JPH05140063A - ジペプチド誘導体及びそれを有効成分とする骨疾患の予防及び治療剤 - Google Patents
ジペプチド誘導体及びそれを有効成分とする骨疾患の予防及び治療剤Info
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- JPH05140063A JPH05140063A JP3303351A JP30335191A JPH05140063A JP H05140063 A JPH05140063 A JP H05140063A JP 3303351 A JP3303351 A JP 3303351A JP 30335191 A JP30335191 A JP 30335191A JP H05140063 A JPH05140063 A JP H05140063A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 骨疾患の予防および治療剤を提供する。
【構成】式(1)
R1 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−R4 ....(1)
〔式中、R1 はハロゲン原子で置換されてもよい脂肪族
アシル基またはベンジルオキシカルボニル基を、R2 は
低級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキ
ル基、アラルキル基又はメチルチオエチル基を、R4 は
ホルミル基(但し、R3 がn−ブチル基である場合を除
く)、置換されてもよい脂肪族アシル基(ここで置換基
としては、ハロゲン原子または低級アルコキシカルボニ
ル基である)、ジ低級アルコキシメチル基、ジアシルオ
キシメチル基、低級アルコキサリル基、ハロゲン原子で
置換されてもよい1−ヒドロキシ−2−低級アルコキシ
カルボニルエチル基、ヒドロキシイミノメチル基、ウレ
イドイミノメチル基、ベンズイミダゾール−2−イル
基、又は基 (式中、A及びBは、同一または異なってO、S、NH
を、nは2または3を示す)を表す〕で表されるジペプ
チド誘導体を含む、悪性高カルシウム血症、骨ぺージェ
ット病または骨粗鬆症の予防および治療剤。
アシル基またはベンジルオキシカルボニル基を、R2 は
低級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキ
ル基、アラルキル基又はメチルチオエチル基を、R4 は
ホルミル基(但し、R3 がn−ブチル基である場合を除
く)、置換されてもよい脂肪族アシル基(ここで置換基
としては、ハロゲン原子または低級アルコキシカルボニ
ル基である)、ジ低級アルコキシメチル基、ジアシルオ
キシメチル基、低級アルコキサリル基、ハロゲン原子で
置換されてもよい1−ヒドロキシ−2−低級アルコキシ
カルボニルエチル基、ヒドロキシイミノメチル基、ウレ
イドイミノメチル基、ベンズイミダゾール−2−イル
基、又は基 (式中、A及びBは、同一または異なってO、S、NH
を、nは2または3を示す)を表す〕で表されるジペプ
チド誘導体を含む、悪性高カルシウム血症、骨ぺージェ
ット病または骨粗鬆症の予防および治療剤。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なジペプチド誘導
体、及びそれを有効成分とする骨疾患の予防および治療
剤に関する。
体、及びそれを有効成分とする骨疾患の予防および治療
剤に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、高齢者人口の急激な増加と共に所
謂老人病が増加している。中でも、骨粗鬆症をはじめと
する骨疾患は骨折を多発し、寝たきり老人につながる疾
病として、その予防と治療法の開発が望まれている。
謂老人病が増加している。中でも、骨粗鬆症をはじめと
する骨疾患は骨折を多発し、寝たきり老人につながる疾
病として、その予防と治療法の開発が望まれている。
【0003】骨は一旦形成された後は全く変化しない構
築物ではなく、骨形成と骨吸収のバランスの上にその構
造および量は維持されている。従って、加齢あるいはそ
の他の原因によりそのバランスが崩れると、種々の骨疾
患を発症する。骨吸収の異常亢進によって起きる疾患と
しては、骨髄腫やリンパ腫などが原因で起こる悪性高カ
ルシウム血症、局所性骨吸収によりもたらされる骨ぺー
ジェット病、原因は不明であるが加齢により骨量が減少
する骨粗鬆症等が挙げられる。
築物ではなく、骨形成と骨吸収のバランスの上にその構
造および量は維持されている。従って、加齢あるいはそ
の他の原因によりそのバランスが崩れると、種々の骨疾
患を発症する。骨吸収の異常亢進によって起きる疾患と
しては、骨髄腫やリンパ腫などが原因で起こる悪性高カ
ルシウム血症、局所性骨吸収によりもたらされる骨ぺー
ジェット病、原因は不明であるが加齢により骨量が減少
する骨粗鬆症等が挙げられる。
【0004】骨は主に有機質であるコラーゲン線維と無
機質であるカルシウム塩からなり、この両者が結びつい
て、張力にも圧力にも強い強固な構築物である骨が形成
される。とりわけ、カルシウム塩は全骨重量の70%を
占めるが、骨疾患においてはその進行とともにカルシウ
ム塩が骨から血液中に溶出して徐々に失われる。
機質であるカルシウム塩からなり、この両者が結びつい
て、張力にも圧力にも強い強固な構築物である骨が形成
される。とりわけ、カルシウム塩は全骨重量の70%を
占めるが、骨疾患においてはその進行とともにカルシウ
ム塩が骨から血液中に溶出して徐々に失われる。
【0005】このような疾患の予防または治療には、こ
れまでカルシウムを補うかあるいは維持する治療法が採
用され、活性型ビタミンD3 製剤およびカルシウム製剤
等が用いられてきた。また、骨からの脱灰を抑制する目
的でエストロゲン製剤およびカルシトニン製剤のような
ホルモン剤が用いられてきた。
れまでカルシウムを補うかあるいは維持する治療法が採
用され、活性型ビタミンD3 製剤およびカルシウム製剤
等が用いられてきた。また、骨からの脱灰を抑制する目
的でエストロゲン製剤およびカルシトニン製剤のような
ホルモン剤が用いられてきた。
【0006】このような従来の治療法に加えて、最近、
骨疾患におけるコラーゲン線維の減少防止の重要性も注
目されつつある。即ち、骨の支持体として存在するコラ
ーゲン線維の分解酵素を解明し、その分解酵素阻害剤を
吸収性骨疾患の治療に用いるという試みである(特開昭
63−284127、特開平2−218619)。しか
し、骨の支持体として存在するI型コラーゲンが、リソ
ゾーム中のチオールプロテアーゼの一種であるカテプシ
ンLにより分解されることが明らかになったのは、つい
最近のことであり(勝沼信彦、学士会会報 792号
48〜52頁1991年)、これらの研究は緒についた
ばかりで実際に患者を治療した例は報告されておらず、
実用的な治療剤の提供には至っていない。
骨疾患におけるコラーゲン線維の減少防止の重要性も注
目されつつある。即ち、骨の支持体として存在するコラ
ーゲン線維の分解酵素を解明し、その分解酵素阻害剤を
吸収性骨疾患の治療に用いるという試みである(特開昭
63−284127、特開平2−218619)。しか
し、骨の支持体として存在するI型コラーゲンが、リソ
ゾーム中のチオールプロテアーゼの一種であるカテプシ
ンLにより分解されることが明らかになったのは、つい
最近のことであり(勝沼信彦、学士会会報 792号
48〜52頁1991年)、これらの研究は緒についた
ばかりで実際に患者を治療した例は報告されておらず、
実用的な治療剤の提供には至っていない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、悪性
高カルシウム血症、骨ページェット病および骨粗鬆症等
の吸収性骨疾患の予防または治療に有用な治療剤を提供
することにある。より詳細には、吸収性骨疾患におい
て、カルシウムを補給または維持する従来の療法に代え
て、骨中のカルシウム塩の減少を抑制することにより根
本的な予防及び治療を可能にする新規化合物を提供し、
これらの化合物を有効成分として含有する治療剤を提供
することにある。
高カルシウム血症、骨ページェット病および骨粗鬆症等
の吸収性骨疾患の予防または治療に有用な治療剤を提供
することにある。より詳細には、吸収性骨疾患におい
て、カルシウムを補給または維持する従来の療法に代え
て、骨中のカルシウム塩の減少を抑制することにより根
本的な予防及び治療を可能にする新規化合物を提供し、
これらの化合物を有効成分として含有する治療剤を提供
することにある。
【0008】本発明はまた、吸収性骨疾患において、骨
中カルシウム塩の減少の抑制と同時に、コラーゲン線維
の減少も抑制して、より効果的な予防及び治療を可能と
する骨疾患治療剤を提供することも目的とする。
中カルシウム塩の減少の抑制と同時に、コラーゲン線維
の減少も抑制して、より効果的な予防及び治療を可能と
する骨疾患治療剤を提供することも目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、先にカテ
プシンLの阻害剤が、副甲状腺ホルモン関連蛋白1−3
4フラグメント〔以下PTHrp(1−34)と略記す
る〕を用いたマウスの高カルシウム血症モデルにおい
て、血中カルシウム濃度を低下させる活性を有すること
を見出して、吸収性骨疾患に有効であることを開示して
いる(生化学 63巻 8号 824頁 1991
年)。
プシンLの阻害剤が、副甲状腺ホルモン関連蛋白1−3
4フラグメント〔以下PTHrp(1−34)と略記す
る〕を用いたマウスの高カルシウム血症モデルにおい
て、血中カルシウム濃度を低下させる活性を有すること
を見出して、吸収性骨疾患に有効であることを開示して
いる(生化学 63巻 8号 824頁 1991
年)。
【0010】本発明者等は、上記PTHrp(1−3
4)/ラットのモデル(ジャーナル・オブ・クリニカル
・インベスティゲーション、81巻、2号、596−6
00頁、1988年;エンドクリノロジー、123巻、
2841−2848頁 1988年)を用いて、さらに
有効な化合物を開発すべく鋭意研究の結果、式(1) R1 NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−R4 ....(1) 〔式中、R1 はハロゲン原子で置換されてもよい脂肪族
アシル基またはベンジルオキシカルボニル基を、R2 は
低級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキ
ル基、アラルキル基又はメチルチオエチル基を、R4 は
ホルミル基(但し、R3 がn−ブチル基である場合を除
く)、置換されてもよい脂肪族アシル基(ここで置換基
としては、ハロゲン原子または低級アルコキシカルボニ
ル基である)、ジ低級アルコキシメチル基、ジアシルオ
キシメチル基、低級アルコキサリル基、ハロゲン原子で
置換されてもよい1−ヒドロキシ−2−低級アルコキシ
カルボニルエチル基、ヒドロキシイミノメチル基、ウレ
イドイミノメチル基、ベンズイミダゾール−2−イル
基、又は基
4)/ラットのモデル(ジャーナル・オブ・クリニカル
・インベスティゲーション、81巻、2号、596−6
00頁、1988年;エンドクリノロジー、123巻、
2841−2848頁 1988年)を用いて、さらに
有効な化合物を開発すべく鋭意研究の結果、式(1) R1 NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−R4 ....(1) 〔式中、R1 はハロゲン原子で置換されてもよい脂肪族
アシル基またはベンジルオキシカルボニル基を、R2 は
低級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキ
ル基、アラルキル基又はメチルチオエチル基を、R4 は
ホルミル基(但し、R3 がn−ブチル基である場合を除
く)、置換されてもよい脂肪族アシル基(ここで置換基
としては、ハロゲン原子または低級アルコキシカルボニ
ル基である)、ジ低級アルコキシメチル基、ジアシルオ
キシメチル基、低級アルコキサリル基、ハロゲン原子で
置換されてもよい1−ヒドロキシ−2−低級アルコキシ
カルボニルエチル基、ヒドロキシイミノメチル基、ウレ
イドイミノメチル基、ベンズイミダゾール−2−イル
基、又は基
【0011】
【0012】(基中、A及びBは、同一または異なって
O、S、NHを、nは2または3を示す)を表す〕で表
されるジペプチド誘導体が、経口投与、腹腔投与または
静脈注射等の非経口投与により血中カルシウム濃度の低
下作用を有し、骨疾患の予防または治療剤として有用で
あることを見出し、本発明を完成した。また、本発明は
上記式(1)で表される化合物からなる群より選ばれた
少なくとも一種を有効成分として含有する骨疾患の予防
または治療剤も提供する。本発明の予防または治療剤の
対象となる骨疾患とは、骨吸収性の疾患を意味し、具体
的には、悪性高カルシウム血症、骨ページェット病、骨
粗鬆症が例示される。
O、S、NHを、nは2または3を示す)を表す〕で表
されるジペプチド誘導体が、経口投与、腹腔投与または
静脈注射等の非経口投与により血中カルシウム濃度の低
下作用を有し、骨疾患の予防または治療剤として有用で
あることを見出し、本発明を完成した。また、本発明は
上記式(1)で表される化合物からなる群より選ばれた
少なくとも一種を有効成分として含有する骨疾患の予防
または治療剤も提供する。本発明の予防または治療剤の
対象となる骨疾患とは、骨吸収性の疾患を意味し、具体
的には、悪性高カルシウム血症、骨ページェット病、骨
粗鬆症が例示される。
【0013】本明細書中、低級アルキル基とは、炭素数
1から5までの直鎖または分岐のアルキル基を意味し、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基等が例示
できる。
1から5までの直鎖または分岐のアルキル基を意味し、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基等が例示
できる。
【0014】式(1)において、R1 で表されるハロゲ
ン原子で置換されてもよい脂肪族アシル基の好ましい例
としては、アセチル基、クロロアセチル基、プロピオニ
ル基、ブチリル基、イソブチリル基およびトリフルオロ
アセチル基を挙げることができ、R2 で表される低級ア
ルキル基の好ましい例としては、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基およびsec−ブチル基を挙げ
ることができ、中でもイソブチル基が好ましく、R2 で
表されるアラルキル基の好ましい例としてはベンジル基
を挙げることができる。
ン原子で置換されてもよい脂肪族アシル基の好ましい例
としては、アセチル基、クロロアセチル基、プロピオニ
ル基、ブチリル基、イソブチリル基およびトリフルオロ
アセチル基を挙げることができ、R2 で表される低級ア
ルキル基の好ましい例としては、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基およびsec−ブチル基を挙げ
ることができ、中でもイソブチル基が好ましく、R2 で
表されるアラルキル基の好ましい例としてはベンジル基
を挙げることができる。
【0015】式(1)において、R3 で表される低級ア
ルキル基の好ましい例としては、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基およびsec−ブチル基を挙げ
ることができ、とりわけn−ブチル基が好ましく、R3
で表されるアラルキル基としては、ベンジル基が好まし
い。
ルキル基の好ましい例としては、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基およびsec−ブチル基を挙げ
ることができ、とりわけn−ブチル基が好ましく、R3
で表されるアラルキル基としては、ベンジル基が好まし
い。
【0016】式(1)において、R4 で表されるハロゲ
ン原子または低級アルコキシカルボニル基で置換されて
もよい脂肪族アシル基としては、アセチル基、ブロモア
セチル基および2−エトキシカルボニルアセチル基が好
ましく、R4 で表されるジ低級アルコキシメチル基とし
ては、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基および
ジ−n−プロピルオキシメチル基が好ましく、R4 で表
されるジアシルオキシシメチル基としては、ジアセトキ
シメチル基が好ましく、R4 で表されるジ低級アルコキ
サリル基としては、エトキサリル基が好ましく、R4 で
表されるハロゲン原子で置換されてもよい1−ヒドロキ
シ−2−低級アルコキシカルボニルエチル基としては、
1−ヒドロキシ−2−エトキシカルボニルエチル基およ
び1−ヒドロキシ−2,2−ジフルオロ−2−エトキシ
カルボニルエチル基が好ましい。また、R4 で表される
基が次式
ン原子または低級アルコキシカルボニル基で置換されて
もよい脂肪族アシル基としては、アセチル基、ブロモア
セチル基および2−エトキシカルボニルアセチル基が好
ましく、R4 で表されるジ低級アルコキシメチル基とし
ては、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基および
ジ−n−プロピルオキシメチル基が好ましく、R4 で表
されるジアシルオキシシメチル基としては、ジアセトキ
シメチル基が好ましく、R4 で表されるジ低級アルコキ
サリル基としては、エトキサリル基が好ましく、R4 で
表されるハロゲン原子で置換されてもよい1−ヒドロキ
