関し、特に純
石英ガラスをコアとする光ファイバにおいてコア内の残
留応力を低減する方法を提供する。 【構成】 石英を主成分とする多孔質母材を脱水処理お
よび透明ガラス化してガラス母材を得る方法において、
該脱水処理工程および/又は透明ガラス化工程において
ハロゲン系ガスを含む雰囲気中で加熱処理することによ
り石英ガラス中にハロゲンを0.1〜1重量%含ませ、
これにより得られたガラス母材を光ファイバのコアとし
て用いることを特徴とする光ファイバ用ガラス母材の製
造方法であり、ハロゲンとしては塩素が特に好ましい。
このように作成したコアは残留応力が小さく、比屈折率
差、λc、MFD等の設定値からの変動が少ない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は石英系光ファイバ母材の
製造に関するものであり、特に純石英系ガラスをコアと
する光ファイバの製造に適用してコア内の残留応力を低
減して製造できる方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光ファイバ用母材を大量生産する一般的
な方法としてVAD(Vapor Phase Axial Deposition)
法が知られている。VAD法は、回転する出発部材例え
ばガラス棒の上に酸水素火炎中で生成したガラス微粒子
を堆積させて円柱状の多孔質母材を作り、この多孔質母
材を焼結して透明な光ファイバ用ガラス母材を製造する
方法である。VAD法において、多孔質母材を焼結し、
透明ガラス化するには、母材を不活性気体雰囲気中で1
600℃以上に加熱する必要がある。また水分の混入が
あると得られる光ファイバの通信波長域における損失特
性が損なわれるため、通常透明化前または透明化と同時
に多孔質母材を脱水することが行われる。脱水処理とし
て多孔質母材を塩素系ガスを添加した不活性ガス雰囲気
中で高温加熱処理する方法が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年特に光
ファイバの低損失化の観点から、コアに純粋石英ガラ
ス、クラッドにフッ素添加石英ガラスを用いたシングル
モードファイバが有望視されている。純粋石英をコアと
する光ファイバは、コアにGeO2 を添加しないことか
ら、散乱損失を低減できて、低損失化には極めて有利で
ある。ところが、純粋石英コア−フッ素添加石英クラッ
ドからなる光ファイバの場合、断面積の小さなコア部の
粘性がクラッド部より大きいため、線引時の張力の大部
分がコアにかかることになりる。その結果、ガラス固化
時にはコア部に引張応力が残り、種々の不具合が生じて
いた。つまり引張応力によりコア部の屈折率が低下(光
弾性効果)してコア−クラッド間の比屈折率差が低下す
る結果、プリフォームの段階で予想したλc (カットオ
フ波長)、MFD(モールドフィールド径)、λ0 (零
分散波長)にずれが生じるとともに、引張応力の残留は
製造条件(線引条件)にも強く依存するため、条件安定
化に非常に注意する必要があった。本発明は、以上のよ
うな純粋石英コア−フッ素添加クラッド構造のファイバ
の問題点を解決し、設計した構造の光ファイバ用母材を
製造できる方法を提供することを目的としてなされたも
のである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上述したと
ころに鑑み、コアとなる純粋石英ガラスの粘性を下げる
ことにより、クラッドとなるフッ素添加石英ガラスの粘
性との差を相対的に小さくし、これにより線引時のコア
への応力集中を緩和させようと考え、種々検討の結果、
純粋石英ガラス中に微量のハロゲンを含有させることで
問題が解決できることを見出し、本発明に到達した。す
なわち、上記問題を解決する本発明は、石英を主成分と
する多孔質母材を脱水処理および透明ガラス化してガラ
ス母材を得る方法において、該脱水処理工程および/又
は透明ガラス化工程においてハロゲン系ガスを含む雰囲
気中で加熱処理することにより石英ガラス中にハロゲン
を0.1〜1重量%含ませ、これにより得られたガラス
母材を光ファイバのコアとして用いることを特徴とす
る。本発明において石英ガラス中に含有させるハロゲン
としては、塩素が特に好ましい。
【0005】
【作用】前記した純粋石英ガラスの粘性の影響を調べる
ためにハロゲンとしてはClを代表として用いて、石英
ガラス中のCl量をイオンクロマトグラフ法で分析し、
定量化するとともに、該石英母材をコアとして、シング
ルモードファイバを製造して、構造(λc,MFD),
残留応力及びファイバの屈折率分布からコアとクラッド
