[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPH05151931A - High frequency induction coupling type plasma mass-spectrometer - Google Patents

High frequency induction coupling type plasma mass-spectrometer

Info

Publication number
JPH05151931A
JPH05151931A JP3312639A JP31263991A JPH05151931A JP H05151931 A JPH05151931 A JP H05151931A JP 3312639 A JP3312639 A JP 3312639A JP 31263991 A JP31263991 A JP 31263991A JP H05151931 A JPH05151931 A JP H05151931A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pulse
value
discriminator
optimum
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3312639A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Matsumoto
秀樹 松本
Kazuo Yamanaka
一夫 山中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yokogawa Electric Corp filed Critical Yokogawa Electric Corp
Priority to JP3312639A priority Critical patent/JPH05151931A/en
Publication of JPH05151931A publication Critical patent/JPH05151931A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a plasma mass-spectrometer of high frequency induction coupling type, which can find quickly and set automatically the optimum value of sensor voltage and the optimum setting value of the discrimination level of a pulse height discriminator and which can analyze the elements to be measured as components of a specimen always with the optimum sensitivity. CONSTITUTION:The output of a pulse counter 24 to count output pulses from a pulse height discriminator 23 is monitored, and meantime the optimum value of sensor voltage and the optimum value of the discrimination level setting value in the discriminator 23 are sought using a controller 25 which is to change the voltage of a sensor 21 and the set value on the discriminator 23.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高周波誘導コイルに高
周波エネルギ―を供給し高周波磁界を形成して高周波誘
導結合プラズマを生じさせ該プラズマを利用して試料中
の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラズマ質量分
析計(以下、「ICP−MS」という)に関し、更に詳
しくは、検出器電圧の最適値やパルス高さ弁別器のディ
スクリミネ−ションレベルの最適設定値を短時間で自動
的に見つけて設定し、常に最適感度で試料中の被測定元
素を分析できるようにしたICP−MSに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high frequency wave for supplying a high frequency energy to a high frequency induction coil to form a high frequency magnetic field to generate a high frequency inductively coupled plasma and analyzing the element to be measured in a sample using the plasma. Regarding the inductively coupled plasma mass spectrometer (hereinafter referred to as “ICP-MS”), more specifically, the optimum value of the detector voltage and the optimum setting value of the discriminator level of the pulse height discriminator are automatically calculated in a short time. The present invention relates to an ICP-MS that can be found and set explicitly and can always analyze an element to be measured in a sample with optimum sensitivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2は、ICP−MSの一般的な構成説
明図である。この図において、プラズマト―チ1の外室
1bと最外室1cにガス調節器2を介してアルゴンガス
供給源3からアルゴンガスが供給され、内室1aには試
料導入装置4内の固体試料がレ―ザ光源5から照射され
たレ―ザ光によって気化されてのちキャリアガスである
アルゴンガスによって搬入されるようになっている。ま
た、プラズマト―チ1に巻回された高周波誘導コイル6
には高周波電源10によって高周波電流が流され、該コ
イル6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されてい
る。この状態で、上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の
作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生ず
る。
2. Description of the Related Art FIG. 2 is an explanatory view of a general structure of an ICP-MS. In this figure, the argon gas is supplied from the argon gas supply source 3 to the outer chamber 1b and the outermost chamber 1c of the plasma torch 1 through the gas regulator 2, and the inner chamber 1a is filled with solids in the sample introduction device 4. The sample is vaporized by the laser light emitted from the laser light source 5 and then carried in by an argon gas which is a carrier gas. Also, the high frequency induction coil 6 wound around the plasma torch 1
A high-frequency current is applied to the coil 6 by a high-frequency power source 10, and a high-frequency magnetic field (not shown) is formed around the coil 6. In this state, when electrons or ions are implanted in the argon gas in the vicinity of the high frequency magnetic field, the high frequency inductively coupled plasma 7 is instantaneously generated by the action of the high frequency magnetic field.