シ−2−低級アルコキシカルボニルエチル基としては、
1−ヒドロキシ−2−エトキシカルボニルエチル基およ
び1−ヒドロキシ−2,2−ジフルオロ−2−エトキシ
カルボニルエチル基が好ましい。また、R4 で表される
基が次式
【0017】
【0018】(基中、A及びBは、同一または異なって
O、S、NHを、nは2または3を示す)で表される基
の例としては、1,3−ジオキソラン−2−イル基、
1,3−ジチオラン−2−イル基、1,3−ジチアン−
2−イル基、チアゾリン−2−イル基および1,3−オ
キソチオラン−2−イル基が好ましい。
O、S、NHを、nは2または3を示す)で表される基
の例としては、1,3−ジオキソラン−2−イル基、
1,3−ジチオラン−2−イル基、1,3−ジチアン−
2−イル基、チアゾリン−2−イル基および1,3−オ
キソチオラン−2−イル基が好ましい。
【0019】本発明のジペプチド誘導体は以下のように
して製造することができる。一般式(1)において、R
1 がベンジルオキシカルボニル基(以下Zと略記する)
であり、R4 が基、−CO−COOR5 (基中、R5 は
低級アルキル基を表す。)で表される化合物は、次の一
般式(2)、 R1 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−COOR6 ....(2) 〔式中、R2 およびR3 は前記式(1)で与えられた意
味を表し、R6 は低級アルキル基を表す。〕で表される
化合物をアルカリ水溶液中で鹸化し、得られたカルボン
酸を酸無水物化する。これにメトキシメチルアミン、次
いでエチルビニルエーテルを反応させ、最後にオゾン酸
化することにより製造される。
して製造することができる。一般式(1)において、R
1 がベンジルオキシカルボニル基(以下Zと略記する)
であり、R4 が基、−CO−COOR5 (基中、R5 は
低級アルキル基を表す。)で表される化合物は、次の一
般式(2)、 R1 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−COOR6 ....(2) 〔式中、R2 およびR3 は前記式(1)で与えられた意
味を表し、R6 は低級アルキル基を表す。〕で表される
化合物をアルカリ水溶液中で鹸化し、得られたカルボン
酸を酸無水物化する。これにメトキシメチルアミン、次
いでエチルビニルエーテルを反応させ、最後にオゾン酸
化することにより製造される。
【0020】一般式(1)において、R1 がZであり、
R4 が基、−CO−R7 (基中R7はメチル基またはハ
ロゲン化メチル基を表す。)で表される化合物は、前
記、式(2)で表される化合物をアルカリ水溶液中で鹸
化し、得られたカルボン酸を酸無水物化する。これをジ
アゾメチル化し、次いでハロゲン化水素を加えることに
より製造される。
R4 が基、−CO−R7 (基中R7はメチル基またはハ
ロゲン化メチル基を表す。)で表される化合物は、前
記、式(2)で表される化合物をアルカリ水溶液中で鹸
化し、得られたカルボン酸を酸無水物化する。これをジ
アゾメチル化し、次いでハロゲン化水素を加えることに
より製造される。
【0021】一般式(1)において、R1 がZであり、
R4 が基、−CO−CH2 −COOR8 (基中、R8 は
低級アルキル基を表す。)で表される化合物は、前記、
式(2)で表される化合物をアルカリ水溶液で鹸化し、
得られたカルボン酸をイミダゾイル化し、次いで酢酸エ
ステルを付加することにより製造することができる。
R4 が基、−CO−CH2 −COOR8 (基中、R8 は
低級アルキル基を表す。)で表される化合物は、前記、
式(2)で表される化合物をアルカリ水溶液で鹸化し、
得られたカルボン酸をイミダゾイル化し、次いで酢酸エ
ステルを付加することにより製造することができる。
【0022】一般式(1)において、R1 がZであり、
R4 が基、−CH(OH)−CX2−COOR8 (基
中、R8 は低級アルキル基を表し、Xは水素原子または
ハロゲン原子を表す。)で表される化合物は、まず前
記、式(2)で表される化合物を低級アルコールあるい
はエーテル等の有機溶媒中、水素化硼素ナトリウム等の
還元剤でアルコール体に還元し、さらに、有機溶媒中、
三級アミンの存在下あるいは非存在下に三酸化硫黄−ピ
リジン錯体、無水クロム酸−ピリジン錯体、オキサリル
クロライド等の酸化剤を用いて次の一般式(3)、 Z−NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−CHO ....(3) 〔式中、R2 およびR3 は、前記式(1)で与えられた
意味を表す。〕で表される化合物を得、次にこれに酢酸
エステルを付加することにより製造することができる。
また一般式(3)で表される化合物は、前記、一般式
(2)で表される化合物を有機溶媒中、ジイソブチルア
ルミニウムハイドライドを用いて還元することにより製
造することもできる。
R4 が基、−CH(OH)−CX2−COOR8 (基
中、R8 は低級アルキル基を表し、Xは水素原子または
ハロゲン原子を表す。)で表される化合物は、まず前
記、式(2)で表される化合物を低級アルコールあるい
はエーテル等の有機溶媒中、水素化硼素ナトリウム等の
還元剤でアルコール体に還元し、さらに、有機溶媒中、
三級アミンの存在下あるいは非存在下に三酸化硫黄−ピ
リジン錯体、無水クロム酸−ピリジン錯体、オキサリル
クロライド等の酸化剤を用いて次の一般式(3)、 Z−NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−CHO ....(3) 〔式中、R2 およびR3 は、前記式(1)で与えられた
意味を表す。〕で表される化合物を得、次にこれに酢酸
エステルを付加することにより製造することができる。
また一般式(3)で表される化合物は、前記、一般式
(2)で表される化合物を有機溶媒中、ジイソブチルア
ルミニウムハイドライドを用いて還元することにより製
造することもできる。
【0023】一般式(1)において、R1 がZであり、
R4 がジ低級アルコキシメチル基、ジアシルオキシメチ
ル基、低級アルコキサリル基、ヒドロキシイミノメチル
基、ウレイドイミノメチル基、ベンズイミダゾール−2
−イル基、または基
R4 がジ低級アルコキシメチル基、ジアシルオキシメチ
ル基、低級アルコキサリル基、ヒドロキシイミノメチル
基、ウレイドイミノメチル基、ベンズイミダゾール−2
−イル基、または基
【0024】
【0025】(基中、A及びBは、同一または異なって
O、S、NHを、nは2または3を示す)で表される化
合物は、前記、式(3)で表される化合物にアルコール
類,酸無水物、酸ハロゲン化物などのアシル化試薬、ヒ
ドロキシルアミン、セミカルバジド、オルトフェニレン
ジアミン、ジオール類、ジチオール類またはアミノチオ
ール類を反応させることにより製造することができる。
O、S、NHを、nは2または3を示す)で表される化
合物は、前記、式(3)で表される化合物にアルコール
類,酸無水物、酸ハロゲン化物などのアシル化試薬、ヒ
ドロキシルアミン、セミカルバジド、オルトフェニレン
ジアミン、ジオール類、ジチオール類またはアミノチオ
ール類を反応させることにより製造することができる。
【0026】一般式(1)において、R1 がハロゲン原
子で置換されてもよい脂肪族アシル基であり、R4 がジ
低級アルコキシメチル基、ジアシルオキシメチル基、低
級アルコキサリル基、ヒドロキシイミノメチル基、ウレ
イドイミノメチル基、ベンズイミダゾール−2−イル
基、または基
子で置換されてもよい脂肪族アシル基であり、R4 がジ
低級アルコキシメチル基、ジアシルオキシメチル基、低
級アルコキサリル基、ヒドロキシイミノメチル基、ウレ
イドイミノメチル基、ベンズイミダゾール−2−イル
基、または基
【0027】
【0028】(基中、A及びBは、同一または異なって
O、S、NHを、nは2または3を示す)で表される化
合物は、次の一般式(4)、 R9 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−CHO ....(4) 〔式中、R2 およびR3 は前記式(1)で与えられた意
味を表し、R9 はベンジルオキシカルボニル基等の通常
のペプチド保護基を表す。〕で表される化合物にアルコ
ール類、酸無水物、酸ハロゲン化物などのアシル化試
薬、ヒドロキシルアミン、セミカルバジド、オルトフェ
ニレンジアミン、ジオール類、ジチオール類またはアミ
ノチオール類を反応させることにより製造される次の一
般式(5)、 R9 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−R10 ....(5) 〔式中、R2 およびR3 は前記式(1)で与えられた意
味を表し、R9 はベンジルオキシカルボニル基等の通常
のペプチド保護基を表し、R10はジ低級アルコキシメチ
ル基、ジアシルオキシメチル基、低級アルコキサリル
基、ヒドロキシイミノメチル基、ウレイドイミノメチル
基、ベンズイミダゾール−2−イル基、または基
O、S、NHを、nは2または3を示す)で表される化
合物は、次の一般式(4)、 R9 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−CHO ....(4) 〔式中、R2 およびR3 は前記式(1)で与えられた意
味を表し、R9 はベンジルオキシカルボニル基等の通常
のペプチド保護基を表す。〕で表される化合物にアルコ
ール類、酸無水物、酸ハロゲン化物などのアシル化試
薬、ヒドロキシルアミン、セミカルバジド、オルトフェ
ニレンジアミン、ジオール類、ジチオール類またはアミ
ノチオール類を反応させることにより製造される次の一
般式(5)、 R9 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−R10 ....(5) 〔式中、R2 およびR3 は前記式(1)で与えられた意
味を表し、R9 はベンジルオキシカルボニル基等の通常
のペプチド保護基を表し、R10はジ低級アルコキシメチ
ル基、ジアシルオキシメチル基、低級アルコキサリル
基、ヒドロキシイミノメチル基、ウレイドイミノメチル
基、ベンズイミダゾール−2−イル基、または基
【0029】
【0030】(基中、A及びBは、同一または異なって
O、S、NHを、nは2または3を示す)を表す。〕で
表される化合物の保護基R9 を接触水素添加等の方法に
よって脱保護し、次に所望の基R1 の酸無水化物あるい
は酸塩化物を用いてR1 をアミノ基に導入することによ
り製造することができる。
O、S、NHを、nは2または3を示す)を表す。〕で
表される化合物の保護基R9 を接触水素添加等の方法に
よって脱保護し、次に所望の基R1 の酸無水化物あるい
は酸塩化物を用いてR1 をアミノ基に導入することによ
り製造することができる。
【0031】また、前記、一般式(5)で表される化合
物の製造には、次のような方法を用いることもできる。
すなわち、次の一般式(6)、 R1 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−COOR11....(6) 〔式中、R1 はハロゲン原子で置換されてもよい脂肪族
アシル基を表し、R2 およびR3 は前記式(1)で与え
られた意味を表し、R11は低級アルキル基を表す。〕で
表される化合物を、前記、一般式(3)の製造において
用いられた還元剤および酸化剤と反応させることにより
製造される次の一般式(7)、 R1 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−CHO ....(7) 〔式中、R1 、R2 およびR3 は前記式(6)で与えら
れた意味を表す。〕の化合物にアルコール類、酸無水化
物、酸ハロゲン化物などのアシル化試薬、ヒドロキシル
アミン、セミカルバジド、オルトフェニレンジアミン、
ジオール類、ジチオール類またはアミノチオール類等を
反応させることにより製造することができる。
物の製造には、次のような方法を用いることもできる。
すなわち、次の一般式(6)、 R1 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−COOR11....(6) 〔式中、R1 はハロゲン原子で置換されてもよい脂肪族
アシル基を表し、R2 およびR3 は前記式(1)で与え
られた意味を表し、R11は低級アルキル基を表す。〕で
表される化合物を、前記、一般式(3)の製造において
用いられた還元剤および酸化剤と反応させることにより
製造される次の一般式(7)、 R1 −NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−CHO ....(7) 〔式中、R1 、R2 およびR3 は前記式(6)で与えら
れた意味を表す。〕の化合物にアルコール類、酸無水化
物、酸ハロゲン化物などのアシル化試薬、ヒドロキシル
アミン、セミカルバジド、オルトフェニレンジアミン、
ジオール類、ジチオール類またはアミノチオール類等を
反応させることにより製造することができる。
【0032】本発明の有効成分は、常法に従って種々の
剤型での投与が可能である。例えば経口投与剤として
は、カプセル剤、錠剤、顆粒剤、細粒剤、シロップ剤、
ドライシロップ剤等が例示でき、非経口投与剤として
は、注射剤の他、坐薬、膣坐薬等の坐剤、噴霧剤等の経
鼻投与剤、軟膏、経皮吸収性テープ等の経皮吸収剤が例
示できる。
剤型での投与が可能である。例えば経口投与剤として
は、カプセル剤、錠剤、顆粒剤、細粒剤、シロップ剤、
ドライシロップ剤等が例示でき、非経口投与剤として
は、注射剤の他、坐薬、膣坐薬等の坐剤、噴霧剤等の経
鼻投与剤、軟膏、経皮吸収性テープ等の経皮吸収剤が例
示できる。
【0033】本発明の製剤の投与においては、本有効成
分として、通常成人1日当たり1〜1000mg/k
g、好ましくは1〜100mg/kg、より好ましくは
5〜50mg/kgを1〜3回に分けて経口または非経
口で投与すればよい。これらの投与量は、患者の年齢、
症状等により適宜増減することが可能である。
分として、通常成人1日当たり1〜1000mg/k
g、好ましくは1〜100mg/kg、より好ましくは
5〜50mg/kgを1〜3回に分けて経口または非経
口で投与すればよい。これらの投与量は、患者の年齢、
症状等により適宜増減することが可能である。
【0034】
【作用】本発明の有効成分は、PTHrp(1−34)
により惹起されたラットの高カルシウム血症における血
中カルシウム濃度を正常化する。PTHrp(副甲状腺
ホルモン関連蛋白質)は、ヒトの高カルシウム血症惹起
因子として同定された蛋白質であり、この1−34番目
のアミノ酸残基よりなるフラグメントであるPTHrp
(1−34)は活性型である。このPTHrp(1−3
4)はイン・ビトロで骨吸収を促進し、またラットに投
与すると高カルシウム血症を引き起こす。また、イン・
ビトロで骨吸収促進作用が示されているので(ジャーナ
ル・オブ・クリニカル・インベスティゲーション、81
巻、2号、596−600頁、1988年;エンドクリ
ノロジー、123巻、2841−2848頁 1988
年)、骨粗鬆症のモデルに使用することが可能である。
により惹起されたラットの高カルシウム血症における血
中カルシウム濃度を正常化する。PTHrp(副甲状腺
ホルモン関連蛋白質)は、ヒトの高カルシウム血症惹起
因子として同定された蛋白質であり、この1−34番目
のアミノ酸残基よりなるフラグメントであるPTHrp
(1−34)は活性型である。このPTHrp(1−3
4)はイン・ビトロで骨吸収を促進し、またラットに投
与すると高カルシウム血症を引き起こす。また、イン・
ビトロで骨吸収促進作用が示されているので(ジャーナ
ル・オブ・クリニカル・インベスティゲーション、81
巻、2号、596−600頁、1988年;エンドクリ
ノロジー、123巻、2841−2848頁 1988
年)、骨粗鬆症のモデルに使用することが可能である。
【0035】このモデルを用い、ウィスター系ラットに
本発明の化合物を投与後、PTHrp(1−34)を投
与し、投与1時間後に血中カルシウム濃度を測定したと
ころ、本発明の化合物を投与した群はPTHrp(1−
34)のみの処理群に較べて、有意に血中カルシウム濃
度が低下していることが判明した。即ち、本発明の化合
物は、PTHrp(1−34)により惹起される高カル
シウム血症を抑制しするので、骨疾患の予防または治療
剤として有用である。
本発明の化合物を投与後、PTHrp(1−34)を投
与し、投与1時間後に血中カルシウム濃度を測定したと
ころ、本発明の化合物を投与した群はPTHrp(1−
34)のみの処理群に較べて、有意に血中カルシウム濃
度が低下していることが判明した。即ち、本発明の化合
物は、PTHrp(1−34)により惹起される高カル
シウム血症を抑制しするので、骨疾患の予防または治療
剤として有用である。
【0036】
【実施例】次に実施例によって本発明をさらに説明する
が、本発明の範囲はこれらのみに限定されるものではな
い。
が、本発明の範囲はこれらのみに限定されるものではな
い。
【0037】実施例1.N−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−(1−エトキサリル)ペンチルアミド
の製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L
−ノルロイシンメチルエステルの製造 N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン(26.