の比屈折率差を測定した。Cl量が多くなるにつれ、フ
ァイバ内の残留応力は小さくなり、その結果コアとクラ
ッドと比屈折率差はプリフォーム状態で測定した値に近
づくことが明らかとなった(図1及び図2)。また、フ
ァイバ構造(λc,MFD)もプリフォーム段階での予
測値にほぼ一致した(図3)。以上のことから、純石英
ガラス中のCl量を多くすることにより、石英ガラスの
粘性を下げることができるので、ファイバ構造がプリフ
ォーム段階での予測値からずれることはなくなり、また
線引条件に対する依存性も緩和されることから、純石英
コアシングルモードファイバを製造するのに非常に有効
に作用する。純石英ガラス中のCl量は、0.2重量%
〜1重量%であることが好ましい。0.1重量%未満で
はCl含有の効果が発現せずプリフォーム段階での予測
値から大きくずれるため好ましくない。また、ほぼ1重
量%の含有量でプリフォームの予測値とほぼ一致するの
でこれを越えての含有は不要である。なお、石英ガラス
の粘性を下げる作用を有する他のハロゲン元素の添加の
場合も同様であった。フッ素は屈折率を下げる作用も有
するので、フッ素を添加する場合にはコアへの添加量以
上にクラッドにフッ素を添加する必要がある。その他ヨ
ウ素(I)、臭素(Br)も有効であるが、脱水作用が
一番大きく、屈折率への影響がない点では塩素系ガスを
用いることが有利である。塩素系ガスとしては、例えば
Cl2 、CCl4 、SiCl4 、SOCl2 、SCl2
等を挙げることができる。ただし、例えば脱水処理だけ
塩素系ガスを用いて行い、透明化処理では他のハロゲン
系ガスを用いる、あるいは脱水処理は他のハロゲン系ガ
スを用いて透明化処理は塩素系ガスを用いることも可能
である。
【0006】実際に、純石英ガラス中にハロゲンを0.
1重量%〜1重量%の範囲内で含有させるには、ハロゲ
ン化物の中から適当なものを選択し、ハロゲン化物とH
e 等の不活性ガスからなり常圧〜3kg/cm2 程度の
加圧の雰囲気下、温度1000℃〜1700℃の範囲で
加熱して多孔質母材と反応させ、透明ガラス化する。具
体的には、多孔質母材をハロゲン化物ガスを含む雰囲気
中で加熱処理するのは、a)多孔質母材の脱水処理工
程、b)多孔質母材の透明ガラス化処理工程、c)脱水
処理工程および透明ガラス化処理工程、のa)〜c)の
いずれで行ってもよく、特に好ましくはa)又はc)で
ある。添加量の制御は、ガス濃度、処理温度等の調整で
可能であるが、本発明者らの実験では調整の幅はせいぜ
い1.5倍程度までであった。むしろハロゲン化物ガス
の種類の選択の方が添加量の調整には有効であり、例え
ば塩素ガス使用では0.2〜0.4重量%であったの
が、SiCl4 ガスを使用すると0.5〜0.8重量%
となった。つまり、含有量は使用するガス種により大き
く変化させることが可能である。なお、本発明に用いる
多孔質母材としてはこの種の技術分野で公知の手段によ
り作成されたものを用いることができ、例えばVAD
法、OVD法等の気相合成による多孔質母材が挙げられ
るが、これに限定されるものではない。多孔質母材のカ
サ密度も特に限定されるところはないが、一般的には
0.2〜0.4g/cm3 程度である。また、上記説明
では純石英の多孔質体を示したが、石英を主成分とする
多孔質体であればよい。
【0007】
【実施例】
実施例1 まず図5に示したようにVAD法によって垂直に支持さ
れた出発部材3の下端にバーナ2を対向させ、このバー
ナ2内にSiCl4 1400cc/分を供給し、またH
2 35リットル/分、O2 35リットル/分、Ar10
リットル/分を供給して、SiO2 ガラス微粒子(多孔
質母材)1を出発部材3の下端に堆積させた。得られた
多孔質母材は直径125mmφ、長さ500mmであっ
た。該多孔質母材を図6に示す炉心管5とヒータ4を有
する焼結炉内に挿入した。密閉系内に挿入された多孔質
母材1は1200℃に維持された炉内にHe10リット
ル/分、ハロゲン化物ガス(塩素系ガス)としてSiC
4 200cc/分を供給し、脱水処理した。引き続き
炉温を1600℃に昇温し、He10リットル/分、S
iCl4 200cc/分を供給してコア用透明ガラスロ
ッドを得た。この母材のCl量をイオンクロマトグラフ
法で分析したところ、0.8重量%であった。次にこの
コアロッドを直径5mmに延伸したのち、その周りに外
付け法によりSiO2 ガラス微粒子を140mm厚に堆
積させた。該母材を1350℃に維持された炉内に挿入
し、He 10リットル/分、SiF4 300cc/分を
供給して、フッ素添加した後、同雰囲気にて炉温を15
50℃に昇温して透明ガラス化した。こうして得られた