【0003】更に、ノズル8とスキマ―9に挟まれたフ
ォアチェンバ―本体11内は、真空ポンプ12によって
吸引されている。また、センタ―チェンバ―13内に
は、引出し電極14a,アパ―チャ―レンズ14b,四
重極レンズ14c,アパ―チャ―14d,及びエントラ
ンスレンズ14eが設けられると共に、該センタ―チェ
ンバ―の内部は第1油拡散ポンプ15によって吸引さ
れ、四重極マスフィルタ16を収容しているリアチェン
バ―17内は第2油拡散ポンプ18によって吸引されて
いる。
Further, the inside of the fore chamber main body 11 sandwiched between the nozzle 8 and the skimmer 9 is sucked by a vacuum pump 12. Further, in the center chamber 13, an extraction electrode 14a, an aperture lens 14b, a quadrupole lens 14c, an aperture 14d, and an entrance lens 14e are provided, and the inside of the center chamber 13 is provided. Is sucked by the first oil diffusion pump 15, and the inside of the rear chamber 17 housing the quadrupole mass filter 16 is sucked by the second oil diffusion pump 18.

【0004】この状態で、高周波誘導結合プラズマ7中
に上述のようにして気化された試料が導入され、イオン
化や発光が行われる。該プラズマ7内のイオンは、ノズ
ル8やスキマ―9を経由してのち引出し電極14aの間
とイオンレンズ系の間を通って収束され、四重極マスフ
ィルタ16に導入される。このようにして四重極マスフ
ィルタ16に入ったイオンのうち目的の質量電荷比のイ
オンだけが、四重極マスフィルタ16を通過し二次電子
増倍管19に導かれて検出される。この検出信号が信号
処理部20に送出されて演算・処理されることによっ
て、前記試料中の被測定元素分析値が求められる。
In this state, the sample vaporized as described above is introduced into the high frequency inductively coupled plasma 7, and ionization and light emission are performed. The ions in the plasma 7 are converged through the nozzle 8 and the skimmer 9 and then between the extraction electrodes 14a and the ion lens system, and are introduced into the quadrupole mass filter 16. In this way, among the ions that have entered the quadrupole mass filter 16, only the ions having the target mass-to-charge ratio pass through the quadrupole mass filter 16 and are guided to the secondary electron multiplier 19 to be detected. The detection signal is sent to the signal processing unit 20 and is calculated and processed to obtain the elemental analysis value of the measured element in the sample.

【0005】一方、ICP−MSのチュ−ニングに際
し、検出器電圧の値やパルス高さ弁別器のディスクリミ
ネ−ションレベルの設定値は、ポテンショを回したりコ
ントローラのキーボードから入力したりする方法がとら
れていた。
On the other hand, when tuning the ICP-MS, the value of the detector voltage and the set value of the discrimination level of the pulse height discriminator are input by turning the potentiometer or inputting from the keyboard of the controller. Was taken.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする問題点】しかし、上記従来例
においては、ICP−MSの通常的な使用によっても生
ずる検出器の劣化に起因し、検出器電圧の最適値やパル
ス高さ弁別器のディスクリミネ−ションレベルの最適設
定値が日々変化するようになっていた。また、このよう
な検出器電圧の最適値やパルス高さ弁別器のディスクリ
ミネ−ションレベルの最適設定値を捜すため、検出器の
出力を見ながら試行錯誤的に検出器電圧の値やパルス高
さ弁別器のディスクリミネ−ションレベルの設定値を入
力していた。
However, in the above-mentioned conventional example, due to the deterioration of the detector caused by the normal use of the ICP-MS, the optimum value of the detector voltage and the pulse height discriminator of the pulse height discriminator are reduced. The optimum setting value of the discrimination level was changing daily. Further, in order to search for the optimum value of the detector voltage and the optimum setting value of the discriminator level of the pulse height discriminator, the value of the detector voltage and the pulse of the pulse are detected by trial and error while observing the output of the detector. The set value of the discriminator level of the height discriminator was input.

【0007】このように検出器電圧の最適値やパルス高
さ弁別器のディスクリミネ−ションレベルの最適設定値
を設定することが煩雑であるため、現実には、最初に設
定した値でICP−MSをしばらく使用し、検出感度が
低下するなどの現象が明らかとなった場合に、検出器電
圧の最適値やパルス高さ弁別器のディスクリミネ−ショ
ンレベルを最適設定値に設定し直すという方法がとられ
ていた。本発明はかかる状況などに鑑みてなされたもの
であり、その目的は、検出器電圧の最適値やパルス高さ
弁別器のディスクリミネ−ションレベルの最適設定値を
短時間で自動的に見つけて設定し、常に最適感度で試料
中の被測定元素を分析できるようなICP−MSを提供
することにある。
Since it is complicated to set the optimum value of the detector voltage and the optimum set value of the discrimination level of the pulse height discriminator as described above, the ICP is actually set to the initially set value. -If a phenomenon such as a decrease in detection sensitivity becomes apparent after using the MS for a while, reset the optimum value of the detector voltage or the discriminator level of the pulse height discriminator to the optimum setting value. The method was taken. The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to automatically find an optimum value of a detector voltage or an optimum set value of a discriminator level of a pulse height discriminator in a short time. The purpose of the present invention is to provide an ICP-MS that can be set according to the above conditions and can always analyze the element to be measured in the sample with optimum sensitivity.