5g)をジメチルホルムアミド(200ml)に溶解し、
1−エチル−3−(3−ジエチルアミノプロピル)カル
ボジイミド塩酸塩(19.2g)を加えた。この溶液に
L−ノルロイシンメチルエステル塩酸塩(18.2g)
およびトリエチルアミン(10.1g)を加え、室温で
12時間攪拌した。反応終了後、反応液に水を加え、酢
酸エチルで抽出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥後溶媒を減圧留去し
た。残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラ
フィーで精製して、標記のN−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシル−L−ノルロイシンメチルエステル
(22.0g、無色結晶)を得た。
−L−ロイシン−(1−エトキサリル)ペンチルアミド
の製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L
−ノルロイシンメチルエステルの製造 N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン(26.
5g)をジメチルホルムアミド(200ml)に溶解し、
1−エチル−3−(3−ジエチルアミノプロピル)カル
ボジイミド塩酸塩(19.2g)を加えた。この溶液に
L−ノルロイシンメチルエステル塩酸塩(18.2g)
およびトリエチルアミン(10.1g)を加え、室温で
12時間攪拌した。反応終了後、反応液に水を加え、酢
酸エチルで抽出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥後溶媒を減圧留去し
た。残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラ
フィーで精製して、標記のN−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシル−L−ノルロイシンメチルエステル
(22.0g、無色結晶)を得た。
【0038】b.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシル−L−ノルロイシンの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシル−L−ノルロイシンメチルエステル(7.0
g)をメタノール(120ml)に溶解し、1規定水酸化
ナトリウム水溶液(20ml)を加え、1時間、60℃で
攪拌した。反応終了後、溶媒を留去し残渣に水を加えて
溶解し、水層をエーテルで洗浄後、1規定塩酸で酸性に
し、析出した結晶を濾取することにより、標記のN−ベ
ンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L−ノルロイ
シン(6.8g、無色結晶)を得た。
ロイシル−L−ノルロイシンの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシル−L−ノルロイシンメチルエステル(7.0
g)をメタノール(120ml)に溶解し、1規定水酸化
ナトリウム水溶液(20ml)を加え、1時間、60℃で
攪拌した。反応終了後、溶媒を留去し残渣に水を加えて
溶解し、水層をエーテルで洗浄後、1規定塩酸で酸性に
し、析出した結晶を濾取することにより、標記のN−ベ
ンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L−ノルロイ
シン(6.8g、無色結晶)を得た。
【0039】c.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシル−L−ノルロイシン−(N−メチル−N−メト
キシ)アミドの製造 上記b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシル−L−ノルロイシン(4.1g)およびN−
メチルモルフォリン(2.0g)を塩化メチレン(10
0ml)に溶解した。これを−15℃に冷却し、この溶液
にクロロ蟻酸エチル(1.0g)を加え40分間、−1
5℃で攪拌した。この反応液にメトキシメチルアミン塩
酸塩(1.5g)を加え、−15℃で30分、室温で1
2時間攪拌した。反応終了後、反応液を過剰の水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出し、1規定塩酸、飽和食塩水、飽
和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去し
た。残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラ
フィーで精製して、標記のN−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシル−L−ノルロイシン−(N−メチル−
N−メトキシ)アミド(4.4g、無色結晶)を得た。
ロイシル−L−ノルロイシン−(N−メチル−N−メト
キシ)アミドの製造 上記b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシル−L−ノルロイシン(4.1g)およびN−
メチルモルフォリン(2.0g)を塩化メチレン(10
0ml)に溶解した。これを−15℃に冷却し、この溶液
にクロロ蟻酸エチル(1.0g)を加え40分間、−1
5℃で攪拌した。この反応液にメトキシメチルアミン塩
酸塩(1.5g)を加え、−15℃で30分、室温で1
2時間攪拌した。反応終了後、反応液を過剰の水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出し、1規定塩酸、飽和食塩水、飽
和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去し
た。残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラ
フィーで精製して、標記のN−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシル−L−ノルロイシン−(N−メチル−
N−メトキシ)アミド(4.4g、無色結晶)を得た。
【0040】d.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシン−〔1−(1−オキソ−2−エトキシ)ビニ
ル〕ペンチルアミドの製造 エチルビニルエーテル(10.3ml)を無水テトラヒド
ロフラン(100ml)に加え−78℃に冷却し、ter
t−ブチルリチウム(1.4Mペンタン溶液、42ml)
を滴下した。反応液の温度を1時間かけて0℃にまで上
昇させ、その後0℃で1時間攪拌した。この反応液を−
30℃に冷却し、臭化マグネシウム・エーテル錯体(1
5.1g)の無水テトラヒドロフラン溶液(100ml)
を加えた。反応液の温度を15分かけて0℃に上昇さ
せ、0℃で1時間攪拌した。この反応液に上記c.で得
られたN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−
L−ノルロイシン−(N−メチル−N−メトキシ)アミ
ド(5.8g)の無水テトラヒドロフラン溶液(50m
l)を加え、反応液の温度を室温にまで上昇させ、さら
に2時間攪拌した。反応液を希塩化アンモニウム水溶液
に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカ
ゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−〔1−(1−オキソ−2−エトキシ)ビニル〕ペン
チルアミド(2.5g、油状物質)を得た。
ロイシン−〔1−(1−オキソ−2−エトキシ)ビニ
ル〕ペンチルアミドの製造 エチルビニルエーテル(10.3ml)を無水テトラヒド
ロフラン(100ml)に加え−78℃に冷却し、ter
t−ブチルリチウム(1.4Mペンタン溶液、42ml)
を滴下した。反応液の温度を1時間かけて0℃にまで上
昇させ、その後0℃で1時間攪拌した。この反応液を−
30℃に冷却し、臭化マグネシウム・エーテル錯体(1
5.1g)の無水テトラヒドロフラン溶液(100ml)
を加えた。反応液の温度を15分かけて0℃に上昇さ
せ、0℃で1時間攪拌した。この反応液に上記c.で得
られたN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−
L−ノルロイシン−(N−メチル−N−メトキシ)アミ
ド(5.8g)の無水テトラヒドロフラン溶液(50m
l)を加え、反応液の温度を室温にまで上昇させ、さら
に2時間攪拌した。反応液を希塩化アンモニウム水溶液
に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカ
ゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−〔1−(1−オキソ−2−エトキシ)ビニル〕ペン
チルアミド(2.5g、油状物質)を得た。
【0041】e.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシン−(1−エトキサリル)ペンチルアミドの製造 上記d.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−〔1−(1−オキソ−2−エトキシ)ビニ
ル〕ペンチルアミド(2.5g)およびピリジン(1.
0ml)を乾燥塩化メチレン(150ml)に溶解し、−7
8℃に冷却した。この溶液に反応液の色が青色になるま
でオゾンガスを通じた。反応終了後、過剰のオゾンを酸
素ガスを通じて除き、ジメチルスルフィド(1.0ml)
およびピリジン(1.0ml)を加えて3分間攪拌した。
反応液を室温に戻し、有機層を水洗し無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。溶媒を減圧留去したのち、残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、目的化合物のN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−(1−エトキサリル)ペンチルアミド
(2.2g、油状物質)を得た。
ロイシン−(1−エトキサリル)ペンチルアミドの製造 上記d.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−〔1−(1−オキソ−2−エトキシ)ビニ
ル〕ペンチルアミド(2.5g)およびピリジン(1.
0ml)を乾燥塩化メチレン(150ml)に溶解し、−7
8℃に冷却した。この溶液に反応液の色が青色になるま
でオゾンガスを通じた。反応終了後、過剰のオゾンを酸
素ガスを通じて除き、ジメチルスルフィド(1.0ml)
およびピリジン(1.0ml)を加えて3分間攪拌した。
反応液を室温に戻し、有機層を水洗し無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥した。溶媒を減圧留去したのち、残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、目的化合物のN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−(1−エトキサリル)ペンチルアミド
(2.2g、油状物質)を得た。
【0042】実施例2.N−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−(1−アセチル)ペンチルアミドの製
造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−
(1−ジアゾメチルアセチル)ペンチルアミドの製造 実施例1のbと同様にして得られたN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシル−L−ノルロイシン(5.4
g)およびN−メチルモルフォリン(3.4ml)を無水
テトラヒドロフラン(150g)に溶解し、氷冷下クロ
ロ蟻酸エチル(1.6g)を加え、30分間、0℃で攪
拌した。この反応液に過剰のジアゾメタンのエーテル溶
液を加え、0℃で1時間放置した。溶媒を減圧留去した
のち、残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグ
ラフィーで精製して標記のN−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシル−(1−ジアゾメチルアセチル)ペン
チルアミド(4.0g無色結晶)を得た。
−L−ロイシン−(1−アセチル)ペンチルアミドの製
造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−
(1−ジアゾメチルアセチル)ペンチルアミドの製造 実施例1のbと同様にして得られたN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシル−L−ノルロイシン(5.4
g)およびN−メチルモルフォリン(3.4ml)を無水
テトラヒドロフラン(150g)に溶解し、氷冷下クロ
ロ蟻酸エチル(1.6g)を加え、30分間、0℃で攪
拌した。この反応液に過剰のジアゾメタンのエーテル溶
液を加え、0℃で1時間放置した。溶媒を減圧留去した
のち、残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグ
ラフィーで精製して標記のN−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシル−(1−ジアゾメチルアセチル)ペン
チルアミド(4.0g無色結晶)を得た。
【0043】b.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシン−(1−アセチル)ペンチルアミドの製造 上記a.で得たN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロ
イシル−(1−ジアゾメチルアセチル)ペンチルアミド
(600mg)を乾燥塩化メチレンに溶解し、沃化水素
(55%、0.6ml)を加え、20分間、0℃で攪拌し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
を用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して目的
化合物のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン
−1−(1−アセチル)ペンチルアミド(300mg、無
色結晶)を得た。
ロイシン−(1−アセチル)ペンチルアミドの製造 上記a.で得たN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロ
イシル−(1−ジアゾメチルアセチル)ペンチルアミド
(600mg)を乾燥塩化メチレンに溶解し、沃化水素
(55%、0.6ml)を加え、20分間、0℃で攪拌し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
を用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して目的
化合物のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン
−1−(1−アセチル)ペンチルアミド(300mg、無
色結晶)を得た。
【0044】実施例3.N−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−〔1−(1−ブロモアセチル)〕ペン
チルアミドの製造 実施例2のaと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシル−(1−ジアゾメチルアセチル)
ペンチルアミド(600mg)を乾燥塩化メチレンに溶解
し、臭化水素(47%、0.5ml)を加え、30分間、
0℃で攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣
をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで
精製して目的化合物のN−ベンジルオキシカルボニル−
L−ロイシン−(1−1−ブロモアセチル)ペンチルア
ミド(600mg、無色結晶)を得た。
−L−ロイシン−〔1−(1−ブロモアセチル)〕ペン
チルアミドの製造 実施例2のaと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシル−(1−ジアゾメチルアセチル)
ペンチルアミド(600mg)を乾燥塩化メチレンに溶解
し、臭化水素(47%、0.5ml)を加え、30分間、
0℃で攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣
をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで
精製して目的化合物のN−ベンジルオキシカルボニル−
L−ロイシン−(1−1−ブロモアセチル)ペンチルア
ミド(600mg、無色結晶)を得た。
【0045】実施例4.N−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−2,2−ジ
フルオロ−2−エトキシカルボニルエチル)〕ペンチル
アミドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン−
(1−ヒドロキシメチル)ペンチルアミドの製造 実施例1のaと同様にして得られたN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシル−L−ノルロイシンメチルエ
ステル(8.0g)と水素化硼素ナトリウム(2.4
g)をtert−ブタノール(200ml)に懸濁し、窒
素雰囲気下に90℃で加熱還流した。次いで還流下、無
水メタノール(32ml)を滴下した。滴下終了後30分
間還流攪拌した後、室温に戻し、氷冷下に水(100m
l)を加えた。メタノールとtert−ブタノールを減
圧留去した後、酢酸エチルで3回抽出し、飽和食塩水で
洗浄後無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を留去し
て得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマ
トグラフィーで精製して、標記のN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル)ペ
ンチルアミド(4.4g、無色結晶)を得た。
−L−ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−2,2−ジ
フルオロ−2−エトキシカルボニルエチル)〕ペンチル
アミドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン−
(1−ヒドロキシメチル)ペンチルアミドの製造 実施例1のaと同様にして得られたN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシル−L−ノルロイシンメチルエ
ステル(8.0g)と水素化硼素ナトリウム(2.4
g)をtert−ブタノール(200ml)に懸濁し、窒
素雰囲気下に90℃で加熱還流した。次いで還流下、無
水メタノール(32ml)を滴下した。滴下終了後30分
間還流攪拌した後、室温に戻し、氷冷下に水(100m
l)を加えた。メタノールとtert−ブタノールを減
圧留去した後、酢酸エチルで3回抽出し、飽和食塩水で
洗浄後無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を留去し
て得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマ
トグラフィーで精製して、標記のN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル)ペ
ンチルアミド(4.4g、無色結晶)を得た。
【0046】b.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミドの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル)ペンチルアミド
(3.4g)とトリエチルアミン(3.6g)を無水ジ
メチルスルフオキシド(24ml)に溶解し、攪拌下に三
酸化硫黄−ピリジン錯体(6.0g)の無水ジメチルス
ルフオキシド(24ml)溶液を加えた。室温で10分間
攪拌後、氷水(200ml)に注ぎ、酢酸エチルで3回抽
出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水
素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣を
酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒より再結晶すると標記
の化合物、N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(2.4g、無色
結晶)を得た。
ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミドの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル)ペンチルアミド
(3.4g)とトリエチルアミン(3.6g)を無水ジ
メチルスルフオキシド(24ml)に溶解し、攪拌下に三
酸化硫黄−ピリジン錯体(6.0g)の無水ジメチルス
ルフオキシド(24ml)溶液を加えた。室温で10分間
攪拌後、氷水(200ml)に注ぎ、酢酸エチルで3回抽
出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水
素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣を
酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒より再結晶すると標記
の化合物、N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(2.4g、無色
結晶)を得た。
【0047】c.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−2,2−ジフルオ
ロ−2−エトキシカルボニルエチル)〕ペンチルアミド
の製造 亜鉛粉末(500mg)を無水テトラヒドロフラン(8.