コア−クラッドを有する母材を外径125μmのファイ
バにし、特性を調べた。図4は得られたファイバの屈折
率分布を示す。
【0008】実施例2 実施例1と同様の方法にて、塩素系ガスとしてCl2
用い、純粋石英ガラスを作成した。脱水処理、透明化処
理の際の炉内雰囲気はHe 10リットル/分、Cl2
00cc/分である。この母材のCl量は0.3重量%
であった。次にこのコアロッドを直径5mmに延伸した
のち、その周りに外付け法によりSiO2 ガラス微粒子
を140mm厚に堆積させた。該母材を1350℃に維
持された炉内に挿入し、He 10リットル/分、SiF
4 300cc/分を供給して、フッ素添加した後、同雰
囲気にて炉温を1550℃に昇温して透明ガラス化し
た。こうして得られたコア−クラッドを有する母材を外
径125μmのファイバにし、特性を調べた。
【0009】比較例1 実施例1と同様の方法にて、塩素系ガスとしてCCl4
を用い、純粋石英ガラスを作成した。脱水処理、透明化
の際の炉内雰囲気は、He 10リットル/分、CCl4
20cc/分、O2 60cc/分である。この母材のC
l量は0.05重量%であった。次にこのコアロッドを
直径5mmに延伸したのち、その周りに外付け法により
SiO2 ガラス微粒子を140mm厚に堆積させた。該
母材を1350℃に維持された炉内に挿入し、He 10
リットル/分、SiF4 300cc/分を供給して、フ
ッ素添加した後、同雰囲気にて炉温を1550℃に昇温
して透明ガラス化した。こうして得られたコア−クラッ
ドを有する母材を外径125μmのファイバにし、特性
を調べた。
【0010】実施例1,2と比較例1から作製されたフ
ァイバ特性の比較 以上のようにして得たCl量の異なる3本のファイバに
ついて、各々残留応力、比屈折率差、ファイバ構造(λ
c,MFD)を調べた結果を、図1〜図3に比較して示
す。図1から判るように、純粋石英ガラス中のCl量が
多いほど、線引後の残留応力が小さくなる。即ち、Cl
量が多い母材ほど石英ガラスの粘度が小さくなると推定
される。ファイバ内残留応力が少なくなった結果、図2
に示すように、コア−クラッドの比屈折率差は、Cl量
が多いほど高くなっていて、プリフォームでの測定値に
近い。図3はCl量の異なる各々のファイバのλc,M
FD測定結果を示したものである。図3から明らかなよ
うに、Cl量が多いファイバほど、比屈折率差はプリフ
ォームの段階での測定値に近いことから、λc,MFD
は予測値に近く、変動幅が小さい。
【0011】
【発明の効果】以上示したように、本発明によれば純粋
石英ガラス中のハロゲン量、特にはCl量を多くするこ
とにより純石英コアシングルモードファイバのコア部の
粘性をさげることができ、その結果、線引時に生じる残
留応力を低減することができる。従って、線引後のコア
−クラッド比屈折率差はプリフォーム段階での実測値と
ほぼ一致し、λc,MFD特性も予測値とほぼ一致させ
ることが可能となり、極めて効果的である。
【図面の簡単な説明】
【図1】純粋石英ガラス化中のCl量と、ファイバの残
留応力との関係を示す図である。
【図2】純粋石英ガラス化中のCl量と、ファイバのコ
ア−クラッド間比屈折率差との関係を示す図である。
【図3】純粋石英ガラス化中のCl量と、ファイバのλ
c,MFDとの関係を示す図である。
【図4】純石英コア−フッ素添加石英クラッドファイバ
の屈折率分布を示す図である。
【図5】ガラス微粒子体の作成方法を示す概略図であ
る。
【図6】多孔質母材の焼結工程を示す概略図である。
【符号の説明】
1 ガラス微粒子体(多孔質母材) 2 バーナ 3 出発部材 4 ヒータ 5 炉心管

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 石英を主成分とする多孔質母材を脱水処
    理および透明ガラス化してガラス母材を得る方法におい
    て、該脱水処理工程および/又は透明ガラス化工程にお
    いてハロゲン系ガスを含む雰囲気中で加熱処理すること
    により石英ガラス中にハロゲンを0.1〜1重量%含ま
    せ、これにより得られたガラス母材を光ファイバのコア
    として用いることを特徴とする光ファイバ用ガラス母材
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 上記ハロゲンが塩素であることを特徴と
    する請求項1記載の光ファイバ用ガラス母材の製造方
    法。
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