【0008】[0008]

【問題点を解決するための手段】本発明は、ICP−M
Sにおいて、検出器からのパルス出力を増幅するパルス
アンプと、該パルスアンプの出力がディスクリミネ−シ
ョンレベル設定値を越えたときのみ出力するパルス高さ
弁別器と、該パルス高さ弁別器の出力パルスを計数する
パルスカウンタと、該パルスカウンタの出力を監視しな
がら前記検出器の電圧と前記パルス高さ弁別器の設定値
を変えるコントローラとを設け、該コントローラで前記
検出器電圧の最適値および前記設定値の最適値をさがす
ことによって前記課題を解決したものである。
The present invention is an ICP-M
In S, a pulse amplifier for amplifying the pulse output from the detector, a pulse height discriminator for outputting only when the output of the pulse amplifier exceeds a discrimination level set value, and the pulse height discriminator A pulse counter that counts the output pulses of the pulse counter and a controller that changes the voltage of the detector and the set value of the pulse height discriminator while monitoring the output of the pulse counter, and the controller optimizes the detector voltage. The problem is solved by searching for the optimum value of the value and the set value.

【0009】[0009]

【作用】本発明は次のように作用する。即ち、ICP−
MSの検出器の電圧値とパルス高さ弁別器のディスクリ
ミネ−ションレベルの設定値を共に0Vとしてのち、パ
ルス高さ弁別器のディスクリミネ−ションレベルを少し
ずつ変化させ、パルスカウンタの出力カウントが零にな
るところを捜し、そこをディスクリミネ−ションレベル
の設定値とする。その後、例えば、質量数80のアルゴ
ン二量体の信号のような所定の信号をモニターしなが
ら、例えば毎秒100カウントのような一定のカウント
数になるまで、検出器の電圧を上昇させ、その電圧値を
検出器電圧とする。
The present invention operates as follows. That is, ICP-
After setting both the voltage value of the MS detector and the set value of the discriminator level of the pulse height discriminator to 0 V, the discriminator level of the pulse height discriminator is changed little by little, and the pulse counter of the pulse counter is changed. The part where the output count becomes zero is searched for and used as the set value of the discrimination level. Then, while monitoring a predetermined signal such as the signal of an argon dimer having a mass number of 80, the voltage of the detector is increased until the count reaches a constant count number such as 100 counts per second, and the voltage is increased. The value is the detector voltage.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例について図を用いて詳
細に説明する。図1は本発明実施例の要部ブロック回路
図であり、図中、21はICP−MSの検出器、22は
検出器21からのパルス出力を増幅するパルスアンプ、
23はパルスアンプ22の出力がディスクリミネ−ショ
ンレベル設定値を越えたときのみ出力するパルス高さ弁
別器、24はパルス高さ弁別器23の出力パルスを計数
するパルスカウンタ、25はパルスカウンタ24の出力
を監視しながら検出器21の電圧とパルス高さ弁別器の
設定値を変えるコントローラである。このような要部ブ
ロック回路からなる本発明の実施例において、最初、検
出器電圧の値とパルス高さ弁別器23のディスクリミネ
−ションレベルの設定値を共に0Vとする。次に、パル
ス高さ弁別器23のディスクリミネ−ションレベルを少
しずつ変化させ、パルスカウンタ24の出力カウンタが
零になるところを捜し、そこをディスクリミネ−ション
レベルの設定値とする。その後、例えば、質量数80の
アルゴン二量体の信号のような所定の信号を監視しなが
ら、例えば毎秒100カウントのような一定のカウント
数になるまで、検出器21の電圧を上昇させ、その電圧
値を検出器電圧とする。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block circuit diagram of an essential part of an embodiment of the present invention, in which 21 is an ICP-MS detector, 22 is a pulse amplifier for amplifying the pulse output from the detector 21,
Reference numeral 23 is a pulse height discriminator that outputs only when the output of the pulse amplifier 22 exceeds the discrimination level set value, 24 is a pulse counter that counts the output pulses of the pulse height discriminator 23, and 25 is a pulse counter. The controller changes the voltage of the detector 21 and the set value of the pulse height discriminator while monitoring the output of 24. In the embodiment of the present invention composed of such a block circuit of the main part, first, both the value of the detector voltage and the set value of the discrimination level of the pulse height discriminator 23 are set to 0V. Next, the discriminating level of the pulse height discriminator 23 is changed little by little, and a place where the output counter of the pulse counter 24 becomes zero is searched for and set as the set value of the discriminating level. Thereafter, while monitoring a predetermined signal such as a signal of an argon dimer having a mass number of 80, for example, the voltage of the detector 21 is increased until a constant count number such as 100 counts per second is reached. Let the voltage value be the detector voltage.