0ml)に加えて加熱還流し、これにブロモジフルオロ酢
酸エチル(0.8ml)の無水テトラヒドロフラン溶液
(6.0ml)を滴下した。5分間加熱還流した後、上記
b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロ
イシン−1−ホルミルペンチルアミド(1.0g)の無
水テトラヒドロフラン溶液(10ml)を滴下し10分間
加熱還流した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残
渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィー
で精製して、目的化合物であるのN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−
2,2−ジフルオロ−2−エトキシカルボニルエチ
ル)〕ペンチルアミド(470mg、油状物質)を得た。
ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−2,2−ジフルオ
ロ−2−エトキシカルボニルエチル)〕ペンチルアミド
の製造 亜鉛粉末(500mg)を無水テトラヒドロフラン(8.
0ml)に加えて加熱還流し、これにブロモジフルオロ酢
酸エチル(0.8ml)の無水テトラヒドロフラン溶液
(6.0ml)を滴下した。5分間加熱還流した後、上記
b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロ
イシン−1−ホルミルペンチルアミド(1.0g)の無
水テトラヒドロフラン溶液(10ml)を滴下し10分間
加熱還流した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残
渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィー
で精製して、目的化合物であるのN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−
2,2−ジフルオロ−2−エトキシカルボニルエチ
ル)〕ペンチルアミド(470mg、油状物質)を得た。
【0048】実施例5.N−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−2−エトキ
シカルボニルエチル)〕ペンチルアミドの製造 亜鉛粉末(360mg)および少量の沃素を無水テトラヒ
ドロフラン(10ml)に加えて加熱還流し、これにブロ
モ酢酸エチル(0.54ml)の無水テトラヒドロフラン
溶液(6.0ml)を滴下した。5分間加熱還流した後、
実施例4のbと同様にして得られたN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチル
アミド(1.0g)の無水ベンゼン溶液(14ml)を滴
下し30分間加熱還流した。放冷後、1規定塩酸を加え
て酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−2−エトキ
シカルボニルエチル)〕ペンチルアミド(410mg、油
状物質)を得た。
−L−ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−2−エトキ
シカルボニルエチル)〕ペンチルアミドの製造 亜鉛粉末(360mg)および少量の沃素を無水テトラヒ
ドロフラン(10ml)に加えて加熱還流し、これにブロ
モ酢酸エチル(0.54ml)の無水テトラヒドロフラン
溶液(6.0ml)を滴下した。5分間加熱還流した後、
実施例4のbと同様にして得られたN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチル
アミド(1.0g)の無水ベンゼン溶液(14ml)を滴
下し30分間加熱還流した。放冷後、1規定塩酸を加え
て酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−〔1−(1−ヒドロキシ−2−エトキ
シカルボニルエチル)〕ペンチルアミド(410mg、油
状物質)を得た。
【0049】実施例6.N−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−〔1−(2−エトキシカルボニルアセ
チル)〕ペンチルアミドの製造 実施例1のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシル−L−ノルロイシン(1.3g)
を無水テトラヒドロフラン(10ml)に溶解し、カルボ
ジイミダゾール(680mg)を加え、2時間加熱還流し
た。この反応液を−78℃に冷却し、リチウムジイソプ
ロピルアミドのヘキサン溶液(2M、6.1ml)および
無水酢酸エチル(1.05ml)を添加し、30分間攪拌
した。反応終了後、飽和塩化アンモニウム水溶液に注入
し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、残渣をシリカゲル
を用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目
的化合物のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−1−(2−エトキシカルボニルアセチル)ペンチル
アミド(540mg、黄色固体)を得た。
−L−ロイシン−〔1−(2−エトキシカルボニルアセ
チル)〕ペンチルアミドの製造 実施例1のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシル−L−ノルロイシン(1.3g)
を無水テトラヒドロフラン(10ml)に溶解し、カルボ
ジイミダゾール(680mg)を加え、2時間加熱還流し
た。この反応液を−78℃に冷却し、リチウムジイソプ
ロピルアミドのヘキサン溶液(2M、6.1ml)および
無水酢酸エチル(1.05ml)を添加し、30分間攪拌
した。反応終了後、飽和塩化アンモニウム水溶液に注入
し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、残渣をシリカゲル
を用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目
的化合物のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−1−(2−エトキシカルボニルアセチル)ペンチル
アミド(540mg、黄色固体)を得た。
【0050】実施例7.N−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルア
ミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(820mg)をメタノール(10ml)に溶解し、p−
トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、4時間、室温で
攪拌した。反応終了後、水と酢酸エチルに分配し、有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
後、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去して得られる残渣
をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで
精製して、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボ
ニル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチ
ルアミド(910mg、無色結晶)を得た。
−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルア
ミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(820mg)をメタノール(10ml)に溶解し、p−
トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、4時間、室温で
攪拌した。反応終了後、水と酢酸エチルに分配し、有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
後、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去して得られる残渣
をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで
精製して、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボ
ニル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチ
ルアミド(910mg、無色結晶)を得た。
【0051】実施例8.N−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−(1−ウレイドイミノメチル)ペンチ
ルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(850mg)をエタノール(10ml)に溶解し、水
(2ml)および塩酸セミカルバジド(1.0g)を加
え、2時間、室温で攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧
留去した。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルを
用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的
化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイ
シン−(1−ウレイドイミノメチル)ペンチルアミド
(900mg、無色結晶)を得た。
−L−ロイシン−(1−ウレイドイミノメチル)ペンチ
ルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(850mg)をエタノール(10ml)に溶解し、水
(2ml)および塩酸セミカルバジド(1.0g)を加
え、2時間、室温で攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧
留去した。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルを
用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的
化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイ
シン−(1−ウレイドイミノメチル)ペンチルアミド
(900mg、無色結晶)を得た。
【0052】実施例9.N−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(500mg)をベンゼン(10ml)に溶解し、エチレ
ングリコール(0.9ml)およびp−トルエンスルホン
酸(触媒量)を加え、2時間、加熱還流した。反応終了
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注入し、有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、
溶媒を減圧留去した。溶媒を留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)〕ペンチルアミド(380mg、無色結晶)を得
た。
−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(500mg)をベンゼン(10ml)に溶解し、エチレ
ングリコール(0.9ml)およびp−トルエンスルホン
酸(触媒量)を加え、2時間、加熱還流した。反応終了
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注入し、有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、
溶媒を減圧留去した。溶媒を留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)〕ペンチルアミド(380mg、無色結晶)を得
た。
【0053】実施例10.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−〔1−(ベンズイミダゾール−2−
イル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.1g)をメタノール(20ml)に溶解し、o−
フェニレンジアミン(356mg)および酢酸(50%水
溶液、0.2ml)を加え、40時間、室温で反応した。
反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカ
ゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル−
L−ロイシン−〔1−(ベンズイミダゾール−2−イ
ル)〕ペンチルアミド(330mg、無色結晶)を得た。
ル−L−ロイシン−〔1−(ベンズイミダゾール−2−
イル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.1g)をメタノール(20ml)に溶解し、o−
フェニレンジアミン(356mg)および酢酸(50%水
溶液、0.2ml)を加え、40時間、室温で反応した。
反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカ
ゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル−
L−ロイシン−〔1−(ベンズイミダゾール−2−イ
ル)〕ペンチルアミド(330mg、無色結晶)を得た。
【0054】実施例11.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシイミノメチル)ペ
ンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)をエタノール(15ml)に溶解し、塩化
ヒドロキシアンモニウム(210mg)およびピリジン
(5ml)を加え、24時間、室温で反応した。反応終了
後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカゲルを用
いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化
合物であるN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−(1−ヒドロキシイミノメチル)ペンチルアミド
(830mg、無色結晶)を得た。
ル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシイミノメチル)ペ
ンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)をエタノール(15ml)に溶解し、塩化
ヒドロキシアンモニウム(210mg)およびピリジン
(5ml)を加え、24時間、室温で反応した。反応終了
後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカゲルを用
いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化
合物であるN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−(1−ヒドロキシイミノメチル)ペンチルアミド
(830mg、無色結晶)を得た。
【0055】実施例12.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−(1−ジアセトキシメチル)ペンチ
ルアミド 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)を無水酢酸(10ml)に溶解し、三弗化
硼素−エーテル錯体(0.84ml)を加え、3時間、室
温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られ
る残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフ
ィーで精製して、目的化合物であるN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシン−(1−ジアセトキシメチ
ル)ペンチルアミド(300mg、油状物質)を得た。
ル−L−ロイシン−(1−ジアセトキシメチル)ペンチ
ルアミド 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)を無水酢酸(10ml)に溶解し、三弗化
硼素−エーテル錯体(0.84ml)を加え、3時間、室
温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られ
る残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフ
ィーで精製して、目的化合物であるN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシン−(1−ジアセトキシメチ
ル)ペンチルアミド(300mg、油状物質)を得た。
【0056】実施例13.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジチオラン−2−
イル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)を無水塩化メチレン(20ml)に溶解
し、1,2−エタンジチオール(300mg)および三弗
化硼素−エーテル錯体(0.8ml)を加え、12時間、
室温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去して得ら
れる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラ
フィーで精製して、目的化合物であるN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジチオ
ラン−2−イル)〕ペンチルアミド(900mg、無色結
晶)を得た。
ル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジチオラン−2−
イル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)を無水塩化メチレン(20ml)に溶解
し、1,2−エタンジチオール(300mg)および三弗
化硼素−エーテル錯体(0.8ml)を加え、12時間、
室温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去して得ら
れる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラ
フィーで精製して、目的化合物であるN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジチオ
ラン−2−イル)〕ペンチルアミド(900mg、無色結
晶)を得た。
【0057】実施例14.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジチアン−2−イ
ル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)を無水塩化メチレン(20ml)に溶解
し、1,3−プロパンジチオール(300mg)および三
弗化硼素−エーテル錯体(0.8ml)を加え、12時
間、室温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去して
得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマト
グラフィーで精製して、目的化合物であるN−ベンジル
オキシカルボニル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジ
チアン−2−イル)〕ペンチルアミド(900mg、無色
結晶)を得た。
ル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジチアン−2−イ
ル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)を無水塩化メチレン(20ml)に溶解
し、1,3−プロパンジチオール(300mg)および三
弗化硼素−エーテル錯体(0.8ml)を加え、12時
間、室温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去して
得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマト
グラフィーで精製して、目的化合物であるN−ベンジル
オキシカルボニル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジ
チアン−2−イル)〕ペンチルアミド(900mg、無色
結晶)を得た。
【0058】実施例15.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−〔1−(チアゾリジン−2−イ
ル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)をメタノール(20ml)に溶解し、2−
アミノエタンチオール塩酸塩(400mg)、トリエチル
アミン(0.4ml)および濃硫酸(触媒量)を加え、1
2時間、室温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去
して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロ
マトグラフィーで精製して、目的化合物であるN−ベン
ジルオキシカルボニル−L−ロイシン−〔1−(チアゾ
リジン−2−イル)〕ペンチルアミド(1.2g、無色
結晶)を得た。
ル−L−ロイシン−〔1−(チアゾリジン−2−イ
ル)〕ペンチルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1.0g)をメタノール(20ml)に溶解し、2−
アミノエタンチオール塩酸塩(400mg)、トリエチル
アミン(0.4ml)および濃硫酸(触媒量)を加え、1
2時間、室温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去
して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロ
マトグラフィーで精製して、目的化合物であるN−ベン
ジルオキシカルボニル−L−ロイシン−〔1−(チアゾ
リジン−2−イル)〕ペンチルアミド(1.2g、無色
結晶)を得た。
【0059】実施例16.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 a.N−アセチル−L−ロイシル−L−ノルロイシンメ
チルエステルの製造 実施例1のaと同様にして得られたN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシル−L−ノルロイシンメチルエ
ステル(8.0g)をエタノール(200ml)に溶解
し、パラジウム−炭素(触媒量)を加え、水素雰囲気
下、12時間、室温で水素添加した。反応終了後、パラ
ジウム−炭素を濾別し、溶媒を減圧留去した。残渣をピ
リジンに溶解し、無水酢酸(5ml)を加え、12時間、
室温で攪拌したのち水と酢酸エチルに分配し、有機層を
10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナト
リウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲ
ルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、
標記のN−アセチル−L−ロイシル−L−ノルロイシン
メチルエステル(5.0g、無色結晶)を得た。
−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 a.N−アセチル−L−ロイシル−L−ノルロイシンメ
チルエステルの製造 実施例1のaと同様にして得られたN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシル−L−ノルロイシンメチルエ
ステル(8.0g)をエタノール(200ml)に溶解
し、パラジウム−炭素(触媒量)を加え、水素雰囲気
下、12時間、室温で水素添加した。反応終了後、パラ
ジウム−炭素を濾別し、溶媒を減圧留去した。残渣をピ
リジンに溶解し、無水酢酸(5ml)を加え、12時間、
室温で攪拌したのち水と酢酸エチルに分配し、有機層を
10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナト
リウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲ
ルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、
標記のN−アセチル−L−ロイシル−L−ノルロイシン
メチルエステル(5.0g、無色結晶)を得た。