【0011】このようにしてパルス高さ弁別器の出力パ
ルスを計数するパルスカウンタの出力を監視しながら、
検出器の電圧とパルス高さ弁別器の設定値を変えるコン
トローラで、検出器電圧の最適値とパルス高さ弁別器に
おけるディスクリミネ−ションレベル設定値の最適値を
捜すことができるようになる。尚、本発明は上述の実施
例に限定されることなく種々の変形が可能であり、例え
ば次の〜のようにしてもよい。 検出器電圧を例えば−1500Vに設定する。
In this way, while monitoring the output of the pulse counter for counting the output pulses of the pulse height discriminator,
A controller that changes the detector voltage and the pulse height discriminator set value enables you to search for the optimum detector voltage and pulse height discriminator level discriminator level set values. .. The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the following may be adopted. The detector voltage is set to, for example, -1500V.

【0012】質量数80amu.のアルゴン二量体の
信号のような所定の信号を監視する。 ディスクリミネーションレベルを、例えば0.2mV
の設定値から少しずつ変化させ、ディスクリミネーショ
ンレベルとその時のカウント数を記録する。∂┯ 上記で得られたデータから各ディスクリミネーショ
ンレベルでのカウント数の変化率を求める。この変化率
は上記で得られたデータの微分値に相当し、信号のパ
ルス高さの分布を示している。 検出器21の電圧を少しずつ変化させ、各々の電圧で
上記及びの動作を繰り返す。 信号のパルス高さを示す分布図において、分布が最も
高いパルス高さが所定値V1となる検出器電圧を求め、
これを設定値とする。また、上記〜の動作の後に次
のようなの動作を行って検出器電圧を設定するように
してもよい。 信号のパルス高さを示す分布図を求め該分布図におい
て、0mV付近にはパルスが殆ど存在せず、1mV以上
のところに殆どのパルスが存在するように検出器電圧を
設定する。
Mass number 80 amu. A predetermined signal, such as the argon dimer signal of. Discrimination level is, for example, 0.2 mV
Change gradually from the setting value of and record the discrimination level and the number of counts at that time. ∂┯ Calculate the rate of change of the count number at each discrimination level from the data obtained above. This rate of change corresponds to the differential value of the data obtained above and indicates the distribution of the pulse height of the signal. The voltage of the detector 21 is changed little by little, and the above operation is repeated for each voltage. In the distribution chart showing the pulse height of the signal, the detector voltage at which the pulse height with the highest distribution becomes the predetermined value V1 is obtained,
This is the set value. Further, the detector voltage may be set by performing the following operations after the above operations (1) to (3). A distribution chart showing the pulse height of the signal is obtained, and in the distribution chart, the detector voltage is set so that there are almost no pulses near 0 mV and most of the pulses exist at 1 mV or higher.

【0013】[0013]

【発明の効果】以上詳しく説明したような本発明によれ
ば、他の測定器を一切必要とすることなく、検出器電圧
とディスクリミネーション設定値を自動的に変化させな
がらパルスカウンタの出力を監視すると共に、該出力を
信号処理して判断することにより、デイスクリミネーシ
ョンレベル設定値と検出器電圧の最適値を短時間で捜し
出して設定することができる。従って、本発明によれ
ば、検出器電圧の最適値やパルス高さ弁別器のディスク
リミネ−ションレベルの最適設定値を短時間で自動的に
見つけて設定し、常に最適感度で試料中の被測定元素を
分析できるICP−MSが実現する。
According to the present invention as described in detail above, the output of the pulse counter can be automatically changed while automatically changing the detector voltage and the set value of discrimination without using any other measuring device. The optimum values of the discriminator level setting value and the detector voltage can be searched for and set in a short time by monitoring the output and performing signal processing on the output to determine. Therefore, according to the present invention, the optimum value of the detector voltage and the optimum setting value of the discriminator level of the pulse height discriminator are automatically found and set in a short time, and the optimum value of the sample in the sample is always detected with the optimum sensitivity. ICP-MS that can analyze the element to be measured is realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明実施例の要部ブロック回路図である。FIG. 1 is a block circuit diagram of an essential part of an embodiment of the present invention.