【0060】b.N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ヒドロキシメチル)ペンチルアミドの製造 上記a.で得られたN−アセチル−L−ロイシル−L−
ノルロイシンメチルエステル(1.7g)と水素化硼素
ナトリウム(200mg)をtert−ブタノール(30
ml)に懸濁し、窒素雰囲気下に90℃で加熱還流した。
次いで還流下、無水メタノール(2ml)を滴下した。滴
下終了後30分間還流攪拌した後、室温に戻し、氷冷下
に水(100ml)を加えた。メタノールとtert−ブ
タノールを減圧留去した後、酢酸エチルで3回抽出し、
飽和食塩水で洗浄後無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧
カラムクロマトグラフィーで精製して、標記のN−アセ
チル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル)ペンチ
ルアミド(900mg、無色結晶)を得た。
ヒドロキシメチル)ペンチルアミドの製造 上記a.で得られたN−アセチル−L−ロイシル−L−
ノルロイシンメチルエステル(1.7g)と水素化硼素
ナトリウム(200mg)をtert−ブタノール(30
ml)に懸濁し、窒素雰囲気下に90℃で加熱還流した。
次いで還流下、無水メタノール(2ml)を滴下した。滴
下終了後30分間還流攪拌した後、室温に戻し、氷冷下
に水(100ml)を加えた。メタノールとtert−ブ
タノールを減圧留去した後、酢酸エチルで3回抽出し、
飽和食塩水で洗浄後無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧
カラムクロマトグラフィーで精製して、標記のN−アセ
チル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル)ペンチ
ルアミド(900mg、無色結晶)を得た。
【0061】c.N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ホルミル)ペンチルアミドの製造 上記b.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−(1
−ヒドロキシメチル)ペンチルアミド(900mg)とト
リエチルアミン(1.8ml)を無水ジメチルスルフオキ
シド(15ml)に溶解し、攪拌下に三酸化硫黄−ピリジ
ン錯体(2.1g)の無水ジメチルスルフオキシド(1
0ml)溶液を加えた。室温で10分間攪拌後、氷水(2
00ml)に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出し、10%クエ
ン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム、つ
いで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルを用い
た中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、標記の化
合物、N−アセチル−L−ロイシン−(1−ホルミル)
ペンチルアミド(300mg、油状物質)を得た。
ホルミル)ペンチルアミドの製造 上記b.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−(1
−ヒドロキシメチル)ペンチルアミド(900mg)とト
リエチルアミン(1.8ml)を無水ジメチルスルフオキ
シド(15ml)に溶解し、攪拌下に三酸化硫黄−ピリジ
ン錯体(2.1g)の無水ジメチルスルフオキシド(1
0ml)溶液を加えた。室温で10分間攪拌後、氷水(2
00ml)に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出し、10%クエ
ン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム、つ
いで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルを用い
た中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、標記の化
合物、N−アセチル−L−ロイシン−(1−ホルミル)
ペンチルアミド(300mg、油状物質)を得た。
【0062】d.N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 上記c.で得たN−アセチル−L−ロイシン−(1−ホ
ルミル)ペンチルアミド(750mg)をメタノール(2
0ml)に溶解し、p−トルエンスルホン酸(触媒量)を
加え、5時間、室温で反応した。反応終了後、溶媒を減
圧留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラ
ムクロマトグラフィーで精製して、目的化合物であるN
−アセチル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)
ペンチルアミド(800mg、無色結晶)を得た。
ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 上記c.で得たN−アセチル−L−ロイシン−(1−ホ
ルミル)ペンチルアミド(750mg)をメタノール(2
0ml)に溶解し、p−トルエンスルホン酸(触媒量)を
加え、5時間、室温で反応した。反応終了後、溶媒を減
圧留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラ
ムクロマトグラフィーで精製して、目的化合物であるN
−アセチル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)
ペンチルアミド(800mg、無色結晶)を得た。
【0063】実施例17.N−アセチル−L−ロイシン
−〔1−(1,3−ジオキソラン−2−イル)〕ペンチ
ルアミドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(750mg)
をベンゼン(20ml)に溶解し、エチレングリコール
(1.8ml)およびp−トルエンスルホン酸(触媒量)
を加え、3.5時間、加熱還流した。反応終了後、溶媒
を減圧留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧
カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化合物であ
るN−アセチル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)〕ペンチルアミド(650mg、無
色結晶)を得た。
−〔1−(1,3−ジオキソラン−2−イル)〕ペンチ
ルアミドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(750mg)
をベンゼン(20ml)に溶解し、エチレングリコール
(1.8ml)およびp−トルエンスルホン酸(触媒量)
を加え、3.5時間、加熱還流した。反応終了後、溶媒
を減圧留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧
カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化合物であ
るN−アセチル−L−ロイシン−〔1−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)〕ペンチルアミド(650mg、無
色結晶)を得た。
【0064】実施例18.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ヒドロキシイミノメチル)ペンチルアミドの製
造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(750mg)
をエタノール(30ml)に溶解し、塩化ヒドロキシアン
モニウム(210mg)およびピリジン(5ml)を加え、
24時間、室温で反応した。反応終了後、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を減圧
留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラム
クロマトグラフィーで精製して、目的化合物であるN−
アセチル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシイミノメチ
ル)ペンチルアミド(600mg、無色結晶)を得た。
−(1−ヒドロキシイミノメチル)ペンチルアミドの製
造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(750mg)
をエタノール(30ml)に溶解し、塩化ヒドロキシアン
モニウム(210mg)およびピリジン(5ml)を加え、
24時間、室温で反応した。反応終了後、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を減圧
留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラム
クロマトグラフィーで精製して、目的化合物であるN−
アセチル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシイミノメチ
ル)ペンチルアミド(600mg、無色結晶)を得た。
【0065】実施例19.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ウレイドイミノメチル)ペンチルアミドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(750mg)
をエタノール(20ml)に溶解し、酢酸ナトリウム
(1.5g)、塩酸セミカルバジド(1.0g)、およ
び水(1ml)を加え、24時間、室温で反応した。反応
終了後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥した。溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカゲ
ルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、
目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−(1−
ウレイドイミノメチル)ペンチルアミド(550mg、無
色結晶)を得た。
−(1−ウレイドイミノメチル)ペンチルアミドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(750mg)
をエタノール(20ml)に溶解し、酢酸ナトリウム
(1.5g)、塩酸セミカルバジド(1.0g)、およ
び水(1ml)を加え、24時間、室温で反応した。反応
終了後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥した。溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカゲ
ルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、
目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−(1−
ウレイドイミノメチル)ペンチルアミド(550mg、無
色結晶)を得た。
【0066】実施例20.N−アセチル−L−ロイシン
−〔1−(1,3−ジチオラン−2−イル)〕ペンチル
アミドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1.8g)
を塩化メチレン(20ml)に溶解し、1,2−エタンジ
チオール(700mg)および三弗化水素−エーテル錯体
(1.5ml)を加え、12時間、室温で反応した。反応
終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカゲル
を用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目
的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−〔1−
(1,3−ジチオラン−2−イル)〕ペンチルアミド
(1.7g、無色結晶)を得た。
−〔1−(1,3−ジチオラン−2−イル)〕ペンチル
アミドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1.8g)
を塩化メチレン(20ml)に溶解し、1,2−エタンジ
チオール(700mg)および三弗化水素−エーテル錯体
(1.5ml)を加え、12時間、室温で反応した。反応
終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカゲル
を用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目
的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−〔1−
(1,3−ジチオラン−2−イル)〕ペンチルアミド
(1.7g、無色結晶)を得た。
【0067】実施例21.N−アセチル−L−ロイシン
−〔1−(チアゾリジン−2−イル)〕ペンチルアミド
の製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(2.0g)
をメタノール(20ml)に溶解し、2−アミノエタンチ
オール(800mg)、トリエチルアミン(1.0ml)お
よび濃硫酸(触媒量)を加え、12時間、室温で反応し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−
〔1−(チアゾリジン−2−イル)〕ペンチルアミド
(1.8g、無色結晶)を得た。
−〔1−(チアゾリジン−2−イル)〕ペンチルアミド
の製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(2.0g)
をメタノール(20ml)に溶解し、2−アミノエタンチ
オール(800mg)、トリエチルアミン(1.0ml)お
よび濃硫酸(触媒量)を加え、12時間、室温で反応し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−
〔1−(チアゾリジン−2−イル)〕ペンチルアミド
(1.8g、無色結晶)を得た。
【0068】実施例22.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ジエトキシメチル)ペンチルアミドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1.8g)
をエタノール(20ml)に溶解し、p−トルエンスルホ
ン酸(触媒量)を加え、12時間、室温で反応した。反
応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカゲ
ルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、
目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−(1−
ジエトキシメチル)ペンチルアミド(1.7g、無色結
晶)を得た。
−(1−ジエトキシメチル)ペンチルアミドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1.8g)
をエタノール(20ml)に溶解し、p−トルエンスルホ
ン酸(触媒量)を加え、12時間、室温で反応した。反
応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカゲ
ルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、
目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−(1−
ジエトキシメチル)ペンチルアミド(1.7g、無色結
晶)を得た。
【0069】実施例23.N−イソブチリル−L−ロイ
シン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 a.H−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペン
チルアミドの製造 実施例7と同様にして得たN−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチル
アミド(1.0g)をエタノール(30ml)に溶解し、
パラジウム−炭素(触媒量)を加え、水素雰囲気下、1
2時間、室温で反応した。反応終了後、パラジウム−炭
素を濾別し、溶媒を減圧留去すると標記の化合物、H−
L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミ
ド(650mg、無色結晶)を得た。
シン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 a.H−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペン
チルアミドの製造 実施例7と同様にして得たN−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチル
アミド(1.0g)をエタノール(30ml)に溶解し、
パラジウム−炭素(触媒量)を加え、水素雰囲気下、1
2時間、室温で反応した。反応終了後、パラジウム−炭
素を濾別し、溶媒を減圧留去すると標記の化合物、H−
L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミ
ド(650mg、無色結晶)を得た。
【0070】b.N−イソブチリル−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 上記a.で得たH−L−ロイシン−(1−ジメトキシメ
チル)ペンチルアミド(450mg)およびトリエチルア
ミン(360mg)を塩化メチレン(10ml)に溶解し、
0℃に冷却した。これに塩化イソブチリル(190mg)
の塩化メチレン溶液(5.0ml)を滴下し、90分間、
室温で反応した。反応終了後、有機層を水および飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を
減圧留去した。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲ
ルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、
目的化合物のN−イソブチリル−L−ロイシン−(1−
ジメトキシメチル)ペンチルアミド(230mg、無色結
晶)を得た。
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 上記a.で得たH−L−ロイシン−(1−ジメトキシメ
チル)ペンチルアミド(450mg)およびトリエチルア
ミン(360mg)を塩化メチレン(10ml)に溶解し、
0℃に冷却した。これに塩化イソブチリル(190mg)
の塩化メチレン溶液(5.0ml)を滴下し、90分間、
室温で反応した。反応終了後、有機層を水および飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を
減圧留去した。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲ
ルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、
目的化合物のN−イソブチリル−L−ロイシン−(1−
ジメトキシメチル)ペンチルアミド(230mg、無色結
晶)を得た。
【0071】実施例24.N−クロロアセチル−L−ロ
イシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製
造 実施例23のaと同様にして得たH−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(450mg)
およびトリエチルアミン(500mg)を塩化メチレン
(10ml)に溶解し、0℃に冷却した。これに塩化クロ
ロアセチル(200mg)の塩化メチレン溶液(5.0m
l)を滴下し、30分間、室温で反応した。反応終了
後、有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去
して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロ
マトグラフィーで精製して、目的化合物のN−クロロア
セチル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペン
チルアミド(360mg、無色結晶)を得た。
イシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製
造 実施例23のaと同様にして得たH−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(450mg)
およびトリエチルアミン(500mg)を塩化メチレン
(10ml)に溶解し、0℃に冷却した。これに塩化クロ
ロアセチル(200mg)の塩化メチレン溶液(5.0m
l)を滴下し、30分間、室温で反応した。反応終了
後、有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去
して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロ
マトグラフィーで精製して、目的化合物のN−クロロア
セチル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペン
チルアミド(360mg、無色結晶)を得た。
【0072】実施例25.N−プロピオニル−L−ロイ
シン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 実施例23のaと同様にして得たN−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(450mg)
およびトリエチルアミン(800mg)を塩化メチレン
(5ml)に溶解し、0℃に冷却した。これに塩化プロピ
オニル(150mg)の塩化メチレン溶液(5.0ml)を
滴下し、10分間、室温で反応した。反応終了後、有機
層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去して得ら
れる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラ
フィーで精製して、目的化合物のN−プロピオニル−L
−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド
(400mg、無色結晶)を得た。
シン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 実施例23のaと同様にして得たN−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(450mg)
およびトリエチルアミン(800mg)を塩化メチレン
(5ml)に溶解し、0℃に冷却した。これに塩化プロピ
オニル(150mg)の塩化メチレン溶液(5.0ml)を
滴下し、10分間、室温で反応した。反応終了後、有機
層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去して得ら
れる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラ
フィーで精製して、目的化合物のN−プロピオニル−L
−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド
(400mg、無色結晶)を得た。
【0073】実施例26.N−ブチリル−L−ロイシン
−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 実施例23のaと同様にして得たN−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(450mg)
およびトリエチルアミン(800mg)を塩化メチレン
(5ml)に溶解し、0℃に冷却した。これに塩化ブチリ
ル(150mg)の塩化メチレン溶液(5.0ml)を滴下
し、1時間、室温で反応した。反応終了後、有機層を水
および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥後、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去して得られる残
渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィー
で精製して、目的化合物のN−ブチリル−L−ロイシン
−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(400m
g、無色結晶)を得た。
−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミドの製造 実施例23のaと同様にして得たN−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(450mg)
およびトリエチルアミン(800mg)を塩化メチレン
(5ml)に溶解し、0℃に冷却した。これに塩化ブチリ
ル(150mg)の塩化メチレン溶液(5.0ml)を滴下
し、1時間、室温で反応した。反応終了後、有機層を水
および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥後、溶媒を減圧留去した。溶媒を留去して得られる残
渣をシリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィー
で精製して、目的化合物のN−ブチリル−L−ロイシン
−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(400m
g、無色結晶)を得た。
【0074】実施例27.N−トリフルオロアセチル−
L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミ
ドの製造 実施例23のaと同様にして得たN−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(1.2g)
およびトリエチルアミン(470mg)をジメチルホルム
アミド(50ml)に溶解し、0℃に冷却した。これにト
リフルオロ酢酸チオエチル(890mg)を添加し、24
時間、室温で反応した。反応終了後、反応液を水に注入
し、エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去し
た。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた
中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化合物
のN−トリフルオロアセチル−L−ロイシン−(1−ジ
メトキシメチル)ペンチルアミド(1.1g、無色結
晶)を得た。
L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミ
ドの製造 実施例23のaと同様にして得たN−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル)ペンチルアミド(1.2g)
およびトリエチルアミン(470mg)をジメチルホルム
アミド(50ml)に溶解し、0℃に冷却した。これにト
リフルオロ酢酸チオエチル(890mg)を添加し、24
時間、室温で反応した。反応終了後、反応液を水に注入
し、エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去し
た。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた
中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化合物
のN−トリフルオロアセチル−L−ロイシン−(1−ジ
メトキシメチル)ペンチルアミド(1.1g、無色結
晶)を得た。
【0075】実施例28.N−アセチル−L−ロイシン
−〔1−(1,3−オキソチオラン−2−イル)〕ペン
チルアミドの製造 実施例16のcと同様にして得られたN−アセチル−L
−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1.0
g)を乾燥ベンゼン(30ml)に溶解し、p−トルエン
スルホン酸(触媒量)およびメルカプトエタノール(3
00mg)を加え、1時間加熱還流攪拌した。反応液を室
温に戻し、水と酢酸エチルで分配し、有機層を減圧留去
して得られる残渣を、シリカゲルを用いた中圧カラムク
ロマトグラフィーで精製して、目的化合物のN−アセチ
ル−L−ロイシン−〔1−(1,3−オキソチオラン−
2−イル)〕ペンチルアミド(520mg、無色結晶)を
得た。
−〔1−(1,3−オキソチオラン−2−イル)〕ペン
チルアミドの製造 実施例16のcと同様にして得られたN−アセチル−L
−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1.0
g)を乾燥ベンゼン(30ml)に溶解し、p−トルエン
スルホン酸(触媒量)およびメルカプトエタノール(3
00mg)を加え、1時間加熱還流攪拌した。反応液を室
温に戻し、水と酢酸エチルで分配し、有機層を減圧留去
して得られる残渣を、シリカゲルを用いた中圧カラムク
ロマトグラフィーで精製して、目的化合物のN−アセチ
ル−L−ロイシン−〔1−(1,3−オキソチオラン−
2−イル)〕ペンチルアミド(520mg、無色結晶)を
得た。
【0076】実施例29.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ホルミル)フェネチルアミドの製造 a.N−アセチル−L−ロイシル−L−フェニルアラニ
ンメチルエステルの製造 L−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩(5.0
g)をジメチルホルムアミド(100ml)に溶解し、N
−メチルモルホリン(2.4g)を加えた。この溶液に
N−アセチル−L−ロイシン−(4.0g)、1−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール(5.0g)および1−エチ
ル−3−(3−ジエチルアミノプロピル)カルボジイミ
ド塩酸塩(5.5g)を加え、室温で24時間攪拌し
た。反応終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出
し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素
ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカ
ゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、標記のN−アセチル−L−ロイシル−L−フェニル
アラニンメチルエステル(6.7g、無色結晶)を得
た。
−(1−ホルミル)フェネチルアミドの製造 a.N−アセチル−L−ロイシル−L−フェニルアラニ
ンメチルエステルの製造 L−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩(5.0
g)をジメチルホルムアミド(100ml)に溶解し、N
−メチルモルホリン(2.4g)を加えた。この溶液に
N−アセチル−L−ロイシン−(4.0g)、1−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール(5.0g)および1−エチ
ル−3−(3−ジエチルアミノプロピル)カルボジイミ
ド塩酸塩(5.5g)を加え、室温で24時間攪拌し
た。反応終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出
し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素
ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカ
ゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、標記のN−アセチル−L−ロイシル−L−フェニル
アラニンメチルエステル(6.7g、無色結晶)を得
た。
【0077】b.N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ヒドロキシメチル)フェネチルアミドの製造 上記a.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−L−
フェニルアラニンメチルエステル(6.7g)と水素化
硼素ナトリウム(560mg)をtert−ブタノール
(100ml)に懸濁し、窒素雰囲気下に90℃で加熱還
流した。次いで還流下、無水メタノール(6ml)を滴下
した。滴下終了後1時間還流攪拌した後、室温に戻し、
氷冷下に水(300ml)を加えた。メタノールとter
t−ブタノールを減圧留去した後、酢酸エチルで3回抽
出し、飽和食塩水で洗浄後無水硫酸ナトリウム上で乾燥
した。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルを用い
た中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、標記のN
−アセチル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル)
フェネチルアミド(6.1g、油状物質)を得た。
ヒドロキシメチル)フェネチルアミドの製造 上記a.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−L−
フェニルアラニンメチルエステル(6.7g)と水素化
硼素ナトリウム(560mg)をtert−ブタノール
(100ml)に懸濁し、窒素雰囲気下に90℃で加熱還
流した。次いで還流下、無水メタノール(6ml)を滴下
した。滴下終了後1時間還流攪拌した後、室温に戻し、
氷冷下に水(300ml)を加えた。メタノールとter
t−ブタノールを減圧留去した後、酢酸エチルで3回抽
出し、飽和食塩水で洗浄後無水硫酸ナトリウム上で乾燥
した。溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルを用い
た中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、標記のN
−アセチル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル)
フェネチルアミド(6.1g、油状物質)を得た。
【0078】c.N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ホルミル)フェネチルアミドの製造 上記b.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−(1
−ヒドロキシメチル)フェネチルアミド(6.1g)と
トリエチルアミン(17ml)を無水ジメチルスルフオキ
シド(70ml)に溶解し、攪拌下に三酸化硫黄−ピリジ
ン錯体(8.3g)の無水ジメチルスルフオキシド(2
0ml)溶液を加えた。室温で45分間攪拌後、氷水(3
00ml)に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出し、10%クエ
ン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム、つ
いで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルを用い
た中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化合
物のN−アセチル−L−ロイシン−(1−ホルミル)フ
ェネチルアミド(4.0g、無色結晶)を得た。
ホルミル)フェネチルアミドの製造 上記b.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−(1
−ヒドロキシメチル)フェネチルアミド(6.1g)と
トリエチルアミン(17ml)を無水ジメチルスルフオキ
シド(70ml)に溶解し、攪拌下に三酸化硫黄−ピリジ
ン錯体(8.3g)の無水ジメチルスルフオキシド(2
0ml)溶液を加えた。室温で45分間攪拌後、氷水(3
00ml)に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出し、10%クエ
ン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム、つ
いで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で
乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルを用い
た中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化合
物のN−アセチル−L−ロイシン−(1−ホルミル)フ
ェネチルアミド(4.0g、無色結晶)を得た。
【0079】実施例30.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ジメトキシメチル)フェネチルアミドの製造 実施例29と同様にして得られたN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)フェネチルアミド(900m
g)をメタノール(20ml)に溶解し、p−トルエンス
ルホン酸(触媒量)を加え、3時間室温で攪拌した。反
応終了後、メタノールを減圧留去し、水と酢酸エチルで
分配し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ついで
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、
溶媒を減圧留去して得られる残渣を、シリカゲルを用い
た中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化合
物のN−アセチル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメ
チル)フェネチルアミド(850mg、無色結晶)を得
た。
−(1−ジメトキシメチル)フェネチルアミドの製造 実施例29と同様にして得られたN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)フェネチルアミド(900m
g)をメタノール(20ml)に溶解し、p−トルエンス
ルホン酸(触媒量)を加え、3時間室温で攪拌した。反
応終了後、メタノールを減圧留去し、水と酢酸エチルで
分配し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ついで
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、
溶媒を減圧留去して得られる残渣を、シリカゲルを用い
た中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、目的化合
物のN−アセチル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメ
チル)フェネチルアミド(850mg、無色結晶)を得
た。
【0080】実施例31.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ホルミル−3−メチルチオ)プロピルアミドの
製造 a.N−アセチル−L−ロイシル−L−メチオニンメチ
ルエステルの製造 L−メチオニンメチルエステル塩酸塩(6.0g)をジ
メチルホルムアミド(100ml)に溶解し、N−メチル
モルホリン(3.3ml)を加えた。この溶液にN−アセ
チル−L−ロイシン−(5.2g)、1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール(4.6g)、および1−エチル−3
−(3−ジエチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸
塩(5.8g)を加え、室温で24時間攪拌した。反応
終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、10
%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウ
ム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルを用
いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、標記の
N−アセチル−L−ロイシル−L−メチオニンメチルエ
ステル(6.2g、無色結晶)を得た。
−(1−ホルミル−3−メチルチオ)プロピルアミドの
製造 a.N−アセチル−L−ロイシル−L−メチオニンメチ
ルエステルの製造 L−メチオニンメチルエステル塩酸塩(6.0g)をジ
メチルホルムアミド(100ml)に溶解し、N−メチル
モルホリン(3.3ml)を加えた。この溶液にN−アセ
チル−L−ロイシン−(5.2g)、1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール(4.6g)、および1−エチル−3
−(3−ジエチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸
塩(5.8g)を加え、室温で24時間攪拌した。反応
終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、10
%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウ
ム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルを用
いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、標記の
N−アセチル−L−ロイシル−L−メチオニンメチルエ
ステル(6.2g、無色結晶)を得た。
【0081】b.N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ヒドロキシメチル−3−メチルチオ)プロピルアミドの
製造 上記a.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−L−
メチオニンメチルエステル(6.2g)と水素化硼素ナ
トリウム(780mg)をtert−ブタノール(50m
l)に懸濁し、窒素雰囲気下に90℃で加熱還流した。
次いで還流下、無水メタノール(10ml)を滴下した。
滴下終了後1時間還流攪拌した後、室温に戻し、氷冷下
に水(100ml)を加えた。メタノールとtert−ブ
タノールを減圧留去した後、酢酸エチルで3回抽出し、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。溶媒を留去して得られる残渣をメタノールと酢酸エ
チルの混合溶媒から再結晶精製して、標記のN−アセチ
ル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−3−メチ
ルチオ)プロピルアミド(2.4g、無色結晶)を得
た。
ヒドロキシメチル−3−メチルチオ)プロピルアミドの
製造 上記a.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−L−
メチオニンメチルエステル(6.2g)と水素化硼素ナ
トリウム(780mg)をtert−ブタノール(50m
l)に懸濁し、窒素雰囲気下に90℃で加熱還流した。
次いで還流下、無水メタノール(10ml)を滴下した。
滴下終了後1時間還流攪拌した後、室温に戻し、氷冷下
に水(100ml)を加えた。メタノールとtert−ブ
タノールを減圧留去した後、酢酸エチルで3回抽出し、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。溶媒を留去して得られる残渣をメタノールと酢酸エ
チルの混合溶媒から再結晶精製して、標記のN−アセチ
ル−L−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−3−メチ
ルチオ)プロピルアミド(2.4g、無色結晶)を得
た。
【0082】c.N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ホルミル−3−メチルチオ)プロピルアミドの製造 上記b.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−(1
−ヒドロキシメチル−3−メチルチオ)プロピルアミド
(1.4g)とトリエチルアミン(2.1ml)を無水ジ
メチルスルフオキシド(20ml)に溶解し、攪拌下に三
酸化硫黄−ピリジン錯体(2.3g)の無水ジメチルス
ルフオキシド(10ml)溶液を加えた。室温で10分間
攪拌後、氷水(100ml)に注ぎ、酢酸エチルで3回抽
出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水
素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣を
シリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精
製して、目的化合物、N−アセチル−L−ロイシン−
(1−ホルミル−3−メチルチオ)プロピルアミド
(0.6g、油状物質)を得た。
ホルミル−3−メチルチオ)プロピルアミドの製造 上記b.で得られたN−アセチル−L−ロイシン−(1
−ヒドロキシメチル−3−メチルチオ)プロピルアミド
(1.4g)とトリエチルアミン(2.1ml)を無水ジ
メチルスルフオキシド(20ml)に溶解し、攪拌下に三
酸化硫黄−ピリジン錯体(2.3g)の無水ジメチルス
ルフオキシド(10ml)溶液を加えた。室温で10分間
攪拌後、氷水(100ml)に注ぎ、酢酸エチルで3回抽
出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水
素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣を
シリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精
製して、目的化合物、N−アセチル−L−ロイシン−
(1−ホルミル−3−メチルチオ)プロピルアミド
(0.6g、油状物質)を得た。
【0083】実施例32.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ジメトキシメチル−3−メチルチオ)プロピル
アミドの製造 実施例31と同様にして得られたN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル−3−メチルチオ)プロピルア
ミド(2.0g)をメタノール(30ml)に溶解し、p
−トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、3時間室温で
攪拌した。反応終了後、メタノールを減圧留去し、水と
酢酸エチルで分配し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥後、溶媒を減圧留去して得られる残渣を、シリ
カゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、目的化合物のN−アセチル−L−ロイシン−(1−
ジメトキシメチル−3−メチルチオ)プロピルアミド
(2.1g、無色結晶)を得た。
−(1−ジメトキシメチル−3−メチルチオ)プロピル
アミドの製造 実施例31と同様にして得られたN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル−3−メチルチオ)プロピルア
ミド(2.0g)をメタノール(30ml)に溶解し、p
−トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、3時間室温で
攪拌した。反応終了後、メタノールを減圧留去し、水と
酢酸エチルで分配し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥後、溶媒を減圧留去して得られる残渣を、シリ
カゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、目的化合物のN−アセチル−L−ロイシン−(1−
ジメトキシメチル−3−メチルチオ)プロピルアミド
(2.1g、無色結晶)を得た。
【0084】実施例33.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−(1−ホルミル−3−メチル)ブチ
ルアミドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L
−ロイシンメチルエステルの製造 L−ロイシンメチルエステル塩酸塩(5.5g)を塩化
メチレン(30ml)に溶解し、トリエチルアミン(4.
2ml)を加えた。この溶液にN−ベンジルオキシカルボ
ニル−L−ロイシン−(8.0g)および1−エチル−
3−(3−ジエチルアミノプロピル)カルボジイミド塩
酸塩(5.8g)を加え、室温で24時間攪拌した。反
応終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、1
0%枸櫞酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウ
ム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルを用
いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、標記の
N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L−ロ
イシンメチルエステル(9.2g、無色結晶)を得た。
ル−L−ロイシン−(1−ホルミル−3−メチル)ブチ
ルアミドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L
−ロイシンメチルエステルの製造 L−ロイシンメチルエステル塩酸塩(5.5g)を塩化
メチレン(30ml)に溶解し、トリエチルアミン(4.