【図2】ICP−MSの一般的な構成説明図である。FIG. 2 is a general configuration explanatory diagram of an ICP-MS.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21 検出器 22 パルスアンプ 23 パルス高さ弁別器 24 パルスカウンタ 25 コントローラ 21 detector 22 pulse amplifier 23 pulse height discriminator 24 pulse counter 25 controller

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】検出器からのパルス出力を増幅するパルス
アンプと、該パルスアンプの出力がディスクリミネ−シ
ョンレベル設定値を越えたときのみ出力するパルス高さ
弁別器と、該パルス高さ弁別器の出力パルスを計数する
パルスカウンタと、該パルスカウンタの出力を監視しな
がら前記検出器の電圧と前記パルス高さ弁別器の設定値
を変えるコントローラとを具備し、該コントローラで前
記検出器電圧の最適値および前記設定値の最適値をさが
すように構成したことを特徴とする高周波誘導結合プラ
ズマ質量分析計。
1. A pulse amplifier for amplifying a pulse output from a detector, a pulse height discriminator for outputting only when the output of the pulse amplifier exceeds a discrimination level set value, and the pulse height. A pulse counter that counts the output pulses of the discriminator, and a controller that changes the voltage of the detector and the set value of the pulse height discriminator while monitoring the output of the pulse counter, and the detector is used by the controller. A high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer, which is configured to search for an optimum value of voltage and an optimum value of the set value.
JP3312639A 1991-11-27 1991-11-27 High frequency induction coupling type plasma mass-spectrometer Pending JPH05151931A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3312639A JPH05151931A (en) 1991-11-27 1991-11-27 High frequency induction coupling type plasma mass-spectrometer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3312639A JPH05151931A (en) 1991-11-27 1991-11-27 High frequency induction coupling type plasma mass-spectrometer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05151931A true JPH05151931A (en) 1993-06-18

Family

ID=18031633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3312639A Pending JPH05151931A (en) 1991-11-27 1991-11-27 High frequency induction coupling type plasma mass-spectrometer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05151931A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008503858A (en) * 2004-06-21 2008-02-07 ヴァーミリオン インコーポレイテッド Laser desorption ionization mass spectrometer with quantitative reproducibility

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008503858A (en) * 2004-06-21 2008-02-07 ヴァーミリオン インコーポレイテッド Laser desorption ionization mass spectrometer with quantitative reproducibility

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7291845B2 (en) Method for controlling space charge-driven ion instabilities in electron impact ion sources
JP2922647B2 (en) Interference reduction in plasma source mass spectrometers
US5202562A (en) High sensitive element analyzing method and apparatus of the same
EP0614210A1 (en) Plasma mass spectrometry
JP3148264B2 (en) Quadrupole mass spectrometer
JPH05151931A (en) High frequency induction coupling type plasma mass-spectrometer
US5426299A (en) Inductive plasma mass spectrometer
JP3153337B2 (en) Inductively coupled plasma mass spectrometer
EP0932184B1 (en) Ion collector assembly
JP3133167B2 (en) Inductively coupled plasma mass spectrometer
JP3118004B2 (en) High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer
JP3154831B2 (en) Inductively coupled plasma mass spectrometer
JPH09129174A (en) Mass spectrometer
JP2000173532A (en) Induction coupled plasma three-dimensional quadrupole mass spectrometer
JPH0638372Y2 (en) High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer
JPH0620642A (en) Inductive coupling plasma mass spectrometer
JPH05182632A (en) Secondary electron multiplier
JPH06109701A (en) Inductively coupled plasma mass spectrometer
JPH0589825A (en) High frequency induction coupling plasma mass-spectrometer
JPS6052389B2 (en) Atomic beam detector
JPH01117262A (en) Analyzer of high frequency induction coupled plasma
JP2953010B2 (en) High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer
JP2982189B2 (en) High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer
JPH0624113B2 (en) High frequency inductively coupled plasma / mass spectrometer
JPH05258711A (en) Analyzing device for microwave plasma micro-quantity element