2ml)を加えた。この溶液にN−ベンジルオキシカルボ
ニル−L−ロイシン−(8.0g)および1−エチル−
3−(3−ジエチルアミノプロピル)カルボジイミド塩
酸塩(5.8g)を加え、室温で24時間攪拌した。反
応終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、1
0%枸櫞酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウ
ム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルを用
いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製して、標記の
N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L−ロ
イシンメチルエステル(9.2g、無色結晶)を得た。
【0085】b.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−3−メチル)ブチ
ルアミドの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−L−ロイシンメチルエステル(9.2g)
と水素化硼素ナトリウム(900mg)をtert−ブタ
ノール(100ml)に懸濁し、窒素雰囲気下に90℃で
加熱還流した。次いで還流下、無水メタノール(20m
l)を滴下した。滴下終了後1時間還流攪拌した後、室
温に戻し、氷冷下に水(300ml)を加えた。メタノー
ルとtert−ブタノールを減圧留去した後、酢酸エチ
ルで3回抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。溶媒を留去して得られる残渣をシリ
カゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−(1−ヒドロキシメチル−3−メチル)ブチルアミ
ド(3.0g、無色結晶)を得た。
ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−3−メチル)ブチ
ルアミドの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−L−ロイシンメチルエステル(9.2g)
と水素化硼素ナトリウム(900mg)をtert−ブタ
ノール(100ml)に懸濁し、窒素雰囲気下に90℃で
加熱還流した。次いで還流下、無水メタノール(20m
l)を滴下した。滴下終了後1時間還流攪拌した後、室
温に戻し、氷冷下に水(300ml)を加えた。メタノー
ルとtert−ブタノールを減圧留去した後、酢酸エチ
ルで3回抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。溶媒を留去して得られる残渣をシリ
カゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ン−(1−ヒドロキシメチル−3−メチル)ブチルアミ
ド(3.0g、無色結晶)を得た。
【0086】c.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシン−(1−ホルミル−3−メチル)ブチルアミド
の製造 上記b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−3−メチル)ブ
チルアミド(2.8g)とトリエチルアミン(3.1m
l)を無水ジメチルスルフオキシド(20ml)に溶解
し、攪拌下に三酸化硫黄−ピリジン錯体(3.7g)の
無水ジメチルスルフオキシド(10ml)溶液を加えた。
室温で10分間攪拌後、氷水(100ml)に注ぎ、酢酸
エチルで3回抽出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留
去した。残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から結
晶化精製して、目的化合物、N−ベンジルオキシカルボ
ニル−L−ロイシン−(1−ホルミル−3−メチル)ブ
チルアミド(2.2g、無色結晶)を得た。
ロイシン−(1−ホルミル−3−メチル)ブチルアミド
の製造 上記b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−3−メチル)ブ
チルアミド(2.8g)とトリエチルアミン(3.1m
l)を無水ジメチルスルフオキシド(20ml)に溶解
し、攪拌下に三酸化硫黄−ピリジン錯体(3.7g)の
無水ジメチルスルフオキシド(10ml)溶液を加えた。
室温で10分間攪拌後、氷水(100ml)に注ぎ、酢酸
エチルで3回抽出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留
去した。残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から結
晶化精製して、目的化合物、N−ベンジルオキシカルボ
ニル−L−ロイシン−(1−ホルミル−3−メチル)ブ
チルアミド(2.2g、無色結晶)を得た。
【0087】実施例34.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ジメトキシメチル−3−メチル)ブチル アミ
ドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル−3−メチル)ブチルアミドの
製造 実施例33と同様にして得られたN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル−3−メチ
ル)ブチルアミド(1.4g)をメタノール(50ml)
に溶解し、p−トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、
2時間室温で攪拌した。反応終了後、メタノールを減圧
留去し、水と酢酸エチルで分配し、有機層を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去して得られる
残渣を、シリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフ
ィーで精製するとると表記の化合物のN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル
−3−メチル)ブチルアミド(1.5g、無色結晶)を
得た。
−(1−ジメトキシメチル−3−メチル)ブチル アミ
ドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル−3−メチル)ブチルアミドの
製造 実施例33と同様にして得られたN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル−3−メチ
ル)ブチルアミド(1.4g)をメタノール(50ml)
に溶解し、p−トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、
2時間室温で攪拌した。反応終了後、メタノールを減圧
留去し、水と酢酸エチルで分配し、有機層を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去して得られる
残渣を、シリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフ
ィーで精製するとると表記の化合物のN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル
−3−メチル)ブチルアミド(1.5g、無色結晶)を
得た。
【0088】b.N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ジメトキシメチル−3−メチル)ブチルアミドの製造 上記a.で得たN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロ
イシン−(1−ジメトキシメチル−3−メチル)ブチル
アミド(1.5g)をエタノール(30ml)に溶解し、
パラジウム−炭素(触媒量)を加え、水素雰囲気下、1
2時間室温で水素添加した。反応終了後、パラジウム−
炭素を濾別した後、溶媒を減圧留去した。残渣を塩化メ
チレンに(50ml)溶解し、ピリジン(9ml)と無水酢
酸(3ml)を加え、4時間、室温で攪拌後水を加えた。
有機層を10%枸櫞酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水
素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣を
酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から結晶化精製して、
目的化合物、N−アセチル−L−ロイシン−(1−ジメ
トキシメチル−3−メチル)ブチルアミド(930ml、
無色結晶)を得た。
ジメトキシメチル−3−メチル)ブチルアミドの製造 上記a.で得たN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロ
イシン−(1−ジメトキシメチル−3−メチル)ブチル
アミド(1.5g)をエタノール(30ml)に溶解し、
パラジウム−炭素(触媒量)を加え、水素雰囲気下、1
2時間室温で水素添加した。反応終了後、パラジウム−
炭素を濾別した後、溶媒を減圧留去した。残渣を塩化メ
チレンに(50ml)溶解し、ピリジン(9ml)と無水酢
酸(3ml)を加え、4時間、室温で攪拌後水を加えた。
有機層を10%枸櫞酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水
素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣を
酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から結晶化精製して、
目的化合物、N−アセチル−L−ロイシン−(1−ジメ
トキシメチル−3−メチル)ブチルアミド(930ml、
無色結晶)を得た。
【0089】実施例35.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−(1−ホルミル−2−メチル)ブチ
ルアミドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L
−イソロイシンメチルエステルの製造 L−イソロイシンメチルエステル塩酸塩(5.5g)を
塩化メチレン(30ml)に溶解し、トリエチルアミン
(4.2ml)を加えた。この溶液にN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシン−(8.0g)および1−エ
チル−3−(3−ジエチルアミノプロピル)カルボジイ
ミド塩酸塩(5.8g)を加え、室温で24時間攪拌し
た。反応終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出
し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素
ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカ
ゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ル−L−イソロイシンメチルエステル(9.4g、無色
結晶)を得た。
ル−L−ロイシン−(1−ホルミル−2−メチル)ブチ
ルアミドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシル−L
−イソロイシンメチルエステルの製造 L−イソロイシンメチルエステル塩酸塩(5.5g)を
塩化メチレン(30ml)に溶解し、トリエチルアミン
(4.2ml)を加えた。この溶液にN−ベンジルオキシ
カルボニル−L−ロイシン−(8.0g)および1−エ
チル−3−(3−ジエチルアミノプロピル)カルボジイ
ミド塩酸塩(5.8g)を加え、室温で24時間攪拌し
た。反応終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出
し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸水素
ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカ
ゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製し
て、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシ
ル−L−イソロイシンメチルエステル(9.4g、無色
結晶)を得た。
【0090】b.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−2−メチル)ブチ
ルアミドの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−L−イソロイシンメチルエステル(9.4
g)と水素化硼素ナトリウム(900mg)をtert−
ブタノール(100ml)に懸濁し、窒素雰囲気下に90
℃で加熱還流した。次いで還流下、無水メタノール(2
0ml)を滴下した。滴下終了後3時間還流攪拌した後、
室温に戻し、氷冷下に水(300ml)を加えた。メタノ
ールとtert−ブタノールを減圧留去した後、酢酸エ
チルで3回抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した。溶媒を留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイ
シン−(1−ヒドロキシメチル−2−メチル)ブチルア
ミド(3.0g、無色結晶)を得た。
ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−2−メチル)ブチ
ルアミドの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−L−イソロイシンメチルエステル(9.4
g)と水素化硼素ナトリウム(900mg)をtert−
ブタノール(100ml)に懸濁し、窒素雰囲気下に90
℃で加熱還流した。次いで還流下、無水メタノール(2
0ml)を滴下した。滴下終了後3時間還流攪拌した後、
室温に戻し、氷冷下に水(300ml)を加えた。メタノ
ールとtert−ブタノールを減圧留去した後、酢酸エ
チルで3回抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した。溶媒を留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフィーで精製
して、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイ
シン−(1−ヒドロキシメチル−2−メチル)ブチルア
ミド(3.0g、無色結晶)を得た。
【0091】c.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
ロイシン−(1−ホルミル−2−メチル)ブチルアミド
の製造 上記b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−2−メチル)ブ
チルアミド(2.8g)とトリエチルアミン(3.2m
l)を無水ジメチルスルフオキシド(20ml)に溶解
し、攪拌下に三酸化硫黄−ピリジン錯体(3.7g)の
無水ジメチルスルフオキシド(10ml)溶液を加えた。
室温で10分間攪拌後、氷水(100ml)に注ぎ、酢酸
エチルで3回抽出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留
去した。残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から結
晶化精製して、目的化合物、N−ベンジルオキシカルボ
ニル−L−ロイシン−(1−ホルミル−2−メチル)ブ
チルアミド(2.2g、無色結晶)を得た。
ロイシン−(1−ホルミル−2−メチル)ブチルアミド
の製造 上記b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−ロイシン−(1−ヒドロキシメチル−2−メチル)ブ
チルアミド(2.8g)とトリエチルアミン(3.2m
l)を無水ジメチルスルフオキシド(20ml)に溶解
し、攪拌下に三酸化硫黄−ピリジン錯体(3.7g)の
無水ジメチルスルフオキシド(10ml)溶液を加えた。
室温で10分間攪拌後、氷水(100ml)に注ぎ、酢酸
エチルで3回抽出し、10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留
去した。残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から結
晶化精製して、目的化合物、N−ベンジルオキシカルボ
ニル−L−ロイシン−(1−ホルミル−2−メチル)ブ
チルアミド(2.2g、無色結晶)を得た。
【0092】実施例36.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ジメトキシメチル−2−メチル)ブチルアミド
の製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル−2−メチル)ブチルアミドの
製造 実施例35と同様にして得られたN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル−2−メチ
ル)ブチルアミド(2.2g)をメタノール(20ml)
に溶解し、p−トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、
8時間室温で攪拌した。反応終了後、メタノールを減圧
留去し、水と酢酸エチルで分配し、有機層を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去して得られる
残渣を、シリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフ
ィーで精製して、標記の化合物のN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル−2
−メチル)ブチルアミド(2.2g、無色結晶)を得
た。
−(1−ジメトキシメチル−2−メチル)ブチルアミド
の製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−ロイシン−
(1−ジメトキシメチル−2−メチル)ブチルアミドの
製造 実施例35と同様にして得られたN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル−2−メチ
ル)ブチルアミド(2.2g)をメタノール(20ml)
に溶解し、p−トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、
8時間室温で攪拌した。反応終了後、メタノールを減圧
留去し、水と酢酸エチルで分配し、有機層を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液ついで飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去して得られる
残渣を、シリカゲルを用いた中圧カラムクロマトグラフ
ィーで精製して、標記の化合物のN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−ロイシン−(1−ジメトキシメチル−2
−メチル)ブチルアミド(2.2g、無色結晶)を得
た。
【0093】b.N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ジメトキシメチル−2−メチル)ブチルアミドの製造 上記a.で得たN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロ
イシン−(1−ジメトキシメチル−2−メチル)ブチル
アミド(2.0g)をエタノール(50ml)に溶解し、
パラジウム−炭素(触媒量)を加え、水素雰囲気下、1
2時間室温で水素添加した。反応終了後、パラジウム−
炭素を濾別した後、溶媒を減圧留去した。残渣を塩化メ
チレンに(50ml)溶解し、ピリジン(3ml)と無水酢
酸(3ml)を加え、4時間、室温で攪拌後水を加えた。
有機層を10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸
水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣
を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から結晶化精製し
て、目的化合物、N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ジメトキシメチル−2−メチル)ブチルアミド(1.0
g、無色結晶)を得た。
ジメトキシメチル−2−メチル)ブチルアミドの製造 上記a.で得たN−ベンジルオキシカルボニル−L−ロ
イシン−(1−ジメトキシメチル−2−メチル)ブチル
アミド(2.0g)をエタノール(50ml)に溶解し、
パラジウム−炭素(触媒量)を加え、水素雰囲気下、1
2時間室温で水素添加した。反応終了後、パラジウム−
炭素を濾別した後、溶媒を減圧留去した。残渣を塩化メ
チレンに(50ml)溶解し、ピリジン(3ml)と無水酢
酸(3ml)を加え、4時間、室温で攪拌後水を加えた。
有機層を10%クエン酸水溶液、飽和食塩水、飽和炭酸
水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で洗浄し、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣
を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から結晶化精製し
て、目的化合物、N−アセチル−L−ロイシン−(1−
ジメトキシメチル−2−メチル)ブチルアミド(1.0
g、無色結晶)を得た。
【0094】実施例37.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ジ−n−プロピルオキシメチル)ペンチルアミ
ドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1g)をn
−プロパノール(10ml)に溶解し、三フッ化硼酸−エ
ーテル錯体(0.8ml)を加え、24時間室温で反応し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクラマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−
(1−ジ−n−プロピルオキシメチル)ペンチルアミド
(340mg、無色結晶)を得た。
−(1−ジ−n−プロピルオキシメチル)ペンチルアミ
ドの製造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1g)をn
−プロパノール(10ml)に溶解し、三フッ化硼酸−エ
ーテル錯体(0.8ml)を加え、24時間室温で反応し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクラマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−
(1−ジ−n−プロピルオキシメチル)ペンチルアミド
(340mg、無色結晶)を得た。
【0095】実施例38.N−アセチル−L−ロイシン
−(1−ジ−n−ブトキシメチル)ペンチルアミドの製
造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1g)をn
−ブタノール(10ml)に溶解し、三フッ化硼酸−エー
テル錯体(0.8ml)を加え、24時間室温で反応し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクラマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−
(1−ジ−n−プロピルオキシメチル)ペンチルアミド
(460mg、無色結晶)を得た。
−(1−ジ−n−ブトキシメチル)ペンチルアミドの製
造 実施例16のcと同様にして得たN−アセチル−L−ロ
イシン−(1−ホルミル)ペンチルアミド(1g)をn
−ブタノール(10ml)に溶解し、三フッ化硼酸−エー
テル錯体(0.8ml)を加え、24時間室温で反応し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクラマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−アセチル−L−ロイシン−
(1−ジ−n−プロピルオキシメチル)ペンチルアミド
(460mg、無色結晶)を得た。
【0096】実施例39.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−ロイシン−(1−ジ−エトキシメチル)ペンチ
ルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1g)をエタノール(10ml)に溶解し、p−トル
エンスルホン酸(触媒量)を加え、4時間室温で反応し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクラマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−(1−ジ−エトキシメチル)ペンチル
アミド(1g、無色結晶 を得た。
ル−L−ロイシン−(1−ジ−エトキシメチル)ペンチ
ルアミドの製造 実施例4のbと同様にして得たN−ベンジルオキシカル
ボニル−L−ロイシン−(1−ホルミル)ペンチルアミ
ド(1g)をエタノール(10ml)に溶解し、p−トル
エンスルホン酸(触媒量)を加え、4時間室温で反応し
た。反応終了後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシ
リカゲルを用いた中圧カラムクラマトグラフィーで精製
して、目的化合物であるN−ベンジルオキシカルボニル
−L−ロイシン−(1−ジ−エトキシメチル)ペンチル
アミド(1g、無色結晶 を得た。
【0097】実施例40.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−フェニルアラニン−(1−ホルミル)ペンチル
アミドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−フェニルアラ
ニル−L−ノルロイシンメチルエステルの製造 L−ノルロイシンメチルエステル塩酸塩(1.8g)を
塩化メチレン(50ml)に溶解し、N−メチルモルホリ
ン(1.1ml)を加えた。この溶液にN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−フェニルアラニン(3.0g)およ
び1−エチル−3−(3−ジエチルアミノプロピル)カ
ルボジイミド(1.9g)を加えた。室温で24時間撹
拌した。反応終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで
抽出した。有機層を10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去
し、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−フェニ
ルアラニル−L−ノルロイシンメチルエステル(4.1
g)を得た。
ル−L−フェニルアラニン−(1−ホルミル)ペンチル
アミドの製造 a.N−ベンジルオキシカルボニル−L−フェニルアラ
ニル−L−ノルロイシンメチルエステルの製造 L−ノルロイシンメチルエステル塩酸塩(1.8g)を
塩化メチレン(50ml)に溶解し、N−メチルモルホリ
ン(1.1ml)を加えた。この溶液にN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−フェニルアラニン(3.0g)およ
び1−エチル−3−(3−ジエチルアミノプロピル)カ
ルボジイミド(1.9g)を加えた。室温で24時間撹
拌した。反応終了後、反応液に水を加え、酢酸エチルで
抽出した。有機層を10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去
し、標記のN−ベンジルオキシカルボニル−L−フェニ
ルアラニル−L−ノルロイシンメチルエステル(4.1
g)を得た。
【0098】b.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
フェニルアラニン−(1−ヒドロキシメチル)ペンチル
アミドの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−フェニルアラニル−L−ノルロイシンメチルエステル
(4.1g)と水素化硼素ナトリウム(390mg)をt
ert−ブタノール(90ml)に懸濁し、80℃で加熱
還流した。ついで還流下、無水メタノール(18ml)を
滴下した。滴下終了後3時間加熱還流した後、室温に戻
し、氷冷下に水(100ml)を加えた。溶媒を減圧留去
した後、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩
水で洗浄後無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を留
去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムク
ロマトグラフィーで精製して、標記のN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−フェニルアラニン−(1−ヒドロキ
シメチル)ペンチルアミド(2g、無色結晶)を得た。
フェニルアラニン−(1−ヒドロキシメチル)ペンチル
アミドの製造 上記a.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−フェニルアラニル−L−ノルロイシンメチルエステル
(4.1g)と水素化硼素ナトリウム(390mg)をt
ert−ブタノール(90ml)に懸濁し、80℃で加熱
還流した。ついで還流下、無水メタノール(18ml)を
滴下した。滴下終了後3時間加熱還流した後、室温に戻
し、氷冷下に水(100ml)を加えた。溶媒を減圧留去
した後、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩
水で洗浄後無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を留
去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラムク
ロマトグラフィーで精製して、標記のN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−フェニルアラニン−(1−ヒドロキ
シメチル)ペンチルアミド(2g、無色結晶)を得た。
【0099】c.N−ベンジルオキシカルボニル−L−
フェニルアラニン−(1−ホルミル)ペンチルアミドの
製造 上記b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−フェニルアラニン−(1−ヒドロキシメチル)ペンチ
ルアミド(1.5g)とトリエチルアミン(2.1ml)
を無水ジメチルスルフオキシド(10ml)に溶解し、攪
拌下に三酸化硫黄−ピリジン錯体(2.4g)の無水ジ
メチルスルフオキシド(10ml)溶液を加えた。室温で
10分間攪拌後、氷水(200ml)に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を減圧
留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラム
クロマトグラフィーで精製して、目的化合物のN−ベン
ジルオキシカルボニル−L−フェニルアラニン−(1−
ホルミル)ペンチルアミド(1.0g、無色結晶)を得
た。
フェニルアラニン−(1−ホルミル)ペンチルアミドの
製造 上記b.で得られたN−ベンジルオキシカルボニル−L
−フェニルアラニン−(1−ヒドロキシメチル)ペンチ
ルアミド(1.5g)とトリエチルアミン(2.1ml)
を無水ジメチルスルフオキシド(10ml)に溶解し、攪
拌下に三酸化硫黄−ピリジン錯体(2.4g)の無水ジ
メチルスルフオキシド(10ml)溶液を加えた。室温で
10分間攪拌後、氷水(200ml)に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を10%クエン酸水溶液、飽和食塩
水、飽和炭酸水素ナトリウム、ついで飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を減圧
留去して得られる残渣をシリカゲルを用いた中圧カラム
クロマトグラフィーで精製して、目的化合物のN−ベン
ジルオキシカルボニル−L−フェニルアラニン−(1−
ホルミル)ペンチルアミド(1.0g、無色結晶)を得
た。
【0100】実施例41.N−ベンジルオキシカルボニ
ル−L−フェニルアラニン−(1−ジエトキシメチル)
ペンチルアミドの製造 実施例40のcと同様にして得たN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−フェニルアラニン−(1−ホルミル)ペ
ンチルアミド(1.0g)をエタノール(10ml)に溶
解し、p−トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、12
時間、室温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去し
て得られる残渣に水を加えて濾過して目的化合物のN−
ベンジルオキシカルボニル−L−フェニルアラニン−
(1−ジエトキシメチル)ペンチルアミド(1.0g、
無色結晶)を得た。
ル−L−フェニルアラニン−(1−ジエトキシメチル)
ペンチルアミドの製造 実施例40のcと同様にして得たN−ベンジルオキシカ
ルボニル−L−フェニルアラニン−(1−ホルミル)ペ
ンチルアミド(1.0g)をエタノール(10ml)に溶
解し、p−トルエンスルホン酸(触媒量)を加え、12
時間、室温で反応した。反応終了後、溶媒を減圧留去し
て得られる残渣に水を加えて濾過して目的化合物のN−
ベンジルオキシカルボニル−L−フェニルアラニン−
(1−ジエトキシメチル)ペンチルアミド(1.0g、
無色結晶)を得た。
【0101】上記実施例1〜41で製造した化合物の構
造式および物性値を、表1にまとめて示す。
造式および物性値を、表1にまとめて示す。
【0102】
【0103】実施例42.PHTrp(1−34)によ
り惹起されたラットの高カルシウム血症に対する本発明
の予防および治療剤の効果(経口投与) ウィスター系ラット(5週齢、雄、90−110g、一
群5匹)に、表1に記載された化合物を40mg/kg体重
の用量で経口投与し、それぞれ2時間後または4時間後
にPTHrp(1−34)を5ナノモル/kg静脈内投与
した。PTHrp(1−34)投与1時間後に採血し、
血中カルシウム濃度をオクトクレゾールフタレインコン
プレキソン法で測定した。その結果を表2に示す。
り惹起されたラットの高カルシウム血症に対する本発明
の予防および治療剤の効果(経口投与) ウィスター系ラット(5週齢、雄、90−110g、一
群5匹)に、表1に記載された化合物を40mg/kg体重
の用量で経口投与し、それぞれ2時間後または4時間後
にPTHrp(1−34)を5ナノモル/kg静脈内投与
した。PTHrp(1−34)投与1時間後に採血し、
血中カルシウム濃度をオクトクレゾールフタレインコン
プレキソン法で測定した。その結果を表2に示す。
【0104】 表2 高カルシム血症に対する効果(経口投与) 群 PTHrp 薬 物 投与量 Ca濃度±標準誤差 処理 (mg/kg) (mg/dl) 1 あり なし 0 10.84±0.11 2 あり 実施例7 40 10.36±0.11* 3 あり 実施例9 40 10.41±0.08* 4 あり 実施例15 40 9.98±0.13** 5 あり 実施例16 40 9.91±0.13** 6 あり 実施例17 40 9.97±0.17** 7 あり 実施例18 40 10.36±0.12* 8 あり 実施例19 40 10.14±0.08** 9 あり 実施例21 40 9.98±0.10** 10 あり 実施例22 40 10.05±0.13** 11 あり 実施例23 40 9.83±0.13** 12 あり 実施例24 40 10.12±0.09** 13 あり 実施例25 40 9.88±0.09** 14 あり 実施例26 40 9.85±0.08** 15 あり 実施例27 40 9.91±0.13** 16 あり 実施例34 40 10.26±0.13** 血中カルシウム濃度平均値±標準誤差(n=5) * :P<0.05 vs 第1群のCa濃度 **:P<0.01 vs 第1群のCa濃度
【0105】実施例43.PHTrp(1−34)によ
り惹起されたラットの高カルシウム血症に対する本発明
の予防および治療剤の効果(腹腔内投与) 実施例42と同様に、ウィスター系ラット(5週齢、
雄、90−110g、一群5匹)に、表1に記載された
化合物を40mg/kg体重の用量で腹腔内投与し、それぞ
れ2時間後または4時間後にPTHrp(1−34)を
5ナノモル/kg静脈内投与した。PTHrp(1−3
4)投与1時間後に採血し、血中カルシウム濃度をオク
トクレゾールフタレインコンプレキソン法で測定した。
その結果を表3に示す。
り惹起されたラットの高カルシウム血症に対する本発明
の予防および治療剤の効果(腹腔内投与) 実施例42と同様に、ウィスター系ラット(5週齢、
雄、90−110g、一群5匹)に、表1に記載された
化合物を40mg/kg体重の用量で腹腔内投与し、それぞ
れ2時間後または4時間後にPTHrp(1−34)を
5ナノモル/kg静脈内投与した。PTHrp(1−3
4)投与1時間後に採血し、血中カルシウム濃度をオク
トクレゾールフタレインコンプレキソン法で測定した。
その結果を表3に示す。
【0106】 表3 高カルシム血症に対する効果(腹腔内投与) 群 PTHrp 薬 物 投与量 Ca濃度±標準誤差 処理 (mg/kg) (mg/dl) 1 あり なし 0 10.79±0.13 2 あり 実施例1 40 10.33±0.12* 3 あり 実施例7 40 10.29±0.14* 4 あり 実施例12 40 10.27±0.08** 5 あり 実施例13 40 10.23±0.05** 6 あり 実施例15 40 10.13±0.21* 7 あり 実施例16 40 9.95±0.14** 8 あり 実施例17 40 10.16±0.05** 9 あり 実施例21 40 9.96±0.07** 10 あり 実施例22 40 9.67±0.18** 血中カルシウム濃度平均値±標準誤差(n=5) * :P<0.05 vs 第1群のCa濃度 **:P<0.01 vs 第1群のCa濃度
【0107】表2および表3に示す通り、本発明の化合
物は血中カルシウム濃度の上昇を経口投与または腹腔内
投与のいずれにおいても有意に抑制した。この結果は本
発明の化合物は悪性体液性高カルシウム血症を予防また
は抑制しうることを強く示唆し、本発明の化合物が骨疾
患の予防または治療剤として有用であることが明らかに
なった。
物は血中カルシウム濃度の上昇を経口投与または腹腔内
投与のいずれにおいても有意に抑制した。この結果は本
発明の化合物は悪性体液性高カルシウム血症を予防また
は抑制しうることを強く示唆し、本発明の化合物が骨疾
患の予防または治療剤として有用であることが明らかに
なった。
【0108】実施例44.錠剤の製造 以上を混合し、この混合物を単発式打錠機にて打錠し
て、1錠中200mgの実施例7の化合物を含有する、直
径9mm、重量250mgの錠剤を製造した。
て、1錠中200mgの実施例7の化合物を含有する、直
径9mm、重量250mgの錠剤を製造した。
【0109】実施例45.顆粒剤の製造 以上をよく混合し、混合物を圧縮成型した後、粉砕、
整粒し、篩別して20〜50メッシュの良好な10%顆
粒剤を得た。
整粒し、篩別して20〜50メッシュの良好な10%顆
粒剤を得た。
【0110】実施例46.カプセル剤の製造 〔処方〕 実施例23の化合物 100部(重量部) 馬鈴薯澱粉 148部 〃 ステアリン酸マグネシウム 2部 〃 以上を擂潰機でよく混和した後、1号ハードゼラチンカ
プセルに250mgづつ充填し、1カプセル中100mgの
実施例23の化合物を含有するカプセル剤を得た。
プセルに250mgづつ充填し、1カプセル中100mgの
実施例23の化合物を含有するカプセル剤を得た。
【0111】実施例47.直腸坐剤の製造 ウイテップゾールH−15(ダイナミットノーベル社
製)を加温融解し、これに実施例7の化合物を濃度1
2.5mg/mlになるように加えて、均一に混和し、次い
でこれを直腸坐剤用金型に2mlずつ注入し、冷却して、
1剤中25mgの実施例7の化合物を含有する直腸坐剤を
得た。
製)を加温融解し、これに実施例7の化合物を濃度1
2.5mg/mlになるように加えて、均一に混和し、次い
でこれを直腸坐剤用金型に2mlずつ注入し、冷却して、
1剤中25mgの実施例7の化合物を含有する直腸坐剤を
得た。
【0112】
【発明の効果】本発明の有効成分は、悪性体液性高カル
シウム血症および続発性副甲状腺機能亢進症を予防また
は抑制しうることが確認され、骨疾患の予防または治療
剤として有用である。
シウム血症および続発性副甲状腺機能亢進症を予防また
は抑制しうることが確認され、骨疾患の予防または治療
剤として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 237/22 7106−4H 251/38 9160−4H C07D 317/28 (72)発明者 木曽 良信 大阪府三島郡島本町若山台1丁目1番1号 サントリー株式会社生物医学研究所内 (72)発明者 林 靖浩 大阪府三島郡島本町若山台1丁目1番1号 サントリー株式会社生物医学研究所内
Claims (4)
- 【請求項1】 式(1) R1 NH−CH(R2 )−CO−NH−CH(R3 )−R4 ....(1) 〔式中、R1 はハロゲン原子で置換されてもよい脂肪族
アシル基またはベンジルオキシカルボニル基を、R2 は
低級アルキル基又はアラルキル基を、R3 は低級アルキ
ル基、アラルキル基又はメチルチオエチル基を、R4 は
ホルミル基(但し、R3 がn−ブチル基である場合を除
く)、置換されてもよい脂肪族アシル基(ここで置換基
としては、ハロゲン原子または低級アルコキシカルボニ
ル基である)、ジ低級アルコキシメチル基、ジアシルオ
キシメチル基、低級アルコキサリル基、ハロゲン原子で
置換されてもよい1−ヒドロキシ−2−低級アルコキシ
カルボニルエチル基、ヒドロキシイミノメチル基、ウレ
イドイミノメチル基、ベンズイミダゾール−2−イル
基、又は基 (基中、A及びBは、同一または異なってO、S、NH
を、nは2または3を示す)を表す〕で表されるジペプ
チド誘導体。 - 【請求項2】 R4 のジ低級アルコキシメチル基が、ジ
メトキシメチル基、ジエトキシメチル基またはジ−n−
プロピルオキシメチル基である請求項1記載のジペプチ
ド誘導体。 - 【請求項3】 請求項1記載の化合物を有効成分とする
骨疾患の予防及び治療剤。 - 【請求項4】 骨疾患が、悪性高カルシウム血症、骨ぺ
ージェット病または骨粗鬆症である請求項3記載の予防
および治療剤。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3303351A JPH05140063A (ja) | 1991-11-19 | 1991-11-19 | ジペプチド誘導体及びそれを有効成分とする骨疾患の予防及び治療剤 |
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